JP2019179840A - Semiconductor device - Google Patents

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Abstract

To suppress noise generated at a circuit from propagating to any other circuit.SOLUTION: In order to avoid propagation of noise from a circuit 16 to a circuit 18 by power lines 14A, 14B, in a first embodiment, the semiconductor device is configured to separate the circuit 16 from power supply wiring 14 wired in a mesh manner by separating the circuit from the power lines 14A and to connect a power line 20 separated from the vicinity of a power supply pad 12 directly to the circuit 16 as a dedicated power line of the circuit 16, that is, not to connect the power line 20 directly to any other circuit 18.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、半導体装置に関する。   The present invention relates to a semiconductor device.

従来、半導体装置10Cの電源配線14は、図3に示すように、行方向に複数の電源線と、列方向に複数の電源線とを備え、メッシュ状に配線されている。電源配線14には、電源パッド12と、複数の回路16、18とが接続されている(特許文献1)。このように電源配線14がメッシュ状に配線されていると、ある特定の回路16の動作によってノイズが発生すると、発生したノイズは、回路16が接続される電源線14Aに伝播する。電源線14Aにノイズが伝搬すると、このノイズは、電源線14Aに接続される他の電源線14Bを介して、他の電源線14Bに接続され且つノイズを発生させた回路16の付近に位置する他の回路18に伝搬し、回路18に誤動作を引き起こす場合がある。   Conventionally, as shown in FIG. 3, the power supply wiring 14 of the semiconductor device 10C includes a plurality of power supply lines in the row direction and a plurality of power supply lines in the column direction, and is wired in a mesh shape. A power supply pad 12 and a plurality of circuits 16 and 18 are connected to the power supply wiring 14 (Patent Document 1). As described above, when the power supply wiring 14 is wired in a mesh shape, when noise is generated by the operation of a specific circuit 16, the generated noise propagates to the power supply line 14A to which the circuit 16 is connected. When noise propagates to the power supply line 14A, the noise is located in the vicinity of the circuit 16 connected to the other power supply line 14B and generating the noise via the other power supply line 14B connected to the power supply line 14A. The signal may propagate to another circuit 18 and cause malfunction in the circuit 18.

また、従来、図4に示すように、図3と同様に、メッシュ状に配線されている半導体装置10Dの電源配線14に接続される回路が、n型MOSトランジスタ(MOSFET(Metal−Oxide−Semiconductor−Field−Efect−Transistor)26の場合がある。n型MOSトランジスタ26にノイズが発生すると、発生したノイズは、電源線14A、14B及び基板を経由して、他の回路18に伝搬し、回路18に誤動作を引き起こす場合がある。   Conventionally, as shown in FIG. 4, similarly to FIG. 3, a circuit connected to the power supply wiring 14 of the semiconductor device 10 </ b> D wired in a mesh shape is an n-type MOS transistor (MOSFET (Metal-Oxide-Semiconductor). -Field-Effect-Transistor) 26. When noise occurs in the n-type MOS transistor 26, the generated noise propagates to the other circuit 18 via the power supply lines 14A and 14B and the substrate. 18 may cause a malfunction.

ところで、このようなノイズの伝搬を防止するため、配線を基板に直接接続させない発明(特許文献2)や、電源線と接地線とを分離する発明(特許文献3)が提案されている。   By the way, in order to prevent such noise propagation, an invention in which the wiring is not directly connected to the substrate (Patent Document 2) and an invention in which the power supply line and the ground line are separated (Patent Document 3) have been proposed.

特開2004−260218号公報JP 2004-260218 A 特開平5−259392号公報JP-A-5-259392 特開平7−74259号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-74259

しかし、これらの発明(特許文献2、3)であっても、ノイズを発生させる回路16、26と、他の回路18とが、電源線14A、14Bにより接続されているので、ノイズは、電源線14A、14Bを介して他の回路18に伝搬する。   However, even in these inventions (Patent Documents 2 and 3), the circuits 16 and 26 that generate noise and the other circuit 18 are connected by the power supply lines 14A and 14B. It propagates to other circuits 18 via lines 14A and 14B.

