JP2019179112A - 内視鏡装置、光学アダプタ、２光路時分割切替方法および内視鏡装置制御プログラム - Google Patents

Abstract

【課題】複数の光路を時分割で切り替え可能な時分割光路切り替え手段を備えた内視鏡において、被写体の歪みを低減する。【解決手段】内視鏡装置は、右光路および左光路を形成する２光路形成光学系と、前記右光路を通る光と前記左光路を通る光とを共通の領域に結像する１つの結像光学系と、駆動部と、前記駆動部に駆動される遮光部材と、を有する遮光部と、前記遮光部を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記駆動部を制御して、前記遮光部材に、前記右光路から前記結像光学系に入射する右入射光と前記左光路から前記結像光学系に入射する左入射光のいずれか一方を遮断させ、前記制御部は、前記駆動部を制御して、前記遮光部材に、前記右入射光と前記左入射光の両方を遮断させる。【選択図】図２

Description

本発明は、内視鏡装置、内視鏡装置の先端に装着する光学アダプタ、内視鏡装置における２光路時分割切替方法、および内視鏡装置制御プログラムに関する。

近年、体腔内に細長の挿入部を挿入することにより、体腔内臓器等を観察し、必要に応じ処置具チャンネル内に挿通した処置具を用いて各種治療処置を行える内視鏡が広く利用されている。また、工業用分野においても、ボイラ、タービン、エンジン、化学プラント等の内部の傷、腐食等の観察、検査に工業用内視鏡が広く用いられている。

特に工業用内視鏡では、検査箇所に応じた観察を行えるように複数種類の光学アダプタが用意されており、必要に応じて選択した光学アダプタを内視鏡挿入部先端に着脱自在に装着できる。

特許文献１には、内視鏡挿入部先端において、２つの光路を時分割で切り替え可能な時分割光路切り替え手段を備えたステレオ光学系が記載されている。特許文献１に記載のステレオ光学系は、時分割でいずれか一方の光路からの光のみを撮像素子に入射させ、一方の光路からの光の撮像面積を一時的に大きくすることができる。

近年、内視鏡の撮像素子としてＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ ＭＯＳ）が用いられている。内視鏡の撮像素子としてＣＭＯＳを使用する場合、ローリングシャッターに起因する被写体の歪みが発生する場合がある。特許文献２には、ＣＭＯＳの露光期間のうち全ライン露光している期間以外において、光源を消灯させ、ローリングシャッターに起因する被写体の歪みを低減することができる内視鏡装置が記載されている。

特開２０１０−１２８３５４号公報 国際公開第２０１７／０６５０５３号

しかしながら、２つの光路を時分割で切り替え可能な時分割光路切り替え手段を備えた内視鏡において、ＣＭＯＳを撮像素子として使用する場合、特許文献１に記載の時分割光路切り替え手段では、ローリングシャッターに起因する被写体の歪みを低減することは難しかった。

上記事情を踏まえ、本発明は、複数の光路を時分割で切り替え可能な時分割光路切り替え手段を備えた内視鏡において、被写体の歪みを低減することを目的とする。

上記課題を解決するために、この発明は以下の手段を提案している。
本発明の内視鏡装置は、右光路および左光路を形成する２光路形成光学系と、前記右光路を通る光と前記左光路を通る光とを共通の領域に結像する１つの結像光学系と、駆動部と、前記駆動部に駆動される遮光部材と、を有する遮光部と、前記遮光部を制御する制御部と、を備え、前記制御部は、前記駆動部を制御して、前記遮光部材に、前記右光路から前記結像光学系に入射する右入射光と前記左光路から前記結像光学系に入射する左入射光のいずれか一方を遮断させ、前記制御部は、前記駆動部を制御して、前記遮光部材に、前記右入射光と前記左入射光の両方を遮断させる。

本発明の光学アダプタは、右光路と左光路を形成する２光路形成光学系と、前記右光路を通る光と前記左光路を通る光とを共通の領域に結像する１つの結像光学系と、駆動部と、前記駆動部に駆動される遮光部材と、を有する遮光部と、を備え、前記駆動部は、前記遮光部材を移動させ、前記右光路から前記結像光学系に入射する右入射光と前記左光路から前記結像光学系に入射する左入射光のいずれか一方を遮断し、前記駆動部は、前記遮光部材を移動させ、前記右入射光と前記左入射光の両方を遮断する。

本発明の２光路時分割切替方法は、右光路を通る光と左光路を通る光とを撮像素子に結像させる内視鏡装置において、前記右光路から入射する右入射光と前記左光路から入射する左入射光のいずれか一方を遮断する片開口遮光工程と、前記右入射光と前記左入射光の両方を遮断する両開口遮光工程を備える。

本発明の内視鏡装置制御プログラムは、右光路および左光路を形成する２光路形成光学系と、前記右光路を通る光と前記左光路を通る光とを共通の領域に結像する１つの結像光学系と、駆動部と、前記駆動部に駆動される遮光部材と、を有する遮光部と、前記遮光部を制御する制御部と、を備える内視鏡装置において、前記制御部が、前記駆動部を駆動して、前記遮光部材に、前記右光路から前記結像光学系に入射する右入射光と前記左光路から前記結像光学系に入射する左入射光のいずれか一方を遮断させ、前記制御部が、前記駆動部を駆動して、前記遮光部材に、前記右入射光と前記左入射光の両方を遮断させる。

本発明の内視鏡装置、内視鏡装置の先端に装着する光学アダプタ、内視鏡装置における２光路時分割切替方法、および内視鏡装置制御プログラムによれば、複数の光路を時分割で切り替え可能な時分割光路切り替え手段を備えた内視鏡において、被写体の歪みを低減することができる。

本発明の第一実施形態に係る内視鏡装置の全体構成を示す斜視図である。 同内視鏡装置の内部構成を示すブロック図である。 同内視鏡装置の内視鏡の先端部および光学アダプタの概略構成を示す説明図である。 同内視鏡装置の光学アダプタの遮光部の全体構成を示す斜視図である。 同遮光部を先端側から見た平面図である。 同遮光部を先端側から見た平面図である。 同遮光部を先端側から見た平面図である。 同内視鏡装置の制御部の全体構成例を示すブロック図である。 同内視鏡装置の撮像素子の構成を示す図である。 ローリングシャッターにより駆動される同撮像素子のタイミングチャートである。 同内視鏡装置の「撮像動作」における制御部の制御フローチャートである。 図１１に示す制御により駆動される撮像素子のタイミングチャートである。 同内視鏡装置の「撮像動作」の変形例における撮像素子のタイミングチャートである。 同内視鏡装置の遮光部材の変形例の先端側から見た平面図である。 同内視鏡装置の遮光部材の変形例の先端側から見た平面図である。 同内視鏡装置の遮光部材の変形例の先端側から見た平面図である。 本発明の第二実施形態に係る内視鏡装置の光学アダプタの遮光部の全体構成を示す斜視図である。 同内視鏡装置の撮像素子のタイミングチャートである。

