JP2019101548A - 液晶パネル - Google Patents
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Abstract
【課題】位置検出精度をより高くする。【解決手段】複数の画素電極33と、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成することで位置入力体による入力位置を検出する複数の位置検出電極60と、を備えるアレイ基板30と、画像が表示される表示面55を有すると共にアレイ基板30と対向配置されるCF基板21であって、複数の位置検出電極60と重なる形でそれぞれ配される複数の透明電極28を備えるCF基板21と、アレイ基板30とCF基板21の間に介在される液晶層23と、画像が表示される表示領域A1に配されると共にアレイ基板30とCF基板21の間に介在され、位置検出電極60と透明電極28の双方に当接する導電性のスペーサ56と、を備えることに特徴を有する。【選択図】図4
Description
本発明は、液晶パネルに関する。
従来、タッチパネル機能をインセル化した液晶パネルの一例として下記特許文献1に記載されたものが知られている。特許文献1に記載された液晶パネルは、液晶層を挟む一対の基板のうち一方の基板上に形成された複数の位置検出電極(タッチ電極)と、複数のピクセル電極(画素電極)と、を備える。また、他方の基板には、カラーフィルタが設けられている。
上記構成のように一方の基板に位置検出電極が配されている液晶パネルにおいては、他方の基板が有するタッチ面(表示面)に対して位置入力を行う位置入力体(指など)によるタッチ操作が行われる。この場合、位置入力体と位置検出電極の間には、他方の基板や液晶層が介在される。この結果、位置入力体と位置検出電極の距離が大きくなり、タッチ位置の検出精度が低下し易いという問題点がある。
本発明は上記のような事情に基づいて完成されたものであって、位置検出精度をより高くすることを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の液晶パネルは、複数の画素電極と、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成することで前記位置入力体による入力位置を検出する複数の位置検出電極と、を備える第1基板と、画像が表示される表示面を有すると共に前記第1基板と対向配置される第2基板であって、前記複数の位置検出電極と重なる形でそれぞれ配される複数の透明電極を備える第2基板と、前記第1基板と前記第2基板の間に介在される液晶層と、前記画像が表示される表示領域に配されると共に前記第1基板と前記第2基板の間に介在され、前記位置検出電極と前記透明電極の双方に当接する導電性のスペーサと、を備えることに特徴を有する。
位置検出電極及び透明電極を導電性のスペーサで接続することで、第2基板側の透明電極を位置検出電極として用いることができ、第1基板側の位置検出電極のみを備える構成と比べて、表示面により近い位置に位置検出電極を配することができる。これにより、表示面側に配される位置入力体に対して位置検出電極をより近づけることができ、位置検出精度をより高くすることができる。また、位置検出電極及び透明電極を備えることで、いずれか一方の電極のみ備える構成と比べて位置検出電極の低抵抗化を図ることができ、位置検出精度をより高くすることができる。
本発明によれば、位置検出精度をより高くすることができる。
<実施形態1>
本発明の実施形態1を図1から図6によって説明する。液晶表示装置10は、図1に示すように、液晶パネル11(表示パネル)と、液晶パネル11が備えるドライバ17に対して各種入力信号を供給する制御回路基板12(外部の信号供給源)と、液晶パネル11と外部の制御回路基板12とを電気的に接続するフレキシブル基板13(外部接続部品)と、液晶パネル11に光を供給する外部光源であるバックライト装置14(照明装置)と、を備える。バックライト装置14は、図1に示すように、表側(液晶パネル11側)に向けて開口した略箱形をなすシャーシ18と、シャーシ18内に配された図示しない光源(例えば冷陰極管、LED、有機ELなど)と、シャーシ18の開口部を覆う形で配される図示しない光学部材と、を備える。光学部材は、光源から発せられる光を面状に変換するなどの機能を有するものである。液晶パネル11は画像を表示することが可能な表示領域A1と、表示領域A1を取り囲む非表示領域A2を有する。
