JP2019195945A - Laminate and method for producing the same - Google Patents

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Yusuke Tsukamura
裕介 塚村
大井 亮
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Abstract

To provide a film and a laminate which have low warpage and can be welded by laser processing with high definition.SOLUTION: A laminate has a base material A1 having absorbance at a wavelength of 355 nm of 0.40 or more, a resin layer α2 which contains a resin A and has a thickness of 0.5-5 μm, and a base material B3 having absorbance at a wavelength of 355 nm of 0.05-0.30 in this order, and has absorbance at a wavelength of 355 nm of more than 0.40.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、積層体およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a laminate and a method for producing the same.

従来から、製品形状の複雑化に伴う各パーツの接合においては、接着剤による接合、ボルトなどによる機械的接合などが行われてきた。しかし、接着剤ではその接着強度が、また、ボルトなどによる機械的接合では、費用、締結の手間、質量増が問題となっている。また、熱板溶着では糸引きの問題、振動溶着、超音波溶着は接合付近に発生するバリの処理をする必要があった。一方、樹脂成形体のレーザー溶着は、重ね合わせた樹脂成形体にレーザー光を照射し、照射した一方を透過させ、もう一方で吸収させ溶融、融着させる工法であり、加熱が局所的であるため熱による影響が少ないこと、非接触で接合できること、複雑な形状の接合が容易であること、接着剤が不要であること、三次元接合が可能、非接触加工であること、バリ発生が無いことなどが利点として挙げられる工法である。そのため、高品質な材料が求められる分野、例えば、自動車産業、電気・電子産業等幅広い分野に急速に広がり、レーザー溶着で得られる材料の需要が高まってきている。   Conventionally, in joining parts due to the complexity of product shape, joining with an adhesive, mechanical joining with a bolt or the like has been performed. However, adhesives have problems with their adhesive strength, and mechanical joining with bolts and the like has problems of cost, labor for fastening, and mass increase. In hot plate welding, the problem of stringing, vibration welding, and ultrasonic welding required treatment of burrs generated near the joint. On the other hand, laser welding of a resin molded body is a method of irradiating a laser beam to an overlapped resin molded body, transmitting the irradiated one, and absorbing, melting and fusing the other, and heating is local. Therefore, it is less affected by heat, can be joined in a non-contact manner, it is easy to join complex shapes, no adhesive is required, three-dimensional joining is possible, non-contact processing, no burr generation This is a construction method that can be mentioned as an advantage. Therefore, it rapidly spreads in a wide range of fields where high quality materials are required, such as the automobile industry and the electric / electronic industry, and the demand for materials obtained by laser welding is increasing.

しかしながらこのようなレーザー溶着技術を用いるためには、例えばレーザー光を透過させる樹脂成形体が必要であり、そのレーザー光透過性を担保するためには樹脂成形体の種類や厚みといった特性に制約がかかる。一方のレーザー光を吸収させる樹脂成形体にはレーザー光を吸収しやすい、すなわち光エネルギーを熱エネルギーへ効率良く変換可能で、かつその熱で溶着が可能な熱可塑性を有する樹脂を用いる必要がある(特許文献1)。また、樹脂成形体の加工においては、反りが出やすいことをひとつの理由とし、接着強度が不十分な場合が散見された。樹脂成形体に反りが生じる場合は、溶着時に反りを矯正するように押し付け力を加える方法も採られるが、樹脂成形体の形状によっては効率的に押し付け力を加えることが難しい場合も多く、また、溶着後に押し付け力を取り除いた樹脂成形体に残留応力が残るため、高い接着強度が得にくい問題がある(特許文献2)。   However, in order to use such a laser welding technique, for example, a resin molded body that transmits laser light is necessary, and in order to ensure the laser light transmittance, there are restrictions on characteristics such as the type and thickness of the resin molded body. Take it. On the other hand, it is necessary to use a resin having a thermoplastic property that easily absorbs laser light, that is, can efficiently convert light energy into heat energy and can be welded by the heat, for the resin molded body that absorbs laser light. (Patent Document 1). Further, in the processing of the resin molded body, there are some cases where the adhesive strength is insufficient due to the fact that warpage tends to occur. When warping occurs in the resin molded body, a method of applying a pressing force so as to correct the warping during welding is also employed, but depending on the shape of the resin molded body, it is often difficult to apply the pressing force efficiently. Since the residual stress remains in the resin molded body from which the pressing force is removed after welding, there is a problem that it is difficult to obtain high adhesive strength (Patent Document 2).

特開2016−153215号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2006-153215 特許第3510817号公報Japanese Patent No. 3510817

本発明は、かかる従来技術の背景に鑑み、低反り性、かつレーザー加工による高精細な接合が可能な積層体およびその製造方法を提供することにある。   In view of the background of such a conventional technique, the present invention is to provide a laminated body that can be bonded with high precision by low warpage and laser processing, and a method for manufacturing the same.

本発明は、かかる課題を解決するために次のような手段を採用するものである。
(1)波長355nmにおける吸光度が0.40より高い基材A、樹脂Aを含む厚み0.5μm〜5μmの樹脂層α、波長355nmにおける吸光度が0.05〜0.30である基材Bをこの順に有する積層体。
(2)前記樹脂層αと前記基材Bとの間に樹脂Bを含む樹脂層βを有し、該樹脂Bが前記樹脂Aよりもガラス転移温度が低い(1)に記載の積層体。
(3)前記樹脂層βの表面の水接触角が15度未満である(2)に記載の積層体。
(4)前記樹脂Bが熱可塑性樹脂であって、該樹脂Bがポリエステル樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリアミド樹脂、クロロプレン樹脂、アラミド樹脂およびアクリルウレタン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つの樹脂である(2)または(3)に記載の積層体。
(5)波長355nmにおける吸光度が0.40より高い基材A、樹脂Aを含む樹脂層α、波長355nmにおける吸光度が0.05〜0.30である基材Bをこの順に有し、波長250nm〜380nmかつ0.01W〜50Wのレーザーを前記基材B側から照射する積層体の製造方法。
(6)前記樹脂層αと前記基材Bとの間に樹脂Bを含む樹脂層βを有し、該樹脂Bが前記樹脂Aよりもガラス転移温度が低い(5)に記載の積層体の製造方法。
The present invention employs the following means in order to solve such problems.
(1) Substrate A having an absorbance at a wavelength of 355 nm higher than 0.40, a resin layer α having a thickness of 0.5 μm to 5 μm including the resin A, and a substrate B having an absorbance at a wavelength of 355 nm of 0.05 to 0.30. A laminate having this order.
(2) The laminate according to (1), which includes a resin layer β including the resin B between the resin layer α and the base material B, and the resin B has a glass transition temperature lower than that of the resin A.
(3) The laminate according to (2), wherein the water contact angle on the surface of the resin layer β is less than 15 degrees.
(4) The resin B is a thermoplastic resin, and the resin B is a polyester resin, a (meth) acrylic resin, a polyolefin resin, an ethylene-vinyl acetate copolymer resin, a polyamide resin, a chloroprene resin, an aramid resin, and an acrylic urethane resin. The laminate according to (2) or (3), which is at least one resin selected from the group consisting of:
(5) A substrate A having an absorbance at a wavelength of 355 nm higher than 0.40, a resin layer α containing the resin A, and a substrate B having an absorbance at a wavelength of 355 nm of 0.05 to 0.30 in this order, and a wavelength of 250 nm The manufacturing method of the laminated body which irradiates a ~ 380nm and 0.01W-50W laser from the said base-material B side.
(6) The laminate according to (5), which has a resin layer β containing a resin B between the resin layer α and the base material B, and the resin B has a glass transition temperature lower than that of the resin A. Production method.

本発明により、低反り性、かつレーザー加工による高精細な接合が可能な積層体およびその製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide a laminate that can be bonded with high warp and high-definition by laser processing, and a method for manufacturing the same.

積層構成1(基材A、樹脂層αおよび基材Bをこの順に有する積層体)の断面図である。It is sectional drawing of the laminated structure 1 (The laminated body which has the base material A, the resin layer (alpha), and the base material B in this order). 積層構成2(基材A、樹脂層α、樹脂層βおよび基材Bをこの順に有する積層体)の断面図である。It is sectional drawing of the laminated structure 2 (The laminated body which has the base material A, the resin layer (alpha), the resin layer (beta), and the base material B in this order). 本発明におけるレーザー照射パターンの例を示した図である。It is the figure which showed the example of the laser irradiation pattern in this invention. 本発明の積層体を部分構造として有する液体展開シートの断面図である。It is sectional drawing of the liquid expansion | deployment sheet | seat which has the laminated body of this invention as a partial structure.

以下に、本発明について、好ましい実施の形態とともに詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらの形態に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in detail together with preferred embodiments, but the scope of the present invention is not limited to these embodiments.

本発明の積層体は、波長355nmにおける吸光度が0.40より高い基材A、樹脂Aを含む厚み0.5μm〜5μmの樹脂層α、波長355nmにおける吸光度が0.05〜0.30である基材Bをこの順に有する積層体である。この構成を積層構成1とし、図1にその断面図を示す。また、本発明の積層体は、積層構成1に含まれる樹脂層αと基材Bとの間に樹脂Bを含む樹脂層βを有し、該樹脂Bが樹脂Aよりもガラス転移温度が低い積層体であってもよい。この構成を積層構成2とし、図1にその断面図を示す。   The laminate of the present invention has a substrate A having an absorbance higher than 0.40 at a wavelength of 355 nm, a resin layer α having a thickness of 0.5 μm to 5 μm including the resin A, and an absorbance at a wavelength of 355 nm of 0.05 to 0.30. It is the laminated body which has the base material B in this order. This structure is referred to as a laminated structure 1, and FIG. Further, the laminate of the present invention has a resin layer β containing the resin B between the resin layer α and the base material B included in the laminated structure 1, and the resin B has a glass transition temperature lower than that of the resin A. A laminated body may be sufficient. This structure is referred to as a stacked structure 2, and a cross-sectional view thereof is shown in FIG.

本発明の積層体は、積層構成1においては基材Bが、積層構成2においては基材Bおよび樹脂層βにて構成される部分がそれぞれレーザー光透過性を有することが好ましい(以下、積層構成2における基材Bおよび樹脂層βにて構成されるものを液体展開部材と呼ぶこともある)。一方、積層構成1および2ともに樹脂層αおよび基材Aにて構成される部分がレーザー光吸収性を有することが好ましい(以下、積層構成1および2における樹脂層αおよび基材Aにて構成される部分を紫外線吸収部材と呼ぶこともある)。レーザー光透過性を有するとは吸光度が低いことを意味し、具体的には吸光度が0.05〜0.30であることが好ましい。また、レーザー光吸収性を有するとは吸光度が高いことを意味し、具体的には吸光度が0.40より高いことが好ましい。   In the laminated body of the present invention, it is preferable that the base material B in the laminated structure 1 and the portion constituted by the base material B and the resin layer β in the laminated structure 2 each have laser light transmittance (hereinafter referred to as a laminated film). What is constituted by the base material B and the resin layer β in the configuration 2 may be referred to as a liquid developing member). On the other hand, it is preferable that the part constituted by the resin layer α and the substrate A in both the laminated structures 1 and 2 has a laser light absorption property (hereinafter, constituted by the resin layer α and the substrate A in the laminated structures 1 and 2). (This part is sometimes called an ultraviolet absorbing member). Having laser beam transparency means that the absorbance is low. Specifically, the absorbance is preferably 0.05 to 0.30. Moreover, having laser light absorptivity means that the absorbance is high, and specifically, the absorbance is preferably higher than 0.40.

基材Bおよび基材Aはそれぞれ樹脂フィルムであることが好ましい。樹脂フィルムとは平均厚み500μm以下の樹脂膜を指し、平均厚みが500μmを超えると樹脂成形体となり、両者は平均厚みで区別される。樹脂フィルムの製膜手法は、未延伸、一軸延伸、二軸延伸を問わない。樹脂フィルムは樹脂成形体と比較し柔軟性があるため、レーザー溶着時に接合面同士の接触性が良好であり、熱伝導効率を高めることができ、溶着層(本発明では樹脂層αあるいは樹脂層βを指す)の厚みを薄く設計した場合においても目的とする密着強度を達成することが可能となる。また、基材Bまたは基材Aの表面にうねりがある場合、接合作業において接合面を良好に接地させるために、反りを矯正するように押し付け力を加えることがある。従来の技術ではその残留応力によって、接合後に反りが発生する場合があったが、本発明においては基材Bおよび基材Aの平均厚みを500μm以下にすることで基材Aおよび基材Bの柔軟性により押し付け力を分散するため、反りの起こらない接合を行うことができる。
また、樹脂成形体よりも厚みの薄い樹脂フィルムを用いることで、樹脂成形体では成し得ない薄膜の積層体を形成することが可能となる。
Each of the base material B and the base material A is preferably a resin film. The resin film refers to a resin film having an average thickness of 500 μm or less. When the average thickness exceeds 500 μm, a resin molded product is obtained, and both are distinguished by the average thickness. The method for forming the resin film may be unstretched, uniaxially stretched, or biaxially stretched. Since the resin film is more flexible than the resin molded body, the contact property between the bonding surfaces is good at the time of laser welding, the heat conduction efficiency can be increased, and the welding layer (in the present invention, the resin layer α or the resin layer). Even when the thickness of β) is designed to be thin, the intended adhesion strength can be achieved. Further, when the surface of the base material B or the base material A has waviness, a pressing force may be applied to correct the warpage in order to satisfactorily ground the joint surface in the joining operation. In the conventional technique, warping may occur after joining due to the residual stress, but in the present invention, the average thickness of the base material B and the base material A is set to 500 μm or less so that the base material A and the base material B Since the pressing force is dispersed by flexibility, it is possible to perform bonding without causing warpage.
Further, by using a resin film having a thickness smaller than that of the resin molded body, it is possible to form a thin film laminate that cannot be formed by the resin molded body.

[基材A]
本発明に用いられる基材Aは、素材は特に限定されないが、ハンドリングの容易性の観点から有機高分子を素材とすることが好ましい。本発明に好適に用いることができる有機高分子としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリアミド、ABS樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレン酢酸ビニル共重合体のケン化物、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール等の各種ポリマーなどを挙げることができる。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレートを含むことが好ましい。また、前記有機高分子は、単独重合体、共重合体のいずれでもよく、1種類の有機高分子、複数種類の有機高分子のブレンドのいずれも用いることができる。
[Substrate A]
The material of the substrate A used in the present invention is not particularly limited, but it is preferable to use an organic polymer as a material from the viewpoint of ease of handling. Examples of the organic polymer that can be suitably used in the present invention include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyamide, ABS resin, polycarbonate, polystyrene, and polyvinyl. Examples thereof include various polymers such as alcohol, saponified ethylene vinyl acetate copolymer, polyacrylonitrile, and polyacetal. Among these, it is preferable to contain polyethylene terephthalate. The organic polymer may be either a homopolymer or a copolymer, and any one kind of organic polymer or a blend of plural kinds of organic polymers can be used.