（第一実施形態）
本発明の第一実施形態について、図１から図１２を参照して説明する。
図１は、本実施形態に係る内視鏡装置１００の全体構成を示す斜視図である。図２は、内視鏡装置１００の内部構成を示す機能ブロック図である。

[内視鏡装置１００]
内視鏡装置１００は、図１に示すように、工業用の内視鏡装置であり、内視鏡１と、装置本体５と、ユーザが内視鏡１の制御に必要な操作を行うための操作部６と、を有する。
内視鏡１は、細長な挿入部１０と、挿入部１０に着脱可能な光学アダプタ２と、を有する。装置本体５は、制御装置３と、モニタ４と、を有する。モニタ４は、内視鏡１で撮像された被写体の画像および操作メニュー等を表示する。

[挿入部１０]
挿入部１０は、被検体の内部に挿入される。挿入部１０は、図１に示すように、硬質な先端部１１と、湾曲可能な湾曲部１２と、柔軟性を有する可撓管部１３とを有する。挿入部１０において先端側に先端部１１が配置されている。挿入部１０において本体側に可撓管部１３が配置されている。先端部１１と可撓管部１３との間に湾曲部１２が配置されている。先端部１１には、被写体像を結像するための光学アダプタ２が着脱可能である。

図３は、先端部１１および光学アダプタ２の概略構成を示す説明図である。
先端部１１は、図２に示すように、撮像部１７と照明部１９とを有する。
撮像部１７は、図３に示すように、光学アダプタ２を経由して結像された被写体像を光電変換し、撮像信号を生成する撮像素子１８を有している。撮像素子１８は、例えば、ＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ Ｍｅｔａｌ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）イメージセンサ等である。撮像素子１８は、行列状に配置された複数の画素を有する。複数の画素の動作は、複数の画素の配列における行毎に制御される。

照明部１９は、被写体に照射される照明光を発生する光源を有する。例えば、光源はＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）である。照明部１９が装置本体５内に配置され、かつ照明部１９が発生した照明光がライトガイドによって先端部１１に導かれてもよい。

[光学アダプタ２]
光学アダプタ２は、ステレオ計測可能な光学アダプタであり、図３に示すように、２光路形成光学系２１と、１つの結像光学系２２と、２光路形成光学系２１と結像光学系２２との間に配置された遮光部２３と、を備えている。光学アダプタ２は、挿入部１０の先端部１１に装着され、２光路形成光学系２１に入射した光を、先端部１１の撮像素子１８の撮像面に結像させる。

以降の説明において、図３に示すように、２光路形成光学系２１と、結像光学系２２と、遮光部２３と、が配列する方向であって、光学アダプタ２内部で光が進行する方向を「Ｘ軸方向」と称す。また、Ｘ軸方向において、２光路形成光学系２１側を先端側、結像光学系２２側を基端側と称す。

２光路形成光学系２１は、図３に示すように、軸対称に配置された一対のアフォーカル光学系（右光路２１Ｒ，左光路２１Ｌ）を備えている。
右光路２１Ｒは、先端側に凹面を向けた凹レンズ２１１Ｒと、凸レンズ２１２Ｒと、で構成されている。
左光路２１Ｌは、先端側に凹面を向けた凹レンズ２１１Ｌと、凸レンズ２１２Ｌと、で構成されている。

結像光学系２２は、図３に示すように、右光路２１Ｒを通る光と、左光路２１Ｌを通る光と、を共通の領域に結像する。
光学アダプタ２が先端部１１に装着されている場合、図３に示すように、撮像素子１８は結像光学系２２の結像位置に配置される。

図４は、遮光部２３の全体構成を示す斜視図である。
遮光部２３は、図４に示すように、絞り部材２４と、遮光部材２５と、駆動部２６と、を備えている。駆動部２６は、第一駆動部２７と、第二駆動部２８と、を有している。
遮光部２３は、右光路２１Ｒから結像光学系２２に入射する右入射光と、左光路２１Ｌから結像光学系２２に入射する左入射光の、いずれか一方もしくは両方を遮断することができる。遮光部２３は、遮断対象の光を時分割で切り替えることができる。

絞り部材２４は、図３に示すように、Ｘ軸に対して略垂直に設けられた板状部材であり、２光路形成光学系２１の右光路２１Ｒから結像光学系２２に入射する右入射光が通過する開口部２４Ｒと、２光路形成光学系２１の左光路２１Ｌから結像光学系２２に入射する左入射光が通過する開口部２４Ｌと、を有している。

絞り部材２４は、図４に示すように、光学アダプタ２を先端側から見て、結像光学系２２を覆っており、２つの開口部２４Ｒ，２４Ｌから入射する光のみを結像光学系２２に入射させる。

以降の説明において、図４に示すように、Ｘ軸方向と垂直な方向であって、２つの開口部２４Ｒ，２４Ｌが配列する方向を「Ｙ軸方向」と称す。

遮光部材２５は、光を遮断する遮光板２５ａと、その一端が遮光板２５ａに接続され、他端が第一駆動部２７に取り付けられたレバー２５ｃと、を備えている。

遮光板２５ａは、開口部２４Ｒ，２４Ｌに近づけて支持されることで、開口部２４Ｒ，２４Ｌを遮光し、開口部２４Ｒ，２４Ｌから結像光学系２２に入射する光を遮断することができる。遮光板２５ａは、少なくとも一部が、磁石に反応する金属等で構成されており、後述する第二駆動部２８が発生させる電磁力に反応する。

遮光部材２５によって、２つの開口部２４Ｒ，２４Ｌのうち一方の開口部が遮光された場合、他方の開口部を経由して結像光学系２２に入射した光のみが、撮像素子１８の撮像面に結像される。他方の光路からの光の撮像面積を一時的に大きくすることができ、高精度な画像情報を得ることができる。

第一駆動部２７は、図４に示すように、回動部２７ａと、電磁軟鉄などの強磁性体で形成されたヨーク２７ｂとヨーク２７ｂに巻かれた巻線コイル２７ｃを有する電磁石（第一電磁石）２７ｄと、を備えている。

