JP2021088661A - 光学用樹脂組成物の製造方法及び光学用樹脂組成物 - Google Patents
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Abstract
【課題】着色が抑制されるとともに、吸水性が十分に低い光学用樹脂組成物の製造方法を提供する。【解決手段】本発明の光学用樹脂組成物の製造方法は、炭素−炭素二重結合を有する含フッ素化合物を含む単量体群を有機過酸化物により重合させることによって得られた含フッ素重合体について、水蒸気の濃度が１００ｖｏｌｐｐｍ以下である雰囲気下で熱処理を行うことを含む。例えば、光学用樹脂組成物の製造方法では、熱処理によって、含フッ素重合体の末端基を熱分解するとともに、当該熱分解により生じた低分子化合物を揮発させる。【選択図】なし
Description
本発明は、光学用樹脂組成物の製造方法及び光学用樹脂組成物に関する。
含フッ素重合体を含む樹脂組成物は、プラスチック光ファイバー（以下、「ＰＯＦ」と
記載する。）や露光部材などの光学部材の材料として、幅広い分野で利用されている。本
明細書では、光学部材の材料として用いられる樹脂組成物を「光学用樹脂組成物」と呼ぶ
。
記載する。）や露光部材などの光学部材の材料として、幅広い分野で利用されている。本
明細書では、光学部材の材料として用いられる樹脂組成物を「光学用樹脂組成物」と呼ぶ
。
含フッ素重合体は、例えば、炭素−炭素二重結合を有する含フッ素化合物を含む単量体
群を重合開始剤により重合させることによって作製することができる。含フッ素化合物を
含む単量体群を重合させるための重合開始剤としては、一般的には、有機過酸化物が用い
られる。
群を重合開始剤により重合させることによって作製することができる。含フッ素化合物を
含む単量体群を重合させるための重合開始剤としては、一般的には、有機過酸化物が用い
られる。
光学部材を作製する際に、光学用樹脂組成物は、例えば、加熱溶融されて成形されるが
、この加熱成形時に着色が生じることがある。この着色は、バルク状の光学用樹脂組成物
を加熱溶融した場合に特に顕著になる。本発明者の検討によると、光学用樹脂組成物の着
色の原因は、重合開始剤に由来する含フッ素重合体の末端基にあることが分かった。
、この加熱成形時に着色が生じることがある。この着色は、バルク状の光学用樹脂組成物
を加熱溶融した場合に特に顕著になる。本発明者の検討によると、光学用樹脂組成物の着
色の原因は、重合開始剤に由来する含フッ素重合体の末端基にあることが分かった。
本発明者は、この知見に基づいてさらに検討を進めたところ、含フッ素重合体の末端基
を予め分解しておけば、光学用樹脂組成物の着色を抑制できる一方、光学用樹脂組成物の
吸水性が増加することを見出した。なお、光学部材の分野においては、水が光の吸収損失
を増加させることが知られている（例えば、特許文献１）。
を予め分解しておけば、光学用樹脂組成物の着色を抑制できる一方、光学用樹脂組成物の
吸水性が増加することを見出した。なお、光学部材の分野においては、水が光の吸収損失
を増加させることが知られている（例えば、特許文献１）。
そこで本発明は、着色が抑制されるとともに、吸水性が十分に低い光学用樹脂組成物の
製造方法を提供することを目的とする。
製造方法を提供することを目的とする。
本発明は、
炭素−炭素二重結合を有する含フッ素化合物を含む単量体群を有機過酸化物により重合
させることによって得られた含フッ素重合体について、水蒸気の濃度が１００ｖｏｌｐｐ
ｍ以下である雰囲気下で熱処理を行うことを含む、光学用樹脂組成物の製造方法を提供す
る。
炭素−炭素二重結合を有する含フッ素化合物を含む単量体群を有機過酸化物により重合
させることによって得られた含フッ素重合体について、水蒸気の濃度が１００ｖｏｌｐｐ
ｍ以下である雰囲気下で熱処理を行うことを含む、光学用樹脂組成物の製造方法を提供す
る。
本発明によれば、着色が抑制されるとともに、吸水性が十分に低い光学用樹脂組成物の
製造方法を提供できる。
製造方法を提供できる。
以下、本発明の実施形態を説明するが、以下の説明は、本発明を特定の実施形態に制限
する趣旨ではない。
する趣旨ではない。
本実施形態の光学用樹脂組成物の製造方法は、炭素−炭素二重結合を有する含フッ素化
合物を含む単量体群を有機過酸化物により重合させることによって得られた含フッ素重合
体について、水蒸気の濃度が１００ｖｏｌｐｐｍ以下である雰囲気下で熱処理を行うこと
を含む。本明細書では、熱処理が実施される前の含フッ素重合体を「含フッ素重合体（Ａ
）」と呼び、熱処理が実施された後の含フッ素重合体を「含フッ素重合体（Ｂ）」と呼ぶ
ことがある。本実施形態の製造方法によって得られた光学用樹脂組成物は、含フッ素重合
体（Ｂ）を含んでいる。
合物を含む単量体群を有機過酸化物により重合させることによって得られた含フッ素重合
体について、水蒸気の濃度が１００ｖｏｌｐｐｍ以下である雰囲気下で熱処理を行うこと
を含む。本明細書では、熱処理が実施される前の含フッ素重合体を「含フッ素重合体（Ａ
）」と呼び、熱処理が実施された後の含フッ素重合体を「含フッ素重合体（Ｂ）」と呼ぶ
ことがある。本実施形態の製造方法によって得られた光学用樹脂組成物は、含フッ素重合
体（Ｂ）を含んでいる。
熱処理が実施される前の含フッ素重合体（Ａ）は、重合開始剤（有機過酸化物）に由来
する末端基を有する。この末端基は、例えば、エステル基である。後述のとおり、含フッ
素化合物は、例えば、末端に位置する炭素−炭素二重結合を有し、当該二重結合を構成す
る炭素原子に結合している全ての水素原子がフッ素原子に置換されている。この含フッ素
化合物から形成された含フッ素重合体（Ａ）の末端基は、例えば、下記式（４）によって
表される。
する末端基を有する。この末端基は、例えば、エステル基である。後述のとおり、含フッ
素化合物は、例えば、末端に位置する炭素−炭素二重結合を有し、当該二重結合を構成す
る炭素原子に結合している全ての水素原子がフッ素原子に置換されている。この含フッ素
化合物から形成された含フッ素重合体（Ａ）の末端基は、例えば、下記式（４）によって
表される。
式（４）中、Ｒiは、有機過酸化物の構造に応じて定まり、例えば、炭素数１〜１２の
炭化水素基である。Ｒiの炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子によって置換さ
れていてもよい。Ｒiの炭化水素基は、芳香族環を含んでいてもよい。例えば、有機過酸
化物としてパーフルオロ過酸化ベンゾイルを用いた場合、Ｒiは、パーフルオロフェニル
基である。なお、「パーフルオロ」は、炭素原子に結合している全ての水素原子がフッ素
原子に置換されていることを意味する。
炭化水素基である。Ｒiの炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子によって置換さ
れていてもよい。Ｒiの炭化水素基は、芳香族環を含んでいてもよい。例えば、有機過酸
化物としてパーフルオロ過酸化ベンゾイルを用いた場合、Ｒiは、パーフルオロフェニル
基である。なお、「パーフルオロ」は、炭素原子に結合している全ての水素原子がフッ素
原子に置換されていることを意味する。
含フッ素重合体（Ａ）について熱処理を行った場合、含フッ素重合体（Ａ）の末端基が
熱分解する。一例として、式（４）で表された末端基について、下記式（５ａ）で表され
る分解反応が生じる。
熱分解する。一例として、式（４）で表された末端基について、下記式（５ａ）で表され
る分解反応が生じる。
このように、本実施形態の製造方法では、熱処理によって、含フッ素重合体（Ａ）の末
端基を下記式（１）で表される官能基に変化させることができる。言い換えると、熱処理
が実施された後の含フッ素重合体（Ｂ）は、下記式（１）で表される末端基を有する。な
お、含フッ素重合体（Ｂ）が下記式（１）で表される末端基を有することは、炭素１３核
磁気共鳴分光法（13Ｃ−ＮＭＲ）によって確認してもよい。
端基を下記式（１）で表される官能基に変化させることができる。言い換えると、熱処理
