JP2018179514A - Radiation detector - Google Patents

Radiation detector Download PDF

Info

Publication number
JP2018179514A
JP2018179514A JP2017073570A JP2017073570A JP2018179514A JP 2018179514 A JP2018179514 A JP 2018179514A JP 2017073570 A JP2017073570 A JP 2017073570A JP 2017073570 A JP2017073570 A JP 2017073570A JP 2018179514 A JP2018179514 A JP 2018179514A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
scintillator
surface portion
array substrate
photoelectric conversion
opposite
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017073570A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP6948815B2 (en
Inventor
勇一 榛葉
Yuichi Shinba
勇一 榛葉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Electron Tubes and Devices Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Electron Tubes and Devices Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Electron Tubes and Devices Co Ltd filed Critical Toshiba Electron Tubes and Devices Co Ltd
Priority to JP2017073570A priority Critical patent/JP6948815B2/en
Publication of JP2018179514A publication Critical patent/JP2018179514A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6948815B2 publication Critical patent/JP6948815B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Measurement Of Radiation (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation detector capable of suppressing the uneven thickness of an adhesion layer.SOLUTION: A radiation detector according to an embodiment comprises: an array substrate including a substrate and a plurality of photoelectric conversion units provided on one surface side of the substrate; a scintillator provided on the plurality of photoelectric conversion units and converting radiation ray to fluorescent light; a moisture-proof body including a surface part facing an upper surface of the scintillator, a peripheral surface part provided in a peripheral edge of the surface part and facing a side surface of the scintillator, a frame-like collar part provided in an end part on the side opposite to the surface part side of the peripheral surface part and facing the array substrate, and a salient protruding from the surface part to the side opposite to the scintillator side; and an adhesion layer provided between the collar part and the array substrate. A side part on the side opposite to the center side of the surface part of the salient is connected to the peripheral surface part.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本発明の実施形態は、放射線検出器に関する。   Embodiments of the present invention relate to radiation detectors.

放射線検出器の一例にX線検出器がある。X線検出器には、X線を可視光すなわち蛍光に変換するシンチレータと、蛍光を信号電荷に変換する光電変換部を有するアレイ基板とが設けられている。また、蛍光の利用効率を高めて感度特性を改善するために、シンチレータの上に反射層をさらに設ける場合もある。   An example of a radiation detector is an X-ray detector. The X-ray detector is provided with a scintillator that converts X-rays into visible light, that is, fluorescence, and an array substrate having a photoelectric conversion unit that converts fluorescence into signal charges. In addition, a reflective layer may be further provided on the scintillator in order to enhance the utilization efficiency of fluorescence and improve the sensitivity characteristic.

ここで、水蒸気などに起因する解像度特性の劣化を抑制するために、シンチレータと反射層は、外部雰囲気から隔離する必要がある。特に、シンチレータが、CsI(ヨウ化セシウム):Tl(タリウム)やCsI:Na(ナトリウム)などからなる場合には、湿度などによる解像度特性の劣化が大きくなるおそれがある。
そのため、高い防湿性能を得られる構造として、シンチレータと反射層をハット形状の防湿体で覆い、防湿体のつば(鍔)部をアレイ基板と接着する技術が提案されている。
Here, in order to suppress the deterioration of resolution characteristics caused by water vapor and the like, the scintillator and the reflective layer need to be separated from the external atmosphere. In particular, when the scintillator is made of CsI (cesium iodide): Tl (thallium), CsI: Na (sodium) or the like, deterioration of resolution characteristics due to humidity or the like may increase.
Therefore, as a structure capable of obtaining high moisture-proof performance, a technique has been proposed in which the scintillator and the reflection layer are covered with a hat-shaped moisture-proof body, and the rim of the moisture-proof body is adhered to the array substrate.

また、大気圧よりも減圧された環境において、防湿体のつば部をアレイ基板に接着する技術が提案されている。この様にすれば、ハット形状の防湿体の内側にある水蒸気を含む空気を除去することができる。また、ハット形状の防湿体の内側の圧力を大気圧よりも低くすることができるので、航空機による輸送などのようにX線検出器が大気圧よりも減圧された環境に置かれた場合に防湿体に作用する力を低減させることができる。   In addition, there has been proposed a technique for bonding the rim portion of the moisture-proof body to the array substrate in an environment decompressed below atmospheric pressure. In this way, air containing water vapor inside the hat-shaped moisture-proof body can be removed. In addition, since the pressure inside the hat-shaped moisture-proof body can be made lower than the atmospheric pressure, the moisture-proof when the X-ray detector is placed in a pressure lower than the atmospheric pressure, such as transportation by aircraft. The force acting on the body can be reduced.

この場合、大気圧よりも減圧された環境において接着剤の塗布と接着剤の硬化を行うと製造装置の構成が複雑となる。そのため、一般的には、大気圧の環境においてつば部またはアレイ基板に接着剤を塗布し、その後、大気圧よりも減圧された環境においてつば部とアレイ基板を接着剤を介して圧着し、続いて、大気圧の環境において接着剤を硬化させるようにしている。   In this case, if the application of the adhesive and the curing of the adhesive are performed in an environment decompressed below atmospheric pressure, the configuration of the manufacturing apparatus becomes complicated. Therefore, generally, an adhesive is applied to the collar or array substrate in an atmospheric pressure environment, and then the collar and the array substrate are crimped through the adhesive in an environment reduced in pressure from atmospheric pressure, and then The adhesive cures in an atmosphere at atmospheric pressure.

ところが、大気圧の環境において接着剤を硬化させると、大気圧によりハット形状の防湿体が変形し、つば部の先端側が持ち上がる場合がある。つば部の先端側が持ち上がると、つば部とアレイ基板との間に形成される接着層の厚みが不均一となる。接着層の厚みが不均一になると、厚みが薄くなった部分を支点として、つば部を持ち上げる方向に力が加わりやすくなり、接着層の剥がれが生じるおそれがある。また、接着層の幅が短い部分が生じ、接着強度が低下したり、水蒸気が接着層を透過しやすくなったりするおそれがある。
そのため、接着層の厚みが不均一となるのを抑制することができる技術の開発が望まれていた。
However, when the adhesive is cured in an environment at atmospheric pressure, the hat-shaped moisture-proof body may be deformed by the atmospheric pressure, and the tip end side of the flange may be lifted. When the tip end of the flange is lifted, the thickness of the adhesive layer formed between the flange and the array substrate becomes nonuniform. If the thickness of the adhesive layer becomes uneven, a force tends to be applied in the direction of lifting the collar with the portion having the reduced thickness as a fulcrum, and the adhesive layer may be peeled off. In addition, a part where the width of the adhesive layer is short may occur, which may reduce the adhesive strength, or water vapor may easily permeate the adhesive layer.
Therefore, development of the technique which can suppress that the thickness of a contact bonding layer becomes non-uniform | heterogenous was desired.

特開2012−37454号公報JP 2012-37454 A 特開2010−210580号公報JP, 2010-210580, A

本発明が解決しようとする課題は、接着層の厚みが不均一となるのを抑制することができる放射線検出器を提供することである。   Problem to be solved by the invention is providing the radiation detector which can suppress that the thickness of an adhesive layer becomes non-uniform | heterogenous.

