JP2019211357A - Method for producing probe pin support - Google Patents

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Hisao Oshima
久男 大島
泰成 小松
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泰成 小松
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Abstract

To provide a method for producing a probe pin support in which the probe pin housing hole is not blocked by the excess cured product even if shaped using a three-dimensional CAD data of the probe pin support having a probe pin housing hole (three-dimensional structure) as it is.SOLUTION: The probe pin support 1b having a probe pin housing hole 4 formed for accommodating the probe pin 5 is formed by stacking the cured resin layer 8 by irradiating light to the photocurable resin of a liquid. Then, in the probe pin housing hole 4, a rib 12 supporting the probe pin 5 is formed. The rib 12 has a pin support portion 13 with which the probe pin 5 is in contact. Then, around the pin support portion 13, a space that allows the liquid flow of the photocurable resin owing to the fall of its own weight is formed.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

この発明は、電子部品の電気的テスト時に電子部品の端子に接触するプローブピンを支持するプローブピン支持体の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method of manufacturing a probe pin support that supports a probe pin that contacts a terminal of an electronic component during an electrical test of the electronic component.

例えば、電子部品の半導体パッケージの一種であるQFP(Quad Flat Package)は、外形が四角形状のものが多く、四辺から複数の接続端子が突き出ており、各接続端子間の配置間隔が狭ピッチ化されている。   For example, QFP (Quad Flat Package), which is a kind of semiconductor package for electronic components, has a quadrangular outer shape, and a plurality of connection terminals protrude from the four sides, and the arrangement interval between the connection terminals is narrowed. Has been.

図12(a)は、このような電子部品100の電気的テストに使用されるICソケット101と電子部品100との関係を簡略化して示す図である。この図12(a)に示すように、ICソケット101は、電子部品100の端子102に接触するプローブピン103を絶縁性樹脂材料製のプローブピン支持体104のプローブピン収容孔105内に収容するようになっている(特許文献1参照)。   FIG. 12A is a diagram showing a simplified relationship between the IC socket 101 used for the electrical test of the electronic component 100 and the electronic component 100. As shown in FIG. 12A, the IC socket 101 accommodates the probe pin 103 that contacts the terminal 102 of the electronic component 100 in the probe pin accommodation hole 105 of the probe pin support 104 made of an insulating resin material. (See Patent Document 1).

このような電子部品100の電気的テストに使用されるICソケット101は、電子部品100の電気的テスト時に電子部品100の端子102に接触するプローブピン103の配置間隔が狭ピッチ化すると共に、プローブピン103自体が細くなっており、プローブピン103を収容して支持するソケット本体104の加工が困難になっている。このようなICソケット101の製作上の問題を解決するためには、ソケット本体104を積層造形法の一つである光造形法によって製作することが考えられる。   In such an IC socket 101 used for the electrical test of the electronic component 100, the arrangement interval of the probe pins 103 contacting the terminals 102 of the electronic component 100 during the electrical test of the electronic component 100 is reduced, and the probe The pin 103 itself is thin, and it is difficult to process the socket body 104 that accommodates and supports the probe pin 103. In order to solve such a problem in manufacturing the IC socket 101, it is conceivable to manufacture the socket body 104 by an optical modeling method which is one of the layered modeling methods.

従来から知られている積層造形法の一つである光造形法は、硬化工程において、容器内の液状の光硬化性樹脂に光(例えば、レーザー光)を照射し、光が当たった造形テーブル下の1層分の光硬化性樹脂を硬化させ、次に造形テーブルを移動させて硬化した1層目の光硬化性樹脂の下に2層目の液状の光硬化性樹脂を供給し、その2層目の液状の光硬化性樹脂に光を照射し、光が当たった2層目の光硬化性樹脂を硬化させ、このような作業をN層まで繰り返し行って、所望の光造形物(三次元構造物)を形作るようになっている。   An optical modeling method, which is one of the conventionally known layered modeling methods, is a modeling table in which light (for example, laser light) is applied to a liquid photocurable resin in a container in a curing process, and light is applied. The lower layer of the photo-curable resin is cured, and then the second-layer liquid photo-curable resin is supplied under the first layer of the photo-curable resin that is moved by moving the modeling table. Light is applied to the liquid photocurable resin of the second layer, the photocurable resin of the second layer exposed to light is cured, and such an operation is repeated up to the N layer to obtain a desired optically shaped article ( A three-dimensional structure) is formed.

図12(b)は、第1乃至第3プローブピン支持体104a〜cを有するソケット本体104のうちの第2プローブピン支持体104bを光造形法によって製作した場合の不具合発生状況を示す図である。この図12(b)に示すように、第2プローブピン支持体104bを光造形法によって製作した場合、プローブピン収容孔105が微細孔(例えば、直径0.1mmの丸孔)であるため、プローブピン収容孔105内に付着した液状の光硬化性樹脂が光の照射によって硬化し、プローブピン収容孔105内に余剰硬化物106が形成され、プローブピン収容孔105が余剰硬化物106で塞がってしまうという現象を生じることがある。   FIG. 12 (b) is a diagram illustrating a problem occurrence state when the second probe pin support body 104b of the socket body 104 having the first to third probe pin support bodies 104a to 104c is manufactured by an optical modeling method. is there. As shown in FIG. 12B, when the second probe pin support 104b is manufactured by an optical modeling method, the probe pin accommodation hole 105 is a fine hole (for example, a round hole having a diameter of 0.1 mm). The liquid photocurable resin adhering in the probe pin accommodation hole 105 is cured by light irradiation, and an excessively cured product 106 is formed in the probe pin accommodation hole 105, and the probe pin accommodation hole 105 is closed with the excess cured product 106. May occur.

そこで、このような微細孔(プローブピン収容孔105)が余剰硬化物106で塞がれるという不具合の発生を防止する技術として、図13に示すような微細孔201を有する光造形物200の光造形法が開発された。この図13に示す光造形法は、光造形物200の三次元CADデータを、微細孔201の延びる方向が積層面と平行になるように90°回転させた光造形用の等高線データ(第1層乃至第n層のスライスデータ)に変換し、その等高線データに基づいて第1層から第n層まで順次造形を進行するようになっている(特許文献2参照)。   Therefore, as a technique for preventing the occurrence of such a problem that such a fine hole (probe pin accommodation hole 105) is blocked by the excessively cured product 106, the light of the stereolithography product 200 having the fine hole 201 as shown in FIG. A modeling method was developed. In the stereolithography shown in FIG. 13, the contour data for stereolithography (first contour) obtained by rotating the three-dimensional CAD data of the stereolithography object 200 by 90 ° so that the extending direction of the fine holes 201 is parallel to the laminated surface. Layer to n-th slice data), and modeling proceeds sequentially from the first layer to the n-th layer based on the contour data (see Patent Document 2).

特許第5597108号公報Japanese Patent No. 5597108 特開2003−245982号公報JP 2003-245982 A

しかしながら、図13に示す光造形法を適用して第2プローブピン支持体104bを製作した場合、微細孔201としてのプローブピン収容孔105は、余剰硬化物によって塞がれることは抑制されるが、積層方向において余剰硬化物が溜まりやすいため、プローブピン収容孔105の真円度が低下するという問題を有している。   However, when the second probe pin support 104b is manufactured by applying the stereolithography shown in FIG. 13, it is suppressed that the probe pin accommodation hole 105 as the fine hole 201 is blocked by the excessively hardened material. Since the excessively hardened material tends to accumulate in the stacking direction, there is a problem that the roundness of the probe pin housing hole 105 is lowered.

そこで、本発明は、プローブピン収容孔を有するプローブピン支持体(三次元構造物)の三次元CADデータをそのまま使用して造形しても、プローブピン収容孔が余剰硬化物で塞がってしまうことがないプローブピン支持体の製造方法の提供を目的とする。   Therefore, according to the present invention, even if the 3D CAD data of the probe pin support (3D structure) having the probe pin accommodation hole is used as it is, the probe pin accommodation hole is blocked with an excessively hardened material. It is an object of the present invention to provide a method for producing a probe pin support having no gap.

