JP2021140885A - Display panel and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、基板上に複数の有機電界発光素子(以下「有機EL素子」と称する)が行列状に配されてなる表示パネル、及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a display panel in which a plurality of organic electroluminescent elements (hereinafter referred to as "organic EL elements") are arranged in a matrix on a substrate, and a method for manufacturing the same.
近年、自発光型のディスプレイとして、基板上に行列方向に沿って有機EL素子を複数配列した有機EL表示パネルが、電子機器のディスプレイとして実用化されている。各有機EL素子は、陽極と陰極の一対の電極対の間に有機発光材料を含む有機発光層が配設された基本構造を有し、駆動時に一対の電極対間に電圧を印加し、陽極から有機発光層に注入される正孔と、陰極から有機発光層に注入される電子との再結合に伴って発生する電流駆動型の発光素子である。 In recent years, as a self-luminous display, an organic EL display panel in which a plurality of organic EL elements are arranged along a matrix direction on a substrate has been put into practical use as a display for electronic devices. Each organic EL element has a basic structure in which an organic light emitting layer containing an organic light emitting material is arranged between a pair of electrode pairs of an anode and a cathode, and a voltage is applied between the pair of electrode pairs during driving to obtain an anode. It is a current-driven light emitting element generated by recombination of holes injected into the organic light emitting layer from the above and electrons injected into the organic light emitting layer from the cathode.
有機EL表示パネルにおける各有機層は、従来は真空蒸着などのドライプロセスにより成膜される場合が多かったが、塗布技術、特に印刷装置の技術の進歩に伴い、近年では、塗布法などのウエットプロセスを採用して各有機層を形成する技術が普及しつつある。 In the past, each organic layer in an organic EL display panel was often formed by a dry process such as vacuum deposition, but with the progress of coating technology, especially printing equipment technology, in recent years, wet coating methods and the like have been used. Techniques for forming each organic layer by adopting a process are becoming widespread.
塗布法は、機能性の有機材料が溶媒に溶解してなるインクをインクジェット装置などの印刷装置等により必要箇所に塗布した後、乾燥させて有機層を形成するものであり、大型の有機EL表示パネルであってもその設備費が抑制できると共に材料利用率が高いなどコスト面で優れている。 In the coating method, an ink obtained by dissolving a functional organic material in a solvent is applied to a necessary place by a printing device such as an inkjet device and then dried to form an organic layer, and a large organic EL display is used. Even if it is a panel, its equipment cost can be suppressed and the material utilization rate is high, which is excellent in terms of cost.
また、最近では、有機発光層を塗布法で形成する場合、その膜厚を発光色ごとに均一に形成するため、いわゆるラインバンク方式が採用されている(例えば、特許文献1)。このラインバンク方式は、基板上に、列方向に延びる複数の隔壁(バンク)を並設し、隣接する隔壁で仕切られた領域(以下、単に「間隙」という。)にインクを連続的に塗布するものであり、列方向に並ぶ複数の副画素は、行方向に延びる複数の画素規制層によって仕切られるようになっている。 Recently, when an organic light emitting layer is formed by a coating method, a so-called line bank method is adopted in order to form the film thickness uniformly for each light emitting color (for example, Patent Document 1). In this line bank method, a plurality of partition walls (banks) extending in a row direction are arranged side by side on a substrate, and ink is continuously applied to an area partitioned by adjacent partition walls (hereinafter, simply referred to as "gap"). The plurality of sub-pixels arranged in the column direction are partitioned by a plurality of pixel regulation layers extending in the row direction.
画素規制層の高さは、隔壁および塗布されたインクの液面より低く設定されているため、インクが間隙内で流動することが可能であり、レベリングにより、各発光素子における有機層の膜厚の均一性が向上する。 Since the height of the pixel regulation layer is set lower than the partition wall and the liquid level of the applied ink, the ink can flow in the gap, and the film thickness of the organic layer in each light emitting element is achieved by leveling. Improves uniformity.
しかしながら、このようなラインバンク方式を採用して、塗布法で有機発光層を形成する場合に、隔壁の製造方法に起因して、特に列方向の端部において混色が発生するおそれがあることが分かった。 However, when such a line bank method is adopted to form an organic light emitting layer by a coating method, there is a possibility that color mixing may occur particularly at the end portion in the column direction due to the method of manufacturing the partition wall. Do you get it.
本開示は、上記課題に鑑みてなされたものであって、塗布法により有機発光層を形成しても、列方向端部における混色の発生を可及的に抑制して、良好な表示画質を得ることができる表示パネルおよびその製造方法を提供することを目的とする。 The present disclosure has been made in view of the above problems, and even if an organic light emitting layer is formed by a coating method, the occurrence of color mixing at the end in the column direction is suppressed as much as possible to obtain good display image quality. It is an object of the present invention to provide a display panel that can be obtained and a method for manufacturing the same.
本開示の一態様に係る表示パネルは、基板上に、複数の発光素子が、平坦化層を介して行列状に配列されてなり、平面視において画像表示領域と当該画像表示領域を囲繞する周辺領域とを有する表示パネルであって、列方向に延在する複数の第1隔壁と、行方向に延在し、前記基板からの高さが第1隔壁よりも低い複数の第2隔壁と、を備え、前記複数の発光素子が、前記第1隔壁と前記第2隔壁とによって画定されており、前記複数の第1隔壁が、前記周辺領域内まで延在すると共に、その列方向の両端部において連結部によって連結され、平面視において、前記平坦化層の、行方向に隣接する第1隔壁間の間隙内であって少なくとも一方の端部側の前記連結部に隣接する部分に、凹入部が存することを特徴とする。 In the display panel according to one aspect of the present disclosure, a plurality of light emitting elements are arranged in a matrix via a flattening layer on a substrate, and the image display area and the periphery surrounding the image display area in a plan view are formed. A display panel having an area, a plurality of first partition walls extending in the column direction, and a plurality of second partition walls extending in the row direction and having a height from the substrate lower than that of the first partition wall. The plurality of light emitting elements are defined by the first partition wall and the second partition wall, and the plurality of first partition walls extend into the peripheral region and both ends in the column direction thereof. In a plan view, a recessed portion is formed in a portion of the flattening layer between the first partition walls adjacent in the row direction and adjacent to the connecting portion on at least one end side. Is characterized by the existence of.
また、本開示の別の態様に係る表示パネルの製造方法は、基板を準備する第1工程と、前記基板上方に平坦化層を形成する第2工程と、前記平坦化層の所定位置に複数の凹入部を形成する第3工程と、前記平坦化層上に、画素電極と電荷注入輸送層の積層体を複数、行列状に配する第4工程と、前記平坦化層および前記積層体上方に、第2隔壁の材料の層を形成した後、パターニング処理により前記列方向に隣接する複数の電極の間で行方向に延伸する第2隔壁を形成する第5工程と、前記平坦化層および前記積層体上方に、前記第2隔壁より高い第1隔壁の材料の層を形成した後、パターニング処理により前記行方向に隣接する複数の電極の間で列方向に延伸し、かつ、列方向の両端部が連結部により連結された複数の第1隔壁を形成する第6工程と、前記複数の隔壁同士の間隙に発光材料を含むインクを塗布して発光層を形成する第7工程と、を含み、前記第6工程は、前記パターニング処理時に洗浄液で洗浄する工程と、前記洗浄液を除去する工程とを含み、前記第3工程において複数の凹入部が設けられる所定位置は、平面視において、前記複数の第1隔壁の間隙内であって、かつ、列方向における少なくとも一方の端部側の前記第1隔壁の連結部に隣接する位置であることを特徴とする。 Further, a plurality of methods for manufacturing a display panel according to another aspect of the present disclosure include a first step of preparing a substrate, a second step of forming a flattening layer on the substrate, and a plurality of methods at predetermined positions of the flattening layer. A third step of forming the recessed portion of the above, a fourth step of arranging a plurality of laminated bodies of a pixel electrode and a charge injection transport layer in a matrix on the flattening layer, and above the flattening layer and the laminated body. A fifth step of forming a second partition wall extending in the row direction between a plurality of electrodes adjacent in the column direction by a patterning process after forming a layer of the material of the second partition wall, and the flattening layer and the flattening layer. After forming a layer of the material of the first partition wall higher than the second partition wall on the laminated body, it is stretched in the column direction between a plurality of electrodes adjacent to each other in the row direction by a patterning process, and is in the column direction. A sixth step of forming a plurality of first partition walls in which both ends are connected by a connecting portion, and a seventh step of applying ink containing a light emitting material to the gaps between the plurality of partition walls to form a light emitting layer. Including, the sixth step includes a step of cleaning with a cleaning liquid at the time of the patterning process and a step of removing the cleaning liquid, and a predetermined position where a plurality of recessed portions are provided in the third step is described in a plan view. It is characterized in that it is in the gap between the plurality of first partition walls and at a position adjacent to the connecting portion of the first partition wall on at least one end side in the row direction.
上記態様に係る表示パネルおよびその製造方法によれば、少なくとも有機発光層を塗布法で形成することにより製造コストを低減しつつ、混色の発生を可及的に抑制し、表示画質を改善することができる。 According to the display panel and the manufacturing method thereof according to the above aspect, at least the organic light emitting layer is formed by the coating method to reduce the manufacturing cost, suppress the occurrence of color mixing as much as possible, and improve the display image quality. Can be done.