本発明の実施形態1を図1から図6によって説明する。液晶表示装置10は、図1に示すように、液晶パネル11(表示パネル)と、液晶パネル11が備えるドライバ17に対して各種入力信号を供給する制御回路基板12(外部の信号供給源)と、液晶パネル11と外部の制御回路基板12とを電気的に接続するフレキシブル基板13(外部接続部品)と、液晶パネル11に光を供給する外部光源であるバックライト装置14(照明装置)と、を備える。バックライト装置14は、図1に示すように、表側(液晶パネル11側)に向けて開口した略箱形をなすシャーシ18と、シャーシ18内に配された図示しない光源(例えば冷陰極管、LED、有機ELなど)と、シャーシ18の開口部を覆う形で配される図示しない光学部材と、を備える。光学部材は、光源から発せられる光を面状に変換するなどの機能を有するものである。液晶パネル11は画像を表示することが可能な表示領域A1と、表示領域A1を取り囲む非表示領域A2を有する。
また、液晶表示装置10は、図1に示すように、液晶パネル11及びバックライト装置14を収容するための表裏一対の外装部材15,16を備えており、表側の外装部材15には、液晶パネル11の表示領域A1に表示された画像を外部から視認させるための開口部19が形成されている。本実施形態に係る液晶表示装置10は、例えば、液晶テレビ、携帯電話(スマートフォンなどを含む)、ノートパソコン(タブレット型ノートパソコンなどを含む)、ウェアラブル端末(スマートウォッチなどを含む)、携帯型情報端末(電子ブックやPDAなどを含む)、携帯型ゲーム機、デジタルフォトフレームなどの各種電子機器に用いられるものである。
液晶パネル11は、図1に示すように、対向状に配される一対の基板21,30と、一対の基板21,30間に介在され、電界印加に伴って光学特性が変化する物質である液晶分子を含む液晶層23(媒質層)と、一対の基板21,30の間に介在されると共に液晶層23を囲むことで液晶層23を封止するシール部材24と、を備える。一対の基板21,30のうち表側(正面側、図1の上側)の基板がCF基板21(対向基板)とされ、裏側(背面側)の基板がアレイ基板30(アクティブマトリクス基板、素子側基板)とされる。なお、液晶層23は、例えばネガ型液晶によって構成されている。
アレイ基板30(第1基板)は、図2に示すように、方形状をなすガラス基板31を有しており、ガラス基板31の一辺(非表示領域A2の一部)には、液晶パネル11を駆動するドライバ17が設けられている。アレイ基板30は、ガラス基板31の内面側にフォトリソグラフィ法によって各種の膜が積層形成されてなるものとされる。また、ガラス基板31の外面側には、図4に示すように、偏光板49が貼り付けられている。表示領域A1においてガラス基板31の内面側(液晶層23側)には、スイッチング素子であるTFT32(Thin Film Transistor:表示素子)及び画素電極33が設けられている。画素電極33は、図3に示すように、表示領域A1において複数個マトリクス状(行列状)に並んでいる。
TFT32は、画素電極33よりも下層に設けられ、表示領域A1において複数個マトリクス状(行列状)に並んでおり、各TFT32が各画素電極33にそれぞれ接続されている。TFT32は、図4に示すように、ゲート電極34と、ソース電極35と、ドレイン電極36と、チャネル部37と、を有する。チャネル部37は、ゲート電極34と重畳する形で配され、チャネル部37とゲート電極34の間にはゲート絶縁膜38が介在されている。チャネル部37は、ソース電極35とドレイン電極36とを繋ぐ形で配されている。チャネル部37、ソース電極35及びドレイン電極36の上層には、絶縁膜46と平坦化膜47とが積層されており、画素電極33は、平坦化膜47上に形成されている。ドレイン電極36は、平坦化膜47に形成されたコンタクトホール45及び絶縁膜46に形成されたコンタクトホール48を介して画素電極33と電気的に接続されている。平坦化膜47(有機絶縁膜)は、例えば、アクリル樹脂(例えばPMMA)等の有機材料からなり、他の絶縁膜38,46,40よりも大きい膜厚を有している。
