JP2018530912A - 半導体ウエハ検査のためのイメージング性能を最適化する方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2015年8月28日に出願した米国仮出願第62/211,288号の米国特許法第119(e)による利益を主張する。この米国仮出願第62/211,288号は、全体として本願に引用して援用する。
Claims (20)
- 対象物へ検査光を送達するように構成された光学構成要素と、
前記対象物へ送達された前記検査光に少なくとも一部基づいて前記対象物の画像を得るように構成された検出器と、
前記光学構成要素および前記検出器と通信するプロセッサであって、
前記検出器によって取得された前記対象物の前記画像に基づいて前記光学構成要素の収差を測定し、
前記収差の変化を補償するように前記光学構成要素を調整する
ように構成されたプロセッサと、
を備えることを特徴とする検査システム。 - 請求項1に記載の検査システムであって、前記対象物は、ウエハを含むことを特徴とする検査システム。
- 請求項2に記載の検査システムであって、前記対象物は基準チップをさらに含み、前記基準チップは、前記検出器の視野内に配置されるように構成され、前記検査光が前記ウエハへ送達されるときに、前記ウエハと同一平面上にあるように保持されるように構成されることを特徴とする検査システム。
- 請求項3に記載の検査システムであって、前記プロセッサは、前記検出器によって取得された前記基準チップの前記画像に基づいて前記光学構成要素の前記収差を測定するように構成されていることを特徴とする検査システム。
- 請求項1に記載の検査システムであって、前記プロセッサは、前記光学構成要素の前記収差を1つ以上の変数の関数としてモデル化するようにさらに構成されていることを特徴とする検査システム。
- 請求項5に記載の検査システムであって、前記光学構成要素の前記収差は、時間、温度、または圧力の関数としてモデル化されることを特徴とする検査システム。
- 請求項5に記載の検査システムであって、前記プロセッサは、前記関数を利用し、前記光学構成要素の前記収差の測定をいつトリガするかを決定するようにさらに構成されていることを特徴とする検査システム。
- 請求項1に記載の検査システムであって、前記プロセッサは、1つ以上の収差マニピュレータを調整することによって前記光学構成要素を調整するように構成されていることを特徴とする検査システム。
- 請求項8に記載の検査システムであって、前記1つ以上の収差マニピュレータは、レンズ偏心マニピュレータを含むことを特徴とする検査システム。
- ウエハへ検査光を送達するように構成された光学構成要素と、
前記ウエハへ送達された前記検査光に少なくとも一部基づいて前記ウエハの画像を取得するように構成された検出器と、
前記光学構成要素および前記検出器と通信するプロセッサであって、
前記光学構成要素の収差を測定し、
前記収差の変化を補償するように前記光学構成要素を調整する
ように構成されたプロセッサと
を備えることを特徴とする検査システム。 - 請求項10に記載の検査システムであって、
前記検出器の視野内に配置されるように構成され、前記検査光が前記ウエハへ送達されるときに、前記ウエハと同一平面上にあるように保持されるように構成された基準チップを含むことを特徴とする検査システム。 - 請求項11に記載の検査システムであって、前記検出器は、前記光学構成要素によって送達された前記検査光に少なくとも一部基づいて前記基準チップの画像を取得するようにさらに構成され、前記プロセッサは、前記検出器によって取得された前記基準チップの前記画像に基づいて前記光学構成要素の前記収差を測定するようにさらに構成されることを特徴とする検査システム。
- 請求項10に記載の検査システムであって、前記プロセッサは、前記光学構成要素の前記収差を1つ以上の変数の関数としてモデル化するようにさらに構成されていることを特徴とする検査システム。
- 請求項13に記載の検査システムであって、前記光学構成要素の前記収差は、時間、温度、または圧力の関数としてモデル化されることを特徴とする検査システム。
- 請求項13に記載の検査システムであって、前記プロセッサは、前記関数を利用し、前記光学構成要素の前記収差の測定をいつトリガするかを決定するようにさらに構成されていることを特徴とする検査システム。
- 請求項10に記載の検査システムであって、前記プロセッサは、1つ以上の収差マニピュレータを調整することによって前記光学構成要素を調整するように構成されていることを特徴とする検査システム。
- 検査システムのイメージング性能を調整する方法であって、
光学構成要素を通じて対象物へ検査光を送達するステップと、
前記対象物へ送達された前記検査光に少なくとも一部基づいて前記対象物の画像を取得するステップと、
前記対象物の前記画像に基づいて前記光学構成要素の収差を測定するステップと、
前記収差の変化を補償するように前記光学構成要素を調整するステップと
を含むことを特徴とする方法。 - 請求項17に記載の方法であって、前記対象物は、基準チップを含み、前記光学構成要素の前記収差は、前記基準チップの前記画像に基づいて測定されることを特徴とする方法。
- 請求項17に記載の方法であって、
前記光学構成要素の前記収差を1つ以上の変数の関数としてモデル化するステップをさらに含むことを特徴とする方法。 - 請求項19に記載の方法であって、
前記関数に少なくとも一部基づいて前記測定するステップをいつトリガするかを決定するステップをさらに含むことを特徴とする方法。
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JP2016109592A (ja) | 屈折率分布計測方法、屈折率分布計測装置、及び光学素子の製造方法 |
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