本開示は、上記した点に鑑みてなされたものであり、ある回路で発生したノイズが他の回路に伝搬することを低減することができる半導体装置を提供することを目的とする。   The present disclosure has been made in view of the above points, and an object of the present disclosure is to provide a semiconductor device capable of reducing the propagation of noise generated in a certain circuit to another circuit.

本開示の第1の態様の半導体装置は、ノイズの発生の要因となる第1の回路と、前記第1の回路の周辺に設けられた第2の回路と、一端が前記第1の回路と接続され且つ前記一端より他端の位置が前記第2の回路から遠ざかる位置に配設されると共に前記第2の回路とは接続されない第1の配線と、前記第1の配線の前記他端と、第2の配線を介して、接続される電源パッドと、を備える。   A semiconductor device according to a first aspect of the present disclosure includes a first circuit that causes generation of noise, a second circuit provided around the first circuit, and one end of the first circuit. A first wiring connected and disposed at a position away from the second circuit from the one end, and not connected to the second circuit; and the other end of the first wiring; And a power supply pad connected through the second wiring.

本開示の第2の態様の半導体装置では、第1の態様において、前記電源パッドは、前記第2の配線に接続され、前記第1の配線の前記他端は、前記第2の配線における前記電源パッドが接続される部分の近傍に接続される。   In the semiconductor device according to the second aspect of the present disclosure, in the first aspect, the power pad is connected to the second wiring, and the other end of the first wiring is connected to the second wiring. It is connected in the vicinity of the portion to which the power supply pad is connected.

本開示の第3の態様の半導体装置では、第2の態様において、前記第2の配線は、複数の線がメッシュ状に配線され且つ前記線が交差する交差点を有し、前記第1の配線の前記他端が前記第2の配線に接続される接続部分と前記交差点との距離は、前記接続部分と前記第2の配線における前記電源パッドが接続される部分との距離より長い。   In the semiconductor device according to a third aspect of the present disclosure, in the second aspect, the second wiring includes an intersection where a plurality of lines are wired in a mesh shape and the lines intersect, and the first wiring The distance between the connection portion where the other end is connected to the second wiring and the intersection is longer than the distance between the connection portion and the portion where the power supply pad is connected in the second wiring.

本開示の第4の態様の半導体装置では、第1の態様〜第3の態様に何れかにおいて、前記電源パッドを複数備え、前記第1の配線の前記他端は、前記第2の配線を介して、前記複数の電源パッドの中で、前記第1の回路に最も近い位置に位置する電源パッドに接続される。   In a semiconductor device according to a fourth aspect of the present disclosure, in any one of the first to third aspects, the power supply pad includes a plurality of power supply pads, and the other end of the first wiring is connected to the second wiring. The power supply pad is connected to the power supply pad located closest to the first circuit among the plurality of power supply pads.

本開示の第5の態様の半導体装置では、第1の態様〜第4の態様に何れかにおいて、前記第1の回路は、n型MOSトランジスタ又はp型MOSトランジスタであり、前記第1の配線の一端は、前記n型MOSトランジスタのソース又は前記p型MOSトランジスタのソースに接続される。   In a semiconductor device according to a fifth aspect of the present disclosure, in any one of the first to fourth aspects, the first circuit is an n-type MOS transistor or a p-type MOS transistor, and the first wiring Is connected to the source of the n-type MOS transistor or the source of the p-type MOS transistor.

本開示の第6の態様の半導体装置では、第5の態様において、前記第1の回路を複数備え、前記複数の第1の回路の各々は、n型MOSトランジスタ又はp型MOSトランジスタである。   In a semiconductor device according to a sixth aspect of the present disclosure, in the fifth aspect, the semiconductor device includes a plurality of the first circuits, and each of the plurality of first circuits is an n-type MOS transistor or a p-type MOS transistor.