≪本開示の一態様に至った経緯≫
ウエットプロセスの一種である塗布法は、所定の機能を有する有機材料を溶媒に溶解してなるインクを印刷装置等により必要箇所に塗布した後、乾燥させて有機層を形成するものである。特に、有機発光層を塗布法で形成する場合、膜厚を発光色ごとに均一に形成するため、列方向に伸びる複数の隔壁同士の間隙に連続してインクを塗布するラインバンク方式が採用される場合が多い。
<< Background to one aspect of this disclosure >>
In the coating method, which is a kind of wet process, an ink obtained by dissolving an organic material having a predetermined function in a solvent is applied to a necessary place by a printing apparatus or the like, and then dried to form an organic layer. In particular, when the organic light emitting layer is formed by the coating method, a line bank method is adopted in which ink is continuously applied to the gaps between a plurality of partition walls extending in the row direction in order to form the film thickness uniformly for each emission color. In many cases.
図15(a)は、本発明の背景技術に係る有機EL表示パネルの、製造途中(正孔輸送層形成前)における部分的な平面図である。 FIG. 15A is a partial plan view of the organic EL display panel according to the background technique of the present invention during manufacturing (before forming a hole transport layer).
図15(a)に示すように、複数の隔壁14が一方向に並行に延び、その終端部は連結部142で連結されて閉塞されている。また、隔壁14の延びる方向と直交する方向に一定の間隔をおいて画素規制層141が形成されており、隣接する一対の隔壁14と一対の画素規制層141で仕切られた領域により、一つの副画素の範囲が画定される。
As shown in FIG. 15A, a plurality of
有機EL表示パネルは平面視において、中央の画像表示領域50と、当該画像表示領域50を囲繞する周辺領域60(図1参照)とを有しており、この周辺領域内には、発光に寄与しない有機EL素子(ダミー発光素子)が形成されるダミー画素領域61が含まれる。
The organic EL display panel has a central
図15(b)は、図15(a)のダミー画素領域61におけるH−H線における矢視断面図を示している。同図に示すように不図示の基板上に樹脂材料からなる平坦化層(層間絶縁層)12が形成され、その上に画素電極13と正孔注入層15を重ねてなる複数の積層体25が一定の画素間隔で配列され、それらの間に画素規制層141が形成される。
FIG. 15B shows a cross-sectional view taken along the line HH in the
図15(c)は、有機EL表示パネルの隔壁14の端部周辺の様子を示す斜視図であり、画素規制層141の高さが隔壁14の高さよりも低いラインバンク方式であることを示している。
FIG. 15C is a perspective view showing the state around the end portion of the
図16(a)〜(d)は、本背景技術に係る有機EL表示パネルの隔壁形成工程の最終段階から有機発光層のインク塗布までの工程を示している。 16 (a) to 16 (d) show the steps from the final step of the partition wall forming step of the organic EL display panel according to the background technology to the ink application of the organic light emitting layer.
図16(a)は、フォトリソグラフィ法を用いて、隔壁及び画素規制層をパターニングした様子を示す図である。フォトリソグラフィ法の最終段階ではリンス液(洗浄液:主に純水)により現像液などを洗い流す工程が行われる。 FIG. 16A is a diagram showing a state in which the partition wall and the pixel regulation layer are patterned by using a photolithography method. At the final stage of the photolithography method, a step of washing away the developing solution and the like with a rinsing solution (cleaning solution: mainly pure water) is performed.
基板上方に残留したリンス液は、図16(b)に示すように、不図示のエアーナイフ装置のノズル500から吐出される圧縮空気501に対し、有機EL表示パネルをC方向に相対的に移動させることにより、リンス液が片方の端部に寄せられ、吹き飛ばされるようにして除去される。
As shown in FIG. 16B, the rinse liquid remaining above the substrate moves the organic EL display panel in the C direction relative to the
なお、図16(b)では簡略化して示しているため、圧縮空気501は、直線状の矢印で示しているが、実際には画素規制層141と平行な方向に延びるカーテン状の圧縮空気が基板上に吐出される。
Although the
この際、どうしても風圧で除去しきれなかったリンス液の溜まり(以下、「リンス液溜り」という。)401が連結部142の手前や画素規制層141の手前のコーナー部に残存する。残ったリンス液は、その後に実行されるベーク処理(焼成処理)により蒸発するが、リンス液には、わずかであるが正孔注入層15の材料が溶解していたり、その他の部材の残渣が含まれている場合があり、リンス液が蒸発すると、図16(c)に示すように、溶解していた正孔注入層15の材料成分などが析出して異物402となり、隔壁14の内側面に付着する。
At this time, a pool of rinse liquid (hereinafter, referred to as “rinse liquid pool”) 401 that could not be completely removed by the wind pressure remains in the corner portion in front of the connecting
特に、画素規制層141よりも高い連結部142の手前でのリンス液溜り401が大きいため、その分、析出する異物402の量も多くなる。
In particular, since the rinse
この状態で、次に有機発光材料を含むインクを間隙に塗布する。隔壁14は、撥液性の高い樹脂材料で形成されているため、通常は、インクは、その表面張力により隔壁14同士の間隙内で、隔壁14の上縁よりも上方に盛り上がった形状に維持されるが、隔壁14に異物が付着していると、その部分の撥液性が低くなり、本来の盛り上がり形状を維持することができず、仕切りとなる隔壁14の上端部を乗り越えて、隣接する異なる発光色のインクが塗布された間隙に流れ込んでインクが混ざり、その部分が、本来目標としていた色に正常に発光しない(以下、本明細書において、異なった発光色のインクが混ざることを、単に「混色する」という場合がある。)。
In this state, an ink containing an organic light emitting material is then applied to the gap. Since the
図16(d)は、この混色の発生した様子を示す模式図であり、塗布されたインクは緑色発光色のインク310Gと隣の赤色発光色のインク310Rとが混じり合った部分310GRが発生する。ラインバンク方式を採用しているため、この混色は、ダミー画素領域61から徐々に画像表示領域50にも及び、表示画質が劣化する。
FIG. 16D is a schematic view showing how this color mixing occurs, and the applied ink generates a portion 310GR in which the green emitting
そこで、本願発明者は、塗布法を採用して低コスト化を図りつつ、ラインバンク方式を採用した場合でも、各発光色の混色の発生を可及的に抑制して良好な表示画質を得るため、鋭意研究の結果、本開示の一態様に至ったものである。 Therefore, the inventor of the present application obtains good display image quality by suppressing the occurrence of color mixing of each emission color as much as possible even when the line bank method is adopted while reducing the cost by adopting the coating method. Therefore, as a result of diligent research, one aspect of the present disclosure has been reached.
≪本開示の一態様の概要≫
本開示の一態様に係る表示パネルは、基板上に、複数の発光素子が、平坦化層を介して行列状に配列されてなり、平面視において画像表示領域と当該画像表示領域を囲繞する周辺領域とを有する表示パネルであって、列方向に延在する複数の第1隔壁と、行方向に延在し、前記基板からの高さが第1隔壁よりも低い複数の第2隔壁と、を備え、前記複数の発光素子が、前記第1隔壁と前記第2隔壁とによって画定されており、前記複数の第1隔壁が、前記周辺領域内まで延在すると共に、その列方向の両端部において連結部によって連結され、平面視において、前記平坦化層の、行方向に隣接する第1隔壁間の間隙内であって少なくとも一方の端部側の前記連結部に隣接する部分に、凹入部が存する。
<< Outline of one aspect of the present disclosure >>
In the display panel according to one aspect of the present disclosure, a plurality of light emitting elements are arranged in a matrix via a flattening layer on a substrate, and the image display area and the periphery surrounding the image display area in a plan view are formed. A display panel having an area, a plurality of first partition walls extending in the column direction, and a plurality of second partition walls extending in the row direction and having a height from the substrate lower than that of the first partition wall. The plurality of light emitting elements are defined by the first partition wall and the second partition wall, and the plurality of first partition walls extend into the peripheral region and both ends in the column direction thereof. In a plan view, a recessed portion is formed in a portion of the flattening layer between the first partition walls adjacent in the row direction and adjacent to the connecting portion on at least one end side. Exists.
係る態様により、ラインバンク方式を採用して有機発光層を塗布法で形成することにより製造コストを低減しつつ、異物の析出により生ずる混色の発生を可及的に抑制することができる。 According to this aspect, by adopting the line bank method and forming the organic light emitting layer by the coating method, it is possible to reduce the production cost and suppress the generation of color mixing caused by the precipitation of foreign substances as much as possible.
また、本開示の別の態様に係る表示パネルは、列方向に延在する各発光素子列の、前記凹入部が存する側において、前記周辺領域内に少なくとも1のダミー発光素子が配されている。 Further, in the display panel according to another aspect of the present disclosure, at least one dummy light emitting element is arranged in the peripheral region on the side where the recessed portion is present in each light emitting element row extending in the row direction. ..
また、本開示の別の態様に係る表示パネルは、前記列方向に延在する各発光素子列の、前記凹入部が存する側において、前記周辺領域内に複数のダミー発光素子が配されており、少なくとも一対のダミー発光素子の間に、前記第2隔壁が形成されていない。 Further, in the display panel according to another aspect of the present disclosure, a plurality of dummy light emitting elements are arranged in the peripheral region on the side where the recessed portion is present in each light emitting element row extending in the row direction. The second partition wall is not formed between at least a pair of dummy light emitting elements.
このように少なくとも一対のダミー発光素子間に第2隔壁を形成しないことにより、製造段階で隔壁のパターニング後のリンス液を除去する際に、リンス液溜りの存する箇所がより少なくなり異物による混色の発生しない表示パネルとなる。 By not forming the second partition wall between at least a pair of dummy light emitting elements in this way, when removing the rinse liquid after patterning the partition wall at the manufacturing stage, the number of places where the rinse liquid pool exists is reduced and the color is mixed due to foreign matter. It becomes a display panel that does not occur.