実施形態に係る放射線検出器は、基板と、前記基板の一方の面側に設けられた複数の光電変換部と、を有するアレイ基板と、前記複数の光電変換部の上に設けられ、放射線を蛍光に変換するシンチレータと、前記シンチレータの上面に対峙する表面部と、前記表面部の周縁に設けられ前記シンチレータの側面に対峙する周面部と、前記周面部の前記表面部側とは反対側の端部に設けられ前記アレイ基板に対峙する枠状のつば部と、前記表面部から前記シンチレータ側とは反対側に突出する凸部と、を有する防湿体と、前記つば部と前記アレイ基板との間に設けられた接着層と、を備えている。
前記凸部の前記表面部の中心側とは反対側の側部は、前記周面部と接続されている。
The radiation detector according to the embodiment is provided on an array substrate including a substrate and a plurality of photoelectric conversion units provided on one surface side of the substrate, and the plurality of photoelectric conversion units, and the radiation is detected. A scintillator to be converted into fluorescence, a surface portion facing the upper surface of the scintillator, a peripheral surface portion provided on the periphery of the surface portion facing the side surface of the scintillator, and a side opposite to the surface portion side of the peripheral surface portion A moisture-proof body having a frame-like flange provided at an end and facing the array substrate, and a protrusion projecting from the surface toward the opposite side of the scintillator, and the flange and the array substrate And an adhesive layer provided between the two.
The side portion of the convex portion opposite to the center side of the surface portion is connected to the circumferential surface portion.

本実施の形態に係るX線検出器1を例示するための模式斜視図である。FIG. 1 is a schematic perspective view for illustrating an X-ray detector 1 according to the present embodiment. X線検出器1の模式断面図である。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the X-ray detector 1; (a)は防湿体7の模式正面図であり、(b)は防湿体7の模式側面図である。(A) is a schematic front view of the moisture-proof body 7, (b) is a schematic side view of the moisture-proof body 7. (a)は他の実施形態に係る凸部7dの模式正面図であり、(b)は他の実施形態に係る凸部7dの模式側面図である。(A) is a schematic front view of convex part 7d which concerns on other embodiment, (b) is a model side view of convex part 7d which concerns on other embodiment. (a)、(b)は、比較例に係る防湿体70の接着を例示するための模式断面図である。(A), (b) is a schematic cross section for illustrating adhesion of moisture-proof object 70 concerning a comparative example. (a)、(b)は、本実施の形態に係る防湿体7の接着を例示するための模式断面図である。(A), (b) is a schematic cross section for illustrating adhesion of moisture-proof object 7 concerning this embodiment.

以下、図面を参照しつつ、実施の形態について例示をする。なお、各図面中、同様の構成要素には同一の符号を付して詳細な説明は適宜省略する。
また、本発明の実施形態に係る放射線検出器は、X線のほかにもγ線などの各種放射線に適用させることができる。ここでは、一例として、放射線の中の代表的なものとしてX線に係る場合を例にとり説明をする。したがって、以下の実施形態の「X線」を「他の放射線」に置き換えることにより、他の放射線にも適用させることができる。
Hereinafter, embodiments will be illustrated with reference to the drawings. In the drawings, the same components are denoted by the same reference numerals and the detailed description will be appropriately omitted.
Moreover, the radiation detector according to the embodiment of the present invention can be applied to various types of radiation such as γ-rays in addition to X-rays. Here, as an example, a case related to X-rays will be described as a representative example of radiation. Therefore, other radiation can also be applied by replacing “X-ray” in the following embodiments with “other radiation”.

図1は、本実施の形態に係るX線検出器1を例示するための模式斜視図である。
なお、煩雑となるのを避けるために、図1においては、保護層2f、反射層6、防湿体7、接着層8などを省いて描いている。
図2は、X線検出器1の模式断面図である。
なお、煩雑となるのを避けるために、図2においては、信号処理部3、画像伝送部4などを省いて描いている。
放射線検出器であるX線検出器1は、放射線画像であるX線画像を検出するX線平面センサである。X線検出器1は、例えば、一般医療用途などに用いることができる。ただし、X線検出器1の用途は、一般医療用途に限定されるわけではない。
FIG. 1 is a schematic perspective view for illustrating an X-ray detector 1 according to the present embodiment.
In addition, in order to avoid becoming complicated, in FIG. 1, the protective layer 2f, the reflection layer 6, the moistureproof body 7, the adhesive layer 8, etc. are abbreviate | omitted and drawn.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the X-ray detector 1.
In addition, in order to avoid becoming complicated, in FIG. 2, the signal processing part 3, the image transmission part 4, etc. are abbreviate | omitted and drawn.
The X-ray detector 1 which is a radiation detector is an X-ray flat sensor which detects an X-ray image which is a radiation image. The X-ray detector 1 can be used, for example, in general medical applications. However, the application of the X-ray detector 1 is not limited to the general medical application.

図1および図2に示すように、X線検出器1には、アレイ基板2、信号処理部3、画像伝送部4、シンチレータ5、反射層6、防湿体7、接着層8、および支持板9が設けられている。
アレイ基板2は、基板2a、光電変換部2b、制御ライン(又はゲートライン)2c1、データライン(又はシグナルライン)2c2、配線パッド2d1、配線パッド2d2および保護層2fを有する。
なお、光電変換部2b、制御ライン2c1、およびデータライン2c2の数などは例示をしたものに限定されるわけではない。
As shown in FIGS. 1 and 2, the X-ray detector 1 includes an array substrate 2, a signal processing unit 3, an image transmission unit 4, a scintillator 5, a reflective layer 6, a moistureproof body 7, an adhesive layer 8, and a support plate. 9 is provided.
The array substrate 2 includes a substrate 2a, photoelectric conversion units 2b, control lines (or gate lines) 2c1, data lines (or signal lines) 2c2, wiring pads 2d1, wiring pads 2d2, and a protective layer 2f.
The photoelectric conversion units 2b, the control lines 2c1, and the number of data lines 2c2 are not limited to those illustrated.

基板2aは、板状を呈し、無アルカリガラスなどの透光性材料から形成されている。
光電変換部2bは、基板2aの一方の表面に複数設けられている。
光電変換部2bは、矩形状を呈したものとすることができる。光電変換部2bは、平面視において、複数の制御ライン2c1と、複数のデータライン2c2と、により画された複数の領域のそれぞれに設けられている。複数の光電変換部2bは、マトリクス状に並べられている。光電変換部2bは、対応する制御ライン2c1と対応するデータライン2c2とに電気的に接続されている。
なお、1つの光電変換部2bは、X線画像の1つの画素(pixel)に対応する。
The substrate 2a has a plate-like shape and is formed of a translucent material such as non-alkali glass.
A plurality of photoelectric conversion units 2b are provided on one surface of the substrate 2a.
The photoelectric conversion unit 2 b can have a rectangular shape. The photoelectric conversion unit 2b is provided in each of a plurality of areas defined by the plurality of control lines 2c1 and the plurality of data lines 2c2 in plan view. The plurality of photoelectric conversion units 2b are arranged in a matrix. The photoelectric conversion unit 2b is electrically connected to the corresponding control line 2c1 and the corresponding data line 2c2.
One photoelectric conversion unit 2 b corresponds to one pixel of the X-ray image.

複数の光電変換部2bのそれぞれには、光電変換素子2b1と、スイッチング素子である薄膜トランジスタ(TFT;Thin Film Transistor)2b2が設けられている。
また、光電変換素子2b1において変換した電荷が供給される蓄積キャパシタを設けることができる。蓄積キャパシタは、例えば、矩形平板状を呈し、薄膜トランジスタ2b2の下に設けることができる。ただし、光電変換素子2b1の容量によっては、光電変換素子2b1が蓄積キャパシタを兼ねることができる。なお、以下においては、一例として、光電変換素子2b1が蓄積キャパシタを兼ねる場合を例示する。
Each of the plurality of photoelectric conversion units 2b is provided with a photoelectric conversion element 2b1 and a thin film transistor (TFT; Thin Film Transistor) 2b2 which is a switching element.
Further, a storage capacitor to which the charge converted in the photoelectric conversion element 2b1 is supplied can be provided. The storage capacitor has, for example, a rectangular plate shape and can be provided below the thin film transistor 2b2. However, depending on the capacity of the photoelectric conversion element 2b1, the photoelectric conversion element 2b1 can also serve as a storage capacitor. In addition, below, the case where the photoelectric conversion element 2b1 serves as a storage capacitor is illustrated as an example.