本開示の第7の態様の半導体装置では、第1の態様〜第6の態様に何れかにおいて、前記第1の回路は、前記第2の配線には接続されない。   In the semiconductor device according to the seventh aspect of the present disclosure, in any of the first to sixth aspects, the first circuit is not connected to the second wiring.

本開示の第8の態様の半導体装置では、第1の態様〜第7の態様に何れかにおいて、前記第2の配線は、電源用の配線であり、前記第2の回路は、電源用に前記第2の配線にのみ直接接続され、前記第1の回路は、電源用に前記第1の配線にのみ直接接続される。   In the semiconductor device according to the eighth aspect of the present disclosure, in any of the first aspect to the seventh aspect, the second wiring is a power supply wiring, and the second circuit is a power supply. The first circuit is directly connected only to the second wiring, and the first circuit is directly connected only to the first wiring for power supply.

本開示によれば、ある回路で発生したノイズが他の回路に伝搬することを低減することができる。   According to the present disclosure, it is possible to reduce propagation of noise generated in a certain circuit to another circuit.

第1実施形態の半導体装置の構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a structure of the semiconductor device of 1st Embodiment. 第2実施形態の半導体装置の構成の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of a structure of the semiconductor device of 2nd Embodiment. 従来技術の半導体装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the semiconductor device of a prior art. 従来技術の半導体装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the semiconductor device of a prior art.

以下、開示の技術の実施形態の一例を図面を参照しつつ説明する。なお、各図面において同一または等価な構成要素及び部分には同一の参照符号を付与し、重複する説明は適宜省略する。   Hereinafter, an exemplary embodiment of the disclosed technology will be described with reference to the drawings. In the drawings, the same or equivalent components and parts are denoted by the same reference numerals, and duplicate descriptions are omitted as appropriate.

[第1実施形態]
図1には、第1の実施の形態の半導体装置(チップ)10Aが示されている。図1に示すように、半導体装置10Aの電源配線14は、図3と同様に、行方向に複数の電源線と、列方向に複数の電源線とを備え、メッシュ状に配線されている。電源配線14には、電源(vss)パッド12と、複数の回路16、18とが接続されている。
[First Embodiment]
FIG. 1 shows a semiconductor device (chip) 10A according to the first embodiment. As illustrated in FIG. 1, the power supply wiring 14 of the semiconductor device 10 </ b> A includes a plurality of power supply lines in the row direction and a plurality of power supply lines in the column direction, and is wired in a mesh shape, as in FIG. 3. A power supply (vss) pad 12 and a plurality of circuits 16 and 18 are connected to the power supply wiring 14.

所定の試験などにより、回路16は、その動作によってノイズを発生させる回路であると発見されたとする。回路16は、ノイズの発生の要因となる回路である。回路18は、回路16の周辺に設けられている。   It is assumed that the circuit 16 is found to be a circuit that generates noise by its operation by a predetermined test or the like. The circuit 16 is a circuit that causes noise. The circuit 18 is provided around the circuit 16.

回路16からノイズが、電源線14A、14Bにより、回路18に伝搬しないようにするため、第1の実施の形態では、回路16を、電源線14Aから切り離すことにより、メッシュ状に配線されている電源配線14から切り離す。そして、電源パッド12の近傍から分離させた電源線20を、回路16の専用の電源線として、回路16に直結させる。つまり、電源線20を他の回路18には直接繋がない。   In order to prevent noise from the circuit 16 from propagating to the circuit 18 through the power supply lines 14A and 14B, in the first embodiment, the circuit 16 is separated from the power supply line 14A and wired in a mesh shape. Disconnect from the power supply wiring 14. Then, the power supply line 20 separated from the vicinity of the power supply pad 12 is directly connected to the circuit 16 as a dedicated power supply line for the circuit 16. That is, the power supply line 20 is not directly connected to the other circuit 18.