また、本開示の別の態様に係る表示パネルは、前記平坦化層の、前記第2隔壁が形成されていない少なくとも一対のダミー発光素子間の隙間に対応する部分が凹入している。 Further, in the display panel according to another aspect of the present disclosure, a portion of the flattening layer corresponding to a gap between at least a pair of dummy light emitting elements on which the second partition wall is not formed is recessed.
また、本開示の別の態様に係る表示パネルは、前記平坦化層の、前記少なくとも1のダミー発光素子が配された領域に列方向に伸びる溝部が連続して形成されている。 Further, in the display panel according to another aspect of the present disclosure, groove portions extending in the column direction are continuously formed in the region of the flattening layer in which at least one dummy light emitting element is arranged.
係る態様により、周辺領域のダミー画素領域におけるリンス液溜りを収納する凹入部分の全体容量が大きくなり、リンス液の蒸発により異物が析出しても第1隔壁の内壁に付着するおそれがさらに減少し、混色が発生しにくくなる。 According to this aspect, the total capacity of the recessed portion for accommodating the rinse liquid pool in the dummy pixel region of the peripheral region is increased, and even if foreign matter is deposited due to evaporation of the rinse liquid, the possibility of adhering to the inner wall of the first partition wall is further reduced. However, color mixing is less likely to occur.
また、本開示の別の態様に係る表示パネルは、前記平坦化層上に、前記第2隔壁が間に介在しない少なくとも一対のダミー発光素子に共通する画素電極および電荷注入輸送層が配されている。 Further, in the display panel according to another aspect of the present disclosure, a pixel electrode and a charge injection transport layer common to at least a pair of dummy light emitting elements in which the second partition wall is not interposed are arranged on the flattening layer. There is.
なお、ここで、画素電極が例えば陽極の場合には電荷注入輸送層は、正孔注入性および/または正孔輸送性を備えた機能層である。 Here, when the pixel electrode is, for example, an anode, the charge injection transport layer is a functional layer having hole injection property and / or hole transport property.
また、本開示の別の態様に係る表示パネルは、前記第2隔壁が間に介在しない少なくとも一対のダミー発光素子には、画素電極および電荷注入輸送層が配されていない。 Further, in the display panel according to another aspect of the present disclosure, the pixel electrode and the charge injection transport layer are not arranged in at least a pair of dummy light emitting elements in which the second partition wall is not interposed.
これらの態様により、隔壁の製造段階でリンス液が風圧で除去される際に、円滑に連結部に隣接する位置に設けられた凹入部まで移動して収納されるので、それまでに至る途中で、リンス液溜りが残存し、乾燥後に異物が隔壁の内壁に付着するおそれを少なくすることができる。 According to these aspects, when the rinse liquid is removed by wind pressure at the stage of manufacturing the partition wall, it is smoothly moved to the recessed portion provided at the position adjacent to the connecting portion and stored. , The rinse liquid pool remains, and the possibility that foreign matter adheres to the inner wall of the partition wall after drying can be reduced.
また、本開示の別の態様に係る表示パネルは、前記列方向に延在する各発光素子列の、前記凹入部が存する側において、前記周辺領域内に配された少なくとも1のダミー発光素子には、画素電極および電荷注入輸送層が配されていない。 Further, the display panel according to another aspect of the present disclosure is formed on at least one dummy light emitting element arranged in the peripheral region on the side where the recessed portion is present in each light emitting element row extending in the row direction. Does not have a pixel electrode and a charge injection transport layer.
本開示の別の態様に係る表示パネルの製造方法は、基板を準備する第1工程と、前記基板上方に平坦化層を形成する第2工程と、前記平坦化層の所定位置に複数の凹入部を形成する第3工程と、前記平坦化層上に、画素電極と電荷注入輸送層の積層体を複数、行列状に配する第4工程と、前記平坦化層および前記積層体上方に、第2隔壁の材料の層を形成した後、パターニング処理により前記列方向に隣接する複数の電極の間で行方向に延伸する第2隔壁を形成する第5工程と、前記平坦化層および前記積層体上方に、前記第2隔壁より高い第1隔壁の材料の層を形成した後、パターニング処理により前記行方向に隣接する複数の電極の間で列方向に延伸し、かつ、列方向の両端部が連結部により連結された複数の第1隔壁を形成する第6工程と、前記複数の隔壁同士の間隙に発光材料を含むインクを塗布して発光層を形成する第7工程と、を含み、前記第6工程は、前記パターニング処理時に洗浄液で洗浄する工程と、前記洗浄液を除去する工程とを含み、前記第3工程において複数の凹入部が設けられる所定位置は、平面視において、前記複数の第1隔壁の間隙内であって、かつ、列方向における少なくとも一方の端部側の前記第1隔壁の連結部に隣接する位置である。 A method for manufacturing a display panel according to another aspect of the present disclosure includes a first step of preparing a substrate, a second step of forming a flattening layer on the substrate, and a plurality of recesses at predetermined positions of the flattening layer. The third step of forming the inlet portion, the fourth step of arranging a plurality of laminated bodies of the pixel electrodes and the charge injection transport layer in a matrix on the flattening layer, and above the flattening layer and the laminated body. After forming the material layer of the second partition wall, the fifth step of forming the second partition wall extending in the row direction between the plurality of electrodes adjacent in the column direction by the patterning process, the flattening layer and the lamination After forming a layer of the material of the first partition wall higher than the second partition wall above the body, it is stretched in the column direction between a plurality of electrodes adjacent to each other in the row direction by a patterning process, and both ends in the column direction. Includes a sixth step of forming a plurality of first partition walls connected by a connecting portion, and a seventh step of applying an ink containing a light emitting material to the gaps between the plurality of partition walls to form a light emitting layer. The sixth step includes a step of cleaning with a cleaning liquid at the time of the patterning process and a step of removing the cleaning liquid. It is a position within the gap of the first partition wall and adjacent to the connecting portion of the first partition wall on at least one end side in the row direction.
また、本開示の別の態様は、前記第6工程における前記洗浄液を除去する工程は、風圧により前記洗浄液を列方向の一方の端部に向けて吹き寄せて除去する工程を含み、前記第3工程において、複数の凹入部が設けられる所定位置は、平面視において、前記複数の第1隔壁の間隙内であって、かつ、前記洗浄液が吹き寄せられる側の前記隔壁の連結部に隣接する位置である。 Further, in another aspect of the present disclosure, the step of removing the cleaning liquid in the sixth step includes a step of blowing the cleaning liquid toward one end in the row direction by wind pressure to remove the cleaning liquid, and the third step. In the plan view, the predetermined position where the plurality of recessed portions are provided is a position within the gap between the plurality of first partition walls and adjacent to the connecting portion of the partition walls on the side where the cleaning liquid is blown. ..
係る態様により、塗布法により有機層を形成して製造コストを抑えつつ、異物の隔壁への付着に起因する混色の発生を抑制し、表示画質に優れた表示パネルの製造が可能となる。 According to this aspect, it is possible to produce a display panel having excellent display image quality by forming an organic layer by a coating method to suppress the production cost and suppressing the generation of color mixing due to the adhesion of foreign substances to the partition wall.
なお、上記各開示の態様において「上」とは、絶対的な空間認識における上方向(鉛直上方)を指すものではなく、表示パネル上に配された各発光素子の積層構造における積層順を基に、相対的な位置関係により規定されるものである。具体的には、発光素子において、基板の主面に垂直な方向であって、基板から積層物側に向かう側を上方向とする。また、例えば「基板上」と表現した場合は、基板に直接接する領域のみを指すのではなく、積層物を介した基板の上方の領域も含めるものとする。また、例えば「基板の上方」と表現した場合、基板と間隔を空けた上方領域のみを指すのではなく、基板上の領域も含めるものとする。 In each of the above-described embodiments, "upper" does not mean an upward direction (vertically upward) in absolute spatial recognition, but is based on the stacking order in the laminated structure of each light emitting element arranged on the display panel. In addition, it is defined by the relative positional relationship. Specifically, in the light emitting element, the direction perpendicular to the main surface of the substrate and the direction from the substrate toward the laminate side is the upward direction. Further, for example, the expression "on the substrate" does not mean only the region directly in contact with the substrate, but also includes the region above the substrate via the laminate. Further, for example, when the expression "above the substrate" is used, it does not mean only the upper region separated from the substrate, but also includes the region on the substrate.
≪実施形態≫
以下、本開示の一態様に係る有機EL表示パネルやその製造方法について、図面を参照しながら説明する。なお、各図面は、模式的なものを含んでおり、各部材の縮尺や縦横の比率などが実際とは異なる場合がある。
<< Embodiment >>
Hereinafter, the organic EL display panel and the manufacturing method thereof according to one aspect of the present disclosure will be described with reference to the drawings. It should be noted that each drawing includes a schematic one, and the scale and aspect ratio of each member may differ from the actual ones.
1.有機EL表示装置1の全体構成
図1は、有機EL表示装置1の全体構成を示すブロック図である。有機EL表示装置1は、例えば、テレビ、パーソナルコンピュータ、携帯端末、業務用ディスプレイなどに用いられる表示装置である。
1. 1. Overall Configuration of Organic EL Display Device 1 FIG. 1 is a block diagram showing an overall configuration of the organic EL display device 1. The organic EL display device 1 is a display device used for, for example, a television, a personal computer, a mobile terminal, a business display, and the like.
