JP2022067364A - Manufacturing method of semiconductor integrated circuit, semiconductor integrated circuit - Google Patents

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尭生 佐藤
Takao Sato
晃 小田部
Akira Kotabe
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Abstract

To provide a semiconductor integrated circuit which does not need a regulator and an external terminal, and can apply a stress voltage to a drain of a transistor constituting an output circuit without connecting a load circuit to the outside, even if the output circuit has an open drain configuration.SOLUTION: A semiconductor integrated circuit according to the present invention includes a transistor connected to a signal output terminal and a load circuit connected to the signal output terminal, and the load circuit is configured so that it can switch whether or not to supply a load current to the transistor.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、半導体集積回路に関する。 The present invention relates to semiconductor integrated circuits.

半導体集積回路を製造する工程において、バーンイン試験などの検査工程を実施する場合がある。バーンイン試験は、温度負荷環境の下で半導体集積回路の端子から例えば過電圧を印加することにより、初期不良を検出するためのものである。バーンイン試験の他にも、半導体集積回路の端子に対してデバイスを接続して検査工程を実施する様々な試験が存在する。 In the process of manufacturing a semiconductor integrated circuit, an inspection process such as a burn-in test may be performed. The burn-in test is for detecting an initial defect by, for example, applying an overvoltage from a terminal of a semiconductor integrated circuit under a temperature load environment. In addition to the burn-in test, there are various tests in which a device is connected to a terminal of a semiconductor integrated circuit to carry out an inspection process.

特許文献1は、絶縁ゲート型デバイスの駆動回路等のゲートスクリーニング試験機能に関する技術を記載している。同文献は、『付加回路を設ける必要がないとともに、ゲートスクリーニング端子を別途設けることなく、ゲートスクリーニング試験を行うことができる半導体集積装置を提供する。』ことを課題として、『電圧制御型半導体素子Q2のゲートを駆動するゲート駆動部12と、このゲート駆動部にゲート駆動電圧を供給するレギュレータ13とを備え、ゲートスクリーニング試験時に、前記電圧制御形半導体素子に対するゲートスクリーニング用電圧を印加可能な外部接続端子tcを備えている。』という技術を記載している(要約参照)。 Patent Document 1 describes a technique related to a gate screening test function such as a drive circuit of an insulated gate type device. The document provides a semiconductor integrated device capable of performing a gate screening test without the need to provide an additional circuit and without separately providing a gate screening terminal. A gate drive unit 12 for driving the gate of the voltage-controlled semiconductor element Q2 and a regulator 13 for supplying the gate drive voltage to the gate drive unit are provided, and the voltage control type is provided at the time of the gate screening test. It is provided with an external connection terminal tc capable of applying a gate screening voltage to the semiconductor element. 』(See summary).

特開2019-007823号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2019-007823

特許文献1記載の技術を実施するためには、安定化容量を付加する外部端子を持つレギュレータが必要である。したがって、レギュレータを持たない半導体集積回路には適用することができない。また特許文献1記載の技術は、駆動回路のゲート電圧を外部端子から制御するので、ウェハレベルバーンインなどのようにバーンインを実施する装置が備える電源や信号発生器に制限がある場合は、同時測定数を増やすことが困難である。 In order to carry out the technique described in Patent Document 1, a regulator having an external terminal to which a stabilizing capacitance is added is required. Therefore, it cannot be applied to a semiconductor integrated circuit having no regulator. Further, since the technique described in Patent Document 1 controls the gate voltage of the drive circuit from an external terminal, simultaneous measurement is performed when there are restrictions on the power supply and signal generator provided in the device for performing burn-in such as wafer level burn-in. It is difficult to increase the number.

ところで、半導体集積回路のなかには、オープンドレイン構成の出力回路を備えるものがある。オープンドレイン構成の出力回路は、半導体集積回路の外部に抵抗素子(例えばプルアップ抵抗)などの負荷回路が必要である。このような半導体集積回路に対してウェハレベルバーンイン試験を実施する場合、この出力回路が接続している端子に対して信号を供給する必要があるので、試験効率が落ちる。一方、この出力回路が接続している端子をオープン状態で試験した場合は、出力回路を構成するMOSトランジスタのドレインに対してストレス電圧が印加されないので、初期不良の検出精度を落とす可能性がある。 By the way, some semiconductor integrated circuits include an output circuit having an open drain configuration. An output circuit having an open drain configuration requires a load circuit such as a resistance element (for example, a pull-up resistor) outside the semiconductor integrated circuit. When a wafer level burn-in test is performed on such a semiconductor integrated circuit, it is necessary to supply a signal to the terminal to which the output circuit is connected, so that the test efficiency is lowered. On the other hand, when the terminal to which this output circuit is connected is tested in the open state, the stress voltage is not applied to the drain of the MOS transistor constituting the output circuit, so that the detection accuracy of the initial defect may be lowered. ..