より詳細には、電源線20の一端40は、回路16と接続され且つ一端40より他端44の位置が回路18から遠ざかる位置に配設されると共に回路18とは接続されない。電源線20の他端44は、電源配線14を介して、電源パッド12に接続されている。電源パッド12は、電源配線14に接続され、電源線20の他端44は、電源配線14における電源パッド12が接続される部分42の近傍に接続される。   More specifically, one end 40 of the power supply line 20 is connected to the circuit 16, and the other end 44 is disposed away from the circuit 18 from the one end 40 and is not connected to the circuit 18. The other end 44 of the power line 20 is connected to the power pad 12 via the power line 14. The power supply pad 12 is connected to the power supply wiring 14, and the other end 44 of the power supply line 20 is connected in the vicinity of the portion 42 of the power supply wiring 14 to which the power supply pad 12 is connected.

半導体装置10Aの電源配線14は、上記のようにメッシュ状に配線され、電源線が交差する複数の交差点46を有する。電源線20の他端44が電源配線14に接続される接続部分と、複数の交差点46の中で最も電源パッド12に近い交差点46との距離L2は、電源線20の他端44が電源配線14に接続される接続部分と、電源配線14における電源パッド12が接続される部分42との距離L1より長い。   The power supply wiring 14 of the semiconductor device 10A is wired in a mesh shape as described above, and has a plurality of intersections 46 where the power supply lines intersect. The distance L2 between the connection portion where the other end 44 of the power supply line 20 is connected to the power supply wiring 14 and the intersection 46 closest to the power supply pad 12 among the plurality of intersections 46 is such that the other end 44 of the power supply line 20 is connected to the power supply wiring. 14 is longer than the distance L1 between the connection portion connected to 14 and the portion 42 of the power supply wiring 14 to which the power supply pad 12 is connected.

上記のように、回路16は、回路18が直接接続される電源線14A、14Bには直接接続されない。詳細には、電源配線14は、電源用の配線であり、回路18は、電源用に電源配線14にのみ直接接続される。回路16は、電源用に電源線20にのみ直接接続される。   As described above, the circuit 16 is not directly connected to the power supply lines 14A and 14B to which the circuit 18 is directly connected. Specifically, the power supply wiring 14 is a power supply wiring, and the circuit 18 is directly connected only to the power supply wiring 14 for power supply. The circuit 16 is directly connected only to the power line 20 for power supply.

このように、ノイズを発生させる回路16の専用の電源線20は他の回路18等には直接接続されないので、回路16により発生したノイズが回路18に伝搬することを低減することができる。   As described above, the dedicated power supply line 20 of the circuit 16 that generates noise is not directly connected to the other circuit 18 or the like, so that it is possible to reduce the noise generated by the circuit 16 from propagating to the circuit 18.

[第2実施形態]
次に、第2の実施の形態を説明する。
[Second Embodiment]
Next, a second embodiment will be described.

図2には、第2の実施の形態の半導体装置10Bが示されている。図2の半導体装置10Bの構成は、図1の半導体装置10Aと同様の構成であるので、同一部分には同一の符号を伏して、その部分の説明を省略し、異なる部分のみを説明する。   FIG. 2 shows a semiconductor device 10B according to the second embodiment. Since the configuration of the semiconductor device 10B in FIG. 2 is the same as that of the semiconductor device 10A in FIG. 1, the same reference numerals are given to the same parts, description thereof is omitted, and only different parts are described.

図2に示すように、半導体装置10Bは、図4と同様に、メッシュ状に配線されている電源配線14に、n型MOSトランジスタ26のソースが接続される。n型MOSトランジスタ26がノイズを発生させるとする。   As shown in FIG. 2, in the semiconductor device 10B, similarly to FIG. 4, the source of the n-type MOS transistor 26 is connected to the power supply wiring 14 wired like a mesh. Assume that the n-type MOS transistor 26 generates noise.