有機EL表示装置1は、有機EL表示パネル10と、これに電気的に接続された駆動制御部200とを備える。
The organic EL display device 1 includes an organic
有機EL表示パネル10は、本実施形態では、上面が長方形状の画像表示面であるトップエミッション型の表示パネルである。有機EL表示パネル10は、平面視において、中央の画像を表示する画像表示領域50と、画像表示領域50の周りを囲繞する周辺領域60とを有し、画像表示領域50の画像表示面に沿って複数の有機EL素子(不図示)が配列され、各有機EL素子の発光を組み合わせて画像を表示する。有機EL表示パネル10は、一例として、アクティブマトリクス方式を採用している。
In the present embodiment, the organic
なお、周辺領域60内の画像表示領域50に近い領域にも、有機EL素子が形成されるが、これは発光しない、ダミーの有機EL素子(以下、画像表示領域50内に配され発光する有機EL素子を、そのまま「有機EL素子」と呼び、周辺領域60内のダミーの有機EL素子を、「ダミー発光素子」と呼んで、両者を区別する。)である。
An organic EL element is also formed in a region close to the
一般に基板の周辺部と中央部とを比較すると、周辺部の方が早くインクが乾燥するため中央部と周辺部における有機層の膜厚にばらつきが生じる。そのため、画像表示領域50の周辺にわざと発光に寄与しないダミー発光素子を形成して、画像表示領域50内の有機EL素子の有機層の膜厚の均一化を図っている。
Generally, when the peripheral portion and the central portion of the substrate are compared, the ink dries faster in the peripheral portion, so that the film thickness of the organic layer in the central portion and the peripheral portion varies. Therefore, a dummy light emitting element that does not contribute to light emission is intentionally formed around the
駆動制御部200は、有機EL表示パネル10に接続された駆動回路210と、計算機などの外部装置又はTVチューナーなどの受信装置に接続された制御回路220とを有する。駆動回路210は、画像表示領域50内の各有機EL素子に電力を供給する電源回路、各有機EL素子への供給電力を制御する電圧信号を印加する信号回路、一定の間隔ごとに電圧信号を印加する箇所を切り替える走査回路などを有する。
The
制御回路220は、外部装置や受信装置から入力された画像情報を含むデータに応じて、駆動回路210の動作を制御する。
The
なお、図1では、一例として、駆動回路210が有機EL表示パネル10の周囲に4つ配置されているが、駆動制御部200の構成はこれに限定されるものではなく、駆動回路210の数や位置は適宜変更可能である。また、以下では説明のため、図1に示すように、有機EL表示パネル10上面の長辺に沿った方向をX方向、有機EL表示パネル10上面の短辺に沿った方向をY方向とする。
In FIG. 1, four
2.有機EL表示パネル10の平面構成
図2は、有機EL表示パネル10の画像表示面の一部を拡大した模式平面図である。有機EL表示パネル10では、一例として、R(赤色)、G(緑色)、B(青色)(以下、単にR、G、Bともいう。)にそれぞれ発光する副画素100R、100G、100Bが行列状に配列されている。副画素100R、100G、100Bは、X方向に交互に並び、X方向に並ぶ一組の副画素100R、100G、100Bが、一つの画素Pを構成している。画素Pでは、階調制御された副画素100R、100G、100Bの発光輝度を組み合わせることにより、フルカラーを表現することが可能である。
2. Planar configuration of the organic
また、Y方向においては、副画素100R、副画素100G、副画素100Bのいずれかのみが並ぶことでそれぞれ副画素列CR、副画素列CG、副画素列CBが構成されている。これにより、有機EL表示パネル10全体として画素Pが、X方向及びY方向に沿った行列状に並び、この行列状に並ぶ画素Pの発色を組み合わせることにより、画像表示面に画像が表示される。
Further, in the Y direction, only one of the sub-pixel 100R, the sub-pixel 100G, and the sub-pixel 100B is lined up to form the sub-pixel row CR, the sub-pixel row CG, and the sub-pixel row CB, respectively. As a result, the pixels P of the organic
副画素100R、100G、100Bには、それぞれR、G、Bの色に発光する有機EL素子2(R)、2(G)、2(B)(図6参照)が配置されている。 Organic EL elements 2 (R), 2 (G), and 2 (B) (see FIG. 6) that emit light in the colors R, G, and B are arranged in the sub-pixels 100R, 100G, and 100B, respectively.
また、本実施形態に係る有機EL表示パネル10では、いわゆるラインバンク方式を採用している。すなわち、副画素列CR、CG、CBを1列ごとに仕切る隔壁(バンク)14がX方向(行方向)に間隔をおいて複数配置され、各副画素列CR、CG、CBでは、副画素100R、100G、100Bが、有機発光層を共有している。
Further, the organic
ただし、各副画素列CR、CG、CBでは、副画素100R、100G、100B同士を絶縁する画素規制層141がY方向に間隔をおいて複数配置され、各副画素100R、100G、100Bは、独立して発光することができるようになっている。 However, in each of the sub-pixel sequences CR, CG, and CB, a plurality of pixel regulation layers 141 that insulate the sub-pixels 100R, 100G, and 100B from each other are arranged at intervals in the Y direction, and the sub-pixels 100R, 100G, and 100B are arranged. It can emit light independently.
この画素規制層141の基板からの高さは、有機発光層のインク塗布時における液面の高さよりも低く、これにより、隣接する隔壁14間の間隙14aに塗布されたインクのY方向(列方向)の流動性を確保してレベリングにより同一発光色における有機発光層の膜厚を均一に形成することを容易にする。
The height of the
各隔壁14は、Y方向に延びて、その終端部が周辺領域60内まで及び、当該終端部において、隔壁14と同じ高さの連結部142により連結され、隣接する隔壁14間の間隙14aに塗布されたインクが、隔壁14の列方向端部から漏れないようになっている。
Each
連結部142は、Y方向の両端部に設けられており、これにより、隣接する隔壁14間の間隙14aは、Y方向にライン状に延びる開口と見做すことができるので、以下では単に「開口部14a」と言い換えて説明する。
The connecting
この開口部14aに面した下地層(平坦化層12)のY方向上部終端部であって、平面視において連結部142に隣接する部分には、後述するように凹入部121が形成されている。この終端部周辺の構造についての詳細は後述する。
A recessed
なお、図2では、隔壁14及び画素規制層141は点線で表されているが、これは、画素規制層141及び隔壁14が、画像表示面の表面に露出しておらず、画像表示面の内部に配置されているからである。
In FIG. 2, the
3.隔壁の終端部周辺の構造
図3(a)は、正孔輸送層16が形成される前の製造途中の有機EL表示パネル10の周辺領域60における隔壁14の列方向における一方の終端部周辺の構造を示す斜視図であり、図3(b)は、同じく製造途中の有機EL表示パネル10の一部分の平面図であり、図3(c)は、図3(b)のD−D線における矢視断面図である。
3. 3. The structure around the end portion of the partition wall FIG. 3A shows the periphery of one end portion in the row direction of the
図3(a)に示すように複数の隔壁14の終端部は連結部142によって連結されると共に、ダミー発光素子用の画素電極13と正孔注入層15の積層体25(図3(c)参照)が一定の間隔をおいて平坦化層12上に形成されている。
As shown in FIG. 3A, the terminal portions of the plurality of
本実施形態では、図3(b)に示すように画像表示領域50の外側のダミー画素領域61に形成されるダミー発光素子を区切るための画素規制層141は形成されていないため、隣り合う、積層体25同士の間に間隙125が発生している。
In the present embodiment, as shown in FIG. 3B, the
ダミー発光素子は実際に電流を供給して発光させる必要がないので、それらを電気的に絶縁するための画素規制層141を形成しなくても特に支障はない。
Since it is not necessary for the dummy light emitting element to actually supply a current to emit light, there is no particular problem even if the
そして、平坦化層12の開口部14aに面し、かつ、平面視で連結部142に隣接する部分には所定容量の凹入部121が形成されている。
A recessed
図4(a)〜(d)は、本実施形態に係る有機EL表示パネル10の隔壁14の形成工程の最終段階から有機発光層のインク塗布までの工程を示す斜視図であり、図5(a)〜(c)は、本実施形態における効果を説明するための概略断面図である。
4 (a) to 4 (d) are perspective views showing a process from the final stage of the process of forming the
図4(a)は、フォトリソグラフィ法を用いて、隔壁14をパターニングした直後の様子を示す図であり、その最終段階でリンス液(洗浄液)により現像液などを洗い流す工程が行われる。
FIG. 4A is a diagram showing a state immediately after patterning the
基板上に残留したリンス液は、図4(b)に示すように、不図示のエアーナイフ装置のノズル500から吐出される圧縮空気501に対し、有機EL表示パネルをC方向に相対的に移動させることにより、基板の一方端部から吹き飛ばされて除去される。
As shown in FIG. 4B, the rinse liquid remaining on the substrate moves the organic EL display panel in the C direction relative to the
この際、ダミー画素領域61には、画素規制層141が形成されていないので、途中でリンス液溜り401が発生せず、速やかに連結部142付近まで吹き寄せられ、大半は有機EL表示パネル10外に飛ばされるが、連結部142の手前の位置には、連結部142が障壁となって、どうしてもリンス液溜り401が残る(図5(a)、(b)参照)。
At this time, since the
その後、有機EL表示パネル10の中間品を所定温度で加熱してベーク処理を行うが、図5(b)に示すように、平坦化層12の上面(開口部14aに臨む面)の連結部142より手前の位置には凹入部121が設けられており、この部分の上方には画素規制層141が形成されていないので、ベーク処理によりリンス液溜り401のリンス液が蒸発しても、異物402は、凹入部121内で析出し、隔壁14の内壁には付着しない(図4(c)、図5(c)参照)。
After that, the intermediate product of the organic
そのため、その後の工程で開口部14aに各発光色のインクを塗布しても混色が生じないようにすることができる(図4(d)参照。同図では、発光色が緑のインク310G、および発光色が赤のインク310Rのみの塗布状態を一例として示している。)。
Therefore, it is possible to prevent color mixing from occurring even if the inks of the respective emission colors are applied to the
なお、本実施形態では、ダミー画素領域61にある全てのダミー発光素子の間の画素規制層141を形成しないようにしているが、通常、隔壁14および連結部142の高さは、およそ1μm程度あるのに比べて、画素規制層141の高さは高々0.5μm程度であり、ダミー画素領域61に画素規制層141があったとしても、当該画素規制層141の手前で生じるリンス液溜り401はそれほど大きくなく、正孔注入層15の材料や、使用するリンス液の種類などによっては、それほどリンス液に異物が溶解しない場合もあり、画素規制層141の手前で析出したとしても、混色を惹起するまでに至らない場合もあり得る。
In the present embodiment, the
その場合には、ダミー画素領域61においても画素規制層141を形成していても特に支障は生じないし、また、ダミー画素領域61における画素規制層141を取り除くとしても、少なくとも終端部に近い一対のダミー発光素子間の画素規制層141だけでよい場合もあり得る。