回動部２７ａは、図４に示すように、ヨーク２７ｂに回動可能に支持されており、回動中心軸ＯはＸ軸と平行である。回動部２７ａの回動中心軸Ｏは、図４に示すように、２つの開口部２４Ｒ，２４Ｌに対して、Ｘ軸およびＹ軸に垂直な「Ｚ軸方向」に離れた位置、かつ、２つの開口部２４Ｒ，２４Ｌのいずれからも等しい距離となる位置に配置される。

回動部２７ａは、図４に示すように、接続されたレバー２５ｃを経由して遮光部材２５を支持している。遮光部材２５は、回動部２７ａの回転に連動して、回動中心軸Ｏを中心に円運動する。

回動部２７ａは、少なとも一部が永久磁石で形成されており、図４に示すように、回動中心軸を対称にＮ極とＳ極とが配置されている。

ヨーク２７ｂは、電磁軟鉄などの強磁性体で形成されており、図４に示すように、Ｕ時形状に形成されている。ヨーク２７ｂの両端部は、図４に示すように、Ｙ軸方向に対向しており、両端部の間に、回動部２７ａが設けられている。

巻線コイル２７ｃは、励磁用のコイルであって、図４に示すように、ヨーク２７ｂのまわりに巻かれている。巻線コイル２７ｃに通電することで、Ｙ軸方向に対向するヨーク２７ｂの両端部に異なる磁極を発生させることができる。ヨーク２７ｂの両端部の磁極と回動部２７ａの磁極との間に吸引力もしくは反発力を発生させることで、回動部２７ａはＸ軸に平行な回動中心軸Ｏを中心に回転する。また、巻線コイル２７ｃに通電する電流の向きを反対方向に変えることで、ヨーク２７ｂの両端部に発生する磁極を反転することができる。その結果、回動部２７ａは反対方向に回転する。

図５から図７は、遮光部２３を先端側から見た平面図である。
図５に示す遮光部２３の遮光部材２５は、開口部２４Ｒを遮光し、開口部２４Ｌを遮光していない。この遮光部材２５の位置を「右開口遮光の位置」と称す。
図６に示す遮光部２３の遮光部材２５は、開口部２４Ｌを遮光し、開口部２４Ｒを遮光していない。この遮光部材２５の位置を、「左開口遮光の位置」と称す。
ここで、「右開口遮光」の位置と「左開口遮光」の位置を、あわせて「片開口遮光の位置」と称す。

図７に示す遮光部２３の遮光部材２５は、開口部２４Ｌおよび開口部２４Ｒをともに遮光している。この遮光部材２５の位置を、「両開口遮光の位置」と称す。遮光部材２５は、図７に示すように、開口部２４Ｌおよび開口部２４Ｒをともに遮光できる十分な大きさを有している。

第一駆動部２７は、巻線コイル２７ｃに通電する電流の向きを制御することで、ヨーク２７ｂの両端部に発生する磁極を反転させ、遮光部材２５を「右開口遮光の位置」と「左開口遮光の位置」のいずれか一方の位置に移動させることができる。また、第一駆動部２７は、巻線コイル２７ｃに通電する電流の向きを変えることで、遮光部材２５を「右開口遮光の位置」と「左開口遮光の位置」の他方の位置に移動させることができる。

以降の説明において、第一駆動部２７が遮光部材２５を「左開口遮光の位置」に移動させる、巻線コイル２７ｃに通電する電流の向きを、プラス方向と称し、遮光部材２５を「右開口遮光の位置」に移動させる、巻線コイル２７ｃに通電する電流の向きを、マイナス方向と称す。

第二駆動部２８は、電磁軟鉄などの強磁性体２８ｂと強磁性体２８ｂに巻かれた巻線コイル２８ｃを有する電磁石（第二電磁石）２８ｄであり、通電することによって一時的に磁力を発生させることができる。
第二駆動部２８は、図４から図７に示すように、２つの開口部２４Ｒ，２４Ｌに対して、Ｚ軸方向において回動部２７ａとは反対側に離れた位置、かつ、２つの開口部２４Ｒ，２４Ｌのいずれからも等しい距離となる位置に設けられている。

第二駆動部２８は、第二電磁石２８ｄにより磁力を発生させ、遮光部材２５を「両開口遮光の位置」に引き寄せることができる。第二駆動部２８が発生する磁力により遮光部材２５を引き寄せる力は、第一駆動部２７が遮光部材２５を駆動する力と比較して、十分に大きい。そのため、第二駆動部２８は、遮光部材２５が「片開口遮光の位置」に支持されていても、第一駆動部２７の動作に関わらず、強制的に、遮光部材２５を「両開口遮光の位置」に移動させることができる。

駆動部２６は、第一駆動部２７および第二駆動部２８により、遮光部材２５を駆動して、遮光部材２５を、開口部２４Ｒと開口部２４Ｌの両方を遮光する「両開口遮光の位置」と、開口部２４Ｒのみを遮光する「右開口遮光の位置」と、開口部２４Ｌのみを遮光する「左開口遮光の位置」に移動させることができる。

[制御装置３]
制御装置３は、図２に示すように、撮像制御部３０と、撮像信号処置部３１と、外光検出部３２と、制御部３３と、遮光制御部３８と、照明制御部３９と、を有している。

撮像制御部３０は、撮像部１７の撮像素子１８を駆動する。
撮像制御部３０は、撮像素子１８により取得された撮像信号に対して、増幅およびノイズ除去等を含む前処理を実施する。また、撮像制御部３０は、前処理が行われた撮像信号を、ＮＴＳＣ信号等の映像信号に変換する。

撮像信号処置部３１は、撮像制御部３０が出力する映像信号が接続されている。撮像信号処置部３１は、撮像画像から表示用の表示画像を生成する。撮像信号処置部３１は、撮像画像に対し、画像フォーマット変換やコントラスト調整などの画像処理を必要に応じて行ってもよい。生成された表示画像は、モニタ４に所定の転送タイミングで転送される。

外光検出部３２は、撮像信号処置部３１が生成した表示用の表示画像から、外光の有無を検知する。外光検出部３２は、例えば、表示画像が黒一色表示となっている場合は「外光無し」と検出し、それ以外の場合は「外光有り」と検出する。検出した外光検出結果は、「外光検出信号」として制御部３３に転送される。

