JP2020167252A5 - - Google Patents

Claims (9)

1. 光透過性を有する基板を洗浄する基板洗浄装置であって、
   前記基板を搬送する基板搬送機構と、
   前記基板搬送機構により搬送される前記基板の一方の表面に対し、接触させて洗浄する洗浄ローラ部と、
   前記一方の表面に接触された前記洗浄ローラ部の接触面の状態を前記基板の他方の表面の側から画像として取得する画像取得部と、
   前記画像取得部で取得した前記接触面の画像に基づいて、前記接触面が所定の基準に基づく接触状態であるか否かを判定する画像判定手段と、
   を有する基板洗浄装置。
2. 前記基板は、その表面に複数の素子が形成された基板であり、
   前記画像判定手段は、前記画像取得部で取得した前記接触面の画像の、前記基板の搬送方向における前記基板と前記洗浄ローラ部の接触面が含まれる前記素子の数をカウントし、カウントした前記素子の数と予め設定した基準数とを比較することで、前記接触面が所定の基準に基づく接触状態であるか否かを判定することを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
3. 前記所定の基準に基づく接触状態は、前記基板の搬送方向と交わる方向に設けた前記接触面の計測地点において、前記接触面の前記基板の搬送方向の長さが所定の範囲の長さにある接触状態であるとする請求項１に記載の基板洗浄装置。
4. 前記洗浄ローラ部は、前記基板の搬送方向と交わる方向を軸方向とする回転軸と、前記回転軸を包み込む円筒形状のスポンジ体により形成され、
   前記洗浄ローラ部の表面を押圧する押圧軸体と、前記押圧軸体を移動させる押圧移動体とを備える押圧部と、
   前記押圧部の位置を調整する押圧調整手段と、を有し、
   前記画像判定手段により前記接触面が前記所定の基準に基づく接触状態でないと判定されたときに、前記押圧調整手段は、前記押圧移動体により前記押圧軸体を移動させて前記接触面を前記所定の基準に基づく接触状態に調整する請求項１乃至３のいずれかに記載の基板洗浄装置。
5. 前記押圧軸体は、前記洗浄ローラ部の前記回転軸と平行に設けられ、前記押圧部は前記押圧軸体を中心に回転しながら前記洗浄ローラ部を押圧することを特徴とする請求項４記載の基板洗浄装置。
6. さらに、前記洗浄ローラ部を昇降移動させる昇降移動部と、前記昇降移動部を移動させて前記接触面を所定の基準に基づく接触状態に調整する昇降調整手段と、を有し、前記画像判定手段により前記接触面が前記所定の基準に基づく接触状態でないと判定されたときに、前記押圧調整手段による接触面の調整に加え、又は前記押圧調整手段による接触面の調整に替えて、前記昇降調整手段は、前記洗浄ローラ部を昇降移動させて前記接触面を前記所定の基準に基づく接触状態に調整する請求項４又は５に記載の基板洗浄装置。
7. 光透過性を有する基板を洗浄する基板洗浄方法であって、
   搬送される前記基板の一方の表面に対し、洗浄ローラ部を回転接触させて洗浄する洗浄工程と、
   前記一方の表面に接触された前記洗浄ローラ部の接触面の画像を前記基板の他方の表面の側から前記接触面が所定の基準に基づく接触状態であるか否かを判定する判定工程と、
   前記判定工程における判定に基づいて、前記洗浄ローラ部の接触状態を調整する洗浄ローラ部調整工程と、
   を有する基板洗浄方法。
8. 前記基板は、表面に前記所定の基準に基づく接触状態の接触面の範囲を示す表示がされたガラス又は合成樹脂製の基板である請求項７に記載の基板洗浄方法。
9. 基板を洗浄ローラ部によって洗浄する基板洗浄方法であって、
   洗浄対象とは別の、基準位置が表示された透光性を有するダミー基板を搬送し、前記ダミー基板の一方の表面に対し、前記洗浄ローラ部を接触させる工程と、
   前記ダミー基板の一方の表面に接触された前記洗浄ローラ部の接触面と、前記ダミー基板の前記基準位置とを比較することによって前記接触面が所定の基準に基づく接触状態であるか否かを判定する判定工程と、
   前記判定工程における判定に基づいて、前記洗浄ローラ部の接触状態を調整する洗浄ローラ部調整工程と、
   前記洗浄ローラ部調整工程において接触状態を調整された前記洗浄ローラ部を前記基板の一方の表面に対し回転接触させて洗浄する洗浄工程と、
   を有する基板洗浄方法。