本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、レギュレータおよび外部端子が不要であって、出力回路がオープンドレイン構成であっても、外部に負荷回路を接続することなく出力回路を構成するトランジスタのドレインに対してストレス電圧を印加することができる、半導体集積回路を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above problems, and even if a regulator and an external terminal are not required and the output circuit has an open drain configuration, the output circuit is configured without connecting a load circuit to the outside. It is an object of the present invention to provide a semiconductor integrated circuit capable of applying a stress voltage to the drain of a transistor.

本発明に係る半導体集積回路は、信号出力端子に接続されたトランジスタと、前記信号出力端子に接続された負荷回路とを備え、前記負荷回路は、前記トランジスタに対して負荷電流を供給するか否かを切り替えることができるように構成されている。 The semiconductor integrated circuit according to the present invention includes a transistor connected to a signal output terminal and a load circuit connected to the signal output terminal, and whether or not the load circuit supplies a load current to the transistor. It is configured so that it can be switched.

本発明に係る半導体集積回路によれば、出力回路がオープンドレイン構成であっても、外部に負荷回路を接続することなく、出力回路を構成するトランジスタのドレインに対してストレス電圧を印加できる。本発明のさらなる課題、構成、利点などについては、以下の実施形態の説明によって明らかとなる。 According to the semiconductor integrated circuit according to the present invention, even if the output circuit has an open drain configuration, a stress voltage can be applied to the drain of the transistor constituting the output circuit without connecting a load circuit to the outside. Further problems, configurations, advantages, etc. of the present invention will be clarified by the following description of the embodiments.

実施形態1に係る半導体集積回路1の回路構成図である。It is a circuit block diagram of the semiconductor integrated circuit 1 which concerns on Embodiment 1. FIG. 負荷回路102aが無い場合と有る場合それぞれにおける半導体集積回路1の出力波形である。It is an output waveform of the semiconductor integrated circuit 1 in the case where the load circuit 102a is absent and the case where the load circuit 102a is present. 実施形態2における負荷回路102aの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the load circuit 102a in Embodiment 2. 実施形態3における負荷回路102aの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the load circuit 102a in Embodiment 3. FIG. 実施形態4に係る半導体集積回路1の回路構成図である。It is a circuit block diagram of the semiconductor integrated circuit 1 which concerns on Embodiment 4. FIG. 実施形態5における負荷回路102aの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the load circuit 102a in Embodiment 5. 実施形態6における負荷回路102aの構成例を示す図である。It is a figure which shows the structural example of the load circuit 102a in Embodiment 6.

<実施の形態1>
図1は、本発明の実施形態1に係る半導体集積回路1の回路構成図である。半導体集積回路1は、電源端子VCC、接地電源端子GND、信号出力端子OUT、出力制御回路101、出力回路102、電圧検出回路103、を備える。電源端子VCCには、例えば、通常動作時は5V、バーンイン時は7Vが供給される。
<Embodiment 1>
FIG. 1 is a circuit configuration diagram of a semiconductor integrated circuit 1 according to the first embodiment of the present invention. The semiconductor integrated circuit 1 includes a power supply terminal VCS, a ground power supply terminal GND, a signal output terminal OUT, an output control circuit 101, an output circuit 102, and a voltage detection circuit 103. For example, 5V is supplied to the power supply terminal VCS during normal operation and 7V is supplied during burn-in.

出力制御回路101は、信号出力端子OUTに出力するデータに応じて、信号線OUTBを制御する回路である。 The output control circuit 101 is a circuit that controls the signal line OUTB according to the data output to the signal output terminal OUT.

出力回路102は、負荷回路102aとNMOSトランジスタ102bを備える。本実施形態においては、負荷回路102aはPMOSトランジスタによって構成されている。PMOSトランジスタのドレインは信号出力端子OUTに、ソースは電源端子VCCに、ゲートは信号線BIBに、それぞれ接続される。信号線BIBは電圧検出回路103により制御される。NMOSトランジスタ102bのドレインは信号出力端子OUTに、ソースは接地電源端子GNDに、ゲートは信号線OUTBに、それぞれ接続される。信号線OUTBは出力制御回路101により制御される。 The output circuit 102 includes a load circuit 102a and an µtransistor 102b. In this embodiment, the load circuit 102a is composed of a polyclonal transistor. The drain of the polyclonal transistor is connected to the signal output terminal OUT, the source is connected to the power supply terminal VCS, and the gate is connected to the signal line BIB. The signal line BIB is controlled by the voltage detection circuit 103. The drain of the IGMP transistor 102b is connected to the signal output terminal OUT, the source is connected to the ground power supply terminal GND, and the gate is connected to the signal line OUTB. The signal line OUTB is controlled by the output control circuit 101.