が実施された後の含フッ素重合体（Ｂ）は、下記式（１）で表される末端基を有する。な
お、含フッ素重合体（Ｂ）が下記式（１）で表される末端基を有することは、炭素１３核
磁気共鳴分光法（13Ｃ−ＮＭＲ）によって確認してもよい。
熱処理中の雰囲気において、水蒸気の濃度は、１００ｖｏｌｐｐｍ以下であればよく、
５０ｖｏｌｐｐｍ以下であることが好ましい。熱処理中の雰囲気は、水蒸気を実質的に含
まないことが好ましいが、水蒸気の濃度が０．１ｖｏｌｐｐｍ以上であってもよい。
５０ｖｏｌｐｐｍ以下であることが好ましい。熱処理中の雰囲気は、水蒸気を実質的に含
まないことが好ましいが、水蒸気の濃度が０．１ｖｏｌｐｐｍ以上であってもよい。
熱処理中の雰囲気に含まれる成分は、特に限定されないが、不活性ガスを主成分として
含むことが好ましく、実質的に不活性ガスからなることがより好ましい。本明細書におい
て、「不活性ガスを主成分として含む」は、雰囲気中において、不活性ガスが重量基準で
最も多く含まれることを意味する。「実質的に不活性ガスからなる」は、雰囲気中におけ
る不活性ガスの含有率が９５ｗｔ％以上、好ましくは９９ｗｔ％以上、であることを意味
する。不活性ガスとしては、例えば、窒素ガス及びアルゴンガスが挙げられ、好ましくは
窒素ガスである。熱処理中の雰囲気は、実質的に窒素ガスからなることが好ましい。熱処
理は、減圧雰囲気又は真空雰囲気で行われてもよい。
含むことが好ましく、実質的に不活性ガスからなることがより好ましい。本明細書におい
て、「不活性ガスを主成分として含む」は、雰囲気中において、不活性ガスが重量基準で
最も多く含まれることを意味する。「実質的に不活性ガスからなる」は、雰囲気中におけ
る不活性ガスの含有率が９５ｗｔ％以上、好ましくは９９ｗｔ％以上、であることを意味
する。不活性ガスとしては、例えば、窒素ガス及びアルゴンガスが挙げられ、好ましくは
窒素ガスである。熱処理中の雰囲気は、実質的に窒素ガスからなることが好ましい。熱処
理は、減圧雰囲気又は真空雰囲気で行われてもよい。
熱処理の温度は、含フッ素重合体（Ａ）の末端基の熱分解が進行する限り、特に限定さ
れず、例えば１００℃以上４００℃以下であり、好ましくは２００℃以上３５０℃以下で
ある。熱処理の時間も特に限定されず、例えば５０分以上であり、２５０分以上であって
もよい。熱処理の時間は、１５００分以下であってもよい。含フッ素重合体（Ａ）は、熱
処理によって溶融してもよく、溶融しなくてもよい。熱処理が実施される前において、含
フッ素重合体（Ａ）の形状は、特に限定されず、例えば粉末状である。
れず、例えば１００℃以上４００℃以下であり、好ましくは２００℃以上３５０℃以下で
ある。熱処理の時間も特に限定されず、例えば５０分以上であり、２５０分以上であって
もよい。熱処理の時間は、１５００分以下であってもよい。含フッ素重合体（Ａ）は、熱
処理によって溶融してもよく、溶融しなくてもよい。熱処理が実施される前において、含
フッ素重合体（Ａ）の形状は、特に限定されず、例えば粉末状である。
本実施形態の製造方法は、例えば、含フッ素重合体（Ａ）の末端基の熱分解によって生
じた低分子化合物（例えば、Ｒi−Ｃ（＝Ｏ）−Ｆ）を光学用樹脂組成物から除去するこ
とをさらに含む。光学用樹脂組成物から低分子化合物を除去する方法は、特に限定されな
い。例えば、上記の熱処理の条件（温度、時間など）を適切に設定し、低分子化合物を揮
発させることによって、光学用樹脂組成物から低分子化合物を除去してもよい。言い換え
ると、本実施形態の製造方法では、上記の熱処理によって、含フッ素重合体（Ａ）の末端
基を熱分解するとともに、当該熱分解により生じた低分子化合物を揮発させてもよい。上
記の熱処理によって含フッ素重合体（Ａ）が溶融する場合、溶融した含フッ素重合体（Ａ
）の液面の高さが１ｍｍ以下であれば、熱分解により生じた低分子化合物が揮発しやすい
。光学用樹脂組成物において、含フッ素重合体（Ａ）の末端基の熱分解によって生じた低
分子化合物の重量濃度は、例えば１％以下である。
じた低分子化合物（例えば、Ｒi−Ｃ（＝Ｏ）−Ｆ）を光学用樹脂組成物から除去するこ
とをさらに含む。光学用樹脂組成物から低分子化合物を除去する方法は、特に限定されな
い。例えば、上記の熱処理の条件（温度、時間など）を適切に設定し、低分子化合物を揮
発させることによって、光学用樹脂組成物から低分子化合物を除去してもよい。言い換え
ると、本実施形態の製造方法では、上記の熱処理によって、含フッ素重合体（Ａ）の末端
基を熱分解するとともに、当該熱分解により生じた低分子化合物を揮発させてもよい。上
記の熱処理によって含フッ素重合体（Ａ）が溶融する場合、溶融した含フッ素重合体（Ａ
）の液面の高さが１ｍｍ以下であれば、熱分解により生じた低分子化合物が揮発しやすい
。光学用樹脂組成物において、含フッ素重合体（Ａ）の末端基の熱分解によって生じた低
分子化合物の重量濃度は、例えば１％以下である。
上述のとおり、本実施形態の製造方法では、熱処理によって、含フッ素重合体（Ａ）の
有機過酸化物に由来する末端基が熱分解する。すなわち、光学用樹脂組成物に含まれる含
フッ素重合体（Ｂ）は、有機過酸化物に由来する末端基をほとんど有していない。そのた
め、光学用樹脂組成物を光学部材に加熱成形する段階で、有機過酸化物に由来する末端基
の熱分解によって低分子化合物が生じることがほとんどない。本発明者の検討によると、
光学用樹脂組成物を光学部材に加熱成形する段階で低分子化合物が生じると、光学用樹脂
組成物が着色する傾向がある。本実施形態の製造方法によれば、上記の低分子化合物を予
め除去することができ、これにより、着色が抑制された光学用樹脂組成物を得ることがで
きる。
有機過酸化物に由来する末端基が熱分解する。すなわち、光学用樹脂組成物に含まれる含
フッ素重合体（Ｂ）は、有機過酸化物に由来する末端基をほとんど有していない。そのた
め、光学用樹脂組成物を光学部材に加熱成形する段階で、有機過酸化物に由来する末端基
の熱分解によって低分子化合物が生じることがほとんどない。本発明者の検討によると、
光学用樹脂組成物を光学部材に加熱成形する段階で低分子化合物が生じると、光学用樹脂
組成物が着色する傾向がある。本実施形態の製造方法によれば、上記の低分子化合物を予
め除去することができ、これにより、着色が抑制された光学用樹脂組成物を得ることがで
きる。
さらに、本実施形態の製造方法では、水蒸気の濃度が１００ｖｏｌｐｐｍ以下である雰
囲気下で熱処理が実施される。そのため、含フッ素重合体（Ｂ）の末端基が、熱処理中に
さらに加水分解することを抑制することができる。仮に、式（１）で表される末端基が加
水分解した場合には、下記式（５ｂ）で表される反応により、カルボキシル基が形成され
る。カルボキシル基などのＯＨ基を含む官能基は、光学用樹脂組成物の吸水性を増加させ
る傾向がある。本実施形態の製造方法によれば、含フッ素重合体（Ｂ）の末端基の加水分
解が抑制されるため、光学用樹脂組成物の吸水性の増加を抑制することができ、吸水性を
十分に低い状態に維持できる。
囲気下で熱処理が実施される。そのため、含フッ素重合体（Ｂ）の末端基が、熱処理中に
さらに加水分解することを抑制することができる。仮に、式（１）で表される末端基が加
水分解した場合には、下記式（５ｂ）で表される反応により、カルボキシル基が形成され
る。カルボキシル基などのＯＨ基を含む官能基は、光学用樹脂組成物の吸水性を増加させ
る傾向がある。本実施形態の製造方法によれば、含フッ素重合体（Ｂ）の末端基の加水分
解が抑制されるため、光学用樹脂組成物の吸水性の増加を抑制することができ、吸水性を
十分に低い状態に維持できる。
なお、カルボキシル基などのＯＨ基を含む官能基が形成されると、含フッ素重合体にお
いて、分子内での密度ゆらぎが増加する。分子内での密度ゆらぎは、光の散乱の原因にな
りうる。本実施形態の製造方法では、含フッ素重合体（Ｂ）の末端基の加水分解が抑制さ
れることで分子内の密度ゆらぎの増加が抑制され、これにより、光学用樹脂組成物による
光の散乱の増加を抑制することができる。
いて、分子内での密度ゆらぎが増加する。分子内での密度ゆらぎは、光の散乱の原因にな