また、本発明において基材Aに好適に用いることができる有機高分子は、上記に列挙したごとく、基本となる骨格が線状の有機高分子である(ここで線状とは分岐を有していたとしても、網状構造を有していないことを示す。以降、基本となる骨格が線状の有機高分子を線状有機高分子と略記する)。なお、分子内に2以上の官能基を有する架橋剤を添加し反応させたり、放射線照射したりすることにより、部分的に架橋を形成したとしても、数平均分子量が5,000〜20,000であれば線状有機高分子であると定義する。   The organic polymer that can be suitably used for the substrate A in the present invention is an organic polymer whose basic skeleton is linear as listed above (herein, linear is branched). The organic polymer having the basic skeleton is abbreviated as a linear organic polymer). Even if a cross-linking agent having two or more functional groups in the molecule is added and reacted or irradiated with radiation, the number-average molecular weight is 5,000 to 20,000 even if partial cross-linking is formed. If so, it is defined as a linear organic polymer.

基材Aの形態としては、単層フィルム、あるいは、2層以上の、例えば、共押し出し法で製膜したフィルムであってもよい。フィルムの種類としては、一軸方向あるいは二軸方向に延伸されたフィルム等を使用してもよい。樹脂層αを形成する側の基材A表面には、樹脂層αとの接着性を良くするために、コロナ処理、イオンボンバード処理、溶剤処理、または、粗面化処理といった前処理が施されていても構わない。また、基材Aにおける樹脂層αを形成する側の反対面には、フィルムの巻き取り時の滑り性の向上を目的として、有機物や無機物あるいはこれらの混合物のコーティング層が施されていても構わない。   The form of the substrate A may be a single layer film or a film having two or more layers, for example, a film formed by a coextrusion method. As the type of film, a film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction may be used. The surface of the substrate A on the side where the resin layer α is formed is subjected to pretreatment such as corona treatment, ion bombardment treatment, solvent treatment, or surface roughening treatment in order to improve the adhesion with the resin layer α. It does not matter. In addition, a coating layer of an organic substance, an inorganic substance, or a mixture thereof may be applied to the opposite surface of the substrate A on the side on which the resin layer α is formed for the purpose of improving the slipping property at the time of winding the film. Absent.

本発明に使用する基材Aの厚みは柔軟性を確保する観点から500μm以下であることが好ましい。また、引張りや衝撃に対する強度を確保する観点から5μm以上がより好ましい。さらに、フィルムの加工やハンドリングの容易性から下限は10μm以上が、上限は200μm以下がさらに好ましい。   The thickness of the substrate A used in the present invention is preferably 500 μm or less from the viewpoint of ensuring flexibility. Moreover, 5 micrometers or more are more preferable from a viewpoint of ensuring the intensity | strength with respect to a tension | pulling or an impact. Furthermore, the lower limit is more preferably 10 μm or more, and the upper limit is more preferably 200 μm or less, from the standpoint of film processing and handling.

本発明に使用する基材Aの色に特に制限はないが、樹脂層αの波長355nmの吸光度が低い場合であっても高い紫外線吸収の性能を保つために基材Aに波長355nmにおける高い吸光度が求められる。そのため、本発明に使用する基材Aの波長355nmの吸光度は0.40より高い。   The color of the substrate A used in the present invention is not particularly limited, but the substrate A has a high absorbance at a wavelength of 355 nm in order to maintain high ultraviolet absorption performance even when the absorbance of the resin layer α at a wavelength of 355 nm is low. Is required. Therefore, the absorbance of the substrate A used in the present invention at a wavelength of 355 nm is higher than 0.40.

[樹脂A]
本発明に用いられる樹脂層αに含まれる樹脂Aは、一種類であっても複数種類であってもよい。樹脂Aの例としては、ポリエチレン・ポリプロピレン・ポリスチレン・ポリメチルペンテンなどのポリオレフィン樹脂、脂環族ポリオレフィン樹脂、ナイロン6・ナイロン66などのポリアミド樹脂、アラミド樹脂、ポリエチレンテレフタレート・ポリブチレンテレフタレート・ポリプロピレンテレフタレート・ポリブチルサクシネート・ポリエチレン−2,6−ナフタレートなどのポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、4フッ化エチレン樹脂・3フッ化エチレン樹脂・3フッ化塩化エチレン樹脂・4フッ化エチレン−6フッ化プロピレン共重合体・フッ化ビニリデン樹脂などのフッ素樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリグリコール酸樹脂、ポリ乳酸樹脂、などを用いることができる。この中で、強度・耐熱性・透明性、紫外線(以降、UVと表記する場合もある)透過性の観点から特にポリエステル樹脂であることがより好ましい。
[Resin A]
The resin A contained in the resin layer α used in the present invention may be one type or plural types. Examples of the resin A include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polymethylpentene, alicyclic polyolefin resins, polyamide resins such as nylon 6 and nylon 66, aramid resins, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polypropylene terephthalate, Polybutyl succinate, polyester resin such as polyethylene-2,6-naphthalate, polycarbonate resin, polyarylate resin, polyacetal resin, polyphenylene sulfide resin, tetrafluoroethylene resin, trifluorinated ethylene resin, trifluorinated ethylene chloride resin, Fluoropolymers such as tetrafluoroethylene-6propylene copolymer / vinylidene fluoride resin, acrylic resin, methacrylic resin, polyacetal resin, polyg Cholic acid resins, polylactic acid resins, or the like can be used. Among these, a polyester resin is particularly preferable from the viewpoint of strength, heat resistance, transparency, and ultraviolet (hereinafter sometimes referred to as UV) permeability.

本発明におけるポリエステル樹脂とは、ジカルボン酸成分とジオール成分との重縮合体をいう。ジカルボン酸成分及びジオール成分は、いずれも単一の成分であっても複数種の成分であってもよい。ここで、ジカルボン酸成分とジオール成分がいずれも単一成分であるポリエステル樹脂をホモポリエステル樹脂、ジカルボン酸成分とジオール成分のいずれかが複数種の成分であるポリエステル樹脂を共重合ポリエステル樹脂という。   The polyester resin in the present invention refers to a polycondensate of a dicarboxylic acid component and a diol component. Each of the dicarboxylic acid component and the diol component may be a single component or a plurality of types of components. Here, the polyester resin in which both the dicarboxylic acid component and the diol component are single components is referred to as a homopolyester resin, and the polyester resin in which any one of the dicarboxylic acid component and the diol component is a plurality of components is referred to as a copolyester resin.

本発明におけるホモポリエステル樹脂としては、例えば、前述のポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、及びポリエチレン−2,6−ナフタレートの他、ポリ−1,4−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート、ポリエチレンジフェニルレートなどが挙げられる。   Examples of the homopolyester resin in the present invention include the above-mentioned polyethylene terephthalate, polypropylene terephthalate, polybutylene terephthalate, and polyethylene-2,6-naphthalate, as well as poly-1,4-cyclohexanedimethylene terephthalate, polyethylene diphenylate, and the like. Can be mentioned.

本発明における共重合ポリエステル樹脂としては、次に挙げるジカルボン酸成分とジオール成分とより選ばれる少なくとも3つ以上の成分からなる共重合ポリエステル樹脂であることが好ましい。ジカルボン成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、1,4−ナフタレンジカルボン酸、1,5−ナフタレンジカルボン酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、4,4’−ジフェニルジカルボン酸、4,4’−ジフェニルスルホンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ダイマー酸、シクロヘキサンジカルボン酸、及びこれらのエステル誘導体等が挙げられる。ジオール成分としては、エチレングリコール、1,2−プロパンジオール、1,3−ブタンジオール、1,4−ブタンジオール、1,5−ペンタジオール、ジエチレングリコール、ポリアルキレングリコール、2,2−ビス(4’−β−ヒドロキシエトキシフェニル)プロパン、イソソルベート、1,4−シクロヘキサンジメタノール、スピログリコール等が挙げられる。   The copolyester resin in the present invention is preferably a copolyester resin comprising at least three or more components selected from the following dicarboxylic acid components and diol components. Examples of the dicarboxylic acid component include terephthalic acid, isophthalic acid, phthalic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 1,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, 4,4′-diphenyldicarboxylic acid, 4,4 Examples include '-diphenylsulfone dicarboxylic acid, adipic acid, sebacic acid, dimer acid, cyclohexane dicarboxylic acid, and ester derivatives thereof. Examples of the diol component include ethylene glycol, 1,2-propanediol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 1,5-pentadiol, diethylene glycol, polyalkylene glycol, 2,2-bis (4 ′ -Β-hydroxyethoxyphenyl) propane, isosorbate, 1,4-cyclohexanedimethanol, spiroglycol and the like.

[樹脂層α]
樹脂Aを含む樹脂層αは、積層構成1の場合には基材Bもしくは基材Aへ、積層構成2の場合には基材Aへ積層することで設けることが好ましい。その手法は特に限定されないが、グラビアコート法、リバースコート法、キスコート法、ダイコート法、およびバーコート法などの方法を用いることができる。なお、塗布液濃度、塗膜乾燥条件または、塗膜の冷却条件は特に限定されるものではないが、塗膜乾燥条件は基材Bあるいは基材Aの熱収収縮などの諸特性に悪影響を及ぼさない範囲で行なうことが望ましい。
[Resin layer α]
The resin layer α including the resin A is preferably provided by being laminated on the base material B or the base material A in the case of the laminated structure 1 and on the base material A in the case of the laminated structure 2. The method is not particularly limited, and methods such as a gravure coating method, a reverse coating method, a kiss coating method, a die coating method, and a bar coating method can be used. The coating solution concentration, coating film drying conditions, or coating film cooling conditions are not particularly limited, but the coating film drying conditions adversely affect various properties such as heat shrinkage of the base material B or base material A. It is desirable to carry out within a range that does not reach.

樹脂層αの厚みは次に述べる紫外線吸収剤の使用量を抑え、かつ単位体積あたりの濃度を高める観点および柔軟性を確保する観点から5μm以下が好ましく、樹脂層αの面内均一性を担保する観点から0.5μm以上が好ましい。すなわち、樹脂層αの厚みは0.5〜5μmが好ましく、0.5〜3μmがより好ましく、1〜3μmがさらに好ましい。樹脂層αはレーザー光を吸収することで発熱し、接着性を発現することが好ましい。このようにレーザー光を吸収するために波長355nmの吸光度は0.40より高いことが好ましい。吸光度が0.40より低いと十分な発熱量が得られず接着性が不十分となる場合がある。   The thickness of the resin layer α is preferably 5 μm or less from the viewpoint of suppressing the amount of the ultraviolet absorber described below, increasing the concentration per unit volume, and ensuring flexibility, and ensures in-plane uniformity of the resin layer α. In view of the above, 0.5 μm or more is preferable. That is, the thickness of the resin layer α is preferably 0.5 to 5 μm, more preferably 0.5 to 3 μm, and still more preferably 1 to 3 μm. It is preferable that the resin layer α generates heat by absorbing laser light and develops adhesiveness. Thus, in order to absorb a laser beam, it is preferable that the light absorbency of wavelength 355nm is higher than 0.40. If the absorbance is lower than 0.40, a sufficient calorific value cannot be obtained and the adhesiveness may be insufficient.

基材Aに樹脂層αを積層することで得られる紫外線吸収部材は、後述するレーザー光を吸光するために波長355nmの吸光度が0.40より高いことが好ましい。紫外線吸収部材の吸光度を好ましい範囲とするために、次に述べる紫外線吸収剤を樹脂層αに含有する手法を用いてもよい。樹脂層αは基材Aと基材Bを、あるいは基材Aと基材Bを含む部材である液体展開部材を接合する。従来の樹脂成形体同士を直接レーザー溶着させる場合と比較し、本発明では樹脂層αを介するため接合により生じる応力を樹脂層αで緩和できるため、反りの発生を抑制できる。樹脂層αによる応力緩和の効果を十分に得るために、樹脂層αの厚みは0.5μm以上であることが好ましい。   The ultraviolet absorbing member obtained by laminating the resin layer α on the substrate A preferably has an absorbance at a wavelength of 355 nm higher than 0.40 in order to absorb laser light described later. In order to bring the absorbance of the ultraviolet absorbing member into a preferable range, a method of containing the ultraviolet absorber described below in the resin layer α may be used. The resin layer α joins the base material A and the base material B or a liquid spreading member which is a member including the base material A and the base material B. Compared with the case where the conventional resin molded bodies are directly laser-welded, in the present invention, since the resin layer α can relieve the stress caused by the bonding through the resin layer α, the occurrence of warpage can be suppressed. In order to sufficiently obtain the effect of stress relaxation by the resin layer α, the thickness of the resin layer α is preferably 0.5 μm or more.

[紫外線吸収剤]
本発明の樹脂層αに含まれる紫外線吸収剤は、紫外線領域と可視光領域の境界近傍(380〜400nm付近)や、可視光短波長領域(400〜430nm)の光線を吸収する能力も有するが、後述の波長355nmのレーザー光の吸収率を向上させる観点から、380nm以下の波長領域の紫外線を吸収する能力に特化していることが好ましい。紫外線吸収剤を含有させることのみで、紫外線領域と可視光領域の境界近傍(380〜400nm付近)や可視光短波長領域(400〜430nm)の光線をカットすることも可能であるが、その場合、高濃度に含有させることがより好ましい。
[Ultraviolet absorber]
Although the ultraviolet absorber contained in the resin layer α of the present invention has the ability to absorb light in the vicinity of the boundary between the ultraviolet region and the visible light region (around 380 to 400 nm) and the visible light short wavelength region (400 to 430 nm). From the viewpoint of improving the absorptance of laser light having a wavelength of 355 nm, which will be described later, it is preferable to specialize in the ability to absorb ultraviolet rays in a wavelength region of 380 nm or less. It is possible to cut light rays in the vicinity of the boundary between the ultraviolet region and the visible light region (around 380 to 400 nm) and the visible light short wavelength region (400 to 430 nm) only by containing the ultraviolet absorber. More preferably, it is contained at a high concentration.

本発明に用いられる樹脂層αに含有される紫外線吸収剤は単一の種類を用いてもよく、複数以上の種類を組み合わせて用いてもよい。紫外線吸収剤の構造骨格に特に制限はないが、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、ベンゾエート系、ベンゾオキサジノン系、サリチル酸系、ベンゾオキサジン系、トリアジン系、アゾメチン系、インドール系、ジヒドロキシベンゾフェノン系が入手容易性の観点から好ましい。2種以上の紫外線吸収剤を併用する場合は、互いに同じ骨格構造の紫外線吸収剤であってもよく、異なる骨格構造を有する紫外線吸収剤を組み合わせてもよい。以下に具体例を例示するが、極大波長が320〜380nmの波長領域に存するものに対しては化合物名の後に(※)を付している。本発明で利用する紫外線吸収剤は、波長320〜380nmの間に極大吸収波長を有する紫外線吸収剤であることが好ましい。極大波長が320nmより小さい場合、長波長側の紫外線領域を十分にカットすることが、その添加濃度によっては難しくなる場合がある。   The ultraviolet absorber contained in the resin layer α used in the present invention may be a single type or a combination of a plurality of types. There are no particular restrictions on the structural skeleton of the UV absorber, but benzotriazole, benzophenone, benzoate, benzoxazinone, salicylic acid, benzoxazine, triazine, azomethine, indole, and dihydroxybenzophenone are readily available. From the viewpoint of sex. When two or more kinds of ultraviolet absorbers are used in combination, ultraviolet absorbers having the same skeleton structure may be used, or ultraviolet absorbers having different skeleton structures may be combined. Specific examples are illustrated below, but (*) is added to the end of the compound name for those having a maximum wavelength in the wavelength region of 320 to 380 nm. The ultraviolet absorbent used in the present invention is preferably an ultraviolet absorbent having a maximum absorption wavelength between wavelengths of 320 to 380 nm. When the maximum wavelength is smaller than 320 nm, it may be difficult to sufficiently cut the ultraviolet region on the long wavelength side depending on the addition concentration.

