JP2020051965A - Breaking test device and method for recovering fragments - Google Patents

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Abstract

To recover fragments of a broken chip.SOLUTION: A breaking test device for chips comprises: a chip breakdown unit capable of breaking a chip; and a fragment recovery unit provided below the chip breakdown unit and having a fragment retention surface for retaining fragments of the chip broken by the chip breakdown unit on its front face. The chip breakdown unit breaks the chip so that the original point of breakdown of the broken chip faces the fragment retention surface of the fragment recovery unit. The fragment retention surface of the fragment recovery unit may be along a horizontal plane. The chip breakdown unit includes: a first chip support part having a first face along the vertical direction; and a second chip support part having a second face along the vertical direction facing the first face, and may include a chip pinching unit capable of pinching a chip which is curved in the U shape, and a movement unit for relatively moving the first chip support part and the second chip support part in a direction approaching each other.SELECTED DRAWING: Figure 4

Description

本発明は、チップを破壊して該チップの性質を解析する際に使用される破壊試験装置及び破壊されたチップの破片を回収する破片回収方法に関する。   The present invention relates to a destructive test apparatus used for analyzing a property of a chip by breaking the chip and a method for collecting broken pieces of the chip.

デバイスが搭載されたチップは、半導体材料等で形成されたウェーハを分割して形成される。まず、ウェーハの表面に互いに交差する複数の分割予定ラインを設定し、該分割予定ラインによって区画される領域のそれぞれにIC(Integrated Circuit)やLSI(Large-Scale Integrated circuit)等のデバイスを形成する。そして、該分割予定ラインに沿って該ウェーハを分割すると、デバイスを有する個々のチップが形成される。   A chip on which a device is mounted is formed by dividing a wafer made of a semiconductor material or the like. First, a plurality of divided lines that intersect each other are set on the surface of the wafer, and devices such as an IC (Integrated Circuit) and an LSI (Large-Scale Integrated circuit) are formed in each of the regions defined by the divided lines. . Then, when the wafer is divided along the dividing lines, individual chips having devices are formed.

近年、形成されたチップが搭載される電子機器等の小型化の傾向が著しく、チップ自体に対しても小型化や薄型化のニーズが高まっている。そこで、薄型のチップを形成するために、ウェーハを分割する前にウェーハの裏面側を研削してウェーハを薄化する場合がある。   In recent years, there has been a remarkable tendency to reduce the size of electronic devices or the like on which the formed chip is mounted, and the need for a reduction in the size and thickness of the chip itself has increased. Therefore, in order to form a thin chip, the wafer may be thinned by grinding the back surface side of the wafer before dividing the wafer.

ところで、形成されたチップに大きな衝撃が加わると、該チップにクラックや割れ等の損傷が生じてデバイスの機能が失われる場合がある。例えば、形成されたチップの抗折強度が小さい場合、該チップに損傷が生じ易い傾向にある。   By the way, if a large impact is applied to the formed chip, the chip may be damaged such as cracks or cracks, and the function of the device may be lost. For example, when the formed chip has low bending strength, the chip tends to be easily damaged.

チップの抗折強度は、例えば、ウェーハを薄化する際に実施された研削により裏面側に形成された凹凸等の形状や、薄化されたウェーハの厚さ、ウェーハを分割した際にチップの外周縁に生じる欠けやクラックの形成状態等により変化する。また、チップの抗折強度は、デバイスのパターンの形状や、デバイスを構成する部材の材質等により変化する。   The die strength of the chip, for example, the shape of the irregularities formed on the back side by grinding performed when thinning the wafer, the thickness of the thinned wafer, the chip of the chip when the wafer is divided It varies depending on the state of chipping or crack formation on the outer peripheral edge. Further, the bending strength of the chip changes depending on the shape of the device pattern, the material of members constituting the device, and the like.

そこで、抗折強度の高いチップを製造するために、ウェーハを様々な加工条件により加工してチップを試作し、試作した様々なチップの抗折強度を評価する。そして、評価の結果に基づき、より好ましいウェーハの加工条件を選定する。チップの抗折強度を評価する手法には、例えば、SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International)規格G86−0303で規定される3点曲げ(3-Point Bending)法がある。   Therefore, in order to manufacture chips having high bending strength, a wafer is processed under various processing conditions to produce chips, and the bending strength of various prototype chips is evaluated. Then, based on the result of the evaluation, a more preferable wafer processing condition is selected. As a method of evaluating the bending strength of a chip, for example, there is a three-point bending method defined by SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) standard G86-0303.

3点曲げ法では、板状の測定対象物の抗折強度を測定する際に、2つの円柱状の支持体を倒して互いに平行に並べ、該測定対象物を該支持体の側面上に該支持体に対して固定せずに載せる。そして、円柱状の圧子を該2つの支持体の間の該測定対象物の上方に、該2つの支持体に平行に配置する。その後、該圧子により該測定対象物を上方から押圧して破壊し、その時に該測定対象物に加えられていた荷重を該測定対象物の抗折強度として評価する(特許文献1参照)。   In the three-point bending method, when measuring the bending strength of a plate-shaped measurement object, two columnar supports are tilted and arranged in parallel with each other, and the measurement object is placed on a side surface of the support. Place without fixing to the support. Then, a cylindrical indenter is arranged above the object to be measured between the two supports and parallel to the two supports. Then, the measurement object is pressed from above by the indenter and broken, and the load applied to the measurement object at that time is evaluated as the bending strength of the measurement object (see Patent Document 1).

さらに、チップがどのように破壊されていくか、破壊が進行する過程や仕組みが明らかであると、抗折強度が高く破壊されにくいチップを製造できる加工条件を導出するのに有利である。3点曲げ法によりチップの破壊が進行する過程については、これまでに多数の解析がなされており、その仕組みも明らかとなっている。   Furthermore, it is advantageous to derive the processing conditions for manufacturing a chip having a high transverse rupture strength and being difficult to break if the manner in which the chip is broken and the process and mechanism of the progress of the break are clear. Numerous analyzes have been made on the process of chip destruction by the three-point bending method, and the mechanism has been clarified.

特開2014−222714号公報JP 2014-222714 A

近年、厚さが30μm以下の極めて薄いチップが製造されている。この極めて薄いチップの抗折強度を評価するために3点曲げ法による測定を実施しようとすると、測定時に圧子でチップを押圧してもチップが撓むばかりでチップを破壊できない。そのため、該チップの抗折強度を測定できない。そこで、極めて薄いチップでも破壊できる方法の開発が望まれる。特定の方法により極めて薄いチップを破壊できれば、チップの強度を評価できる。   In recent years, extremely thin chips having a thickness of 30 μm or less have been manufactured. If an attempt is made to measure the bending strength of this extremely thin chip by a three-point bending method, even if the chip is pressed with an indenter during the measurement, the chip will only bend and cannot be destroyed. Therefore, the bending strength of the chip cannot be measured. Therefore, development of a method that can break even an extremely thin chip is desired. If an extremely thin chip can be broken by a specific method, the strength of the chip can be evaluated.

そして、3点曲げ法以外の方法によりチップを破壊する場合、抗折強度が高く破壊されにくいチップを製造できる加工条件を導出するために、該方法においてチップの破壊が進行する過程が解析されることが望まれる。チップの破壊が進行する過程や仕組みを解析するには、該方法により破壊されたチップの破片を回収し、各破片の大きさや形状を解析することが考えられる。特に、各破片の分散状況が把握できる態様で各破片を回収できると、該チップの破壊が進行する過程や仕組みを解析する際に有利となる。   When a chip is broken by a method other than the three-point bending method, a process in which the chip breaks in the method is analyzed in order to derive processing conditions for manufacturing a chip having high bending strength and hard to break. It is desired. In order to analyze the process and mechanism in which the destruction of the chip proceeds, it is conceivable to collect pieces of the chip broken by the method and analyze the size and shape of each piece. In particular, if each piece can be collected in such a manner that the state of dispersion of each piece can be grasped, it becomes advantageous when analyzing the process and mechanism in which the destruction of the chip proceeds.

本発明はかかる問題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、破壊されたチップの破片を回収できる破壊試験装置、及び破片回収方法を提供することである。   The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to provide a destruction test apparatus and a debris collection method capable of collecting broken chips.