光電変換素子2b1は、例えば、フォトダイオードなどとすることができる。
薄膜トランジスタ2b2は、蓄積キャパシタの役割をはたす光電変換素子2b1への電荷の蓄積および放出のスイッチングを行う。
薄膜トランジスタ2b2は、ゲート電極、ソース電極及びドレイン電極を有している。薄膜トランジスタ2b2のゲート電極は、対応する制御ライン2c1と電気的に接続される。薄膜トランジスタ2b2のソース電極は、対応するデータライン2c2と電気的に接続される。薄膜トランジスタ2b2のドレイン電極は、対応する光電変換素子2b1と電気的に接続される。また、光電変換素子2b1のアノード側は、対応する図示しないバイアスラインと電気的に接続される。なお、バイアスラインが設けられない場合には、光電変換素子2b1のアノード側はバイアスラインに代えてグランドに電気的に接続される。
The photoelectric conversion element 2b1 can be, for example, a photodiode.
The thin film transistor 2b2 performs switching of storage and discharge of charge to the photoelectric conversion element 2b1 which plays a role of storage capacitor.
The thin film transistor 2b2 has a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode. The gate electrode of the thin film transistor 2b2 is electrically connected to the corresponding control line 2c1. The source electrode of the thin film transistor 2b2 is electrically connected to the corresponding data line 2c2. The drain electrode of the thin film transistor 2b2 is electrically connected to the corresponding photoelectric conversion element 2b1. The anode side of the photoelectric conversion element 2b1 is electrically connected to the corresponding bias line (not shown). When no bias line is provided, the anode side of the photoelectric conversion element 2b1 is electrically connected to the ground instead of the bias line.

制御ライン2c1は、所定の間隔をあけて互いに平行に複数設けられている。制御ライン2c1は、例えば、行方向に延びている。
1つの制御ライン2c1は、アレイ基板2の周縁近傍に設けられた複数の配線パッド2d1のうちの1つと電気的に接続されている。1つの配線パッド2d1には、フレキシブルプリント基板2e1に設けられた複数の配線のうちの1つが電気的に接続されている。フレキシブルプリント基板2e1に設けられた複数の配線の他端は、信号処理部3に設けられた制御回路と電気的に接続されている。
A plurality of control lines 2c1 are provided in parallel with each other at a predetermined interval. The control line 2c1 extends, for example, in the row direction.
One control line 2 c 1 is electrically connected to one of a plurality of wiring pads 2 d 1 provided in the vicinity of the periphery of the array substrate 2. One of the plurality of wires provided on the flexible printed board 2e1 is electrically connected to one wiring pad 2d1. The other ends of the plurality of wirings provided on the flexible printed circuit 2e1 are electrically connected to a control circuit provided in the signal processing unit 3.

データライン2c2は、所定の間隔をあけて互いに平行に複数設けられている。データライン2c2は、例えば、行方向に直交する列方向に延びている。
1つのデータライン2c2は、アレイ基板2の周縁近傍に設けられた複数の配線パッド2d2のうちの1つと電気的に接続されている。1つの配線パッド2d2には、フレキシブルプリント基板2e2に設けられた複数の配線のうちの1つが電気的に接続されている。フレキシブルプリント基板2e2に設けられた複数の配線の他端は、信号処理部3に設けられた信号検出回路と電気的に接続されている。
A plurality of data lines 2c2 are provided in parallel with each other at a predetermined interval. The data line 2c2 extends, for example, in the column direction orthogonal to the row direction.
One data line 2 c 2 is electrically connected to one of the plurality of wiring pads 2 d 2 provided in the vicinity of the periphery of the array substrate 2. One of the plurality of wires provided on the flexible printed circuit 2e2 is electrically connected to one wiring pad 2d2. The other ends of the plurality of wires provided on the flexible printed circuit 2 e 2 are electrically connected to the signal detection circuit provided on the signal processing unit 3.

保護層2fは、第1層2f1および第2層2f2を有する。第1層2f1は、光電変換部2b、制御ライン2c1、およびデータライン2c2を覆うように設けられている。第2層2f2は、第1層2f1の上に設けられている。
第1層2f1および第2層2f2は、絶縁性材料から形成することができる。絶縁性材料は、例えば、酸化物絶縁材料、窒化物絶縁材料、酸窒化物絶縁材料、および樹脂材料などとすることができる。
The protective layer 2 f has a first layer 2 f 1 and a second layer 2 f 2. The first layer 2f1 is provided to cover the photoelectric conversion unit 2b, the control line 2c1, and the data line 2c2. The second layer 2f2 is provided on the first layer 2f1.
The first layer 2f1 and the second layer 2f2 can be formed of an insulating material. The insulating material can be, for example, an oxide insulating material, a nitride insulating material, an oxynitride insulating material, a resin material, and the like.

信号処理部3は、支持板9を挟んでアレイ基板2と対峙させて設けられている。
信号処理部3には、制御回路と、信号検出回路とが設けられている。
制御回路は、薄膜トランジスタ2b2のオン状態とオフ状態を切り替える。
制御回路には、画像処理部4などから制御信号S1が入力される。制御回路は、X線画像の走査方向に従って、制御ライン2c1に制御信号S1を入力する。
例えば、制御回路は、フレキシブルプリント基板2e1と制御ライン2c1とを介して、制御信号S1を各制御ライン2c1毎に順次入力する。制御ライン2c1に入力された制御信号S1により薄膜トランジスタ2b2がオン状態となり、蓄積キャパシタの役割をはたす光電変換素子2b1からの電荷(画像データ信号S2)が受信できるようになる。
The signal processing unit 3 is provided facing the array substrate 2 with the support plate 9 interposed therebetween.
The signal processing unit 3 is provided with a control circuit and a signal detection circuit.
The control circuit switches the thin film transistor 2b2 between the on state and the off state.
A control signal S1 is input to the control circuit from the image processing unit 4 or the like. The control circuit inputs a control signal S1 to the control line 2c1 in accordance with the scanning direction of the X-ray image.
For example, the control circuit sequentially inputs the control signal S1 to each control line 2c1 via the flexible printed circuit 2e1 and the control line 2c1. The thin film transistor 2b2 is turned on by the control signal S1 input to the control line 2c1, and the charge (image data signal S2) from the photoelectric conversion element 2b1 which plays the role of a storage capacitor can be received.

