JP2021518548A - シリコン時計製造用構成要素の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (21)
- 計時器構成要素を製造する方法であって、
a)第1のシリコン層(2)、第2のシリコン層(3)、およびその間の中間酸化シリコン層(4)を備える基板(1)を準備するステップと、
b)前記第1のシリコン層(2)をエッチングして、内部に前記計時器構成要素を形成するステップと、
c)エッチングされた前記第1のシリコン層(2)の少なくとも全てまたは一部によって形成されたウェハー(8)を前記基板(1)から離して前記計時器構成要素を構成するステップと、
d)前記計時器構成要素を熱酸化し、次に脱酸するステップと、
e)熱酸化または堆積によって、前記計時器構成要素上に酸化シリコン層(10)を形成するステップと、
f)前記ウェハー(8)から前記計時器構成要素を切り離すステップと、
を含む、方法。 - 計時器構成要素を製造する方法であって、
a)酸化シリコン層と交互になったシリコン層を備える基板(20)を準備するステップと、
b)前記基板の層グループをエッチングして内部に前記計時器構成要素を形成するステップと、
c)前記層グループの少なくとも全部または一部によって形成されたウェハーを前記基板から離して前記計時器構成要素を構成するステップと、
d)前記計時器構成要素を熱酸化し、次に脱酸するステップと、
e)熱酸化または堆積によって、前記計時器構成要素上の酸化シリコン層を形成するステップと、
f)前記ウェハーから前記計時器構成要素を切り離すステップと、
を含む、方法。 - ステップb)の前記エッチングは、深反応性イオンエッチングを含む、請求項1又は2に記載の方法。
- ステップd)とステップe)との間に、前記計時器構成要素を熱酸化し、次に脱酸することから成る付加的ステップを含む、請求項1から3のいずれかに記載の方法。
- ステップd)は、前記計時器構成要素の表面仕上げを改善する機能を果たし、前記付加的ステップは、前記計時器構成要素を構成するひげぜんまいの剛性を調整する機能を果たす、請求項4に記載の方法。
- 前記付加的ステップの前記熱酸化工程中、前記ウェハー(8)は、ステップd)の前記熱酸化工程に対して逆の位置にある、請求項4または5に記載の方法。
- ステップe)中、前記ウェハー(8)は、前記付加的ステップの前記熱酸化工程に対して逆の位置にある、請求項4から6のいずれかに記載の方法。
- 前記熱酸化工程中、前記ウェハー(8)は、支持プレート(11)、スペーサー(12)、および前記支持プレート(11)によって運ばれる保持要素(13)を含む支持部材(11、12、13)によって支持され、前記スペーサー(12)は、前記ウェハー(8)と前記支持プレート(11)との間の間隙を維持し、前記保持要素(13)は、前記ウェハー(8)が水平方向に移動するの阻止する、請求項1から7のいずれかに記載の方法。
- 前記スペーサー(12)は、何らかの計時器構成要素を含まない前記ウェハー(8)の領域で前記ウェハー(8)を支持する、請求項8に記載の方法。
- 前記支持プレート(11)は、シリコン、石英、または炭化ケイ素で作られている、請求項8または9に記載の方法。
- 前記スペーサー(12)および前記保持要素(13)が、石英または炭化ケイ素で作られている、請求項8から10のいずれかに記載の方法。
- 前記スペーサー(12)および前記保持要素(13)は、バヨネット式接続によって前記支持プレート(11)に固定される、請求項8から11のいずれかに記載の方法。
- ステップc)は、前記中間酸化シリコン層(4)を気相エッチングする工程を含む、請求項1および3から12のいずれかに記載の方法。
- ステップc)で離された前記ウェハー(8)は、前記エッチングされた第1のシリコン層(2)の一部によって形成される、請求項1および3から13のいずれかに記載の方法。
- ステップb)において、ステップc)で離される前記ウェハー(8)の周辺端部を画定するために、前記第1のシリコン層(2)に溝がエッチングされる、請求項1および3から14のいずれかに記載の方法。
- ステップb)において、開口部(16)が、前記計時器構成要素(18)がエッチングされる中央領域(17)の周りで前記第1のシリコン層(2)内にエッチングされ、前記開口部(16)は、ステップc)中、前記中間酸化シリコン層(4)のエッチングを行うエッチング剤の通過を可能にする、請求項1および3から15のいずれかに記載の方法。
- 前記計時器構成要素は、ひげぜんまい(18)、アンクル、歯車、針、ロッカー、レバー、ばね、テンプ、及び前記構成要素のうちの一部の、少なくとも1つを含む、請求項1〜16のいずれかに記載の方法。
- ウェハー(8)の熱処理中に前記ウェハー(8)を支持するための支持部材(11,12、13)であって、前記支持部材は、支持プレート(11)、スペーサー(12)、および前記支持プレート(11)によって運ばれる保持要素(13)を含み、前記スペーサー(12)は、前記支持プレート(11)と前記ウェハー(8)との間の間隙を維持する機能を果たし、前記保持要素(13)は、前記ウェハー(8)が水平方向に移動するのを阻止する機能を果たす、支持部材。
- 前記支持プレート(11)は、シリコン、石英、または炭化ケイ素で作られている、請求項18に記載の支持部材(11)。
- 前記スペーサー(12)および前記保持要素(13)は、石英または炭化ケイ素で作られている、請求項18または19に記載の支持部材(11)。
- 前記スペーサー(12)および前記保持要素(13)は、差し込み型接続によって前記支持プレート(11)に固定されている、請求項18から20のいずれかに記載の支持部材(11)。
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