本発明の一態様によれば、チップを破壊できるチップ破壊ユニットと、該チップ破壊ユニットの下方に配設され、チップ破壊ユニットにより破壊された該チップの破片を保持する破片保持面を表面に有する破片回収ユニットと、を備え、該チップ破壊ユニットは、破壊されるチップの破壊起点が該破片回収ユニットの該破片保持面に対面するように該チップを破壊することを特徴とする破壊試験装置が提供される。   According to one embodiment of the present invention, a chip breaking unit capable of breaking a chip and a fragment holding surface disposed below the chip breaking unit and holding a chip broken by the chip breaking unit are provided on the surface. And a debris recovery unit, wherein the chip destruction unit destroys the chip such that a destruction origin of the destructed chip faces the debris holding surface of the debris recovery unit. Provided.

好ましくは、該破片回収ユニットの該破片保持面は、水平面に沿う。   Preferably, the fragment holding surface of the fragment collection unit is along a horizontal plane.

また、好ましくは、該チップ破壊ユニットは、鉛直方向に沿った第1の面を有した第1のチップ支持部と、該第1の面に対面する鉛直方向に沿った第2の面を有した第2のチップ支持部と、を有し、U字状に湾曲されたチップを挟持できるチップ挟持ユニットと、該第1のチップ支持部と、該第2のチップ支持部と、を互いに近接する方向に相対移動させる移動ユニットと、を備える。   Preferably, the chip breaking unit has a first chip support portion having a first surface along a vertical direction, and a second surface along a vertical direction facing the first surface. A chip holding unit that can hold a chip curved in a U-shape, the first chip support, and the second chip support that are close to each other. A moving unit that relatively moves in the direction of the movement.

さらに、好ましくは、該破片回収ユニットの該破片保持面には、複数の粘着シートが積層されており、該複数の粘着シートは、個々に剥離可能である。   Further, preferably, a plurality of pressure-sensitive adhesive sheets are laminated on the fragment holding surface of the fragment recovery unit, and the plurality of pressure-sensitive adhesive sheets are individually peelable.

また、本発明の他の一態様によれば、チップを破壊することで生成された破片を回収する破片回収方法であって、表面に破片保持面を有する破片回収ユニットを準備する破片回収ユニット準備ステップと、該破片回収ユニットの上方でチップを破壊する破壊ステップと、該破壊ステップで破壊されたチップの破片が落下して該破片回収ユニットの破片保持面に付着することで破片を回収する回収ステップと、を備えることを特徴とする破片回収方法が提供される。   According to another aspect of the present invention, there is provided a fragment recovery method for recovering fragments generated by breaking a chip, the method comprising preparing a fragment recovery unit having a fragment holding surface on a surface. A breaking step for breaking the chip above the fragment collecting unit, and a collecting step for collecting the fragments by causing the fragments of the chip broken in the breaking step to fall and adhere to the fragment holding surface of the fragment collecting unit. And a method for recovering debris.

本発明の一態様に係る破壊試験装置は、チップを破壊するチップ破壊ユニットの下方に破片回収ユニットを備える。該破片回収ユニットは、チップ破壊ユニットにより破壊された該チップの破片を保持する破片保持面を表面に有する。該破壊試験装置を使用してチップを破壊する際には、まずチップ破壊ユニットにチップを搬入し、該チップ破壊ユニットに該チップを破壊させる。   A destruction test apparatus according to one embodiment of the present invention includes a fragment recovery unit below a chip destruction unit that destroys a chip. The debris collection unit has on its surface a debris holding surface that holds debris of the chip destroyed by the chip destruction unit. When a chip is destroyed using the destruction test apparatus, the chip is first loaded into the chip destruction unit, and the chip is destroyed by the chip destruction unit.

チップ破壊ユニットにより破壊されたチップから生じた破片は下方に落下し、破片回収ユニットの破片保持面上に分散されて、該破片回収ユニットに保持される。本発明の一態様に係る破壊試験装置及び破片回収方法によると破壊されたチップの各破片を回収できるため、その後、各破片を観察することにより各破片の大きさや形状、チップが破壊される前の該チップにおける位置等に関する情報を取得できる。これらの情報は、チップが破壊される過程を解析するのに有用である。   The fragments generated from the chips broken by the chip breaking unit fall downward, are dispersed on the fragment holding surface of the fragment recovery unit, and are held by the fragment recovery unit. According to the destruction test apparatus and the debris collection method according to one embodiment of the present invention, since each debris of the destructed chip can be collected, the size and shape of each debris can be observed by observing each debris before the destruction of the chip. Of the chip in the chip can be obtained. This information is useful for analyzing the process of breaking the chip.

また、チップが破壊され下方に落下する際、各破片は破壊の過程を反映して分散する。本発明の一態様に係る破壊試験装置及び破片回収方法では、各破片の相対的な位置関係が該破片保持面上に保存されるため、該破片保持面に保持された各破片の分散状況をも解析できる。そのため、チップが破壊される過程や仕組みをより詳細に解析できる。   In addition, when the chip is broken and falls downward, each fragment is dispersed to reflect the breaking process. In the destructive test device and the fragment collection method according to one embodiment of the present invention, since the relative positional relationship of each fragment is stored on the fragment holding surface, the dispersion state of each fragment held on the fragment holding surface is determined. Can also be analyzed. Therefore, it is possible to analyze the process and mechanism of breaking the chip in more detail.

したがって、本発明の一態様によると、破壊されたチップの破片を回収できる破壊試験装置、及び破片回収方法が提供される。   Therefore, according to one embodiment of the present invention, there is provided a destruction test apparatus and a debris collection method capable of collecting destructed chip debris.

図1(A)は、チップを模式的に示す斜視図であり、図1(B)は、U字状に湾曲されたチップを模式的に示す斜視図である。FIG. 1A is a perspective view schematically illustrating a chip, and FIG. 1B is a perspective view schematically illustrating a U-shaped curved chip. チップ破壊試験装置を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows a chip destruction test apparatus typically. チップ破壊試験装置のチップ挟持ユニットに挟持されたチップを模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically the chip clamped by the chip clamping unit of the chip destruction test apparatus. 図4(A)は、移動ユニットを作動させてチップの湾曲の程度を増大させる様子を模式的に示す側面図であり、図4(B)は、チップの破壊時の様子を模式的に示す側面図である。FIG. 4A is a side view schematically showing how the moving unit is operated to increase the degree of bending of the chip, and FIG. 4B is a schematic view showing the state when the chip is broken. It is a side view. 図5(A)は、チップの破片を回収した破片回収ユニットを模式的に示す上面図であり、図5(B)は、破壊されたチップの残存部が破片保持面に貼着された破片回収ユニットを模式的に示す上面図である。FIG. 5 (A) is a top view schematically showing a fragment collection unit that has collected chip fragments, and FIG. 5 (B) is a fragment where the remaining portion of the broken chip is adhered to the fragment holding surface. It is a top view which shows a collection unit typically. 図6(A)は、破片回収ユニットと、チップと、の一例を模式的に示す上面図であり、図6(B)は、破片回収ユニットと、チップと、の一例を模式的に示す断面図である。FIG. 6A is a top view schematically illustrating an example of a fragment recovery unit and a chip, and FIG. 6B is a cross-sectional view schematically illustrating an example of a fragment recovery unit and a chip. FIG. 破片回収方法の各ステップの流れを示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the flow of each step of the fragment collection method.

本実施形態に係る破壊試験装置、及び破片回収方法について、図面を参照して説明する。まず、本実施形態に係る破壊試験装置及び破片回収方法において破壊されるチップについて説明する。図1(A)は、チップ1を模式的に示す斜視図である。チップ1は、例えば、ICやLSI等のデバイスが搭載されたチップを半導体ウェーハから製造するウェーハの加工方法の開発において試作されるチップである。   A destructive test apparatus and a fragment recovery method according to the present embodiment will be described with reference to the drawings. First, a chip destroyed by the destructive test apparatus and the debris collection method according to the present embodiment will be described. FIG. 1A is a perspective view schematically showing the chip 1. The chip 1 is, for example, a chip that is prototyped in the development of a wafer processing method for manufacturing a chip on which a device such as an IC or an LSI is mounted from a semiconductor wafer.