本発明は、電子部品6の電気的テスト時に電子部品6の端子7に接触するプローブピン5を収容するプローブピン収容孔4が形成されたプローブピン支持体1bの製造方法に関するものである。本発明において、前記プローブピン支持体1bは、液状の光硬化性樹脂16に光27を照射することによって硬化した樹脂層8を積み重ねて形成される。また、前記プローブピン収容孔4には、前記プローブピン5を支持するリブ12,28,35,37,41,43が形成される。また、前記リブ12,28,35,37,41,43は、前記プローブピン5が当接するピン支持部11,13,34,38,44を有している。そして、前記ピン支持部11,13,34,38,44の周囲には、前記液状の光硬化性樹脂16の自重落下による流動を可能にする空間14,32,40,42,45が形成される。   The present invention relates to a method of manufacturing a probe pin support 1b in which a probe pin housing hole 4 for housing a probe pin 5 that contacts a terminal 7 of an electronic component 6 during an electrical test of the electronic component 6 is formed. In the present invention, the probe pin support 1b is formed by stacking the resin layers 8 cured by irradiating the liquid photocurable resin 16 with light 27. Further, ribs 12, 28, 35, 37, 41, 43 for supporting the probe pin 5 are formed in the probe pin accommodation hole 4. The ribs 12, 28, 35, 37, 41, and 43 have pin support portions 11, 13, 34, 38, and 44 with which the probe pin 5 abuts. Spaces 14, 32, 40, 42, 45 are formed around the pin support portions 11, 13, 34, 38, 44 to allow the liquid photocurable resin 16 to flow due to its own weight drop. The

本発明に係るプローブピン支持体の製造方法によれば、プローブピン収容孔を有するプローブピン支持体の三次元CADデータをそのまま使用して造形しても、プローブピン収容孔が余剰硬化物で塞がってしまうことがなく、高精度のプローブピン収容孔を有するプローブピン支持体を容易に作成できる。   According to the method for manufacturing a probe pin support according to the present invention, even if the three-dimensional CAD data of the probe pin support having a probe pin accommodation hole is used as it is, the probe pin accommodation hole is blocked with an excessively hardened material. Therefore, it is possible to easily create a probe pin support body having a highly accurate probe pin housing hole.

本発明の第1実施形態に係るプローブピン支持体の製造方法によって形成されたプローブピン支持体を有するICソケットの図である。It is a figure of IC socket which has the probe pin support formed by the manufacturing method of the probe pin support concerning a 1st embodiment of the present invention. 本発明の第1実施形態に係るプローブピン支持体の製造方法によって形成されたプローブピン支持体を説明する図であり、図2(a)はプローブピン支持体の一部平面図、図2(b)は図2(a)のA1−A1線に沿って切断して示すプローブピン支持体の断面図、図2(c)はプローブピン支持体の一部裏面図である。It is a figure explaining the probe pin support body formed by the manufacturing method of the probe pin support body which concerns on 1st Embodiment of this invention, Fig.2 (a) is a partial top view of a probe pin support body, FIG. FIG. 2B is a cross-sectional view of the probe pin support shown cut along the line A1-A1 in FIG. 2A, and FIG. 2C is a partial back view of the probe pin support. 本発明の第1実施形態に係るプローブピン支持体の製造方法である光造形法の硬化工程を示す図である。It is a figure which shows the hardening process of the optical modeling method which is a manufacturing method of the probe pin support body which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係るプローブピン支持体の製造方法によって形成されるプローブピン支持体の第1変形例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 1st modification of the probe pin support body formed by the manufacturing method of the probe pin support body which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係るプローブピン支持体の製造方法によって形成されるプローブピン支持体の第2変形例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 2nd modification of the probe pin support body formed by the manufacturing method of the probe pin support body which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第1実施形態に係るプローブピン支持体の製造方法によって形成されるプローブピン支持体の第3変形例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 3rd modification of the probe pin support body formed by the manufacturing method of the probe pin support body which concerns on 1st Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係るプローブピン支持体の製造方法によって形成されるプローブピン支持体を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the probe pin support formed by the manufacturing method of the probe pin support which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係るプローブピン支持体の製造方法によって形成されるプローブピン支持体の第1変形例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 1st modification of the probe pin support body formed by the manufacturing method of the probe pin support body which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第2実施形態に係るプローブピン支持体の製造方法によって形成されるプローブピン支持体の第2変形例を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the 2nd modification of the probe pin support body formed by the manufacturing method of the probe pin support body which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3実施形態に係るプローブピン支持体の製造方法によって形成されるプローブピン支持体を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the probe pin support formed by the manufacturing method of the probe pin support which concerns on 3rd Embodiment of this invention. 本発明の第4実施形態に係るプローブピン支持体の製造方法によって形成されるプローブピン支持体を説明するための図である。It is a figure for demonstrating the probe pin support formed by the manufacturing method of the probe pin support which concerns on 4th Embodiment of this invention. 図12(a)は従来のICソケットと電子部品との関係を簡略化して示す図であり、図12(b)はソケット本体のプローブピン支持体を光造形法によって製作した場合の不具合発生状況を示す図である。FIG. 12A is a diagram showing a simplified relationship between a conventional IC socket and an electronic component, and FIG. 12B is a problem occurrence state when the probe pin support body of the socket body is manufactured by an optical modeling method. FIG. 従来の微細孔を有する光造形物の造形方法を説明する図である。It is a figure explaining the modeling method of the optical modeling thing which has the conventional fine hole.

[第1実施形態]
以下、本発明に係るプローブピン支持体の製造方法を図面に基づき詳述する。
[First Embodiment]
Hereinafter, a method for producing a probe pin support according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

(ICソケット)
図1は、本発明の第1実施形態に係るプローブピン支持体1の製造方法によって形成されるプローブピン支持体1を有するICソケット2の図(ICソケット2を簡略化して示す断面図)である。
(IC socket)
FIG. 1 is a diagram of an IC socket 2 having a probe pin support 1 formed by the method for manufacturing a probe pin support 1 according to the first embodiment of the present invention (a cross-sectional view showing the IC socket 2 in a simplified manner). is there.

図1に示すように、ICソケット2は、絶縁性樹脂材料製のソケット本体3のプローブピン支持体1にプローブピン収容孔4を形成し、このプローブピン収容孔4内にプローブピン5を収容して、プローブピン5を電子部品6の端子7に接触させ、電子部品6の電気的テストを行うようになっている。ソケット本体3は、第1乃至第3プローブピン支持体1a〜1cを有している。そして、本実施形態に係るプローブピン支持体1の製造方法は、第2プローブピン支持体1bを例にして、その製造方法を説明する。なお、この第2プローブピン支持体1bの製造方法は、第1プローブピン支持体1a、及び第3プローブピン支持体1cの形成に適用できる。また、本実施形態において、ソケット本体3は、第1乃至第3プローブピン支持体1a〜1cの3ブロックによって構成するようになっているが、これに限定されるものではなく、単独(1ブロック)のプローブピン支持体や、複数ブロック(2ブロック、4ブロック、又は5ブロック等)のプローブピン支持体で構成してもよい。また、以下の説明において、第2プローブピン支持体1bは、単にプローブピン支持体1bと略称する。   As shown in FIG. 1, in the IC socket 2, a probe pin accommodation hole 4 is formed in the probe pin support 1 of the socket body 3 made of an insulating resin material, and the probe pin 5 is accommodated in the probe pin accommodation hole 4. Then, the probe pin 5 is brought into contact with the terminal 7 of the electronic component 6 to perform an electrical test of the electronic component 6. The socket body 3 includes first to third probe pin supports 1a to 1c. And the manufacturing method of the probe pin support body 1 which concerns on this embodiment demonstrates the manufacturing method for the 2nd probe pin support body 1b as an example. The method for manufacturing the second probe pin support 1b can be applied to the formation of the first probe pin support 1a and the third probe pin support 1c. Further, in the present embodiment, the socket body 3 is configured by three blocks of the first to third probe pin supports 1a to 1c, but is not limited to this, and is independent (one block) ) Or a plurality of blocks (2 blocks, 4 blocks, 5 blocks, etc.). In the following description, the second probe pin support 1b is simply referred to as a probe pin support 1b.

(プローブピン支持体)
図2は、本発明の第1実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されたプローブピン支持体1bを説明する図である。なお、図2(a)は、プローブピン支持体1bの一部平面図である。また、図2(b)は、図2(a)のA1−A1線に沿って切断して示すプローブピン支持体1bの断面図である。また、図2(c)は、プローブピン支持体1bの一部裏面図である。
(Probe pin support)
FIG. 2 is a diagram illustrating the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the first embodiment of the present invention. FIG. 2A is a partial plan view of the probe pin support 1b. FIG. 2B is a cross-sectional view of the probe pin support 1b shown cut along the line A1-A1 in FIG. FIG. 2C is a partial rear view of the probe pin support 1b.