りうる。本実施形態の製造方法では、含フッ素重合体（Ｂ）の末端基の加水分解が抑制さ
れることで分子内の密度ゆらぎの増加が抑制され、これにより、光学用樹脂組成物による
光の散乱の増加を抑制することができる。
［含フッ素化合物］
単量体群に含まれる含フッ素化合物は、炭素−炭素二重結合及びフッ素原子を含む限り
、特に限定されない。Ｃ−Ｈ結合の伸縮エネルギーによる光吸収を抑制する観点から、含
フッ素化合物は、実質的に水素原子を含んでいないことが好ましく、炭素原子に結合して
いる全ての水素原子がフッ素原子に置換されていることが特に好ましい。本明細書におい
て、含フッ素化合物が実質的に水素原子を含んでいないとは、単量体群に含まれる含フッ
素化合物の全量における水素原子の含有率が１モル％以下であることを意味する。
単量体群に含まれる含フッ素化合物は、炭素−炭素二重結合及びフッ素原子を含む限り
、特に限定されない。Ｃ−Ｈ結合の伸縮エネルギーによる光吸収を抑制する観点から、含
フッ素化合物は、実質的に水素原子を含んでいないことが好ましく、炭素原子に結合して
いる全ての水素原子がフッ素原子に置換されていることが特に好ましい。本明細書におい
て、含フッ素化合物が実質的に水素原子を含んでいないとは、単量体群に含まれる含フッ
素化合物の全量における水素原子の含有率が１モル％以下であることを意味する。
含フッ素化合物に含まれる炭素−炭素二重結合は、含フッ素化合物の末端に位置してい
ることが好ましい。さらに、当該二重結合を構成する炭素原子に結合している全ての水素
原子がフッ素原子に置換されていることが好ましい。
ることが好ましい。さらに、当該二重結合を構成する炭素原子に結合している全ての水素
原子がフッ素原子に置換されていることが好ましい。
含フッ素化合物は、含フッ素脂肪族環構造を有することが好ましい。含フッ素化合物は
、環を構成する炭素原子と環を構成しない炭素原子との間に重合性二重結合を有していて
もよく、環を構成する２つの炭素原子の間に重合性二重結合を有していてもよい。環を構
成する炭素原子と環を構成しない炭素原子との間に重合性二重結合を有する含フッ素化合
物としては、例えば、パーフルオロ−２−メチレン−４−メチル−１，３−ジオキソラン
などの１，３−ジオキソラン構造を有する含フッ素化合物が挙げられる。環を構成する２
つの炭素原子の間に重合性二重結合を有する含フッ素化合物としては、例えば、パーフル
オロ−４−メチル−１，３−ジオキソール、パーフルオロ−４−メチル−１，３−ジオキ
ソールなどの１，３−ジオキソール構造を有する含フッ素化合物が挙げられる。
、環を構成する炭素原子と環を構成しない炭素原子との間に重合性二重結合を有していて
もよく、環を構成する２つの炭素原子の間に重合性二重結合を有していてもよい。環を構
成する炭素原子と環を構成しない炭素原子との間に重合性二重結合を有する含フッ素化合
物としては、例えば、パーフルオロ−２−メチレン−４−メチル−１，３−ジオキソラン
などの１，３−ジオキソラン構造を有する含フッ素化合物が挙げられる。環を構成する２
つの炭素原子の間に重合性二重結合を有する含フッ素化合物としては、例えば、パーフル
オロ−４−メチル−１，３−ジオキソール、パーフルオロ−４−メチル−１，３−ジオキ
ソールなどの１，３−ジオキソール構造を有する含フッ素化合物が挙げられる。
含フッ素化合物は、例えば特表２００７−５０４１２５号公報に開示された製造方法を
はじめ、すでに公知である製造方法によって得ることができる。含フッ素脂肪族環構造を
有する含フッ素化合物としては、例えば下記式（２）で表される化合物が挙げられる。
はじめ、すでに公知である製造方法によって得ることができる。含フッ素脂肪族環構造を
有する含フッ素化合物としては、例えば下記式（２）で表される化合物が挙げられる。
式（２）中、Ｒff 1〜Ｒff 4は各々独立に、フッ素原子、炭素数１〜７のパーフルオロア
ルキル基、又は炭素数１〜７のパーフルオロアルキルエーテル基を表す。Ｒff 1及びＲff 2
は、連結して環を形成してもよい。式（２）において、パーフルオロアルキル基の炭素数
は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１であることがさらに好ましい。パーフ
ルオロアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。パーフルオロア
ルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプ
ロピル基などが挙げられる。
ルキル基、又は炭素数１〜７のパーフルオロアルキルエーテル基を表す。Ｒff 1及びＲff 2
は、連結して環を形成してもよい。式（２）において、パーフルオロアルキル基の炭素数
は、１〜５が好ましく、１〜３がより好ましく、１であることがさらに好ましい。パーフ
ルオロアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。パーフルオロア
ルキル基としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプ
ロピル基などが挙げられる。
式（２）において、パーフルオロアルキルエーテル基の炭素数は、１〜５が好ましく、
１〜３がより好ましい。パーフルオロアルキルエーテル基は、直鎖状であってもよく、分
岐鎖状であってもよい。パーフルオロアルキルエーテル基としては、パーフルオロメトキ
シメチル基などが挙げられる。
１〜３がより好ましい。パーフルオロアルキルエーテル基は、直鎖状であってもよく、分
岐鎖状であってもよい。パーフルオロアルキルエーテル基としては、パーフルオロメトキ
シメチル基などが挙げられる。
Ｒff 1及びＲff 2が連結して環を形成している場合、当該環は、５員環であってもよく、
６員環であってもよい。この環としては、パーフルオロテトラヒドロフラン環、パーフル
オロシクロペンタン環、パーフルオロシクロヘキサン環などが挙げられる。
６員環であってもよい。この環としては、パーフルオロテトラヒドロフラン環、パーフル
オロシクロペンタン環、パーフルオロシクロヘキサン環などが挙げられる。
上記式（２）で表される化合物の具体例として、例えば下記式（Ｍ１）〜（Ｍ８）で表
される化合物が挙げられる。
される化合物が挙げられる。
式（２）で表される化合物は、上記式（Ｍ１）〜（Ｍ８）で表される化合物のうち、式
（Ｍ２）で表される化合物、すなわち下記式（３）で表される化合物であることが好まし
い。
（Ｍ２）で表される化合物、すなわち下記式（３）で表される化合物であることが好まし
い。
単量体群に含まれる含フッ素化合物は、１種類であってもよいし、２種類以上であって
もよい。すなわち、含フッ素重合体（Ａ）は、１種の含フッ素化合物を単独重合させるこ
とによって得られる含フッ素重合体であってもよいし、２種以上の含フッ素化合物を共重
合させることによって得られる含フッ素共重合体であってもよい。
もよい。すなわち、含フッ素重合体（Ａ）は、１種の含フッ素化合物を単独重合させるこ
とによって得られる含フッ素重合体であってもよいし、２種以上の含フッ素化合物を共重
合させることによって得られる含フッ素共重合体であってもよい。
含フッ素重合体（Ａ）は、例えば上述の含フッ素脂肪族環構造を有する含フッ素化合物
（以下、含フッ素化合物（ａ）と記載する）と、含フッ素化合物（ａ）以外の他の含フッ
素化合物とを共重合させることによって得られる含フッ素共重合体であってもよい。含フ
ッ素化合物（ａ）以外の他の含フッ素化合物として、例えば、以下の含フッ素化合物（ｂ
）〜（ｄ）が挙げられる。
（以下、含フッ素化合物（ａ）と記載する）と、含フッ素化合物（ａ）以外の他の含フッ
素化合物とを共重合させることによって得られる含フッ素共重合体であってもよい。含フ
ッ素化合物（ａ）以外の他の含フッ素化合物として、例えば、以下の含フッ素化合物（ｂ
）〜（ｄ）が挙げられる。
含フッ素化合物（ｂ）は、パーフルオロビニルエーテル等の含フッ素ビニルエーテルで
ある。含フッ素ビニルエーテルは、例えば下記式（６）で表される。
ある。含フッ素ビニルエーテルは、例えば下記式（６）で表される。