ウェーハの表面に互いに交差する複数の分割予定ラインを設定し、該分割予定ラインにより区画された各領域にデバイスを形成し、該ウェーハを該分割予定ラインに沿って分割すると、デバイスが搭載されたチップを作製できる。該ウェーハの分割は、例えば、円環状の切削ブレードを備えた切削装置、または、ウェーハをレーザ加工するレーザ加工装置において実施される。   A plurality of division lines intersecting with each other are set on the surface of the wafer, devices are formed in the respective regions defined by the division lines, and the device is mounted when the wafer is divided along the division lines. Chips can be made. The division of the wafer is performed by, for example, a cutting device having an annular cutting blade or a laser processing device that performs laser processing on the wafer.

該レーザ加工装置は、例えば、ウェーハに対して吸収性を有する波長のレーザビームを該分割予定ラインに沿って照射し、ウェーハの表面から裏面に至る分割溝をアブレーション加工により形成する。または、該レーザ加工装置は、例えば、ウェーハに対して透過性を有する波長のレーザビームを該分割予定ラインに沿って該ウェーハの所定の高さ位置に集光し、多光子吸収過程により改質層を形成する。該改質層からウェーハの表面及び裏面至るクラックが形成されると、ウェーハが該分割予定ラインに沿って分割される。   The laser processing apparatus irradiates, for example, a laser beam having a wavelength that has absorptivity to the wafer along the planned dividing line, and forms a dividing groove from the front surface to the back surface of the wafer by ablation processing. Alternatively, the laser processing apparatus focuses, for example, a laser beam having a wavelength that is transparent to the wafer at a predetermined height position on the wafer along the dividing line, and modifies the laser beam through a multiphoton absorption process. Form a layer. When cracks from the modified layer to the front and back surfaces of the wafer are formed, the wafer is divided along the dividing lines.

該ウェーハは、例えば、SiやSiC等の半導体材料により形成される。薄型のチップを形成するために、該ウェーハを分割する前に、ウェーハの裏面側が研削されウェーハが所定の厚さに薄化される。ウェーハの研削は、例えば、ウェーハを裏面側から速い速度で研削する粗研削と、ウェーハの裏面を平坦に仕上げる仕上げ研削と、の2つの段階に分けて実施されてもよい。ウェーハは、例えば、研削加工により30μm以下の厚さに薄化される。   The wafer is formed of, for example, a semiconductor material such as Si or SiC. In order to form a thin chip, before dividing the wafer, the back side of the wafer is ground and the wafer is thinned to a predetermined thickness. The grinding of the wafer may be performed in two stages, for example, rough grinding for grinding the wafer from the back surface at a high speed and finish grinding for finishing the back surface of the wafer flat. The wafer is thinned to a thickness of 30 μm or less, for example, by grinding.

さらに、該ウェーハは、研削後に裏面側が研磨されて、より平坦に仕上げられてもよい。また、ウェーハは、該切削装置またはレーザ加工装置により、分割予定ラインに沿って裏面に至らない深さの加工溝が表面に形成され、その後、研削装置により裏面側が研削されて該加工溝の底部が除去されることにより分割されてもよい。   Further, the back side of the wafer may be polished after the grinding so as to be finished more flat. Further, the wafer is formed with a processing groove having a depth not reaching the back surface along the planned dividing line on the front surface by the cutting device or the laser processing device, and then the back surface side is ground by the grinding device to form a bottom portion of the processing groove. May be divided by being removed.

チップの抗折強度は、例えば、ウェーハを薄化する際に実施された研削及び研磨により裏面側に形成された凹凸形状や、薄化されたウェーハの厚さ等により変化する。すなわち、ウェーハの裏面側の加工状態によりチップの抗折強度が変化する。また、チップの抗折強度は、ウェーハに形成されるデバイスの構造物の材質、形状、及び位置により変化し、さらに、ウェーハを分割する際の加工条件等により変化する。   The bending strength of the chip changes depending on, for example, the unevenness formed on the back surface side by grinding and polishing performed when thinning the wafer, the thickness of the thinned wafer, and the like. That is, the bending strength of the chip changes depending on the processing state on the back surface side of the wafer. Further, the die strength of the chip changes depending on the material, shape, and position of the structure of the device formed on the wafer, and further changes depending on processing conditions when dividing the wafer.

本実施形態に係る破壊試験装置、及び破片回収方法により破壊されるチップ1は、例えば、ウェーハの裏面を加工する好適な加工条件を導出するために試作されるチップである。例えば、チップ1は、着目される特定の加工条件の変化によるチップの抗折強度の変化を評価し、破壊が進行する過程の変化を解析するのに適した態様で試作される。   The chip 1 destroyed by the destructive test apparatus and the debris collection method according to the present embodiment is, for example, an experimentally produced chip for deriving suitable processing conditions for processing the back surface of the wafer. For example, the chip 1 is prototyped in a form suitable for evaluating a change in the bending strength of the chip due to a change in a particular processing condition of interest and analyzing a change in a process in which destruction proceeds.

例えば、ウェーハの裏面側を加工する加工条件に着目して抗折強度が比較的高いチップを作製できる加工条件を得ようとする場合等においては、デバイスが形成されたチップを試作する必要はない。この場合、デバイスが形成されていないチップ1を試作して抗折強度を評価すれば十分であり、チップ1は、表面にデバイスが形成されていないウェーハを用いて試作される。デバイスが形成されていないウェーハを使用するとコストを低く抑えられ、効率的である。   For example, there is no need to prototype a chip on which a device is formed, for example, when trying to obtain a processing condition capable of manufacturing a chip having a relatively high bending strength by focusing on a processing condition for processing a back surface side of a wafer. . In this case, it is sufficient to evaluate the bending strength by trial-producing the chip 1 on which no device is formed, and the chip 1 is trial-produced using a wafer having no device formed on the surface. Use of a wafer having no device formed thereon is cost-effective and efficient.

本実施形態に係る破壊試験装置、及び破片回収方法では、チップ1が破壊される。チップ1は、例えば、図1(A)に示す通り、矩形の板状に形成される。チップ1は、様々な加工条件で試作され破壊される。試作されるチップ1は、例えば、横8cm、縦1cm、厚さ30μmに形成される。   In the destructive test apparatus and the debris collection method according to the present embodiment, the chip 1 is broken. The chip 1 is formed in a rectangular plate shape, for example, as shown in FIG. The chip 1 is prototyped and destroyed under various processing conditions. The prototype chip 1 is formed to have a width of 8 cm, a length of 1 cm, and a thickness of 30 μm, for example.

ただし、チップ1はこれに限定されない。該チップ1の形状は、矩形の板状でなくてもよい。また、チップ1の表面1aには、デバイスが形成されていなくてもよい。さらに、チップ1は、半導体材料で形成されたウェーハから形成されていなくてもよい。チップ1は、例えば、ホウケイ酸ガラスやソーダガラス等のガラス基板から形成されてもよい。本実施形態に係る破壊試験装置、及び破片回収方法によると、例えば、3点曲げ法において破壊されにくい様々なチップ1を破壊できる。   However, the chip 1 is not limited to this. The shape of the chip 1 does not have to be a rectangular plate. Further, the device may not be formed on the surface 1a of the chip 1. Further, the chip 1 does not have to be formed from a wafer formed of a semiconductor material. The chip 1 may be formed from a glass substrate such as borosilicate glass or soda glass, for example. According to the destruction test apparatus and the debris collection method according to the present embodiment, for example, various chips 1 that are not easily broken by the three-point bending method can be broken.

次に、本実施形態に係る破壊試験装置ついて説明する。図2は、破壊試験装置2を模式的に示す斜視図である。破壊試験装置2は、チップ1を破壊できるチップ破壊ユニット4と、チップ破壊ユニット4の下方に配設された破片回収ユニット12と、を備える。チップ破壊ユニット4は、チップ1を挟持できるチップ挟持ユニット6を有する。   Next, a destructive test apparatus according to the present embodiment will be described. FIG. 2 is a perspective view schematically showing the destructive test device 2. The destruction test device 2 includes a chip destruction unit 4 that can destroy the chip 1 and a fragment recovery unit 12 disposed below the chip destruction unit 4. The chip breaking unit 4 has a chip holding unit 6 that can hold the chip 1.

