JP2020007575A5 - - Google Patents

Description

支持する基材を、第１の軸を中心に回転させる基材支持機構と、円筒状のターゲットが設置され、前記ターゲットを第２の軸を中心に回転させる第１のカソード部と、円筒状のターゲットが設置され、前記ターゲットを第３の軸を中心に回転させる第２のカソード部と、をチャンバ内に備え、前記第２の軸と前記第３の軸とは、前記第１の軸に対してねじれの位置に配置されており、前記第１の軸が伸びる方向における、第１の軸と前記基材支持機構の基材支持面との距離Ｍａと第２の軸と前記基材支持機構の基材支持面との距離Ｍａとが、Ｍａ＜Ｍｂを満たし、前記第１の軸が伸びる方向からみたときの、前記第１の軸と前記第２の軸との距離Ｌａと、前記第１の軸と前記第３の軸との距離Ｌｂとが、Ｌａ＞Ｌｂの関係を満たす、ことを特徴とする。

Claims (15)

1. 支持する基材を、第１の軸を中心に回転させる基材支持機構と、
   円筒状のターゲットが設置され、前記ターゲットを第２の軸を中心に回
   転させる第１のカソード部と、
   円筒状のターゲットが設置され、前記ターゲットを第３の軸を中心に回転させる第２のカソード部と、
   をチャンバ内に備え、
   前記第２の軸と前記第３の軸とは、前記第１の軸に対してねじれの位置に配置されており、
   前記第１の軸が伸びる方向における、第１の軸と前記基材支持機構の基材支持面との距離Ｍａと第２の軸と前記基材支持機構の基材支持面との距離Ｍａとが、Ｍａ＜Ｍｂを満たし、
   前記第１の軸が伸びる方向からみたときの、前記第１の軸と前記第２の軸との距離Ｌａと、前記第１の軸と前記第３の軸との距離Ｌｂとが、Ｌａ＞Ｌｂの関係を満たす、
   ことを特徴とする成膜装置。
2. 前記第１の軸が伸びる方向からみたときの、前記基材支持機構に支持される基材の被成膜面のうち前記第１の軸から最も離れた点が描く円の半径をＲとすると、前記第２の回転軸と前記第１の軸との距離はＲ以上であり、前記第２の軸と前記第１の軸との距離は１／２Ｒ以上かつ前記第２の軸と前記第１の軸との間の距離以下である、
   ことを特徴とする請求項１に記載の成膜装置。
3. 前記第１および第２のカソード部それぞれの、回転の軸方向におけるターゲット設置領域の幅が、前記２Ｒよりも大きい、
   ことを特徴とする請求項２に記載の成膜装置。
4. 前記第１および第２のカソード部それぞれの、回転の軸方向におけるターゲット設置領域の幅が、前記２Ｒよりも小さい、
   ことを特徴とする請求項２に記載の成膜装置。
5. 前記第１および第２のカソード部は、それぞれ回転の軸に沿って、前記第１の軸に対する傾斜角が調整可能なマグネットを備えている、
   ことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の成膜装置。
6. 前記１のカソード部が備えるマグネットの前記第１の軸に対する傾斜角と第２のカソード部が備えるマグネットの前記第１の軸に対する傾斜角が、それぞれ個別に調整可能であることを特徴とする請求項５に記載の成膜装置。
7. 制御装置をさらに備えており、
   前記制御装置が、前記基材支持機構に設置される基材の配置および形状に応じて、前記１のカソード部が備えるマグネットの前記第１の軸に対する傾斜角と第２のカソード部が備えるマグネットの前記第１の軸に対する傾斜角を個別に制御する、
   ことを特徴とする請求項６に記載の成膜装置。
8. 前記第１および第２のカソード部それぞれが備える前記マグネットは、それぞれのカソード部の回転の軸に沿って複数に分割して配置されており、分割されたそれぞれのマグネットの回転の径方向における位置を個別に制御する機構をさらに備える、
   ことを特徴とする請求項５乃至７のいずれか１項に記載の成膜装置。
9. 前記第１および第２のカソード部それぞれにターゲットを設置された、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の成膜装置を用いる成膜方法であって、
   前記基材支持機構に設置する基材の形状および配置を取得する工程と、
   取得した前記前記基材の形状および配置に基づいて、前記１のカソード部が備えるマグネットの前記第１の軸に対する傾斜角と第２のカソード部が備えるマグネットの前記第１の軸に対する傾斜角を設定する工程と、
   前記第１および第２のカソード部に電圧を印加する工程と、
   を含むことを特徴とする成膜方法。
10. 前記第１および第２のカソード部に電圧を印加する工程において、交流電源を用い、前記第１のカソード部と前記第２のカソード部に交互に電力を供給する、
    ことを特徴とする請求項９に記載の成膜方法。
11. 前記基材が凹面または凸面を有し、その半開角が４０°以上である、
    ことを特徴とする請求項９または１０に記載の成膜方法。
12. 基材の上に膜を有するレンズの製造方法であって、
    前記第１および第２のカソード部それぞれにターゲットを設置された、請求項１乃至８のいずれか１項に記載の成膜装置の前記基材支持機構に前記基材を設置する工程と、
    前記基材の形状および配置を取得する工程と、
    取得した前記基材の形状および配置に基づいて、前記１のカソード部が備えるマグネットの前記第１の軸に対する傾斜角と第２のカソード部が備えるマグネットの前記第１の軸に対する傾斜角を設定する工程と、
    前記第１および第２のカソード部に電圧を印加する工程と、
    を含むことを特徴とするレンズの製造方法。
13. 前記第１および第２のカソード部に電圧を印加する工程において、交流電源を用い、前記第１のカソード部と前記第２のカソード部に交互に電力を供給する、
    ことを特徴とする請求項１２に記載のレンズの製造方法。
14. 前記基材が凹面または凸面を有し、その半開角が４０°以上である、
    ことを特徴とする、
    請求項１２または１３に記載のレンズの製造方法。
15. 前記膜が反射防止膜である、
    ことを特徴とする請求項１２乃至１４のいずれか一項に記載のレンズの製造方法。