信号検出回路は、複数の積分アンプ、選択回路、およびADコンバータなどを有する。 1つの積分アンプは、1つのデータライン2c2と電気的に接続されている。積分アンプは、光電変換部2bからの画像データ信号S2を順次受信する。そして、積分アンプは、一定時間内に流れる電流を積分し、その積分値に対応した電圧を選択回路へ出力する。この様にすれば、所定の時間内にデータライン2c2を流れる電流の値(電荷量)を電圧値に変換することが可能となる。すなわち、積分アンプは、シンチレータ5において発生した蛍光の強弱分布に対応した画像データ情報を、電位情報へと変換する。
選択回路は、読み出しを行う積分アンプを選択し、電位情報へと変換された画像データ信号S2を順次読み出す。
ADコンバータは、読み出された画像データ信号S2をデジタル信号に順次変換する。デジタル信号に変換された画像データ信号S2は、画像処理部4に入力される。
The signal detection circuit includes a plurality of integration amplifiers, a selection circuit, an AD converter, and the like. One integrating amplifier is electrically connected to one data line 2c2. The integration amplifier sequentially receives the image data signal S2 from the photoelectric conversion unit 2b. Then, the integration amplifier integrates the current flowing within a predetermined time, and outputs a voltage corresponding to the integrated value to the selection circuit. In this way, it is possible to convert the value (the amount of charge) of the current flowing through the data line 2c2 into a voltage value within a predetermined time. That is, the integral amplifier converts image data information corresponding to the intensity distribution of the fluorescence generated in the scintillator 5 into potential information.
The selection circuit selects an integration amplifier to be read out, and sequentially reads out the image data signal S2 converted into the potential information.
The AD converter sequentially converts the read image data signal S2 into a digital signal. The image data signal S2 converted into the digital signal is input to the image processing unit 4.

画像伝送部4は、配線4aを介して、信号処理部3の信号検出回路と電気的に接続されている。なお、画像伝送部4は、信号処理部3と一体化されていてもよい。
画像処理部4は、デジタル信号に変換された画像データ信号S2に基づいてX線画像を構成する。
The image transmission unit 4 is electrically connected to the signal detection circuit of the signal processing unit 3 through the wiring 4 a. The image transmission unit 4 may be integrated with the signal processing unit 3.
The image processing unit 4 constructs an X-ray image based on the image data signal S2 converted into the digital signal.

シンチレータ5は、複数の光電変換部2bの上に設けられ、入射するX線を可視光すなわち蛍光に変換する。シンチレータ5は、有効画素領域(基板2a上の複数の光電変換部2bが設けられた領域)Aを覆うように設けられている。
シンチレータ5は、例えば、ヨウ化セシウム(CsI):タリウム(Tl)、ヨウ化ナトリウム(NaI):タリウム(Tl)、あるいは臭化セシウム(CsBr):ユーロピウム(Eu)などを用いて形成することができる。シンチレータ5は、真空蒸着法を用いて形成することができる。真空蒸着法を用いてシンチレータ5を形成すれば、複数の柱状結晶の集合体からなるシンチレータ5とすることができる。この場合、柱状結晶の太さ寸法は、最表面で3μm〜8μm程度とすることができる。シンチレータ5の厚み寸法は、例えば、600μm程度とすることができる。
The scintillator 5 is provided on the plurality of photoelectric conversion units 2b, and converts incident X-rays into visible light, that is, fluorescence. The scintillator 5 is provided so as to cover an effective pixel area (an area provided with a plurality of photoelectric conversion units 2 b on the substrate 2 a) A.
The scintillator 5 may be formed, for example, using cesium iodide (CsI): thallium (Tl), sodium iodide (NaI): thallium (Tl), or cesium bromide (CsBr): europium (Eu) or the like. it can. The scintillator 5 can be formed using a vacuum evaporation method. If the scintillator 5 is formed using a vacuum evaporation method, the scintillator 5 can be formed as an aggregate of a plurality of columnar crystals. In this case, the thickness dimension of the columnar crystal can be about 3 μm to 8 μm at the outermost surface. The thickness dimension of the scintillator 5 can be, for example, about 600 μm.

また、シンチレータ5は、例えば、テルビウム賦活硫酸化ガドリニウム(GdS/Tb、又はGOS)などを用いて形成することもできる。この場合、例えば、以下のようにしてシンチレータ5を形成することができる。まず、テルビウム賦活硫酸化ガドリニウムからなる粒子をバインダ材と混合する。次に、有効画素領域Aを覆うように混合された材料を塗布する。次に、塗布された材料を焼成する。次に、ブレードダイシング法などを用いて、焼成された材料に溝部を形成する。この際、複数の光電変換部2bごとに四角柱状のシンチレータ5が設けられるように、マトリクス状の溝部を形成することができる。 The scintillator 5 can also be formed using, for example, terbium-activated sulfated gadolinium (Gd 2 O 2 S / Tb or GOS) or the like. In this case, for example, the scintillator 5 can be formed as follows. First, particles of terbium activated sulfated gadolinium are mixed with a binder material. Next, the material mixed to cover the effective pixel area A is applied. Next, the applied material is fired. Next, a groove is formed in the fired material using a blade dicing method or the like. At this time, it is possible to form the matrix-like groove portions so that the square columnar scintillator 5 is provided for each of the plurality of photoelectric conversion units 2 b.

反射層6は、蛍光の利用効率を高めて感度特性を改善するために設けられている。すなわち、反射層6は、シンチレータ5において生じた蛍光のうち、光電変換部2bが設けられた側とは反対側に向かう光を反射させて、光電変換部2bに向かうようにする。
反射層6は、シンチレータ5のX線の入射側を覆っている。反射層6は、少なくともシンチレータ5の上面5aに設けることができる。なお、反射層6は、シンチレータ5の側面5bにも設けることができる。
The reflective layer 6 is provided to enhance the utilization efficiency of fluorescence and improve the sensitivity characteristic. That is, of the fluorescence generated in the scintillator 5, the reflective layer 6 reflects light traveling to the opposite side to the side on which the photoelectric conversion unit 2 b is provided, and directs the light to the photoelectric conversion unit 2 b.
The reflective layer 6 covers the X-ray incident side of the scintillator 5. The reflective layer 6 can be provided at least on the top surface 5 a of the scintillator 5. The reflective layer 6 can also be provided on the side surface 5 b of the scintillator 5.

反射層6は、例えば、酸化チタン(TiO)などからなる光散乱性粒子と、樹脂と、溶媒とを混合した材料をシンチレータ5上に塗布し、これを乾燥することで形成することができる。
また、反射層6は、例えば、銀合金やアルミニウムなどの光反射率の高い金属からなる層をシンチレータ5上に成膜することで形成することもできる。
また、反射層6は、例えば、表面が銀合金やアルミニウムなどの光反射率の高い金属からなる板を用いて形成することもできる。
また、反射層6は、光散乱性粒子を含む樹脂シートを用いて形成することもできる。
反射層6の厚みは、X線の透過性や、蛍光の反射率などに応じて適宜設定することができる。例えば、反射層6が、酸化チタン(TiO)などからなる光散乱性粒子と樹脂とを含む樹脂層である場合には、反射層6の厚みは、100μm程度とすることができる。 なお、反射層6は、必ずしも必要ではなく、X線検出器1に求められる解像度などの特性に応じて設けるようにすればよい。以下においては、一例として、反射層6が設けられる場合を例示する。
The reflective layer 6 can be formed by, for example, applying a material obtained by mixing light scattering particles made of titanium oxide (TiO 2 ) or the like, a resin, and a solvent on the scintillator 5 and drying it. .
The reflective layer 6 can also be formed, for example, by depositing a layer made of a metal having a high light reflectance, such as a silver alloy or aluminum, on the scintillator 5.
The reflective layer 6 can also be formed using, for example, a plate whose surface is made of a metal having a high light reflectance such as a silver alloy or aluminum.
Moreover, the reflection layer 6 can also be formed using the resin sheet containing light-scattering particle | grains.
The thickness of the reflective layer 6 can be appropriately set in accordance with the X-ray transmittance, the fluorescence reflectance, and the like. For example, in the case where the reflective layer 6 is a resin layer containing light scattering particles made of titanium oxide (TiO 2 ) or the like and a resin, the thickness of the reflective layer 6 can be about 100 μm. The reflective layer 6 is not necessarily required, and may be provided according to the characteristics such as the resolution required for the X-ray detector 1. Below, the case where the reflection layer 6 is provided is illustrated as an example.