チップ挟持ユニット6は、鉛直方向に沿った第1の面8aを有した第1のチップ支持部6aと、鉛直方向に沿った第2の面8bを有した第2のチップ支持部6bと、を有する。第1のチップ支持部6aの第1の面8aと、第2のチップ支持部6bの第2の面8bと、は互いに向かい合った平行な面である。第1のチップ支持部6aは、U字状に湾曲されたチップ1の一端3a側を支持でき、第2のチップ支持部6bは、チップ1の他端3b側を支持できる。   The chip holding unit 6 includes a first chip support 6a having a first surface 8a extending in a vertical direction, a second chip support 6b having a second surface 8b extending in a vertical direction, Having. The first face 8a of the first chip support 6a and the second face 8b of the second chip support 6b are parallel faces facing each other. The first chip support 6a can support one end 3a side of the chip 1 curved in a U-shape, and the second chip support 6b can support the other end 3b side of the chip 1.

第1のチップ支持部6aの第1の面8aと、第2のチップ支持部6bの第2の面8bと、には、シリコーン樹脂等の弾性部材や、チップ1の静電吸着機構等が配設されてもよい。両チップ支持部6a,6bに該弾性部材や該静電吸着機構等が配設されると、挟持されたチップ1の滑りが抑制され、さらに、破壊された後のチップ1が両チップ支持部6a,6bにより引き続き保持されやすくなる。   The first surface 8a of the first chip support 6a and the second surface 8b of the second chip support 6b are provided with an elastic member such as a silicone resin, an electrostatic chuck mechanism of the chip 1, and the like. It may be provided. When the elastic member, the electrostatic chucking mechanism, and the like are provided on both chip supporting portions 6a and 6b, slippage of the pinched chip 1 is suppressed, and furthermore, the chip 1 after being broken is attached to both chip supporting portions. 6a and 6b make it easier to continue holding.

また、チップ破壊ユニット4は、移動ユニット10を有する。移動ユニット10は、第1のチップ支持部6aと、第2のチップ支持部6bと、のそれぞれの基端側(上端側)を支持する。該移動ユニット10は、例えば、モータ等の動力(不図示)を備え、チップ挟持ユニット6の第1のチップ支持部6aと、第2のチップ支持部6bと、を互いに近接する方向に相対移動できる。   The chip breaking unit 4 has a moving unit 10. The moving unit 10 supports the proximal end (upper end) of each of the first chip support 6a and the second chip support 6b. The moving unit 10 includes, for example, a motive power (not shown) such as a motor, and relatively moves the first chip supporting portion 6a and the second chip supporting portion 6b of the chip holding unit 6 in directions approaching each other. it can.

第1のチップ支持部6aと、第2のチップ支持部6bと、の間にU字状に湾曲されたチップ1を配設し、移動ユニット10により第1のチップ支持部6a及び第2のチップ支持部6bを互いに近接する方向に移動させてチップ1の湾曲の程度を強めると、やがてチップ1が破壊される。本発明の一態様に係る破壊試験装置2では、3点曲げ法により実現可能な湾曲の程度を超えてチップ1を湾曲できるため、3点曲げ法により破壊できないチップ1を破壊できる。   The U-shaped curved chip 1 is disposed between the first chip support 6a and the second chip support 6b, and the first chip support 6a and the second chip support 6a are moved by the moving unit 10. When the degree of curvature of the chip 1 is increased by moving the chip supporting portions 6b in directions approaching each other, the chip 1 is eventually broken. In the destructive test device 2 according to one embodiment of the present invention, since the chip 1 can be bent beyond the degree of bending that can be realized by the three-point bending method, the chip 1 that cannot be broken by the three-point bending method can be broken.

例えば、移動ユニット10及びチップ挟持ユニット6は、産業用ロボットアームにより構成される。この場合、移動ユニット10の内部には、例えば、第1のチップ支持部6a及び第2のチップ支持部6bが相対移動する方向に沿ったガイドレール(不図示)が設けられる。そして、該ガイドレールには、第1のチップ支持部6aと、第2のチップ支持部6bと、のそれぞれの基端側が該ガイドレールに沿って移動可能に取り付けられる。   For example, the moving unit 10 and the chip holding unit 6 are configured by industrial robot arms. In this case, for example, a guide rail (not shown) is provided inside the moving unit 10 along the direction in which the first chip support 6a and the second chip support 6b relatively move. Then, the base ends of the first chip support 6a and the second chip support 6b are attached to the guide rail so as to be movable along the guide rail.

さらに、移動ユニット10は、該ガイドレールに対して垂直な方向に沿った回転軸部(不図示)を備えるモータの該回転軸部に嵌め入れられた歯車(不図示)を備える。また、第1のチップ支持部6aの基端側及び第2のチップ支持部6bの基端側に、それぞれ、平板状の棒状部材の一面に複数の歯が形成された形状の部材であるラック(不図示)が該ガイドレールに沿って設けられる。そして、それぞれのラックの該複数の歯が該歯車に噛み合う態様で、2つの該ラックにより該歯車が挟まれる。   Further, the moving unit 10 includes a gear (not shown) fitted to the rotating shaft of a motor having a rotating shaft (not shown) along a direction perpendicular to the guide rail. In addition, a rack having a shape in which a plurality of teeth are formed on one surface of a flat bar-shaped member on the base end side of the first chip support portion 6a and the base end side of the second chip support portion 6b, respectively. (Not shown) are provided along the guide rail. The gear is sandwiched between the two racks in such a manner that the teeth of each rack mesh with the gear.

該モータ等の動力を作動させて該歯車を回転させると、それぞれのラックが該ガイドレールに沿って互いに反対方向に移動し、第1のチップ支持部6aと、第2のチップ支持部6bと、が互いに近づく。ただし、移動ユニット10の構成はこれに限定されない。例えば、第1のチップ支持部6aと、第2のチップ支持部6bと、の一方にのみ該ラックが設けられてもよく、この場合、モータ等の動力は、ラックが設けられたチップ支持部のみを移動できる。   When the gears are rotated by operating the power of the motor or the like, the respective racks move in opposite directions along the guide rails, and the first and second chip support portions 6a and 6b are moved. , Approach each other. However, the configuration of the mobile unit 10 is not limited to this. For example, the rack may be provided on only one of the first chip support 6a and the second chip support 6b, and in this case, the power of the motor or the like is provided by the chip support provided with the rack. Only can move.

または、例えば、移動ユニット10の内部には、第1のチップ支持部6a及び第2のチップ支持部6bが互いに近づく方向に沿ったボールねじ(不図示)が配される。該ボールねじには、第1のチップ支持部6aと、第2のチップ支持部6bと、の一方の基端側に設けられたナット部(不図示)が螺合される。そして、モータ等により該ボールねじを回転させると、該ナット部が移動し、第1のチップ支持部6aと、第2のチップ支持部6bと、が互いに近づく方向に移動する。   Alternatively, for example, a ball screw (not shown) is arranged inside the moving unit 10 along the direction in which the first chip support 6a and the second chip support 6b approach each other. A nut (not shown) provided on one base end of the first chip support 6a and the second chip support 6b is screwed to the ball screw. When the ball screw is rotated by a motor or the like, the nut moves, and the first chip support 6a and the second chip support 6b move in directions approaching each other.

チップ破壊ユニット4は、例えば、移動ユニット10の筐体側面に、第1のチップ支持部6aの第1の面8aと、第2のチップ支持部6bの第2の面8bと、の距離を示すスケールを有してもよい。モータ等で構成された動力は、例えば、第1のチップ支持部6a及び第2のチップ支持部6bの間の距離が所定の距離となるように、該スケールを参照して第1のチップ支持部6a及び第2のチップ支持部6bを相対移動させてもよい。   For example, the chip breaking unit 4 sets the distance between the first surface 8a of the first chip supporting portion 6a and the second surface 8b of the second chip supporting portion 6b on the side surface of the housing of the moving unit 10. It may have the scale shown. The motive power constituted by a motor or the like refers to the first chip support with reference to the scale so that the distance between the first chip support 6a and the second chip support 6b is a predetermined distance. The part 6a and the second chip supporting part 6b may be relatively moved.