n型MOSトランジスタ26により発生したノイズが電源線14A、14B及び基板から回路18に伝搬しないようにするため、第2の実施の形態では、n型MOSトランジスタ26のソースを、電源線14Aから切り離す。そして、電源パッド12の近傍から分離させた電源線30を、n型MOSトランジスタ26の専用の電源線として、n型MOSトランジスタ26のソースに直結させる。つまり、n型MOSトランジスタ26のソースは、電源線30のみに直接接続し、他の回路18には直接接続されていない。   In order to prevent noise generated by the n-type MOS transistor 26 from propagating from the power supply lines 14A and 14B and the substrate 18 to the circuit 18, in the second embodiment, the source of the n-type MOS transistor 26 is disconnected from the power supply line 14A. . Then, the power supply line 30 separated from the vicinity of the power supply pad 12 is directly connected to the source of the n-type MOS transistor 26 as a dedicated power supply line for the n-type MOS transistor 26. That is, the source of the n-type MOS transistor 26 is directly connected only to the power supply line 30 and is not directly connected to the other circuit 18.

半導体装置10Bの電源配線14は、上記のようにメッシュ状に配線され、電源線が交差する複数の交差点46を有する。電源線30の他端44が電源配線14に接続される接続部分と、複数の交差点46の中で最も電源パッド12に近い交差点46との距離L22は、電源線30の他端44が電源配線14に接続される接続部分と、電源配線14における電源パッド12が接続される部分42との距離L11より長い。   The power supply wiring 14 of the semiconductor device 10B is wired in a mesh shape as described above, and has a plurality of intersections 46 where the power supply lines intersect. The distance L22 between the connection portion where the other end 44 of the power supply line 30 is connected to the power supply wiring 14 and the intersection 46 closest to the power supply pad 12 among the plurality of intersections 46 is the same as the distance L22 between the other end 44 of the power supply line 30 14 is longer than the distance L11 between the connection portion connected to 14 and the portion 42 of the power supply wiring 14 to which the power supply pad 12 is connected.

上記のように、型MOSトランジスタ26は、回路18が直接接続される電源配線14には直接接続されない。詳細には、電源配線14は、電源用の配線であり、回路18は、電源用に電源配線14にのみ直接接続される。n型MOSトランジスタ26のソースは、電源用に電源線30にのみ直接接続される。   As described above, the type MOS transistor 26 is not directly connected to the power supply wiring 14 to which the circuit 18 is directly connected. Specifically, the power supply wiring 14 is a power supply wiring, and the circuit 18 is directly connected only to the power supply wiring 14 for power supply. The source of the n-type MOS transistor 26 is directly connected only to the power supply line 30 for power supply.

このように、ノイズを発生させるn型MOSトランジスタ26のソースの専用の電源線30は他の回路18に直接繋がないので、n型MOSトランジスタ26により発生したノイズが電源線14A、14Bを介して回路18に伝搬することを低減することができる。特に、n型MOSトランジスタ26のソースを電源線30に接続するので、ソースから基板へのノイズの回り込み経路を遮断することができるので、ノイズが基板を経由して回路18に伝搬することを低減することができる。   In this way, the dedicated power line 30 dedicated to the source of the n-type MOS transistor 26 that generates noise is not directly connected to the other circuit 18, so that the noise generated by the n-type MOS transistor 26 passes through the power lines 14A and 14B. Propagation to the circuit 18 can be reduced. In particular, since the source of the n-type MOS transistor 26 is connected to the power supply line 30, it is possible to cut off the noise wraparound path from the source to the substrate, thereby reducing the propagation of noise to the circuit 18 via the substrate. can do.

[変形例]
(第1の変形例)
第2の実施の形態では、n型MOSトランジスタ26がノイズを発生させる。本開示の技術は、n型MOSトランジスタ26に限定されず、p型MOSトランジスタであっても、第2の実施の形態と同様に、p型MOSトランジスタのソースを、電源(vcc)パッド12の近傍から分離させた電源線30に直結させる。
[Modification]
(First modification)
In the second embodiment, the n-type MOS transistor 26 generates noise. The technique of the present disclosure is not limited to the n-type MOS transistor 26. Even in the case of a p-type MOS transistor, the source of the p-type MOS transistor is connected to the power supply (vcc) pad 12 as in the second embodiment. Directly connected to the power line 30 separated from the vicinity.