電圧検出回路103は、負荷回路102aを、通常動作時はオフ、バーンイン時はオンするように信号線BIBを駆動する回路である。本実施形態においては、負荷回路102aはPMOSトランジスタであるので、信号線BIBは、通常動作時は電源端子VCCと同じ電圧に駆動し、バーンイン時は負荷回路102aが負荷電流を流す電圧Vbに駆動することが望ましい。これにより、出力回路102は通常動作時においてオープンドレイン構成で動作する。通常動作時は負荷回路102aはオフとなるので、外部に接続される負荷回路に対して影響を与えることはない。 The voltage detection circuit 103 is a circuit that drives the signal line BIB so that the load circuit 102a is turned off during normal operation and turned on during burn-in. In the present embodiment, since the load circuit 102a is a polyclonal transistor, the signal line BIB is driven to the same voltage as the power supply terminal VCS during normal operation, and is driven to the voltage Vb through which the load current flows during burn-in. It is desirable to do. As a result, the output circuit 102 operates in an open drain configuration during normal operation. Since the load circuit 102a is turned off during normal operation, it does not affect the load circuit connected to the outside.

電圧検出回路103は、電圧Vbのレベルを調整することにより、NMOSトランジスタ102bに流す負荷電流の電流値を調整することができる。換言すると電圧Vbは、所望の負荷電流レベルに応じて調整することができる。 The voltage detection circuit 103 can adjust the current value of the load current flowing through the Now's transistor 102b by adjusting the level of the voltage Vb. In other words, the voltage Vb can be adjusted according to the desired load current level.

図2は、負荷回路102aが無い場合と有る場合それぞれにおける半導体集積回路1の出力波形である。図2は、負荷回路102a(PMOSトランジスタ)をオンしたとき(すなわちバーンイン試験時)の信号波形を示している。バーンイン試験時においては、電源端子VCCを電源電圧と接続し、接地電源端子GNDを接地電位と接続する。 FIG. 2 is an output waveform of the semiconductor integrated circuit 1 in the case where the load circuit 102a is not provided and in the case where the load circuit 102a is present. FIG. 2 shows a signal waveform when the load circuit 102a (PM Volume transistor) is turned on (that is, during a burn-in test). During the burn-in test, the power supply terminal VCS is connected to the power supply voltage, and the ground power supply terminal GND is connected to the ground potential.

負荷回路102aが無い場合は、信号出力端子OUTに外付けで負荷回路を接続しない限りは、信号線OUTBを制御しても、信号出力端子OUTから出力する信号は変化しない。負荷回路102aが有る場合は、信号出力端子OUTに外付けで負荷回路を接続しなくても、出力制御回路101が信号線OUTBを制御することにより、信号出力端子OUTの電位を変動させることができる。すなわちNMOSトランジスタ102bのドレインに対してストレス電圧を印加できる。 When there is no load circuit 102a, the signal output from the signal output terminal OUT does not change even if the signal line OUTB is controlled, unless the load circuit is externally connected to the signal output terminal OUT. When the load circuit 102a is present, the potential of the signal output terminal OUT can be changed by controlling the signal line OUTB by the output control circuit 101 without connecting an external load circuit to the signal output terminal OUT. can. That is, a stress voltage can be applied to the drain of the NaOH transistor 102b.

<実施の形態1:まとめ>
本実施形態1に係る半導体集積回路1は、負荷回路102a(PMOSトランジスタ)とNMOSトランジスタ102bを備え、各トランジスタのドレインは信号出力端子OUTに接続されている。これにより、通常動作時は負荷回路102aをオフして外部に対する影響を与えないようにするとともに、バーンイン試験時は負荷回路102aをオンしてNMOSトランジスタ102bに対してストレス電圧を印加できる。このストレス電圧は半導体集積回路1自ら供給するものであるので、ストレス電圧を印加するために外部素子を信号出力端子OUTへ接続する必要はない。
<Embodiment 1: Summary>
The semiconductor integrated circuit 1 according to the first embodiment includes a load circuit 102a (SiO transistor) and an µtransistor 102b, and the drain of each transistor is connected to the signal output terminal OUT. As a result, the load circuit 102a can be turned off during normal operation so as not to affect the outside, and the load circuit 102a can be turned on during the burn-in test to apply a stress voltage to the nanotube transistor 102b. Since this stress voltage is supplied by the semiconductor integrated circuit 1 itself, it is not necessary to connect an external element to the signal output terminal OUT in order to apply the stress voltage.