図８は、制御部３３の全体構成例を示すブロック図である。
制御部３３は、図８に示すように、ＣＰＵ（Central Processing Unit）３４と、プログラムを読み込み可能なメモリ３５と、記憶部３６と、入出力制御部３７と、を有するプログラム実行可能な処理装置（コンピュータ）である。
制御部３３の機能は、制御部３３に提供されたプログラムをＣＰＵ３４が実行することにより実現される。なお、制御部３３の少なくとも一部の機能を、専用の論理回路等によって構成してもよい。
例えば、プロセッサは、ＣＰＵ、ＤＳＰ（Ｄｉｇｉｔａｌ Ｓｉｇｎａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ）、およびＧＰＵ（Ｇｒａｐｈｉｃｓ Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ Ｕｎｉｔ）の少なくとも１つもしくは組み合わせであってもよい。例えば、論理回路は、ＡＳＩＣ（Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎ Ｓｐｅｃｉｆｉｃ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔ）およびＦＰＧＡ（Ｆｉｅｌｄ−Ｐｒｏｇｒａｍｍａｂｌｅ Ｇａｔｅ Ａｒｒａｙ）の少なくとも１つもしくは組み合わせであってもよい。

記憶部３６は、上述したプログラムや必要なデータを記憶する不揮発性の記録媒体である。記憶部３６は、例えばフレキシブルディスク、光磁気ディスク、ＲＯＭ、フラッシュメモリなどの書き込み可能な不揮発性メモリ、ＣＤ−ＲＯＭなどの可搬媒体、コンピュータシステムに内蔵されるハードディスクなどの記憶装置等で構成される。記憶部３６に記録されたプログラムは、メモリ３５に読み込まれ、ＣＰＵ３４によって実行される。

入出力制御部３７は、制御装置３における内部通信や操作部６と動作制御のための通信を実施する。入出力制御部３７は、操作部６からユーザによって入力された指示をＣＰＵ３４に通知する。入出力制御部３７は、照明部１９の制御のための制御信号を照明制御部３９に出力する。入出力制御部３７は、遮光部２３の制御のための制御信号を遮光制御部３８に出力する。入出力制御部３７は、撮像素子１８の制御のための制御信号を撮像制御部３０に出力する。ＣＰＵ３４が撮像制御部３０を経由せずに撮像素子１８を制御してもよく、その場合、入出力制御部３７は、撮像素子１８の制御のための制御信号を撮像素子１８に出力する。

ここで、制御部３３は、１つのハードウェアに備わる装置に限られない。例えば、制御部３３は、ＣＰＵ３４と、メモリ３５と、記憶部３６と、入出力制御部３７とをそれぞれ別体のハードウェアとして分離した上で、ハードウェア同士を通信回線で接続することで構成してもよい。あるいは、制御部３３は、記憶部３６を分離して、同様に通信回線で接続することで、制御部３３をクラウドシステムとして実現してもよい。

遮光制御部３８は、遮光部２３の駆動部２６を制御して、遮光部２３の遮断対象の光を切り替える。具体的には、第二駆動部２８の巻線コイル２８ｃに通電する電流を制御する。

遮光制御部３８は、第一駆動部２７の巻線コイル２７ｃに通電する電流の向きを制御する。遮光制御部３８は、ヨーク２７ｂの両端部に発生する磁極を反転させ、遮光部材２５が「右開口遮光の位置」と「左開口遮光の位置」のいずれか一方の位置に遮光部材２５を移動させる。

遮光制御部３８は、第二駆動部２８の巻線コイル２８ｃへの通電の有無を制御する。遮光制御部３８は、第二駆動部２８のコイルへ通電することで、吸引力を発生させて遮光部材２５を「両開口遮光の位置」に引き寄せる。

照明制御部３９は、制御部３３からの指示に基づいて、照明部１９の光源の駆動を制御する。

なお、撮像制御部３０と、撮像信号処置部３１と、外光検出部３２と、遮光制御部３８と、照明制御部３９は、少なくとも一部が、ＣＰＵ等を有するプログラム実行可能な処理装置（コンピュータ）で構成されていてもよい。
また、撮像制御部３０と、撮像信号処置部３１と、外光検出部３２と、制御部３３と、遮光制御部３８と、照明制御部３９は、それぞれ別個の処理装置で構成されてもよいし、これらのうち少なくとも一部が共通の処理装置で構成されてもよい。

[撮像素子１８]
図９は、撮像素子１８の構成を示している。
撮像素子１８は、図９に示すように、画素部５０と、垂直走査部５１と、信号処理部５２と、水平走査部５３とを有する。

画素部５０は、行列状に配置された複数の画素５４を有する。複数の画素５４は、撮像素子１８の撮像領域に配置されている。複数の画素５４の配列における行数と列数との各々は、２以上である。行数と列数とが同一でなくてもよい。複数の画素５４の各々は、画素５４に入射した光の量に応じた撮像信号を生成する。複数の画素５４の各々は、垂直信号線５６に接続されている。複数の垂直信号線５６が配置されている。複数の垂直信号線５６の各々は、複数の画素５４の配列における列毎に配置されている。複数の画素５４の各々は、生成された撮像信号を垂直信号線５６に出力する。

複数の画素５４の各々は、制御信号線５７に接続されている。複数の制御信号線５７が配置されている。複数の制御信号線５７の各々は、複数の画素５４の配列における行毎に配置されている。複数の制御信号線５７の各々は、垂直走査部５１に接続されている。複数の画素５４の動作を制御するための制御信号が垂直走査部５１から制御信号線５７に出力される。１行の画素５４に対して複数の制御信号線５７が配置されている。図９では１行の画素５４に対して１つの制御信号線５７が示され、他の制御信号線５７は省略されている。

複数の画素５４の動作は、制御信号線５７に出力された制御信号に基づいて制御される。１行の画素５４に対応する制御信号は、その行における全ての画素５４に共通に供給される。このため、同一の行に配置された２つ以上の画素５４に対して同一の動作タイミングが設定される。つまり、同一の行に配置された２つ以上の画素５４は、同時に動作する。

制御部３３によって生成された制御信号が、撮像制御部３０を経由して撮像素子１８に送信される。あるいは、制御部３３によって生成された制御信号が撮像素子１８に直接送信される。撮像素子１８は、制御信号を受信する。垂直走査部５１は、受信された制御信号に基づいて、複数の画素５４の動作を制御するための制御信号を生成する。垂直走査部５１は、複数の画素５４の配列における複数の行の各々に対応する制御信号を生成する。垂直走査部５１は、生成された制御信号を制御信号線５７に出力する。

信号処理部５２は、複数の信号処理回路５５を有する。信号処理回路５５は、複数の画素５４の配列における列毎に配置されている。信号処理回路５５は、垂直信号線５６に接続されている。信号処理回路５５は、垂直信号線５６に出力された撮像信号に対して、増幅およびノイズ除去等を含む信号処理を実施する。なお、信号処理回路５５と撮像制御部３０との少なくとも１つが、撮像信号に対するこれらの信号処理を行えばよい。

