JP2020020984A - Pellicle and method for producing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ペリクル及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a pellicle and a method for manufacturing the pellicle.
半導体装置や液晶表示装置などの製造では、フォトマスク上のマスクパターンをフォトリソグラフィ法を用いて転写し、素子パターンを形成する。これらに使用されるフォトマスクは石英などのガラス基板上にクロムや酸化クロムなどの遮光材料が設けられることで遮光膜パターンが形成されている。 In manufacturing a semiconductor device, a liquid crystal display device, or the like, a mask pattern on a photomask is transferred using a photolithography method to form an element pattern. The photomasks used for these have a light-shielding film pattern formed by providing a light-shielding material such as chromium or chromium oxide on a glass substrate such as quartz.
ガラス基板は電気絶縁性が高く、静電気を発生しやすいという性質を有する。このため使用環境やマスクパターンによっては静電気の影響を受け、パターンが静電破壊することという問題がある。 The glass substrate has a high electric insulation property and easily generates static electricity. For this reason, there is a problem that the pattern is affected by static electricity depending on a use environment or a mask pattern, and the pattern is electrostatically damaged.
通常、フォトマスクはパーティクルの付着を防ぐため、ペリクルと呼ばれる防塵保護カバーをつけて使用される。ペリクルは、ペリクル膜、ペリクル膜を支持するためのフレーム、及びペリクリ膜をフレームに接着させるための粘着剤で構成されており、高い電気絶縁性を有する。 Usually, a photomask is used with a dust-proof protective cover called a pellicle in order to prevent adhesion of particles. The pellicle is composed of a pellicle film, a frame for supporting the pellicle film, and an adhesive for adhering the pellicle film to the frame, and has high electrical insulation.
近年、パターンが微細化し、さらにペリクル膜とフォトマスクのパターン面の距離(スタンドオフ)が近くなったことも一因となり、ペリクル膜からの放電により、パターンが静電破壊する現象が特に問題となっている。 In recent years, the pattern has become finer and the distance (stand-off) between the pellicle film and the photomask pattern surface has become shorter. Has become.
このような問題に対し、特許文献１には、帯電防止機能を備えた光学ペリクルが開示されている。この文献には、ペリクル膜の表面に、導電性と、ペリクル膜の厚さよりも薄い厚さを有する被膜を形成することにより、光学ペリクルは、電荷を分散させ、フォトマスクへの静電放電の頻度又は強度を減少できることが開示されている。 To solve such a problem, Patent Document 1 discloses an optical pellicle having an antistatic function. According to this document, an optical pellicle disperses electric charges and forms an electrostatic discharge to a photomask by forming a conductive film on the surface of the pellicle film and having a thickness smaller than the thickness of the pellicle film. It is disclosed that the frequency or intensity can be reduced.
特許文献1では、ペリクル膜の表面上に付与したゾル粒子を凝集又は架橋させることによりゲルを形成し、更にゲルを乾燥させることにより被膜を形成する。この文献には、ゾルの前駆体として、金属アルコキシド又は金属カルボキシレート等が用いられることが開示されている。しかしながら、このような方法で形成したペリクルに対して表面抵抗値を一層小さくすることにより帯電防止性を一層向上させることが求められている。また、ゾル−ゲル法では膜厚を小さくして製膜することが難しい。 In Patent Document 1, a gel is formed by aggregating or cross-linking sol particles provided on the surface of a pellicle film, and a coating is formed by drying the gel. This document discloses that a metal alkoxide, a metal carboxylate, or the like is used as a sol precursor. However, it is required to further improve the antistatic property by reducing the surface resistance value of the pellicle formed by such a method. Further, it is difficult to form a film by reducing the film thickness by the sol-gel method.
したがって、本発明の目的は、帯電防止性に優れたペリクル及びその製造方法を提供することにある。 Therefore, an object of the present invention is to provide a pellicle excellent in antistatic properties and a method for producing the pellicle.
本発明者らは、鋭意検討した結果、ペリクル膜と、ペリクル膜を保持するフレームとを有するペリクルにおいて、フレームの高さを特定値以下とし、特定の方法によりペリクル膜又はフレームに帯電防止機能を付与すると、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。 The present inventors have conducted intensive studies and found that, in a pellicle having a pellicle film and a frame holding the pellicle film, the height of the frame is set to a specific value or less, and the pellicle film or the frame has an antistatic function by a specific method. It has been found that the above-mentioned problem can be solved by the application and the present invention has been completed.
すなわち、本発明は以下のとおりである。
〔１〕
ペリクル膜と、前記ペリクル膜を保持するフレームとを有するペリクルであって、
前記フレームの高さが３．５ｍｍ以下であり、
前記ペリクル膜及び前記フレームの一方又は両方が、１．０×１０11Ω/□以下の表面抵抗値を有する領域を含むペリクル。
〔２〕
前記フレームの少なくとも外側の表面抵抗値が１．０×１０11Ω/□以下である〔１〕のペリクル。
〔３〕
前記フレーム全体の表面抵抗値が１．０×１０11Ω/□以下である〔１〕又は〔２〕のペリクル。
〔４〕
前記ペリクル膜の表面抵抗値が１．０×１０10Ω/□以下である〔１〕〜〔３〕のいずれかのペリクル
〔５〕
前記フレームが、１．０×１０10Ω/□以下の表面抵抗値を有する領域を含む〔１〕〜〔４〕のいずれかのペリクル。
〔６〕
前記ペリクルの膜厚が０．４μｍ以下である〔１〕〜〔５〕のいずれかのペリクル。
〔７〕
前記ペリクル膜及び前記フレームの一方又は両方が、帯電防止剤により表面処理されており、
前記帯電防止剤が、高分子型帯電防止剤である〔１〕〜〔６〕のいずれかのペリクル。
〔８〕
前記ペリクル膜の形成材料が、フッ素系ポリマーであり、前記帯電防止剤が、高分子型帯電防止剤である〔７〕のペリクル。
〔９〕
前記フレームの形成材料が、アルミニウム又はアルミニウム合金であり、前記帯電防止剤が、高分子型帯電防止剤である〔７〕のペリクル。
〔１０〕
前記高分子型帯電防止剤が、アンモニウムイオンを主成分とするカチオン系ポリマーである〔７〕〜〔９〕のいずれかのペリクル。
〔１１〕
ペリクル膜と、前記ペリクル膜を保持するフレームとを有するペリクルの製造方法であって、
前記ペリクル膜及び前記フレームの一方又は両方に、帯電防止剤を用いて表面処理する工程を含む製造方法。
That is, the present invention is as follows.