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール(※)、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ第三ブチルフェニル)ベンゾトリアゾール(※)、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ第三ブチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール(※)、2−(2’−ヒドロキシ−3’−第三ブチル−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール(※)、2−(2’−ヒドロキシ−3’−第三ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール(※)、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ第三アミルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール(※)、2−(2’−ヒドロキシ−3’−(3”,4”,5”,6”−テトラヒドロフタルイミドメチル)−5’−メチルフェニル)−ベンゾトリアゾール(※)、2−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−6−第三ブチル−4−メチルフェノール(※)、2,2’−メチレンビス(4−(1,1,3,3−テトラメチルブチル)−6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)フェノール(※)、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ第三ペンチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−第三オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2’−メチレンビス(4−第三オクチル−6−ベンゾトリアゾリル)フェノール(※)、などが挙げられる。ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−オクトキシベンゾフェノン、2,2’−ジヒドロキシ−4−メトキシ−ベンゾフェノン(※)、2,2’−ジヒドロキシ−4,4’−ジメトキシ−ベンゾフェノン、2,2’,4,4’−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン、5,5’−メチレンビス(2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン)、などが挙げられる。   Although it does not specifically limit as a benzotriazole type ultraviolet absorber, For example, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole (*), 2- (2'-hydroxy-3 ', 5'-). Di-tert-butylphenyl) benzotriazole (*), 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-di-tert-butylphenyl) -5-chlorobenzotriazole (*), 2- (2′-hydroxy- 3′-tert-butyl-5′-methylphenyl) benzotriazole (*), 2- (2′-hydroxy-3′-tert-butyl-5′-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole (*), 2- (2′-hydroxy-3 ′, 5′-ditert-amylphenyl) -5-chlorobenzotriazole (*), 2- (2′-hydroxy-3 ′-(3 ″, 4 ″, 5 ″) , 6 "- (Trahydrophthalimidomethyl) -5′-methylphenyl) -benzotriazole (*), 2- (5-chloro-2H-benzotriazol-2-yl) -6-tert-butyl-4-methylphenol (*), 2,2′-methylenebis (4- (1,1,3,3-tetramethylbutyl) -6- (2H-benzotriazol-2-yl) phenol (*), 2- (2′-hydroxy-3 ′ , 5′-ditertiarypentylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy-5′-tertiary octylphenyl) benzotriazole, 2,2′-methylenebis (4-tertiaryoctyl-6-benzotriazolyl) E) Phenol (*), etc. The benzophenone-based ultraviolet absorber is not particularly limited, but, for example, 2,4-dihydroxybenzophenone. 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-octoxybenzophenone, 2,2'-dihydroxy-4-methoxy-benzophenone (*), 2,2'-dihydroxy-4,4'-dimethoxy-benzophenone 2,2 ′, 4,4′-tetrahydroxy-benzophenone, 5,5′-methylenebis (2-hydroxy-4-methoxybenzophenone), and the like.

ベンゾエート系紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、レゾルシノールモノベンゾエート、2,4−ジ第三ブチルフェニル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2,4−ジ第三アミルフェニル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、2,6−ジ第三ブチルフェニル−3’,5’−ジ第三ブチル−4’−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエート、オクタデシル−3,5−ジ第三ブチル−4−ヒドロキシベンゾエートなどが挙げられる。   Although it does not specifically limit as a benzoate type ultraviolet absorber, For example, resorcinol monobenzoate, 2, 4- di tert-butyl phenyl-3, 5- di tert-butyl 4-hydroxy benzoate, 2, 4- di tert- Amylphenyl-3,5-ditert-butyl-4-hydroxybenzoate, 2,6-ditert-butylphenyl-3 ′, 5′-ditert-butyl-4′-hydroxybenzoate, hexadecyl-3,5- Examples thereof include di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate and octadecyl-3,5-di-tert-butyl-4-hydroxybenzoate.

トリアジン系紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−4,6−ジフェニル−s−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシ−5−メチルフェニル)−4,6−ビス(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、2−(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシフェニル)−4,6−ジビフェニル−s−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−メトキシフェニル)−s−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−エトキシフェニル)−s−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−プロポキシフェニル)−s−トリアジン、2,4−ジフェニル−6−(2−ヒドロキシ−4−ブトキシフェニル)−s−トリアジン、2,4−ビス(2−ヒドロキシ−4−オクトキシフェニル)−6−(2,4−ジメチルフェニル)−s−トリアジン、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−ヘキシルオキシ−3−メチルフェニル)−s−トリアジン(※)、2,4,6−トリス(2−ヒドロキシ−4−オクトキシフェニル)−s−トリアジン、2−(4−イソオクチルオキシカルボニルエトキシフェニル)−4,6−ジフェニル−s−トリアジン、2−(4,6−ジフェニル−s−トリアジン−2−イル)−5−(2−(2−エチルヘキサノイルオキシ)エトキシ)フェノールなどが挙げられる。   Although it does not specifically limit as a triazine type ultraviolet absorber, 2- (2-hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -4,6-diphenyl-s-triazine, 2- (2-hydroxy-4-propoxy-5-) Methylphenyl) -4,6-bis (2,4-dimethylphenyl) -s-triazine, 2- (2-hydroxy-4-hexyloxyphenyl) -4,6-dibiphenyl-s-triazine, 2,4 -Diphenyl-6- (2-hydroxy-4-methoxyphenyl) -s-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-ethoxyphenyl) -s-triazine, 2,4-diphenyl-6 -(2-hydroxy-4-propoxyphenyl) -s-triazine, 2,4-diphenyl-6- (2-hydroxy-4-butoxyphenyl) -s Triazine, 2,4-bis (2-hydroxy-4-octoxyphenyl) -6- (2,4-dimethylphenyl) -s-triazine, 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-hexyloxy) -3-methylphenyl) -s-triazine (*), 2,4,6-tris (2-hydroxy-4-octoxyphenyl) -s-triazine, 2- (4-isooctyloxycarbonylethoxyphenyl)- Examples include 4,6-diphenyl-s-triazine and 2- (4,6-diphenyl-s-triazin-2-yl) -5- (2- (2-ethylhexanoyloxy) ethoxy) phenol.

ベンゾオキサジノン系紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、2,2’−p−フェニレンビス(4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)(※)、2,2’−p−フェニレンビス(6−メチル−4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−p−フェニレンビス(6−クロロ−4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)(※)、2,2’−p−フェニレンビス(6−メトキシ−4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−p−フェニレンビス(6−ヒドロキシ−4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)、2,2’−(ナフタレン−2,6−ジイル)ビス(4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)(※)、2,2’−(ナフタレン−1,4−ジイル)ビス(4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)(※)、2,2’−(チオフェン−2,5−ジイル)ビス(4H−3,1−ベンゾオキサジン−4−オン)(※)などを挙げることができる。   Although it does not specifically limit as a benzoxazinone type ultraviolet absorber, 2,2'-p-phenylenebis (4H-3,1-benzoxazin-4-one) (*), 2,2'-p-phenylene Bis (6-methyl-4H-3,1-benzoxazin-4-one), 2,2′-p-phenylenebis (6-chloro-4H-3,1-benzoxazin-4-one) (*) 2,2′-p-phenylenebis (6-methoxy-4H-3,1-benzoxazin-4-one), 2,2′-p-phenylenebis (6-hydroxy-4H-3,1-benzo) Oxazin-4-one), 2,2 ′-(naphthalene-2,6-diyl) bis (4H-3,1-benzoxazin-4-one) (*), 2,2 ′-(naphthalene-1, 4-Diyl) bis (4H-3,1-benzoxa Down-4-one) (※), 2,2 '- (thiophene-2,5-diyl) bis (4H-3,1-benzoxazin-4-one) (※) and the like.

本発明に用いる紫外線吸収剤は、少なくとも1種類がトリアジン系、アゾメチン系、インドール系、ジヒドロキシベンゾフェノン系のうちいずれかの骨格構造を有する紫外線吸収剤であることが好ましい。これらの骨格構造は、その他一般的に利用される紫外線吸収剤と比較して380nm以下の波長領域の紫外線を吸収する能力に優れている。また、融点が比較的低いことから紫外線吸収剤自身の固体成分としての表面析出が抑制され、紫外線吸収効果を一定に保つ観点から好ましく利用することができる。   The ultraviolet absorber used in the present invention is preferably an ultraviolet absorber having at least one skeleton structure of triazine, azomethine, indole, or dihydroxybenzophenone. These skeleton structures are excellent in the ability to absorb ultraviolet rays in a wavelength region of 380 nm or less as compared with other generally used ultraviolet absorbers. Further, since the melting point is relatively low, surface precipitation as a solid component of the ultraviolet absorber itself is suppressed, and it can be preferably used from the viewpoint of keeping the ultraviolet absorption effect constant.

樹脂層αに含まれる紫外線吸収剤の濃度は特に限定されないが、樹脂層αに含まれる樹脂Aの特性を阻害しないために、樹脂層α中の紫外線吸収剤の含有量は樹脂層α全体を100質量%としたとき25質量%以下とすることが好ましく、15質量%以下とすることがより好ましい。また、樹脂層αの厚みにも依存するが、目的の紫外線吸収率を満たすために0.01質量%以上とすることが好ましく、0.1質量%以上とすることがより好ましい。   The concentration of the ultraviolet absorber contained in the resin layer α is not particularly limited, but the content of the ultraviolet absorber in the resin layer α is not limited to the entire resin layer α in order not to impair the characteristics of the resin A contained in the resin layer α. When it is 100% by mass, it is preferably 25% by mass or less, more preferably 15% by mass or less. Further, although depending on the thickness of the resin layer α, it is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 0.1% by mass or more in order to satisfy the target ultraviolet absorption rate.

[基材B]
本発明に用いられる基材Bは特に限定されないが、ハンドリングの容易性の観点から有機高分子を素材とする樹脂フィルムであることが好ましい。本発明に好適に用いることができる有機高分子としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)等のポリエステル、ポリアミド、ABS樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリビニルアルコール、エチレン酢酸ビニル共重合体のケン化物、ポリアクリロニトリル、ポリアセタール等の各種ポリマーなどを挙げることができる。これらの中でも、ポリエチレンテレフタレートを含むことが好ましい。また、前記有機高分子は、単独重合体、共重合体のいずれでもよく、1種類の有機高分子、複数種類の有機高分子のブレンドのいずれも用いることができる。
[Base material B]
Although the base material B used for this invention is not specifically limited, From a viewpoint of the ease of handling, it is preferable that it is a resin film which uses organic polymer as a raw material. Examples of the organic polymer that can be suitably used in the present invention include polyolefins such as polyethylene and polypropylene, polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyamide, ABS resin, polycarbonate, polystyrene, and polyvinyl. Examples thereof include various polymers such as alcohol, saponified ethylene vinyl acetate copolymer, polyacrylonitrile, and polyacetal. Among these, it is preferable to contain polyethylene terephthalate. The organic polymer may be either a homopolymer or a copolymer, and any one kind of organic polymer or a blend of plural kinds of organic polymers can be used.

後述するレーザー照射工程において、基材Bはレーザーを入射する面となる。そのため、紫外線透過性が高いことが求められる。特に、355nmのレーザー光の照射により積層体を製造する場合には、355nmにおけるレーザー光のISO13468−1:1997に準拠した分光透過率が55%以上であることが好ましく、65%以上であることがより好ましく、70%以上であることがさらに好ましい。   In the laser irradiation step to be described later, the base material B becomes a surface on which the laser is incident. For this reason, it is required that the ultraviolet ray permeability is high. In particular, in the case of producing a laminate by irradiation with 355 nm laser light, the spectral transmittance of the laser light at 355 nm is preferably 55% or more, preferably 65% or more in accordance with ISO13468-1: 1997. Is more preferable, and 70% or more is more preferable.

基材Bの形態としては、単層フィルム、あるいは、2層以上の、例えば、共押し出し法で製膜したフィルムであってもよい。フィルムの種類としては、一軸方向あるいは二軸方向に延伸されたフィルム等を使用してもよい。   As a form of the base material B, a single layer film or a film having two or more layers, for example, a film formed by a coextrusion method may be used. As the type of film, a film stretched in a uniaxial direction or a biaxial direction may be used.

樹脂層αを形成する側の基材B表面には、樹脂層αとの接着性を良くするために、コロナ処理、イオンボンバード処理、溶剤処理、または、粗面化処理といった前処理が施されていても構わない。また、樹脂層αを形成する側の反対面には、フィルムの巻き取り時の滑り性の向上を目的として、有機物や無機物あるいはこれらの混合物のコーティング層が施されていても構わない。   The surface of the base material B on the side where the resin layer α is formed is subjected to pretreatment such as corona treatment, ion bombardment treatment, solvent treatment, or surface roughening treatment in order to improve adhesion to the resin layer α. It does not matter. In addition, a coating layer of an organic material, an inorganic material, or a mixture thereof may be provided on the surface opposite to the side on which the resin layer α is formed for the purpose of improving the slipping property at the time of winding the film.

本発明に用いる基材Bの厚みは特に限定されないが、柔軟性を確保する観点から500μm以下が好ましく、引張りや衝撃に対する強度を確保する観点から5μm以上が好ましい。さらに、フィルムの加工やハンドリングの容易性から下限は10μm以上がより好ましく、上限は200μm以下がより好ましい。   Although the thickness of the base material B used for this invention is not specifically limited, From a viewpoint of ensuring a softness | flexibility, 500 micrometers or less are preferable and 5 micrometers or more are preferable from a viewpoint of ensuring the intensity | strength with respect to a tension | tensile_strength or an impact. Furthermore, the lower limit is more preferably 10 μm or more, and the upper limit is more preferably 200 μm or less, from the viewpoint of ease of film processing and handling.

基材Bはレーザー光透過材料としての役割を担うことから所望のレーザー波長に対する吸光度が低いことが好ましい。特に、本発明の積層体を用いた液体展開部材は後述する355nmの紫外線レーザー光に対する吸光度が低い(透過性が高い)ことが好ましく、吸光度が0.05〜0.30である。吸光度が0.30より大きいと透過するレーザー光が弱まり、樹脂層αに含まれる紫外線吸収剤起因の発熱量が少なくなり、後述の樹脂層αあるいは樹脂層βによる十分な接着性が得られない場合がある。また、一般に有機高分子を素材として用いる限り吸光度は0.05以上となるため、下限は0.05である。   Since the base material B plays a role as a laser light transmitting material, it is preferable that the absorbance with respect to a desired laser wavelength is low. In particular, the liquid developing member using the laminate of the present invention preferably has low absorbance (high transmittance) with respect to 355 nm ultraviolet laser light described later, and the absorbance is 0.05 to 0.30. If the absorbance is greater than 0.30, the transmitted laser beam is weakened, the amount of heat generated by the ultraviolet absorber contained in the resin layer α is reduced, and sufficient adhesiveness due to the resin layer α or resin layer β described later cannot be obtained. There is a case. In general, as long as an organic polymer is used as a material, the absorbance is 0.05 or more, so the lower limit is 0.05.