式（６）中、Ｒ1〜Ｒ3は各々独立に、フッ素原子、又は炭素数１〜７のパーフルオロア
ルキル基を表す。Ｒ4は、炭素数１〜７のパーフルオロアルキル基を表す。パーフルオロ
アルキル基は、環構造を有していてもよい。フッ素原子の一部は、フッ素原子以外のハロ
ゲン原子で置換されていてもよい。パーフルオロアルキル基におけるフッ素原子の一部は
、フッ素原子以外のハロゲン原子で置換されていてもよい。
ルキル基を表す。Ｒ4は、炭素数１〜７のパーフルオロアルキル基を表す。パーフルオロ
アルキル基は、環構造を有していてもよい。フッ素原子の一部は、フッ素原子以外のハロ
ゲン原子で置換されていてもよい。パーフルオロアルキル基におけるフッ素原子の一部は
、フッ素原子以外のハロゲン原子で置換されていてもよい。
含フッ素化合物（ｃ）は、テトラフルオロエチレン及びクロロトリフルオロエチレン等
の含フッ素オレフィンである。含フッ素オレフィンは、例えば下記式（７）で表される。
の含フッ素オレフィンである。含フッ素オレフィンは、例えば下記式（７）で表される。
式（７）中、Ｒ5〜Ｒ8は各々独立に、フッ素原子、又は炭素数１〜７のパーフルオロア
ルキル基を表す。パーフルオロアルキル基は、環構造を有していてもよい。フッ素原子の
一部は、フッ素原子以外のハロゲン原子で置換されていてもよい。パーフルオロアルキル
基におけるフッ素原子の一部は、フッ素原子以外のハロゲン原子で置換されていてもよい
。
ルキル基を表す。パーフルオロアルキル基は、環構造を有していてもよい。フッ素原子の
一部は、フッ素原子以外のハロゲン原子で置換されていてもよい。パーフルオロアルキル
基におけるフッ素原子の一部は、フッ素原子以外のハロゲン原子で置換されていてもよい
。
含フッ素化合物（ｄ）は、２個以上の重合性二重結合を有し、かつ環化重合し得る含フ
ッ素化合物である。含フッ素化合物（ｄ）は、例えば下記式（８）で表される。
ッ素化合物である。含フッ素化合物（ｄ）は、例えば下記式（８）で表される。
式（８）中、Ｚは、酸素原子、単結合、又は−ＯＣ（Ｒ19Ｒ20）Ｏ−を表し、Ｒ9〜Ｒ2
0は各々独立に、フッ素原子、炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基、又は炭素数１〜
５のパーフルオロアルコキシ基を表す。フッ素原子の一部は、フッ素原子以外のハロゲン
原子で置換されていてもよい。パーフルオロアルキル基におけるフッ素原子の一部は、フ
ッ素原子以外のハロゲン原子で置換されていてもよい。パーフルオロアルコキシ基におけ
るフッ素原子の一部は、フッ素原子以外のハロゲン原子で置換されていてもよい。ｓ及び
ｔはそれぞれ独立に０〜５でかつｓ＋ｔが１〜６の整数（ただし、Ｚが−ＯＣ（Ｒ19Ｒ20
）Ｏ−の場合、ｓ＋ｔは０であってもよい）を表す。
0は各々独立に、フッ素原子、炭素数１〜５のパーフルオロアルキル基、又は炭素数１〜
５のパーフルオロアルコキシ基を表す。フッ素原子の一部は、フッ素原子以外のハロゲン
原子で置換されていてもよい。パーフルオロアルキル基におけるフッ素原子の一部は、フ
ッ素原子以外のハロゲン原子で置換されていてもよい。パーフルオロアルコキシ基におけ
るフッ素原子の一部は、フッ素原子以外のハロゲン原子で置換されていてもよい。ｓ及び
ｔはそれぞれ独立に０〜５でかつｓ＋ｔが１〜６の整数（ただし、Ｚが−ＯＣ（Ｒ19Ｒ20
）Ｏ−の場合、ｓ＋ｔは０であってもよい）を表す。
含フッ素化合物（ｄ）として、下記式（９）で表される含フッ素化合物が用いられても
よい。なお、下記式（９）で表される含フッ素化合物は、上記式（８）においてＺが酸素
原子、ｓが０、かつｔが２の場合である。
よい。なお、下記式（９）で表される含フッ素化合物は、上記式（８）においてＺが酸素
原子、ｓが０、かつｔが２の場合である。
式（９）中、Ｒ141、Ｒ142、Ｒ151、及びＲ152は各々独立に、フッ素原子、炭素数１〜
５のパーフルオロアルキル基、又は炭素数１〜５のパーフルオロアルコキシ基を表す。フ
ッ素原子の一部は、フッ素原子以外のハロゲン原子で置換されていてもよい。パーフルオ
ロアルキル基におけるフッ素原子の一部は、フッ素原子以外のハロゲン原子で置換されて
いてもよい。パーフルオロアルコキシ基におけるフッ素原子の一部は、フッ素原子以外の
ハロゲン原子で置換されていてもよい。
５のパーフルオロアルキル基、又は炭素数１〜５のパーフルオロアルコキシ基を表す。フ
ッ素原子の一部は、フッ素原子以外のハロゲン原子で置換されていてもよい。パーフルオ
ロアルキル基におけるフッ素原子の一部は、フッ素原子以外のハロゲン原子で置換されて
いてもよい。パーフルオロアルコキシ基におけるフッ素原子の一部は、フッ素原子以外の
ハロゲン原子で置換されていてもよい。
含フッ素化合物（ｄ）の具体例として、例えば下記の化合物が挙げられる。
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦＣｌＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＣｌ2ＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＯＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣ（ＣＦ3）2ＯＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ（ＯＣＦ3）ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＣＦ2ＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＣＦ2ＯＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦＣｌＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ2ＣＣｌ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ2ＣＦ＝ＣＦＣｌ
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ（ＣＦ3）ＣＣｌ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＯＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＣｌ2ＯＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＣｌＯＣＦ2ＯＣＣｌ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ（ＣＦ3）ＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦＣｌＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＣｌ2ＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＯＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣ（ＣＦ3）2ＯＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ（ＯＣＦ3）ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＣＦ2ＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＣＦ2ＯＣＦ2ＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦＣｌＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ2ＣＣｌ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ2ＣＦ＝ＣＦＣｌ