接着層8は、防湿体7のつば部7cとアレイ基板2との間に設けられている。接着層8は、防湿体7とアレイ基板2とを接着している。接着層8は、例えば、紫外線硬化型接着剤、遅延硬化型接着剤(紫外線照射後に一定の時間をおいて硬化反応が顕在化する紫外線硬化型接着剤)、自然(常温)硬化型接着剤、および加熱硬化型接着剤のいずれかが硬化することで形成されたものとすることができる。また、接着層8の透湿係数を低くするために、無機材料からなるフィラーが添加された接着剤を用いることができる。例えば、エポキシ系の接着剤にタルク(滑石:MgSi10(OH))からなるフィラーを70重量%以上添加すれば、接着層8の透湿係数を大幅に低減させることができる。 The adhesive layer 8 is provided between the collar 7 c of the moistureproof body 7 and the array substrate 2. The adhesive layer 8 bonds the moisture-proof body 7 and the array substrate 2. The adhesive layer 8 may be, for example, an ultraviolet-curable adhesive, a delayed-curable adhesive (a UV-curable adhesive in which a curing reaction becomes apparent after a predetermined time after ultraviolet irradiation), a natural (normal temperature) -curable adhesive, And it can be formed by hardening either of a thermosetting adhesive. Moreover, in order to make the moisture permeability coefficient of the contact bonding layer 8 low, the adhesive agent to which the filler which consists of inorganic materials was added can be used. For example, if 70% by weight or more of a filler composed of talc (talc: Mg 3 Si 4 O 10 (OH) 2 ) is added to an epoxy-based adhesive, the moisture permeability coefficient of the adhesive layer 8 can be significantly reduced. .

支持板9は、アレイ基板2と信号処理部3との間に設けられている。支持板9の一方の面にはアレイ基板2が設けられ、他方の面には信号処理部3が設けられている。支持板9は、鉛板などのX線を吸収する材料から形成されている。信号処理部3にはX線に対する耐性が低い制御回路と増幅・変換回路が設けられている。そのため、X線を吸収する支持板9を設けることで、制御回路と増幅・変換回路を保護するようにしている。支持板9は、X線検出器1を収納する図示しない筐体の内部に保持されている。   The support plate 9 is provided between the array substrate 2 and the signal processing unit 3. The array substrate 2 is provided on one surface of the support plate 9, and the signal processing unit 3 is provided on the other surface. The support plate 9 is formed of a material that absorbs X-rays, such as a lead plate. The signal processing unit 3 is provided with a control circuit having low resistance to X-rays and an amplification / conversion circuit. Therefore, the control circuit and the amplification / conversion circuit are protected by providing the support plate 9 that absorbs X-rays. The support plate 9 is held inside a housing (not shown) that houses the X-ray detector 1.

防湿体7は、空気中に含まれる水蒸気により、反射層6の特性やシンチレータ5の特性が劣化するのを抑制するために設けられている。
図3(a)は、防湿体7の模式正面図である。
図3(b)は、防湿体7の模式側面図である。
図3(a)、(b)に示すように、防湿体7は、ハット形状を呈し、表面部7a、周面部7b、つば部7c、および凸部7dを有する。
防湿体7は、表面部7a、周面部7b、つば部7c、および凸部7dが一体成形されたものとすることができる。
The moistureproof body 7 is provided to prevent deterioration of the characteristics of the reflective layer 6 and the characteristics of the scintillator 5 due to water vapor contained in the air.
FIG. 3A is a schematic front view of the moistureproof body 7.
FIG. 3 (b) is a schematic side view of the moistureproof body 7.
As shown in FIGS. 3A and 3B, the moistureproof body 7 has a hat shape, and has a surface 7a, a peripheral surface 7b, a flange 7c, and a protrusion 7d.
The moistureproof body 7 may be one in which the surface portion 7a, the circumferential surface portion 7b, the flange portion 7c, and the convex portion 7d are integrally formed.

防湿体7は、透湿係数の小さい材料から形成することができる。
例えば、表面部7a、周面部7b、つば部7c、および凸部7dは、アルミニウム、アルミニウム合金、樹脂層と無機材料(アルミニウムなどの軽金属、SiO、SiON、Alなどのセラミック系材料)の層が積層された低透湿防湿材料などから形成することができる。例えば、表面部7a、周面部7b、つば部7c、および凸部7dは、厚み寸法が50μm〜100μm程度のアルミニウム箔をプレス成形して形成することができる。
The moistureproof body 7 can be formed of a material having a low moisture permeability coefficient.
For example, the surface portion 7a, peripheral surface portion 7b, the flange portion 7c, or protrusions 7d are aluminum, light metal aluminum alloy, a resin layer and an inorganic material (such as aluminum, SiO 2, SiON, ceramic material such as Al 2 O 3 Can be formed from a low moisture-permeable, moisture-proof material or the like in which the layers of For example, the surface portion 7a, the circumferential surface portion 7b, the flange portion 7c, and the convex portion 7d can be formed by press-forming an aluminum foil having a thickness dimension of about 50 μm to 100 μm.

表面部7aは、板状を呈し、シンチレータ5の上面5aと対峙している。
周面部7bは、表面部7aの周縁を囲むように設けられている。周面部7bは、表面部7aの周縁からアレイ基板2側に向けて延びている。周面部7bは、表面部7aの周縁に設けられシンチレータ5の側面5bと対峙している。
The surface portion 7 a has a plate shape and faces the upper surface 5 a of the scintillator 5.
The circumferential surface portion 7 b is provided to surround the periphery of the surface portion 7 a. The peripheral surface portion 7 b extends from the peripheral edge of the surface portion 7 a toward the array substrate 2 side. The circumferential surface portion 7 b is provided on the periphery of the surface portion 7 a and faces the side surface 5 b of the scintillator 5.

つば部7cは、周面部7bの、表面部7a側とは反対側の端部を囲むように設けられている。つば部7cは、周面部7bの端部から外側に向けて延びている。つば部7cの平面形状は、枠状となっている。つば部7cは、周面部7bの表面部7a側とは反対側の端部に設けられアレイ基板2と対峙している。   The flange portion 7c is provided so as to surround an end portion of the circumferential surface portion 7b opposite to the surface portion 7a. The collar 7 c extends outward from the end of the circumferential surface 7 b. The planar shape of the flange 7c is frame-like. The flange 7 c is provided at the end of the peripheral surface 7 b opposite to the surface 7 a and faces the array substrate 2.

ハット形状の防湿体7とすれば、剛性を高めることができる。
また、防湿体7をアレイ基板2に接着する際に、表面部7aおよび周面部7bからなる立体形状を利用して位置決めを行うことができる。そのため、防湿体7をアレイ基板2の表面に接着する際の作業性や接着精度を向上させることができる。
If it is set as the hat-shaped moisture-proof body 7, rigidity can be improved.
When bonding the moistureproof body 7 to the array substrate 2, positioning can be performed using a three-dimensional shape including the surface portion 7a and the peripheral surface portion 7b. Therefore, the workability and adhesion accuracy when bonding the moistureproof body 7 to the surface of the array substrate 2 can be improved.