<実施の形態2>
図3は、本発明の実施形態2における負荷回路102aの構成例を示す図である。負荷回路102a以外の構成は実施形態1と同じである。本実施形態2において、負荷回路102aは、抵抗素子R1とPMOSトランジスタM1によって構成されている。抵抗素子R1は、PMOSトランジスタM1のドレインと信号出力端子OUTとの間に配置されている。
<Embodiment 2>
FIG. 3 is a diagram showing a configuration example of the load circuit 102a according to the second embodiment of the present invention. The configuration other than the load circuit 102a is the same as that of the first embodiment. In the second embodiment, the load circuit 102a is composed of the resistance element R1 and the polyclonal transistor M1. The resistance element R1 is arranged between the drain of the epitaxial transistor M1 and the signal output terminal OUT.

本実施形態2においては、負荷回路102aが流す電流は抵抗素子R1によって制限できるので、PMOSトランジスタM1によって電流制限をする必要がない。したがって、バーンイン試験時はPMOSトランジスタM1のゲート電圧(信号線BIB)を0Vとすることができるので、信号線BIBを電圧Vbで駆動する場合よりも、電圧検出回路103を簡単化できる。換言すると、電圧検出回路103は電圧変換などによって所望のゲート電圧レベルを生成する必要はなく、接地電位をそのまま出力すればよいので、回路構成を単純化できる。 In the second embodiment, since the current flowing through the load circuit 102a can be limited by the resistance element R1, it is not necessary to limit the current by the polyclonal transistor M1. Therefore, at the time of the burn-in test, the gate voltage (signal line BIB) of the polyclonal transistor M1 can be set to 0V, so that the voltage detection circuit 103 can be simplified as compared with the case where the signal line BIB is driven by the voltage Vb. In other words, the voltage detection circuit 103 does not need to generate a desired gate voltage level by voltage conversion or the like, and may output the ground potential as it is, so that the circuit configuration can be simplified.

<実施の形態3>
図4は、本発明の実施形態3における負荷回路102aの構成例を示す図である。負荷回路102a以外の構成は実施形態1と同じである。本実施形態3において、負荷回路102aは、PMOSトランジスタM2とM3によって構成されている。PMOSトランジスタM2とM3それぞれのドレインは信号出力端子OUTに接続されている。PMOSトランジスタM3のゲートとソースは電源端子VCCに接続されている。PMOSトランジスタM2のゲートは信号線BIBによって駆動される。
<Embodiment 3>
FIG. 4 is a diagram showing a configuration example of the load circuit 102a according to the third embodiment of the present invention. The configuration other than the load circuit 102a is the same as that of the first embodiment. In the third embodiment, the load circuit 102a is composed of the polyclonal transistors M2 and M3. The drains of the polyclonal transistors M2 and M3 are connected to the signal output terminal OUT. The gate and source of the polyclonal transistor M3 are connected to the power supply terminal VCC. The gate of the polyclonal transistor M2 is driven by the signal line BIB.

負荷回路102aを構成するPMOSトランジスタは、NMOSトランジスタ102bを保護する保護回路として作用する。これにより、出力回路102の実装面積を小さくできる。 The polyclonal transistor constituting the load circuit 102a acts as a protection circuit for protecting the nanotube transistor 102b. As a result, the mounting area of the output circuit 102 can be reduced.

保護用のPMOSトランジスタは一般的にチャネル幅が大きく設計されるので、NMOSトランジスタ102bの負荷として用いるには電流が大きい場合がある。このような場合には、図4に示すように、2つのPMOSトランジスタM2とM3を併用し、M2を実質的な負荷回路102aとして用いればよい。 Since the photography transistor for protection is generally designed to have a large channel width, the current may be large to be used as a load of the IGMP transistor 102b. In such a case, as shown in FIG. 4, two polyclonal transistors M2 and M3 may be used in combination, and M2 may be used as a substantial load circuit 102a.

<実施の形態4>
図5は、本発明の実施形態4に係る半導体集積回路1の回路構成図である。実施形態1においては、出力回路102の信号出力端子OUTを駆動する素子としてNMOSトランジスタ102bを用いたが、NMOSトランジスタ102bに代えてPMOSトランジスタを用いてもよい。図5はその回路構成を示す。この場合、負荷回路102aはNMOSトランジスタによって構成される。信号線OUTBの電圧レベルと信号線BIBの電圧レベルはそれぞれ、実施形態1における各電圧レベルを反転したものとなる。
<Embodiment 4>
FIG. 5 is a circuit configuration diagram of the semiconductor integrated circuit 1 according to the fourth embodiment of the present invention. In the first embodiment, the µtransistor 102b is used as an element for driving the signal output terminal OUT of the output circuit 102, but a polyclonal transistor may be used instead of the NaCl transistor 102b. FIG. 5 shows the circuit configuration. In this case, the load circuit 102a is composed of an msgid transistor. The voltage level of the signal line OUTB and the voltage level of the signal line BIB are each inverted of each voltage level in the first embodiment.