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ（ＣＦ3）ＣＣｌ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＯＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＣｌ2ＯＣＦ＝ＣＦ2
ＣＦ2＝ＣＣｌＯＣＦ2ＯＣＣｌ＝ＣＦ2
［単量体群］
単量体群は、上述した含フッ素化合物を主成分として含むことが好ましく、実質的に含
フッ素化合物からなることがより好ましい。単量体群は、含フッ素化合物以外の他の重合
性化合物をさらに含んでいてもよい。
単量体群は、上述した含フッ素化合物を主成分として含むことが好ましく、実質的に含
フッ素化合物からなることがより好ましい。単量体群は、含フッ素化合物以外の他の重合
性化合物をさらに含んでいてもよい。
［有機過酸化物］
本実施形態の製造方法において、有機過酸化物は、単量体群の重合開始剤として機能す
る。有機過酸化物は、過酸化ジアシル又は過酸化エステルを含むことが好ましく、過酸化
ジアシルを含むことがより好ましい。有機過酸化物は、フッ素化されていることが好まし
い。有機過酸化物は、実質的に水素原子を含まず、かつ全フッ素化されていることがより
好ましい。ここで、有機過酸化物が実質的に水素原子を含んでいないとは、用いられる有
機過酸化物の全量に対して、水素原子の含有割合が１モル％以下であることを意味する。
有機過酸化物の好ましい一例は、パーフルオロ過酸化ベンゾイルである。
本実施形態の製造方法において、有機過酸化物は、単量体群の重合開始剤として機能す
る。有機過酸化物は、過酸化ジアシル又は過酸化エステルを含むことが好ましく、過酸化
ジアシルを含むことがより好ましい。有機過酸化物は、フッ素化されていることが好まし
い。有機過酸化物は、実質的に水素原子を含まず、かつ全フッ素化されていることがより
好ましい。ここで、有機過酸化物が実質的に水素原子を含んでいないとは、用いられる有
機過酸化物の全量に対して、水素原子の含有割合が１モル％以下であることを意味する。
有機過酸化物の好ましい一例は、パーフルオロ過酸化ベンゾイルである。
［含フッ素重合体（Ａ）の製造方法］
含フッ素重合体（Ａ）は、上記の単量体群を上記の有機過酸化物を用いて重合させるこ
とによって製造できる。重合方法としては、公知の重合方法を用いることができる。例え
ば、上記の単量体群を常法によってラジカル重合し、含フッ素重合体（Ａ）を製造できる
。
含フッ素重合体（Ａ）は、上記の単量体群を上記の有機過酸化物を用いて重合させるこ
とによって製造できる。重合方法としては、公知の重合方法を用いることができる。例え
ば、上記の単量体群を常法によってラジカル重合し、含フッ素重合体（Ａ）を製造できる
。
［含フッ素重合体］
上述のとおり、含フッ素重合体（Ａ）及び（Ｂ）は、互いに異なる末端基を有する。末
端基を除き、含フッ素重合体（Ａ）の構造は、含フッ素重合体（Ｂ）と同じであってもよ
い。以下では、含フッ素重合体（Ａ）及び（Ｂ）が共通して有する構成単位について説明
する。
上述のとおり、含フッ素重合体（Ａ）及び（Ｂ）は、互いに異なる末端基を有する。末
端基を除き、含フッ素重合体（Ａ）の構造は、含フッ素重合体（Ｂ）と同じであってもよ
い。以下では、含フッ素重合体（Ａ）及び（Ｂ）が共通して有する構成単位について説明
する。
含フッ素重合体は、例えば、下記式（１０）で表される構成単位（ａ）を含む。構成単
位（ａ）は、上述した含フッ素化合物（ａ）に由来する。式（１０）において、Ｒff 1〜
Ｒff 4は、式（２）と同じである。
位（ａ）は、上述した含フッ素化合物（ａ）に由来する。式（１０）において、Ｒff 1〜
Ｒff 4は、式（２）と同じである。
構成単位（ａ）の具体例としては、例えば、下記式（ａ１）〜（ａ８）で表される構成
単位が挙げられる。
単位が挙げられる。
構成単位（ａ）は、上記式（ａ１）〜（ａ８）で表される構成単位のうち、構成単位（
ａ２）、すなわち下記式（１１）で表される構成単位であることが好ましい。
ａ２）、すなわち下記式（１１）で表される構成単位であることが好ましい。
含フッ素重合体は、構成単位（ａ）を１種又は２種以上含んでいてもよい。含フッ素重
合体において、構成単位（ａ）の含有量は、全構成単位の合計に対し、２０モル％以上で
あることが好ましく、４０モル％以上であることがより好ましい。構成単位（ａ）が２０
モル％以上含まれることにより、含フッ素重合体は、より高い耐熱性を有する傾向がある
。構成単位（ａ）が４０モル％以上含まれる場合、含フッ素重合体は、高い耐熱性に加え
て、より高い透明性及び高い機械的強度も有する傾向がある。含フッ素重合体において、
構成単位（ａ）の含有量は、全構成単位の合計に対し、９５モル％以下であることが好ま
しく、７０モル％以下であることがより好ましい。
合体において、構成単位（ａ）の含有量は、全構成単位の合計に対し、２０モル％以上で
あることが好ましく、４０モル％以上であることがより好ましい。構成単位（ａ）が２０
モル％以上含まれることにより、含フッ素重合体は、より高い耐熱性を有する傾向がある
。構成単位（ａ）が４０モル％以上含まれる場合、含フッ素重合体は、高い耐熱性に加え
て、より高い透明性及び高い機械的強度も有する傾向がある。含フッ素重合体において、
構成単位（ａ）の含有量は、全構成単位の合計に対し、９５モル％以下であることが好ま
しく、７０モル％以下であることがより好ましい。
含フッ素重合体は、構成単位（ａ）以外に、他の構成単位をさらに含んでいてもよい。
他の構成単位としては、以下の構成単位（ｂ）〜（ｄ）が挙げられる。
他の構成単位としては、以下の構成単位（ｂ）〜（ｄ）が挙げられる。
構成単位（ｂ）は、下記式（１２）で表される。構成単位（ｂ）は、上述した含フッ素
化合物（ｂ）に由来する。式（１２）において、Ｒ1〜Ｒ4は、式（６）と同じである。
化合物（ｂ）に由来する。式（１２）において、Ｒ1〜Ｒ4は、式（６）と同じである。
含フッ素重合体は、構成単位（ｂ）を１種又は２種以上含んでいてもよい。含フッ素重
合体において、構成単位（ｂ）の含有量は、全構成単位の合計に対し、５〜１０モル％が
好ましい。構成単位（ｂ）の含有量は、９モル％以下であってもよく、８モル％以下であ
ってもよい。
合体において、構成単位（ｂ）の含有量は、全構成単位の合計に対し、５〜１０モル％が
好ましい。構成単位（ｂ）の含有量は、９モル％以下であってもよく、８モル％以下であ
ってもよい。
構成単位（ｃ）は、下記式（１３）で表される。構成単位（ｃ）は、上述した含フッ素
化合物（ｃ）に由来する。式（１３）において、Ｒ5〜Ｒ8は、式（７）と同じである。
化合物（ｃ）に由来する。式（１３）において、Ｒ5〜Ｒ8は、式（７）と同じである。
含フッ素重合体は、構成単位（ｃ）を１種又は２種以上含んでいてもよい。含フッ素重
合体において、構成単位（ｃ）の含有量は、全構成単位の合計に対し、５〜１０モル％が
好ましい。構成単位（ｃ）の含有量は、９モル％以下であってもよく、８モル％以下であ
ってもよい。
合体において、構成単位（ｃ）の含有量は、全構成単位の合計に対し、５〜１０モル％が
好ましい。構成単位（ｃ）の含有量は、９モル％以下であってもよく、８モル％以下であ
ってもよい。
構成単位（ｄ）は、下記式（１４）で表される。構成単位（ｄ）は、上述した含フッ素
化合物（ｄ）に由来する。式（１４）において、Ｚ、Ｒ9〜Ｒ18、ｓ及びｔは、式（８）
と同じである。
化合物（ｄ）に由来する。式（１４）において、Ｚ、Ｒ9〜Ｒ18、ｓ及びｔは、式（８）
と同じである。
構成単位（ｄ）は、好ましくは下記式（１５）で表される。下記式（１５）で表される
構成単位（ｄ）は、式（９）で表される含フッ素化合物に由来する。式（１５）において
、Ｒ141、Ｒ142、Ｒ151、及びＲ152は、式（９）と同じである。
構成単位（ｄ）は、式（９）で表される含フッ素化合物に由来する。式（１５）において
、Ｒ141、Ｒ142、Ｒ151、及びＲ152は、式（９）と同じである。