図2に示すように、プローブピン支持体1bは、光照射によって硬化した樹脂層8を複数層(第1層から第n層まで)積み重ねて形成され、表裏反転した状態で使用される(図1参照)。このプローブピン支持体1bは、第1層から第n層までプローブピン収容孔4が形成されている。プローブピン収容孔4は、第1層から第n−1層まで形成されたプローブピン収容空間10と、第n層に形成されたガイド孔11とで構成されている。プローブピン収容空間10は、プローブピン5を十分な隙間をもって収容する孔径の円柱状空間であり、プローブピン収容孔4の中心CLの回りに複数のリブ12が等間隔で配置されている(90°の間隔で4箇所配置されている)。リブ12は、プローブピン収容空間10の内周面10aからプローブピン収容孔4の中心CLに向かって延び、且つ、樹脂層8の積層方向(図2(b)の−Z方向)に沿って延びるように、第1層から第n−1層まで形成されている。また、リブ12の先端(プローブピン収容孔4の中心CL側の先端)は、平面視した形状がプローブピン5の外周面に当接するように円弧状になっており、プローブピン5を正しい姿勢で支持するピン支持部13になっている。そして、ピン支持部13の周囲は、隣り合うリブ12,12間に位置する複数の扇状の空間14であり、これら複数の空間14が光造形時(プローブピン支持体1bの製造方法の実施時)における液状の光硬化性樹脂の自重落下による流動を可能にする。ガイド孔11は、プローブピン5と僅かな隙間をもって嵌合する丸孔である。なお、本実施形態は、リブ12をプローブピン収容孔4の中心CLの回りに等間隔で4箇所形成する構成を例示したが、これに限られず、2箇所、又は3箇所等の複数箇所に形成する構成でもよい。また、リブ12の先端は、平面視した形状が円弧状の場合に限られず、プローブピン5を支持できる形状であればよく、例えば、平面視した形状が直線状の場合でもよい。また、プローブピン収容空間10及びガイド孔11の形状は、プローブピン5の形状等に応じて変更してもよい。   As shown in FIG. 2, the probe pin support 1b is formed by stacking a plurality of layers (from the first layer to the nth layer) of resin layers 8 cured by light irradiation, and used in a state where the front and back sides are reversed (FIG. 2). 1). In the probe pin support 1b, probe pin accommodation holes 4 are formed from the first layer to the n-th layer. The probe pin accommodation hole 4 includes a probe pin accommodation space 10 formed from the first layer to the (n-1) th layer, and a guide hole 11 formed in the nth layer. The probe pin accommodating space 10 is a cylindrical space having a hole diameter for accommodating the probe pins 5 with a sufficient gap, and a plurality of ribs 12 are arranged at equal intervals around the center CL of the probe pin accommodating hole 4 (90 4 places are arranged at intervals of °). The rib 12 extends from the inner peripheral surface 10a of the probe pin housing space 10 toward the center CL of the probe pin housing hole 4, and along the stacking direction of the resin layer 8 (the -Z direction in FIG. 2B). The first layer to the (n-1) th layer are formed to extend. The tip of the rib 12 (tip on the center CL side of the probe pin housing hole 4) has an arc shape so that the shape in plan view comes into contact with the outer peripheral surface of the probe pin 5, and the probe pin 5 is in the correct posture. It becomes the pin support part 13 supported by. And the circumference | surroundings of the pin support part 13 are the some fan-shaped spaces 14 located between the adjacent ribs 12 and 12, and these several spaces 14 are at the time of optical modeling (at the time of implementation of the manufacturing method of the probe pin support body 1b). ) Allows the liquid photocurable resin to flow due to its own weight drop. The guide hole 11 is a round hole fitted with the probe pin 5 with a slight gap. In addition, although this embodiment illustrated the structure which forms the rib 12 in four places around the center CL of the probe pin accommodation hole 4 at equal intervals, it is not restricted to this, In two places or multiple places, such as three places, The structure to form may be sufficient. Further, the tip of the rib 12 is not limited to the shape in plan view that is arcuate, and may be any shape that can support the probe pin 5. For example, the shape in plan view may be linear. The shapes of the probe pin housing space 10 and the guide hole 11 may be changed according to the shape of the probe pin 5 and the like.

以上のような構造のプローブピン支持体1bは、例えば、第1層乃至第n−1層の樹脂層8におけるプローブピン収容空間10の直径d1が0.30mmであるとすると、第n層の樹脂層8におけるガイド孔11の孔径d2が0.1mmである。また、プローブピン支持体1bは、第1層〜第n層までの各樹脂層8の層厚tが0.05mmである。なお、このようなプローブピン支持体1bの各部の寸法は、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法及びこの製造方法によって製造されるプローブピン支持体1bの理解を容易にするための例示であり、本発明に係るプローブピン支持体1bの製造方法を何ら限定するものではない。   For example, when the diameter d1 of the probe pin housing space 10 in the resin layer 8 of the first layer to the (n−1) th layer is 0.30 mm, the probe pin support 1b having the above structure is The hole diameter d2 of the guide hole 11 in the resin layer 8 is 0.1 mm. In the probe pin support 1b, the thickness t of each resin layer 8 from the first layer to the n-th layer is 0.05 mm. In addition, the dimension of each part of such a probe pin support body 1b is for facilitating understanding of the manufacturing method of the probe pin support body 1b according to the present embodiment and the probe pin support body 1b manufactured by this manufacturing method. It is an illustration and does not limit the manufacturing method of the probe pin support 1b which concerns on this invention at all.

(光造形法の硬化工程)
図3は、本発明の第1実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法である光造形法の硬化工程を示す図である。この図3に示すように、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法は、容器15内に液状の絶縁性を有する光硬化性樹脂16(例えば、ディーメック社のSCR712X、SCR735、SCR737、SCR780、SCR785、SCR955、KC1281、シーフォース社のDWS用樹脂であるDL360、シーメット社のTSR−883W、TSR−884B、TSR−832、DMS社のSomos NanoToolなど)を入れ、容器15内を昇降する造形テーブル17のサポート18の下に1層分の液状の光硬化性樹脂層16を位置させる(図3(a))。この図3において、プローブピン支持体1bの製造方法に使用される3Dプリンター(積層造形装置)20は、プローブピン支持体1bに対応する3Dデータ(三次元CADデータ)21が制御コントローラ(CPU)22に入力されると、その入力された3Dデータ21が制御コントローラ22内の作動制御ソフトによって処理され、制御コントローラ22から造形テーブル17の昇降用の第1ステッピングモータ23に制御信号が出力されると共に、制御コントローラ22から光照射手段24の移動案内手段25の駆動部となる第2ステッピングモータ26に制御信号が出力され、また、制御コントローラ22から光照射手段24に光27(例えば、レーザー光)の照射をコントロールするための制御信号が出力される。
(Curing process of stereolithography)
FIG. 3 is a diagram illustrating a curing process of an optical modeling method that is a method for manufacturing the probe pin support 1b according to the first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, in the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment, a photo-curing resin 16 having a liquid insulating property in the container 15 (for example, SCR712X, SCR735, SCR737 manufactured by DEMEC). SCR780, SCR785, SCR955, KC1281, DL360 which is a DWS resin from Seaforce, TSR-883W, TSR-884B, TSR-832 from Seamet, Somos NanoTool from DMS, etc.) The liquid photocurable resin layer 16 for one layer is positioned under the support 18 of the modeling table 17 (FIG. 3A). In FIG. 3, the 3D printer (layered manufacturing apparatus) 20 used in the method for manufacturing the probe pin support 1 b has 3D data (three-dimensional CAD data) 21 corresponding to the probe pin support 1 b as a control controller (CPU). When the data is input to 22, the input 3D data 21 is processed by the operation control software in the controller 22, and a control signal is output from the controller 22 to the first stepping motor 23 for raising and lowering the modeling table 17. At the same time, a control signal is output from the controller 22 to the second stepping motor 26 serving as a drive unit for the movement guide means 25 of the light irradiation means 24, and light 27 (for example, laser light) is sent from the controller 22 to the light irradiation means 24. ) Is output to control the irradiation.

次に、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法は、造形テーブル17のサポート18の下に位置する液状の光硬化性樹脂16に光照射手段24から光27を照射し、光27が当たった1層分の光硬化性樹脂層16a1を硬化させる(図3(b))。これにより、プローブピン収容空間10及び複数のリブ12を有する1層目の樹脂層8が形成される。   Next, in the method of manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment, the light 27 is irradiated from the light irradiation means 24 onto the liquid photocurable resin 16 located under the support 18 of the modeling table 17, and the light 27 The photo-curable resin layer 16a1 corresponding to one layer is cured (FIG. 3B). Thereby, the first resin layer 8 having the probe pin accommodating space 10 and the plurality of ribs 12 is formed.

次に、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法は、造形テーブル17を上昇させ、硬化した1層目の光硬化性樹脂層16a1の下に2層目の液状の光硬化性樹脂116を供給し、その2層目の液状の光硬化性樹脂16に光27を照射し、光27が当たった2層目の光硬化性樹脂層16a2を硬化させる(図3(c))。これにより、プローブピン収容空間10及び複数のリブ12を有する2層目の樹脂層8が形成される。このような作業をn−1層まで繰り返し実施される。   Next, in the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment, the modeling table 17 is raised, and a second layer of liquid photocurable resin is formed under the cured first photocurable resin layer 16a1. 116 is supplied, and light 27 is irradiated to the liquid photocurable resin 16 of the second layer, and the second photocurable resin layer 16a2 irradiated with the light 27 is cured (FIG. 3C). Thereby, the second resin layer 8 having the probe pin accommodating space 10 and the plurality of ribs 12 is formed. Such an operation is repeated up to n-1 layers.

