JP2020164434A - 2,6−ナフタレンビス(2−オキサゾリン)の製造方法 - Google Patents

2,6−ナフタレンビス(2−オキサゾリン)の製造方法 Download PDF

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【課題】本発明は、高純度の2,6−ナフタレンビス(2−オキサゾリン)を高収率で得られる製造方法を提供することを課題とする。【解決手段】本発明は、塩基の存在下、溶媒中で式(1)[式中、Xは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を示す]で表される化合物を環化反応する工程を含む、式(2)で表される2,6−ナフタレンビス(2−オキサゾリン)の製造方法に関する。【選択図】なし

Description

本発明は、2,6−ナフタレンビス(2−オキサゾリン)の製造方法に関する。
2,6−ナフタレンビス(2−オキサゾリン)(以下、NBOとも称する)はナフタレンに2つのオキサゾリン基が結合した化合物であり、主に樹脂の改質剤としての用途が提案されている。
例えば、特許文献1には、オキサゾリン環含有化合物を0.01〜10重量%含有する全芳香族ポリアミド組成物について、該組成物を成形後に加熱することで、強度、伸度、モジュラスなどの機械的物性が改善されることが記載されている。
また、特許文献2には100重量部のポリ乳酸および0.01〜10重量部の芳香族オキサゾリンを含有する組成物が、カルボジイミド系の改質剤を添加したポリ乳酸組成物と比較して、色相良好で耐湿熱安定性、溶融粘度変化率に優れることが記載されている。
しかしながら、NBOの製造方法は未だに確立されておらず、高純度のNBOを高収率で得られる製造方法が所望されていた。
特開平5−194731号公報 特開2010−168504号公報
本発明の目的は、高純度の2,6−ナフタレンビス(2−オキサゾリン)を高収率で得られる製造方法を提供することにある。
本発明は、塩基の存在下、溶媒中で式(1)
Figure 2020164434
[式中、Xは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を示す]
で表される化合物を環化反応する工程を含む、式(2)
Figure 2020164434
で表される2,6−ナフタレンビス(2−オキサゾリン)の製造方法に関する。
本発明の製造方法によると、高純度の2,6−ナフタレンビス(2−オキサゾリン)を高収率で得ることができる。
式(1)で表される化合物において、式中、Xは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子である。式(1)で表される化合物としては、Xが塩素原子である、すなわち、式(1)−1で表されるジクロロ体が好ましい。
Figure 2020164434
式(1)−1で表される化合物の製造方法としては、式(3)で表されるジオールと塩化チオニル、臭化チオニルまたはヨウ化チオニルとを反応させる方法が挙げられる。
Figure 2020164434
式(3)で表される化合物の製造方法としては、式(4)で表される2,6−ナフタレンジカルボン酸ジメチルエステルと2−アミノエタノールとを反応させる方法が挙げられる。
Figure 2020164434
本発明の製造方法において、式(1)で表される化合物を環化反応する工程は、塩基の存在下で実施される。塩基としては、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ピリジンおよびトリエチルアミンからなる群から選択される一種以上が挙げられる。この中で、反応性に優れる点で、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムからなる群から選択される1種以上が好ましい。
塩基の使用量は、特に限定されないが、通常、式(1)で表される化合物に対して0.5〜10モル当量が好ましく、1〜4モル当量がより好ましい。