[1]
A pellicle having a pellicle film and a frame holding the pellicle film,
The height of the frame is 3.5 mm or less;
A pellicle in which one or both of the pellicle film and the frame includes a region having a surface resistance of 1.0 × 10 11 Ω / □ or less.
[2]
The pellicle according to [1], wherein the surface resistance of at least the outside of the frame is 1.0 × 10 11 Ω / □ or less.
[3]
The pellicle according to [1] or [2], wherein the entire frame has a surface resistance of 1.0 × 10 11 Ω / □ or less.
[4]
The pellicle [5] of any one of [1] to [3], wherein the pellicle film has a surface resistance of 1.0 × 10 10 Ω / □ or less.
The pellicle according to any one of [1] to [4], wherein the frame includes a region having a surface resistance of 1.0 × 10 10 Ω / □ or less.
[6]
The pellicle according to any one of [1] to [5], wherein the pellicle has a thickness of 0.4 μm or less.
[7]
One or both of the pellicle film and the frame are surface-treated with an antistatic agent,
The pellicle according to any one of [1] to [6], wherein the antistatic agent is a polymer type antistatic agent.
[8]
The pellicle according to [7], wherein the material for forming the pellicle film is a fluorine-based polymer, and the antistatic agent is a polymer type antistatic agent.
[9]
The pellicle according to [7], wherein the material for forming the frame is aluminum or an aluminum alloy, and the antistatic agent is a polymer type antistatic agent.
[10]
The pellicle according to any one of [7] to [9], wherein the high molecular weight antistatic agent is a cationic polymer containing ammonium ions as a main component.
[11]
A method for manufacturing a pellicle having a pellicle film and a frame holding the pellicle film,
A manufacturing method comprising a step of subjecting one or both of the pellicle film and the frame to a surface treatment using an antistatic agent.
本発明によれば、帯電防止性に優れたペリクル及びその製造方法を提供可能である。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the pellicle excellent in antistatic property and its manufacturing method can be provided.
以下、本発明を実施するための形態（以下、「本実施形態」と言う。）について詳細に説明する。本実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を以下の内容に限定する趣旨ではなく、本発明は、その要旨の範囲内で種々変形して実施することができる。 Hereinafter, a mode for carrying out the present invention (hereinafter, referred to as “the present embodiment”) will be described in detail. The present embodiment is an exemplification for describing the present invention, and is not intended to limit the present invention to the following contents. The present invention can be implemented with various modifications within the scope of the present invention.
〔ペリクル〕
本実施形態のペリクルは、ペリクル膜と、前記ペリクル膜を保持するフレーム（ペリクル用枠体）とを有するペリクルであって、前記フレームの高さが３．５ｍｍ以下で
あり、前記ペリクル膜及び前記フレームの一方又は両方が、１．０×１０11Ω/□以下の表面抵抗値を有する領域を含む。
(Pellicle)
The pellicle of the present embodiment is a pellicle having a pellicle film and a frame (pellicle frame) holding the pellicle film, wherein the height of the frame is 3.5 mm or less, and One or both of the frames includes a region having a surface resistance of 1.0 × 10 11 Ω / □ or less.
〔ペリクル膜〕
本実施形態におけるペリクル膜は、例えば、フレームの一方の端面にフレームに形成された開口部を覆うように展張支持されたものである。ペリクル膜は、形成材料として、例えば、セルロース誘導体（ニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等、あるいはこれら２種以上の混合物）、フッ素系ポリマー（テトラフルオロエチレン−ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロピレンの３元コポリマー、主鎖に環状構造を持つポリマーであるデュ・ポン社製のテフロン(登録商標)ＡＦ（商品名）、旭硝子社製のサイトップ（商品名）、アウジモント社製のアルゴフロン（商品名）等）等のポリマーを含んでもよい。これらの中でも、現在用いられている等倍投影露光液晶露光機の光源である超高圧水銀ランプに対しては、耐光性やコストの点から、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートやサイトップやテフロンＡＦ等のフッ素系ポリマーが好ましく使用される。これらのポリマーは、それぞれに適した溶媒（ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アルコール系溶媒、フッ素系溶媒等）により溶解させて、ポリマー溶液として用いてもよい。特に、上記のセルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートに対しては、乳酸エチル等のエステル系溶媒が好ましい。また、サイトップやテフロンＡＦ等のフッ素系ポリマーに対しては、トリス（パーフルオロブチル）アミン等のフッ素系溶媒が好ましい。ポリマー溶液は必要に応じてデプスフィルター、メンブレンフィルター等により濾過される。
(Pellicle film)
The pellicle film in the present embodiment is, for example, one that is extended and supported on one end surface of the frame so as to cover an opening formed in the frame. The pellicle membrane may be formed of, for example, a cellulose derivative (nitrocellulose, cellulose acetate, cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate, or a mixture of two or more of them), a fluoropolymer (tetrafluoroethylene-vinylidene fluoride) Ride-hexafluoropropylene terpolymer, Teflon (registered trademark) AF (trade name) manufactured by Du Pont, a polymer having a cyclic structure in the main chain, Cytop (trade name) manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., Ausimont Or a polymer such as Algoflon (trade name) manufactured by Toshiba Corporation. Among these, ultra-high pressure mercury lamps, which are the light sources of currently used 1 × projection liquid crystal exposure devices, are used in view of light resistance and cost, from the viewpoint of cellulose acetate propionate, cellulose acetate butyrate and Cytop. Fluorinated polymers such as Teflon AF and the like are preferably used. These polymers may be dissolved in a suitable solvent (ketone-based solvent, ester-based solvent, alcohol-based solvent, fluorine-based solvent, etc.) and used as a polymer solution. In particular, ester solvents such as ethyl lactate are preferable for the above-mentioned cellulose acetate propionate and cellulose acetate butyrate. Further, for a fluorine-based polymer such as Cytop or Teflon AF, a fluorine-based solvent such as tris (perfluorobutyl) amine is preferable. The polymer solution is filtered by a depth filter, a membrane filter or the like as necessary.