次に、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法は、造形テーブル17を上昇させ、硬化したn−1層目の光硬化性樹脂層16a(n−1)の下にn層目の液状の光硬化性樹脂16を供給し、そのn層目の液状の光硬化性樹脂16に光27を照射し、光27が当たったn層目の光硬化性樹脂層16anを硬化させる(図3(c))。これにより、ガイド孔11を有するn層目の樹脂層8が形成される。   Next, in the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment, the modeling table 17 is raised, and the nth layer is formed under the cured n−1th photocurable resin layer 16a (n−1). The liquid photocurable resin 16 is supplied, and the n-th layer liquid photocurable resin 16 is irradiated with light 27 to cure the nth photocurable resin layer 16an irradiated with the light 27 ( FIG. 3 (c)). Thereby, the nth resin layer 8 having the guide holes 11 is formed.

このような本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法は、第1層乃至第n−1層の樹脂層8の形成工程において、リブ12の先端に位置するピン支持部13の周囲の空間14が液状の光硬化性樹脂16の自重落下による流動を可能にするため、積層方向において余剰硬化物が溜まり難く、プローブピン収容孔4が余剰硬化物によって塞がれることがない。   In the method of manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment as described above, in the step of forming the first layer to the (n-1) th resin layer 8, the periphery of the pin support portion 13 positioned at the tip of the rib 12 is used. Since the space 14 allows the liquid photo-curing resin 16 to flow due to its own weight drop, the excessively hardened material does not easily accumulate in the stacking direction, and the probe pin accommodation hole 4 is not blocked by the excessively hardened material.

以上のようにして、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法は、第1層乃至第n層の樹脂層8を順次積み重ねることにより、図2に示したプローブピン支持体1bを形成する。このプローブピン支持体1bの製造方法の硬化工程において、液状の光硬化性樹脂16に対する光27の照射範囲(光硬化させる範囲)は、図2に示したプローブピン支持体1bの3Dデータ21(従来例のような補正をしない3Dデータ)に基づいて定められる。   As described above, in the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment, the probe pin support 1b shown in FIG. 2 is formed by sequentially stacking the first to nth resin layers 8. To do. In the curing step of the manufacturing method of the probe pin support 1b, the irradiation range (photocuring range) of the light 27 with respect to the liquid photocurable resin 16 is the 3D data 21 of the probe pin support 1b shown in FIG. 3D data that is not corrected as in the conventional example).

(本実施形態の効果)
以上のように本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によれば、第1層乃至第n−1層の樹脂層8の形成工程において、リブ12の先端に位置するピン支持部13の周囲に複数の空間14が形成され、これら複数の空間14が液状の光硬化性樹脂16の自重落下による流動を可能にするため、余剰硬化物がプローブピン収容孔4内及びリブ12のピン支持部13の周囲に溜まり難い。その結果、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法は、光造形時において、プローブピン収容孔4及びリブ12のピン支持部13の周囲が余剰硬化物によって塞がれることがない(第1の効果)。
(Effect of this embodiment)
As described above, according to the method of manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment, the pin support portion 13 located at the tip of the rib 12 in the formation process of the resin layer 8 of the first layer to the (n-1) th layer. A plurality of spaces 14 are formed around the outer periphery of the substrate, and the plurality of spaces 14 enable the liquid photocurable resin 16 to flow due to its own weight drop. It is difficult to collect around the support portion 13. As a result, in the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment, the periphery of the probe pin accommodation hole 4 and the pin support portion 13 of the rib 12 is not blocked by the excessively hardened material during the optical modeling ( First effect).

また、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によれば、プローブピン収容孔4を有するプローブピン支持体1bの3Dデータ(三次元CADデータ)21をそのまま使用して(従来例のような三次元CADデータを造形用の等高線データに変換することなく)造形しても、プローブピン収容孔4及びリブ12のピン支持部13の周囲が余剰硬化物で塞がってしまうことがなく、高精度のプローブピン収容孔4及び高精度のリブ12を有するプローブピン支持体1bを容易に作成できる(第2の効果)。   Further, according to the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment, the 3D data (three-dimensional CAD data) 21 of the probe pin support 1b having the probe pin accommodating hole 4 is used as it is (the conventional example). Even if modeling without converting such three-dimensional CAD data into contour data for modeling), the periphery of the pin support portion 13 of the probe pin housing hole 4 and the rib 12 is not clogged with surplus hardened material, The probe pin support 1b having the high-precision probe pin accommodation hole 4 and the high-precision rib 12 can be easily produced (second effect).

また、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によれば、ガイド孔11が形成された第n層の樹脂層8をプローブピン収容空間10内の複数のリブ12によって補強することができる(第3の効果)。   Further, according to the method for manufacturing the probe pin support 1 b according to the present embodiment, the nth resin layer 8 in which the guide hole 11 is formed can be reinforced by the plurality of ribs 12 in the probe pin housing space 10. Yes (third effect).

(第1実施形態の第1変形例)
図4は、第1実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bの第1変形例を説明するための図である。なお、図4(a)は、第1変形例に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bの一部平面図である。また、図4(b)は、図4(a)のA2−A2線に沿って切断して示すプローブピン支持体1bの断面図である。
(First modification of the first embodiment)
FIG. 4 is a view for explaining a first modification of the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the first embodiment. FIG. 4A is a partial plan view of the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the first modification. FIG. 4B is a sectional view of the probe pin support 1b shown cut along the line A2-A2 of FIG.

図4に示すように、第1変形例に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bは、第1層乃至第n−3の樹脂層8が図2に示したプローブピン支持体1bの第1層乃至第n−1層の樹脂層8と同様の構成であり、プローブピン収容空間10の内部に複数のリブ12が形成され、各リブ12の先端がプローブピン5に当接するピン支持部13になっている。そして、ピン支持部13の周囲には、液状の光硬化性樹脂の自重落下による流動を可能にする空間14が形成されている。   As shown in FIG. 4, the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the first modification has the first to n-3th resin layers 8 shown in FIG. The probe pin support 1b has the same structure as the first to (n-1) th resin layers 8, and a plurality of ribs 12 are formed in the probe pin housing space 10, and the tips of the ribs 12 are connected to the probe pins. 5 is a pin support portion 13 that comes into contact with 5. A space 14 is formed around the pin support portion 13 to allow the liquid photocurable resin to flow due to its own weight drop.

また、本変形例に係るプローブピン支持体1bは、第n−2層の樹脂層8にガイド孔11が形成され、第n−1層及び第n層の樹脂層8にプローブピン収容空間10が形成されている。そして、プローブピン収容孔は、2箇所のプローブピン収容空間10,10とガイド孔11とによって構成されている。   In the probe pin support 1b according to this modification, a guide hole 11 is formed in the (n-2) th resin layer 8, and a probe pin accommodating space 10 is formed in the (n-1) th layer and the nth resin layer 8. Is formed. The probe pin accommodation hole is composed of two probe pin accommodation spaces 10 and 10 and a guide hole 11.

本変形例に係るプローブピン支持体1bの製造方法は、第1実施形態に係るプローブピン1bの効果と同様の効果を得ることができる。   The manufacturing method of the probe pin support 1b according to the present modification can obtain the same effects as those of the probe pin 1b according to the first embodiment.

(第1実施形態の第2変形例)
図5は、第1実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bの第2変形例を説明するための図である。なお、図5(a)は、第2変形例に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bの一部平面図である。また、図5(b)は、図5(a)のA3−A3線に沿って切断して示すプローブピン支持体1bの断面図である。
(Second modification of the first embodiment)
FIG. 5 is a view for explaining a second modification of the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the first embodiment. FIG. 5A is a partial plan view of the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the second modification. FIG. 5B is a cross-sectional view of the probe pin support 1b shown cut along the line A3-A3 in FIG.

図5に示すように、第2変形例に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bは、上記第1変形例に係るプローブピン支持体1bの第n−1層及び第n層の樹脂層8のプローブピン収容空間10に、上記第1変形例に係るプローブピン支持体1bの第1層乃至第n−3層の樹脂層8のプローブピン収容空間10内に形成したリブ12と同様のリブ12を形成した構成が上記第1変形例に係るプローブピン支持体1bと相違するが、他の構成が上記第1変形例に係るプローブピン支持体1bと同様である。なお、図5に示すプローブピン支持体1bは、図4に示すプローブピン支持体1bと同一の構成部分に同一符号を付し、重複した説明を省略する。   As shown in FIG. 5, the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the second modification is the n-1th layer of the probe pin support 1b according to the first modification. In the probe pin housing space 10 of the n-th resin layer 8 and in the probe pin housing space 10 of the first to n-3th resin layers 8 of the probe pin support 1b according to the first modification. The structure in which the rib 12 similar to the formed rib 12 is formed is different from the probe pin support 1b according to the first modification, but the other structure is the same as the probe pin support 1b according to the first modification. is there. In the probe pin support 1b shown in FIG. 5, the same components as those of the probe pin support 1b shown in FIG.