第1の変形例でも、第2の実施の形態と同様に、ノイズが基板(N well)を経由して回路18に伝搬することを低減することができる。   Also in the first modification, as in the second embodiment, it is possible to reduce the propagation of noise to the circuit 18 via the substrate (N well).

(第2の変形例)
第2の実施の形態では、n型MOSトランジスタ26が、第1の変形例では、p型MOSトランジスタが、ノイズを発生させる。本開示の技術は、これらに限定されない。例えば、本開示の技術は、半導体装置に、少なくとも1つのn型MOSトランジスタ26及び少なくとも1つのp型MOSトランジスタを備える場合にも、適用することができる。この場合には、n型MOSトランジスタ26及びp型MOSトランジスタの各々のソースを、電源パッド12の近傍から分離させた電源線に直結させる。この場合、n型MOSトランジスタ26のソースを、電源(vss/vcc)パッド12の近傍から分離させた第1の電源線に直結させ、p型MOSトランジスタのソースを、電源パッド12の近傍から分離させた第2の電源線に直結させるようにしてもよい。ここで、第1の電源線と第2の電源線とは接続されていなくともいいが、第1の電源線及び第2の電源線の一方が他方に接続したり、第1の電源線及び第2の電源線が、電源パッド12の近傍から分離させた第3の電源線に接続したりしてもよい。なお、第1の電源線〜第3の電源線は、回路18には直接接続しない。
(Second modification)
In the second embodiment, the n-type MOS transistor 26 generates noise, and in the first modification, the p-type MOS transistor generates noise. The technology of the present disclosure is not limited to these. For example, the technology of the present disclosure can be applied to a case where the semiconductor device includes at least one n-type MOS transistor 26 and at least one p-type MOS transistor. In this case, the sources of the n-type MOS transistor 26 and the p-type MOS transistor are directly connected to a power supply line separated from the vicinity of the power supply pad 12. In this case, the source of the n-type MOS transistor 26 is directly connected to the first power supply line separated from the vicinity of the power supply (vss / vcc) pad 12, and the source of the p-type MOS transistor is separated from the vicinity of the power supply pad 12. You may make it connect directly to the made 2nd power supply line. Here, the first power supply line and the second power supply line may not be connected, but one of the first power supply line and the second power supply line is connected to the other, or the first power supply line and the second power supply line The second power supply line may be connected to a third power supply line separated from the vicinity of the power supply pad 12. Note that the first power supply line to the third power supply line are not directly connected to the circuit 18.

(第3の変形例)
第1の実施の形態、第2の実施の形態、第1の変形例、及び第2の変形例は、1つの電源パッド12を備える。本開示の技術は、これらに限定されない。例えば、本開示の技術は、半導体装置に電源パッドを複数備える場合にも適用できる。この場合、電源線20又は電源線30の他端は、複数の電源パッドの中で、回路16又はn型MOSトランジスタ26(又はp型MOSトランジスタ)に最も近い位置に位置する電源パッドが電源線に接続する部分の近傍に接続されるようにしてもよい。
(Third Modification)
The first embodiment, the second embodiment, the first modification, and the second modification include one power supply pad 12. The technology of the present disclosure is not limited to these. For example, the technology of the present disclosure can be applied to a case where a semiconductor device includes a plurality of power supply pads. In this case, the other end of the power supply line 20 or the power supply line 30 is the power supply line located closest to the circuit 16 or the n-type MOS transistor 26 (or p-type MOS transistor) among the plurality of power supply pads. You may make it connect in the vicinity of the part connected to.