[樹脂B]
本発明に含まれる樹脂層αと基材Bとの間には、樹脂Bを含む樹脂層βを有していてもよい。樹脂層βを有さない積層構成1の場合、後述するレーザー照射工程において、基材B側から透過した紫外線が、樹脂層αに含まれる紫外線吸収剤で吸収され発熱し、樹脂層αに含まれる樹脂Aが基材Bと基材Aを溶着する過程を経る。一方、樹脂層βを有する積層構成2の場合、基材B側から透過した紫外線が、樹脂層αに含まれる紫外線吸収剤で吸収され発熱し、その熱が隣接する樹脂層βに含まれる樹脂Aよりもガラス転移温度が低い樹脂Bを加熱し、基材Bと樹脂層αを溶着する過程を経る。樹脂層βを設けることで、積層体の層数が1層増えるため加工構成が煩雑となるが、樹脂層βを設けることで紫外線吸収機能を樹脂層αに、接着性発現機能を樹脂層βに機能分離することが可能となる。樹脂層αは接着性を発現させる観点から厚みが厚い方が有利である一方、紫外線吸収により発生した熱を隣接層(基材Bもしくは基材A)へ伝播させる観点からは厚みが薄い方が有利となり、特性の両立が難しい場合があるが、樹脂層βを設けることによる機能分離により、この課題が解決される。
[Resin B]
Between the resin layer α and the base material B included in the present invention, a resin layer β containing the resin B may be provided. In the case of the laminated structure 1 that does not have the resin layer β, in the laser irradiation process described later, the ultraviolet light transmitted from the base material B side is absorbed by the ultraviolet absorber included in the resin layer α and generates heat, and is included in the resin layer α. The resin A is subjected to a process of welding the base material B and the base material A. On the other hand, in the case of the laminated structure 2 having the resin layer β, the ultraviolet light transmitted from the substrate B side is absorbed by the ultraviolet absorber contained in the resin layer α and generates heat, and the heat is contained in the adjacent resin layer β. The resin B having a glass transition temperature lower than that of A is heated to undergo a process of welding the base material B and the resin layer α. By providing the resin layer β, the number of layers in the laminate increases by one, so that the processing configuration becomes complicated. However, by providing the resin layer β, the ultraviolet absorption function is provided in the resin layer α, and the adhesive development function is provided in the resin layer β. It is possible to separate the functions. The resin layer α is advantageous in that it is thicker from the viewpoint of exhibiting adhesiveness, whereas the resin layer α is thinner from the viewpoint of propagating heat generated by ultraviolet absorption to the adjacent layer (base material B or base material A). This is advantageous, and it may be difficult to achieve both properties, but this problem is solved by separating the functions by providing the resin layer β.

また樹脂層βを設けた場合、上述のとおり樹脂層βに用いる樹脂Bのガラス転移温度は樹脂Aより低いことが好ましい。樹脂層βに用いる樹脂Bのガラス転移温度は樹脂Aより低いことにより、樹脂層βによる一層の接着強度の向上の効果を見込むことができる。   When the resin layer β is provided, the glass transition temperature of the resin B used for the resin layer β is preferably lower than that of the resin A as described above. Since the glass transition temperature of the resin B used for the resin layer β is lower than that of the resin A, the effect of further improving the adhesive strength by the resin layer β can be expected.

本発明の樹脂層βに用いる樹脂Bは、ポリエステル樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリアミド樹脂、クロロプレン樹脂、アラミド樹脂およびアクリルウレタン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つの樹脂であることが好ましい。また、熱により軟化し、接着性を発現する機能、すなわちホットメルト性を有する熱可塑性樹脂であることが好ましい。このように、樹脂Bとして好ましく用いることができるホットメルト性を有する熱可塑性樹脂を以下においてはホットメルト接着剤と記載することもある。   The resin B used for the resin layer β of the present invention is selected from the group consisting of polyester resin, (meth) acrylic resin, polyolefin resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, polyamide resin, chloroprene resin, aramid resin, and acrylic urethane resin. At least one resin is preferred. Moreover, it is preferable that it is a thermoplastic resin which is softened by heat and exhibits adhesiveness, that is, a hot-melt property. As described above, a thermoplastic resin having a hot melt property that can be preferably used as the resin B may be referred to as a hot melt adhesive hereinafter.

樹脂Bを含有する樹脂層βの厚みは、3〜50μmであることが好ましく、より好ましくは5〜40μmである。厚みが3μmより少ないと加工精度の不足により面内での均一な厚みを担保できない場合がある。また、ピンホールが発生したり、所望の接着強度を得られなくなったりする場合がある。一方で、厚みが50μmより厚くなると、樹脂Bの過剰量使用による製造コストの増加や、積層体搬送工程やスリット工程などで樹脂層βが端部からはみ出し、工程を汚染する懸念が大きくなる場合がある。   The thickness of the resin layer β containing the resin B is preferably 3 to 50 μm, more preferably 5 to 40 μm. If the thickness is less than 3 μm, there may be a case where the in-plane uniform thickness cannot be secured due to insufficient processing accuracy. Moreover, a pinhole may generate | occur | produce and desired adhesive strength may not be acquired. On the other hand, when the thickness becomes thicker than 50 μm, there is an increased concern that the manufacturing cost increases due to the excessive use of the resin B, or the resin layer β protrudes from the end portion in the laminate transport process or the slit process, and the process is contaminated. There is.

樹脂Bとしては、先の群の中でもとりわけポリエステル樹脂または(メタ)アクリル樹脂を使用することが基材Bや樹脂層αとの接着強度や、耐熱性などの観点から好ましい。さらに融点が40℃以上150℃以下のポリエステル樹脂または(メタ)アクリル樹脂をホットメルト接着剤として使用することが特に好ましい。融点が40℃未満であると、熱接着時に樹脂Bが流動してしまうことで接着させたくない部分にまで接着剤が流れ、接着させてしまう場合があり、150℃よりも大きいと、熱接着の際に高い温度をかけないと、接着させることができなくなることがあり、作業効率が低下したり、被接着体である基材Bや樹脂層αが熱で損傷したりしてしまう場合がある。また、樹脂Bは、樹脂の凝集力が向上し、樹脂層βの接着強度が向上するため芳香族骨格を有することが好ましい。また、樹脂Bとして上述した樹脂を1種類のみ用いてもよいし、複数の樹脂を用いてもよい。   As the resin B, it is preferable to use a polyester resin or a (meth) acrylic resin among the above groups from the viewpoints of adhesive strength with the base material B and the resin layer α, heat resistance, and the like. Furthermore, it is particularly preferable to use a polyester resin or (meth) acrylic resin having a melting point of 40 ° C. or higher and 150 ° C. or lower as a hot melt adhesive. If the melting point is less than 40 ° C., the adhesive B may flow to a portion where the resin B does not want to be bonded due to the flow of the resin B at the time of thermal bonding, and if the melting point is higher than 150 ° C. If a high temperature is not applied at this time, it may not be possible to bond, and work efficiency may be reduced, or the base material B and the resin layer α, which are adherends, may be damaged by heat. is there. Further, the resin B preferably has an aromatic skeleton because the cohesive strength of the resin is improved and the adhesive strength of the resin layer β is improved. Further, only one kind of the above-described resins may be used as the resin B, or a plurality of resins may be used.

樹脂Bとして用いることができるホットメルト接着剤を例示するが、本発明に用いることができる樹脂Bはこの限りではない。例えば、“アロンメルト”(登録商標)PES−120L、PES−140H、PES−111EE、PES310S30、PES375S40、PPET1008、PPET1025、PPET2102、PPET1303S(以上、東亞合成株式会社製)、Y−167、H−930−S、H−180S(以上、田中ケミカル株式会社製)、“ニチゴーポリエスター”(登録商標)SP−154、SP−165、SP−170、SP−176、SP−180、SP−182、SP−185(以上、日本合成化学株式会社製)、“バイロン”(登録商標)200、240、300、550、BX1001(以上、東洋紡株式会社製)、“ポリゾール”(登録商標)SE−1720、SE−4210E、SE−6210、SE−6210L(以上、昭和電工株式会社製)などを好適に用いることができる。   The hot melt adhesive that can be used as the resin B is exemplified, but the resin B that can be used in the present invention is not limited to this. For example, “Aron Melt” (registered trademark) PES-120L, PES-140H, PES-111EE, PES310S30, PES375S40, PPET1008, PPET1025, PPET2102, PPET1303S (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Y-167, H-930- S, H-180S (manufactured by Tanaka Chemical Co., Ltd.), “Nichigo Polyester” (registered trademark) SP-154, SP-165, SP-170, SP-176, SP-180, SP-182, SP- 185 (above, manufactured by Nippon Synthetic Chemical Co., Ltd.), “Byron” (registered trademark) 200, 240, 300, 550, BX1001 (above, manufactured by Toyobo Co., Ltd.), “Polysol” (registered trademark) SE-1720, SE- 4210E, SE-6210, SE-6210L (hereinafter , It can be suitably used by Showa Denko Co., Ltd.) and the like.

[界面活性剤]
本発明における樹脂層βには樹脂Bとともに界面活性剤を用いてもよい。界面活性剤は樹脂Bに親水性を付与させる役割を担う。図4に示すように、液体流路を設けた構成をとった場合、液体の展開性(吸引性)を向上させる機能として親水性は有益に働く。用いる界面活性剤に制限はないが界面活性剤のなかでも、ポリアルキレングリコール骨格を有する非イオン性の界面活性剤を含有することが好ましい(以下、ポリアルキレングリコール骨格を有する非イオン性の界面活性剤を単に界面活性剤ということもある)。本発明に用いるポリアルキレングリコール骨格を有する非イオン性の界面活性剤は、親水性置換基としてポリアルキレングリコール骨格を有するとともに、疎水性置換基として後述する骨格を併せて有する。
[Surfactant]
A surfactant may be used together with the resin B for the resin layer β in the present invention. The surfactant plays a role of imparting hydrophilicity to the resin B. As shown in FIG. 4, in the case of adopting a configuration in which a liquid flow path is provided, hydrophilicity works beneficially as a function of improving the developability (suction performance) of the liquid. The surfactant to be used is not limited, but among the surfactants, it is preferable to contain a nonionic surfactant having a polyalkylene glycol skeleton (hereinafter referred to as nonionic surfactant having a polyalkylene glycol skeleton). The agent is sometimes simply referred to as a surfactant). The nonionic surfactant having a polyalkylene glycol skeleton used in the present invention has a polyalkylene glycol skeleton as a hydrophilic substituent and a skeleton described later as a hydrophobic substituent.

ここで、ポリアルキレングリコール骨格を有する非イオン性の界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリル−硫酸エステルナトリウム塩等のポリオキシエチレン−アルキル硫酸エステル−ナトリウム塩、ポリオキシエチレン−ラウリルエーテル、ポリオキシエチレン−セチルエーテル、ポリオキシエチレン−オレイルエーテル、ポリオキシエチレン−ステアリルエーテル、ポリオキシエチレン−2−エチルヘキシルエーテル、ポリオキシエチレン−イソデシルエーテル等のポリオキシエチレン−アルキルエーテル、ポリオキシエチレン−モノラウレート、ポリオキシエチレン−モノステアレート、ポリオキシエチレン−モノオレート等のポリオキシエチレン−アルキルエステル、ポリオキシエチレンソルビタン−モノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタン−モノステアレート、ポリオキシエチレンソルビタン−モノオレート、ポリオキシエチレンソルビタン−モノオレート等のソルビタンエステル・エチレンオキシド付加型、ポリオキシエチレン−ヤシ脂肪酸グリセリル等のモノグリセライド・エチレンオキシド付加型、ポリオキシエチレン−硬化ヒマシ油等のトリグリセライド・エチレンオキシド付加型、ポリオキシエチレン−ラウリルアミン、ポリオキシエチレン−アルキル(ヤシ)アミン、ポリオキシエチレン−ステアリルアミン、ポリオキシエチレン−オレイルアミン、ポリオキシエチレン−牛脂アルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキル−プロピレンジ゛アミン等のアルキルポリエーテルアミン型ポリオキシエチレン−モノメチルエーテル、ポリオキシエチレン−ジメチルエーテル、ポリオキシエチレン−グリセリルエーテル、ポリオキシエチレン・α,ω−ビス−3−アミノプロピル−エーテル、ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコール−ポリエチレングリコール(ブロックコポリマー)などの界面活性剤が挙げられるが、本発明に用いることができるポリアルキレングリコール骨格を有する非イオン性の界面活性剤はこの限りでない。   Here, as the nonionic surfactant having a polyalkylene glycol skeleton, for example, polyoxyethylene-alkyl sulfate-sodium salt such as polyoxyethylene lauryl-sulfate sodium salt, polyoxyethylene-lauryl ether, Polyoxyethylene-alkyl ethers such as polyoxyethylene-cetyl ether, polyoxyethylene-oleyl ether, polyoxyethylene-stearyl ether, polyoxyethylene-2-ethylhexyl ether, polyoxyethylene-isodecyl ether, polyoxyethylene- Monolaurate, polyoxyethylene-monostearate, polyoxyethylene-alkyl esters such as polyoxyethylene-monooleate, polyoxyethylene sorbitan-monolaurate Polyoxyethylene sorbitan-monostearate, polyoxyethylene sorbitan-monooleate, sorbitan ester / ethylene oxide addition type such as polyoxyethylene sorbitan-monooleate, monoglyceride / ethylene oxide addition type such as polyoxyethylene-coconut fatty acid glyceryl, polyoxyethylene -Triglyceride / ethylene oxide addition type such as hydrogenated castor oil, polyoxyethylene-laurylamine, polyoxyethylene-alkyl (coconut) amine, polyoxyethylene-stearylamine, polyoxyethylene-oleylamine, polyoxyethylene-tallow alkylamine, Alkyl polyether amine type polyoxyethylene monomethyl ether such as polyoxyethylene alkyl-propylene diamine, poly Surfactants such as oxyethylene-dimethyl ether, polyoxyethylene-glyceryl ether, polyoxyethylene α, ω-bis-3-aminopropyl-ether, polyethylene glycol-polypropylene glycol-polyethylene glycol (block copolymer) and the like can be mentioned. The nonionic surfactant having a polyalkylene glycol skeleton that can be used in the present invention is not limited to this.