ペリクル膜は、例えばポリマー溶液から成膜された薄膜が用いられる。ポリマー溶液の成膜法には、スピンコート法、ロールコート法、ナイフコート法、キャスト法等が挙げられる。スピンコート法により成膜基板上に成膜した後、必要に応じてホットプレート、クリーンオーブン、（遠）赤外線加熱等により溶媒を乾燥することにより、均一な膜が形成される。この時の成膜基板としては、シリコーン、合成石英、溶融石英、無アルカリガラス、低アルカリガラス、ソーダライムガラス等が挙げられる。成膜用の基板の表面には、シリコーン系、フッ素系等の材料により、あらかじめ離型処理を施しておいてもよい。 As the pellicle film, for example, a thin film formed from a polymer solution is used. Examples of the film forming method of the polymer solution include a spin coating method, a roll coating method, a knife coating method, and a casting method. After the film is formed on the film forming substrate by the spin coating method, the solvent is dried by a hot plate, a clean oven, (far) infrared heating, or the like, if necessary, to form a uniform film. Examples of the film-forming substrate at this time include silicone, synthetic quartz, fused quartz, non-alkali glass, low alkali glass, soda lime glass, and the like. The surface of the substrate for film formation may be previously subjected to a release treatment with a material such as a silicone or fluorine material.
上記により成膜基板上に形成されたペリクル膜は、アルミニウム合金、ステンレススチール、樹脂等に粘着剤を貼り付けた仮枠により、成膜基板から剥がし取って所望のフレームに貼り替えてもよい、また、成膜基板上で所望のフレームを接着後、成膜基板から剥がし取ってもよい。 The pellicle film formed on the film formation substrate by the above may be peeled off from the film formation substrate and replaced with a desired frame by a temporary frame in which an adhesive is attached to an aluminum alloy, stainless steel, resin, or the like, Alternatively, after a desired frame is bonded to the film formation substrate, the frame may be peeled off from the film formation substrate.
このようにして得られたペリクル膜は、フレームに張力を架けて接着剤により貼着される。 The pellicle film thus obtained is attached to the frame with an adhesive by applying tension.
ペリクル膜は、表面抵抗値を有効に低減させるために帯電防止剤により表面全体又はその一部に表面処理されていることが好ましい。表面処理の具体例としては、帯電防止剤を噴霧する方法、気相法の真空蒸着とスパッタリングの方法等が挙げられる。帯電防止剤としては、低分子型帯電防止剤、高分子型帯電防止剤、π共役系導電性ポリマー、金属粒子タイプ等が挙げられる。 The pellicle film is preferably surface-treated on the entire surface or a part thereof with an antistatic agent in order to effectively reduce the surface resistance value. Specific examples of the surface treatment include a method of spraying an antistatic agent and a method of vapor deposition and sputtering by a gas phase method. Examples of the antistatic agent include a low molecular type antistatic agent, a high molecular type antistatic agent, a π-conjugated conductive polymer, and a metal particle type.
低分子型帯電防止剤としては、例えば、グリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、アルキルジエタノールアミン、ヒドロキシアルキルモノエタノールアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキルアミン脂肪酸エステル、アルキルジエタノールアミド、アルキルスルホン酸塩、アルキルベンゼンスルホン酸塩、アルキルホスフェート、テトラアルキルアンモニウム塩、トリアルキルベンジルアンモニウム塩、アルキルベタイン、アルキルイミダゾリウムベタイン等が挙げられる。 Examples of the low molecular weight antistatic agent include glycerin fatty acid ester, polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl phenyl ether, alkyl diethanolamine, hydroxyalkyl monoethanolamine, polyoxyethylene alkylamine, and polyoxyethylene alkylamine fatty acid ester , Alkyl diethanolamide, alkyl sulfonate, alkyl benzene sulfonate, alkyl phosphate, tetraalkyl ammonium salt, trialkyl benzyl ammonium salt, alkyl betaine, alkyl imidazolium betaine and the like.