含フッ素重合体は、構成単位（ｄ）を１種又は２種以上含んでいてもよい。含フッ素重
合体において、構成単位（ｄ）の含有量は、全構成単位の合計に対し、３０〜６７モル％
が好ましい。構成単位（ｄ）の含有量は、例えば３５モル％以上であり、６０モル％以下
であってもよく、５５モル％以下であってもよい。
合体において、構成単位（ｄ）の含有量は、全構成単位の合計に対し、３０〜６７モル％
が好ましい。構成単位（ｄ）の含有量は、例えば３５モル％以上であり、６０モル％以下
であってもよく、５５モル％以下であってもよい。
含フッ素重合体は、構成単位（ａ）〜（ｄ）以外の他の構成単位をさらに含んでいても
よいが、実質的に構成単位（ａ）〜（ｄ）以外の他の構成単位を含まないことが好ましい
。なお、含フッ素重合体が実質的に構成単位（ａ）〜（ｄ）以外の他の構成単位を含まな
いとは、含フッ素重合体における全構成単位の合計に対し、構成単位（ａ）〜（ｄ）の合
計が９５モル％以上、好ましくは９８モル％以上であることを意味する。
よいが、実質的に構成単位（ａ）〜（ｄ）以外の他の構成単位を含まないことが好ましい
。なお、含フッ素重合体が実質的に構成単位（ａ）〜（ｄ）以外の他の構成単位を含まな
いとは、含フッ素重合体における全構成単位の合計に対し、構成単位（ａ）〜（ｄ）の合
計が９５モル％以上、好ましくは９８モル％以上であることを意味する。
含フッ素重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、特に限定されず、例えば１００℃〜１４
０℃であり、１０５℃以上であってもよく、１２０℃以上であってもよい。本明細書にお
いて、Ｔｇは、日本産業規格（ＪＩＳ） Ｋ７１２１：１９８７の規定に準拠して求めら
れる中間点ガラス転移温度 (Ｔmg)を意味する。
０℃であり、１０５℃以上であってもよく、１２０℃以上であってもよい。本明細書にお
いて、Ｔｇは、日本産業規格（ＪＩＳ） Ｋ７１２１：１９８７の規定に準拠して求めら
れる中間点ガラス転移温度 (Ｔmg)を意味する。
［光学用樹脂組成物］
本実施形態の製造方法によって得られた光学用樹脂組成物は、含フッ素重合体（Ｂ）を
含み、実質的に含フッ素重合体（Ｂ）からなることが好ましい。光学用樹脂組成物は、屈
折率調整剤などの添加剤をさらに含んでいてもよい。
本実施形態の製造方法によって得られた光学用樹脂組成物は、含フッ素重合体（Ｂ）を
含み、実質的に含フッ素重合体（Ｂ）からなることが好ましい。光学用樹脂組成物は、屈
折率調整剤などの添加剤をさらに含んでいてもよい。
上述のとおり、本実施形態の製造方法によれば、含フッ素重合体（Ｂ）の末端基の加水
分解が抑制されるため、光学用樹脂組成物の吸水性が十分に低い。光学用樹脂組成物の吸
水率は、例えば０．１％以下であり、好ましくは０．０５％以下である。光学用樹脂組成
物の吸水率は、次の方法によって特定することができる。まず、市販の水分吸脱着測定装
置に光学用樹脂組成物を測定用サンプルとしてセットする。次に、測定用サンプルを８５
℃０％ＲＨの条件で６００分保持し、さらに８５℃８５％ＲＨの条件で６００分保持する
。このとき、測定用サンプルが装置内の水蒸気を吸水（吸湿）すると、測定用サンプルの
重量が増加する。吸湿処理後の測定用サンプルの重量に対する吸湿処理による測定用サン
プルの重量の増加量の比率を吸水率として特定する。
分解が抑制されるため、光学用樹脂組成物の吸水性が十分に低い。光学用樹脂組成物の吸
水率は、例えば０．１％以下であり、好ましくは０．０５％以下である。光学用樹脂組成
物の吸水率は、次の方法によって特定することができる。まず、市販の水分吸脱着測定装
置に光学用樹脂組成物を測定用サンプルとしてセットする。次に、測定用サンプルを８５
℃０％ＲＨの条件で６００分保持し、さらに８５℃８５％ＲＨの条件で６００分保持する
。このとき、測定用サンプルが装置内の水蒸気を吸水（吸湿）すると、測定用サンプルの
重量が増加する。吸湿処理後の測定用サンプルの重量に対する吸湿処理による測定用サン
プルの重量の増加量の比率を吸水率として特定する。
さらに、光学用樹脂組成物の吸水性が十分に低いため、光学用樹脂組成物における水の
含有率（含水率）も低い状態で維持される。光学用樹脂組成物の含水率は、例えば０．１
ｗｔ％以下であり、好ましくは０．０７ｗｔ％以下であり、より好ましくは０．０５ｗｔ
％以下である。光学用樹脂組成物の含水率の下限値は、特に限定されず、例えば０．０１
ｗｔ％である。
含有率（含水率）も低い状態で維持される。光学用樹脂組成物の含水率は、例えば０．１
ｗｔ％以下であり、好ましくは０．０７ｗｔ％以下であり、より好ましくは０．０５ｗｔ
％以下である。光学用樹脂組成物の含水率の下限値は、特に限定されず、例えば０．０１
ｗｔ％である。
本実施形態の製造方法によって得られた光学用樹脂組成物によれば、光学部材に加熱成
形されるときに着色が生じにくい。さらに、光学用樹脂組成物の含水率が低いため、光学
用樹脂組成物に含まれる水による光の吸収損失が低い。そのため、光学用樹脂組成物から
成形体を作製した場合、当該成形体の内部透過率が十分に低い。一例として、光学用樹脂
組成物から作製された厚さ１０ｍｍの板状の成形体の波長８５０ｎｍの光に対する内部透
過率は、例えば９８％以上であり、好ましくは９９％以上である。本明細書において、内
部透過率は、成形体の表面での光の反射（フレネル反射）による反射損失を含まない透過
率を意味する。成形体の内部透過率は、日本光学硝子工業会規格（ＪＯＧＩＳ）１７−２
０１２の規定に準拠して特定することができる。
形されるときに着色が生じにくい。さらに、光学用樹脂組成物の含水率が低いため、光学
用樹脂組成物に含まれる水による光の吸収損失が低い。そのため、光学用樹脂組成物から
成形体を作製した場合、当該成形体の内部透過率が十分に低い。一例として、光学用樹脂
組成物から作製された厚さ１０ｍｍの板状の成形体の波長８５０ｎｍの光に対する内部透
過率は、例えば９８％以上であり、好ましくは９９％以上である。本明細書において、内
部透過率は、成形体の表面での光の反射（フレネル反射）による反射損失を含まない透過
率を意味する。成形体の内部透過率は、日本光学硝子工業会規格（ＪＯＧＩＳ）１７−２
０１２の規定に準拠して特定することができる。
以下に、実施例及び比較例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限
定されるものではない。
定されるものではない。
［含フッ素重合体（Ａ）］
まず、室温（２０℃±１５℃）のアルゴン雰囲気下で、パーフルオロ−２−メチレン−
４−メチル−１，３−ジオキソラン（式（Ｍ２）で表される化合物）２２．６ｇを５０ｍ
Ｌの１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロペンタン(三井・ケマーズ
フロロプロダクツ社製バートレルＸＦ)に溶解させた。アルゴン雰囲気下を維持しながら
、得られた溶液にパーフルオロ過酸化ベンゾイルを０．１５５ｇ加え、撹拌混合した。次
に、凍結脱気法により溶液から溶存酸素を除去した。溶液について、撹拌しながら、４０
℃に加熱し、７２時間反応を行った。得られた反応混合物をクロロホルム３００ｍＬに添
加した。この操作によって生じた沈殿物をろ過により回収した。得られた濾物は、パーフ
ルオロ−２−メチレン−４−メチル−１，３−ジオキソランの重合体（含フッ素重合体（
Ａ））であった。含フッ素重合体（Ａ）の収量は１９．２ｇであり、収率は８１．０％で
あった。
まず、室温（２０℃±１５℃）のアルゴン雰囲気下で、パーフルオロ−２−メチレン−
４−メチル−１，３−ジオキソラン（式（Ｍ２）で表される化合物）２２．６ｇを５０ｍ
Ｌの１，１，１，２，２，３，４，５，５，５−デカフルオロペンタン(三井・ケマーズ
フロロプロダクツ社製バートレルＸＦ)に溶解させた。アルゴン雰囲気下を維持しながら
、得られた溶液にパーフルオロ過酸化ベンゾイルを０．１５５ｇ加え、撹拌混合した。次
に、凍結脱気法により溶液から溶存酸素を除去した。溶液について、撹拌しながら、４０
℃に加熱し、７２時間反応を行った。得られた反応混合物をクロロホルム３００ｍＬに添