In that case, there is no particular problem even if the
なお、凹入部121の容量は、例えば、600μm3〜240000μm3程度あればよく、より具体的には、正孔注入層15の材料のリンス液への溶解の容易性や、形成されるリンス液溜り401の大きさ、開口部14aの幅、長さなどを考慮して、事前に実験などにより求めることができ、それに応じて凹入部121の深さなどが決定される。
The capacity of the
また、製造工程において、リンス液が吹き寄せられない側の隔壁14の終端部には、特に凹入部121を設ける必要はない。
Further, in the manufacturing process, it is not necessary to provide a recessed
4.有機EL表示パネル10の積層構造および製造方法
以下、有機EL表示パネル10の積層構造および製造方法について、図面に基づき説明する。
4. Laminated structure and manufacturing method of the organic
(A)有機EL表示パネル10の積層構造
図6は、図2の画像表示領域50におけるA−A線に沿った部分における有機EL表示パネル10の模式断面図である。
(A) Laminated Structure of Organic
有機EL表示パネル10において、一つの画素は、R、G、Bをそれぞれ発光する3つの副画素からなり、各副画素は、対応する色を発光する有機EL素子2(R)、2(G)、2(B)で構成される。
In the organic
各発光色の有機EL素子2(R)、2(G)、2(B)は、基本的には、ほぼ同様の構成を有するので、区別しないときは、有機EL素子2として説明する。
Since the organic EL elements 2 (R), 2 (G), and 2 (B) of each emission color basically have substantially the same configuration, they will be described as the
図6に示すように、有機EL素子2は、基板11、平坦化層12、画素電極(陽極)13、隔壁14、正孔注入層15、正孔輸送層16、有機発光層17、電子輸送層18、電子注入層19、対向電極(陰極)20、および、封止層21とからなる。
As shown in FIG. 6, the
基板11、平坦化層12、電子輸送層18、電子注入層19、対向電極20、および、封止層21は、画素ごとに形成されているのではなく、有機EL表示パネル10が備える複数の有機EL素子2に共通して形成されている。
The
(1)基板
基板11は、絶縁材料である基材111と、TFT(Thin Film Transistor)層112とを含む。TFT層112には、副画素ごとに駆動回路が形成されている。基材111は、例えば、ガラス基板、石英基板、シリコン基板、硫化モリブデン、銅、亜鉛、アルミニウム、ステンレス、マグネシウム、鉄、ニッケル、金、銀などの金属基板、ガリウム砒素などの半導体基板、プラスチック基板等を採用することができる。
(1) Substrate The
プラスチック材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化樹脂いずれの樹脂を用いてもよい。例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリイミド(PI)、ポリカーボネート、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリブチレンテレフタレート、ポリアセタール、その他フッ素系樹脂、スチレン系、ポリオレフィン系、ポリ塩化ビニル系、ポリウレタン系、フッ素ゴム系、塩素化ポリエチレン系等の各種熱可塑性エラストマー、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂、ポリウレタン等、またはこれらを主とする共重合体、ブレンド体、ポリマーアロイ等が挙げられ、これらのうち1種、または2種以上を積層した積層体を用いることができる。 As the plastic material, either a thermoplastic resin or a thermosetting resin may be used. For example, polyethylene, polypropylene, polyamide, polyimide (PI), polycarbonate, acrylic resin, polyethylene terephthalate (PET), polybutylene terephthalate, polyacetal, other fluororesins, styrene-based, polyolefin-based, polyvinyl chloride-based, polyurethane-based, Various thermoplastic elastomers such as fluororubber type and chlorinated polyethylene type, epoxy resin, unsaturated polyester, silicone resin, polyurethane, etc., or copolymers, blends, polymer alloys, etc. mainly composed of these can be mentioned. A laminated body in which one type or two or more types are laminated can be used.
(2)平坦化層
平坦化層12は、基板11上に形成されている。平坦化層12は、樹脂材料からなり、TFT層112の上面の段差を平坦化するためのものである。樹脂材料としては、例えば、ポジ型の感光性材料が挙げられる。また、このような感光性材料として、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂が挙げられる。また、図6の断面図には示されていないが、平坦化層12には、副画素ごとにコンタクトホールが形成されている。
(2) Flattening layer The
(3)画素電極
画素電極13は、光反射性の金属材料からなる金属層を含み、平坦化層12上に形成されている。画素電極13は、副画素ごとに設けられ、コンタクトホール(不図示)を通じてTFT層112と電気的に接続されている。
(3) Pixel Electrode The
本実施形態においては、画素電極13は、陽極として機能する。
In this embodiment, the
光反射性を具備する金属材料の具体例としては、Ag(銀)、Al(アルミニウム)、アルミニウム合金、Mo(モリブデン)、APC(銀、パラジウム、銅の合金)、ARA(銀、ルビジウム、金の合金)、MoCr(モリブデンとクロムの合金)、MoW(モリブデンとタングステンの合金)、NiCr(ニッケルとクロムの合金)などが挙げられる。 Specific examples of the metal material having light reflectivity include Ag (silver), Al (aluminum), aluminum alloy, Mo (molybdenum), APC (alloy of silver, palladium and copper), ARA (silver, rubidium, gold). , MoCr (alloy of molybdenum and chromium), MoW (alloy of molybdenum and tungsten), NiCr (alloy of nickel and chromium) and the like.
画素電極13は、金属層単独で構成してもよいが、金属層の上に、ITO(酸化インジウム錫)やIZO(酸化インジウム亜鉛)のような金属酸化物からなる層を積層した積層構造としてもよい。
The
(4)正孔注入層
正孔注入層15は、画素電極13から有機発光層17への正孔の注入を促進させる目的で、画素電極13上に設けられている。正孔注入層15は、例えば、Ag(銀)、Mo(モリブデン)、Cr(クロム)、V(バナジウム)、W(タングステン)、Ni(ニッケル)、Ir(イリジウム)などの酸化物が使用され、本実施形態では、タングステンの酸化物(WOx)を使用している。
(4) Hole Injection Layer The
(5)隔壁・画素規制層
隔壁14は、基板11の上方に副画素ごとに配置された複数の画素電極13を、列毎に仕切るものであって、X方向に並ぶ副画素列CR、CG、CBの間においてY方向に延伸するラインバンク形状である。
(5) Partition / Pixel Restriction Layer The
この隔壁14には、電気絶縁性を有する材料が用いられる。電気絶縁性材料の具体例として、例えば、絶縁性の有機材料(例えば、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック樹脂、フェノール樹脂等)が用いられる。
A material having electrical insulation is used for the
隔壁14は、有機発光層17を塗布法で形成する場合に塗布された各色のインクが溢れて混色しないようにするための構造物として機能する。
The
なお、樹脂材料を用いる際は、加工性の点から感光性を有することが好ましい。当該感光性は、ポジ型、ネガ型のいずれであってもよい。 When a resin material is used, it is preferable to have photosensitivity from the viewpoint of processability. The photosensitivity may be either positive type or negative type.
隔壁14は、有機溶媒や熱に対する耐性を有することが好ましい。また、インクの流出を抑制するために、隔壁14は撥液性を有する材料で形成されるか、表面処理により表面に撥液性が付与される。
The
画素規制層141は、電気絶縁性材料からなり、各副画素列においてY方向(図2)に隣接する画素電極13同士を仕切っている。
The
上述のように画素規制層141の基板11からの高さは、隔壁14の高さ、及び、開口部14aに塗布された有機発光材料を含むインクの液面よりも低い。また、画素規制層141は、Y方向に隣接する画素電極13間の電気絶縁性を向上させる。
As described above, the height of the
画素規制層141に用いられる電気絶縁性材料の具体例としては、上記隔壁14の材料として例示した樹脂材料や無機材料などが挙げられる。
Specific examples of the electrically insulating material used for the
(6)正孔輸送層
正孔輸送層16は、正孔注入層15から注入された正孔を有機発光層17へ輸送する機能を有する。正孔輸送層16は、例えば、ポリフルオレンやその誘導体、あるいは、ポリアリールアミンやその誘導体などの高分子化合物などを材料として形成される。
(6) Hole Transport Layer The
(7)有機発光層
有機発光層17は、開口部14a内に形成されており、正孔と電子の再結合により、R、G、Bの各色の光を発光する機能を有する。なお、特に、発光色を特定して説明する必要があるときには、有機発光層17(R)、17(G)、17(B)と記す。
(7) Organic Light Emitting Layer The organic
有機発光層17の材料としては、例えば、オキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物及びアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、8−ヒドロキシキノリン化合物の金属錯体、2−ビピリジン化合物の金属錯体、シッフ塩とIII族金属との錯体、オキシン金属錯体、希土類錯体などの蛍光物質で形成されることが好ましい。
Examples of the material of the organic
(8)電子輸送層
電子輸送層18は、対向電極20からの電子を有機発光層17へ輸送する機能を有する。電子輸送層18は、電子輸送性が高い有機材料からなる。
(8) Electron transport layer The
電子輸送層18に用いられる有機材料としては、例えば、オキサジアゾール誘導体(OXD)、トリアゾール誘導体(TAZ)、フェナンスロリン誘導体(BCP、Bphen)などのπ電子系低分子有機材料が挙げられる。
Examples of the organic material used for the
(9)電子注入層
電子注入層19は、対向電極20から供給される電子を有機発光層17側へと注入する機能を有する。電子注入層19は、例えば、電子輸送性が高い有機材料に、アルカリ金属、アルカリ土類金属または希土類元素から選択されるドープ金属がドープされて形成されている。
(9) Electron injection layer The
アルカリ金属に該当する金属は、リチウム(Li)、ナトリウム(Na)、カリウム(K)、ルビジウム(Rb)、セシウム(Cs)、フランシウム(Fr)であり、アルカリ土類金属に該当する金属は、カルシウム(Ca)、ストロンチウム(Sr)、バリウム(Ba)、ラジウム(Ra)である。また、希土類元素としては、例えば、
エリビウム(Er)、ツリウム(Tm)、イッテルビウム(Yb)などである。
The metals corresponding to alkali metals are lithium (Li), sodium (Na), potassium (K), rubidium (Rb), cesium (Cs), and francium (Fr), and the metals corresponding to alkaline earth metals are Calcium (Ca), Strontium (Sr), Barium (Ba), Rubidium (Ra). In addition, as a rare earth element, for example,
Eribium (Er), thulium (Tm), ytterbium (Yb) and the like.