高分子型帯電防止剤としては、例えば、ポリエチレンオキシド、ポリエーテルエステルアミド、エチレンオキシド−エピハロヒドリン共重合体、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート共重合体、４級アンモニウム塩基含有（メタ）アクリレート共重合体、ポリスチレンスルホン酸ナトリウム、カルボベタイングラフト共重合体、ポリアクリル酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸アミン塩、スチレンを必須の構成単量体とするスチレンポリマーのブロックと親水性ポリマーのブロックの交互ブロック共重合体、ポリスチレン系樹脂にポリエチレングリコールを導入した（メタ）アクリル酸エステルをグラフトした樹脂、ポリエーテル化合物を帯電防止セグメントとした親水性ポリマー、ポリマレイン酸塩、ポリマレイン酸アミン塩、アンモニウムイオンを主成分とするカチオン系ポリマー等が挙げられる。 Examples of the polymer type antistatic agent include polyethylene oxide, polyetheresteramide, ethylene oxide-epihalohydrin copolymer, methoxypolyethylene glycol (meth) acrylate copolymer, quaternary ammonium base-containing (meth) acrylate copolymer, Alternating blocks of styrene polymer and hydrophilic polymer with sodium polystyrene sulfonate, carbobetaine graft copolymer, polyacrylate, polystyrene sulfonate, polystyrene sulfonate amine salt, and styrene as essential constituent monomers Block copolymer, polystyrene resin in which polyethylene glycol is introduced and grafted with (meth) acrylate, hydrophilic polymer with polyether compound as antistatic segment, polymaleic acid , Cationic polymers mainly composed polymaleic acid amine salt, an ammonium ion.
π共役系導電性ポリマーとしては、例えば、ポリアセチレン、ポリ（パラフェニレン）、ポリピロール、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリ（フェニレンビニレン）等が挙げられる。金属金属粒子タイプとしては、金属粒子がＮｉ、Ａｇ、Ｃｕ等が挙げられる。 Examples of the π-conjugated conductive polymer include polyacetylene, poly (paraphenylene), polypyrrole, polythiophene, polyaniline, and poly (phenylenevinylene). Examples of the metal metal particle type include metal particles of Ni, Ag, and Cu.
帯電防止剤は、市販品を用いてもよく、市販品としては、例えば、ファインケミカルジャパン（株）のＥＰ−８、ファインＥＳＤコート、ショーワ（株）のＳＢ−８、コルコート（株）のノンダスト、コルコート、ティーエーケミカル（株）のコニソル、ナガセケムテックス（株）のデナトロンシリーズ、プラスコート（株）のポリカーム等が挙げられる。 As the antistatic agent, a commercially available product may be used. Examples of the commercially available product include EP-8 and Fine ESD Coat of Fine Chemical Japan Co., Ltd., SB-8 of Showa Co., Ltd., and Nondust of Colcoat Co., Ltd. Examples thereof include Colcoat, Conisol of TA Chemical Co., Ltd., Denatron series of Nagase ChemteX Corporation, and Polycalm of Plus Coat Co., Ltd.
帯電防止剤は、これらの中でも、表面抵抗値を有効に低減させる観点から、高分子型帯電防止剤であることが好ましく、アンモニウムイオンを主成分とするカチオン系ポリマーであることがより好ましい。また、ペリクル膜に対する密着性に優れる観点から、ペリクル膜は、フッ素系ポリマーであり、帯電防止剤が高分子型帯電防止剤（好ましくはアンモニウムイオンを主成分とするカチオン系ポリマー）であることが好ましい。 Among these, the antistatic agent is preferably a high molecular weight antistatic agent, and more preferably a cationic polymer containing ammonium ion as a main component, from the viewpoint of effectively reducing the surface resistance value. Further, from the viewpoint of excellent adhesion to the pellicle film, the pellicle film is a fluorine-based polymer, and the antistatic agent is a high-molecular-weight antistatic agent (preferably, a cationic polymer mainly containing ammonium ions). preferable.
ペリクル膜の厚さは、例えば、０．１〜１．０μｍであり、好ましくは０．１〜０．８５μｍであり、より好ましくは０．１〜０．４５μｍであり、更に好ましくは０．２〜０．４μｍである。特に膜厚が０．２〜０．４μｍの場合に帯電防止材料との均一性、膜密着性に優れるために好ましい。０．１〜１．０μｍのペリクル膜の厚さがあれば、微細化として知られる１９３ｎｍの波長でも透過率を保つことができ、ハンドリングにも問題ない結果となる。 The thickness of the pellicle film is, for example, 0.1 to 1.0 μm, preferably 0.1 to 0.85 μm, more preferably 0.1 to 0.45 μm, and still more preferably 0.2 to 0.45 μm. ０．４0.4 μm. In particular, a film thickness of 0.2 to 0.4 μm is preferable because of excellent uniformity with an antistatic material and excellent film adhesion. If the pellicle film has a thickness of 0.1 to 1.0 μm, the transmittance can be maintained even at a wavelength of 193 nm, which is known as miniaturization, and there is no problem in handling.
（フレーム）
本実施形態のフレームの高さは、３．５ｍｍ以下（例えば、２．０ｍｍ以上３．５ｍｍ以下）であり、３．４ｍｍ以下であることが好ましく、３．３ｍｍ以下であることがより好ましい。フレームの高さが上記範囲内であるとペリクル膜に留まっている電気がフレームを介して放電しやすくなる。
(flame)
The height of the frame of the present embodiment is 3.5 mm or less (for example, 2.0 mm or more and 3.5 mm or less), preferably 3.4 mm or less, more preferably 3.3 mm or less. When the height of the frame is within the above range, electricity remaining in the pellicle film is easily discharged through the frame.
本実施形態のフレームの形状は、例えば、マスク形状と相似の矩形や正方形である。そのため、フレームも同様にマスク形状と相似の矩形や正方形である。 The shape of the frame of the present embodiment is, for example, a rectangle or square similar to the mask shape. Therefore, the frame is also a rectangle or square similar to the mask shape.
フレーム各辺の断面形状としては、矩形、Ｈ型、Ｔ型等、特に限定は無いが、矩形形状が最も好ましい。断面は中空構造であっても良い。 The cross-sectional shape of each side of the frame is not particularly limited, such as rectangular, H-shaped, and T-shaped, but a rectangular shape is most preferable. The cross section may be a hollow structure.