加した。この操作によって生じた沈殿物をろ過により回収した。得られた濾物は、パーフ
ルオロ−２−メチレン−４−メチル−１，３−ジオキソランの重合体（含フッ素重合体（
Ａ））であった。含フッ素重合体（Ａ）の収量は１９．２ｇであり、収率は８１．０％で
あった。
（サンプル１）
まず、アルミニウム製のバットの上にアルミ箔を配置し、さらに、アルミ箔の光沢面の
上に粉末状の含フッ素重合体（Ａ）を配置した。バットをオーブンの内部に配置し、窒素
雰囲気下２７０℃で５時間、含フッ素重合体（Ａ）を熱処理した。窒素雰囲気は、オーブ
ン内に窒素を１Ｌ／ｍｉｎの流量で送り込むことによって調整した。窒素雰囲気における
水蒸気の濃度は、４０ｖｏｌｐｐｍであった。熱処理によって含フッ素重合体（Ａ）は溶
融した。溶融した含フッ素重合体（Ａ）の液面の高さは１ｍｍ以下であった。さらに、熱
処理により、含フッ素重合体（Ａ）の末端基が熱分解するとともに、当該熱分解によって
生じた低分子化合物が揮発した。これにより、サンプル１の光学用樹脂組成物を得た。室
温まで冷却されたサンプル１の光学用樹脂組成物は、厚さ１ｍｍ以下の板状であった。
まず、アルミニウム製のバットの上にアルミ箔を配置し、さらに、アルミ箔の光沢面の
上に粉末状の含フッ素重合体（Ａ）を配置した。バットをオーブンの内部に配置し、窒素
雰囲気下２７０℃で５時間、含フッ素重合体（Ａ）を熱処理した。窒素雰囲気は、オーブ
ン内に窒素を１Ｌ／ｍｉｎの流量で送り込むことによって調整した。窒素雰囲気における
水蒸気の濃度は、４０ｖｏｌｐｐｍであった。熱処理によって含フッ素重合体（Ａ）は溶
融した。溶融した含フッ素重合体（Ａ）の液面の高さは１ｍｍ以下であった。さらに、熱
処理により、含フッ素重合体（Ａ）の末端基が熱分解するとともに、当該熱分解によって
生じた低分子化合物が揮発した。これにより、サンプル１の光学用樹脂組成物を得た。室
温まで冷却されたサンプル１の光学用樹脂組成物は、厚さ１ｍｍ以下の板状であった。
（サンプル２）
熱処理の時間を２４時間に変更したことを除き、サンプル１と同じ方法によってサンプ
ル２の光学用樹脂組成物を得た。
熱処理の時間を２４時間に変更したことを除き、サンプル１と同じ方法によってサンプ
ル２の光学用樹脂組成物を得た。
（サンプル３）
熱処理を大気中で行ったことを除き、サンプル１と同じ方法によってサンプル３の光学
用樹脂組成物を得た。大気中の水蒸気の濃度は、１．４ｖｏｌ％であった。
熱処理を大気中で行ったことを除き、サンプル１と同じ方法によってサンプル３の光学
用樹脂組成物を得た。大気中の水蒸気の濃度は、１．４ｖｏｌ％であった。
（サンプル４）
熱処理の時間を２４時間に変更したことを除き、サンプル３と同じ方法によってサンプ
ル４の光学用樹脂組成物を得た。
熱処理の時間を２４時間に変更したことを除き、サンプル３と同じ方法によってサンプ
ル４の光学用樹脂組成物を得た。
［吸水率］
サンプル１〜４の光学用樹脂組成物について吸水率を測定した。まず、光学用樹脂組成
物から１ｃｍ角の測定用サンプルを切り出した。この測定用サンプルを水分吸脱着測定装
置（Ｈｉｄｅｎ社製のＩＧＡ−ＳＯＲＰ）にセットした。次に、測定用サンプルを８５℃
０％ＲＨの条件で６００分保持し、さらに、８５℃８５％ＲＨの条件で６００分保持した
。吸湿処理後の測定用サンプルの重量に対する吸湿処理による測定用サンプルの重量の増
加量の比率を吸水率として特定した。結果を表１に示す。なお、表１において、〇は、吸
水率が０．０５％以下であることを意味する。×は、吸水率が０．０５％より大きいこと
を意味する。
サンプル１〜４の光学用樹脂組成物について吸水率を測定した。まず、光学用樹脂組成
物から１ｃｍ角の測定用サンプルを切り出した。この測定用サンプルを水分吸脱着測定装
置（Ｈｉｄｅｎ社製のＩＧＡ−ＳＯＲＰ）にセットした。次に、測定用サンプルを８５℃
０％ＲＨの条件で６００分保持し、さらに、８５℃８５％ＲＨの条件で６００分保持した
。吸湿処理後の測定用サンプルの重量に対する吸湿処理による測定用サンプルの重量の増
加量の比率を吸水率として特定した。結果を表１に示す。なお、表１において、〇は、吸
水率が０．０５％以下であることを意味する。×は、吸水率が０．０５％より大きいこと
を意味する。
［内部透過率］
サンプル１〜４の光学用樹脂組成物について、ＪＯＧＩＳ １７−２０１２の規定に準
拠した以下の方法によって、光学用樹脂組成物から作製された厚さ１０ｍｍの板状の成形
体の波長８５０ｎｍの光に対する内部透過率を特定した。まず、アルミ箔で円筒を作製し
、円筒の底面をポリイミドテープで塞いだ。この円筒の内部に光学用樹脂組成物を充填し
た。次に、この円筒をハステロイ製のロッド作製用容器にセットした。容器の内部を真空
雰囲気にし、約２時間かけて容器の温度を２７０℃まで上昇させた。容器の温度が２７０
℃に到達してから３時間、容器を２７０℃で加熱した。次に、容器を室温までゆっくりと
冷却することによって、光学用樹脂組成物からロッドを成形した。ロッドは、底面の直径
が２０ｍｍであり、厚さが２０ｍｍである円柱形状であった。
サンプル１〜４の光学用樹脂組成物について、ＪＯＧＩＳ １７−２０１２の規定に準
拠した以下の方法によって、光学用樹脂組成物から作製された厚さ１０ｍｍの板状の成形
体の波長８５０ｎｍの光に対する内部透過率を特定した。まず、アルミ箔で円筒を作製し
、円筒の底面をポリイミドテープで塞いだ。この円筒の内部に光学用樹脂組成物を充填し
た。次に、この円筒をハステロイ製のロッド作製用容器にセットした。容器の内部を真空
雰囲気にし、約２時間かけて容器の温度を２７０℃まで上昇させた。容器の温度が２７０
℃に到達してから３時間、容器を２７０℃で加熱した。次に、容器を室温までゆっくりと
冷却することによって、光学用樹脂組成物からロッドを成形した。ロッドは、底面の直径
が２０ｍｍであり、厚さが２０ｍｍである円柱形状であった。
次に、ダイヤモンドホイールソーを用いて、作製したロッドから厚さ５ｍｍの円板Ｄ１
と厚さ１２ｍｍの円板Ｄ２とを切り出した。次に、円板Ｄ１をサンプルカップの内部に配
置した。このとき、円板Ｄ１の底面にカーボンテープを貼り付け、このカーボンテープに
よって円板Ｄ１をサンプルカップに固定した。次に、サンプルカップの内部に樹脂組成物
（Ｓｔｒｕｅｒｓ社製のＥＰＯＦＩＸ）を充填させ、当該樹脂組成物を硬化させた。これ
により、測定用サンプルＳ１を得た。測定用サンプルＳ１は、底面の直径が２５ｍｍであ
り、厚さが約５ｍｍである円柱形状であった。
と厚さ１２ｍｍの円板Ｄ２とを切り出した。次に、円板Ｄ１をサンプルカップの内部に配
置した。このとき、円板Ｄ１の底面にカーボンテープを貼り付け、このカーボンテープに
よって円板Ｄ１をサンプルカップに固定した。次に、サンプルカップの内部に樹脂組成物
（Ｓｔｒｕｅｒｓ社製のＥＰＯＦＩＸ）を充填させ、当該樹脂組成物を硬化させた。これ
により、測定用サンプルＳ１を得た。測定用サンプルＳ１は、底面の直径が２５ｍｍであ
り、厚さが約５ｍｍである円柱形状であった。
次に、測定用サンプルＳ１を自動卓上研磨機のサンプルホルダーにセットし、カーボン
テープが貼り付けられた側の測定用サンプルＳ１の底面に対して、以下の工程１〜６を行
った。
工程１ 「ＳｉＣ Ｐａｐｅｒ ♯１０００」で研磨し、カーボンテープを除去する。
工程２ Ｓｔｒｕｅｒｓ社製の「ＭＤ Ｓａｔ ９μｍ」で５分間研磨する。
工程３ Ｓｔｒｕｅｒｓ社製の「ＭＤ Ｓａｔ ６μｍ」で５分間研磨する。
工程４ Ｓｔｒｕｅｒｓ社製の「ＭＤ Ｄｕｒ ３μｍ」で１０分間研磨する。
工程５ Ｓｔｒｕｅｒｓ社製の「ＭＤ Ｎａｐ １μｍ」で５分間研磨する。
工程６ Ｓｔｒｕｅｒｓ社製の「ＭＤ Ｃｈｅｍ ＯＰ−Ｓ」で５分間研磨する。
テープが貼り付けられた側の測定用サンプルＳ１の底面に対して、以下の工程１〜６を行
った。
工程１ 「ＳｉＣ Ｐａｐｅｒ ♯１０００」で研磨し、カーボンテープを除去する。
工程２ Ｓｔｒｕｅｒｓ社製の「ＭＤ Ｓａｔ ９μｍ」で５分間研磨する。
工程３ Ｓｔｒｕｅｒｓ社製の「ＭＤ Ｓａｔ ６μｍ」で５分間研磨する。