<実施の形態5>
図6は、本発明の実施形態5における負荷回路102aの構成例を示す図である。負荷回路102a以外の構成は実施形態4と同じである。トランジスタM1はNMOSトランジスタである。したがってM1のソースは接地電源端子GNDと接続されている。その他は実施形態2と同じである。
<Embodiment 5>
FIG. 6 is a diagram showing a configuration example of the load circuit 102a according to the fifth embodiment of the present invention. The configuration other than the load circuit 102a is the same as that of the fourth embodiment. The transistor M1 is an IGMP transistor. Therefore, the source of M1 is connected to the ground power supply terminal GND. Others are the same as in the second embodiment.

実施形態2において、電圧検出回路103はM1をONするときはゲート電圧として0Vを出力するので、電圧変換などは必要ない。本実施形態5において電圧検出回路103はM1をONするときはゲート電圧として電源電位を出力するので、同様に電圧変換などは必要ない。したがって実施形態2と同様に回路構成を簡易化できる。 In the second embodiment, since the voltage detection circuit 103 outputs 0V as the gate voltage when M1 is turned on, voltage conversion or the like is not necessary. In the fifth embodiment, the voltage detection circuit 103 outputs the power supply potential as the gate voltage when M1 is turned on, so that voltage conversion or the like is not necessary in the same manner. Therefore, the circuit configuration can be simplified as in the second embodiment.

<実施の形態6>
図7は、本発明の実施形態6における負荷回路102aの構成例を示す図である。負荷回路102a以外の構成は実施形態4と同じである。本実施形態6において、負荷回路102aは、NMOSトランジスタM2とM3によって構成されている。したがってM2のソースとM3のソースとM3のゲートは接地電源端子GNDと接続されている。その他は実施形態3と同じである。本実施形態6においても、実施形態3と同様の効果を発揮できる。
<Embodiment 6>
FIG. 7 is a diagram showing a configuration example of the load circuit 102a according to the sixth embodiment of the present invention. The configuration other than the load circuit 102a is the same as that of the fourth embodiment. In the sixth embodiment, the load circuit 102a is composed of the nanotube transistors M2 and M3. Therefore, the source of M2, the source of M3, and the gate of M3 are connected to the ground power supply terminal GND. Others are the same as in the third embodiment. Also in the sixth embodiment, the same effect as that of the third embodiment can be exhibited.

<本発明の変形例について>
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、様々な変形例が含まれる。例えば、上記実施形態は本発明を分かりやすく説明するために詳細に説明したものであり、必ずしも説明した全ての構成を備えるものに限定されるものではない。また、ある実施形態の構成の一部を他の実施形態の構成に置き換えることが可能であり、また、ある実施形態の構成に他の実施形態の構成を加えることも可能である。また、各実施形態の構成の一部について、他の構成の追加・削除・置換をすることが可能である。
<About a modification of the present invention>
The present invention is not limited to the above embodiment, and includes various modifications. For example, the above-described embodiment has been described in detail in order to explain the present invention in an easy-to-understand manner, and is not necessarily limited to the one including all the described configurations. Further, it is possible to replace a part of the configuration of one embodiment with the configuration of another embodiment, and it is also possible to add the configuration of another embodiment to the configuration of one embodiment. Further, it is possible to add / delete / replace a part of the configuration of each embodiment with another configuration.

以上の実施形態においては、トランジスタとしてMOSトランジスタを用いているが、バイポーラトランジスタ等のその他のトランジスタ(スイッチ)を用いてもよい。 In the above embodiments, the MOS transistor is used as the transistor, but other transistors (switches) such as bipolar transistors may be used.

以上の実施形態において、出力制御回路101と電圧検出回路103は、これらの機能を実装した回路デバイスなどのハードウェアによって構成することもできるし、これらの機能を実装したソフトウェアをCPU(Central Processing Unit)などの演算装置が実行することによって構成することもできる。 In the above embodiment, the output control circuit 101 and the voltage detection circuit 103 can be configured by hardware such as a circuit device that implements these functions, and software that implements these functions is provided as a CPU (Central Processing Unit). It can also be configured by executing an arithmetic unit such as).