ゲート電極34、ソース電極35及びドレイン電極36は、例えば、チタン(Ti)及び銅(Cu)の積層膜によって構成されているが、これに限定されない。また、TFT32及び画素電極33の周りには、図3に示すように、ゲート配線50及びソース配線51が格子状をなす形で配されている。ゲート電極34はゲート配線50と接続され、ソース電極35はソース配線51と接続されている。ゲート配線50は、図2に示すゲートドライバ52に接続されている。なお、本実施形態では、左右一対のゲートドライバ52がガラス基板31上にモノリシックに形成されており、複数のゲート配線50の各々が一対のゲートドライバ52のいずれか一方に接続されている。また、ソース配線51は、ドライバ17に接続されている。TFT32は、ドライバ17(ソースドライバ)からソース配線51に供給される信号、及びゲートドライバ52からゲート配線50に供給される信号に基づいて駆動され、その駆動に伴って画素電極33への電位の供給が制御されるようになっている。これにより、TFT32を介してドライバ17及びゲートドライバ52によって画素電極33が駆動される構成となっている。
液晶パネル11では、画像を表示する表示機能と、表示される画像に基づいて使用者が入力する位置(入力位置)を検出するタッチパネル機能(位置入力機能)と、を併有しており、このうちのタッチパネル機能を発揮するためのタッチパネルパターンを一体化(インセル化)している。このタッチパネルパターンは、いわゆる投影型静電容量方式とされており、その検出方式が自己容量方式とされる。タッチパネルパターンは、図2に示すように、アレイ基板30を構成するガラス基板31の板面内にマトリクス状に並んで配される複数の位置検出電極60から構成されている。位置検出電極60は、透明導電膜によって構成されており、表示領域A1に配されている。そして、本実施形態ではアレイ基板30の共通電極39が、複数の位置検出電極60によって構成されている。
位置検出電極60には、位置検出配線61が接続されている。位置検出配線61は、ドライバ17と接続されている。ドライバ17は、複数の位置検出電極60を駆動させることが可能となっている。具体的には、ドライバ17は、表示機能に係る共通信号(基準電位信号)と、タッチ機能に係るタッチ信号(位置検出信号)と、を異なるタイミングで位置検出電極60に供給する。タッチ信号が供給されている状態において、液晶パネル11の使用者が、液晶パネル11の表面(表示面)に導電体である図示しない指(位置入力体)を近づけると、その指と位置検出電極60との間で静電容量が形成されることになる。これにより、指の近くにある位置検出電極60にて検出される静電容量には指が近づくのに伴って変化が生じ、指から遠くにある位置検出電極60とは静電容量が異なるものとなるので、それに基づいて指による入力位置を検出することが可能となる。また、共通信号は、同じタイミングで全ての位置検出電極60に伝送されることで、全ての位置検出電極60が基準電位となり、共通電極39として機能する。
図4に示すように、アレイ基板30において、位置検出電極60は、画素電極33の表側に設けられている。つまり、位置検出電極60(共通電極39)は、複数の画素電極33に対して液晶層23に近い側に配されている。画素電極33と位置検出電極60の間には絶縁膜40が介在されている。なお、ゲート絶縁膜38や絶縁膜40,46は、例えば、二酸化珪素(SiO2)及び窒化シリコン(SiNx)の積層膜によって構成されているが、これに限定されない。画素電極33、位置検出電極60は、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)などの透明電極膜によって構成されているが、これに限定されない。また、位置検出電極60には、例えば複数本のスリット53が形成されている(図3参照)。
画素電極33が充電されるのに伴って互いに重畳する画素電極33と位置検出電極60との間に電位差が生じると、位置検出電極60のスリット開口縁と画素電極33との間には、アレイ基板30の板面に沿う成分に加えて、アレイ基板30の板面に対する法線方向の成分を含むフリンジ電界(斜め電界)が生じるので、そのフリンジ電界を利用して液晶層23に含まれる液晶分子の配向状態を制御することができる。つまり、本実施形態に係る液晶パネル11は、動作モードがFFS(Fringe Field Switching)モードとされている。また、位置検出電極60を液晶層23側から覆う形で配向膜54が配されている。なお、図3では、位置検出電極60を網掛けで示しており、位置検出電極60は、複数の画素電極33に対して重畳する形で配されている。また、図3に示すように、X軸方向について隣り合う2つの位置検出電極60の間には、隙間S1が設けられ、隙間S1は、ソース配線51と重なる形で配されている。Y軸方向について隣り合う2つの位置検出電極60の間には、隙間S2が設けられ、隙間S2は、ゲート配線50と重なる形で配されている。