本発明の製造方法において、式(1)で表される化合物を環化反応する工程は、溶媒の存在下で実施される。溶媒としては、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、クロロベンゼン、ヘキサン、ヘプタン、デカン、ニトロベンゼン、二硫化炭素、ジクロロメタン、ジクロロエタン、スルホラン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、四塩化炭素、ニトロメタン、アセトニトリルおよび軽油からなる群から選択される溶媒が挙げられ、これらの2種以上を組み合わせて用いることもできる。これらの溶媒の中でも、反応性に優れる点でN,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、テトラヒドロフランおよびキシレンからなる群から選択される一種または2種以上の組合せが好ましく、特にN,N−ジメチルホルムアミドが好ましい。
溶媒の使用量は、式(1)で表される化合物に対して通常1倍質量以上、好ましくは2〜30倍質量、より好ましくは4〜20倍質量である。
式(1)で表される化合物の環化反応は、通常20〜200℃の温度下で行われ、好ましくは40〜150℃、より好ましくは50〜120℃の温度下で行う。20℃より低温では、反応が進行し難い傾向があり、200℃より高温では、オートクレーブ等の特殊な装置が必要となる可能性がある。
かかる反応により得られたNBOは、さらに精製工程を経ることで、より高純度のものとすることができる。精製工程において再結晶および/または懸濁洗浄を行うことができる。中でも不純物除去効果に優れる点で、精製工程は少なくとも再結晶を含むことが好ましい。
以下、再結晶について説明する。
再結晶では、まず、前記反応工程で得られたNBOを含む粗組成物を溶媒に溶解させる。NBOを含む粗組成物(以下、粗NBOとも称する)とは、目的物であるNBO以外に、未反応の原料や触媒および反応副生物などの不純物を含む組成物を意味する。不純物の含有量は反応方法によっても異なるが、粗組成物中において通常1〜20質量%、好ましくは3〜10質量%である。
再結晶に用いる溶媒としては、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、酢酸プロピルおよび酢酸ブチルが挙げられ、これらの溶媒からなる群から選択される1種以上を用いることができる。
これらの中でも、不純物除去効果に優れる点で、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミドが好ましく、特に回収率に優れることからN−メチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミドがより好ましい。
再結晶における溶媒の使用量は、溶媒の種類によっても異なるが、粗NBOに対して通常2〜30倍質量であり、好ましくは4〜20倍質量である。溶媒が粗NBOに対して2倍質量を下回る場合、原料や触媒あるいは副生物などの不純物が結晶中に取り込まれてしまい高純度の結晶を得ることが困難になる傾向があり、20倍質量を上回る場合、NBOの収量が減少する傾向がある。
再結晶において、NBOを含む粗組成物を溶媒に溶解する際の温度は、用いる溶媒の種類および混合比率によって異なるため特に限定されないが、好ましくは20〜200℃、より好ましくは40〜150℃、さらに好ましくは60〜130℃である。
粗組成物が溶解した溶液は、次いで晶析に供される。
晶析は、好ましくは0〜80℃、より好ましくは、5〜60℃、さらに好ましくは10〜40℃の温度下で攪拌しながら行われる。晶析は、常温で行うこともできる。尚、晶析の前に不溶物をろ過して除去するのが好ましい。
晶析温度が0℃を下回る場合、原料や触媒あるいは副生物などの不純物が結晶中に取り込まれてしまい、高純度の結晶を得ることが困難になる傾向がある。晶析温度が80℃を上回る場合、NBOの収量が減少する傾向がある。
晶析によって析出した結晶は、濾過等の常套手段により固液分離し、目的物であるNBOを回収する。固液分離に際し、適宜有機溶媒または水を注いで結晶を洗浄するのが好ましい。式(1)で表される化合物を環化反応する工程において使用し得る前記溶媒は、上記洗浄に用いる有機溶媒としても用いることができる。環化反応する工程において用いた溶媒と同じ溶媒を、上記洗浄においても使用することが好ましい。洗浄に用いる有機溶媒または水は、NBOに対し0.5〜2倍質量使用するのが好ましい。