また、電子注入層19に用いられる有機材料としては、例えば、オキサジアゾール誘導体(OXD)、トリアゾール誘導体(TAZ)、フェナンスロリン誘導体(BCP、Bphen)などのπ電子系低分子有機材料が挙げられる。
Examples of the organic material used for the
(10)対向電極
対向電極20は、透光性の導電性材料からなり、電子注入層19上に形成されている。対向電極20は、陰極として機能する。
(10) Counter electrode The
対向電極20としては、例えば、金属薄膜または、ITOやIZOなどの透明導電膜を用いることができる。金属薄膜の材料として、アルミニウム、マグネシウム、銀、アルミニウム−リチウム合金、マグネシウム−銀合金等のうち少なくとも1つの材料からなる金属薄膜を形成するのが望ましい。
As the
(11)封止層
封止層21は、内部の正孔輸送層16、有機発光層17、電子注入層19などの有機層が外部の水分や空気に晒されたりして劣化するのを防止するために設けられるものである。
(11) Sealing layer The
封止層21は、例えば、窒化シリコン(SiN)、酸窒化シリコン(SiON)などの透光性材料を用いて形成される。
The
(12)その他
図6には示されてないが、封止層21上に透明な接着剤を介して防眩用の偏光板や上部基板を貼り合せてもよい。また、各有機EL素子2により発光される光の色度を補正するためのカラーフィルターを貼り合わせてもよい。これらにより、正孔輸送層16、有機発光層17、電子注入層19などを外部の水分および空気などからさらに保護できる。
(12) Others Although not shown in FIG. 6, a polarizing plate for antiglare or an upper substrate may be attached onto the
(B)有機EL表示パネル10の製造方法
以下、有機EL表示パネル10の製造方法について説明する。
(B) Manufacturing Method of Organic
図7は、有機EL表示パネル10の製造工程を示すフローチャートであり、図8(a)〜(f)、図9(a)〜(d)、図10(a)、(b)および図11(a)〜(d)は、有機EL表示パネル10の製造における各工程での状態を示す模式断面図である。
7A and 7B are flowcharts showing a manufacturing process of the organic
(1)基板準備工程
まず、図8(a)に示すように、基材111上にTFT層112を成膜して基板11を準備する(図7のステップS1)。TFT層112は、公知のTFTの製造方法により成膜することができる。
(1) Substrate Preparation Step First, as shown in FIG. 8A, a
(2)平坦化層形成工程
次に、図8(b)に示すように、基板11上に、平坦化層12を形成する(図7のステップS2)。
(2) Flattening layer forming step Next, as shown in FIG. 8B, the
具体的には、一定の流動性を有する樹脂材料を、例えば、ダイコート法により、基板11の上面に沿って、TFT層112による基板11上の凹凸を埋めるように塗布する。これにより、平坦化層12の上面は、基材111の上面に沿って平坦化した形状となる。
Specifically, a resin material having a constant fluidity is applied, for example, by a die coating method so as to fill the unevenness on the
また、平坦化層12における、TFT素子の例えばソース電極上の個所に、フォトリソグラフィ法により、コンタクトホール(不図示)を形成する。コンタクトホールは、その底部にソース電極の表面が露出するようにパターニングなどを用いて形成される。このコンタクトホールの形成に併せて、開口部14aの連結部142に隣接する予定の位置に凹入部121(図3(a)、図3(c)参照)も、同じフォトリソグラフィ法の工程で、同時に形成するようにすれば、製造工程を簡易化できる。
Further, a contact hole (not shown) is formed in the
次に、コンタクトホールの内壁に沿って接続電極層を形成する。接続電極層の上部は、その一部が平坦化層12上に配される。接続電極層の形成は、例えば、スパッタリング法を用いることができ、金属膜を成膜した後、フォトリソグラフィ法およびウエットエッチング法を用いてパターニングすればよい。
Next, a connection electrode layer is formed along the inner wall of the contact hole. A part of the upper part of the connecting electrode layer is arranged on the
(3)画素電極・正孔注入層の形成工程
次に、図8(c)に示すように、平坦化層12上に画素電極材料層130を形成する。画素電極材料層130は、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法などを用いて形成することができる。
(3) Step of Forming Pixel Electrode / Hole Injection Layer Next, as shown in FIG. 8 (c), the pixel
さらに、画素電極材料層130上に正孔注入材料層150を形成する(図8(d))。正孔注入材料層150は、例えば、反応性スパッタ法などを用いて形成することができる。
Further, the hole
そして、図8(e)に示すように、画素電極材料層130と正孔注入材料層150とをエッチングにより同時にパターニングして、副画素ごとに区画された複数の画素電極13と正孔注入層15とからなる積層体25を形成する(図7のステップS3)。
Then, as shown in FIG. 8E, the pixel
なお、画素電極13、正孔注入層15の形成方法は上述の方法に限られず、例えば、画素電極材料層130を先にパターニングして画素電極13を形成してから、正孔注入層15を形成するようにしてもよい。
The method of forming the
(4)隔壁・画素規制層形成工程
次に、隔壁14および画素規制層141を形成する(図7のステップS4)。
(4) Partition / Pixel Restriction Layer Forming Step Next, the
本実施形態では、画素規制層141と隔壁14を別工程で形成するようにしている。
In the present embodiment, the
(4−1)画素規制層形成工程
まず、Y方向(図2)における画素電極列を副画素毎に仕切るため、X方向に伸びる画素規制層141を形成する。
(4-1) Pixel Restriction Layer Forming Step First, in order to partition the pixel electrode array in the Y direction (FIG. 2) for each sub-pixel, a
図9(a)に示すように、画素電極13、正孔注入層15が形成された平坦化層12上に、画素規制層141の材料となる感光性の樹脂材料を一様に塗布して、ベーク処理後に狙いの画素規制層141の高さを得るのに必要な膜厚の画素規制層材料層1410を形成する。
As shown in FIG. 9A, a photosensitive resin material used as a material for the
具体的な塗布方法として、例えばダイコート法やスリットコート法、スピンコート法などのウエットプロセスを用いることができる。塗布後には、例えば、真空乾燥及び60℃〜120℃程度の低温加熱乾燥(プリベーク)などを行って不要な溶媒を除去するとともに、画素規制層材料層1410を平坦化層12に定着させることが好ましい。
As a specific coating method, for example, a wet process such as a die coating method, a slit coating method, or a spin coating method can be used. After coating, for example, vacuum drying and low-temperature heat drying (pre-baking) at about 60 ° C. to 120 ° C. are performed to remove unnecessary solvents, and the pixel-regulating
そして、フォトリソグラフィ法を用いて、画素規制層材料層1410をパターニングする。
Then, the pixel regulation
例えば、画素規制層材料層1410がポジ型の感光性を有する場合は、画素規制層141として残す箇所を遮光し、除去する部分が透明なフォトマスク(不図示)を介して画素規制層材料層1410を露光する。
For example, when the pixel regulation
次に、現像を行い、画素規制層材料層1410の露光領域を除去することにより、画素規制層141を形成することができる。具体的な現像方法としては、例えば、基板11全体を、画素規制層材料層1410の露光により感光した部分を溶解させる有機溶媒やアルカリ液などの現像液に浸した後、純水などのリンス液で基板11を洗浄すればよい。
Next, the
基板上に残存するリンス液は、上記図4(b)で説明したのと同様に、エアーナイフ装置のノズル500から吐出される圧縮空気501の風圧により、行方向に沿ってリンス液を行方向の一方の端部から飛ばすようにして除去する。
The rinse liquid remaining on the substrate is the rinse liquid along the row direction due to the wind pressure of the
画素規制層141の場合は、隣接する画素規制層141間の間隙の終端部において連結されていないので、この段階でリンス液溜り401が生じることはほとんどない。
In the case of the
その後、所定温度でベーク処理(ポストベーク)することにより、平坦化層12上に、X方向に延伸する画素規制層141を形成することができる(図9(b))。
Then, by baking (post-baking) at a predetermined temperature, a
なお、ダミー画素領域61におけるダミー発光素子間には画素規制層141は形成されない(図3(b)、(c)参照)。
The
(4−2)隔壁形成工程
次に、Y方向に伸びる隔壁14を上記画素規制層141と同様にして形成する。
(4-2) Partition Form Forming Step Next, the
すなわち、上記画素電極13、正孔注入層15、画素規制層141が形成された平坦化層12上に、隔壁用の樹脂材料を、ダイコート法などを用いて塗布して、ベーク処理後に狙いの隔壁14の高さを得るのに必要な膜厚の隔壁材料層140を形成し(図9(c))、フォトリソグラフィ法により隔壁材料層140にY方向に延在する隔壁14をパターニングする。
That is, a resin material for partition walls is applied onto the
この際に、基板上に残ったリンス液を、エアーナイフ装置により列方向に沿って追い出し、列方向の一方端部から飛ばすようにして除去する(図4(b))。隣接する隔壁14間の間隙(開口部14a)は、列方向端部において連結部142により閉塞されているため、リンス液溜り401が連結部142の手前の凹入部121上方にできる(図4(c)、図5(b)参照)。
At this time, the rinse liquid remaining on the substrate is expelled along the row direction by an air knife device, and is removed by being blown off from one end in the row direction (FIG. 4 (b)). Since the gap (
その後、所定の温度でベーク処理して隔壁14を形成する(図9(d))。この際、リンス液溜り401のリンス液が蒸発し、異物が析出しても凹入部121内に残存するため、隔壁14の内壁に付着することなく、混色が生じない。
Then, the
なお、上記では、画素規制層141と隔壁14のそれぞれの材料層をウエットプロセスで形成した後にパターニングするようにしたが、いずれか一方または双方の材料層をドライプロセスで形成して、フォトリソグラフィ法により、パターニングするようにしてもよい。
In the above, the material layers of the
(5)正孔輸送層形成工程
次に、図10(a)に示すように、隔壁14が規定する開口部14aに対し、正孔輸送層16の構成材料を含むインクを、印刷装置の塗布ヘッド301のノズル3011から吐出して開口部14a内の正孔注入層15上に塗布する。この際、正孔輸送層16のインクは、画素電極列の上方においてY方向(図2)に沿って延伸するように塗布される。その後、乾燥させて、正孔輸送層16を形成する(図7のステップS5)。
(5) Hole Transport Layer Forming Step Next, as shown in FIG. 10 (a), an ink containing the constituent material of the
(6)有機発光層形成工程
次に、上記正孔輸送層16の上方に、有機発光層17を形成する(図7のステップS6)。
(6) Organic light emitting layer forming step Next, the organic