10A、10B、10C、10D 半導体装置
12 電源パッド
14 電源配線
14A 電源線
14B 電源線
16 回路
18 回路
20 電源線
26 n型MOSトランジスタ26
30 電源線
40 一端
44 他端
46 交差点
10A, 10B, 10C, 10D Semiconductor device 12 Power supply pad 14 Power supply wiring 14A Power supply line 14B Power supply line 16 Circuit 18 Circuit 20 Power supply line 26 n-type MOS transistor 26
30 Power line 40 One end 44 The other end 46 Intersection

Claims (8)

ノイズの発生の要因となる第1の回路と、
前記第1の回路の周辺に設けられた第2の回路と、
一端が前記第1の回路と接続され且つ前記一端より他端の位置が前記第2の回路から遠ざかる位置に配設されると共に前記第2の回路とは接続されない第1の配線と、
前記第1の配線の前記他端と、第2の配線を介して、接続される電源パッドと、
を備えた半導体装置。
A first circuit that causes noise generation;
A second circuit provided around the first circuit;
A first wiring connected at one end to the first circuit and disposed at a position away from the second circuit at the other end from the one end and not connected to the second circuit;
The other end of the first wiring, and a power supply pad connected via a second wiring;
A semiconductor device comprising:
前記電源パッドは、前記第2の配線に接続され、
前記第1の配線の前記他端は、前記第2の配線における前記電源パッドが接続される部分の近傍に接続される、
請求項1に記載の半導体装置。
The power pad is connected to the second wiring;
The other end of the first wiring is connected in the vicinity of a portion to which the power supply pad is connected in the second wiring.
The semiconductor device according to claim 1.
前記第2の配線は、複数の線がメッシュ状に配線され且つ前記線が交差する交差点を有し、
前記第1の配線の前記他端が前記第2の配線に接続される接続部分と前記交差点との距離は、前記接続部分と前記第2の配線における前記電源パッドが接続される部分との距離より長い、
請求項2に記載の半導体装置。
The second wiring has an intersection where a plurality of lines are wired in a mesh shape and the lines intersect,
The distance between the connecting portion where the other end of the first wiring is connected to the second wiring and the intersection is the distance between the connecting portion and the portion where the power supply pad is connected in the second wiring. Longer,
The semiconductor device according to claim 2.
前記電源パッドを複数備え、
前記第1の配線の前記他端は、前記第2の配線を介して、前記複数の電源パッドの中で、前記第1の回路に最も近い位置に位置する電源パッドに接続される、
請求項1〜請求項3の何れか1項に記載の半導体装置。
A plurality of the power pads are provided,
The other end of the first wiring is connected to a power supply pad located closest to the first circuit among the plurality of power supply pads via the second wiring.
The semiconductor device according to claim 1.
前記第1の回路は、n型MOSトランジスタ又はp型MOSトランジスタであり、
前記第1の配線の一端は、前記n型MOSトランジスタのソース又は前記p型MOSトランジスタのソースに接続される、
請求項1〜請求項4の何れか1項に記載の半導体装置。
The first circuit is an n-type MOS transistor or a p-type MOS transistor,
One end of the first wiring is connected to the source of the n-type MOS transistor or the source of the p-type MOS transistor.
The semiconductor device according to claim 1.
前記第1の回路を複数備え、
前記複数の第1の回路の各々は、n型MOSトランジスタ又はp型MOSトランジスタである、
請求項5に記載の半導体装置。
A plurality of the first circuits;
Each of the plurality of first circuits is an n-type MOS transistor or a p-type MOS transistor.
The semiconductor device according to claim 5.
前記第1の回路は、前記第2の配線には直接接続されない、
請求項1〜請求項6の何れか1項に記載の半導体装置。
The first circuit is not directly connected to the second wiring;
The semiconductor device according to claim 1.
前記第2の配線は、電源用の配線であり、
前記第2の回路は、電源用に前記第2の配線にのみ直接接続され、
前記第1の回路は、電源用に前記第1の配線にのみ直接接続される、
請求項1〜請求項7の何れか1項に記載の半導体装置。
The second wiring is a power supply wiring;
The second circuit is directly connected only to the second wiring for power supply,
The first circuit is directly connected only to the first wiring for power supply,
The semiconductor device according to claim 1.
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