フレームの幅は、好ましくは１．５ｍｍ〜３．０ｍｍの間が好ましい。特に好ましいには、１．６ｍｍ〜２．０ｍｍである。 The width of the frame is preferably between 1.5 mm and 3.0 mm. Particularly preferably, it is 1.6 mm to 2.0 mm.
フレームの形成材料としては、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金（５０００系、６０００系、７０００系等）、鉄及び鉄系合金、セラミックス（ＳｉＣ、ＡｌＮ、Ａｌ2Ｏ3等）、セラミックスと金属との複合材料（Ａｌ−ＳｉＣ、Ａｌ−ＡｌＮ、Ａｌ−Ａｌ2Ｏ3等）、炭素鋼、工具鋼、ステンレスシリーズ、マグネシウム合金、並びにポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂等の樹脂等からなり、平面視において略矩形状を呈している。ペリクルは、マスク粘着剤層を介してマスクに貼り付くため、剛性が高くて比較的重量が小さいものが好ましく、アルミニウム、アルミニウム合金、マグネシウム合金、樹脂等の素材が好ましい。 As a material for forming the frame, for example, aluminum, aluminum alloy (5000 series, 6000 series, 7000 series, etc.), iron and iron alloys, ceramics (SiC, AlN, Al 2 O 3 etc.), composite of ceramics and metal material (Al-SiC, Al-AlN , Al-Al 2 O 3 , etc.), carbon steel, tool steel, stainless steel series, magnesium alloy, and made of a polycarbonate resin, resins such as acrylic resin, substantially rectangular shape in a plan view Is presented. Since the pellicle is attached to the mask via the mask pressure-sensitive adhesive layer, a pellicle having high rigidity and a relatively small weight is preferable, and a material such as aluminum, an aluminum alloy, a magnesium alloy, or a resin is preferable.
フレームは、表面抵抗値を有効に低減させるために帯電防止剤により表面全体又はその一部に表面処理されていることが好ましい。表面処理の具体例としては、帯電防止剤を噴霧する方法、真空蒸着方法、スパッタリング方法等が挙げられる。帯電防止剤としては、上述した低分子型帯電防止剤、高分子型帯電防止剤、π共役系導電性ポリマー等が挙げられる。 It is preferable that the entire surface or a part of the frame is surface-treated with an antistatic agent in order to effectively reduce the surface resistance value. Specific examples of the surface treatment include a method of spraying an antistatic agent, a vacuum evaporation method, a sputtering method, and the like. Examples of the antistatic agent include the above-described low-molecular type antistatic agent, high-molecular type antistatic agent, π-conjugated conductive polymer, and the like.
帯電防止剤は、これらの中でも、表面抵抗値を有効に低減させる観点から、高分子型帯電防止剤であることが好ましく、アンモニウムイオンを主成分とするカチオン系ポリマーであることがより好ましい。また、フレームの密着性に優れる観点から、フレームの形成材料は、アルミニウム、又はアルミニウム合金であり、帯電防止剤が高分子型帯電防止剤（好ましくはアンモニウムイオンを主成分とするカチオン系ポリマー）であることが好ましい。 Among these, the antistatic agent is preferably a high molecular weight antistatic agent, and more preferably a cationic polymer containing ammonium ion as a main component, from the viewpoint of effectively reducing the surface resistance value. Further, from the viewpoint of excellent adhesion of the frame, the material for forming the frame is aluminum or an aluminum alloy, and the antistatic agent is a polymer type antistatic agent (preferably, a cationic polymer mainly containing ammonium ions). Preferably, there is.
（内壁、通気孔、フィルター）
必要に応じてフレームの内壁面又は全面に、異物を捕捉するための粘着剤（アクリル系、酢酸ビニル系、シリコーン系、ゴム系等）やグリース（シリコーン系、フッ素系等）を塗布してもよい。また、必要に応じてフレームの内部と外部を貫通する微細な穴を開けて、フレームとフォトマスクで形成された空間の内外の気圧差がなくなるようにすると、膜の膨らみや凹みを防止できる。また、この時、微細な穴の外側に異物除去フィルターを取り付けると、気圧調整が可能な上、ペリクルとフォトマスクで形成された空間の中に異物が侵入することを防げるので好ましい。ペリクルとフォトマスクで形成された空間容積が大きい場合には、これらの穴やフィルターを複数個設けると、気圧変動による膜の膨らみや凹みの回復時間が短くなり、好ましい。
(Inner wall, vent, filter)
If necessary, an adhesive (acrylic, vinyl acetate, silicone, rubber, etc.) or grease (silicone, fluorine, etc.) may be applied to the inner wall surface or the entire surface of the frame to trap foreign matter. Good. In addition, if a small hole penetrating the inside and outside of the frame is formed as necessary to eliminate the pressure difference between the inside and outside of the space formed by the frame and the photomask, the swelling and dent of the film can be prevented. At this time, it is preferable to attach a foreign matter removing filter to the outside of the fine hole, because the pressure can be adjusted and foreign matter can be prevented from entering the space formed by the pellicle and the photomask. In the case where the space volume formed by the pellicle and the photomask is large, it is preferable to provide a plurality of these holes and filters, because the recovery time of the swelling or dent of the film due to fluctuations in atmospheric pressure is shortened.
（膜接着剤）
ぺリクル膜とフレームとを接着するための膜接着剤は、ペリクル膜の材質とフレームの材質によって適宜選択できる。たとえば、膜接着剤としては、例えば、エポキシ系、アクリル系、シリコーン系、フッ素系等の接着剤などが挙げられる。また、接着剤の硬化方法はそれぞれの接着剤に適した硬化方法（熱硬化、光硬化、嫌気性硬化等）が採用される。
(Membrane adhesive)
The film adhesive for bonding the pellicle film and the frame can be appropriately selected depending on the material of the pellicle film and the material of the frame. For example, examples of the film adhesive include epoxy-based, acrylic-based, silicone-based, and fluorine-based adhesives. As a method for curing the adhesive, a curing method (thermal curing, light curing, anaerobic curing, or the like) suitable for each adhesive is employed.