このような第2変形例に係るプローブピン支持体1bの製造方法は、第1変形例に係るプローブピン支持体1bの製造方法と同様の効果を得ることができることはもちろんのこと、ガイド孔11が形成された第n−2層の樹脂層8の強度をより一層強化することができ、プローブピン支持体1bの耐久性をより一層向上させることができる。   The method for manufacturing the probe pin support 1b according to the second modified example can obtain the same effect as the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the first modified example. The strength of the (n-2) th layer resin layer 8 formed with can be further enhanced, and the durability of the probe pin support 1b can be further improved.

(第1実施形態の第3変形例)
図6は、第1実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bの第3変形例を説明するための図である。なお、図6(a)は、第3変形例に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bの一部平面図である。また、図6(b)は、図6(a)のA4−A4線に沿って切断して示すプローブピン支持体1bの断面図である。
(Third Modification of First Embodiment)
FIG. 6 is a view for explaining a third modification of the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the first embodiment. FIG. 6A is a partial plan view of the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the third modification. FIG. 6B is a cross-sectional view of the probe pin support 1b shown cut along the line A4-A4 of FIG.

図6に示すように、第3変形例に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bは、図2に示した第1実施形態に係るプローブピン支持体1bの第1層乃至第n−1層の構成が第n層の樹脂層8まで延長されており、第n層の樹脂層8にガイド孔11が形成されない点において第1実施形態に係るプローブピン支持体1bと相違するが、他の構成が第1実施形態に係るプローブピン支持体1bと同様である。そして、第3変形例に係るプローブピン支持体1bは、プローブピン収容孔4がプローブピン収容空間10のみで構成されている。なお、図6に示すプローブピン支持体1bは、図2に示すプローブピン支持体1bと同一の構成部分に同一符号を付し、重複した説明を省略する。   As shown in FIG. 6, the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the third modification is the same as the probe pin support 1b according to the first embodiment shown in FIG. The probe pin support according to the first embodiment in that the structure of the first layer to the (n-1) th layer extends to the nth resin layer 8, and no guide hole 11 is formed in the nth resin layer 8. Although different from 1b, other configurations are the same as the probe pin support 1b according to the first embodiment. And the probe pin support body 1b which concerns on a 3rd modification has the probe pin accommodation hole 4 comprised only by the probe pin accommodation space 10. FIG. In the probe pin support 1b shown in FIG. 6, the same components as those of the probe pin support 1b shown in FIG.

このような第3変形例に係るプローブピン支持体1bの製造方法は、第1実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法における第1及び第2の効果と同様の効果を得ることができる。   The method for manufacturing the probe pin support 1b according to the third modification can obtain the same effects as the first and second effects in the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the first embodiment. .

[第2実施形態]
図7は、本発明の第2実施形態に係るプローブピン支持体1の製造方法によって形成されるプローブピン支持体1を説明するための図である。なお、図7(a)は、プローブピン支持体1bの一部平面図である。また、図7(b)は、図7(a)のA5−A5線に沿って切断して示すプローブピン支持体1bの断面図である。また、図7(c)は、プローブ支持体1bの一部裏面図である。
[Second Embodiment]
FIG. 7 is a view for explaining the probe pin support 1 formed by the method for manufacturing the probe pin support 1 according to the second embodiment of the present invention. FIG. 7A is a partial plan view of the probe pin support 1b. Moreover, FIG.7 (b) is sectional drawing of the probe pin support body 1b shown cut | disconnected along the A5-A5 line | wire of Fig.7 (a). FIG. 7C is a partial rear view of the probe support 1b.

図7に示すように、プローブピン支持体1bは、光照射によって硬化した樹脂層8を複数層(第1層から第n層まで)積み重ねて形成され、第1層乃至第n層の樹脂層8にプローブピン収容空間10が形成されている。そして、樹脂層8の積層方向に間隔をあけて形成された第3層及び第n−2層のプローブピン収容空間10の内周面10aには、それぞれ一対のリブ28,28が形成されている。この一対のリブ28,28は、図7(a)に示すように、プローブ収容空間10の中心CLを通り且つX軸と平行な中心線30に沿って延びる先端面31を有し、先端面31同士の間隔がプローブピン5の外径寸法と同一に形成されている。これにより、一対のリブ28,28の間には、プローブピン5の外径寸法と同一の溝幅の空間32がプローブピン収容空間10の中心CLからプローブピン収容空間10の内周面10aまで中心線30に沿って延びている。そして、第3層の樹脂層8における一対のリブ28,28の間の空間32と第n−2層の樹脂層8における一対のリブ28,28の間の空間32は、プローブピン収容空間10の中心CLに対して直角に交差するように形成されている。その結果、プローブピン支持体1bは、図7(a)に示すように平面視した場合、第3層の樹脂層8における空間32と第n−2層の樹脂層8における空間32の交差する部分がプローブピン5に外接する四角形状になり、プローブピン5を正しい姿勢で支持することができる。   As shown in FIG. 7, the probe pin support 1b is formed by stacking a plurality of resin layers 8 (from the first layer to the n-th layer) that are cured by light irradiation, and the first to n-th resin layers are stacked. 8, a probe pin housing space 10 is formed. A pair of ribs 28 and 28 are formed on the inner peripheral surface 10a of the probe pin housing space 10 of the third layer and the (n-2) th layer formed at intervals in the stacking direction of the resin layer 8, respectively. Yes. As shown in FIG. 7A, the pair of ribs 28 has a distal end surface 31 that extends along a center line 30 that passes through the center CL of the probe housing space 10 and is parallel to the X axis. The interval between 31 is formed to be the same as the outer diameter of the probe pin 5. Thereby, a space 32 having a groove width equal to the outer diameter of the probe pin 5 is formed between the pair of ribs 28, 28 from the center CL of the probe pin housing space 10 to the inner peripheral surface 10a of the probe pin housing space 10. It extends along the center line 30. The space 32 between the pair of ribs 28 and 28 in the third resin layer 8 and the space 32 between the pair of ribs 28 and 28 in the n-2th resin layer 8 are the probe pin accommodating space 10. It is formed so as to intersect at right angles to the center CL of. As a result, when the probe pin support 1b is viewed in plan as shown in FIG. 7A, the space 32 in the third resin layer 8 and the space 32 in the n-2th resin layer 8 intersect. The portion becomes a quadrangular shape circumscribing the probe pin 5, and the probe pin 5 can be supported in a correct posture.

また、図7(a)に示すように、第3層の樹脂層8における一対のリブ28,28は、先端面31のうちで、プローブピン収容空間10の中心CLを通り且つY軸と平行に延びる中心線33上に位置する部分がプローブピン5に当接するピン支持部34となり、このピン支持部34がプローブピン収容空間10の中心CL側の先端(リブ28の先端)になる。また、図7(b)に示すように、第n−2層の樹脂層8における一対のリブ28,28は、先端面31のうちで、プローブピン収容空間10の中心CLを通りX軸と平行に延びる中心線30上に位置する部分がプローブピン5に当接するピン支持部34となり、このピン支持部34がプローブピン収容空間10の中心CL側の先端(リブの先端)になる。そして、第3層及び第n−2層の樹脂層8における一対のリブ28,28のピン支持部34の周囲には、液状の光硬化性樹脂の自重落下による流動を可能にする空間32が形成されている。このような構成の本実施形態に係るプローブピン支持体1bは、図3に示した光造形法の硬化工程と同様にして形成される。なお、本実施形態に係るプローブピン支持体1bは、第1実施形態に係るプローブピン支持体1bのガイド孔11が形成されないため、プローブピン収容孔4がプローブピン収容空間10のみで構成される。また、本実施形態に係るプローブピン支持体1bは、第3層と第n−2層に一対のリブ28,28を形成する構成を例示したが、これに限られず、積層方向に離れて位置する任意の複数の樹脂層8にそれぞれ一対のリブ28,28を形成するようにしてもよい。   As shown in FIG. 7A, the pair of ribs 28, 28 in the third resin layer 8 pass through the center CL of the probe pin housing space 10 and parallel to the Y axis in the tip surface 31. A portion located on the center line 33 extending in the direction becomes a pin support portion 34 that comes into contact with the probe pin 5, and this pin support portion 34 becomes the tip on the center CL side of the probe pin accommodation space 10 (tip of the rib 28). Further, as shown in FIG. 7B, the pair of ribs 28 and 28 in the (n−2) -th layer resin layer 8 pass through the center CL of the probe pin housing space 10 in the tip surface 31 and the X-axis. A portion located on the center line 30 extending in parallel is a pin support portion 34 that abuts on the probe pin 5, and this pin support portion 34 is a tip on the center CL side of the probe pin accommodation space 10 (tip of a rib). A space 32 is formed around the pin support portion 34 of the pair of ribs 28 and 28 in the resin layer 8 of the third layer and the (n−2) -th layer to allow the liquid photocurable resin to flow due to its own weight drop. Is formed. The probe pin support 1b according to the present embodiment having such a configuration is formed in the same manner as the curing process of the optical modeling method shown in FIG. In the probe pin support 1b according to this embodiment, since the guide hole 11 of the probe pin support 1b according to the first embodiment is not formed, the probe pin accommodation hole 4 is configured only by the probe pin accommodation space 10. . In addition, the probe pin support 1b according to the present embodiment exemplifies a configuration in which the pair of ribs 28 and 28 are formed in the third layer and the (n-2) th layer. A pair of ribs 28 may be formed on each of the plurality of resin layers 8.