具体的には、図10(b)に示すように、各開口部14aに対応する発光色の発光材料を含むインクを、印刷装置の塗布ヘッド301のノズル3011から順次吐出して開口部14a内の正孔輸送層16上に塗布する。この際、インクを画素規制層141の上方においても連続するように塗布する。これにより、Y方向に沿ってインクが流動可能となり、インクの塗布むらを低減して、同一の副画素列における有機発光層17の膜厚を均一化することが可能となる。
Specifically, as shown in FIG. 10B, ink containing a luminescent material having a luminescent color corresponding to each
そして、インク塗布後の基板11を真空乾燥室内に搬入して真空環境下で加熱することにより、インク中の有機溶媒を蒸発させる。これにより、有機発光層17を形成できる。
Then, the
(7)電子輸送層形成工程
次に、図11(a)に示すように、有機発光層17および隔壁14上に、電子輸送層18を形成する(図7のステップS7)。電子輸送層18は、例えば、電子輸送性の有機材料を蒸着法により各副画素に共通して成膜することにより形成されるが、ウエットプロセスにより形成しても構わない。
(7) Electron Transport Layer Forming Step Next, as shown in FIG. 11A, the
(8)電子注入層形成工程
次に、図11(b)に示すように、電子輸送層18上に、電子注入層19を形成する(図7のステップS8)。電子注入層19は、例えば、電子輸送性の有機材料とドープ金属を共蒸着法により各副画素に共通して成膜することにより形成される。
(8) Electron Injection Layer Forming Step Next, as shown in FIG. 11B, an
(9)対向電極形成工程
次に、図11(c)に示すように、電子注入層19上に、対向電極20を形成する(図7のステップS9)。対向電極20は、ITO、IZO、銀、アルミニウム等を、スパッタリング法、真空蒸着法により成膜することにより形成される。
(9) Counter electrode forming step Next, as shown in FIG. 11 (c), the
(10)封止層形成工程
次に、図11(d)に示すように、対向電極20上に、封止層21を形成する(図7のステップS10)。封止層21は、SiON、SiN等を、スパッタリング法、CVD法などにより成膜することにより形成することができる。
(10) Sealing layer forming step Next, as shown in FIG. 11D, the
これにより、有機EL表示パネル10が完成する。
As a result, the organic
なお、上記の製造方法は、あくまで例示であり、適宜変更可能である。 The above manufacturing method is merely an example and can be changed as appropriate.
≪変形例≫
以上、本発明の一態様として、有機EL表示パネルや有機EL表示パネルの製造方法などの実施形態について説明したが、本発明は、その本質的な特徴的構成要素を除き、以上の実施形態により何ら限定を受けるものではない。以下では、本発明の他の態様(変形例)について説明する。
≪Modification example≫
Although embodiments such as an organic EL display panel and a method for manufacturing an organic EL display panel have been described above as one aspect of the present invention, the present invention is based on the above embodiments except for its essential characteristic components. There are no restrictions. Hereinafter, other aspects (modifications) of the present invention will be described.
(1)上記実施形態では、異物が析出するための凹入部121を開口部14aの連結部142手前の位置に形成したが、図12(a)の概略断面図に示すように、凹入部121以外にもダミー発光素子の積層体25同士の間の画素規制層141が形成されていない部分に凹入部122を設けてもよい。これにより、異物が析出し得る凹入部の全体容量が増加し、異物の隔壁14内壁面への付着がより抑制されると解される。
(1) In the above embodiment, the recessed
また、図12(b)に示すように、図12(a)の変形例において、ダミー発光素子の積層体25を形成しないようにしてもよい。ダミー発光素子は発光させる必要がないので積層体25は、必須の構成でなくてもよいからである。
Further, as shown in FIG. 12 (b), in the modified example of FIG. 12 (a), the
また、図12(c)に示すように、図3(c)においてダミー発光素子の積層体25を形成しないようにしてもよい。これによりリンス液がエアーナイフ装置の風圧により、凹入部121に至るまでのダミー画素領域61においてリンス液の移動が円滑に行え、この範囲でのリンス液溜り401がより発生しにくくなる。
Further, as shown in FIG. 12 (c), the
本変形例は、ダミー画素領域61において、列方向にダミー発光素子が1個しかない場合でも適用可能であり、また、ダミー発光素子が列方向に複数配されていて、それらの一部または全部の間に画素規制層141が形成されていても適用し得る。
This modification can be applied even when there is only one dummy light emitting element in the column direction in the
また、図12(d)に示すようにダミー画素領域61に複数のダミー発光素子画素連続して画素電極131、正孔注入層151を積層するようにしてもよい。
Further, as shown in FIG. 12D, a plurality of dummy light emitting element pixels may be continuously laminated with the
この場合にも、凹入部121に至るまでのダミー画素領域61におけるリンス液の除去が円滑に行える
なお、上記図12(a)、(b)の変形例において、必ずしも積層体25間の全ての間隙125に対応する位置に凹入部122が形成されていなくてもよく、その場合には連結部142に最も近い少なくとも1の間隙125部分に凹入部122が形成されることが望ましいと考えられる。
Also in this case, the rinse liquid can be smoothly removed in the
また、図12(c)の変形例において、凹入部121を除いた平坦化層12の上面が必ずしも各副画素列のダミー画素領域61の全範囲において平坦である必要はなく、例えば、少なくともダミー発光素子1個分の占める領域よりも広い範囲で平坦であれば、リンス液の円滑な除去に多少なりとも貢献すると考えられる。
Further, in the modified example of FIG. 12C, the upper surface of the
同様に、図12(d)の変形例における積層体25(画素電極131と正孔注入層151)の列方向に延びる範囲についても、必ずしもダミー画素領域61の全範囲に及ぶ必要はない。
Similarly, the range extending in the column direction of the laminated body 25 (
(2)また、別の変形例として、平坦化層12に凹入部121とは別にY方向(列方向)に伸びる溝部を形成してもよい。
(2) Further, as another modification, a groove portion extending in the Y direction (row direction) may be formed in the
図13(a)は、この場合の変形例における有機発光層17形成前の有機EL表示パネル10のダミー画素領域61を含む一部分の概略平面図であり、図13(b)は、図13(a)のE−E線における矢視断面図である。
FIG. 13A is a schematic plan view of a part including the
両図に示すように、平坦化層12のダミー画素領域61には積層体25を形成せずにY方向に伸びる溝部123を設けてもよい。溝部123は、凹入部121と連結されるのが望ましいが、連結しなくても、ダミー画素領域61における凹入部121までに至るまでの途中でリンス液溜り401が発生しても、溝部123内で異物を析出させることが可能になり、隔壁14の内壁に異物が付着するおそれがない。
As shown in both figures, the
また、図14(a)はさらに別の変形例における有機発光層17形成前の有機EL表示パネル10のダミー画素領域61を含む一部分の概略平面図であり、図14(b)は、図14(a)のF−F線における矢視断面図である。
14 (a) is a schematic plan view of a part including the
両図に示すように、図13(a)(b)における溝部123の上方にY方向に連続して伸びる積層体25を形成しても構わない。この場合でも、正孔注入層151上に溝124が形成されるので、図13の場合と同様な効果が得られる。
As shown in both figures, a
なお、溝部123、124の列方向長さは、必ずしもダミー画素領域61のY方向の全幅に及ぶ必要はなく、例えば、1〜3個のダミー発光素子の列方向の配置領域を含む程度の列方向長さであってもよい。
The length of the
(3)上記実施形態では、凹入部121は列方向の一方の端部(製造時に風圧によりリンス液が寄せられる方向における端部)のみに形成されていたが、例えば、基板の中央部を回転軸にして遠心力によりリンス液を飛ばして除去する場合には、他方の端部にも凹入部121が形成される。
(3) In the above embodiment, the recessed
(4)上記実施形態の有機EL素子の積層構造において、必ずしも、正孔注入層15、正孔輸送層16、電子輸送層18、電子注入層19の機能層の全部を備える必要がない。例えば、電子輸送層18、電子注入層19を廃して電子注入輸送層を形成するようにしても構わない。
(4) In the laminated structure of the organic EL element of the above embodiment, it is not always necessary to include all of the functional layers of the
(5)上記実施形態に係る有機EL表示パネル10では、図2に示すように、画素規制層141の延伸方向が有機EL表示パネル10の長軸X方向、隔壁14の延伸方向が有機EL表示パネル10の短軸Y方向であったが、画素規制層141と隔壁14の延伸方向は、逆であってもよい。また、画素絶縁層及び隔壁の延伸方向は、有機EL表示パネル10の形状とは無関係な方向であってもよい。
(5) In the organic
また、上記実施形態に係る有機EL表示パネル10では、一例として画像表示面を長方形状としたが、画像表示面の形状に限定はなく、適宜変更可能である。
Further, in the organic
(6)また、上記実施形態に係る有機EL表示パネル10は、アクティブマトリクス方式を採用したが、これに限られず、パッシブマトリクス方式を採用してもよい。また、トップエミッション型の有機EL表示パネルだけでなくボトルエミッション型の有機EL表示パネルにも適用可能である。
(6) Further, the organic
≪補足≫
以上、本開示に係る有機EL素子およびその製造方法並びに有機EL表示パネル、有機EL表示装置、電子機器について、実施形態および変形例に基づいて説明したが、本発明は、上記の実施形態および変形例に限定されるものではない。上記実施形態および変形例に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で実施形態および変形例における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。
≪Supplement≫
The organic EL element and its manufacturing method, the organic EL display panel, the organic EL display device, and the electronic device according to the present disclosure have been described above based on the embodiments and modifications, but the present invention describes the above embodiments and modifications. It is not limited to the example. It is realized by arbitrarily combining the components and functions in the embodiment and the modification without departing from the spirit of the present invention and the embodiment obtained by applying various modifications that a person skilled in the art can think of. Also included in the present invention.