凸部7dは、表面部7aの周縁領域に設けられている。凸部7dは、表面部7aからシンチレータ5側とは反対側に突出している。図2に示すように、凸部7dのシンチレータ5側とは反対側の面(X線が入射する側の面)7d1は、表面部7aのシンチレータ5側とは反対側の面からシンチレータ5側とは反対側に突出している。また、凸部7dのシンチレータ5側の面7d2は、表面部7aのシンチレータ5側の面からシンチレータ5側とは反対側に突出している。凸部7dの肉厚は、表面部7aの肉厚とほぼ同じとなっている。すなわち、凸部7dは、表面部7aのシンチレータ5側とは反対側の面の一部が凸状に形成され、凸状に形成された部分において、表面部7aのシンチレータ5側の面が凹状に形成されたものである。凸部7dの幅W、凸部7dの高さH、および凸部7dの断面形状には特に限定がなく、後述する凸部7dの変形を考慮して適宜設定することができる。例えば、防湿体7が100μmのアルミニウム箔から形成される場合には、凸部7dの幅Wは1.4mm程度、凸部7dの高さHは0.3mm程度とすることができる。また、凸部7dの断面の外形形状は、略台形などとすることができる。   The convex portion 7 d is provided in the peripheral region of the surface portion 7 a. The convex portion 7 d protrudes from the surface portion 7 a to the opposite side to the scintillator 5 side. As shown in FIG. 2, the surface (surface on the side where X-rays are incident) 7d1 of the convex portion 7d opposite to the scintillator 5 side is the scintillator 5 side from the surface of the surface portion 7a opposite to the scintillator 5 side. And project on the opposite side. The surface 7d2 of the convex portion 7d on the scintillator 5 side protrudes from the surface of the surface portion 7a on the scintillator 5 side to the opposite side to the scintillator 5 side. The thickness of the convex portion 7 d is substantially the same as the thickness of the surface portion 7 a. That is, in the convex portion 7d, a part of the surface on the opposite side to the scintillator 5 side of the surface portion 7a is formed in a convex shape, and the surface of the surface portion 7a on the scintillator 5 side is concave It was formed in The width W of the convex portion 7 d, the height H of the convex portion 7 d, and the sectional shape of the convex portion 7 d are not particularly limited, and can be appropriately set in consideration of the deformation of the convex portion 7 d described later. For example, when the moisture-proof body 7 is formed of an aluminum foil of 100 μm, the width W of the convex portion 7 d can be about 1.4 mm, and the height H of the convex portion 7 d can be about 0.3 mm. Moreover, the external shape of the cross section of the convex part 7d can be made into a substantially trapezoid etc. FIG.

図2に示すように、凸部7dの外側(表面部7aの中心側とは反対側)の側部7d3は、周面部7bと接続されている。凸部7dの内側(表面部7aの中心側)の側部7d4は、表面部7aと接続されている。
図3(a)に示すように、凸部7dの平面形状は、四角形の枠状とすることができる。この場合、四隅に丸みを設けることができる。
As shown in FIG. 2, the side portion 7d3 outside the convex portion 7d (the side opposite to the center side of the surface portion 7a) is connected to the circumferential surface portion 7b. The side portion 7d4 on the inner side (the center side of the surface portion 7a) of the convex portion 7d is connected to the surface portion 7a.
As shown to Fig.3 (a), the planar shape of convex part 7d can be made into the frame shape of a quadrangle. In this case, the corners can be rounded.

図4(a)は、他の実施形態に係る凸部7dの模式正面図である。
図4(b)は、他の実施形態に係る凸部7dの模式側面図である。
図4(a)、(b)に示すように、凸部7dは、複数設けることができる。凸部7dの平面形状は、線状とすることができる。複数の凸部7dは、表面部7aの周縁に沿って設けることができる。複数の凸部7dは、平面形状が四角形の表面部7aの各辺毎に設けることができる。凸部7dは、表面部7aの辺に沿って設けることができる。また、表面部7aの各角の近傍には凸部7dを設けないようにすることができる。この様にすれば、凸部7dの形成が容易となる。
Drawing 4 (a) is a model front view of convex part 7d concerning other embodiments.
FIG.4 (b) is a model side view of the convex part 7d which concerns on other embodiment.
As shown in FIGS. 4A and 4B, a plurality of convex portions 7d can be provided. The planar shape of the convex portion 7 d can be linear. The plurality of convex portions 7 d can be provided along the periphery of the surface portion 7 a. The plurality of convex portions 7 d can be provided for each side of the surface portion 7 a having a rectangular planar shape. The convex portion 7 d can be provided along the side of the surface portion 7 a. Moreover, it is possible not to provide the convex portion 7 d in the vicinity of each corner of the surface portion 7 a. In this way, the formation of the convex portion 7d becomes easy.

また、図2に示すように、平面視において、凸部7dは、有効画素領域Aの外側に設けることができる。凸部7dが有効画素領域Aの外側に設けられていれば、側部7d3、7d4がX線画像の画質に影響を与えるのを抑制することができる。   Further, as shown in FIG. 2, the convex portion 7 d can be provided outside the effective pixel area A in a plan view. If the convex portion 7 d is provided outside the effective pixel area A, it is possible to suppress that the side portions 7 d 3 and 7 d 4 affect the image quality of the X-ray image.

次に、凸部7dの作用についてさらに説明する。
図5(a)、(b)は、比較例に係る防湿体70の接着を例示するための模式断面図である。
なお、図5(a)、(b)は、凸部7dが設けられない場合である。
Next, the action of the convex portion 7d will be further described.
FIGS. 5A and 5B are schematic cross-sectional views for illustrating the adhesion of the moisture-proof body 70 according to the comparative example.
FIGS. 5A and 5B show the case where the convex portion 7d is not provided.

まず、つば部7cに接着剤18を塗布する。
次に、図5(a)に示すように、大気圧よりも減圧された環境において、シンチレータ5に防湿体70を被せる。続いて、つば部7cとアレイ基板2を接着剤18を介して圧着する。この際、接着剤18の厚み寸法が所定の範囲内となるようにする。
First, the adhesive 18 is applied to the flange 7c.
Next, as shown in FIG. 5A, the moisture-proof body 70 is covered on the scintillator 5 in an environment decompressed below atmospheric pressure. Subsequently, the flange portion 7 c and the array substrate 2 are pressure bonded with the adhesive 18. At this time, the thickness dimension of the adhesive 18 is made to be within a predetermined range.

次に、図5(b)に示すように、大気圧の環境において、接着剤18を硬化させて、防湿体70をアレイ基板2に接着する。
すると、大気圧により防湿体70が押圧されて、表面部7aおよび周面部7bと、反射層6とが接触する。この場合、つば部7cは接着剤18を介してアレイ基板2と接合されているため、周面部7bの表面部7a側は、周面部7bのつば部7c側よりも変形しやすくなる。そのため、周面部7bの表面部7a側が反射層6と接触するように変形する。その結果、つば部7cの先端側が持ち上がるとともに、つば部7cのシンチレータ5側がアレイ基板2に近づくようになる。
Next, as shown in FIG. 5 (b), the adhesive 18 is cured in an environment of atmospheric pressure to bond the moistureproof body 70 to the array substrate 2.
Then, the moisture-proof body 70 is pressed by the atmospheric pressure, and the surface portion 7 a and the circumferential surface portion 7 b come in contact with the reflective layer 6. In this case, since the flange 7c is bonded to the array substrate 2 through the adhesive 18, the surface 7a of the peripheral surface 7b is more easily deformed than the flange 7c of the peripheral surface 7b. Therefore, the surface 7 a side of the peripheral surface 7 b is deformed so as to be in contact with the reflective layer 6. As a result, the tip end side of the flange portion 7c is lifted, and the scintillator 5 side of the flange portion 7c comes closer to the array substrate 2.