信号処理回路５５によって処理された撮像信号は、水平走査部５３に入力される。水平走査部５３は、複数の画素５４の配列における列を順次選択する。水平走査部５３によって選択された列に対応する撮像信号は、出力端子５８から出力される。

[撮像素子１８の露光動作]
撮像素子１８の動作を説明する。図１０は、ローリングシャッターにより駆動される撮像素子１８のタイミングチャートである。図１０において、横方向は時間を示し、縦方向は行位置を示している。図１０では、６行の画素５４における動作が示されている。最も上の行が１行目であり、最も下の行が６行目である。

モニタ４の表示周期に基づくフレーム期間が開始されたとき、１行目の画素５４においてリセットが行われる。これによって、１行目の画素５４において露光が開始される。リセットが行われた後、１行目の画素５４において電荷転送が行われる。これによって、１行目の画素５４において露光が終了する。

露光開始から露光終了までの期間が露光期間である。つまり、露光期間は、リセットの終了から電荷転送の開始までの期間である。電荷転送が行われた後、１行目の画素５４において信号読み出しが行われる。つまり、１行目の画素５４において、出力部６５は、撮像信号を垂直信号線５６に出力する。信号読み出しが行われた後、１行目の画素５４は、次のフレーム期間が開始されるまで待機する。

１行目の画素５４においてリセットが行われたタイミングから所定時間が経過したタイミングで、２行目の画素５４においてリセットが行われる。２行目の画素５４における動作は、１行目の画素５４における動作と同様である。２行目の画素５４における動作は、１行目の画素５４における動作のタイミングに対して所定時間ずれたタイミングで行われる。同様に、３行目以降の各行の画素５４における動作は、１つ前の行の画素５４における動作のタイミングに対して所定時間ずれたタイミングで行われる。

ここで、図１０に示す６行の画素５４すべてを撮像対象の画素とした場合、図１０に示すように、撮像対象の画素すべてが露光期間である期間を「全露光期間」と定義する。
なお、撮像対象の画素は任意の範囲に設定されていてもよく、例えば行の始点側および終点側の画素を除いて設定されていてもよい。

[内視鏡装置１００の撮像動作]
次に、内視鏡装置１００の動作および作動方法を、図１１から図１２を参照して説明する。図１１は、「右光路２１Ｒ」から入射した右入射光を撮像素子１８に結像し、撮像信号を生成する「撮像動作」における制御部３３の制御フローチャートである。図１２は、上記の制御により駆動される撮像素子１８のタイミングチャートである。以降、図１１および図１２に示すフローチャートに従って、内視鏡装置１００の動作および作動方法を説明する。

ユーザの操作部６の操作により、「撮像動作」が指示されると、制御部３３は「撮像動作」の制御を開始する（ステップＳ１０）。次に、制御部３３はステップＳ１１を実行する。

ステップＳ１１において、図１１に示すように、制御部３３は、遮光制御部３８を制御して第二駆動部２８を制御し、遮光部材２５を「両開口遮光の位置」に移動させる（第一両開口遮光工程）。図１２に示すように、遮光制御部３８は、第二電磁石に、遮光部材２５を引き寄せるための吸引力を発生させる電流を流す。次に、制御部３３はステップＳ１２を実行する。

ステップＳ１２において、図１１に示すように、制御部３３は、外光検出用に露光を行い、外光検出部３２からの外光検出信号に基づき、表示画像に外光が含まれるかを判定する。すなわち、制御部３３は、遮光部材２５が「両開口遮光の位置」へ移動が完了したかを判定する。
制御部３３は、表示画像に外光が含まれると判定した場合、表示画像に外光が含まないと判定されるまで、ステップＳ１２を繰り返す。
制御部３３は、表示画像に外光が含まれないと判定した場合、次に、ステップＳ１３を実行する。

ステップＳ１２の外光検出を行った場合、撮像のための露光直前に撮像素子１８に入射する光を遮断でき、撮像のための露光において、ローリングシャッターに起因する被写体の歪みを低減することができる。
なお、ステップＳ１２の外光検出の実施は任意である。制御部３３は、ステップＳ１２の外光検出を行わず、所定の期間が経過した場合に、撮像素子１８に入射する光を遮断できたと推定して、次のステップＳ１３を実行してもよい。

ステップＳ１３において、図１１に示すように、制御部３３は、撮像制御部３０もしくは制御部３３による撮像対象の画素５４の制御において、「全露光期間」が開始されるまで待つ。
制御部３３は、「全露光期間」が開始されてないと判定した場合、「全露光期間」が開始されたと判定されるまで、ステップＳ１３を繰り返す。
制御部３３は、「全露光期間」が開始されたと判断した場合と、次にステップＳ１４を実施する。

ステップＳ１４において、図１１に示すように、制御部３３は、遮光制御部３８を制御して、遮光部材２５を「左開口遮光の位置」に移動させる（片開口遮光工程）。

図１２に示すように、時間ｔ１において「全露光期間」が開始され、遮光制御部３８は、第一駆動部２７の第一電磁石２７ｄにプラス方向の電流を流し、遮光部材２５を「左開口遮光の位置」に移動させる。次に、制御部３３はステップＳ１５を実行する。

ステップＳ１５において、図１１に示すように、制御部３３は、撮像対象の画素５４の制御においる「全露光期間」が終了する時間ｔ２まで待つ。
制御部３３は、「全露光期間」が終了していないと判定した場合、「全露光期間」が終了したと判定されるまで、ステップＳ１３を繰り返す。
制御部３３は、「全露光期間」が終了したと判断した場合、次にステップＳ１６を実施する。

ステップＳ１６において、図１１に示すように、制御部３３は、遮光制御部３８を制御して第二駆動部２８を制御し、遮光部材２５を「両開口遮光の位置」に移動させる（第二両開口遮光工程）。次に、制御部３３はステップＳ１７を実行する。

図１２に示すように、「全露光期間」が終了した直後から、撮像対象の画素５４において電荷転送が順次開始される。この時、遮光部材２５は「両開口遮光の位置」に支持されており、撮像素子１８に入射する光を遮断する。そのため、ローリングシャッターに起因する被写体の歪みを好適に低減することができる。

ステップＳ１６において、図１１に示すように、制御部３３は、引き続き「撮像動作」を継続する場合は、ステップＳ１２を再び実行する。制御部３３は、「撮像動作」を終了する場合は、「撮像動作」の制御を終了する（ステップＳ１８）。