以上のように本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によれば、第3層及び第n−2層の樹脂層8における一対のリブ28,28のピン支持部34の周囲に空間32が形成され、この空間32が液状の光硬化性樹脂の自重落下による流動を可能にするため、余剰硬化物がプローブピン収容空間10内及び空間32内に溜まり難い。その結果、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法は、光造形時において、プローブピン収容空間10及び空間32内が余剰硬化物によって塞がれることがない(第1の効果)。   As described above, according to the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment, the space around the pin support portion 34 of the pair of ribs 28 and 28 in the resin layer 8 of the third layer and the (n-2) th layer. 32 is formed, and this space 32 allows the liquid photo-curing resin to flow due to its own weight drop, so that the excessively hardened material is not easily accumulated in the probe pin housing space 10 and the space 32. As a result, in the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment, the probe pin housing space 10 and the space 32 are not blocked by the excessively hardened material during the optical modeling (first effect).

また、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によれば、プローブピン収容空間10を有するプローブピン支持体1bの3Dデータ(三次元CADデータ)21をそのまま使用して(従来例のような三次元CADデータを造形用の等高線データに変換することなく)造形しても、プローブピン収容空間10及びピン支持部34の周囲の空間32が余剰硬化物で塞がってしまうことがなく、高精度のプローブピン収容空間10及び高精度の一対のリブ28,28を有するプローブピン支持体1bを容易に作成できる(第2の効果)。   Further, according to the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment, the 3D data (three-dimensional CAD data) 21 of the probe pin support 1b having the probe pin accommodating space 10 is used as it is (the conventional example). Even if modeling is performed (without converting such three-dimensional CAD data into contour data for modeling), the space 32 around the probe pin housing space 10 and the pin support portion 34 is not blocked by the excessively cured product, The probe pin support 1b having the high-precision probe pin housing space 10 and the pair of high-precision ribs 28 and 28 can be easily produced (second effect).

(第2実施形態の第1変形例)
図8は、第2実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bの第1変形例を説明するための図である。なお、図8(a)は、第1変形例に係るプローブピン支持体1bの一部平面図である。また、図8(b)は、図8(a)のA6−A6線に沿って切断して示すプローブピン支持体1bの断面図である。また、図8(c)は、第1変形例に係るプローブピン支持体1bの一部裏面図である。
(First Modification of Second Embodiment)
FIG. 8 is a view for explaining a first modification of the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the second embodiment. FIG. 8A is a partial plan view of the probe pin support 1b according to the first modification. FIG. 8B is a cross-sectional view of the probe pin support 1b shown cut along the line A6-A6 in FIG. FIG. 8C is a partial rear view of the probe pin support 1b according to the first modification.

図8に示すように、本変形例に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bは、上記第2実施形態に係るプローブピン支持体1bの第1層及び第2層の樹脂層8におけるプローブピン収容空間10内に、プローブピン収容空間10の内周面10aからリブ28のピン支持部34まで中心線33に沿って延びる積層方向リブ35が形成されている。また、この本変形例に係るプローブピン支持体1bは、上記第2実施形態に係るプローブピン支持体1bの第n−1層及び第n層の樹脂層8におけるプローブピン収容空間10内に、プローブピン収容空間10の内周面10aからリブ28のピン支持部34まで中心線30に沿って延びる積層方向リブ35が形成されている。これら積層方向リブ35は、プローブピン収容空間10の中心CL側の先端がピン支持部36になっており、このピン支持部36がリブ28のピン支持部34と共にプローブピン5に当接して支持する。なお、本変形例に係るプローブピン支持体1bは、上記第2実施形態に係るプローブピン支持体1bと同一の構成部分に同一符号を付し、上記第2実施形態に係るプローブピンと重複する説明を省略する。   As shown in FIG. 8, the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present modification includes the first layer and the second layer of the probe pin support 1b according to the second embodiment. Lamination direction ribs 35 extending along the center line 33 from the inner peripheral surface 10 a of the probe pin accommodation space 10 to the pin support portion 34 of the rib 28 are formed in the probe pin accommodation space 10 in the resin layer 8 of the layer. Further, the probe pin support 1b according to the present modification is provided in the probe pin housing space 10 in the n-1th layer and the nth resin layer 8 of the probe pin support 1b according to the second embodiment. Lamination direction ribs 35 extending along the center line 30 from the inner peripheral surface 10a of the probe pin accommodating space 10 to the pin support portions 34 of the ribs 28 are formed. In the stacking direction ribs 35, the tip on the center CL side of the probe pin accommodating space 10 is a pin support portion 36, and this pin support portion 36 is in contact with the probe pin 5 together with the pin support portion 34 of the rib 28. To do. In addition, the probe pin support 1b which concerns on this modification attaches | subjects the same code | symbol to the same component as the probe pin support 1b which concerns on the said 2nd Embodiment, and overlaps with the probe pin which concerns on the said 2nd Embodiment. Is omitted.

このような本変形例に係るプローブピン支持体1bの製造方法は、第2実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法と同様の効果を得ることができることはもちろんのこと、一対のリブ28,28の強度を積層方向リブ35,35で強化することができ、プローブピン支持体1bの耐久性をより一層向上させることができる。   The manufacturing method of the probe pin support 1b according to this modification example can obtain the same effect as the manufacturing method of the probe pin support 1b according to the second embodiment. , 28 can be strengthened by the lamination direction ribs 35, 35, and the durability of the probe pin support 1b can be further improved.

(第2実施形態の第2変形例)
図9は、本発明の第2実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bの第2変形例を説明するための図である。なお、図9(a)は、本変形例プローブピン支持体1bの一部平面図である。また、図9(b)は、図9(a)のA7−A7線に沿って切断して示すプローブピン支持体1bの断面図である。また、図9(c)は、図9(b)のA8−A8線に沿って切断して示すプローブピン支持体1bの断面図である。また、図9(d)は、図9(b)のA9−A9線に沿って切断して示すプローブピン支持体1bの断面図である。また、図9(e)は、図9(b)のA10−A10線に沿って切断して示すプローブピン支持体1bの断面図である。
(Second Modification of Second Embodiment)
FIG. 9 is a view for explaining a second modification of the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the second embodiment of the present invention. FIG. 9A is a partial plan view of the probe pin support 1b of the present modification. FIG. 9B is a cross-sectional view of the probe pin support 1b shown cut along the line A7-A7 in FIG. FIG. 9C is a cross-sectional view of the probe pin support 1b cut along the line A8-A8 in FIG. 9B. FIG. 9D is a cross-sectional view of the probe pin support 1b shown cut along the line A9-A9 in FIG. 9B. FIG. 9E is a cross-sectional view of the probe pin support 1b shown cut along the line A10-A10 in FIG. 9B.