固液分離によって回収された結晶は、常圧下において通風乾燥するか、減圧下で乾燥し、溶媒を留去することによって、高純度のNBOを得ることができる。
以下、懸濁洗浄について説明する。
懸濁洗浄では、前記反応工程で得られたNBOを含む粗組成物を、溶媒に溶解させずに若しくは一部のみを溶解させて、懸濁状態を形成させることにより洗浄を行う。懸濁洗浄では、上記粗組成物の溶媒への溶解度は通常5質量%以下であり、好ましくは1質量%以下であることが、洗浄に適した懸濁状態を容易に形成させることができ、特に含有金属を効率的に除去し得るため、望ましい。
懸濁洗浄に用いる溶媒としては、再結晶で用いられる溶媒の他、水を用いることも可能であるが、再結晶で用いられる溶媒とは異なる溶媒を用いることも可能である。再結晶で用いられる溶媒とは異なる溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、ジエチルエーテルなどを挙げることができる。
懸濁洗浄における溶媒の使用量は、溶媒の種類によっても異なるが、粗NBOに対して通常2〜30倍質量であり、好ましくは3〜20倍質量である。溶媒が粗NBOに対して2倍質量を下回る場合、原料や触媒あるいは副生物などの不純物が結晶中に取り込まれてしまい高純度の結晶を得ることが困難になる傾向があり、20倍質量を上回る場合、NBOの収量が著しく減少する傾向がある。
懸濁洗浄において、洗浄する際の温度は、用いる溶媒の種類および混合比率によって異なるため特に限定されないが、好ましくは20℃〜250℃、より好ましくは40℃〜200℃、さらに好ましくは50〜150℃である。
懸濁洗浄後は、濾過等の常套手段により固液分離し、目的物であるNBOを回収する。固液分離に際し、適宜有機溶媒または水を注いで結晶を洗浄するのが好ましい。式(1)で表される化合物を環化反応する工程において使用し得る前記溶媒は、上記洗浄に用いる有機溶媒としても用いることができる。環化反応する工程において用いた溶媒と同じ溶媒を、上記洗浄においても使用することが好ましい。洗浄に用いる有機溶媒または水は、NBOに対し0.5〜2倍質量使用するのが好ましい。
固液分離によって回収された結晶は、常圧下において通風乾燥するか、減圧下で乾燥し、溶媒を留去することによって、高純度のNBOを得ることができる。
懸濁洗浄後に回収されたNBOに対して、さらに上記の再結晶の操作を施すこともできる。
以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。
NBOは以下の方法によって分析した。
<高速液体クロマトグラフィー(HPLC)>
装置: Waters UPLC H−Class システム
カラム型番: ACQUITY UPLC HSS C18 1.8μm 2.1×50mm
液量: 0.5mL/分
溶媒比: HO(pH2.3)/MeOH=90/10→15min→10/90
波長: 242nm
カラム温度: 40℃
[参考例1]<式(3)で表されるジオールの合成)>
Figure 2020164434
攪拌機、温度センサーおよびディーン・スターク装置の付いた1Lの4ツ口フラスコに2,6−ナフタレンジカボン酸ジメチルエステル(NDC)122.1g、2−アミノエタノール617.0gを仕込み、窒素気流下120℃で3時間反応した。反応混合液を90℃まで冷却した後、水617.0g、48%NaOH水溶液8.4gを添加して、80℃で2時間保持し、30℃まで冷却した。冷却した反応混合液を吸引ろ過して、水244.2gで洗浄した。ろ過物を10hPa、60℃で乾燥することで粗ジオール体148.4gを得た。1Lの4ツ口フラスコに粗ジオール体148.4gとN,N−ジメチルホルムアミド672.7gを仕込み、窒素気流下158℃まで昇温した後、20℃まで冷却した。析出物を吸引ろ過にてろ別して更にメタノール122.1gにて洗浄した。ろ過物を10hPa、60℃で減圧乾燥することにより式(3)で表されるジオール体140.9g(収率93.2%)を得た。
[参考例2]<式(1)−1で表されるジクロロ体の合成>
Figure 2020164434