フレームをフォトマスクに貼り付けるためのマスク粘着剤には、それ自身に粘着力のあるホットメルト系（ゴム系、アクリル系）、基材の両面に粘着剤を塗布したテープ系（基材としてアクリル系、ＰＶＣ系等のシートあるいはゴム系、ポリオレフィン系、ウレタン系等のフォーム等が適用でき、粘着剤としてゴム系、アクリル系、シリコーン系等の粘着剤が適用される）等が使用される。マスク粘着剤の厚さは通常０．１５ｍｍ以上６．０ｍｍ以下である。好ましくは、２．０ｍｍ以上４．０ｍｍ以下である。 Mask adhesives for attaching frames to photomasks include hot-melt adhesives (rubber-based and acrylic-based) that themselves have adhesive properties, and tape-based adhesives that have adhesive applied to both sides of the base material (acrylic base material). And PVC-based sheets or foams such as rubber-based, polyolefin-based, and urethane-based foams, and rubber-based, acrylic-based, and silicone-based pressure-sensitive adhesives are used. The thickness of the mask adhesive is usually 0.15 mm or more and 6.0 mm or less. Preferably, it is 2.0 mm or more and 4.0 mm or less.
（表面抵抗値）
本実施形態のペリクルにおいて、ペリクル膜及びフレームの一方又は両方（好ましくは両方）は、１．０×１０11Ω／□以下（好ましくは５．０×１０10Ω／□以下、より好ましくは１．０×１０10Ω／□以下）の表面抵抗値を有する領域を含む。このように表面抵抗値を小さくすることにより、電圧の減衰時間が短くなり、例えば、パターンが静電破壊するリスク等を抑制できる。本実施形態のペリクルにおいて、上記表面抵抗値を特定値以下とする方法としては、上述したように、ペリクル膜及びフレームの少なくとも一方に、帯電防止剤を用いて表面処理する方法等が挙げられる。表面抵抗値は後述の実施例に記載の方法により求められる。
(Surface resistance value)
In the pellicle of this embodiment, one or both (preferably both) of the pellicle film and the frame are 1.0 × 10 11 Ω / □ or less (preferably 5.0 × 10 10 Ω / □ or less, more preferably 1 × 10 11 Ω / □ or less). 2.0 × 10 10 Ω / □ or less). By thus reducing the surface resistance value, the decay time of the voltage is shortened, and for example, the risk of electrostatic breakdown of the pattern can be suppressed. In the pellicle of the present embodiment, as a method of setting the surface resistance value to a specific value or less, as described above, a method of performing a surface treatment on at least one of the pellicle film and the frame using an antistatic agent and the like can be given. The surface resistance value is determined by a method described in Examples described later.
本実施形態のペリクルにおいて、フレームの少なくとも外側の表面抵抗値は、１．０×１０11Ω／□以下（好ましくは５．０×１０10Ω／□以下、より好ましくは１．０×１０10Ω／□以下）であることが好ましい。ここでいう「外側」とは、…。また、本実施形態のペリクルにおいて、フレーム全体の表面抵抗値は、１．０×１０11Ω／□以下（好ましくは５．０×１０10Ω／□以下、より好ましくは１．０×１０10Ω／□以下）であることが好ましい。 In the pellicle of the present embodiment, the surface resistance value of at least the outside of the frame is 1.0 × 10 11 Ω / □ or less (preferably 5.0 × 10 10 Ω / □ or less, more preferably 1.0 × 10 10 Ω / □ or less). Ω / □ or less). The "outside" here is ... In the pellicle of the present embodiment, the surface resistance of the entire frame is 1.0 × 10 11 Ω / □ or less (preferably 5.0 × 10 10 Ω / □ or less, more preferably 1.0 × 10 10 Ω / □ or less). Ω / □ or less).
〔ペリクルの製造方法〕
本実施形態のペリクルの製造方法は、ペリクル膜と、ペリクル膜を保持するフレームとを有するペリクルの製造方法であって、ペリクル膜及びフレームの一方又は両方に、帯電防止剤を用いて表面処理する工程（表面処理工程）を含む。
(Pellicle manufacturing method)
The method for manufacturing a pellicle of the present embodiment is a method for manufacturing a pellicle having a pellicle film and a frame holding the pellicle film, and one or both of the pellicle film and the frame are subjected to a surface treatment using an antistatic agent. Step (surface treatment step).
表面処理工程に用いられる帯電防止剤は、上述の帯電防止剤が挙げられる。この工程では、ペリクル膜及びフレームの全体又はその一部の領域に表面処理すればよく、表面処理方法としては、例えば、上述の表面処理方法が挙げられる。 Examples of the antistatic agent used in the surface treatment step include the above-described antistatic agents. In this step, the entire surface of the pellicle film and the frame or a part thereof may be subjected to surface treatment, and examples of the surface treatment method include the above-described surface treatment method.
〔実施例１〕
アルミ合金製のペリクル枠（フレーム）（外径１１５ｍｍ×１４９ｍｍ、内径１１１ｍｍ×１４５ｍｍ、高さ３．３ｍｍ）のペリクル膜との接着面に接着剤を介して、フッ素系ポリマーで形成されたペリクル膜（０．２８μｍ）を貼付けた。その後、ペリクル膜に帯電防止剤としてポリ（アルキルアンモニウム・テトラアルコキシボランとトリアルキル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム塩の混合物（製品名：ＳＢ−８ ショーワグローブ製）を噴霧することにより、実施例１のペリクルとした。
[Example 1]
A pellicle film formed of a fluoropolymer through an adhesive on an adhesive surface with a pellicle film having a pellicle frame (outer diameter of 115 mm × 149 mm, inner diameter of 111 mm × 145 mm, height of 3.3 mm) made of an aluminum alloy. (0.28 μm). Then, a mixture of a poly (alkylammonium / tetraalkoxyborane and a trialkyl (2-hydroxyethyl) ammonium salt (product name: SB-8, manufactured by Showa Glove) was sprayed as an antistatic agent on the pellicle film, whereby Example 1 was sprayed. Pellicle.