図9に示すように、本変形例に係るプローブピン支持体1bは、光照射によって硬化した第1層乃至第n層の樹脂層8が積み重ねられて形成されており、第2層、第5層、及び第n−2層の樹脂層8にリブ37が形成されている。これらリブ37は、樹脂層8の積層方向に間隔をあけて形成されており、プローブピン収容空間10の内周面10aからプローブピン収容空間10の中心CLに向かって延び、先端面38がプローブピン5の外周に当接する円弧面であって、一部が扇形の切り欠き部40によって切り欠かれている。また、第2層、第5層、及び第n−2層のリブ37は、切り欠き部40がプローブピン収容空間10の中心CLの回りに120°毎にずれて位置しており、ピン支持部としての先端面38がプローブピン収容空間10の中心CLの回りにずれて位置している。このような第2層、第5層、及び第n−2層の樹脂層8におけるリブ37の先端面38は、図9(a)に示すように、樹脂層8の積層方向に沿って重ねられた場合に丸孔となり、プローブピン5を正しい姿勢で支持することが可能になる。プローブピン収容孔4は、プローブピン収容空間12のみで構成されている。なお、本変形例に係るプローブピン支持体1bは、リブ37が第2層、第5層、及び第n−2層の樹脂層8に形成されるようになっているが、これに限定されず、第1層乃至第n層の任意の樹脂層8にリブ37を形成するようにしてもよい。   As shown in FIG. 9, the probe pin support 1b according to the present modification is formed by stacking first to n-th resin layers 8 cured by light irradiation. The second layer, the fifth layer The rib 37 is formed in the layer and the (n-2) th resin layer 8. These ribs 37 are formed at intervals in the laminating direction of the resin layer 8, extend from the inner peripheral surface 10 a of the probe pin housing space 10 toward the center CL of the probe pin housing space 10, and the tip surface 38 has a probe surface 38. The arc surface is in contact with the outer periphery of the pin 5, and a part thereof is notched by the fan-shaped notch 40. Further, the ribs 37 of the second layer, the fifth layer, and the n-2th layer have the notch portions 40 that are shifted every 120 ° around the center CL of the probe pin accommodating space 10 to support the pins. The tip end surface 38 as a part is positioned around the center CL of the probe pin accommodating space 10. The tip surfaces 38 of the ribs 37 in the second layer, the fifth layer, and the (n−2) th layer resin layer 8 are overlapped along the stacking direction of the resin layer 8 as shown in FIG. If it is, it becomes a round hole, and it becomes possible to support the probe pin 5 in a correct posture. The probe pin accommodation hole 4 is composed of only the probe pin accommodation space 12. In the probe pin support 1b according to this modification, the rib 37 is formed on the second layer, the fifth layer, and the n-2th resin layer 8, but the present invention is not limited to this. Instead, the rib 37 may be formed on any resin layer 8 from the first layer to the n-th layer.

以上のように本変形例に係るプローブピン支持体1bによれば、リブ37の先端面38がプローブピン5に当接するピン支持部であり、この先端面38の周囲に切り欠き部(空間)40が形成され、切り欠き部40が液状の光硬化性樹脂の自重落下による流動を可能にするため、余剰硬化物がプローブピン収容空間10内及び先端面38の周囲の切り欠き部40(空間)に溜まり難い。その結果、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法は、光造形時において、プローブピン収容空間10及び先端面38の周囲の切り欠き部40(空間)が余剰硬化物によって塞がれることがない。   As described above, according to the probe pin support 1b according to the present modification, the tip surface 38 of the rib 37 is a pin support portion that comes into contact with the probe pin 5, and a notch (space) is formed around the tip surface 38. 40 is formed, and the notch 40 enables the liquid photo-curing resin to flow due to its own weight drop, so that the excessively cured product is notched 40 (space) in the probe pin accommodating space 10 and around the distal end surface 38. ). As a result, in the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment, the notch 40 (space) around the probe pin housing space 10 and the distal end surface 38 is closed by surplus hardened material at the time of optical modeling. There is nothing.

また、本変形例に係るプローブピン支持体1bの製造方法によれば、プローブピン収容空間10を有するプローブピン支持体1bの3Dデータ(三次元CADデータ)21をそのまま使用して(従来例のような三次元CADデータを造形用の等高線データに変換することなく)造形しても、プローブピン収容空間10及び先端面38の周囲の切り欠き部40(空間)が余剰硬化物で塞がってしまうことがなく、高精度のプローブピン収容空間10及び高精度のリブ37を有するプローブピン支持体1bを容易に作成できる。   Further, according to the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present modification, the 3D data (three-dimensional CAD data) 21 of the probe pin support 1b having the probe pin accommodating space 10 is used as it is (the conventional example). Even if modeling is performed without converting such three-dimensional CAD data into modeling contour data, the notch 40 (space) around the probe pin housing space 10 and the distal end surface 38 is blocked with surplus cured material. Therefore, the probe pin support 1b having the high-accuracy probe pin housing space 10 and the high-accuracy rib 37 can be easily produced.

[第3実施形態]
図10は、本発明の第3実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bを説明するための図である。なお、図10(a)は、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bの一部平面図である。また、図10(b)は、図10(a)のA11−A11線に沿って切断して示すプローブピン支持体1bの断面図である。また、図10(c)は、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの一部裏面図である。また、図10(d)は、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの変形例を示す断面図である。
[Third Embodiment]
FIG. 10 is a view for explaining the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the third embodiment of the present invention. FIG. 10A is a partial plan view of the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment. FIG. 10B is a cross-sectional view of the probe pin support 1b shown cut along the line A11-A11 in FIG. FIG. 10C is a partial rear view of the probe pin support 1b according to the present embodiment. FIG. 10D is a cross-sectional view showing a modification of the probe pin support 1b according to the present embodiment.

図10(a)〜(c)に示すように、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bは、光照射によって硬化した第1層乃至第n層の樹脂層8が積み重ねられて形成されており、第1層乃至第n層の樹脂層8にプローブピン収容空間10が形成されている。そして、第3層乃至第n層の樹脂層8には、プローブピン収容空間10の内周面10aからプローブピン収容空間10の中心CLに向かって延びる十字状のリブ41が形成されている。この十字状のリブ41の中心には、プローブピン5と同径のガイド孔11が形成されている。このガイド孔11は、プローブピン5が当接するピン支持部となる。また、十字状のリブ41とプローブピン収容空間10の内周面10aとの間には、4箇所の扇状の空間42が形成されている。この4箇所の空間42は、ガイド孔11の周囲に位置しており、図3に示した光造形法の硬化工程において、液状の光硬化性樹脂16の自重落下による流動を可能にする。なお、プローブピン支持体1bは、第1層乃至第n層の樹脂層8におけるプローブピン収容空間10に十字状のリブ41を形成し、その十字状のリブ41の中心に第1層乃至第n層までを貫通するガイド孔11を形成し、ガイド孔11の周囲に第1層乃至第nまでを貫通する空間42を形成してもよい。また、プローブピン支持体1bは、第1層乃至第n層までの任意の樹脂層8に十字状のリブ41を設けるようにしてもよい。例えば、図10(d)に示すように、プローブピン支持体1bは、第3層及び第4層の樹脂層8のプローブピン収容空間10内に十字状のリブ41を形成し、第n−1層及び第n層の樹脂層8のプローブピン収容空間10内に十字状のリブ41を形成してもよい。また、プローブピン収容孔4は、プローブピン収容空間10とガイド孔11とで構成されている。   As shown in FIGS. 10A to 10C, the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment includes a first layer to an nth layer cured by light irradiation. The resin layers 8 are stacked and a probe pin housing space 10 is formed in the first to nth resin layers 8. The third to n-th resin layers 8 are formed with cross-shaped ribs 41 extending from the inner peripheral surface 10a of the probe pin housing space 10 toward the center CL of the probe pin housing space 10. A guide hole 11 having the same diameter as the probe pin 5 is formed at the center of the cross-shaped rib 41. The guide hole 11 serves as a pin support portion with which the probe pin 5 abuts. Further, four fan-shaped spaces 42 are formed between the cross-shaped rib 41 and the inner peripheral surface 10 a of the probe pin accommodating space 10. The four spaces 42 are located around the guide hole 11 and allow the liquid photocurable resin 16 to flow due to its own weight drop in the curing process of the optical modeling method shown in FIG. In the probe pin support 1b, a cross-shaped rib 41 is formed in the probe pin housing space 10 in the first to n-th resin layers 8, and the first layer to the first layer are formed at the center of the cross-shaped rib 41. A guide hole 11 penetrating up to the n layer may be formed, and a space 42 penetrating from the first layer to the n th may be formed around the guide hole 11. In the probe pin support 1b, a cross-shaped rib 41 may be provided on any resin layer 8 from the first layer to the n-th layer. For example, as shown in FIG. 10 (d), the probe pin support 1b is formed with a cross-shaped rib 41 in the probe pin housing space 10 of the third and fourth resin layers 8, and the nth- You may form the cross-shaped rib 41 in the probe pin accommodation space 10 of the resin layer 8 of the 1st layer and the n-th layer. The probe pin accommodation hole 4 is composed of a probe pin accommodation space 10 and a guide hole 11.

以上のような本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によれば、十字状リブ41のガイド孔11の周囲に4箇所の空間42が形成されているため、図3に示した光造形法の硬化工程において、液状の光硬化性樹脂14が空間42内を自重落下による流動をし、液状の光硬化性樹脂16がガイド孔11の近傍に滞留し難い。その結果、十字状のリブ41のガイド孔11及びプローブピン収容空間10は、余剰硬化物で塞がれることがない。   According to the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment as described above, since the four spaces 42 are formed around the guide hole 11 of the cross-shaped rib 41, the light shown in FIG. In the molding process, the liquid photocurable resin 14 flows due to its own weight falling in the space 42, and the liquid photocurable resin 16 is unlikely to stay in the vicinity of the guide hole 11. As a result, the guide hole 11 and the probe pin housing space 10 of the cross-shaped rib 41 are not blocked by the excessively hardened material.