つば部7cがこの様に変形すると、つば部7cとアレイ基板2との間に形成される接着層8の厚みが不均一となる。
接着層8の厚みが不均一になると、厚みが薄くなった部分(例えば、つば部7cと周面部7bとの接続部分の下方)においてつば部7cと、制御ライン2c1およびデータライン2c2との間の絶縁性が低下するおそれがある。
Such deformation of the flange 7 c makes the thickness of the adhesive layer 8 formed between the flange 7 c and the array substrate 2 nonuniform.
When the thickness of the adhesive layer 8 becomes uneven, the portion between the collar 7c and the control line 2c1 and the data line 2c2 in the portion where the thickness is reduced (for example, below the connecting portion between the collar 7c and the peripheral surface 7b). There is a risk that the insulation of the

また、厚みが薄くなった部分を支点として、つば部7cを持ち上げる方向に力が加わりやすくなり、接着層8の剥がれが生じるおそれもある。
また、つば部7cの下方において、接着層8の幅が短くなる部分が生じるおそれもある。
接着層8の厚みが不均一となったり、接着層8の幅が短くなったりした場合には、つば部7cとアレイ基板2との間の密着力(接着力)を安定させることが難しくなったり、水蒸気が接着層8を透過しやすくなったりするおそれがある。そのため、接着層8の信頼性が低下するおそれがある。
In addition, a force is likely to be applied in the direction of lifting the collar 7 c with the portion having the reduced thickness as a fulcrum, and the adhesive layer 8 may be peeled off.
In addition, there is a possibility that a portion in which the width of the adhesive layer 8 is shortened may be generated below the flange portion 7c.
When the thickness of the adhesive layer 8 becomes uneven or the width of the adhesive layer 8 becomes short, it becomes difficult to stabilize the adhesion (adhesive force) between the flange 7 c and the array substrate 2. There is a possibility that water vapor may easily permeate the adhesive layer 8. Therefore, there is a possibility that the reliability of adhesion layer 8 may fall.

図6(a)、(b)は、本実施の形態に係る防湿体7の接着を例示するための模式断面図である。
なお、図6(a)、(b)は、凸部7dが設けられる場合である。
まず、つば部7cに接着剤18を塗布する。
次に、図6(a)に示すように、大気圧よりも減圧された環境において、シンチレータ5に防湿体7を被せる。続いて、つば部7cとアレイ基板2を接着剤18を介して圧着する。この際、接着剤18の厚み寸法が所定の範囲内となるようにする。
6 (a) and 6 (b) are schematic cross-sectional views for illustrating adhesion of the moisture-proof body 7 according to the present embodiment.
6A and 6B show the case where the convex portion 7d is provided.
First, the adhesive 18 is applied to the flange 7c.
Next, as shown in FIG. 6A, the moisture-proof body 7 is covered on the scintillator 5 in an environment decompressed below atmospheric pressure. Subsequently, the flange portion 7 c and the array substrate 2 are pressure bonded with the adhesive 18. At this time, the thickness dimension of the adhesive 18 is made to be within a predetermined range.

次に、図6(b)に示すように、大気圧の環境において、接着剤18を硬化させて、防湿体7をアレイ基板2に接着する。
すると、大気圧により防湿体7が押圧されて、表面部7aおよび周面部7bと、反射層6とが接触する。この場合、図5(b)に例示をした防湿体70と同様に、周面部7bの表面部7a側が反射層6と接触するように変形する。
Next, as shown in FIG. 6B, the moisture-proof body 7 is adhered to the array substrate 2 by curing the adhesive 18 in an environment at atmospheric pressure.
Then, the moisture-proof body 7 is pressed by the atmospheric pressure, and the surface portion 7 a and the circumferential surface portion 7 b come in contact with the reflective layer 6. In this case, as in the case of the moisture-proof body 70 illustrated in FIG. 5B, the surface portion 7 a side of the peripheral surface portion 7 b is deformed so as to be in contact with the reflective layer 6.

本実施の形態においては、凸部7dの外側の側部7d3が周面部7bと接続されているので、周面部7bの表面部7a側が反射層6と接触するように変形した際に、凸部7dが引っ張られるように変形する。凸部7dが変形すれば、周面部7bの変形に伴う寸法の変化を吸収することができる。
そのため、つば部7cのシンチレータ5側が押し下げられるのを抑制することができる。また、つば部7cの先端側が持ち上がるのを抑制することもできる。すなわち、つば部7cの変形を抑制することができる。
つば部7cの変形を抑制することができれば、接着層8の厚みが不均一となるのを抑制することができる。
In the present embodiment, since the side portion 7d3 outside the convex portion 7d is connected to the peripheral surface portion 7b, when the surface portion 7a side of the peripheral surface portion 7b is deformed so as to be in contact with the reflective layer 6, the convex portion It deforms so that 7d is pulled. If the convex portion 7d is deformed, it is possible to absorb a change in dimension caused by the deformation of the circumferential surface portion 7b.
Therefore, it can suppress that the scintillator 5 side of the collar part 7c is pushed down. Moreover, it can also suppress that the front end side of the collar part 7c lifts. That is, the deformation of the collar 7c can be suppressed.
If deformation of the flange portion 7c can be suppressed, it can be suppressed that the thickness of the adhesive layer 8 becomes uneven.

接着層8の厚みが不均一となるのを抑制することができれば、つば部7cを持ち上げる方向に力が加わり難くなるので、接着層8が剥がれ難くなる。また、つば部7cの下方において接着層8の幅が短くなるのを抑制することができる。   If it is possible to prevent the thickness of the adhesive layer 8 from becoming uneven, it becomes difficult to apply a force in the direction of lifting the flange portion 7c, so the adhesive layer 8 becomes difficult to peel off. Moreover, it can suppress that the width | variety of the contact bonding layer 8 becomes short in the downward direction of the collar part 7c.

接着層8の厚みが不均一となるのを抑制することができたり、接着層8の幅が短くなるのを抑制することができたりすれば、つば部7cとアレイ基板2との間の密着力(接着力)を安定させることができる。また、水蒸気が接着層8を透過するのを抑制することができる。そのため、接着層8の信頼性を向上させることができる。   If the thickness of the adhesive layer 8 can be suppressed from becoming nonuniform or the width of the adhesive layer 8 can be reduced, adhesion between the flange portion 7c and the array substrate 2 can be achieved. The force (adhesive force) can be stabilized. Moreover, it can suppress that water vapor | steam permeate | transmits the contact bonding layer 8. FIG. Therefore, the reliability of the adhesive layer 8 can be improved.

以上、本発明のいくつかの実施形態を例示したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更などを行うことができる。これら実施形態やその変形例は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。また、前述の各実施形態は、相互に組み合わせて実施することができる。   While certain embodiments of the present invention have been illustrated, these embodiments have been presented by way of example only, and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in other various forms, and various omissions, replacements, changes, and the like can be made without departing from the scope of the invention. These embodiments and modifications thereof are included in the scope and the gist of the invention, and are included in the invention described in the claims and the equivalent scope thereof. In addition, the embodiments described above can be implemented in combination with each other.

