JP2019149429A - 成膜方法、半導体デバイスの製造方法及び半導体デバイス - Google Patents
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Abstract
Description
このようなGaN系の発光デバイスでは、GaNやAlGaN等を主成分とする各種GaN系半導体材料を用いた層が積層される。
そこで、近年、このような問題を解決する手段を開発することが求められている。
本発明では、前記スパッタ成膜工程における基板温度が800℃以下である場合にも効果的である。
本発明では、前記窒化ガリウムを主成分とする第1の半導体層が、MO−CVD法又はHVPE法によって形成されたものである場合にも効果的である。
本発明では、前記窒化ガリウムを主成分とする半導体が、窒化ガリウム、窒化インジウムガリウム又は窒化アルミニウムガリウムからなる場合にも効果的である。
また、本発明は、前記窒化ガリウムを主成分とする半導体層が積層されたデバイスを製造する方法であって、上述したいずれかの方法を用い、前記窒化ガリウムを主成分とする第1の半導体層の表面に、前記窒化ガリウムを主成分とする第2の半導体層を形成する工程を有する半導体デバイスの製造方法である。
本発明では、前記第1の半導体層の表面に、上述したいずれかの方法によって形成された前記第2の半導体層が設けられている半導体デバイスである。
本発明では、前記第1の半導体層が発光層である場合にも効果的である。
本明細書において、「窒化ガリウムを主成分とする」とは、ガリウム(Ga)の原子数と窒素(N)の原子数の合計数が、全原子の50原子%よりも多くの割合で含有されていることを意味するものとする。
図1に示すように、この発光ダイオード1は、サファイヤ基板11上に、n型GaN層12、InGaN/GaNによる多重量子井戸(MQW)構造の発光層13、p型AlGaN層14、p型GaN層15が順次形成されたLED基本構造を有している。
他方、n型GaN層12上には、その一部を露出させた部分の表面に負電極1Bが電気的に接触して設けられている。
図2に示すように、この半導体レーザー2は、サファイア基板20上に、窒化アルミニウム化合物からなる低温バッファ層21、結晶欠陥低減層22、n型コンタクト層23、n型AlGaNからなるクラッド層24、n型InGaN/GaNからなる光ガイド層25、InGaN/GaNによる多重量子井戸(MQW)構造の発光層26(第1の半導体層)、p型InGaN/GaNからなる光ガイド層27(第2の半導体層)、p型AlGaNからなるクラッド層28、p型コンタクト層29が順次形成されている。
図3に示すように、本実施の形態に用いる成膜装置3は、真空槽4を有し、この真空槽4の内部には基板配置部50と、スパッタ部30と、ラジカルガン部40とが設けられている。
スパッタ部30とラジカルガン部40とは基板ホルダ51の下方に配置されており、基板ホルダ51に配置された基板5の表面が下方を向くように構成されている。
真空槽4は接地電位に接続されており、スパッタ電源35の動作によってカソード電極32に負電圧のスパッタ電圧が印加され、一方、加熱電源58の動作によってヒータ53に通電がなされてヒータ53が発熱するようになっている。
真空槽4には、装置用容器42が設けられており、反応筒44は、装置用容器42の内部に配置されている。
例えば、上記実施の形態では、図3に示す原料ガスであるN2ガスのラジカルを用いる装置によってスパッタリングを行う場合を例にとって説明したが、本発明はこれに限られず、通常のDCスパッタ装置を用いてGaN層を形成することもできる。
さらに、本発明は、発光ダイオード、半導体レーザーに限られず、種々の半導体デバイスに適用することができるものである。
2……半導体レーザー(半導体デバイス)
3……成膜装置
11……サファイヤ基板
16……Mgを高濃度添加したp+GaN層(第1の半導体層)
17……Siを高濃度添加したn+GaN層(第2の半導体層)
20……サファイヤ基板
26……InGaN/GaNによる多重量子井戸(MQW)構造の発光層(第1の半導体層)
27……p型InGaN/GaNからなる光ガイド層(第2の半導体層)
Claims (7)
- 基板上に設けられた窒化ガリウムを主成分とする半導体からなる第1の半導体層の表面に、窒化ガリウムを主成分とする半導体からなる第2の半導体層を形成する工程を有する成膜方法であって、
前記窒化ガリウムを主成分とする前記第2の半導体層をスパッタリング法によって形成するスパッタ成膜工程を有し、
前記スパッタ成膜工程を、前記窒化ガリウムを主成分とする前記第1の半導体層の分解温度より低い基板温度で行う成膜方法。 - 前記スパッタ成膜工程における基板温度が800℃以下である請求項1記載の成膜方法。
- 前記窒化ガリウムを主成分とする第1の半導体層が、MO−CVD法又はHVPE法によって形成されたものである請求項1又は2のいずれか1項記載の成膜方法。
- 前記窒化ガリウムを主成分とする半導体が、窒化ガリウム、窒化インジウムガリウム又は窒化アルミニウムガリウムからなる請求項1乃至3のいずれか1項記載の成膜方法。
- 前記窒化ガリウムを主成分とする半導体層が積層されたデバイスを製造する方法であって、
請求項1乃至4のいずれか1項に記載の方法を用い、前記窒化ガリウムを主成分とする第1の半導体層の表面に、前記窒化ガリウムを主成分とする第2の半導体層を形成する工程を有する半導体デバイスの製造方法。 - 前記第1の半導体層の表面に、請求項1乃至4のいずれか1項に記載の方法によって形成された前記第2の半導体層が設けられている半導体デバイス。
- 前記第1の半導体層が発光層である請求項6記載の半導体デバイス。
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WO2022054877A1 (ja) * | 2020-09-11 | 2022-03-17 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体素子及び窒化物半導体素子の製造方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004335716A (ja) * | 2003-05-07 | 2004-11-25 | Fujikura Ltd | 白色led |
JP2006237556A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-09-07 | Kanagawa Acad Of Sci & Technol | GaN膜生成方法及び半導体素子並びにIII族窒化物の薄膜生成方法及びIII族窒化物の薄膜を有する半導体素子 |
JP2008159954A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Showa Denko Kk | Iii族窒化物半導体の製造方法、iii族窒化物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物半導体発光素子、並びにランプ |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004335716A (ja) * | 2003-05-07 | 2004-11-25 | Fujikura Ltd | 白色led |
JP2006237556A (ja) * | 2005-01-31 | 2006-09-07 | Kanagawa Acad Of Sci & Technol | GaN膜生成方法及び半導体素子並びにIII族窒化物の薄膜生成方法及びIII族窒化物の薄膜を有する半導体素子 |
JP2008159954A (ja) * | 2006-12-26 | 2008-07-10 | Showa Denko Kk | Iii族窒化物半導体の製造方法、iii族窒化物半導体発光素子の製造方法、及びiii族窒化物半導体発光素子、並びにランプ |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2022054877A1 (ja) * | 2020-09-11 | 2022-03-17 | 日亜化学工業株式会社 | 窒化物半導体素子及び窒化物半導体素子の製造方法 |
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