CF基板21(第2基板)は、アレイ基板30と対向配置されている。CF基板21は、図4及び図5に示すように、ガラス基板25の内面側(液晶層23側)に、カラーフィルタ26、オーバーコート膜27、透明電極28、配向膜29が積層されることで構成されている。カラーフィルタ26は、マトリクス状に配列されるR(赤色),G(緑色),B(青色)の三色の着色部(図5では二色分の着色部を図示)を備えている。各着色部は、アレイ基板30の各画素と対向配置されている。隣り合う着色部の間には、ブラックマトリクス22が設けられている。また、ガラス基板25の外面側には、偏光板20が貼り付けられている。なお、CF基板21の表面(偏光板20の外面)は、画像が表示される表示面55とされる。
透明電極28は、例えば、ITO(Indium Tin Oxide)やIZO(Indium Zinc Oxide)などの透明電極膜によって構成されているが、これに限定されない。位置検出電極60及び透明電極28はそれぞれ方形板状をなし、図5に示すように、複数の透明電極28の各々が、複数の位置検出電極60の各々と重なる形でそれぞれ配されている。このため、図5に示すように隣り合う2つの透明電極28間の隙間S3は、隣り合う2つの位置検出電極60間の隙間(図5のS1参照)と重なる形で配されている。表示領域A1において、CF基板21とアレイ基板30の間には、CF基板21とアレイ基板30の対向間隔を規定するためのスペーサ56が介在されている。図4に示すように、スペーサ56は柱状をなし、位置検出電極60と透明電極28の双方に当接すると共に導電性を有している。これにより、透明電極28は、位置検出電極60と電気的に接続され、CF基板21側の位置検出電極(及び共通電極)として機能する。なお、スペーサ56の形成箇所においては、配向膜29,54に貫通孔57,58がそれぞれ形成されており、透明電極28及び位置検出電極60が部分的に露出されている。
透明電極28は、スペーサ56を介して対向配置される位置検出電極60と電気的に接続されている。つまり、複数の透明電極28の各々と複数の位置検出電極60の各々とが各スペーサ56によってそれぞれ接続されている。スペーサ56は1枚の位置検出電極60について少なくとも1つ以上配されている。なお、図2では、複数のスペーサ56のうち、一部のみを図示している。スペーサ56は、導電材料によって構成されることで導電性を有するものとされる。また、スペーサ56の内部に金属粒子(金粒子、銀粒子、銅粒子等)などの導電性粒子を含有させることで導電性を付与させる構成としてもよい。
次に本実施形態の効果について説明する。本実施形態の効果を説明するための比較例として液晶パネル2を図6に示す。液晶パネル2では、スペーサ3が導電性を有しておらず、透明導電膜4がガラス基板25の外面側に配されている。この透明導電膜4は、CF基板6の帯電を抑制する機能を担っており、位置検出電極(共通電極)の機能を有していない。つまり、位置検出電極(共通電極)はアレイ基板5側のみに設けられている。これに対して本実施形態では、位置検出電極60及び透明電極28(CF基板21側の透明導電膜)を導電性のスペーサ56で接続することで、CF基板21側の透明電極28を位置検出電極として用いることができる。これにより、アレイ基板30側の位置検出電極60のみを備える構成と比べて、表示面55により近い位置に位置検出電極を配することができる。これにより、表示面55側に配される位置入力体に対して位置検出電極をより近づけることができ、位置検出精度をより高くすることができる。また、位置検出電極60及び透明電極28を備えることで、いずれか一方の電極のみを備える構成と比べて、位置検出電極の低抵抗化を図ることができる。このため、位置検出電極の抵抗に起因した位置検出信号の遅延を抑制することができるから、位置検出精度をより高くすることができる。