1:半導体集積回路
101:出力制御回路
102:出力回路
102a:負荷回路
102b:NMOSトランジスタ
103:電圧検出回路
R1:抵抗素子
M1、M2、M3:MOSトランジスタ
1: Semiconductor integrated circuit 101: Output control circuit 102: Output circuit 102a: Load circuit 102b: MOSFET transistor 103: Voltage detection circuit R1: Resistance elements M1, M2, M3: MOS transistor

Claims (10)

半導体集積回路を製造する方法であって、
前記半導体集積回路は、
電源端子、
信号出力端子、
前記電源端子の電圧に応じて制御信号を生成する電圧検出回路、
前記信号出力端子に対して前記半導体集積回路の出力信号を出力する出力回路、
を備え、
前記出力回路は、
前記電源端子と前記信号出力端子の間に接続された負荷回路、
前記信号出力端子に接続された第1トランジスタ、
を備え、
前記負荷回路は、前記制御信号によって制御され、
前記方法は、前記半導体集積回路に対してバーンイン試験を実施するステップを有し、
前記バーンイン試験を実施するステップにおいては、前記電圧検出回路は、前記負荷回路から前記第1トランジスタに対して負荷電流を流す電圧レベルを、前記制御信号の電圧レベルとして設定する
ことを特徴とする半導体集積回路の製造方法。
It is a method of manufacturing semiconductor integrated circuits.
The semiconductor integrated circuit is
Power terminal,
Signal output terminal,
A voltage detection circuit that generates a control signal according to the voltage of the power supply terminal,
An output circuit that outputs the output signal of the semiconductor integrated circuit to the signal output terminal,
Equipped with
The output circuit is
A load circuit connected between the power supply terminal and the signal output terminal,
The first transistor connected to the signal output terminal,
Equipped with
The load circuit is controlled by the control signal and is controlled by the control signal.
The method comprises a step of performing a burn-in test on the semiconductor integrated circuit.
In the step of performing the burn-in test, the voltage detection circuit is characterized in that the voltage level at which the load current flows from the load circuit to the first transistor is set as the voltage level of the control signal. How to make an integrated circuit.
前記半導体集積回路はさらに、グランド端子を備え、
前記半導体集積回路はさらに、前記第1トランジスタを制御する出力制御回路を備え、
前記負荷回路は、第2トランジスタを有し、
前記方法はさらに、
前記電源端子を電源電圧と接続するステップ、
前記グランド端子を接地電位と接続するステップ、
を有し、
前記バーンイン試験を実施するステップにおいては、前記電圧検出回路は、前記制御信号によって前記第2トランジスタをONすることにより、前記負荷回路から前記第1トランジスタに対して前記負荷電流を流し、
前記バーンイン試験を実施するステップにおいては、前記出力制御回路は、前記第1トランジスタをON/OFFすることにより、前記負荷電流を前記第1トランジスタに流しながら前記第1トランジスタの負荷テストを実施する
ことを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路の製造方法。
The semiconductor integrated circuit is further provided with a ground terminal.
The semiconductor integrated circuit further includes an output control circuit for controlling the first transistor.
The load circuit has a second transistor and
The method further
Steps to connect the power supply terminal to the power supply voltage,
Step of connecting the ground terminal to the ground potential,
Have,
In the step of carrying out the burn-in test, the voltage detection circuit causes the load current to flow from the load circuit to the first transistor by turning on the second transistor by the control signal.
In the step of carrying out the burn-in test, the output control circuit carries out the load test of the first transistor while passing the load current through the first transistor by turning on / off the first transistor. The method for manufacturing a semiconductor integrated circuit according to claim 1.
前記負荷回路は、
負荷回路トランジスタ、
前記負荷回路トランジスタのドレイン端子と前記信号出力端子との間に配置された抵抗素子、
によって構成されており、
前記バーンイン試験を実施するステップにおいては、前記電圧検出回路は、前記制御信号の電圧レベルとして前記負荷回路トランジスタをONするON電位を設定し、
前記ON電位は、前記負荷回路トランジスタがPMOSトランジスタである場合は接地電位であり、前記負荷回路トランジスタがNMOSトランジスタである場合は電源電位である
ことを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路の製造方法。
The load circuit is
Load circuit transistor,
A resistance element arranged between the drain terminal of the load circuit transistor and the signal output terminal,
Consists of
In the step of carrying out the burn-in test, the voltage detection circuit sets the ON potential for turning on the load circuit transistor as the voltage level of the control signal.
The semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein the ON potential is a ground potential when the load circuit transistor is a polyclonal transistor, and is a power supply potential when the load circuit transistor is an IGMP transistor. Production method.
前記負荷回路は、