ここで、制御部３３は、「左光路２１Ｌ」から入射した左入射光の「撮像動作」の制御を実施する場合は、ステップＳ１４において、遮光部材２５を「右開口遮光の位置」に移動させればよい。

上記の「撮像動作」の制御においては、制御部３３は、遮光部材２５を「左開口遮光の位置」に移動させ、撮像素子１８に光を入射させる期間（ステップＳ１４）を、「全露光期間」に一致させていた。
しかしながら、制御部３３は、ステップＳ１３とステップＳ１５を省略し、「全露光期間」であるかを考慮せず、ステップＳ１１（両開口遮光）と、ステップＳ１４（片開口遮光）と、ステップ１６（両開口遮光）と、を順番に実行してもよい。
撮像素子１８に光を入射させるステップＳ１４（片開口遮光）の前後に、撮像素子１８に入射する光を遮断するステップＳ１１（両開口遮光）とステップ１６（両開口遮光）を実行することで、ローリングシャッターに起因する被写体の歪みを低減することができる。

[内視鏡装置１００のステレオ測定動作]
次に、内視鏡装置１００の「ステレオ計測動作」を説明する。
内視鏡装置１００は、ステレオ計測の原理に基づくステレオ計測を行うことができる。ステレオ計測では、例えば、右光路２１Ｒを通る光と、左光路２１Ｌを通る光と、が交互に撮像素子１８の撮像面に結像される。

初めに、制御部３３は、図１１に示す「撮像動作」のフローと同様の制御を行い、「右光路２１Ｒ」から入射した右入射光の「撮像動作」の制御を実施する。

次に、制御部３３は、図１１に示す「撮像動作」のフローと同様の制御を行い、「左光路２１Ｌ」から入射した左入射光の「撮像動作」の制御を実施する。ただし、ステップＳ１４において、制御部３３は、遮光部材２５を「右開口遮光の位置」に移動させ、左光路２１Ｌから入射した左入射光を撮像素子１８の撮像面に結像させる。

制御部３３は、視差のある二つの画像から、撮像された対象物までの距離などを測定することができる。

内視鏡装置１００の「ステレオ計測動作」においても、「撮像動作」同様、撮像素子１８に光を入射させるステップＳ１４（片開口遮光）の前後に、撮像素子１８に入射する光を遮断するステップＳ１１（両開口遮光）とステップ１６（両開口遮光）を実行することで、ローリングシャッターに起因する被写体の歪みを低減することができる。
特に、撮像素子１８に光を入射させるステップＳ１４を全露光期間に一致させることで、ローリングシャッターに起因する被写体の歪みを好適に低減することができる。

（第一実施形態の効果）
本実施形態の内視鏡装置１００によれば、遮光部２３により、撮像される被写体の歪みを低減することができる。撮像素子１８に光を入射させるステップＳ１４（片開口遮光）の前後に、撮像素子１８に入射する光を遮断するステップＳ１１（両開口遮光）とステップ１６（両開口遮光）を実行することで、ローリングシャッターに起因する被写体の歪みを低減することができる。特に、撮像素子１８に光を入射させるステップＳ１４（片開口遮光）を全露光期間に一致させることで、ローリングシャッターに起因する被写体の歪みを好適に低減することができる。

（変形例）
以上、本発明の第一実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。また、上述の第一実施形態および以下で示す変形例において示した構成要素は適宜に組み合わせて構成することが可能である。

（変形例１）
例えば、上記実施形態では、光学アダプタ２は挿入部１０の先端部１１に着脱可能であったが、光学アダプタ等の態様はこれに限定されない。内視鏡装置は、光学アダプタを有さず、２光路形成光学系２１と、１つの結像光学系２２と、遮光部２３と、が挿入部の先端部に一体化して設けられていてもよい。

（変形例２）
例えば、上記実施形態では、ステップＳ１６において、制御部３３は、第二駆動部２８のみを制御し、遮光部材２５を「両開口遮光の位置」に移動させていたが、制御部によるステップＳ１６の制御はこれに限定されない。図１３は、「撮像動作」の変形例のタイミングチャートである。図１３で示すように、ステップＳ１６において、制御部３３は、第二駆動部２８に加えて、第一駆動部２７を制御して遮光部材２５を移動させてもよい。遮光制御部３８は、図１３に示すように、ステップＳ１６が開始される時間ｔ２において、第一駆動部２７の第一電磁石にマイナス方向の電流を所定期間のみ流す。第一駆動部２７は、遮光部材２５を「右開口遮光の位置」に向かう方向に、わずかな距離であるが移動させる。この結果、第二駆動部２８による、遮光部材２５を「両開口遮光の位置」に移動させる動作を補助することができ、迅速に遮光部材２５を「両開口遮光の位置」に移動させることができる。

（変形例３）
例えば、上記実施形態では、遮光部材２５は、遮光板２５ａと、レバー２５ｃと、を備えていたが、遮光部材の態様はこれに限定されない。図１４から図１６は、遮光部材の変形例の遮光部材２５Ｂの先端側から見た平面図である。遮光部材２５Ｂは、図１４から図１６に示すように、円板状の部材に切り欠き部が形成された部材である。遮光部材２５Ｂは、開口部２４Ｒと開口部２４Ｌとの間に設けられた第一駆動部２７によって駆動される。遮光部材２５Ｂは、第一駆動部２７の回動部２７ａに接続されている。

遮光部材２５Ｂは、開口部２４Ｒと開口部２４Ｌの両方を遮光する両開口遮光の位置と、開口部２４Ｒのみを遮光する右開口遮光の位置と、開口部２４Ｌのみを遮光する左開口遮光の位置と、に支持することができる。
図１４に示す遮光部材２５Ｂは、「右開口遮光の位置」に支持されており、開口部２４Ｒを遮光し、開口部２４Ｌを遮光していない。
図１５に示す遮光部材２５Ｂは、「左開口遮光の位置」に支持されており、開口部２４Ｌを遮光し、開口部２４Ｒを遮光していない。
図１６に示す遮光部材２５Ｂは、「両開口遮光の位置」に支持されており、開口部２４Ｌおよび開口部２４Ｒをともに遮光している。

遮光部材２５Ｂは磁石に反応する金属等で構成されており、第二駆動部２８が発生させる電磁力に反応する。第二駆動部２８は、電磁力を発生させることで、図１６に示すように、遮光部材２５Ｂの体積が大きい部分を、引き寄せることができる。