また、CF基板21に透明電極28を設けることで、CF基板21が静電気によって帯電する事態を抑制でき、液晶層23の配向が乱れる事態を抑制することができる。また、図6の比較例と本実施形態とは、透明導電膜(透明導電膜4又は透明電極28)をCF基板に形成する点においては同じであるため、本実施形態は、比較例に対して工数が増加することがない。また、スペーサ56は、表示領域A1の全域に適宜配置することができる。仮にシール部材24に導電性を持たせて位置検出電極60と透明電極28とを接続する構成では、マトリクス状に配列された複数の位置検出電極60のうち、外周側に配された位置検出電極60と透明電極28しか接続することができないが、スペーサ56であれば、複数の位置検出電極60の各々と複数の透明電極28の各々をそれぞれ接続することができる。
また、アレイ基板30には、複数の画素電極33と複数の位置検出電極60とをそれぞれ駆動させることが可能なドライバ17が設けられている。ドライバ17から位置検出電極60に供給された駆動信号(タッチ機能に係るタッチ信号)は、スペーサ56を介して透明電極28に供給される。このようにすれば、透明電極28に駆動信号を供給するためのドライバ17をCF基板21に設ける必要がない。また、ドライバ17は、画素電極33を駆動させることが可能な構成であるため、画素電極用のドライバと位置検出電極用のドライバを個別に備える構成と比べて、より簡易な構成とすることができる。
また、位置検出電極60は、複数の画素電極33に対して液晶層23に近い側に配されている。このような構成とすれば、位置検出電極60と透明電極28の間に画素電極33が配されることがなく、画素電極33とスペーサ56とが干渉することがないため、スペーサ56の配置箇所に係る設計の自由度をより高くすることができる。また、画素電極33と透明電極28の間に位置検出電極60が配されることから、仮に液晶層23内に導電性の異物が侵入した場合において、画素電極33と透明電極28とがその異物によって電気的に接続される事態を抑制することができる。
また、位置検出電極60は、複数の画素電極33に対して重畳する共通電極39を構成する。位置検出電極60と共通電極39とを兼用することで部品点数の増加を抑制できる。また、位置検出電極60とスペーサ56によって接続されている透明電極28も共通電極として用いることができる。これにより、位置検出電極60のみを共通電極として用いる構成と比べて、共通電極の低抵抗化を図ることができる。この結果、共通電極に供給される共通信号の遅延(鈍り)を抑制することができ、表示品位をより高くすることができる。
また、液晶層23は、ネガ型液晶によって構成されている。仮に液晶層23としてポジ型液晶を用いた場合には、画素電極33と透明電極28の間に電位差が生じた場合において、液晶分子が垂直配向となり、光透過率が低減する。ネガ型液晶では、画素電極33と透明電極28の間に電位差が生じた場合において、液晶分子が水平配向であるから、液晶層23の光透過率が低減する事態を抑制することができる。なお、本実施形態においてポジ型液晶を用いることも可能であるが、上述の理由によりネガ型液晶を用いることがより好ましい。
<実施形態2>
次に、本発明の実施形態2を図7によって説明する。上記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。本実施形態の液晶パネル211では、スペーサの構成が上記実施形態と相違する。本実施形態のスペーサ256は、図7に示すように、位置検出電極60から透明電極28側に突出する第1突起部257と、透明電極28から位置検出電極60側に突出し、第1突起部257の突出端部に当接する突出端部を有する第2突起部258と、を備える。本実施形態では、アレイ基板30を製造する過程では、位置検出電極60上に第1突起部257を設けた後、配向膜54(位置検出電極と液晶層の間に介在される第1配向膜)を形成する。CF基板21を製造する過程では、透明電極28上に第2突起部258を設けた後、配向膜29(透明電極と液晶層の間に介在される第2配向膜)を形成する。