ポリアルキレングリコール骨格を有する非イオン性の界面活性剤のうちより好ましくは疎水性置換基としてアルキル置換基を有する化合物が好ましい。市販されている具体例として、“パイオニン”(登録商標)D−1004、D−1007、D−1706−N、D−1715−N、D−1105、D−1110、D−1103−D、D−1105−D、D−1103−S、D−1105−S、D−1107−S、D−1109−S、D−1004、D−1004、D−1004、“ニューカルゲン”(登録商標)D−1203、D−1205、D−1208、“パイオニン”(登録商標)D−1305−Z、D−1323−Z、D−1803、D−1402、D−1420、D−1504、D−1508、D−1518、D−1106DIR、D−1110DIR、D−1107SP3、D−1301−P、D−1305−P(以上、竹本油脂株式会社製)、“エマルゲン”(登録商標)102KG、103、104P、105、106、108、109P、120、123P、130K、147、150、210P、220、306P、320P、350、404、408、409PV、42430、705、707、709、1108、1118S−70、1135S−70、1150S−60、“エマルゲン”(登録商標)2020G−HA、2025G(以上、花王株式会社製)、等が挙げられる。疎水性置換基がアルキル基であるとアルキル基の炭素数が異なる界面活性剤の製造・入手が容易であるため、後述するHLB値を任意に変更できるという利点がある。   Of the nonionic surfactants having a polyalkylene glycol skeleton, compounds having an alkyl substituent as a hydrophobic substituent are more preferred. As specific examples commercially available, “Pionin” (registered trademark) D-1004, D-1007, D-1706-N, D-1715-N, D-1105, D-1110, D-1103-D, D -1105-D, D-1103-S, D-1105-S, D-1107-S, D-1109-S, D-1004, D-1004, D-1004, "New Calgen" (registered trademark) D -1203, D-1205, D-1208, "Pionine" (registered trademark) D-1305-Z, D-1323-Z, D-1803, D-1402, D-1420, D-1504, D-1508, D-1518, D-1106 DIR, D-1110DIR, D-1107SP3, D1301-P, D-1305-P (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.), “Emulgen” (registered trademark) 1 2KG, 103, 104P, 105, 106, 108, 109P, 120, 123P, 130K, 147, 150, 210P, 220, 306P, 320P, 350, 404, 408, 409PV, 24430, 705, 707, 709, 1108, 1118S-70, 1135S-70, 1150S-60, “Emulgen” (registered trademark) 2020G-HA, 2025G (above, manufactured by Kao Corporation), and the like. When the hydrophobic substituent is an alkyl group, it is easy to produce and obtain a surfactant having a different number of carbon atoms in the alkyl group, so that there is an advantage that the HLB value described later can be arbitrarily changed.

上記ポリアルキレングリコール骨格を有する非イオン性の界面活性剤で示される化合物のうち、疎水性置換基として芳香族を含むアリルフェニル基を有するアリルフェニルエーテル型化合物で市販されている具体例として、“パイオニン”(登録商標)D−6512、D−6414、DTD−51、D−6315、D−6112、パイオニンD−7240、“ニューカルゲン”(登録商標)C−150、C−173、C−200、C−314、CP−50、CP−80、CP−120、CP−15−200、E−200(以上、竹本油脂株式会社製)等が挙げられる。疎水性置換基がアリルフェニル基であると、例えば芳香族を有する樹脂Bを併用した場合に、樹脂Bと界面活性剤の芳香環のスタッキングによる凝集力向上効果によって、接着強度が向上するため好ましい。また、疎水性置換基がアリルフェニル基であると、アリルフェニル基の繰り返し数を任意に調整した界面活性剤の製造・入手が容易であるため、後述するHLB値を任意に変更できるという利点がある。   Among the compounds represented by the nonionic surfactant having a polyalkylene glycol skeleton, specific examples commercially available as an allyl phenyl ether type compound having an allyl phenyl group containing an aromatic group as a hydrophobic substituent include: "Pionine" (registered trademark) D-6512, D-6414, DTD-51, D-6315, D-6112, Pionein D-7240, "New Calgen" (registered trademark) C-150, C-173, C-200 C-314, CP-50, CP-80, CP-120, CP-15-200, E-200 (above, Takemoto Yushi Co., Ltd.) and the like. When the hydrophobic substituent is an allylphenyl group, for example, when an aromatic resin B is used in combination, the adhesive strength is improved by the effect of improving the cohesive force by stacking the aromatic ring of the resin B and the surfactant, which is preferable. . Further, when the hydrophobic substituent is an allylphenyl group, it is easy to produce and obtain a surfactant in which the repeating number of allylphenyl groups is arbitrarily adjusted. Therefore, there is an advantage that the HLB value described later can be arbitrarily changed. is there.

上記ポリアルキレングリコール骨格を有する非イオン性の界面活性剤で示される化合物のうち、ソルビタン脂肪酸誘導体で市販されている具体例として、“レオドール”(登録商標)TW−L120、TW−L106、TW−P120、TW−S120V、TW−S106V、TW−S−320V、TW−O120V、TW−O106V、TW−O320V、TW−IS399C、“レオドールスーパー”(登録商標)TW−L120(以上、花王株式会社製)、“パイオニン”(登録商標)D−941、D−945、D−945T(以上、竹本油脂株式会社製)等が挙げられる。   Among the compounds represented by the nonionic surfactant having a polyalkylene glycol skeleton, as specific examples commercially available as sorbitan fatty acid derivatives, “Leodol” (registered trademark) TW-L120, TW-L106, TW— P120, TW-S120V, TW-S106V, TW-S-320V, TW-O120V, TW-O106V, TW-O320V, TW-IS399C, "Leodol Super" (registered trademark) TW-L120 (above, Kao Corporation Product), “Pionine” (registered trademark) D-941, D-945, D-945T (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.), and the like.

前記ポリアルキレングリコール骨格を有する非イオン性の界面活性剤の数平均分子量(Mn)は、好ましくは500〜20,000、より好ましくは2,000〜20,000、特に好ましくは5,000〜18,000である。すなわち、かかる数平均分子量が500以上だと該積層体のロール加工に際しその搬送工程や印刷加工工程、またスリット加工工程などにおいて、搬送ロールやスリット刃表面や断面に界面活性剤成分が付着することを良好に防止することができ、その結果、各工程の清掃頻度が格段に減少するので好ましい。かかる数平均分子量が20,000以下であると、界面活性剤を樹脂層βに均一に分散させやすくなるので好ましい。   The number average molecular weight (Mn) of the nonionic surfactant having a polyalkylene glycol skeleton is preferably 500 to 20,000, more preferably 2,000 to 20,000, and particularly preferably 5,000 to 18. , 000. That is, when the number average molecular weight is 500 or more, the surfactant component adheres to the surface or cross section of the transport roll or slit blade in the transport process, printing process, slit process, etc., when the laminate is rolled. Can be satisfactorily prevented, and as a result, the frequency of cleaning in each process is significantly reduced, which is preferable. Such a number average molecular weight of 20,000 or less is preferable because the surfactant can be easily dispersed uniformly in the resin layer β.

また、かかる界面活性剤の融点または凝固点は、特に制限されるものではないが、30℃以下であるものが好ましい。より好ましくは、25℃以下であり、更に好ましくは、20℃以下である。融点または凝固点が30℃より大きいと、樹脂層βから前記界面活性剤がブリードアウトしやすくなり、樹脂層βの接着強度がばらつくことで接着強度の低下を招く場合がある。また、融点または凝固点が30℃以下であると、樹脂層βと界面活性剤を混合した塗布液を調合する際に界面活性剤の加熱溶解作業が不要となるため作業容易性の観点から好ましい。   Further, the melting point or freezing point of the surfactant is not particularly limited, but is preferably 30 ° C. or lower. More preferably, it is 25 degrees C or less, More preferably, it is 20 degrees C or less. When the melting point or freezing point is higher than 30 ° C., the surfactant is likely to bleed out from the resin layer β, and the adhesive strength of the resin layer β may vary, leading to a decrease in adhesive strength. Moreover, when the melting point or the freezing point is 30 ° C. or lower, it is preferable from the viewpoint of workability because the heating and dissolving operation of the surfactant is not required when preparing a coating liquid in which the resin layer β and the surfactant are mixed.

本発明における樹脂層βは、前記樹脂B100質量部に対し、界面活性剤の量が0.1〜20質量部が好ましく、より好ましくは0.1〜12質量部であり、さらに好ましくは1〜10質量部である。界面活性剤の量が0.1質量部未満であると、樹脂層βの表面の親水性が十分に得られず、液体試料の導入性が十分に発揮されない場合がある。また、積層体搬送工程やスリット工程などで樹脂層βに含まれる主成分が付着することを防止する効果が十分に発揮されない場合がある。界面活性剤の量が20質量部より大きいと樹脂層βにおける界面活性剤に対する樹脂Bの配合比が低下するため樹脂層βの強度が低下し、安定した製膜が難しくなるばかりでなく、樹脂層βと界面活性剤を混合した塗料の貯蔵安定性の低下を招く場合がある。加えて、樹脂層βとの十分な相溶性を得にくく、樹脂層β表面にブリードアウトする界面活性剤が多くなり樹脂層βの接着性が損なわれ、所望の接着強度を得られなくなる場合がある。界面活性剤がブリードアウトすることで積層体搬送工程やスリット工程などで界面活性剤成分が付着し、加工工程の汚染が発生する場合もある。0.1〜20質量部であると、上記の欠点を解決した樹脂層βを得ることができるため好ましい。   In the resin layer β in the present invention, the amount of the surfactant is preferably 0.1 to 20 parts by mass, more preferably 0.1 to 12 parts by mass, and still more preferably 1 to 12 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin B. 10 parts by mass. When the amount of the surfactant is less than 0.1 parts by mass, the hydrophilicity of the surface of the resin layer β cannot be sufficiently obtained, and the introduction property of the liquid sample may not be sufficiently exhibited. Moreover, the effect which prevents that the main component contained in the resin layer (beta) adheres by a laminated body conveyance process, a slit process, etc. may not fully be exhibited. If the amount of the surfactant is larger than 20 parts by mass, the compounding ratio of the resin B to the surfactant in the resin layer β is lowered, so that the strength of the resin layer β is lowered and stable film formation becomes difficult. In some cases, the storage stability of the paint in which the layer β and the surfactant are mixed is reduced. In addition, it is difficult to obtain sufficient compatibility with the resin layer β, the surfactant that bleeds out on the surface of the resin layer β increases, the adhesiveness of the resin layer β is impaired, and the desired adhesive strength may not be obtained. is there. When the surfactant bleeds out, the surfactant component may adhere in the laminate transporting process, the slitting process, etc., and contamination of the processing process may occur. The amount of 0.1 to 20 parts by mass is preferable because a resin layer β that solves the above disadvantages can be obtained.

本発明における樹脂層βの表面の水接触角は15度未満であることが好ましい。水に対する接触角が15度未満であることにより液体試料の高速かつ安定した導入を十分に実現することができるため好ましい。   The water contact angle on the surface of the resin layer β in the present invention is preferably less than 15 degrees. It is preferable that the contact angle with respect to water is less than 15 degrees because a high-speed and stable introduction of a liquid sample can be sufficiently realized.

本発明に用いる界面活性剤は、HLB値が8〜15の界面活性剤であることが好ましい。HLB値が8〜15の界面活性剤を用いることで樹脂層βとの相溶性を保ちつつ、樹脂層βに親水性を与えることができるため好ましい。   The surfactant used in the present invention is preferably a surfactant having an HLB value of 8-15. It is preferable to use a surfactant having an HLB value of 8 to 15 because hydrophilicity can be imparted to the resin layer β while maintaining compatibility with the resin layer β.

HLB(HyDrophile−Lipophile Balance)値とは、親水親油バランスのことであり、下記式(1)から求められるグリフィン法(全訂版 新・界面活性剤入門 p128)により算出した値である。
界面活性剤のHLB値=(親水基部分の数平均分子量/界面活性剤の数平均分子量)×20 式(1)。
The HLB (HyDophile-Lipophile Balance) value is a hydrophilic / lipophilic balance, and is a value calculated by the Griffin method (all revised edition, introduction to surfactant p128) obtained from the following formula (1).
HLB value of surfactant = (number average molecular weight of hydrophilic group portion / number average molecular weight of surfactant) × 20 Formula (1).

界面活性剤のHLB値が15より大きい場合、界面活性剤と樹脂Bの主成分との十分な相溶性を得にくく、樹脂層β表面にブリードアウトする界面活性剤が多くなり樹脂層βの接着性が損なわれ、所望の接着強度を得られなくなる場合がある。一方で、界面活性剤のHLB値が8より小さい場合、樹脂層βの親水性が十分に得られなくなる場合がある。界面活性剤のHLB値が8〜15であると、樹脂Bとの相溶性および樹脂層βの親水性の両立が可能であるため好ましい。   When the HLB value of the surfactant is greater than 15, it is difficult to obtain sufficient compatibility between the surfactant and the main component of the resin B, and the amount of the surfactant that bleeds out on the surface of the resin layer β increases and the resin layer β is bonded. In some cases, the desired adhesive strength cannot be obtained. On the other hand, when the HLB value of the surfactant is smaller than 8, the hydrophilicity of the resin layer β may not be sufficiently obtained. It is preferable that the surfactant has an HLB value of 8 to 15 because both compatibility with the resin B and hydrophilicity of the resin layer β can be achieved.

[液体展開部材]
液体展開部材は基材Bに樹脂層βが積層された構成を指し、図2に示す積層構成2の部分構成である。レーザー光による溶着時に、液体展開部材はレーザー光透過材料としての役割を担うことから所望のレーザー波長に対する吸光度が低いことが求められる。特に、液体展開部材は後述する355nmの紫外線レーザー光に対する吸光度が低い(透過性が高い)ことが好ましく、吸光度が0.05〜0.30であることが好ましい。吸光度が0.30より大きいと透過するレーザー光が弱まり、樹脂層αに含まれる紫外線吸収剤起因の発熱量が少なくなり、十分な接着性が得られない場合がある。
[Liquid spreading member]
The liquid spreading member refers to a configuration in which the resin layer β is laminated on the base material B, and is a partial configuration of the laminated configuration 2 shown in FIG. At the time of welding by laser light, the liquid spreading member plays a role as a laser light transmitting material, and therefore, it is required that the absorbance with respect to a desired laser wavelength is low. In particular, the liquid spreading member preferably has low absorbance (high transmittance) with respect to 355 nm ultraviolet laser light described later, and preferably has an absorbance of 0.05 to 0.30. If the absorbance is greater than 0.30, the transmitted laser light is weakened, the amount of heat generated by the ultraviolet absorber contained in the resin layer α is reduced, and sufficient adhesiveness may not be obtained.

[レーザー照射条件]
本発明の積層体を形成するためのレーザー照射過程におけるレーザー光の種類は任意であり、波長1,064nmのYAG(イットリウム・アルミニウム・ガーネット結晶)レーザー、波長808nm、820nm、840nm、880nm、940nmの各LD(レーザーダイオード)レーザー、波長532nmのグリーン(2倍波)レーザー、波長355nmの紫外線(3倍波)レーザー等を用いることができる。なかでも、液体流路を形成するにあたり加工品質や微細さを追及するため、また紫外線領域に透過性を有する基材B側からレーザーを照射する観点から紫外線レーザーを用いることがより好ましい。紫外線吸収剤は広く入手可能であることからも紫外線レーザーを用いることがより好ましい。
[Laser irradiation conditions]
The type of laser light in the laser irradiation process for forming the laminate of the present invention is arbitrary, and a YAG (yttrium, aluminum, garnet crystal) laser having a wavelength of 1,064 nm, wavelengths of 808 nm, 820 nm, 840 nm, 880 nm, and 940 nm. Each LD (laser diode) laser, a green (second harmonic) laser with a wavelength of 532 nm, an ultraviolet (third harmonic) laser with a wavelength of 355 nm, or the like can be used. Among these, it is more preferable to use an ultraviolet laser from the viewpoint of irradiating the laser from the side of the substrate B having transparency in the ultraviolet region in order to pursue processing quality and fineness in forming the liquid flow path. It is more preferable to use an ultraviolet laser because ultraviolet absorbers are widely available.

