|
JPS5072911A
(https=)
*
|
1973-10-30 |
1975-06-16 |
|
|
|
JPH0682727B2
(ja)
*
|
1986-02-18 |
1994-10-19 |
ホ−ヤ株式会社 |
検査用基板とその製造方法
|
|
JPH06103272B2
(ja)
*
|
1988-01-21 |
1994-12-14 |
株式会社日立製作所 |
Ｘ線露光用マスクのマスク上異物検査方法
|
|
JP2731914B2
(ja)
*
|
1988-08-25 |
1998-03-25 |
ホーヤ株式会社 |
検査用基板およびその製造方法
|
|
US5242711A
(en)
*
|
1991-08-16 |
1993-09-07 |
Rockwell International Corp. |
Nucleation control of diamond films by microlithographic patterning
|
|
JP3253177B2
(ja)
*
|
1993-06-15 |
2002-02-04 |
キヤノン株式会社 |
表面状態検査装置
|
|
JP3624359B2
(ja)
*
|
1995-10-18 |
2005-03-02 |
富士通株式会社 |
光変調素子、その製造方法、及び、光学装置
|
|
US6137570A
(en)
*
|
1998-06-30 |
2000-10-24 |
Kla-Tencor Corporation |
System and method for analyzing topological features on a surface
|
|
US7061601B2
(en)
*
|
1999-07-02 |
2006-06-13 |
Kla-Tencor Technologies Corporation |
System and method for double sided optical inspection of thin film disks or wafers
|
|
WO2002040970A1
(en)
*
|
2000-11-15 |
2002-05-23 |
Real Time Metrology, Inc. |
Optical method and apparatus for inspecting large area planar objects
|
|
US6608321B1
(en)
*
|
2001-02-01 |
2003-08-19 |
Advanced Micro Devices, Inc. |
Differential wavelength inspection system
|
|
JP2003177100A
(ja)
*
|
2001-12-12 |
2003-06-27 |
Sumitomo Mitsubishi Silicon Corp |
鏡面面取りウェーハの品質評価方法
|
|
US6781688B2
(en)
*
|
2002-10-02 |
2004-08-24 |
Kla-Tencor Technologies Corporation |
Process for identifying defects in a substrate having non-uniform surface properties
|
|
US20060008749A1
(en)
*
|
2004-07-08 |
2006-01-12 |
Frank Sobel |
Method for manufacturing of a mask blank for EUV photolithography and mask blank
|
|
WO2007039161A1
(en)
*
|
2005-09-27 |
2007-04-12 |
Schott Ag |
Mask blanc and photomasks having antireflective properties
|
|
JP2006270111A
(ja)
*
|
2006-04-21 |
2006-10-05 |
Hitachi Ltd |
半導体デバイスの検査方法及びその装置
|
|
DE102008022792A1
(de)
*
|
2008-05-08 |
2009-11-26 |
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. |
Elektrostatisches Halteelement mit Antireflexbeschichtung, Vermessungsverfahren und Verwendung des Halteelementes
|
|
JP5564807B2
(ja)
*
|
2009-03-12 |
2014-08-06 |
株式会社日立ハイテクノロジーズ |
欠陥検査装置及び欠陥検査方法
|
|
JP2010267934A
(ja)
*
|
2009-05-18 |
2010-11-25 |
Panasonic Corp |
太陽電池およびその製造方法
|
|
WO2010147846A2
(en)
*
|
2009-06-19 |
2010-12-23 |
Kla-Tencor Technologies Corporation |
Inspection systems and methods for detecting defects on extreme ultraviolet mask blanks
|
|
JP5297930B2
(ja)
*
|
2009-07-29 |
2013-09-25 |
株式会社日立ハイテクノロジーズ |
欠陥検査装置およびその方法
|
|
CN102117850B
(zh)
*
|
2010-11-12 |
2012-09-19 |
北京大学 |
微纳复合结构的太阳能电池及其制备方法
|
|
WO2012075351A2
(en)
*
|
2010-12-03 |
2012-06-07 |
Bae Systems Information And Electronic Systems Integration Inc. |
Asymmetric slotted waveguide and method for fabricating the same
|
|
JP5988690B2
(ja)
*
|
2012-05-18 |
2016-09-07 |
浜松ホトニクス株式会社 |
分光センサ
|
|
DE102014204171A1
(de)
|
2014-03-06 |
2015-09-24 |
Carl Zeiss Smt Gmbh |
Optisches Element und optische Anordnung damit
|
|
JP6044849B2
(ja)
*
|
2014-03-24 |
2016-12-14 |
コニカミノルタ株式会社 |
処理装置および粒子固定方法
|
|
US9599573B2
(en)
*
|
2014-12-02 |
2017-03-21 |
Kla-Tencor Corporation |
Inspection systems and techniques with enhanced detection
|
|
WO2017025373A1
(en)
*
|
2015-08-12 |
2017-02-16 |
Asml Netherlands B.V. |
Inspection apparatus, inspection method and manufacturing method
|
|
JP6482993B2
(ja)
*
|
2015-09-04 |
2019-03-13 |
シャープ株式会社 |
照明装置
|
|
JP2017054105A
(ja)
*
|
2015-09-11 |
2017-03-16 |
旭硝子株式会社 |
マスクブランク
|