次に、本発明の実施形態2を図7によって説明する。上記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。本実施形態の液晶パネル211では、スペーサの構成が上記実施形態と相違する。本実施形態のスペーサ256は、図7に示すように、位置検出電極60から透明電極28側に突出する第1突起部257と、透明電極28から位置検出電極60側に突出し、第1突起部257の突出端部に当接する突出端部を有する第2突起部258と、を備える。本実施形態では、アレイ基板30を製造する過程では、位置検出電極60上に第1突起部257を設けた後、配向膜54(位置検出電極と液晶層の間に介在される第1配向膜)を形成する。CF基板21を製造する過程では、透明電極28上に第2突起部258を設けた後、配向膜29(透明電極と液晶層の間に介在される第2配向膜)を形成する。
電極と液晶層の間に配向膜が介在されている構成において、仮に配向膜を形成した後、スペーサを配置する場合には、配向膜の一部をエッチング等によって除去し、電極を露出させた上で、スペーサと電極を接触させる必要がある。本実施形態では、電極(位置検出電極60及び透明電極28)に突起部(第1突起部257及び第2突起部258)を設けることで、その電極を配向膜で覆った際には、突起部の形成箇所において配向膜が形成される事態を抑制することができる。このため、スペーサ256を一対の突起部(第1突起部257及び第2突起部258)によって構成することで、配向膜29及び配向膜54を部分的に除去する作業(言い換えると配向膜29,54に貫通孔57,58を形成する作業)を廃止することができる。
<実施形態3>
次に、本発明の実施形態3を図8から図10によって説明する。上記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。本実施形態の液晶パネル311では、位置検出電極と画素電極の配置態様が上記実施形態と相違する。本実施形態のアレイ基板330においては、図8及び図9に示すように、複数の画素電極333は、共通電極を構成する位置検出電極360に対して液晶層23に近い側に配されている。画素電極333は、絶縁膜40,46及び平坦化膜47にそれぞれ形成されたコンタクトホール342,345,348を介してドレイン電極36と接続されている。また、本実施形態では、図8に示すように画素電極333に複数のスリット353が形成されている。図10に示すように、スペーサ356は、位置検出電極360及び透明電極28の双方に当接されている。スペーサ356の形成箇所においては、配向膜29,54に貫通孔57,58が形成され、絶縁膜40に貫通孔341が形成されている。これにより、透明電極28及び位置検出電極360が部分的に露出されている。本実施形態によれば、画素電極333と位置検出電極360の間に電位差を生じさせると共に画素電極333と透明電極28の間に電位差を生じさせることで、実施形態1、2の構成に比べて、より強い電界を生じさせることができ、液晶層23の光透過率をより高くすることができる。
次に、本発明の実施形態3を図8から図10によって説明する。上記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。本実施形態の液晶パネル311では、位置検出電極と画素電極の配置態様が上記実施形態と相違する。本実施形態のアレイ基板330においては、図8及び図9に示すように、複数の画素電極333は、共通電極を構成する位置検出電極360に対して液晶層23に近い側に配されている。画素電極333は、絶縁膜40,46及び平坦化膜47にそれぞれ形成されたコンタクトホール342,345,348を介してドレイン電極36と接続されている。また、本実施形態では、図8に示すように画素電極333に複数のスリット353が形成されている。図10に示すように、スペーサ356は、位置検出電極360及び透明電極28の双方に当接されている。スペーサ356の形成箇所においては、配向膜29,54に貫通孔57,58が形成され、絶縁膜40に貫通孔341が形成されている。これにより、透明電極28及び位置検出電極360が部分的に露出されている。本実施形態によれば、画素電極333と位置検出電極360の間に電位差を生じさせると共に画素電極333と透明電極28の間に電位差を生じさせることで、実施形態1、2の構成に比べて、より強い電界を生じさせることができ、液晶層23の光透過率をより高くすることができる。
<実施形態4>