（第二実施形態）
本発明の第二実施形態について、図１７および図１８を参照して説明する。本実施形態は、第二駆動部が電磁石ではなく、永久磁石である点が異なっている。以降の説明において、既に説明したものと共通する構成については、同一の符号を付して重複する説明を省略する。
本発明の第二実施形態に係る内視鏡装置１００Ｃは、第一実施形態に係る内視鏡装置１００の遮光部２３に代え、遮光部２３Ｃを備えている。

図１７は、遮光部２３Ｃの全体構成を示す斜視図である。
遮光部２３Ｃは、第一実施形態に係る内視鏡装置１００の第二駆動部２８に代え、第二駆動部２８Ｃを有している。第二駆動部２８Ｃは永久磁石である。そのため、第二駆動部２８Ｃは、常時、遮光部材２５を「両開口遮光の位置」に引き寄せる。

一方、 第一駆動部２７は、第一電磁石２７ｄにより磁力を発生させ、遮光部材２５を「片開口遮光の位置」に移動させる。第一駆動部２７が発生する磁力により遮光部材２５を移動させる力は、第二駆動部２８Ｃが遮光部材２５を引き寄せる力と比較して、十分に大きい。そのため、第一駆動部２７は、第二駆動部２８Ｃが永久磁石であっても、強制的に、遮光部材２５を「片開口遮光の位置」に移動させることができる。

図１８は、内視鏡装置１００Ｃの撮像素子１８のタイミングチャートである。
図１８に示すように、「両開口遮光」の期間では、遮光制御部３８は第一電磁石２７ｄに対し、プラス方向にもマイナス方向にも電流を流さない。その結果、第二駆動部２８Ｃが遮光部材２５を引き寄せ、遮光部材２５が「両開口遮光の位置」に支持される。
図１８に示すように、「右開口遮光」の期間では、遮光制御部３８は第一電磁石２７ｄに対し、プラス方向に電流を流す。その結果、第一駆動部２７が遮光部材２５を「左開口遮光の位置」に移動させる。

（第二実施形態の効果）
本実施形態の内視鏡装置１００Ｃによれば、遮光制御部３８は第一駆動部２７のみを制御すればよく、遮光制御部３８による電磁石の電流制御が簡易となる。

（第三実施形態）
本発明の第三実施形態について説明する。本実施形態は、駆動部が、第二駆動部を有しておらず、第一駆動部のみを有している点が異なっている。以降の説明において、既に説明したものと共通する構成については、同一の符号を付して重複する説明を省略する。
本発明の第三実施形態に係る内視鏡装置１００Ｄは、第一実施形態に係る内視鏡装置１００の遮光部２３に代え、遮光部２３Ｄを備えている。

遮光部２３Ｄは、第一実施形態に係る遮光部２３と比較して、駆動部２６が、第二駆動部２８を有しておらず、第一駆動部２７のみを有している。
一方、遮光部２３Ｄは、第一実施形態に係る遮光部２３と比較して、回動部２７ａの回動角度を検出可能な角度検出器２７ｅをさらに有している。角度検出器２７ｅは、例えばポテンショメーターである。

遮光制御部３８は、角度検出器２７ｅが検出した回動部２７ａの回動角度に基づいて、第一駆動部２７の第一電磁石２７ｄに流す電流の向きおよび大きさを制御して、遮光部材２５を、「両開口遮光の位置」と、「右開口遮光の位置」と、「左開口遮光の位置」に移動させることができる。

（第三実施形態の効果）
本実施形態の内視鏡装置１００Ｄによれば、遮光制御部３８は、第二駆動部２８が不要であり、第一駆動部２７のみを制御すればよく、遮光制御部３８による電磁石の電流制御が簡易となる。

本発明は、複数の光路を時分割で切り替え可能な時分割光路切り替え手段を備えた内視鏡に適用することができる。

１００，１００Ｃ，１００Ｄ 内視鏡装置
１ 内視鏡
１０ 挿入部
１１ 先端部
１２ 湾曲部
１３ 可撓管部
１７ 撮像部
１８ 撮像素子
１９ 照明部
２ 光学アダプタ
２１ ２光路形成光学系
２１Ｌ 左光路
２１Ｒ 右光路
２２ 結像光学系
２３，２３Ｃ，２３Ｄ 遮光部
２４ 絞り部材
２４Ｌ 開口部（左開口部）
２４Ｒ 開口部（右開口部）
２５，２５Ｂ 遮光部材
２５ａ 遮光板
２５ｃ レバー
２６ 駆動部
２７ 第一駆動部
２７ａ 回動部
２７ｂ ヨーク
２７ｃ 巻線コイル
２７ｄ 電磁石（第一電磁石）
２８，２８Ｃ 第二駆動部
２８ｂ 強磁性体
２８ｃ 巻線コイル
２８ｄ 電磁石（第二電磁石）
３ 制御装置
３０ 撮像制御部
３１ 撮像信号処置部
３２ 外光検出部
３３ 制御部
３５ メモリ
３６ 記憶部
３７ 入出力制御部
３８ 遮光制御部
３９ 照明制御部
５０ 画素部
４ モニタ
５ 装置本体
６ 操作部

Claims (20)