レーザー溶着する方法としては、重ね合わせ溶着を好ましく挙げることができる。重ね合わせ溶着は、レーザー光透過材料とレーザー光吸収材料それぞれの最も表面積の大きな面同士を重ね合わせた後、レーザー光にて溶着を行う手法である。本発明においてレーザー光透過材料は基材Bあるいは液体展開部材が該当し、レーザー光吸収材料は紫外線吸収部材が該当する。   As a method for laser welding, preferred is superposition welding. Overlap welding is a technique in which the surfaces having the largest surface areas of the laser light transmitting material and the laser light absorbing material are overlapped with each other, and then welding is performed with laser light. In the present invention, the laser light transmitting material corresponds to the base material B or the liquid spreading member, and the laser light absorbing material corresponds to an ultraviolet absorbing member.

[積層体の製造方法]
本発明の積層体の製造方法として、一例として、基材A、樹脂層α、基材Bをこの順に有し、波長250nm〜380nmかつ0.01W〜50Wのレーザーを前記基材B側から照射する積層体の製造方法が挙げられる。より好ましくは、積層構成1で示される積層体の製造方法は例えば次の2通りある。1つ目の製造方法は、基材A上に樹脂Aおよび紫外線吸収剤を含む樹脂層αを設けることで紫外線吸収部材を得る。得られた紫外線吸収部材の樹脂層α面と別途準備した基材Bが隙間無く面全体で接するように配置し、基材B側から波長250nm〜380nmかつ0.01W〜50Wのレーザー光を照射する手順である。2つ目の製造方法は、基材B側上に樹脂Aおよび紫外線吸収剤を含む樹脂層αを設ける。その後、樹脂層α面と別途準備した基材Aが隙間無く面全体で接するように配置し、基材B側から波長250nm〜380nmかつ0.01W〜50Wのレーザー光を照射する手順である。
[Manufacturing method of laminate]
As an example of the method for producing the laminate of the present invention, the substrate A, the resin layer α, and the substrate B are provided in this order, and a laser having a wavelength of 250 nm to 380 nm and 0.01 W to 50 W is irradiated from the substrate B side. The manufacturing method of the laminated body to perform is mentioned. More preferably, there are, for example, the following two methods for manufacturing the laminate shown by the laminate configuration 1. In the first manufacturing method, an ultraviolet absorbing member is obtained by providing a resin layer α containing a resin A and an ultraviolet absorber on a substrate A. The resin layer α surface of the obtained ultraviolet absorbing member and the separately prepared base material B are arranged so as to be in contact with the entire surface without a gap, and laser light with wavelengths of 250 nm to 380 nm and 0.01 W to 50 W is irradiated from the base material B side. It is a procedure to do. In the second manufacturing method, the resin layer α containing the resin A and the ultraviolet absorber is provided on the base material B side. Then, it arrange | positions so that the base material A separately prepared with the resin layer (alpha) surface may contact | connect the whole surface without a gap, and is a procedure which irradiates the laser beam of wavelength 250nm -380nm and 0.01W-50W from the base material B side.

次に、積層構成2で示される積層体の製造方法を示す。一例として、波長355nmにおける吸光度が0.40より高い基材A、紫外線吸収剤を含む樹脂層α、波長355nmにおける吸光度が0.05〜0.30である基材Bをこの順に有し、波長250nm〜380nmかつ0.01W〜50Wのレーザーを前記基材B側から照射する積層体の製造方法が挙げられ、さらに前記樹脂層αと前記基材Bとの間に熱可塑性樹脂Bを含む樹脂層βを有し、該樹脂Bが前記樹脂Aよりもガラス転移温度が低い積層体の製造方法が挙げられる。さらに好ましい積層体の製造方法として、前記樹脂層βが界面活性剤を含む積層体の製造方法が挙げられる。より具体的には、基材A上に樹脂Aおよび紫外線吸収剤を含む樹脂層αを設けることで紫外線吸収部材を、また、基材B上に樹脂Bを含む樹脂層βを設けることで液体展開部材をそれぞれ得る。得られた紫外線吸収部材の樹脂層α面と、液体展開部材の樹脂β面が隙間無く面全体で接するように配置し、基材B側から波長250nm〜380nmかつ0.01W〜50Wのレーザー光を照射する手順である。また、上述したとおり、積層構成2で示される積層体を製造する際には、樹脂層βに界面活性剤を含んでもよい。   Next, the manufacturing method of the laminated body shown by the laminated structure 2 is shown. As an example, a substrate A having an absorbance at a wavelength of 355 nm higher than 0.40, a resin layer α containing an ultraviolet absorber, and a substrate B having an absorbance at a wavelength of 355 nm of 0.05 to 0.30 in this order, Examples include a method for producing a laminate in which a laser of 250 nm to 380 nm and 0.01 W to 50 W is irradiated from the side of the base material B, and a resin containing a thermoplastic resin B between the resin layer α and the base material B Examples thereof include a method for producing a laminate having the layer β and the resin B having a glass transition temperature lower than that of the resin A. As a more preferred method for producing a laminate, a method for producing a laminate in which the resin layer β contains a surfactant can be mentioned. More specifically, an ultraviolet absorbing member is provided by providing the resin layer α containing the resin A and the ultraviolet absorber on the substrate A, and a liquid is provided by providing the resin layer β containing the resin B on the substrate B. Each deployment member is obtained. The resin layer α surface of the obtained ultraviolet absorbing member and the resin β surface of the liquid spreading member are arranged so as to be in contact with the entire surface without a gap, and laser light having a wavelength of 250 nm to 380 nm and 0.01 W to 50 W from the substrate B side. It is the procedure which irradiates. Further, as described above, when the laminate shown by the laminate configuration 2 is manufactured, the resin layer β may include a surfactant.

なお、積層構成1および積層構成2のいずれの積層体においても、照射するレーザー光の波長が250nm〜380nmの範囲内であると、レーザー光エネルギーが紫外線吸収剤によって効率良く熱エネルギーに変換されるため好ましい。また、レーザー光の出力下限は、十分な熱エネルギーを得るために0.01W以上とすることが好ましく、上限はレーザー光が最初に透過する基材Bの熱エネルギーによる変形・変質を防ぐ観点から50W以下とすることが好ましい。すなわち、レーザー光の出力は0.01W〜50Wであることが好ましい。   Note that, in any of the stacked structures of the stacked structure 1 and the stacked structure 2, when the wavelength of the laser beam to be irradiated is in the range of 250 nm to 380 nm, the laser light energy is efficiently converted into thermal energy by the ultraviolet absorber. Therefore, it is preferable. Further, the lower limit of the output of the laser beam is preferably 0.01 W or more in order to obtain sufficient thermal energy, and the upper limit is from the viewpoint of preventing deformation / degeneration due to the thermal energy of the base material B through which the laser beam first transmits. 50 W or less is preferable. That is, it is preferable that the output of a laser beam is 0.01W-50W.

また、レーザー溶着工程において、溶着させる面同士は十分に接地していることが好ましい。本発明においては、剛直な樹脂成形体ではなく、比較的柔軟性のあるフィルム材料を用いることで溶着面全体での接地を促進することが好ましい。また、加工工程として、十分な接地を促進するために、基材B上にガラス板を錘として配置することがより好ましい。ガラス板の種類に制限は無いが、使用するレーザー光の波長に対する透過性が、60%以上であることが好ましく70%以上であることがより好ましい。レーザー光の波長に対する透過性が60%未満であると、照射するレーザー光のエネルギーが溶着部へ十分届かず、十分な接着力が得られない場合がある。また、溶着のためにレーザーの出力を上げることとなりレーザー加工に負荷がかかるとともに、エネルギー効率の低下を招く場合がある。ガラス板の大きさや厚み、重さに制限はないが取り扱いが容易であることが好ましい。   In the laser welding process, it is preferable that the surfaces to be welded are sufficiently grounded. In the present invention, it is preferable to promote grounding on the entire welded surface by using a relatively flexible film material instead of a rigid resin molded body. Moreover, in order to promote sufficient grounding as a processing step, it is more preferable to arrange a glass plate as a weight on the base material B. Although there is no restriction | limiting in the kind of glass plate, It is preferable that the transmittance | permeability with respect to the wavelength of the laser beam to be used is 60% or more, and it is more preferable that it is 70% or more. If the transmittance with respect to the wavelength of the laser beam is less than 60%, the energy of the laser beam to be irradiated does not reach the welded portion sufficiently, and a sufficient adhesive force may not be obtained. In addition, the laser output is increased for welding, which places a burden on laser processing and may cause a decrease in energy efficiency. Although there is no restriction | limiting in the magnitude | size, thickness, and weight of a glass plate, it is preferable that handling is easy.

[液体展開シートの製造方法]
本発明の積層構成2で示される積層体を部分構造として有するものを液体展開シートと記載し、該液体展開シートは、例えば紫外線吸収部材の樹脂層αとは反対の面に樹脂層γを設けることで得られるスペーサ部材に液体流路となる空間を設けた後、樹脂層α側に液体展開部材を、樹脂層γ側にカバー材料を設けることで製造する。設ける液体流路の形状は任意である。液体展開シートには純水を液体流路端部からもう片端へ吸引する液体展開性を有することが好ましい。また、樹脂層γは樹脂Bと、カバー材料は基材Bと同等の特性をそれぞれ有することが好ましい。
[Method for manufacturing liquid spreading sheet]
What has the laminated body shown by the laminated structure 2 of this invention as a partial structure is described as a liquid expansion | deployment sheet, and this liquid expansion | deployment sheet provides the resin layer (gamma) in the surface on the opposite side to the resin layer (alpha) of an ultraviolet absorber, for example After providing a space to be a liquid flow path in the spacer member obtained in this manner, the liquid developing member is provided on the resin layer α side, and the cover material is provided on the resin layer γ side. The shape of the liquid channel to be provided is arbitrary. The liquid spreading sheet preferably has a liquid spreading property for sucking pure water from the liquid channel end to the other end. The resin layer γ preferably has the same characteristics as the resin B, and the cover material has the same characteristics as the base material B.

以下に本発明を実施例により具体的に説明を行なうが、本発明はこれらの実施例により限定されるものではない。なお、実施例において、試験片の特性の評価方法は、以下の通りである。   EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. In the examples, the method for evaluating the characteristics of the test piece is as follows.

[樹脂層αおよび樹脂層βの厚み]
積層体について、マイクロサンプリングシステム(日立製作所(株)製FB−2000A)を使用してFIB法により断面出しを行った。その後、透過型電子顕微鏡(日立製作所(株)製H−9000UHRII)を用い加速電圧300kVとして、観察用サンプルの断面を観察し、標準スケールに対する樹脂層αおよび樹脂層βの厚みをそれぞれ算出した。
[Thickness of resin layer α and resin layer β]
The laminate was sectioned by the FIB method using a microsampling system (FB-2000A manufactured by Hitachi, Ltd.). Then, the cross section of the sample for observation was observed using the transmission electron microscope (H-9000UHRII by Hitachi, Ltd.) as the acceleration voltage of 300 kV, and the thickness of the resin layer (alpha) and the resin layer (beta) with respect to the standard scale was calculated, respectively.

[基材B、基材A、積層体の吸光度]
基材B、基材A、積層体それぞれについて縦5cm×横5cmのサイズに切り出し、紫外可視近赤外分光光度計UV−3600 Plus(株式会社島津製作所製)を用い、波長355nmの吸光度を測定した。なお、入光面が、基材B、基材Aにおいては任意の面、積層体においては基材B面となるように装置内に固定した。また、測定誤差を考慮し吸光度が3以上であった場合には3とした。なお、基材B、基材Aは積層体から剥離することでも入手が可能であり、樹脂層αや樹脂層βが付着している場合には有機溶剤で拭き取った後に評価に用いる。また、基材B、基材A、積層体が縦5cm×横5cmのサイズに満たない場合は紫外可視近赤外分光光度計の測定窓をマスキングすることで測定面積を小さくする手法をとる。
[Base Material B, Base Material A, Absorbance of Laminate]
Each of the base material B, base material A, and laminate was cut into a size of 5 cm in length and 5 cm in width, and the absorbance at a wavelength of 355 nm was measured using a UV-visible near-infrared spectrophotometer UV-3600 Plus (manufactured by Shimadzu Corporation). did. In addition, it fixed in the apparatus so that a light-incidence surface might turn into arbitrary surfaces in the base material B and the base material A, and a base material B surface in a laminated body. Further, when the absorbance was 3 or more in consideration of measurement error, it was set to 3. In addition, the base material B and the base material A can also be obtained by peeling from the laminate, and when the resin layer α and the resin layer β are attached, they are used for evaluation after wiping with an organic solvent. Moreover, when the base material B, the base material A, and the laminated body are less than 5 cm in length and 5 cm in width, a method of reducing the measurement area by masking the measurement window of the ultraviolet visible near infrared spectrophotometer is taken.

[積層体の密着強度]
図3に示すように、線状のレーザーを幅2mm間隔で6本、長さ7cm照射することで製造した積層体を用い、JIS Z0237:2009に従い、基材Bと基材Aとを引きはがし角度90°、はく離速度50mm/分の条件にて接着強度を3回評価し平均値を結果とした。密着強度が、1.5N/cm以上の場合に合格「○」、1.5N/cm未満の場合に不合格「×」とした。
[Adhesion strength of laminate]
As shown in FIG. 3, the base material B and the base material A are peeled off according to JIS Z0237: 2009 using a laminate manufactured by irradiating six linear lasers with a width of 2 mm and a length of 7 cm. The adhesive strength was evaluated three times under the conditions of an angle of 90 ° and a peeling speed of 50 mm / min, and the average value was obtained as a result. When the adhesion strength was 1.5 N / cm or more, the test was “good”, and when it was less than 1.5 N / cm, the test was “failed”.

[積層体の反り]
図3に示すように、線状のレーザーを幅2mm間隔で6本、長さ7cm照射することで製造した積層体を、レーザー照射部を含むように長辺7cm、短辺1.4cmに切り取り、平らなガラス板の上に基材Bが上面となるように静置した。4頂点の反りを1mm刻みで測定し、いずれかの頂点のガラス板からの高さが2mm以上であった場合を不合格「×」、いずれの頂点もガラス板からの高さが2mm未満であった場合を合格「○」とした。なお、積層体の密着強度が「×」であり、積層体の反りの評価を行えない場合を「評価不可」とした。
[Lamination of laminate]
As shown in FIG. 3, a laminate produced by irradiating 6 linear lasers with a width of 2 mm and a length of 7 cm is cut into a long side of 7 cm and a short side of 1.4 cm so as to include the laser irradiation part. The substrate B was allowed to stand on a flat glass plate so that the base material B became the upper surface. Measure the warp of 4 vertices in 1mm increments, and if the height from any glass plate is 2mm or more, reject "x", any vertex is less than 2mm in height from the glass plate The case where there was a pass was marked as “O”. In addition, the case where the adhesion strength of the laminate was “x” and the evaluation of the warpage of the laminate could not be performed was “not evaluated”.