次に、本発明の実施形態4を図11によって説明する。上記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。本実施形態の液晶パネル411では、スペーサの構成が上記実施形態3と相違する。本実施形態のスペーサ456は、図11に示すように、位置検出電極360から透明電極28側に突出する第1突起部457と、透明電極28から位置検出電極360側に突出し、第1突起部457の突出端部に当接する突出端部を有する第2突起部458と、を備える。本実施形態では実施形態2と同様に、スペーサ456を一対の突起部(第1突起部457及び第2突起部458)によって構成することで、配向膜29及び配向膜54を部分的に除去する作業を廃止することができる。
次に、本発明の実施形態4を図11によって説明する。上記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。本実施形態の液晶パネル411では、スペーサの構成が上記実施形態3と相違する。本実施形態のスペーサ456は、図11に示すように、位置検出電極360から透明電極28側に突出する第1突起部457と、透明電極28から位置検出電極360側に突出し、第1突起部457の突出端部に当接する突出端部を有する第2突起部458と、を備える。本実施形態では実施形態2と同様に、スペーサ456を一対の突起部(第1突起部457及び第2突起部458)によって構成することで、配向膜29及び配向膜54を部分的に除去する作業を廃止することができる。
<実施形態5>
次に、本発明の実施形態5を図12によって説明する。上記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。本実施形態の液晶パネル511では、複数の位置検出電極60と複数の透明電極28とは互いに同じ方形状をなしており、各位置検出電極60に対して各透明電極28が面方向(X軸方向及びY軸方向)についてわずかに位置ずれする形で配されている。これにより、位置検出電極60の外周端部が隣り合う2つの透明電極28の間の隙間S3,S4を覆う構成となっている。また、透明電極28の外周端部が隣り合う2つの位置検出電極60の間の隙間S1,S2を覆う構成となっている。言い換えると、X軸方向において隣り合う2つの位置検出電極60の間の隙間S1と、隣り合う2つの透明電極28の間の隙間S3とが重ならない構成となっており、Y軸方向において隣り合う2つの位置検出電極60の間の隙間S2と、隣り合う2つの透明電極28の間の隙間S4とが重ならない構成となっている。
次に、本発明の実施形態5を図12によって説明する。上記実施形態と同一部分には、同一符号を付して重複する説明を省略する。本実施形態の液晶パネル511では、複数の位置検出電極60と複数の透明電極28とは互いに同じ方形状をなしており、各位置検出電極60に対して各透明電極28が面方向(X軸方向及びY軸方向)についてわずかに位置ずれする形で配されている。これにより、位置検出電極60の外周端部が隣り合う2つの透明電極28の間の隙間S3,S4を覆う構成となっている。また、透明電極28の外周端部が隣り合う2つの位置検出電極60の間の隙間S1,S2を覆う構成となっている。言い換えると、X軸方向において隣り合う2つの位置検出電極60の間の隙間S1と、隣り合う2つの透明電極28の間の隙間S3とが重ならない構成となっており、Y軸方向において隣り合う2つの位置検出電極60の間の隙間S2と、隣り合う2つの透明電極28の間の隙間S4とが重ならない構成となっている。
隣り合う2つの透明電極間の隙間においては、電極間の電界により透明電極の配置箇所に比べて液晶の配向制御が難しく(例えば光透過率が高くなり易く)、表示ムラになり易い。本実施形態では、隣り合う2つの位置検出電極60の間の隙間S1,S2を透明電極28で覆うと共に隣り合う透明電極28間の隙間S3,S4を位置検出電極60で覆うことで、隙間S1,S2,S3,S4の光透過率がその隙間の周囲の部分よりも高くなる事態を抑制でき、表示ムラを低減することができる。なお、対向配置される一対の位置検出電極60及び透明電極28をスペーサ56によって接続する場合には、スペーサ56は、一対の位置検出電極60及び透明電極28が重なる箇所に配置する必要がある。つまり、位置検出電極60に対する透明電極28の位置ずれ量が多い程、一対の位置検出電極60及び透明電極28が重なる箇所は少なくなり、スペーサ56の配置可能な領域が少なくなる。このため、位置検出電極60に対する透明電極28の位置ずれ量は、より少ない方が好ましく、例えば1〜数画素程度とすることが好ましい。
<他の実施形態>
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