第1負荷回路トランジスタ、
第2負荷回路トランジスタ、
によって構成されており、
前記第1負荷回路トランジスタのゲート端子は、前記電圧検出回路から前記制御信号を受け取るように配置されており、
前記第1負荷回路トランジスタのドレイン端子と前記第2負荷回路トランジスタのドレイン端子は、前記信号出力端子と接続されており、
前記第1負荷回路トランジスタのソース端子、前記第2負荷回路トランジスタのゲート端子、および前記第2負荷回路トランジスタのソース端子は、前記第1負荷回路トランジスタと前記第2負荷回路トランジスタがPMOSトランジスタであれば前記電源端子と接続されており、前記第1負荷回路トランジスタと前記第2負荷回路トランジスタがNMOSトランジスタであれば接地電位と接続されており、
前記バーンイン試験を実施するステップにおいては、前記電圧検出回路は、前記制御信号の電圧レベルとして前記第1負荷回路トランジスタをONする電位を設定することにより、前記第2負荷回路トランジスタを経由せず前記第1負荷回路トランジスタを介して前記第1トランジスタに対して電流を供給する
ことを特徴とする請求項1記載の半導体集積回路の製造方法。
The load circuit is
1st load circuit transistor,
2nd load circuit transistor,
Consists of
The gate terminal of the first load circuit transistor is arranged so as to receive the control signal from the voltage detection circuit.
The drain terminal of the first load circuit transistor and the drain terminal of the second load circuit transistor are connected to the signal output terminal.
The source terminal of the first load circuit transistor, the gate terminal of the second load circuit transistor, and the source terminal of the second load circuit transistor may be such that the first load circuit transistor and the second load circuit transistor are polyclonal transistors. For example, it is connected to the power supply terminal, and if the first load circuit transistor and the second load circuit transistor are IGMP transistors, it is connected to the ground potential.
In the step of carrying out the burn-in test, the voltage detection circuit sets a potential for turning on the first load circuit transistor as the voltage level of the control signal, so that the voltage detection circuit does not pass through the second load circuit transistor. The method for manufacturing a semiconductor integrated circuit according to claim 1, wherein a current is supplied to the first transistor via the first load circuit transistor.
前記出力回路は、
前記第1トランジスタが、NMOSトランジスタによって構成されるとともに、前記信号出力端子と前記グランド端子との間に配置され、
前記第2トランジスタが、PMOSトランジスタによって構成されるとともに、前記電源端子と前記信号出力端子との間に配置される
ことによって構成されているか、
または、
前記出力回路は、
前記第2トランジスタが、NMOSトランジスタによって構成されるとともに、前記信号出力端子と前記グランド端子との間に配置され、
前記第1トランジスタが、PMOSトランジスタによって構成されるとともに、前記電源端子と前記信号出力端子との間に配置される
ことによって構成されている
ことを特徴とする請求項2記載の半導体集積回路の製造方法。
The output circuit is
The first transistor is composed of an NaCl transistor and is arranged between the signal output terminal and the ground terminal.
Whether the second transistor is configured by being composed of a polyclonal transistor and being arranged between the power supply terminal and the signal output terminal.
or,
The output circuit is
The second transistor is composed of an µtransistor and is arranged between the signal output terminal and the ground terminal.
The manufacture of the semiconductor integrated circuit according to claim 2, wherein the first transistor is composed of a polyclonal transistor and is arranged between the power supply terminal and the signal output terminal. Method.
半導体集積回路であって、
前記半導体集積回路は、
電源端子、
信号出力端子、
前記電源端子の電圧に応じて制御信号を生成する電圧検出回路、
前記信号出力端子に対して前記半導体集積回路の出力信号を出力する出力回路、
を備え、
前記出力回路は、
前記電源端子と前記信号出力端子の間に接続された負荷回路、
前記信号出力端子に接続された第1トランジスタ、
を備え、
前記電圧検出回路は、前記負荷回路を介して前記第1トランジスタへ電流が流れないように電圧レベルを設定した前記制御信号を出力する
ことを特徴とする半導体集積回路。
It is a semiconductor integrated circuit
The semiconductor integrated circuit is
Power terminal,
Signal output terminal,
A voltage detection circuit that generates a control signal according to the voltage of the power supply terminal,
An output circuit that outputs the output signal of the semiconductor integrated circuit to the signal output terminal,
Equipped with
The output circuit is
A load circuit connected between the power supply terminal and the signal output terminal,
The first transistor connected to the signal output terminal,
Equipped with
The voltage detection circuit is a semiconductor integrated circuit characterized by outputting the control signal whose voltage level is set so that a current does not flow to the first transistor via the load circuit.
前記半導体集積回路はさらに、グランド端子を備え、
前記負荷回路は、前記電源端子と接続された第2トランジスタによって構成されており、