破片回収ユニット12は、例えば、チップ破壊ユニット4の所定の距離下方に配設され、水平面に沿った平板状の基台14と、該基台14の上面に配設された粘着シート16と、を備える。破片回収ユニット12と、チップ破壊ユニット4と、は支持部材により該所定の距離を保ちながら支持されてもよい。該粘着シート16の上面は粘着性を有し、チップ1の破片を保持する破片保持面18となる。チップ破壊ユニット4によりチップ1を破壊すると、チップ1の破片が落下して破片回収ユニット12の破片保持面18に到達し、該破片が破片保持面18に保持される。   The fragment recovery unit 12 is disposed, for example, a predetermined distance below the chip destruction unit 4 and has a flat base 14 along a horizontal plane, and an adhesive sheet 16 disposed on an upper surface of the base 14. Is provided. The debris collection unit 12 and the chip breaking unit 4 may be supported by a support member while maintaining the predetermined distance. The upper surface of the adhesive sheet 16 has an adhesive property, and serves as a fragment holding surface 18 for holding the fragments of the chip 1. When the chip 1 is destroyed by the chip breaking unit 4, the fragments of the chip 1 fall and reach the fragment holding surface 18 of the fragment collecting unit 12, and the fragments are held on the fragment holding surface 18.

チップ1を破壊する際、チップ1の湾曲部分の外側に破壊起点1c(図4(B)参照)が生じ、該破壊起点1cから破片が分散される。チップ1をチップ挟持ユニット6に挟持させる際には、各破片を適切に回収するために破壊起点1cを破片保持面18に対面させる。   When the chip 1 is broken, a fracture origin 1c (see FIG. 4B) is generated outside the curved portion of the chip 1, and fragments are dispersed from the fracture origin 1c. When the chip 1 is held by the chip holding unit 6, the destruction starting point 1 c is made to face the fragment holding surface 18 in order to appropriately collect each piece.

チップ破壊ユニット4によりチップ1が破壊された際に発生する破片は、破片回収ユニット12の破片保持面18上に分散される。このとき、各破片の形状や大きさ、分散状況等は、チップ1の構造やチップ1の破壊方法等により変化する。   The fragments generated when the chip 1 is destroyed by the chip breaking unit 4 are dispersed on the fragment holding surface 18 of the fragment recovery unit 12. At this time, the shape and size of each piece, the state of dispersion, and the like change depending on the structure of the chip 1 and the method of breaking the chip 1.

そのため、チップ破壊ユニット4によるチップ1の破壊方法を一定とすれば、発生する破片の大きさや形状等には無視できない程度の再現性が現れる。特に、チップ破壊ユニット4と、破片回収ユニット12と、の距離が所定の距離となるように離間させ、チップ1をチップ挟持ユニット6に所定の位置で挟持させると、破片保持面18に貼着される各破片の相対位置にも無視できない程度の再現性が現れる。   Therefore, if the method of breaking the chip 1 by the chip breaking unit 4 is fixed, reproducibility to the extent that the size and shape of the generated fragments cannot be ignored is apparent. In particular, when the chip breaking unit 4 and the fragment collecting unit 12 are separated from each other so as to have a predetermined distance, and the chip 1 is held by the chip holding unit 6 at a predetermined position, the chip 1 adheres to the chip holding surface 18. The reproducibility of non-negligible degree also appears in the relative position of each fragment.

チップ1を破壊した後、各破片の大きさや形状だけでなく、破片保持面18における各破片の相対位置を解析することにより各破片がチップ1のどの部分から生じたものであるかに関する情報が得られる。該情報が得られると、抗折強度の高いチップ1を形成するためのウェーハの加工条件をさらに詳細に検討できる。   After the chip 1 is broken, not only the size and shape of each piece but also the relative position of each piece on the piece holding surface 18 is analyzed to obtain information on which part of the chip 1 each piece originated from. can get. When the information is obtained, the processing conditions of the wafer for forming the chip 1 having high bending strength can be examined in more detail.

破片回収ユニット12は、各破片の相対的な位置関係を保ちながら各破片を回収できるため、各破片の分散状況を保存できる。そして、破片保持面18上に破片が分散された後に粘着シート16を基台14から剥離させると、各破片の分散状況を保存しながら各破片を搬送できる。そのため、各破片が貼着された粘着シート16を各種の解析を適切に実施できる場所に搬送することにより、より精度の高い解析が可能となる。   Since the fragment recovery unit 12 can collect each fragment while maintaining the relative positional relationship of each fragment, the dispersion state of each fragment can be stored. When the pressure-sensitive adhesive sheet 16 is peeled off from the base 14 after the fragments are dispersed on the fragment holding surface 18, each fragment can be transported while preserving the state of dispersion of each fragment. For this reason, by transporting the pressure-sensitive adhesive sheet 16 to which the pieces are adhered to a place where various analyzes can be appropriately performed, more accurate analysis can be performed.

さらに、基台14の上面には複数の粘着シート16が積層され、該複数の粘着シート16は個々に剥離可能となっていてもよい。この場合、チップ破壊ユニット4により破壊されたチップ1の破片が貼着された最上層の粘着シート16を剥離させると次の粘着シート16が上方に露出されるため、次のチップ1の破壊試験の準備が容易となる。   Further, a plurality of pressure-sensitive adhesive sheets 16 may be stacked on the upper surface of the base 14, and the plurality of pressure-sensitive adhesive sheets 16 may be individually peelable. In this case, when the uppermost adhesive sheet 16 to which the fragments of the chip 1 broken by the chip breaking unit 4 are adhered is peeled off, the next adhesive sheet 16 is exposed upward. Preparation becomes easy.

なお、破壊試験装置2は、チップ1が破壊されたことを検出する検出ユニットを備えても良い。例えば、該検出ユニットは移動ユニット10のモータ等の動力に接続されており、モータから出力されるトルクを監視する。チップ1の湾曲が強まる程、第1のチップ支持部6a及び第2のチップ支持部6bが受けるチップ1の反発力が強くなるため、チップ1の反発力を抑えてさらにチップ1を湾曲させるために、該モータが出力するトルクは増大していく。   Note that the destructive test device 2 may include a detection unit that detects that the chip 1 has been destroyed. For example, the detection unit is connected to the power of a motor or the like of the moving unit 10 and monitors the torque output from the motor. As the curvature of the chip 1 increases, the repulsive force of the chip 1 received by the first chip supporting portion 6a and the second chip supporting portion 6b increases, so that the repelling force of the chip 1 is suppressed and the chip 1 is further curved. Then, the torque output by the motor increases.

そして、チップ1が湾曲に耐えられずにチップ1に損傷が生じると、チップ1が発生させる該反発力が急速に小さくなり、モータが出力するトルクが急激に低下する。そのため、モータが出力するトルクの変化を監視することにより、チップ1に生じた破壊を検出できる。   If the chip 1 is not able to withstand the bending and is damaged, the repulsive force generated by the chip 1 is rapidly reduced, and the torque output by the motor is rapidly reduced. Therefore, by monitoring the change in the torque output by the motor, it is possible to detect the destruction of the chip 1.

ただし、該検出ユニットはこれに限定されず、他の方法によりチップ1の破壊が検出されてもよい。例えば、破壊試験装置2は、該検出ユニットとして振動センサを備えてもよい。この場合、チップ1の破壊に伴い破壊試験装置2に伝わる振動を該振動センサにより観測することにより該検出ユニットはチップ1の破壊を検出できる。   However, the detection unit is not limited to this, and the destruction of the chip 1 may be detected by another method. For example, the destructive test device 2 may include a vibration sensor as the detection unit. In this case, the detection unit can detect the destruction of the chip 1 by observing the vibration transmitted to the destruction test device 2 with the destruction of the chip 1 by the vibration sensor.

さらに、該検出ユニットは、第1のチップ支持部6a及び第2のチップ支持部6bの間に配されたカメラユニットでもよい。この場合、該カメラユニットによりチップ1の湾曲部を撮影し、該カメラユニットにより撮影された映像によりチップ1の破壊を検出してもよい。また、破壊試験装置2は、検出ユニットを備えなくてもよく、該破壊試験装置2の使用者が目視によりチップ1の破壊を検出してもよい。   Further, the detection unit may be a camera unit disposed between the first chip support 6a and the second chip support 6b. In this case, the curved portion of the chip 1 may be photographed by the camera unit, and the destruction of the chip 1 may be detected by the image photographed by the camera unit. Further, the destructive test device 2 does not need to include the detection unit, and the user of the destructive test device 2 may visually detect the destruction of the chip 1.