[樹脂層βの表面の水接触角]
樹脂層βの水に対する接触角は、DMo−501(協和界面科学株式会社製)を用い、JIS R3257:1999に従い、純水(2.0μl)を樹脂層βの表面に滴下した際にできる液滴に対し、滴下5秒後における樹脂層βの表面の水接触角について5回測定を行いその平均値を結果とした。接触角が15度未満である場合を「○」、15度以上である場合を「×」と評価した。
[Water contact angle on the surface of the resin layer β]
The contact angle of the resin layer β with respect to water is a liquid formed when DMo-501 (manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) is used and pure water (2.0 μl) is dropped on the surface of the resin layer β according to JIS R3257: 1999. The water contact angle on the surface of the resin layer β after 5 seconds from the dropping was measured 5 times, and the average value was obtained as a result. The case where the contact angle was less than 15 degrees was evaluated as “◯”, and the case where the contact angle was 15 degrees or more was evaluated as “x”.

[液体展開シートの液体展開性]
液体展開シートが有する液体流路の端部へ純水を接触させた。純水が液体流路のもう片端へ吸引された場合を「○」、液体流路の端部で留まった場合を「×」と評価した。
[Liquid spreadability of liquid spread sheet]
Pure water was brought into contact with the end of the liquid flow path of the liquid spreading sheet. The case where pure water was sucked to the other end of the liquid flow path was evaluated as “◯”, and the case where it remained at the end of the liquid flow path was evaluated as “x”.

[樹脂Aおよび樹脂Bのガラス転移温度]
次の方法で樹脂A、樹脂Bのガラス転移温度をそれぞれ求めた。
[Glass transition temperature of Resin A and Resin B]
The glass transition temperatures of Resin A and Resin B were determined by the following methods.

JIS K 7121(1999)に準じて、株式会社島津製作所製示差走査熱量示差走査熱量計DSC−60を用いて測定を行った。なお、パージガスには流量35mL/minの窒素を使用した。アルミニウム製サンプルパンに固形分100質量%の樹脂A、樹脂Bをそれぞれ2mg秤量し、クリンプすることで評価試料を作製する。得られた評価試料を−50℃から160℃まで10℃/分の昇温速度で加熱し示差走査熱量測定チャート(縦軸を熱エネルギー、横軸を温度)を得た。当該示差走査熱量測定チャートにおいて、各ベースラインの延長した直線から縦軸方向に等距離にある直線と変化部分の曲線とが交わる点をガラス転移温度とした。   Measurement was performed using a differential scanning calorimeter DSC-60 manufactured by Shimadzu Corporation according to JIS K 7121 (1999). Note that nitrogen with a flow rate of 35 mL / min was used as the purge gas. An evaluation sample is prepared by weighing 2 mg of resin A and resin B each having a solid content of 100% by mass into an aluminum sample pan and crimping. The obtained evaluation sample was heated from −50 ° C. to 160 ° C. at a heating rate of 10 ° C./min to obtain a differential scanning calorimetry chart (the vertical axis represents thermal energy and the horizontal axis represents temperature). In the differential scanning calorimetry chart, the point at which the straight line equidistant in the vertical axis direction from the extended straight line of each baseline intersects the curve of the changed portion was defined as the glass transition temperature.

(実施例1)
ポリエステル系樹脂S−140(高松油脂株式会社製、ガラス転移温度72℃)に対し、トルエン/メチルエチルケトン=1/1(質量比)の混合溶媒を用いて希釈した固形分濃度12質量%溶液を用意し、そこへ長波長UV領域(UV−A:〜400nm)の吸光性を有するジヒドロキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤である“ユビナール”(登録商標)3050(BASFジャパン株式会社製)をS−140との固形分換算比で100質量部/10質量部の割合になるように添加・攪拌することで塗布液を調製した。調製した塗布液をグラビアコーターにて白色ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムである“ルミラー”(登録商標)タイプ100E20(東レ株式会社製)の片面に塗布し、100℃で30秒乾燥することで片面に厚み0.5μmの樹脂層α1を有する紫外線吸収部材1を得た。
(Example 1)
Prepared a 12% by mass solid content solution diluted with a mixed solvent of toluene / methyl ethyl ketone = 1/1 (mass ratio) for polyester resin S-140 (Takamatsu Yushi Co., Ltd., glass transition temperature 72 ° C.). Then, “Ubinal” (registered trademark) 3050 (manufactured by BASF Japan Ltd.), which is a dihydroxybenzophenone ultraviolet absorber having a light absorbency in the long wavelength UV region (UV-A: up to 400 nm), is used as S-140. The coating liquid was prepared by adding and stirring so that it might become a ratio of 100 mass parts / 10 mass parts by solid content conversion ratio. The prepared coating solution is applied to one side of a white polyethylene terephthalate (PET) film “Lumirror” (registered trademark) type 100E20 (manufactured by Toray Industries, Inc.) with a gravure coater and dried at 100 ° C. for 30 seconds on one side. An ultraviolet absorbing member 1 having a resin layer α1 having a thickness of 0.5 μm was obtained.

その後、紫外線吸収部材1の樹脂層α1面に透明PETフィルムである“ルミラー”(登録商標)タイプ100T60(東レ株式会社製)を重ね合わせ、樹脂層α1面と100T60面が隙間無く面全体で接するように錘としてガラス板にて100T60面の上から覆った。これらをレーザー加工装置UVTS−4500−HKG(タカノ株式会社製)のワーク内に設置し、ガラス板側から波長355nm、出力3W、収束スポット径15μm、パスル幅15nsのレーザーを7cm長さの直線状に2mm間隔で合計6回照射することで、樹脂層α1面と100T60面を溶着し、図1に示す本発明の積層体1を得た。レーザー照射パターンを図3に示す。   Thereafter, “Lumirror” (registered trademark) type 100T60 (manufactured by Toray Industries, Inc.), which is a transparent PET film, is superimposed on the resin layer α1 surface of the ultraviolet absorbing member 1, and the resin layer α1 surface and the 100T60 surface are in contact with each other without any gap. Thus, the weight was covered with a glass plate from above the 100T60 surface. These are installed in the workpiece of a laser processing apparatus UVTS-4500-HKG (manufactured by Takano Co., Ltd.). The resin layer α1 surface and the 100T60 surface were welded by irradiating a total of 6 times at intervals of 2 mm to obtain the laminate 1 of the present invention shown in FIG. A laser irradiation pattern is shown in FIG.

(実施例2)
ポリエステル系樹脂S−140(高松油脂株式会社製)に対し、トルエン/メチルエチルケトン=1/1(質量比)の混合溶媒を用いて希釈した固形分濃度20質量%溶液を用意し、そこへ長波長UV領域(UV−A:〜400nm)の吸光性を有するジヒドロキシベンゾフェノン系紫外線吸収剤である“ユビナール”(登録商標)3050(BASFジャパン株式会社製)をポリエステル系樹脂との固形分換算比で100質量部/10質量部の割合になるように添加・攪拌することで塗布液を調製した。調製した塗布液をグラビアコーターにて白色ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムである“ルミラー”(登録商標)タイプ100E20(東レ株式会社製)の片面に塗布し、100℃で30秒乾燥することで片面に厚み0.5μmの樹脂層α2を有する紫外線吸収部材2を得た。
(Example 2)
For polyester-based resin S-140 (manufactured by Takamatsu Yushi Co., Ltd.), a 20% by mass solid content solution diluted with a mixed solvent of toluene / methyl ethyl ketone = 1/1 (mass ratio) is prepared, and a long wavelength is provided there. “Ubinal” (registered trademark) 3050 (manufactured by BASF Japan Ltd.), which is a dihydroxybenzophenone ultraviolet absorber having a light absorbency in the UV region (UV-A: up to 400 nm), is 100 in terms of solid content conversion ratio with a polyester resin. The coating liquid was prepared by adding and stirring so that it might become a ratio of mass part / 10 mass part. The prepared coating solution is applied to one side of a white polyethylene terephthalate (PET) film “Lumirror” (registered trademark) type 100E20 (manufactured by Toray Industries, Inc.) with a gravure coater and dried at 100 ° C. for 30 seconds on one side. An ultraviolet absorbing member 2 having a resin layer α2 having a thickness of 0.5 μm was obtained.

その後、紫外線吸収部材2の樹脂層α2面に透明PETフィルムである“ルミラー”(登録商標)タイプ100T60(東レ株式会社製)を重ね合わせ、実施例1と同様のレーザー加工を行うことで図1に示す本発明の積層体2を得た。   Thereafter, “Lumirror” (registered trademark) type 100T60 (manufactured by Toray Industries, Inc.), which is a transparent PET film, is superimposed on the resin layer α2 surface of the ultraviolet absorbing member 2, and laser processing similar to that in Example 1 is performed. The laminated body 2 of this invention shown in this was obtained.

(実施例3)
実施例1に記載の方法に従い、紫外線吸収部材1を得た。
(Example 3)
According to the method described in Example 1, an ultraviolet absorbing member 1 was obtained.

また、ホットメルト接着剤を構成する成分として融点100℃、ガラス転移温度−10℃、数平均分子量22,000のポリエステル系接着剤をトルエン/メチルエチルケトン=1/1(質量比)の混合溶媒を用いて希釈した固形分濃度40質量%に調整した後、ポリアルキレングリコール骨格を有するノニオン界面活性剤であるパイオニンD−1105−S(竹本油脂株式会社製)をポリエステル系接着剤との固形分換算比が100質量部/4質量部の割合になるように添加・攪拌することで塗布液を得た。この塗布液をコンマコーターにてシリコーン系樹脂フィルムのシリコーン系樹脂塗布面に塗布し、120℃で30秒乾燥することで片面に厚み15μmの樹脂層β3を設けた。その後、樹脂層β3面へ“ルミラー”(登録商標)タイプ100T60(東レ株式会社製)をヒートシーラーを用いて、シール温度120℃、シール時間1.0秒、シール圧力0.2MPaの条件で貼合しシリコーン系樹脂フィルムを剥離することで液体展開部材3を得た。   Further, as a component constituting the hot melt adhesive, a polyester type adhesive having a melting point of 100 ° C., a glass transition temperature of −10 ° C., and a number average molecular weight of 22,000 is used as a mixed solvent of toluene / methyl ethyl ketone = 1/1 (mass ratio). After adjusting the diluted solid content concentration to 40% by mass, a nonionic surfactant having a polyalkylene glycol skeleton, Pione D-1105-S (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.), as a solid content conversion ratio with a polyester-based adhesive Was added and stirred so that the ratio of 100 parts by mass / 4 parts by mass was obtained. This coating solution was applied to the silicone resin coating surface of the silicone resin film with a comma coater, and dried at 120 ° C. for 30 seconds to provide a resin layer β3 having a thickness of 15 μm on one surface. Thereafter, “Lumirror” (registered trademark) type 100T60 (manufactured by Toray Industries, Inc.) is pasted on the surface of the resin layer β3 using a heat sealer under conditions of a sealing temperature of 120 ° C., a sealing time of 1.0 second, and a sealing pressure of 0.2 MPa. The silicone resin film was peeled off to obtain the liquid spreading member 3.

得られた紫外線吸収部材3の樹脂層α3面と液体展開部材3の樹脂層β3面を重ね合わせ、面全体で接するように錘としてガラス板にて液体展開部材3の100T60面の上から覆った。その後、実施例1に記載の条件およびパターンにてレーザーを照射することで図2に示す本発明の積層体3を得た。   The obtained resin layer α3 surface of the ultraviolet absorbing member 3 and the resin layer β3 surface of the liquid spreading member 3 are overlapped and covered from above the 100T60 surface of the liquid spreading member 3 with a glass plate as a weight so as to be in contact with the entire surface. . Then, the laminated body 3 of this invention shown in FIG. 2 was obtained by irradiating a laser on the conditions and pattern as described in Example 1. FIG.

続いて、次の手順で液体展開シート3を述べる。融点100℃、ガラス転移温度−10℃、数平均分子量22,000のポリエステル系接着剤をトルエン/メチルエチルケトン=1/1(質量比)の混合溶媒を用いて希釈した固形分濃度40質量%の塗布液を、コンマコーターにてシリコーン系樹脂フィルムのシリコーン系樹脂塗布面に塗布し、120℃で30秒乾燥することで片面に厚み15μmの樹脂層γ3を設けた。この樹脂層γ3面と、別途用意した紫外線吸収部材1の100E20面をヒートシーラーを用いて、シール温度120℃、シール時間1.0秒、シール圧力0.2MPaの条件で接着させ、端部に幅1mm、長さ10mmの溝をトムソン刃を用い凹型となるよう打ち抜いた後、シリコーン系樹脂フィルムを剥離することでスペーサ部材3を得た。スペーサ部材3の樹脂層γ3と100E20を先と同条件でヒートシーラーにて貼合し、紫外線吸収部材1由来の樹脂層α1面と別途用意した液体展開部材3の樹脂層β3面を重ね合わせ、面全体で接するように錘としてガラス板にて液体展開部材3の100T60面の上から覆った。その後、実施例1に記載の条件およびパターンにてレーザーを照射することで液体展開シート3を得た。液体展開シート3先に設けた溝を用い、液体展開性を評価に用いた。   Subsequently, the liquid spreading sheet 3 will be described in the following procedure. Coating with a solid content concentration of 40% by weight, obtained by diluting a polyester adhesive having a melting point of 100 ° C., a glass transition temperature of −10 ° C. and a number average molecular weight of 22,000 using a mixed solvent of toluene / methyl ethyl ketone = 1/1 (mass ratio). The liquid was applied to the silicone resin coating surface of the silicone resin film with a comma coater and dried at 120 ° C. for 30 seconds to provide a resin layer γ3 having a thickness of 15 μm on one surface. The surface of the resin layer γ3 and the 100E20 surface of the separately prepared ultraviolet absorbing member 1 are bonded using a heat sealer under conditions of a sealing temperature of 120 ° C., a sealing time of 1.0 second, and a sealing pressure of 0.2 MPa. A groove having a width of 1 mm and a length of 10 mm was punched into a concave shape using a Thomson blade, and then the silicone resin film was peeled to obtain a spacer member 3. The resin layers γ3 and 100E20 of the spacer member 3 are bonded with a heat sealer under the same conditions as above, and the resin layer α1 surface derived from the ultraviolet absorbing member 1 and the resin layer β3 surface of the liquid developing member 3 separately prepared are overlapped, The liquid spreading member 3 was covered from above the 100T60 surface with a glass plate as a weight so as to be in contact with the entire surface. Then, the liquid expansion | deployment sheet 3 was obtained by irradiating a laser on the conditions and pattern as described in Example 1. FIG. The liquid spreading | diffusion sheet | seat 3 was used for evaluation by using the groove | channel provided in the tip.

(実施例4)
実施例3において“ユビナール”(登録商標)3050(BASFジャパン株式会社製)に代えて“アデカスタブ”(登録商標)LA−F70を用いる以外は同様にして図2に示す本発明の積層体4を得た。
(Example 4)
In Example 3, the laminate 4 of the present invention shown in FIG. 2 was similarly used except that “Adeka Stub” (registered trademark) LA-F70 was used instead of “Ubinal” (registered trademark) 3050 (manufactured by BASF Japan Ltd.). Obtained.