前記電源端子は、電源電圧と接続されており、
前記グランド端子は、接地電位と接続されており、
前記電圧検出回路は、前記第2トランジスタをOFFする前記制御信号を出力する
ことを特徴とする請求項6記載の半導体集積回路。
The semiconductor integrated circuit is further provided with a ground terminal.
The load circuit is composed of a second transistor connected to the power supply terminal.
The power supply terminal is connected to the power supply voltage and
The ground terminal is connected to the ground potential and is connected to the ground potential.
The semiconductor integrated circuit according to claim 6, wherein the voltage detection circuit outputs the control signal for turning off the second transistor.
前記負荷回路は、
負荷回路トランジスタ、
前記負荷回路トランジスタのドレイン端子と前記信号出力端子との間に配置された抵抗素子、
によって構成されており、
前記電圧検出回路は、前記制御信号の電圧レベルとして前記負荷回路トランジスタをOFFするOFF電位を設定し、
前記OFF電位は、前記負荷回路トランジスタがPMOSトランジスタである場合は電源電位であり、前記負荷回路トランジスタがNMOSトランジスタである場合は接地電位である
ことを特徴とする請求項6記載の半導体集積回路。
The load circuit is
Load circuit transistor,
A resistance element arranged between the drain terminal of the load circuit transistor and the signal output terminal,
Consists of
The voltage detection circuit sets an OFF potential for turning off the load circuit transistor as the voltage level of the control signal.
The semiconductor integrated circuit according to claim 6, wherein the OFF potential is a power supply potential when the load circuit transistor is a polyclonal transistor, and is a ground potential when the load circuit transistor is an IGMP transistor.
前記負荷回路は、
第1負荷回路トランジスタ、
第2負荷回路トランジスタ、
によって構成されており、
前記第1負荷回路トランジスタのゲート端子は、前記電圧検出回路から前記制御信号を受け取るように配置されており、
前記第1負荷回路トランジスタのドレイン端子と前記第2負荷回路トランジスタのドレイン端子は、前記信号出力端子と接続されており、
前記第1負荷回路トランジスタのソース端子、前記第2負荷回路トランジスタのゲート端子、および前記第2負荷回路トランジスタのソース端子は、前記第1負荷回路トランジスタと前記第2負荷回路トランジスタがPMOSトランジスタであれば前記電源端子と接続されており、前記第1負荷回路トランジスタと前記第2負荷回路トランジスタがNMOSトランジスタであれば接地電位と接続されており、
前記電圧検出回路は、前記制御信号の電圧レベルとして前記第1負荷回路トランジスタをOFFする電位を設定する
ことを特徴とする請求項6記載の半導体集積回路。
The load circuit is
1st load circuit transistor,
2nd load circuit transistor,
Consists of
The gate terminal of the first load circuit transistor is arranged so as to receive the control signal from the voltage detection circuit.
The drain terminal of the first load circuit transistor and the drain terminal of the second load circuit transistor are connected to the signal output terminal.
The source terminal of the first load circuit transistor, the gate terminal of the second load circuit transistor, and the source terminal of the second load circuit transistor may be such that the first load circuit transistor and the second load circuit transistor are polyclonal transistors. For example, it is connected to the power supply terminal, and if the first load circuit transistor and the second load circuit transistor are IGMP transistors, it is connected to the ground potential.
The semiconductor integrated circuit according to claim 6, wherein the voltage detection circuit sets a potential for turning off the first load circuit transistor as a voltage level of the control signal.
前記出力回路は、
前記第1トランジスタが、NMOSトランジスタによって構成されるとともに、前記信号出力端子と前記グランド端子との間に配置され、
前記第2トランジスタが、PMOSトランジスタによって構成されるとともに、前記電源端子と前記信号出力端子との間に配置される
ことによって構成されているか、
または、
前記出力回路は、
前記第2トランジスタが、NMOSトランジスタによって構成されるとともに、前記信号出力端子と前記グランド端子との間に配置され、
前記第1トランジスタが、PMOSトランジスタによって構成されるとともに、前記電源端子と前記信号出力端子との間に配置される
ことによって構成されている
ことを特徴とする請求項7記載の半導体集積回路。
The output circuit is
The first transistor is composed of an NaCl transistor and is arranged between the signal output terminal and the ground terminal.
Whether the second transistor is configured by being composed of a polyclonal transistor and being arranged between the power supply terminal and the signal output terminal.
or,
The output circuit is
The second transistor is composed of an µtransistor and is arranged between the signal output terminal and the ground terminal.
The semiconductor integrated circuit according to claim 7, wherein the first transistor is composed of a polyclonal transistor and is arranged between the power supply terminal and the signal output terminal.
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