該検出ユニットによりチップ1の破壊を検出できると、チップ1の破壊が生じた際の第1のチップ支持部6aと、第2のチップ支持部6bと、の距離等からチップ1の破壊が生じた際のチップ1の湾曲の程度に関する情報が得られる。そして、該情報からチップ1の抗折強度の評価が可能となる。チップ1の抗折強度を評価できると、チップ1の製造方法と、チップ1の抗折強度と、の関係性が得られるため、抗折強度の高いチップ1の製造方法を導出する際に有利である。   If the destruction of the chip 1 can be detected by the detection unit, the destruction of the chip 1 occurs due to the distance between the first chip supporting portion 6a and the second chip supporting portion 6b when the destruction of the chip 1 occurs. Information about the degree of curvature of the chip 1 when the chip 1 is bent is obtained. Then, the bending strength of the chip 1 can be evaluated from the information. When the bending strength of the chip 1 can be evaluated, the relationship between the manufacturing method of the chip 1 and the bending strength of the chip 1 can be obtained, which is advantageous in deriving a manufacturing method of the chip 1 having a high bending strength. It is.

次に、チップ1を破壊することで生成された破片を回収する本実施形態に係る破片回収方法について説明する。該破壊回収方法は、例えば、図2に示す破壊試験装置2により実施される。図7は、該破片回収方法の各ステップの流れを示すフローチャートである。以下、該破片回収方法の各ステップについて詳述する。   Next, a debris collection method according to the present embodiment for collecting debris generated by breaking the chip 1 will be described. The destruction and recovery method is performed, for example, by the destruction test device 2 shown in FIG. FIG. 7 is a flowchart showing the flow of each step of the debris collection method. Hereinafter, each step of the fragment collection method will be described in detail.

本実施形態に係る破片回収方法では、まず、表面に破片保持面18を有する破片回収ユニット12を準備する破片回収ユニット準備ステップS1を実施する。破片回収ユニット準備ステップS1では、例えば、破壊試験装置2の基台14の上に粘着シート16を配設する。そして、破片回収ユニット12の上方のチップ破壊ユニット4によりチップ1を破壊する準備をする。   In the debris collection method according to the present embodiment, first, a debris collection unit preparation step S1 for preparing a debris collection unit 12 having a debris holding surface 18 on the surface is performed. In the fragment recovery unit preparation step S1, for example, the adhesive sheet 16 is disposed on the base 14 of the destructive test apparatus 2. Then, the chip 1 is prepared to be broken by the chip breaking unit 4 above the fragment collecting unit 12.

破片回収ユニット準備ステップS1の次に、チップ破壊ユニット4のチップ挟持ユニット6にチップ1を挟持させるチップ挟持ステップS2を実施してもよい。チップ挟持ステップS2では、チップ挟持ユニット6を移動ユニット10により操作し、第1のチップ支持部6a及び第2のチップ支持部6bを互いに所定の距離離間した初期位置に相対移動させる。以下、第1のチップ支持部6aのみを移動させ、第2のチップ支持部6bを固定する場合を例に説明する。   After the fragment collection unit preparation step S1, a chip holding step S2 of holding the chip 1 by the chip holding unit 6 of the chip breaking unit 4 may be performed. In the chip holding step S2, the chip holding unit 6 is operated by the moving unit 10, and the first chip supporting portion 6a and the second chip supporting portion 6b are relatively moved to the initial positions separated from each other by a predetermined distance. Hereinafter, a case will be described as an example where only the first chip support 6a is moved and the second chip support 6b is fixed.

その後、図1(B)に示すようにチップ1をU字に湾曲させた状態で、チップ挟持ユニット6の第1のチップ支持部6a及び第2のチップ支持部6bの間に該チップ1を挿し入れる。図3(A)に、チップ挟持ユニット6に挟持されたチップ1を模式的に示す。   After that, as shown in FIG. 1B, the chip 1 is bent between the first chip supporting portion 6a and the second chip supporting portion 6b of the chip holding unit 6 in a state where the chip 1 is curved in a U-shape. Insert. FIG. 3A schematically shows the chip 1 held by the chip holding unit 6.

なお、後にチップ1が破壊され破片が分散される際に、チップ1が挟持される位置による破片の分散状況への影響を概略一定とするために、チップ1が挟持される位置は常に一定の位置とされることが望ましい。複数のチップ1を破壊して、それぞれ、破片を回収して分散状況を解析する際に、チップ1が挟持される位置が一定であると、それぞれのチップ1が破壊される過程の解析する際に該位置の差による分散状況への影響を除外しやすくなる。   Note that when the chip 1 is later broken and the fragments are dispersed, the position at which the chips 1 are clamped is always constant so that the influence of the position at which the chips 1 are clamped on the distribution of the fragments is substantially constant. It is desirable to be a position. When a plurality of chips 1 are destroyed, each piece is collected, and the dispersion state is analyzed, and when the position where the chips 1 are sandwiched is constant, the process of breaking each chip 1 is analyzed. Therefore, it is easy to exclude the influence on the dispersion state due to the difference in the position.

また、後述の通り、第1のチップ支持部6aと、第2のチップ支持部6bと、を近づけてチップ1の湾曲の程度を大きくすると、チップ1が変形し、第1の面8a及び第2の面8bに接触するチップ1の裏面1bの面積が増大する。これに伴い、チップ1の湾曲部分が移動ユニット10の筐体から離れる。   As will be described later, when the first chip supporting portion 6a and the second chip supporting portion 6b are brought closer to each other to increase the degree of curvature of the chip 1, the chip 1 is deformed, and the first surface 8a and the second The area of the back surface 1b of the chip 1 that contacts the second surface 8b increases. Along with this, the curved portion of the chip 1 separates from the housing of the moving unit 10.

そこで、チップ挟持ステップS2では、チップ1の湾曲の程度を大きくしてチップ1を破壊する際に、チップ1が両チップ支持部6a,6bの間の領域から脱しない位置にチップ1を位置付ける。好ましくは、仮にチップ1が破壊されずに両チップ支持部6a,6bが限りなく近づく場合においても両チップ支持部6a,6bの間の該領域にチップ1の湾曲部分が収まるように、チップ1が挟持される。   Therefore, in the chip holding step S2, when breaking the chip 1 by increasing the degree of curvature of the chip 1, the chip 1 is positioned at a position where the chip 1 does not come off from the region between the chip support portions 6a and 6b. Preferably, even if the chip 1 is not broken and the two chip supporting portions 6a and 6b approach each other without limit, the curved portion of the chip 1 fits in the area between the two chip supporting portions 6a and 6b. Is pinched.

本実施形態に係る破片回収方法では、次に、破片回収ユニット12の上方でチップ1を破壊する破壊ステップS3を実施する。該破壊ステップS3では、移動ユニット10を作動させて第1のチップ支持部6a及び第2のチップ支持部6bを互いに近接する方向に相対移動させる。図4(A)は、第1のチップ支持部6aを初期位置6cから移動させて第2のチップ支持部6bに近づける様子を模式的に示す側面図である。   Next, in the debris collection method according to the present embodiment, a destruction step S3 of breaking the chip 1 above the debris collection unit 12 is performed. In the breaking step S3, the moving unit 10 is operated to relatively move the first chip support 6a and the second chip support 6b in directions approaching each other. FIG. 4A is a side view schematically showing a state in which the first chip supporting portion 6a is moved from the initial position 6c to approach the second chip supporting portion 6b.

第1のチップ支持部6aを第2のチップ支持部6bに近づけると、チップ1がより強く湾曲され、やがてチップ1が湾曲に耐えられずに破壊される。図4(B)は、チップ1の湾曲部分が破壊され、チップ1の破壊起点1cから破片1dが飛散する様子を模式的に示す側面図である。   When the first chip supporting portion 6a is brought closer to the second chip supporting portion 6b, the chip 1 is more strongly bent, and eventually the chip 1 is broken without enduring the bending. FIG. 4B is a side view schematically showing a state in which a curved portion of the chip 1 is broken and fragments 1d are scattered from a breaking start point 1c of the chip 1.

本実施形態に係る破片回収方法では、次に、該破壊ステップS3で破壊されたチップ1の破片が落下して該破片回収ユニット12の破片保持面18に付着することで破片を回収する回収ステップS4を実施する。図4(B)に示す通り、チップ1が破壊された際に破壊起点1cから生じたチップ1の破片1dは、破片回収ユニットの破片保持面18上に分散される。   In the fragment collecting method according to the present embodiment, next, a collecting step of collecting the fragments by causing the fragments of the chip 1 broken in the breaking step S3 to fall and adhere to the fragment holding surface 18 of the fragment collecting unit 12 Perform S4. As shown in FIG. 4B, when the chip 1 is broken, the fragments 1d of the chip 1 generated from the fracture starting point 1c are dispersed on the fragment holding surface 18 of the fragment collection unit.