攪拌機、温度計および滴下管の付いた300mLの4ツ口フラスコに参考例1で得られた式(3)で表されるジオール体9.4g、ジクロロメタン188.4gを仕込み、氷冷しながら攪拌した。混合液を7℃以下に保持し、塩化チオニル8.9gを滴下管で40分かけて滴下した。反応液を室温まで昇温して室温にて1日間反応させた。反応液を吸引ろ過してジクロロメタン18.8gで洗浄し、固形物を取り出した。攪拌機の付いた300mL4ツ口フラスコに回収した固形物と5%炭酸水素ナトリウム水溶液125gを加え室温にて1時間攪拌した。吸引ろ過にて粗ジクロロ体を回収し、水31.1gにて洗浄した。10hPa、50℃にて乾燥し、式(1)−1で表されるジクロロ体を9.7g(収率91.6%)得た。
[実施例1]<式(2)で表されるNBOの合成>
Figure 2020164434
攪拌機、温度センサーの付いた200mLの4ツ口フラスコに参考例2で得られた式(1)−1で表されるジクロロ体8.2g、N,N−ジメチルホルムアミド82.2g、炭酸カリウム10.1gを仕込み、窒素気流下80℃で12時間反応した。反応液を25℃まで冷却後、水82.2gを加えて2時間攪拌した。反応液を吸引ろ過して水32.9gで洗浄した。粗NBOを回収して通風乾燥器を使用して80℃で乾燥することで粗NBO6.1gを得た(収率94.8%、80.9面積%)
[実施例2]<式(2)で表されるNBOの合成>
攪拌機、温度センサーの付いた300mLの4ツ口フラスコに参考例2で得られた式(1)−1で表されるジクロロ体9.6g、THF96.2g、48%水酸化ナトリウム水溶液10.0gを仕込み、窒素気流下65℃で15時間反応した。反応液を25℃まで冷却後、水48.1gを加えて攪拌した。反応液を吸引ろ過して水28.9gで洗浄した。粗NBOを回収して通風乾燥器を使用して80℃で乾燥することで粗NBO7.2gを得た(収率95.9%、85.1面積%)
[実施例3](N,N−ジメチルホルムアミド懸濁洗浄によるNBOの精製)
攪拌機、温度センサーのついた100mLの4ツ口フラスコに実施例1で得られた粗NBO6.1gおよびN,N−ジメチルホルムアミド38.9gを加え、80℃まで昇温して懸濁状態で2時間攪拌した。30℃までゆっくりと冷却した後、吸引ろ過にてNBOを回収し、メタノール12.1gで洗浄した。10hPa、70℃で乾燥することによりNBO5.0g(回収率76.2%、99.8面積%)を得た。
[実施例4](N−メチルピロリドン再結晶によるNBOの精製)
攪拌機、温度センサーのついた1Lの4ツ口フラスコに粗NBO(86.3面積%)38.4g、N−メチルピロリドン537.6gを加え、110℃まで昇温してNBOを溶解させ、熱時ろ過を行った。ろ液を回収し22℃まで冷却した。析出物を吸引ろ過にて回収し、メタノール38.4gで洗浄した。10hPa、60℃で乾燥することによりNBOを27.2g(回収率70.8%、99.9面積%)得た。

Claims (6)

  1. 塩基の存在下、溶媒中で式(1)
    Figure 2020164434
    [式中、Xは塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を示す]
    で表される化合物を環化反応する工程を含む、式(2)
    Figure 2020164434
    で表される2,6−ナフタレンビス(2−オキサゾリン)の製造方法。
  2. 塩基は、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムからなる群から選択される1種以上である、請求項1に記載の方法。
  3. 溶媒は、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、トルエン、テトラヒドロフランおよびキシレンからなる群から選択される一種以上である、請求項1または2に記載の方法。
  4. さらに精製工程を含む、請求項1〜3のいずれかに記載の方法。
  5. 精製工程において再結晶および/または懸濁洗浄を行う、請求項4に記載の方法。
  6. 再結晶および/または懸濁洗浄は、溶媒としてN,N−ジメチルホルムアミドまたはN−メチルピロリドンを用いて行われる、請求項5に記載の方法。
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