工程４ Ｓｔｒｕｅｒｓ社製の「ＭＤ Ｄｕｒ ３μｍ」で１０分間研磨する。
工程５ Ｓｔｒｕｅｒｓ社製の「ＭＤ Ｎａｐ １μｍ」で５分間研磨する。
工程６ Ｓｔｒｕｅｒｓ社製の「ＭＤ Ｃｈｅｍ ＯＰ−Ｓ」で５分間研磨する。
工程１〜６によって研磨された底面をろ紙で保護した。次に、測定用サンプルＳ１を平面研磨用治具にセットし、測定用サンプルＳ１の底面に対向する面（上面）を研磨した。この研磨は、「ＳｉＣ Ｐａｐｅｒ ♯２２０」を用いて、測定用サンプルＳ１の厚さが約４ｍｍになるまで行った。このとき、測定用サンプルＳ１の厚さは、デジタルマイクロメータによって確認した。さらに、「ＳｉＣ Ｐａｐｅｒ ♯１０００」を用いて、測定用サンプルＳ１の厚さが約３．５ｍｍになるまで、測定用サンプルＳ１の上面を研磨した。さらに、測定用サンプルＳ１の上面に対して、上記の工程２〜６を行うことによって、厚さ約３．５ｍｍの測定用サンプルＳ１を得た。
次に、測定用サンプルＳ１と同じ方法によって、円板Ｄ２から厚さ１０ｍｍの測定用サンプルＳ２を得た。なお、研磨前の測定用サンプルＳ２は、底面の直径が２５ｍｍであり、厚さが約１２ｍｍである円柱形状であった。「ＳｉＣ Ｐａｐｅｒ ♯２２０」を用いた測定用サンプルＳ２の上面の研磨は、測定用サンプルＳ２の厚さが約１１ｍｍになるまで行った。「ＳｉＣ Ｐａｐｅｒ ♯１０００」を用いた測定用サンプルＳ２の上面の研磨は、測定用サンプルＳ２の厚さが約１０．５ｍｍになるまで行った。
次に、測定用サンプルＳ１及びＳ２のそれぞれについて、ＪＩＳ Ｚ８７２２：２００
９の規定に準拠して、フレネル反射による反射損失を含む分光透過率を測定した。分光透
過率の測定は、日立ハイテクサイエンス社製の紫外可視近赤外分光光度計ＵＨ４１５０を
用いて、測定波長２００ｎｍ〜１３００ｎｍ、サンプリング間隔１ｎｍ、スキャンスピー
ド６００ｎｍ／ｍｉｎの条件で行った。得られた分光透過率から、以下の数式（１）に基
づいて、光学用樹脂組成物から作製された厚さ１０ｍｍの板状の成形体の波長８５０ｎｍ
の光に対する内部透過率を特定した。結果を表１に示す。
９の規定に準拠して、フレネル反射による反射損失を含む分光透過率を測定した。分光透
過率の測定は、日立ハイテクサイエンス社製の紫外可視近赤外分光光度計ＵＨ４１５０を
用いて、測定波長２００ｎｍ〜１３００ｎｍ、サンプリング間隔１ｎｍ、スキャンスピー
ド６００ｎｍ／ｍｉｎの条件で行った。得られた分光透過率から、以下の数式（１）に基
づいて、光学用樹脂組成物から作製された厚さ１０ｍｍの板状の成形体の波長８５０ｎｍ
の光に対する内部透過率を特定した。結果を表１に示す。
上記の数式（１）において、τは、厚さＬｍｍ（１０ｍｍ）の板状の成形体の内部透過
率を意味する。ａは、以下の数式（２）によって算出される値である。なお、数式（２）
において、ｄ1は、測定用サンプルＳ１の厚さ（ｍｍ）を意味し、ｄ2は、測定用サンプル
Ｓ２の厚さ（ｍｍ）を意味する。Ｔ1は、測定用サンプルＳ１の波長８５０ｎｍの光に対
する透過率を意味し、Ｔ2は、測定用サンプルＳ２の波長８５０ｎｍの光に対する透過率
を意味する。Ｔ1及びＴ2は、それぞれ、フレネル反射による反射損失を含んでいる。
率を意味する。ａは、以下の数式（２）によって算出される値である。なお、数式（２）
において、ｄ1は、測定用サンプルＳ１の厚さ（ｍｍ）を意味し、ｄ2は、測定用サンプル
Ｓ２の厚さ（ｍｍ）を意味する。Ｔ1は、測定用サンプルＳ１の波長８５０ｎｍの光に対
する透過率を意味し、Ｔ2は、測定用サンプルＳ２の波長８５０ｎｍの光に対する透過率
を意味する。Ｔ1及びＴ2は、それぞれ、フレネル反射による反射損失を含んでいる。
表１において、〇は、上記の方法で特定した内部透過率が９８％以上であることを意味
する。×は、上記の方法で特定した内部透過率が９８％未満であることを意味する。
する。×は、上記の方法で特定した内部透過率が９８％未満であることを意味する。
表１からわかるとおり、含フッ素重合体（Ａ）について、水蒸気の濃度が１００ｖｏｌ
ｐｐｍ以下である雰囲気下で熱処理を行うことによって得られたサンプル１及び２の光学
用樹脂組成物は、水蒸気の濃度が１００ｖｏｌｐｐｍを上回る雰囲気下で熱処理を行うこ
とによって得られたサンプル３及び４の光学用樹脂組成物に比べて吸水率が低かった。サ
ンプル１及び２の光学用樹脂組成物は、吸水率が低く、水をほとんど含まないため、当該
光学用樹脂組成物から作製された厚さ１０ｍｍの板状の成形体の波長８５０ｎｍの光に対
する内部透過率が高い値になった。
ｐｐｍ以下である雰囲気下で熱処理を行うことによって得られたサンプル１及び２の光学
用樹脂組成物は、水蒸気の濃度が１００ｖｏｌｐｐｍを上回る雰囲気下で熱処理を行うこ
とによって得られたサンプル３及び４の光学用樹脂組成物に比べて吸水率が低かった。サ
ンプル１及び２の光学用樹脂組成物は、吸水率が低く、水をほとんど含まないため、当該
光学用樹脂組成物から作製された厚さ１０ｍｍの板状の成形体の波長８５０ｎｍの光に対
する内部透過率が高い値になった。
本実施形態の製造方法によって得られた光学用樹脂組成物は、プラスチック光ファイバ
ー、光導波路用材料、光学レンズ、プリズム、フォトマスクなどの光学部材の材料に適し
ており、特に、プラスチック光ファイバー、光導波路用材料、及び光学レンズの材料に好
適である。
ー、光導波路用材料、光学レンズ、プリズム、フォトマスクなどの光学部材の材料に適し
ており、特に、プラスチック光ファイバー、光導波路用材料、及び光学レンズの材料に好
適である。
Claims (9)
- 炭素−炭素二重結合を有する含フッ素化合物を含む単量体群を有機過酸化物により重合
させることによって得られた含フッ素重合体について、水蒸気の濃度が１００ｖｏｌｐｐ
ｍ以下である雰囲気下で熱処理を行うことを含む、光学用樹脂組成物の製造方法。 - 前記熱処理によって、前記含フッ素重合体の末端基を熱分解するとともに、当該熱分解
により生じた低分子化合物を揮発させる、請求項１に記載の製造方法。 - 前記熱処理によって前記含フッ素重合体の末端基を下記式（１）で表される官能基に変
化させる、請求項１又は２に記載の製造方法。
- 前記有機過酸化物が過酸化ジアシル又は過酸化エステルを含む、請求項１〜３のいずれ
か１項に記載の製造方法。 - 前記雰囲気が実質的に窒素ガスからなる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の製造方
法。 - 前記熱処理の温度が１００℃以上４００℃以下である、請求項１〜５のいずれか１項に
記載の製造方法。 - 前記炭素−炭素二重結合が前記含フッ素化合物の末端に位置し、当該二重結合を構成す
る炭素原子に結合している全ての水素原子がフッ素原子に置換されている、請求項１〜６
のいずれか１項に記載の製造方法。 - 前記含フッ素化合物が下記式（２）で表される、請求項１〜７のいずれか１項に記載の
製造方法。
ルキル基、又は炭素数１〜７のパーフルオロアルキルエーテル基を表す。Ｒff 1及びＲff 2
は、連結して環を形成してもよい。］ - 前記含フッ素化合物が下記式（３）で表される、請求項８に記載の製造方法。
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| CN101434670B (zh) * | 2008-12-12 | 2010-09-08 | 山东东岳神舟新材料有限公司 | 一种高链规整度聚偏氟乙烯的制备方法 |
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- 2019-12-04 JP JP2019219758A patent/JP7395338B2/ja active Active
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- 2020-12-04 US US17/782,337 patent/US20230060316A1/en active Pending
-
2023
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