また、本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によれば、ガイド孔11を有するプローブピン支持体1bの3Dデータ(三次元CADデータ)21をそのまま使用して(従来例のような三次元CADデータを造形用の等高線データに変換することなく)造形しても、ガイド孔11が余剰硬化物で塞がってしまうことがなく、高精度のガイド孔11を有するプローブピン支持体1bを容易に作成できる。   Further, according to the method for manufacturing the probe pin support 1b according to this embodiment, the 3D data (three-dimensional CAD data) 21 of the probe pin support 1b having the guide hole 11 is used as it is (as in the conventional example). Even if the modeling is performed (without converting the three-dimensional CAD data into the contour line data for modeling), the probe hole support 1b having the highly accurate guide hole 11 is not blocked by the excessively hardened material. Easy to create.

[第4実施形態]
図11は、本発明の第4実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bを説明するための図である。なお、図11(a)は、本変形例に係るプローブピン支持体1bの製造方法によって形成されるプローブピン支持体1bの一部平面図である。また、図11(b)は、図11(a)のA12−A12線に沿って切断して示すプローブピン支持体1bの断面図である。また、図11(c)は、プローブピン支持体1bの一部裏面図である。
[Fourth Embodiment]
FIG. 11 is a view for explaining the probe pin support 1b formed by the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the fourth embodiment of the present invention. In addition, Fig.11 (a) is a partial top view of the probe pin support body 1b formed by the manufacturing method of the probe pin support body 1b which concerns on this modification. Moreover, FIG.11 (b) is sectional drawing of the probe pin support body 1b shown cut | disconnected along the A12-A12 line | wire of Fig.11 (a). FIG. 11C is a partial rear view of the probe pin support 1b.

図11に示すように、本実施形態に係るプローブピン支持体1bは、第7層の樹脂層8にプローブピン収容孔11が形成され、第4層の樹脂層8のプローブピン収容空間10の内周面10aから第7層の樹脂層8のガイド孔11の開口縁まで延びる斜めリブ43がプローブ収容孔4の中心CLの回りに等間隔で4箇所形成されている。この斜めリブ43は、第7層の樹脂層8側の端部がプローブピン5に当接するピン支持部44であり、ガイド孔11と共にプローブピン5を支持すると共に、ガイド孔11が形成された第7層の樹脂層8を補強する。斜めリブ43は、隣り合う他の斜めリブ43とプローブピン収容空間10の内周面10aとの間に空間45が設けられ、その空間45がピン支持部44の周囲に位置している。このピン支持部44の周囲に位置する空間45は、図3において示した光造形法の硬化工程において、液状の光硬化樹脂16の自重落下による流動を可能にする。   As shown in FIG. 11, in the probe pin support 1b according to the present embodiment, the probe pin housing hole 11 is formed in the seventh resin layer 8, and the probe pin housing space 10 of the fourth resin layer 8 is formed. Four oblique ribs 43 extending from the inner peripheral surface 10a to the opening edge of the guide hole 11 of the seventh resin layer 8 are formed around the center CL of the probe receiving hole 4 at equal intervals. The oblique rib 43 is a pin support portion 44 whose end on the resin layer 8 side of the seventh layer is in contact with the probe pin 5, supports the probe pin 5 together with the guide hole 11, and is formed with the guide hole 11. The seventh resin layer 8 is reinforced. The inclined rib 43 is provided with a space 45 between another adjacent oblique rib 43 and the inner peripheral surface 10 a of the probe pin accommodating space 10, and the space 45 is positioned around the pin support portion 44. The space 45 located around the pin support portion 44 enables the liquid photocurable resin 16 to flow due to its own weight drop in the curing process of the optical modeling method shown in FIG.

このような本実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法によれば、第1実施形態に係るプローブピン支持体1bの製造方法の第1及び第2の硬化と同様の効果を得ることができる。なお、本実施形態に係るプローブピン支持体1bは、ガイド孔11を第7層の樹脂層8に形成したが、これに限定されず、任意の樹脂層8にガイド孔11を形成し、複数の斜めリブ43をガイド孔11よりも上方側に設け、液状の光硬化性樹脂16がガイド孔11及びその近傍に滞留しないようになっていればよい。   According to the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the present embodiment, the same effects as the first and second curing of the method for manufacturing the probe pin support 1b according to the first embodiment can be obtained. it can. In the probe pin support 1b according to the present embodiment, the guide hole 11 is formed in the seventh resin layer 8. However, the present invention is not limited to this. It is only necessary that the oblique ribs 43 are provided above the guide holes 11 so that the liquid photocurable resin 16 does not stay in the guide holes 11 and the vicinity thereof.

[その他の実施形態]
また、上記各実施形態及び各変形例に係るプローブピン支持体1bの説明において、ガイド孔11は、平面形状が円形状のものを例示したが、これに限られず、プローブピン5の断面形状に応じた形状(例えば、四角形状、楕円形状、Dカット形状、六角形状等)の平面形状にしてもよい。また、プローブピン収容空間10は、平面形状が円形状又は四角形状のものを例示したが、これに限られず、楕円形状、六角形状等の任意の平面形状にしてもよい。
[Other Embodiments]
Further, in the description of the probe pin support 1b according to each of the above embodiments and modifications, the guide hole 11 is exemplified as having a circular planar shape, but is not limited thereto, and the cross-sectional shape of the probe pin 5 is not limited thereto. You may make it the planar shape of the shape (for example, square shape, elliptical shape, D cut shape, hexagonal shape etc.) according to. In addition, the probe pin accommodating space 10 has a circular or quadrangular planar shape, but is not limited thereto, and may be an arbitrary planar shape such as an elliptical shape or a hexagonal shape.

1b(1)……プローブピン支持体、4……プローブピン収容孔、5……プローブピン、6……電子部品、7……端子、8……樹脂層、12,28,35,37,41,43……リブ、11,13,34,38,44……ピン支持部、14,32,40,42,45……空間、16……光硬化性樹脂、27……光   1b (1): Probe pin support, 4: Probe pin receiving hole, 5: Probe pin, 6: Electronic component, 7: Terminal, 8 ... Resin layer, 12, 28, 35, 37, 41, 43 ... rib, 11, 13, 34, 38, 44 ... pin support, 14, 32, 40, 42, 45 ... space, 16 ... photo-curable resin, 27 ... light

Claims (5)

電子部品の電気的テスト時に電子部品の端子に接触するプローブピンを収容するプローブピン収容孔が形成されたプローブピン支持体の製造方法において、
前記プローブピン支持体は、液状の光硬化性樹脂に光を照射することによって硬化した樹脂層を積み重ねて形成され、
前記プローブピン収容孔には、前記プローブピンを支持するリブが形成され、
前記リブは、前記プローブピンが当接するピン支持部を有し、
前記ピン支持部の周囲には、前記液状の光硬化性樹脂の自重落下による流動を可能にする空間が形成された、
ことを特徴とするプローブピン支持体の製造方法。
In the manufacturing method of the probe pin support body in which the probe pin accommodation hole for accommodating the probe pin that contacts the terminal of the electronic component during the electrical test of the electronic component is formed,
The probe pin support is formed by stacking resin layers cured by irradiating light to a liquid photocurable resin,
The probe pin housing hole is formed with a rib for supporting the probe pin,
The rib has a pin support portion with which the probe pin abuts,
Around the pin support portion, a space was formed that allowed the liquid photocurable resin to flow due to its own weight drop,
A method for manufacturing a probe pin support.
前記リブは、前記プローブピン収容孔の中心の回りに複数形成され、前記プローブピン収容孔の中心側の先端が前記ピン支持部である、
ことを特徴とする請求項1に記載のプローブピン支持体の製造方法。
A plurality of the ribs are formed around the center of the probe pin accommodation hole, and the tip on the center side of the probe pin accommodation hole is the pin support portion.
The method for producing a probe pin support according to claim 1.
前記リブは、前記樹脂層の積層方向に間隔をあけて複数形成され、前記プローブピン収容孔の中心側の先端が前記ピン支持部である、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のプローブピン支持体の製造方法。
A plurality of the ribs are formed at intervals in the laminating direction of the resin layer, and the tip on the center side of the probe pin accommodation hole is the pin support portion.
The method for producing a probe pin support according to claim 1 or 2.
前記リブは、前記プローブピン収容孔の内周面から前記プローブピン収容孔の中心に向かって延び、且つ、前記樹脂層の積層方向に沿って延びるように形成される、
ことを特徴とする請求項2に記載のプローブピン支持体の製造方法。
The rib is formed so as to extend from the inner peripheral surface of the probe pin accommodation hole toward the center of the probe pin accommodation hole and along the lamination direction of the resin layer.
The method for producing a probe pin support according to claim 2.
前記複数のリブのピン支持部は、前記プローブピン収容孔の中心の回りにずれて位置している、
ことを特徴とする請求項1乃至4のいずれかに記載のプローブピン支持体の製造方法。
The pin support portions of the plurality of ribs are shifted around the center of the probe pin accommodation hole,
The method for manufacturing a probe pin support according to any one of claims 1 to 4.
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