〔実施例２〕
アルミ合金製のペリクル枠（外径１１５ｍｍ×１４９ｍｍ、内径１１１ｍｍ×１４５ｍｍ、高さ３．３ｍｍ）全体に帯電防止剤としてポリ（アルキルアンモニウム・テトラアルコキシボランとトリアルキル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム塩の混合物（製品名：ＳＢ−８ ショーワグローブ製）を噴霧した。その後、このペリクル枠のペリクル膜との接着面に接着剤を介して、フッ素系ポリマーで形成されたペリクル膜を貼付けることにより、実施例２のペリクルとした。
[Example 2]
An aluminum alloy pellicle frame (outside diameter 115 mm x 149 mm, inside diameter 111 mm x 145 mm, height 3.3 mm) as an antistatic agent of poly (alkyl ammonium tetraalkoxy borane and trialkyl (2-hydroxyethyl) ammonium salt The mixture (product name: SB-8, manufactured by Showa Glove) was sprayed, and then a pellicle film formed of a fluoropolymer was attached to the surface of the pellicle frame bonded to the pellicle film via an adhesive. The pellicle of Example 2 was used.
〔実施例３〕
アルミ合金製のペリクル枠（外径１１５ｍｍ×１４９ｍｍ、内径１１１ｍｍ×１４５ｍｍ、高さ３．３ｍｍ）全体に帯電防止剤としてポリ（アルキルアンモニウム・テトラアルコキシボランとトリアルキル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム塩の混合物（製品名：ＳＢ−８ ショーワグローブ製）を噴霧した。その後、帯電防止剤としてポリ（アルキルアンモニウム・テトラアルコキシボランとトリアルキル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム塩の混合物（製品名：ＳＢ−８ ショーワグローブ製）をフッ素系ポリマーで形成されたペリクル膜に噴霧した。その後、このペリクル枠のペリクル膜との接着面に接着剤を介して、ペリクル膜を貼り付けることにより、実施例３のペリクルとした。
[Example 3]
An aluminum alloy pellicle frame (outside diameter 115 mm x 149 mm, inside diameter 111 mm x 145 mm, height 3.3 mm) as an antistatic agent of poly (alkyl ammonium tetraalkoxy borane and trialkyl (2-hydroxyethyl) ammonium salt The mixture (product name: SB-8, manufactured by Showa Glove) was sprayed, and then a mixture of poly (alkyl ammonium tetraalkoxy borane and trialkyl (2-hydroxyethyl) ammonium salt (product name: SB-8) was used as an antistatic agent. (Made by Showa Glove) was sprayed onto the pellicle film formed of the fluoropolymer, and then the pellicle film of Example 3 was adhered to the surface of the pellicle frame bonded to the pellicle film via an adhesive. And
〔実施例４〕
アルミ合金製のペリクル枠（外径１１５ｍｍ×１４９ｍｍ、内径１１１ｍｍ×１４５ｍｍ、高さ３．３ｍｍ）の外側に帯電防止剤としてポリ（アルキルアンモニウム・テトラアルコキシボランとトリアルキル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム塩の混合物（製品名：ＳＢ−８ ショーワグローブ製）を噴霧した。その後、ペリクル枠のペリクル膜との接着面に接着剤を介して、フッ素系ポリマーで形成されたペリクル膜を貼付けた。その後、帯電防止剤としてポリ（アルキルアンモニウム・テトラアルコキシボランとトリアルキル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウム塩の混合物（製品名：ＳＢ−８ ショーワグローブ製）をペリクル膜に噴霧することにより、実施例４のペリクルとした。
[Example 4]
Poly (alkylammonium / tetraalkoxyborane and trialkyl (2-hydroxyethyl) ammonium salt as an antistatic agent outside the aluminum alloy pellicle frame (outer diameter 115 mm x 149 mm, inner diameter 111 mm x 145 mm, height 3.3 mm) (Product name: SB-8, manufactured by Showa Glove) was sprayed on the surface of the pellicle frame, and the pellicle film formed of a fluoropolymer was adhered to the surface of the pellicle frame with the pellicle film via an adhesive. The pellicle of Example 4 was sprayed with a mixture of poly (alkyl ammonium tetraalkoxy borane and trialkyl (2-hydroxyethyl) ammonium salt (product name: SB-8, manufactured by Showa Glove) as an antistatic agent onto the pellicle film. And
〔比較例１〕
アルミ合金製のペリクル枠（外径１１5ｍｍ×１４９ｍｍ、内径１１１ｍｍ×１４５ｍｍ、高さ３．３ｍｍ）のペリクル膜との接着面に接着剤を介して、フッ素系ポリマーで形成されたペリクル膜を貼付けことにより、比較例1のペリクルとした。
[Comparative Example 1]
Affixing a pellicle film made of a fluoropolymer to an adhesive surface with a pellicle film of an aluminum alloy pellicle frame (outer diameter 115 mm x 149 mm, inner diameter 111 mm x 145 mm, height 3.3 mm) via an adhesive. Thereby, the pellicle of Comparative Example 1 was obtained.
［表面抵抗値の測定］
得られた実施例１〜４及び比較例１のペリクルの表面抵抗値をハイレスターＵ（三菱化学製）を用いて測定した。測定結果を表１に示す。
[Measurement of surface resistance value]
The surface resistance values of the obtained pellicles of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 were measured using Hiresta U (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation). Table 1 shows the measurement results.