1 X線検出器、2 アレイ基板、2a 基板、2b 光電変換部、2b1 光電変換素子、3 信号処理部、4 画像伝送部、5 シンチレータ、5a 上面、5b 側面、6 反射層、7 防湿体、7a 表面部、7b 周面部、7c つば部、7d 凸部、7d1 面、7d2 面、7d3 側部、7d4 側部、8 接着層、18 接着剤
Reference Signs List 1 X-ray detector 2 array substrate 2a substrate 2b photoelectric conversion unit 2b1 photoelectric conversion element 3 signal processing unit 4 image transmission unit 5 scintillator 5 upper surface 5a side surface 6 reflective layer 7 moistureproof body 7a surface portion, 7b circumferential surface portion, 7c flange portion, 7d convex portion, 7d1 surface, 7d2 surface, 7d3 side portion, 7d4 side portion, 8 adhesive layer, 18 adhesive

Claims (5)

基板と、前記基板の一方の面側に設けられた複数の光電変換部と、を有するアレイ基板と、
前記複数の光電変換部の上に設けられ、放射線を蛍光に変換するシンチレータと、
前記シンチレータの上面に対峙する表面部と、前記表面部の周縁に設けられ前記シンチレータの側面に対峙する周面部と、前記周面部の前記表面部側とは反対側の端部に設けられ前記アレイ基板に対峙する枠状のつば部と、前記表面部から前記シンチレータ側とは反対側に突出する凸部と、を有する防湿体と、
前記つば部と前記アレイ基板との間に設けられた接着層と、
を備え、
前記凸部の前記表面部の中心側とは反対側の側部は、前記周面部と接続されている放射線検出器。
An array substrate having a substrate and a plurality of photoelectric conversion units provided on one side of the substrate;
A scintillator which is provided on the plurality of photoelectric conversion units and converts radiation into fluorescence;
A surface portion facing the upper surface of the scintillator, a peripheral surface portion provided on the periphery of the surface portion facing the side surface of the scintillator, and an end portion of the peripheral surface portion opposite to the surface portion A moisture-proof body having a frame-like flange facing the substrate, and a protrusion projecting from the surface toward the side opposite to the scintillator;
An adhesive layer provided between the collar and the array substrate;
Equipped with
The side part opposite to the center side of the said surface part of the said convex part is a radiation detector connected with the said surrounding surface part.
前記凸部の平面形状は、枠状である請求項1記載の放射線検出器。   The radiation detector according to claim 1, wherein a planar shape of the convex portion is a frame shape. 前記凸部は複数設けられ、前記複数の凸部は前記表面部の周縁に沿って設けられている請求項1記載の放射線検出器。   The radiation detector according to claim 1, wherein a plurality of the convex portions are provided, and the plurality of convex portions are provided along the periphery of the surface portion. 前記表面部は板状を呈し、
前記凸部の前記シンチレータ側とは反対側の面は、前記表面部の前記シンチレータ側とは反対側の面から前記シンチレータ側とは反対側に突出し、
前記凸部の前記シンチレータ側の面は、前記表面部の前記シンチレータ側の面から前記シンチレータ側とは反対側に突出し、
前記凸部の前記表面部の中心側の側部は、前記表面部と接続されている請求項1〜3のいずれか1つに記載の放射線検出器。
The surface portion has a plate shape,
The surface of the convex portion opposite to the scintillator side protrudes from the surface of the surface portion opposite to the scintillator side to the opposite side of the scintillator side,
The surface on the scintillator side of the convex portion protrudes from the surface on the scintillator side of the surface portion to the opposite side to the scintillator side,
The radiation detector according to any one of claims 1 to 3, wherein a central side portion of the surface portion of the convex portion is connected to the surface portion.
前記防湿体は、アルミニウムまたはアルミニウム合金を含む請求項1〜4のいずれか1つに記載の放射線検出器。

The radiation detector according to any one of claims 1 to 4, wherein the moisture-proof body contains aluminum or an aluminum alloy.

JP2017073570A 2017-04-03 2017-04-03 Radiation detector Active JP6948815B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017073570A JP6948815B2 (en) 2017-04-03 2017-04-03 Radiation detector

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017073570A JP6948815B2 (en) 2017-04-03 2017-04-03 Radiation detector

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2018179514A true JP2018179514A (en) 2018-11-15
JP6948815B2 JP6948815B2 (en) 2021-10-13

Family

ID=64275105

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017073570A Active JP6948815B2 (en) 2017-04-03 2017-04-03 Radiation detector

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6948815B2 (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020143485A1 (en) * 2019-01-11 2020-07-16 惠科股份有限公司 Semiconductor, x-ray detector and display device
JP2021110666A (en) * 2020-01-14 2021-08-02 キヤノン電子管デバイス株式会社 Radiation detection module and radiation detector

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006052980A (en) * 2004-08-10 2006-02-23 Canon Inc Radiation detection device
JP2015096823A (en) * 2013-11-15 2015-05-21 浜松ホトニクス株式会社 Radiation detector and radiation detector manufacturing method
JP2017015428A (en) * 2015-06-29 2017-01-19 東芝電子管デバイス株式会社 Radiation detector and manufacturing method of same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006052980A (en) * 2004-08-10 2006-02-23 Canon Inc Radiation detection device
JP2015096823A (en) * 2013-11-15 2015-05-21 浜松ホトニクス株式会社 Radiation detector and radiation detector manufacturing method
US20160245931A1 (en) * 2013-11-15 2016-08-25 Hamamatsu Photonics K.K. Radiation detector, and method for producing radiation detector
JP2017015428A (en) * 2015-06-29 2017-01-19 東芝電子管デバイス株式会社 Radiation detector and manufacturing method of same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020143485A1 (en) * 2019-01-11 2020-07-16 惠科股份有限公司 Semiconductor, x-ray detector and display device
JP2021110666A (en) * 2020-01-14 2021-08-02 キヤノン電子管デバイス株式会社 Radiation detection module and radiation detector
JP7353191B2 (en) 2020-01-14 2023-09-29 キヤノン電子管デバイス株式会社 Radiation detection module and radiation detector

Also Published As

Publication number Publication date
JP6948815B2 (en) 2021-10-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6523620B2 (en) Radiation detector and method of manufacturing the same
JP5905672B2 (en) Radiation detector and manufacturing method thereof
WO2016111093A1 (en) Radiation detector and manufacturing method therefor
JP2015021898A (en) Radiation detector and manufacturing method of the same
JP6948815B2 (en) Radiation detector
JP2017090090A (en) Radiation detector and manufacturing method of the same
JP2017015428A (en) Radiation detector and manufacturing method of same
JP2014215159A (en) Radiation detector and method of manufacturing the same
JP2012037454A (en) Radiation detector and manufacturing method thereof
JP2017111082A (en) Radiation detector and manufacturing method of the same
JP2014059246A (en) Radiation detector and method for manufacturing the same
JP5911330B2 (en) Radiation detector and manufacturing method thereof.
EP4249959A1 (en) Radiation detection panel
JP6704672B2 (en) Radiation detector module and radiation detector
JP6818617B2 (en) Radiation detectors, radiation detector manufacturing equipment, and radiation detector manufacturing methods
JP6673600B2 (en) Radiation detector and manufacturing method thereof
JP6598518B2 (en) Radiation detector
JP6749038B2 (en) Radiation detector and manufacturing method thereof
JP2015232503A (en) Radiation detector and manufacturing method of the same
JP6968668B2 (en) Radiation detection module and radiation detector
JP2017078648A (en) Radiation detector
JP2018179510A (en) Radiation detector, device for manufacturing radiation detector, and method for manufacturing radiation detector
JP2020056667A (en) Radiation detection module, radiation detector, and method for manufacturing radiation detection module
JP2020041948A (en) Radiation detection module, radiation detector, and method for manufacturing radiation detector
JP2017040622A (en) Radiation detector and manufacturing method of same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200123

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210121

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210202

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210820

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20210921

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6948815

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150