図5(A)は、チップ1の破片1dが破片保持面18上に分散された破片回収ユニット12を模式的に示す上面図である。破片保持面18は、例えば、粘着シート16の粘着面であり、破片保持面18上に分散された破片1dは粘着シート16に貼着される。   FIG. 5A is a top view schematically showing the fragment recovery unit 12 in which fragments 1d of the chip 1 are dispersed on the fragment holding surface 18. FIG. The fragment holding surface 18 is, for example, an adhesive surface of the adhesive sheet 16, and the fragments 1 d dispersed on the fragment holding surface 18 are attached to the adhesive sheet 16.

破片保持面18における各破片1dの分散状況は、チップ1が破壊される前のチップ1における位置や、チップ1の破壊過程により変化する。そのため、破片保持面18における各破片1dの相対位置を解析すると、チップ1の破壊過程に関する情報を得るのに有利となる。例えば、破片1dが貼着された粘着シート16を破片回収ユニット12の基台14から剥離させると、各破片1dの相対的な位置関係を保ちながら各破片1dを搬送できるため、例えば、破片1dの解析に適した場所へ破片1dを搬送できる。   The distribution state of each fragment 1d on the fragment holding surface 18 changes depending on the position on the chip 1 before the chip 1 is broken and the breaking process of the chip 1. Therefore, analyzing the relative position of each fragment 1 d on the fragment holding surface 18 is advantageous for obtaining information on the destruction process of the chip 1. For example, when the adhesive sheet 16 to which the pieces 1d are adhered is peeled from the base 14 of the piece collection unit 12, the pieces 1d can be transported while maintaining the relative positional relationship of the pieces 1d. The fragment 1d can be transported to a place suitable for the analysis.

さらに、回収ステップS4では、破片保持面18に、第1のチップ支持部6aに支持されたチップ1の一端3a側と、第2のチップ支持部6bに支持されたチップ1の他端3b側と、が貼着されてもよい。図5(B)は、破片1dが分散された箇所の近傍に、チップ1の一端3a側と、他端3b側と、が貼着された破片回収ユニット12を模式的に示す上面図である。なお、チップ1の一端3a側と、他端3b側と、は、破壊試験装置2の操作者の手作業により破片保持面18上に貼着されてもよい。   Further, in the collecting step S4, the fragment holding surface 18 has one end 3a of the chip 1 supported by the first chip support 6a and the other end 3b of the chip 1 supported by the second chip support 6b. And may be attached. FIG. 5B is a top view schematically showing the fragment recovery unit 12 to which the one end 3a side and the other end 3b side of the chip 1 are adhered in the vicinity of the location where the fragments 1d are dispersed. . The one end 3a side and the other end 3b side of the chip 1 may be stuck on the fragment holding surface 18 by a manual operation of an operator of the destructive test device 2.

破壊されたチップ1の破断面には、チップ1が破壊される過程が反映された形状が残る。そのため、チップ1の破断面を解析することにより、チップ1の破壊過程の解析に有用な情報が得られる。チップ1の一端3a側と、他端3b側と、を破片1dとともに粘着シート16に貼着すると、該破片1d等の搬送や管理、観察が容易となる。   The shape that reflects the process of breaking the chip 1 remains on the broken surface of the broken chip 1. Therefore, by analyzing the fracture surface of the chip 1, useful information for analyzing the destruction process of the chip 1 can be obtained. When the one end 3a side and the other end 3b side of the chip 1 are attached to the adhesive sheet 16 together with the fragments 1d, the transport, management, and observation of the fragments 1d and the like become easy.

以上に説明するように、本実施形態に係る破片回収方法によると、各破片1dを互いの相対的な位置関係を維持しながら回収できるため、破片保持面18に保持された各破片1dの分散状況を解析できる。そのため、チップ1が破壊される過程をより詳細に解析できる。チップ1が破壊される過程を解析できると、抗折強度が高く破壊されにくいチップ1を製造するウェーハの加工方法を導出する際に有利である。   As described above, according to the debris collection method according to the present embodiment, since each debris 1d can be collected while maintaining the relative positional relationship with each other, the dispersion of each debris 1d held on the debris holding surface 18 can be improved. Can analyze the situation. Therefore, the process of breaking the chip 1 can be analyzed in more detail. If the process of breaking the chip 1 can be analyzed, it is advantageous when deriving a wafer processing method for manufacturing the chip 1 having high bending strength and being hardly broken.

なお、本発明は、上記の実施形態の記載に限定されず、種々変更して実施できる。例えば、本発明の一態様に係る破壊試験装置2及び破片回収方法について、チップ破壊ユニット4によりチップ1を破壊し、所定の距離離間した破片回収ユニット12により破片1dを回収する場合について説明したが、本発明の一態様はこれに限定されない。すなわち、破片回収ユニットはチップ1に貼着されてもよく、該破片回収ユニットの破片保持面は湾曲していてもよい。   Note that the present invention is not limited to the description of the above embodiment, and can be implemented with various modifications. For example, although the destruction test apparatus 2 and the debris collection method according to one embodiment of the present invention have been described in the case where the chip 1 is broken by the chip destruction unit 4 and the debris 1d is collected by the debris collection unit 12 separated by a predetermined distance, However, one embodiment of the present invention is not limited to this. That is, the fragment recovery unit may be attached to the chip 1, and the fragment holding surface of the fragment recovery unit may be curved.

図6(A)及び図6(B)に、チップ1の一端3a側と、他端3b側と、のそれぞれの裏面1bに破片回収ユニット12aとして粘着テープ16aを貼着する場合について示す。図6(A)は、チップ1と、破片回収ユニット12aと、を模式的に示す上面図であり、図6(B)は、チップ1と、破片回収ユニット12aと、を模式的に示す断面図である。   6 (A) and 6 (B) show a case where an adhesive tape 16a is adhered to each back surface 1b of the chip 1 on one end 3a side and the other end 3b side as a fragment collection unit 12a. FIG. 6A is a top view schematically illustrating the chip 1 and the fragment recovery unit 12a, and FIG. 6B is a cross-sectional view schematically illustrating the chip 1 and the fragment recovery unit 12a. FIG.

図6(B)に示す通り、破片回収ユニット12aである粘着テープ16aは、チップ1の裏面1bに貼着された各部分の間で重力に従って垂れ下がっている。そして、破片保持面18aは、水平面に沿わずに湾曲している。チップ1を破壊する際には、粘着テープ16aが貼着されたチップ1を図1(B)に示すようにU字状に湾曲させ、例えば、図2に示す破壊試験装置2に搬入してチップ挟持ユニット6に挟持させる。   As shown in FIG. 6B, the adhesive tape 16a, which is the debris collection unit 12a, hangs down between the portions attached to the back surface 1b of the chip 1 according to gravity. The fragment holding surface 18a is curved not along the horizontal plane. When the chip 1 is broken, the chip 1 to which the adhesive tape 16a is attached is curved in a U-shape as shown in FIG. 1 (B), and is carried into, for example, the breaking test apparatus 2 shown in FIG. The chip is held by the chip holding unit 6.

そして、チップ1の一端3a側と、他端3b側と、を移動ユニット10により互いに近づけて、チップ1の湾曲の程度を増大させる。チップ1が湾曲に耐えられずに湾曲部分が破壊されると、破壊起点から破片1dが生じる。そして、各破片1dは、破片回収ユニット12aの破片保持面18a上に分散して落下し、粘着テープ16aに付着する。このとき、粘着テープ16aが湾曲しているため、各破片1dは破片保持面18a上のより広い範囲に拡散される。   Then, the one end 3a side and the other end 3b side of the chip 1 are brought closer to each other by the moving unit 10 to increase the degree of bending of the chip 1. When the curved portion is broken without the tip 1 being able to withstand bending, fragments 1d are generated from the breaking starting point. Then, each fragment 1d is dispersed and falls on the fragment holding surface 18a of the fragment collection unit 12a, and adheres to the adhesive tape 16a. At this time, since the adhesive tape 16a is curved, each fragment 1d is spread over a wider area on the fragment holding surface 18a.