(1)上記実施形態では、液晶パネルの動作モードがFFSモードである構成を例示したが、これに限定されない。例えば、液晶パネルの動作モードとしてTNモードやVAモード等を用いてもよい。なお、TNモードやVAモードを用いる場合には、実施形態3又は実施形態4の構成において、アレイ基板330側の透明電極である位置検出電極360を補助容量(蓄積容量)を構成するための補助容量電極として用い、補助容量電極の電位を共通電位とを同一にすればよい。
(2)スペーサの形状は柱状に限定されず適宜変更可能である。例えば、スペーサが半球状をなしていてもよい。
本発明は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本発明の技術的範囲に含まれる。
(1)上記実施形態では、液晶パネルの動作モードがFFSモードである構成を例示したが、これに限定されない。例えば、液晶パネルの動作モードとしてTNモードやVAモード等を用いてもよい。なお、TNモードやVAモードを用いる場合には、実施形態3又は実施形態4の構成において、アレイ基板330側の透明電極である位置検出電極360を補助容量(蓄積容量)を構成するための補助容量電極として用い、補助容量電極の電位を共通電位とを同一にすればよい。
(2)スペーサの形状は柱状に限定されず適宜変更可能である。例えば、スペーサが半球状をなしていてもよい。
11,211,311,411,511…液晶パネル、17…ドライバ、21…CF基板(第2基板)、23…液晶層、28…透明電極、29…配向膜(第2配向膜)、30,330…アレイ基板(第1基板)、33,333…画素電極、39…共通電極、54…配向膜(第1配向膜)、55…表示面、56,256,356,456…スペーサ、60,360…位置検出電極、257,457…第1突起部、258,458…第2突起部、A1…表示領域、S3,S4…隣り合う2つの透明電極の間の隙間
Claims (7)
- 複数の画素電極と、位置入力を行う位置入力体との間で静電容量を形成することで前記位置入力体による入力位置を検出する複数の位置検出電極と、を備える第1基板と、
画像が表示される表示面を有すると共に前記第1基板と対向配置される第2基板であって、前記複数の位置検出電極と重なる形でそれぞれ配される複数の透明電極を備える第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板の間に介在される液晶層と、
前記画像が表示される表示領域に配されると共に前記第1基板と前記第2基板の間に介在され、前記位置検出電極と前記透明電極の双方に当接する導電性のスペーサと、を備える液晶パネル。 - 前記位置検出電極は、前記複数の画素電極に対して前記液晶層に近い側に配されている請求項1に記載の液晶パネル。
- 前記位置検出電極は、前記複数の画素電極に対して重畳する共通電極を構成する請求項1又は請求項2に記載の液晶パネル。
- 前記位置検出電極は、前記複数の画素電極に対して重畳する共通電極を構成するものとされ、
前記複数の画素電極は、前記位置検出電極に対して前記液晶層に近い側に配されている請求項1に記載の液晶パネル。 - 前記液晶層は、ネガ型液晶によって構成されている請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の液晶パネル。
- 前記スペーサは、前記位置検出電極から前記透明電極側に突出する第1突起部と、前記透明電極から前記位置検出電極側に突出し、前記第1突起部の突出端部に当接する突出端部を有する第2突起部と、を備え、
前記第1基板は、前記位置検出電極と前記液晶層の間に介在される第1配向膜を備え、
前記第2基板は、前記透明電極と前記液晶層の間に介在される第2配向膜を備える請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の液晶パネル。 - 前記複数の位置検出電極と前記複数の透明電極とは互いに同じ方形状をなしており、
前記位置検出電極の外周端部が隣り合う2つの前記透明電極の間の隙間を覆う構成である請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の液晶パネル。
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