［印加電圧の減衰時間の測定］
得られた実施例１〜４及び比較例１のペリクルを、アクリル系粘着剤を介してフォトマスク（クロムブランクス）に貼付けた。その後、このペリクル付クロムブランクスに電圧を印加し、減衰する時間を半減期として測定した。印加条件は以下のとおりである。なお、ペリクル付クロムブランクスの半減期が短いほど、静電放電のリスクは小さい。
・印加電圧：−８００Ｖ
・電圧の印加：直流電源ＺＨＯ−２０１ＰＮ（春日電機製）
・電圧の変化を低電位測定器ＫＳＤ−３０００（春日電機株式製）でモニタリング
[Measurement of decay time of applied voltage]
The obtained pellicles of Examples 1 to 4 and Comparative Example 1 were attached to a photomask (chrome blanks) via an acrylic pressure-sensitive adhesive. Thereafter, a voltage was applied to the chromium blank with a pellicle, and the decay time was measured as a half-life. The application conditions are as follows. The shorter the half-life of the chromium blank with pellicle, the lower the risk of electrostatic discharge.
・ Applied voltage: -800V
-Voltage application: DC power supply ZHO-201PN (made by Kasuga Electric)
・ Change in voltage is monitored with a low-potential measuring instrument KSD-3000 (made by Kasuga Denki Co., Ltd.)
得られた半減期から以下の評価基準に基づき評価した。評価結果を表１に示す。
◎：半減期が３秒未満
〇：半減期が３秒以上５秒未満
×：半減期が５秒以上
The obtained half-life was evaluated based on the following evaluation criteria. Table 1 shows the evaluation results.
◎: Half-life is less than 3 seconds〇: Half-life is 3 seconds or more and less than 5 seconds X: Half-life is 5 seconds or more
Claims (11)
前記フレームの高さが３．５ｍｍ以下であり、
前記ペリクル膜及び前記フレームの一方又は両方が、１．０×１０11Ω/□以下の表面抵抗値を有する領域を含むペリクル。 A pellicle having a pellicle film and a frame holding the pellicle film,
The height of the frame is 3.5 mm or less;
A pellicle in which one or both of the pellicle film and the frame includes a region having a surface resistance of 1.0 × 10 11 Ω / □ or less.
前記帯電防止剤が、高分子型帯電防止剤である請求項１〜６のいずれか１項に記載のペリクル。 One or both of the pellicle film and the frame are surface-treated with an antistatic agent,
The pellicle according to any one of claims 1 to 6, wherein the antistatic agent is a polymer type antistatic agent.
前記ペリクル膜及び前記フレームの一方又は両方に、帯電防止剤を用いて表面処理する工程を含む製造方法。 A method for manufacturing a pellicle having a pellicle film and a frame holding the pellicle film,
A manufacturing method comprising a step of subjecting one or both of the pellicle film and the frame to a surface treatment using an antistatic agent.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20220046216A (en) * | 2020-10-07 | 2022-04-14 | 주식회사 에프에스티 | Pellicle for EUV(extreme ultraviolet) lithography and method for fabricating the same |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6189854U (en) * | 1984-11-20 | 1986-06-11 | ||
| JPH03274552A (en) * | 1990-03-26 | 1991-12-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pellicle for lithography |
| JP2001083691A (en) * | 1999-09-13 | 2001-03-30 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | Pellicle free from occurrence of dust |
| JP2002532757A (en) * | 1998-12-14 | 2002-10-02 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | Photomask with electrostatic discharge elimination envelope |
| JP2004527799A (en) * | 2001-05-30 | 2004-09-09 | マイクロ リソグラフィー， インコーポレイテッド | Antistatic optical pellicle |
| JP2012093595A (en) * | 2010-10-28 | 2012-05-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pellicle frame and pellicle |
| JP2014206661A (en) * | 2013-04-15 | 2014-10-30 | 信越化学工業株式会社 | Pellicle frame and pellicle using the same |
| WO2018055995A1 (en) * | 2016-09-20 | 2018-03-29 | 日本軽金属株式会社 | Supporting frame for pellicles, pellicle and method for producing same |
-
2018
- 2018-08-01 JP JP2018145451A patent/JP7082546B2/en active Active
Patent Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6189854U (en) * | 1984-11-20 | 1986-06-11 | ||
| JPH03274552A (en) * | 1990-03-26 | 1991-12-05 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pellicle for lithography |
| JP2002532757A (en) * | 1998-12-14 | 2002-10-02 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | Photomask with electrostatic discharge elimination envelope |
| JP2001083691A (en) * | 1999-09-13 | 2001-03-30 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | Pellicle free from occurrence of dust |
| JP2004527799A (en) * | 2001-05-30 | 2004-09-09 | マイクロ リソグラフィー， インコーポレイテッド | Antistatic optical pellicle |
| JP2012093595A (en) * | 2010-10-28 | 2012-05-17 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pellicle frame and pellicle |
| JP2014206661A (en) * | 2013-04-15 | 2014-10-30 | 信越化学工業株式会社 | Pellicle frame and pellicle using the same |
| WO2018055995A1 (en) * | 2016-09-20 | 2018-03-29 | 日本軽金属株式会社 | Supporting frame for pellicles, pellicle and method for producing same |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20220046216A (en) * | 2020-10-07 | 2022-04-14 | 주식회사 에프에스티 | Pellicle for EUV(extreme ultraviolet) lithography and method for fabricating the same |
| KR102514745B1 (en) | 2020-10-07 | 2023-03-29 | 주식회사 에프에스티 | Pellicle for EUV(extreme ultraviolet) lithography and method for fabricating the same |
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