また、実施例3に記載の液体展開シート3を作製する手順において、樹脂層α1に用いる紫外線吸収剤を“ユビナール”(登録商標)3050(BASFジャパン株式会社製)に代えて“アデカスタブ”(登録商標)LA−F70に変更する以外は同様にして液体展開シート4を得た。   In addition, in the procedure for producing the liquid spreading sheet 3 described in Example 3, “Adeka Stub” (registered) is used instead of “Ubinal” (registered trademark) 3050 (manufactured by BASF Japan Ltd.) as the ultraviolet absorber used for the resin layer α1. A liquid spreading sheet 4 was obtained in the same manner except that the trademark was changed to LA-F70.

(実施例5)
実施例3においてポリアルキレングリコール骨格を有するノニオン界面活性剤であるパイオニンD−1105−S(竹本油脂株式会社製)に代えて、ポリアルキレングリコール骨格を有するノニオン界面活性剤である“レオドール”(登録商標)TW−L106(花王株式会社製)をポリエステル系樹脂との固形分換算比が100質量部/4質量部の割合になるように添加・攪拌することで塗布液を調製する以外は同様にして図2に示す本発明の積層体5を得た。
(Example 5)
Instead of Pionein D-1105-S (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.), which is a nonionic surfactant having a polyalkylene glycol skeleton in Example 3, “Leodol” (registered) which is a nonionic surfactant having a polyalkylene glycol skeleton (Trademark) TW-L106 (manufactured by Kao Corporation) was added in the same manner except that the coating solution was prepared by adding and stirring so that the solid content conversion ratio with the polyester resin would be 100 parts by mass / 4 parts by mass. Thus, the laminate 5 of the present invention shown in FIG. 2 was obtained.

また、実施例3に記載の液体展開シート3を作製する手順において、樹脂層β3に用いるポリアルキレングリコール骨格を有するノニオン界面活性剤であるパイオニンD−1105−S(竹本油脂株式会社製)に代えて、ポリアルキレングリコール骨格を有するノニオン界面活性剤である“レオドール”(登録商標)TW−L106(花王株式会社製)をポリエステル系樹脂との固形分換算比が100質量部/4質量部の割合になるように添加・攪拌することで塗布液を調製する以外は同様にして液体展開シート5を得た。   Moreover, in the procedure which produces the liquid expansion | deployment sheet | seat 3 as described in Example 3, it replaces with Pionein D-1105-S (made by Takemoto Yushi Co., Ltd.) which is a nonionic surfactant which has a polyalkylene glycol skeleton used for resin layer (beta) 3. The ratio of the solid content conversion ratio of “Reodol” (registered trademark) TW-L106 (manufactured by Kao Corporation), which is a nonionic surfactant having a polyalkylene glycol skeleton, to a polyester resin is 100 parts by weight / 4 parts by weight. A liquid spreading sheet 5 was obtained in the same manner except that the coating solution was prepared by adding and stirring so as to be.

(実施例6)
実施例3においてレーザー照射出力を50Wとする以外は同様にして、図2に示す本発明の積層体6を得た。また、実施例3に記載の液体展開シート3を作製する手順において、樹脂層α3面と樹脂層β3面を貼合するレーザー照射出力を50Wとする以外は同様にして液体展開シート6を得た。
(Example 6)
The laminate 6 of the present invention shown in FIG. 2 was obtained in the same manner as in Example 3 except that the laser irradiation output was 50 W. Moreover, in the procedure for producing the liquid spreading sheet 3 described in Example 3, a liquid spreading sheet 6 was obtained in the same manner except that the laser irradiation output for bonding the resin layer α3 surface and the resin layer β3 surface was 50 W. .

(実施例7)
実施例3において液体展開部材3を用いる代わりに以下の手順にて得た液体展開部材7を用いる以外は同様にして、図2に示す本発明の積層体7を得た。
(Example 7)
A laminate 7 of the present invention shown in FIG. 2 was obtained in the same manner as in Example 3 except that the liquid developing member 7 obtained in the following procedure was used instead of using the liquid developing member 3.

アクリル系樹脂オリバインBPD1109(東洋インキ株式会社製、ガラス転移温度−20℃)に対し、トルエン/酢酸エチル=1/1(質量比)の混合溶媒を用いて希釈した固形分濃度40質量%溶液に調整した後、ポリアルキレングリコール骨格を有するノニオン界面活性剤であるパイオニンD−1105−S(竹本油脂株式会社製)をポリエステル系接着剤との固形分換算比が100質量部/4質量部の割合になるように添加・攪拌することで塗布液を得た。この塗布液をコンマコーターにてシリコーン系樹脂フィルムのシリコーン系樹脂塗布面に塗布し、120℃で30秒乾燥することで片面に厚み15μmの樹脂層β7を設けた。その後、樹脂層β7面へ“ルミラー”(登録商標)タイプ100T60(東レ株式会社製)をシーラーを用いて、室温、シール圧力0.2MPaの条件で貼合しシリコーン系樹脂フィルムを剥離することで液体展開部材7を得た。   To a 40% by mass solid content concentration diluted with a mixed solvent of toluene / ethyl acetate = 1/1 (mass ratio) with respect to acrylic resin Oliveine BPD1109 (manufactured by Toyo Ink Co., Ltd., glass transition temperature-20 ° C.) After the adjustment, the ratio of the solid content conversion ratio of Pionein D-1105-S (made by Takemoto Yushi Co., Ltd.), which is a nonionic surfactant having a polyalkylene glycol skeleton, to the polyester-based adhesive is 100 parts by mass / 4 parts by mass. The coating solution was obtained by adding and stirring so as to be. This coating solution was applied to the silicone resin coating surface of the silicone resin film with a comma coater and dried at 120 ° C. for 30 seconds to provide a resin layer β7 having a thickness of 15 μm on one surface. Then, “Lumirror” (registered trademark) type 100T60 (manufactured by Toray Industries, Inc.) is bonded to the surface of the resin layer β7 using a sealer at room temperature and a sealing pressure of 0.2 MPa, and the silicone resin film is peeled off. A liquid spreading member 7 was obtained.

また、実施例3に記載の液体展開シート3を作製する手順において、樹脂層β3にかえて樹脂層β7を用いる以外は同様にして液体展開シート7を得た。   Further, in the procedure for producing the liquid spreading sheet 3 described in Example 3, a liquid spreading sheet 7 was obtained in the same manner except that the resin layer β7 was used instead of the resin layer β3.

(実施例8)
実施例3において液体展開部材3にノニオン界面活性剤であるパイオニンD−1105−S(竹本油脂株式会社製)を用いないこと以外は同様にして、図2に示す本発明の積層体8を得た。また、実施例3に記載の液体展開シート3を作製する手順において、樹脂層β3ノニオン界面活性剤であるパイオニンD−1105−S(竹本油脂株式会社製)を用いないこと以外は同様にして液体展開シート8を得た。
(Example 8)
In the same manner as in Example 3 except that Pionein D-1105-S (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.), which is a nonionic surfactant, is not used for the liquid spreading member 3, the laminate 8 of the present invention shown in FIG. 2 is obtained. It was. Further, in the procedure for producing the liquid spreading sheet 3 described in Example 3, the liquid layer was similarly used except that the resin layer β3 nonionic surfactant Piion D-1105-S (manufactured by Takemoto Yushi Co., Ltd.) was not used. An unfolded sheet 8 was obtained.

(比較例1)
実施例1において、“ルミラー”(登録商標)タイプ100T60(東レ株式会社製)を用いる代わりに黒色PETフィルムである“ルミラー”(登録商標)タイプ100X30(東レ株式会社製)を用いる以外は同様にして図1に示す積層体9を得た。
(Comparative Example 1)
In Example 1, “Lumirror” (registered trademark) type 100T60 (manufactured by Toray Industries, Inc.) is used instead of “Lumorir” (registered trademark) type 100T60 (manufactured by Toray Industries, Inc.). Thus, a laminate 9 shown in FIG. 1 was obtained.

(比較例2)
実施例1において、“ルミラー”(登録商標)タイプ100E20(東レ株式会社製)を用いる代わりに黒色PETフィルムである“ルミラー”(登録商標)タイプ100X30(東レ株式会社製)を用いること、および樹脂層α1を設けないこと以外は同様にして図1に示す積層体10を得た。
(Comparative Example 2)
In Example 1, instead of using “Lumirror” (registered trademark) type 100E20 (manufactured by Toray Industries, Inc.), a black PET film “Lumirror” (registered trademark) type 100X30 (manufactured by Toray Industries, Inc.) is used, and resin 1 was obtained in the same manner except that the layer α1 was not provided.

(比較例3)
実施例1において、紫外線吸収部材1に“ユビナール”(登録商標)3050(BASFジャパン株式会社製)を用いないこと以外は同様にして、図1に示す積層体11を得た。
(Comparative Example 3)
A laminate 11 shown in FIG. 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that “Ubinal” (registered trademark) 3050 (manufactured by BASF Japan Ltd.) was not used for the ultraviolet absorbing member 1.

(比較例4)
実施例2において基材Aとして白色ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムである“ルミラー”(登録商標)タイプ100E20(東レ株式会社製)を用いる代わりに透明PETフィルムである“ルミラー”(登録商標)タイプ100T60(東レ株式会社製)を用いることおよび、紫外線吸収部材1に“ユビナール”(登録商標)3050(BASFジャパン株式会社製)を用いないこと以外は同様にして、図2に示す積層体12を得た。また、実施例3に記載の液体展開シート3を作製する手順に倣い、液体展開シート12を得た。
(Comparative Example 4)
Instead of using “Lumirror” (registered trademark) type 100E20 (manufactured by Toray Industries, Inc.), which is a white polyethylene terephthalate (PET) film, as the base material A in Example 2, “Lumirror” (registered trademark) type 100T60, which is a transparent PET film, is used. The laminated body 12 shown in FIG. 2 is obtained in the same manner except that (Toray Industries, Inc.) is used and “UVINAL” (registered trademark) 3050 (BASF Japan) is not used for the ultraviolet absorbing member 1. It was. Further, following the procedure for producing the liquid spreading sheet 3 described in Example 3, a liquid spreading sheet 12 was obtained.

比較例1は、レーザー光透過材料である基材Bに黒色の100X30を用いたため、波長355nmにおける吸光度が0.05〜0.30の範囲にない。またそのため、密着強度が不合格であり、反りの評価ができなかった。比較例2は、基材Aに相当する100X30がレーザー光を吸収することで発熱し積層体の密着強度が合格となった一方で、樹脂層αを有さないため、残留応力の緩和が十分でなく、積層体の反りが不合格であった。比較例3は、樹脂層αおよび基材Aそれぞれに相当するどちらの層においてもレーザー光の吸収が不十分であるため密着強度が不合格となり、反りの評価ができなかった。比較例4は、紫外線吸収剤を用いず、かつ基材Aおよび基材Bに透明な100T60を用いたため、波長355nmにおける積層体の吸光度が0.40未満となった。またそのため、密着強度が不合格であり、反りの評価ができなかった。   In Comparative Example 1, since black 100X30 was used for the base material B which is a laser light transmitting material, the absorbance at a wavelength of 355 nm is not in the range of 0.05 to 0.30. For this reason, the adhesion strength was unacceptable, and the warpage could not be evaluated. In Comparative Example 2, 100X30 corresponding to the base material A generates heat by absorbing the laser light, and the adhesion strength of the laminate is acceptable. However, since the resin layer α is not included, the residual stress is sufficiently relaxed. Instead, the warpage of the laminate was unacceptable. In Comparative Example 3, the laser beam was not sufficiently absorbed in any of the layers corresponding to the resin layer α and the base material A, so the adhesion strength was rejected, and the warpage could not be evaluated. Since the comparative example 4 did not use an ultraviolet absorber and transparent 100T60 was used for the substrate A and the substrate B, the absorbance of the laminate at a wavelength of 355 nm was less than 0.40. For this reason, the adhesion strength was unacceptable, and the warpage could not be evaluated.

Figure 2019195945
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Figure 2019195945
Figure 2019195945

1: 基材A
2: 樹脂層α
3: 基材B
4: 樹脂層β
5: 紫外線吸収部材
6: 液体展開部材
7: 樹脂層γ
8: カバー材料
9: スペーサ部材
10: 液体流路
1: Substrate A
2: Resin layer α
3: Substrate B
4: Resin layer β
5: UV absorbing member 6: Liquid developing member 7: Resin layer γ
8: Cover material 9: Spacer member 10: Liquid flow path

Claims (6)

波長355nmにおける吸光度が0.40より高い基材A、樹脂Aを含む厚み0.5μm〜5μmの樹脂層α、波長355nmにおける吸光度が0.05〜0.30である基材Bをこの順に有する積層体。 A substrate A having an absorbance at a wavelength of 355 nm higher than 0.40, a resin layer α having a thickness of 0.5 μm to 5 μm including the resin A, and a substrate B having an absorbance at a wavelength of 355 nm of 0.05 to 0.30 in this order. Laminated body. 前記樹脂層αと前記基材Bとの間に樹脂Bを含む樹脂層βを有し、該樹脂Bが前記樹脂Aよりもガラス転移温度が低い請求項1に記載の積層体。 The laminate according to claim 1, which has a resin layer β containing a resin B between the resin layer α and the base material B, and the resin B has a glass transition temperature lower than that of the resin A. 前記樹脂層βの表面の水接触角が15度未満である請求項2に記載の積層体。 The laminate according to claim 2, wherein the water contact angle of the surface of the resin layer β is less than 15 degrees. 前記樹脂Bが熱可塑性樹脂であって、該樹脂Bがポリエステル樹脂、(メタ)アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、ポリアミド樹脂、クロロプレン樹脂、アラミド樹脂およびアクリルウレタン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも1つの樹脂である請求項2または3に記載の積層体。 The resin B is a thermoplastic resin, and the resin B includes a polyester resin, a (meth) acrylic resin, a polyolefin resin, an ethylene-vinyl acetate copolymer resin, a polyamide resin, a chloroprene resin, an aramid resin, and an acrylic urethane resin. The laminate according to claim 2 or 3, which is at least one resin selected from the above. 波長355nmにおける吸光度が0.40より高い基材A、樹脂Aを含む樹脂層α、波長355nmにおける吸光度が0.05〜0.30である基材Bをこの順に有し、波長250nm〜380nmかつ0.01W〜50Wのレーザーを前記基材B側から照射する積層体の製造方法。 A substrate A having an absorbance at a wavelength of 355 nm higher than 0.40, a resin layer α containing the resin A, and a substrate B having an absorbance at a wavelength of 355 nm of 0.05 to 0.30 in this order, having a wavelength of 250 nm to 380 nm and The manufacturing method of the laminated body which irradiates 0.01W-50W laser from the said base-material B side. 前記樹脂層αと前記基材Bとの間に樹脂Bを含む樹脂層βを有し、該樹脂Bが前記樹脂Aよりもガラス転移温度が低い請求項5に記載の積層体の製造方法。 The method for producing a laminate according to claim 5, wherein a resin layer β containing a resin B is provided between the resin layer α and the base material B, and the resin B has a glass transition temperature lower than that of the resin A.
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