本開示に係る有機EL表示パネルは、様々な電子機器に用いられる表示パネルに広く利用することができる。 The organic EL display panel according to the present disclosure can be widely used as a display panel used in various electronic devices.
1 有機EL表示装置
2 有機EL素子
10 有機EL表示パネル
11 基板
12 平坦化層
13 画素電極
14 隔壁
14a 開口
15 正孔注入層
16 正孔輸送層
17 有機発光層
18 電子輸送層
19 電子注入層
20 対向電極
21 封止層
25 積層体
50 画像表示領域
60 周辺領域
61 ダミー画素領域
100B、100G、100R 副画素
121、122 凹入部
123、124 溝部
140 隔壁材料層
141 画素規制層
142 連結部
401 リンス液滴
402 異物
1 Organic
Claims (10)
列方向に延在する複数の第1隔壁と、
行方向に延在し、前記基板からの高さが第1隔壁よりも低い複数の第2隔壁と、
を備え、
前記複数の発光素子が、前記第1隔壁と前記第2隔壁とによって画定されており、
前記複数の第1隔壁が、前記周辺領域内まで延在すると共に、その列方向の両端部において連結部によって連結され、
平面視において、前記平坦化層の、行方向に隣接する第1隔壁間の間隙内であって少なくとも一方の端部側の前記連結部に隣接する部分に、凹入部が存する
ことを特徴とする表示パネル。 A display panel in which a plurality of light emitting elements are arranged in a matrix via a flattening layer on a substrate, and has an image display area and a peripheral area surrounding the image display area in a plan view.
Multiple first bulkheads extending in the row direction,
A plurality of second partition walls extending in the row direction and having a height from the substrate lower than that of the first partition wall.
With
The plurality of light emitting elements are defined by the first partition wall and the second partition wall.
The plurality of first partition walls extend into the peripheral region and are connected by connecting portions at both ends in the column direction.
In a plan view, the flattening layer is characterized in that a recess is present in a portion of the flattening layer between the first partition walls adjacent to each other in the row direction and adjacent to the connecting portion on at least one end side. Display panel.
ことを特徴とする請求項1に記載の表示パネル。 The display panel according to claim 1, wherein at least one dummy light emitting element is arranged in the peripheral region on the side of each light emitting element row extending in the row direction where the recessed portion exists.
ことを特徴とする請求項2に記載の表示パネル。 A plurality of dummy light emitting elements are arranged in the peripheral region on the side of each light emitting element row extending in the row direction where the recessed portion exists, and the second dummy light emitting element is located between at least a pair of dummy light emitting elements. The display panel according to claim 2, wherein no partition wall is formed.
ことを特徴とする請求項3に記載の表示パネル。 The display panel according to claim 3, wherein a portion of the flattening layer corresponding to a gap between at least a pair of dummy light emitting elements on which the second partition wall is not formed is recessed.
ことを特徴とする請求項2または3に記載の表示パネル。 The display panel according to claim 2 or 3, wherein a groove extending in a row direction is continuously formed in a region of the flattening layer in which at least one dummy light emitting element is arranged.
ことを特徴とする請求項3に記載の表示パネル。 The display panel according to claim 3, wherein a pixel electrode common to at least a pair of dummy light emitting elements and a charge injection transport layer are arranged on the flattening layer without the second partition wall interposed therebetween. ..
ことを特徴とする請求項3または4に記載の表示パネル。 The display panel according to claim 3 or 4, wherein the pixel electrode and the charge injection transport layer are not arranged in at least a pair of dummy light emitting elements having no second partition wall interposed therebetween.
ことを特徴とする請求項2に記載の表示パネル。 The pixel electrode and the charge injection transport layer are not arranged on at least one dummy light emitting element arranged in the peripheral region on the side where the recessed portion is present in each light emitting element row extending in the row direction. The display panel according to claim 2.
前記基板上方に平坦化層を形成する第2工程と、
前記平坦化層の所定位置に複数の凹入部を形成する第3工程と、
前記平坦化層上に、画素電極と電荷注入輸送層の積層体を複数、行列状に配する第4工程と、
前記平坦化層および前記積層体上方に、第2隔壁の材料の層を形成した後、パターニング処理により前記列方向に隣接する複数の電極の間で行方向に延伸する第2隔壁を形成する第5工程と、
前記平坦化層および前記積層体上方に、前記第2隔壁より高い第1隔壁の材料の層を形成した後、パターニング処理により前記行方向に隣接する複数の電極の間で列方向に延伸し、かつ、列方向の両端部が連結部により連結された複数の第1隔壁を形成する第6工程と、
前記複数の隔壁同士の間隙に発光材料を含むインクを塗布して発光層を形成する第7工程と、
を含み、
前記第6工程は、前記パターニング処理時に洗浄液で洗浄する工程と、前記洗浄液を除去する工程とを含み、
前記第3工程において複数の凹入部が設けられる所定位置は、平面視において、前記複数の第1隔壁の間隙内であって、かつ、列方向における少なくとも一方の端部側の前記第1隔壁の連結部に隣接する位置である
ことを特徴とする表示パネルの製造方法。 The first step of preparing the board and
The second step of forming the flattening layer on the substrate and
A third step of forming a plurality of recessed portions at predetermined positions of the flattening layer, and
A fourth step of arranging a plurality of laminated bodies of a pixel electrode and a charge injection transport layer in a matrix on the flattening layer.
After forming a layer of the material of the second partition wall on the flattening layer and the laminated body, a second partition wall extending in the row direction is formed between a plurality of electrodes adjacent to each other in the column direction by a patterning process. 5 steps and
After forming a layer of the material of the first partition wall higher than the second partition wall on the flattening layer and the laminate, the material is stretched in the column direction between a plurality of electrodes adjacent to each other in the row direction by a patterning process. In addition, the sixth step of forming a plurality of first partition walls in which both ends in the row direction are connected by the connecting portion, and
The seventh step of applying ink containing a light emitting material to the gaps between the plurality of partition walls to form a light emitting layer, and
Including
The sixth step includes a step of cleaning with a cleaning liquid at the time of the patterning process and a step of removing the cleaning liquid.
The predetermined position where the plurality of recesses are provided in the third step is, in a plan view, within the gap between the plurality of first partition walls and at least one end side of the first partition wall in the row direction. A method of manufacturing a display panel, characterized in that it is located adjacent to a connecting portion.
前記第3工程において、複数の凹入部が設けられる所定位置は、平面視において、前記複数の第1隔壁の間隙内であって、かつ、前記洗浄液が吹き寄せられる側の前記隔壁の連結部に隣接する位置である
ことを特徴とする請求項9に記載の表示パネルの製造方法。 The step of removing the cleaning liquid in the sixth step includes a step of blowing the cleaning liquid toward one end in the row direction by wind pressure to remove the cleaning liquid.
In the third step, the predetermined position where the plurality of recessed portions are provided is within the gap between the plurality of first partition walls and adjacent to the connecting portion of the partition wall on the side where the cleaning liquid is blown, in a plan view. The method for manufacturing a display panel according to claim 9, wherein the position is to be used.
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