その後、粘着テープ16aをテーブル等の水平面上に載せると、露出した破片保持面18a上の全体に広げられた状態で各破片1dが分布するようになる。そのため、個々の破片1dの観察が容易となり、各破片1dの大きさや形状に関する情報や、各破片1dの位置に関する情報をより高精度に取得できる。   Thereafter, when the adhesive tape 16a is placed on a horizontal surface such as a table or the like, the fragments 1d are distributed while being spread over the entire exposed fragment holding surface 18a. Therefore, it is easy to observe the individual pieces 1d, and information on the size and shape of each piece 1d and information on the position of each piece 1d can be acquired with higher accuracy.

しかも、破壊されたチップ1の一端3a側と、他端3b側と、はチップ1が破壊される前から粘着テープ16aに貼着されているため、チップ1が破壊された後、チップ1の一端3a側と、他端3b側と、を粘着テープ16aに貼着するステップを省略できる。そのため、チップ1の破断面の解析が容易となる。   Moreover, since the one end 3a side and the other end 3b side of the broken chip 1 are adhered to the adhesive tape 16a before the chip 1 is broken, the chip 1 is broken after the chip 1 is broken. The step of attaching one end 3a side and the other end 3b side to the adhesive tape 16a can be omitted. Therefore, analysis of the fracture surface of the chip 1 becomes easy.

なお、チップ1の裏面1bにおける粘着テープ16aが貼着される領域、及び粘着テープ16aの粘着面におけるチップ1の裏面1bに貼着する領域は、所定の領域とされるのが好ましい。この場合、破片回収ユニット12aの破片保持面18aとして露出される粘着テープ16aの粘着面の領域及び粘着テープ16aの形状が一定となる。   In addition, it is preferable that a region on the back surface 1b of the chip 1 to which the adhesive tape 16a is adhered and a region on the adhesive surface of the adhesive tape 16a to be adhered to the back surface 1b of the chip 1 be predetermined regions. In this case, the area of the adhesive surface of the adhesive tape 16a exposed as the fragment holding surface 18a of the fragment collecting unit 12a and the shape of the adhesive tape 16a are constant.

複数のチップ1を破壊して破片の分散状況を解析しようとするとき、各チップ1に粘着テープ16aを同様に貼着することにより、粘着テープ16aの貼着の方法が破片1dの分散状況へ与える影響を極力排除できる。   When trying to analyze the state of dispersion of fragments by destroying a plurality of chips 1, the adhesive tape 16a is similarly adhered to each chip 1 so that the method of attaching the adhesive tape 16a changes to the state of dispersion of fragments 1d. The influence can be eliminated as much as possible.

さらに、上記の実施形態では、破壊試験装置2はチップ1を3点曲げ法とは異なる方法により破壊するチップ破壊ユニット4を備え、チップ1を3点曲げ法とは異なる方法により破壊する場合について説明したが、本発明の一態様はこれに限定されない。   Further, in the above embodiment, the destruction test apparatus 2 includes the chip destruction unit 4 that destructs the chip 1 by a method different from the three-point bending method, and the case where the chip 1 is destructed by a method different from the three-point bending method. Although described, one embodiment of the present invention is not limited to this.

3点曲げ法により破壊可能なチップ1についても、より抗折強度の高いチップ1を製造できるウェーハの加工方法を導出するために、チップ1の破壊が進行する過程をより一層詳細に解析したい場合がある。そのため、3点曲げ法によりチップ1を破壊する場合においても破壊されたチップ1の破片の適切な回収が望まれる場合がある。   For a chip 1 that can be broken by the three-point bending method, in order to derive a processing method of a wafer that can manufacture a chip 1 with higher bending strength, in order to analyze the process of breaking the chip 1 in more detail. There is. Therefore, even when the chip 1 is broken by the three-point bending method, there is a case where it is desired to appropriately collect the broken pieces of the chip 1.

そこで、本発明の一態様に係る破壊試験装置2が備えるチップ破壊ユニット4は、3点曲げ法によりチップ1を破壊してもよい。そして、本発明の一態様に係る破片回収方法では、破壊ステップS3において、チップ1を3点曲げ法により破壊してもよい。3点曲げ法により破壊されたチップ1から生じた各破片1dを破片回収ユニット12により回収できると、3点曲げ法によりチップ1が破壊される過程を従来よりも詳細に解析できる。   Therefore, the chip breaking unit 4 included in the breaking test apparatus 2 according to one embodiment of the present invention may break the chip 1 by a three-point bending method. Then, in the debris collection method according to one aspect of the present invention, in the breaking step S3, the chip 1 may be broken by a three-point bending method. If each piece 1d generated from the chip 1 broken by the three-point bending method can be collected by the piece collection unit 12, the process of breaking the chip 1 by the three-point bending method can be analyzed in more detail than before.

その他、上記実施形態に係る構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。   In addition, the structure, method, and the like according to the above-described embodiment can be appropriately modified and implemented without departing from the scope of the object of the present invention.

1 チップ
1a 表面
1b 裏面
1c 破壊起点
1d 破片
3a 一端
3b 他端
2 破壊試験装置
4 チップ破壊ユニット
6 チップ挟持ユニット
6a,6b チップ支持部
6c 初期位置
8a,8b 面
10 移動ユニット
12,12a 破片回収ユニット
14 基台
16,16a 粘着シート
18,18a 破片保持面
Reference Signs List 1 chip 1a front surface 1b back surface 1c destruction starting point 1d debris 3a one end 3b other end 2 destruction test device 4 chip destruction unit 6 chip holding unit 6a, 6b chip support unit 6c initial position 8a, 8b surface 10 moving unit 12, 12a debris collection unit 14 Base 16, 16a Adhesive sheet 18, 18a Debris holding surface

Claims (5)

チップを破壊できるチップ破壊ユニットと、
該チップ破壊ユニットの下方に配設され、チップ破壊ユニットにより破壊された該チップの破片を保持する破片保持面を表面に有する破片回収ユニットと、を備え、
該チップ破壊ユニットは、破壊されるチップの破壊起点が該破片回収ユニットの該破片保持面に対面するように該チップを破壊することを特徴とする破壊試験装置。
A chip destruction unit that can destroy chips,
A fragment recovery unit disposed below the chip breaking unit and having a fragment holding surface on a surface thereof for holding the chip broken by the chip breaking unit,
A destructive test apparatus, wherein the chip breaking unit breaks the chip such that a breaking start point of the chip to be broken faces the fragment holding surface of the fragment collecting unit.
該破片回収ユニットの該破片保持面は、水平面に沿うことを特徴とする請求項1に記載の破壊試験装置。   The destruction test apparatus according to claim 1, wherein the fragment holding surface of the fragment collection unit is along a horizontal plane. 該チップ破壊ユニットは、
鉛直方向に沿った第1の面を有した第1のチップ支持部と、該第1の面に対面する鉛直方向に沿った第2の面を有した第2のチップ支持部と、を有し、U字状に湾曲されたチップを挟持できるチップ挟持ユニットと、
該第1のチップ支持部と、該第2のチップ支持部と、を互いに近接する方向に相対移動させる移動ユニットと、を備えることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の破壊試験装置。
The chip breaking unit is
A first chip support having a first surface along the vertical direction; and a second chip support having a second surface along the vertical direction facing the first surface. A chip holding unit capable of holding a chip curved in a U-shape;
The destructive test according to claim 1, further comprising a moving unit configured to relatively move the first chip support and the second chip support in a direction approaching each other. apparatus.
該破片回収ユニットの該破片保持面には、複数の粘着シートが積層されており、
該複数の粘着シートは、個々に剥離可能であることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の破壊試験装置。
A plurality of adhesive sheets are laminated on the fragment holding surface of the fragment collection unit,
The destructive test apparatus according to claim 1, wherein the plurality of pressure-sensitive adhesive sheets are individually peelable.
チップを破壊することで生成された破片を回収する破片回収方法であって、
表面に破片保持面を有する破片回収ユニットを準備する破片回収ユニット準備ステップと、
該破片回収ユニットの上方でチップを破壊する破壊ステップと、
該破壊ステップで破壊されたチップの破片が落下して該破片回収ユニットの破片保持面に付着することで破片を回収する回収ステップと、を備えることを特徴とする破片回収方法。
A fragment collection method for collecting fragments generated by destroying a chip,
A fragment collection unit preparing step of preparing a fragment collection unit having a fragment holding surface on the surface,
A destruction step of destroying a chip above the debris collection unit;
A debris collection method, comprising: a debris recovery step in which debris of the chip destroyed in the destruction step falls and adheres to the debris holding surface of the debris collection unit to collect debris.
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