1. 右光路および左光路を形成する２光路形成光学系と、
   前記右光路を通る光と前記左光路を通る光とを共通の領域に結像する１つの結像光学系と、
   駆動部と、前記駆動部に駆動される遮光部材と、を有する遮光部と、
   前記遮光部を制御する制御部と、を備え、
   前記制御部は、
   前記駆動部を制御して、前記遮光部材に、前記右光路から前記結像光学系に入射する右入射光と前記左光路から前記結像光学系に入射する左入射光のいずれか一方を遮断させ、
   前記駆動部を制御して、前記遮光部材に、前記右入射光と前記左入射光の両方を遮断させる、
   内視鏡装置。
2. 前記制御部は、
   前記駆動部を制御して、前記遮光部材に、前記右入射光と前記左入射光のいずれか一方を遮断させる前に、前記右入射光と前記左入射光の両方を遮断させる、
   請求項１に記載の内視鏡装置。
3. 前記制御部は、
   前記遮光部材が、前記右入射光と前記左入射光のいずれか一方を遮断した後に、前記駆動部を制御して、前記遮光部材に、前記右入射光と前記左入射光の両方を遮断させる、
   請求項１または請求項２に記載の内視鏡装置。
4. 行列状に配置された複数の画素を備え、前記画素に入射した光の量に応じた撮像信号を生成する撮像素子をさらに備え、
   前記撮像素子は、前記結像光学系の結像位置に配置され、
   前記制御部は、
   前記駆動部を制御して、撮像対象の前記画素すべてが露光期間である全露光期間に、前記遮光部材に、前記右入射光と前記左入射光のいずれか一方を遮断させる、
   請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の内視鏡装置。
5. 前記制御部は、
   前記右入射光と前記左入射光の両方を遮断した後に、前記撮像信号から外光の有無を検出し、前記外光を検出しない場合のみ、前記駆動部を制御して、前記遮光部材に、前記右入射光と前記左入射光のいずれか一方を遮断させる、
   請求項４に記載の内視鏡装置。
6. 前記遮光部は、絞り部材をさらに有し、
   前記絞り部材は、
   前記右入射光が通過する右開口部と、
   前記左入射光が通過する左開口部と、を有し、
   前記駆動部は、前記遮光部材を、
   前記右開口部と前記左開口部の両方を遮光する両開口遮光の位置と、
   前記右開口部と前記左開口部のいずれか一方を遮光する片開口遮光の位置と、に移動させる、
   請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の内視鏡装置。
7. 前記遮光部は、絞り部材をさらに有し、
   前記絞り部材は、
   前記右入射光が通過する右開口部と、
   前記左入射光が通過する左開口部と、を有し、
   前記駆動部は、前記遮光部材を、
   前記右開口部と前記左開口部の両方を遮光する両開口遮光の位置と、
   前記右開口部のみを遮光する右開口遮光の位置と、
   前記左開口部のみを遮光する左開口遮光の位置と、に移動させる
   請求項１から請求項５のいずれか一項に記載の内視鏡装置。
8. 右光路と左光路を形成する２光路形成光学系と、
   前記右光路を通る光と前記左光路を通る光とを共通の領域に結像する１つの結像光学系と、
   駆動部と、前記駆動部に駆動される遮光部材と、を有する遮光部と、を備え、
   前記駆動部は、前記遮光部材を移動させ、前記右光路から前記結像光学系に入射する右入射光と前記左光路から前記結像光学系に入射する左入射光のいずれか一方を遮断し、
   前記駆動部は、前記遮光部材を移動させ、前記右入射光と前記左入射光の両方を遮断する、
   光学アダプタ。
9. 前記遮光部は、絞り部材をさらに有し、
   前記絞り部材は、
   前記右入射光が通過する右開口部と、
   前記左入射光が通過する左開口部と、を有し、
   前記駆動部は、前記遮光部材を、
   前記右開口部と前記左開口部の両方を遮光する両開口遮光の位置と、
   前記右開口部と前記左開口部のいずれか一方を遮光する片開口遮光の位置と、に移動させる、
   請求項８に記載の光学アダプタ。
10. 前記遮光部は、絞り部材をさらに有し、
    前記絞り部材は、
    前記右入射光が通過する右開口部と、
    前記左入射光が通過する左開口部と、を有し、
    前記駆動部は、前記遮光部材を、
    前記右開口部と前記左開口部の両方を遮光する両開口遮光の位置と、
    前記右開口部のみを遮光する右開口遮光の位置と、
    前記左開口部のみを遮光する左開口遮光の位置と、に移動させる
    請求項８に記載の光学アダプタ。
11. 前記駆動部は、第一駆動部と、第二駆動部と、を有し、
    前記第一駆動部は、前記遮光部材を、前記右開口遮光の位置と前記左開口遮光の位置とに移動させ、
    前記第二駆動部は、前記遮光部材を、前記両開口遮光の位置に移動させる、
    請求項１０に記載の光学アダプタ。
12. 前記第一駆動部は、第一電磁石を有し、前記第一電磁石に通電する電流の向きに基づき、前記遮光部材を、前記右開口遮光の位置と前記左開口遮光の位置のいずれか一方に移動させ、
    前記第二駆動部は、第二電磁石を有し、前記第二電磁石への通電の有無に基づき、前記遮光部材を前記両開口遮光の位置に移動させる、
    請求項１１に記載の光学アダプタ。
13. 前記第一駆動部は、第一電磁石を有し、前記第一電磁石に通電する電流の向きに基づき、前記遮光部材を、前記右開口遮光の位置と前記左開口遮光の位置のいずれか一方に移動させ、
    前記第二駆動部は、永久磁石を有し、前記遮光部材を前記両開口遮光の位置に移動させる、
    請求項１１に記載の光学アダプタ。
14. 前記駆動部は、第一電磁石と、前記第一電磁石の磁力により回動する回動部と、前記回動部の回動角度を検出する角度検出器を備え、
    前記回動部は前記遮光部材を支持する、
    請求項１０に記載の光学アダプタ。
15. 右光路を通る光と左光路を通る光とを撮像素子に結像させる内視鏡装置において、
    前記右光路から入射する右入射光と前記左光路から入射する左入射光のいずれか一方を遮断する片開口遮光工程と、
    前記右入射光と前記左入射光の両方を遮断する両開口遮光工程を備える、
    ２光路時分割切替方法。
16. 前記片開口遮光工程の前に、前記右入射光と前記左入射光の両方を遮断する第一両開口遮光工程を実施する、
    請求項１５に記載の２光路時分割切替方法。
17. 前記片開口遮光工程の後に、前記右入射光と前記左入射光の両方を遮断する第二両開口遮光工程を実施する、
    請求項１５または請求項１６に記載の２光路時分割切替方法。
18. 前記撮像素子が備える画素のうち、撮像対象の前記画素すべてが露光期間である全露光期間に、前記片開口遮光工程を実施する、
    請求項１６から請求項１７のいずれか一項に記載の２光路時分割切替方法。
19. 右光路および左光路を形成する２光路形成光学系と、
    前記右光路を通る光と前記左光路を通る光とを共通の領域に結像する１つの結像光学系と、
    駆動部と、前記駆動部に駆動される遮光部材と、を有する遮光部と、
    前記遮光部を制御する制御部と、を備える内視鏡装置において、
    前記制御部が、
    前記駆動部を駆動して、前記遮光部材に、前記右光路から前記結像光学系に入射する右入射光と前記左光路から前記結像光学系に入射する左入射光のいずれか一方を遮断させ、
    前記駆動部を駆動して、前記遮光部材に、前記右入射光と前記左入射光の両方を遮断させる、
    内視鏡装置制御プログラム。
20. 前記内視鏡装置は、行列状に配置された複数の画素を備え、前記画素に入射した光の量に応じた撮像信号を生成する撮像素子をさらに備え、
    前記撮像素子は、前記結像光学系の結像位置に配置され、
    前記制御部が、
    前記駆動部を駆動して、撮像対象の前記画素すべてが露光期間である全露光期間に、前記遮光部材に、前記右入射光と前記左入射光のいずれか一方を遮断させる、
    請求項１９に記載の内視鏡装置制御プログラム。

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