JP2018179152A - ガス制御弁 - Google Patents

Abstract

【課題】弁の高さを低く抑えると共に、金属ダイアフラムでも安定して駆動することのできるガス制御弁を提供すること。【解決手段】弁座２６が形成された弁本体１０と、弁座２６に当接または離間する金属ダイアフラム３１と、を備えるガス制御弁１において、弁本体１０が、一対の広い対向面（表面２、裏面３）を備える平板形状であって、金属ダイアフラム３１が、表面２、裏面３と平行に配置されていること、金属ダイアフラム３１を押圧するためのステム３２を有すること、外部から加えられた外力により、ステム３２を押圧するゴムダイアフラム３３を有することを特徴とする【選択図】図１

Description

本発明は、弁座が形成された流路ブロック体と、前記弁座に当接または離間する金属ダイアフラム弁体と、を備えるガス制御弁に関するものである。

従来、半導体製造工程において、プロセスガス等を供給するために多数のガス制御弁が使用されている。それら多数のガス制御弁は、真空チャンバーの周囲に配置されるが、集積化するためにガス制御弁の小型化が強く要請されている。
本出願人は、特許文献１の図４９、図５０において、複数のピストン室（パイロット弁部）を直列につなぐことにより弁閉時のシール力を高めた小型ガス制御弁を提案した。

一方、本出願人は、エア供給弁において、特許文献２、３において、流路ブロック体が、一対の広い対向面を備える直方体形状であって、弁座と当接または離間するゴムダイアフラム弁体が、対向面と平行に配置されているガス制御弁を提案している。
このガス制御弁によれば、複数個を密に配置できるため、ガス弁の集積化が実現できる。

特開2015-178894号公報 特開2016-037983号公報 特開2016-217519号公報

しかしながら、従来のガス制御弁には、次の問題があった。
（１）特許文献１のガス制御弁では、例えば、６段ものパイロット弁体を直列につなぐため、設置面積は小さくなるが、高さが高くなるため、全体として大型化し問題であった。半導体製造工程では、集積化したガス制御弁を壁に取り付ける場合もあり、高さが高すぎると問題であった。
（２）特許文献２、３のガス制御弁においては、使っているのがゴムダイアフラムであるため、比較的弱い力で変形することができるため問題がないが、半導体製造工程で使用する腐食性ガスでは、金属ダイアフラムを使用する必要があるが、金属ダイアフラムは、変形させるのに大きな力が必要となるため、金属ダイアフラムに直接圧縮空気を供給しても、金属ダイアフラムの駆動が安定しない問題があった。

本発明は、上記問題点を解決するためのものであり、弁の高さを低く抑えると共に、金属ダイアフラムでも安定して駆動することのできるガス制御弁を提供することを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明のガス制御弁は、次のような構成を有している。
（１）弁座が形成された流路ブロック体と、弁座に当接または離間する金属ダイアフラム弁体と、を備えるガス制御弁において、流路ブロック体が、一対の広い対向面を備える平板形状であって、金属ダイアフラム弁体が、対向面と平行に配置されていること、金属ダイアフラム弁体を押圧するためのステムを有すること、外部から加えられた力により、ステムを押圧する外力機構を有することを特徴とする。
（２）（１）に記載のガス制御弁において、流路ブロック体の、一対の広い対向面以外の側面のうちの１つの側面に、金属ダイアフラム弁体により連通または遮断される第１ポート及び第２ポートが形成されていること、１つの側面に対向する別の側面に、外力を入力する入力部が形成されていること、を特徴とする。

（３）（１）または（２）に記載のガス制御弁において、外力機構が、金属ダイアフラム弁体より受圧面積の大きい弾性体ダイアフラムであること、を特徴とする。
（４）（１）または（２）に記載のガス制御弁において、外力機構がテコ機構であること、を特徴とする。

（５）（４）に記載のガス制御弁において、外力が、圧縮空気による弾性体ダイアフラムの移動によること、を特徴とする。
（６）（４）に記載のガス制御弁において、外力が、手動によるカムの移動によること、を特徴とする。
（７）（４）に記載のガス制御弁において、外力が、手動によるネジの移動によること、を特徴とする。

本発明のガス制御弁は、次のような作用・効果を有する。
（１）弁座が形成された流路ブロック体と、弁座に当接または離間する金属ダイアフラム弁体と、を備えるガス制御弁において、流路ブロック体が、一対の広い対向面を備える平板形状であって、金属ダイアフラム弁体が、対向面と平行に配置されていること、金属ダイアフラム弁体を押圧するためのステムを有すること、外部から加えられた外力により、ステムを押圧する外力機構を有することを特徴とするので、ステムの円弧形状の底面が金属ダイアフラム弁体を押圧したときに、金属ダイアフラム弁体を弁座に対して均一に押圧できると共に、外力機構が加えられた外力によりステムを押圧できるため、安定して弁閉を行うことができ、弁の高さを低く抑えると共に、金属ダイアフラムを安定して駆動することができる。

（２）（１）に記載のガス制御弁において、流路ブロック体の、一対の広い対向面以外の側面のうちの１つの側面に、金属ダイアフラム弁体により連通または遮断される第１ポート及び第２ポートが形成されていること、１つの側面に対向する別の側面に、外力を入力する入力部が形成されていること、を特徴とするので、薄い構造を持つ複数のガス制御弁を集積して配置したときに、流体の入出力口を全て同じ方向から繋ぐことができ、かつ外力を全て同じ方向から入力できるため、作業性を良くすることができる。また、配管を整列させて配置できるため、見栄えを良くすることができる。

（３）（１）または（２）に記載のガス制御弁において、外力機構が、金属ダイアフラム弁体より受圧面積の大きい弾性体ダイアフラムであること、を特徴とするので、与えられた圧縮空気による外力を、弾性体ダイアフラム（例えば、ゴムダイアフラム）の大きな受圧面積により、増幅できるため、ステムを介して、金属ダイアフラム弁体を安定して駆動することができる。

（４）（１）または（２）に記載のガス制御弁において、外力機構がテコ機構であること、を特徴とするので、例えば、弾性体ダイアフラムの受圧面積を十分採ることができない場合でも、テコ機構により必要な力まで増幅することができるため、ステムを介して、金属ダイアフラム弁体を安定して駆動することができる。

（５）（４）に記載のガス制御弁において、外力が、圧縮空気による弾性体ダイアフラムの移動によること、を特徴とするので、例えば、弾性体ダイアフラムの受圧面積を十分採ることができない場合でも、テコ機構により必要な力まで増幅することができるため、ステムを介して、金属ダイアフラム弁体を安定して駆動することができる。

（６）（４）に記載のガス制御弁において、外力が、手動によるカムの移動によること、を特徴とするので、エアオペレート弁ではなく、手動弁においても、カムを移動、例えば回転させるだけで、金属ダイアフラム弁体を駆動できるため、ステムを介して、金属ダイアフラム弁体を安定して駆動することができる。また、カムを回転させる工具（例えば、六角レンチ）の位置により、容易かつ確実に弁の開閉状態を外から把握することができる。

（７）（４）に記載のガス制御弁において、外力が、手動によるネジの移動によること、を特徴とするので、例えば、マイナスドライバーをネジに差し入れて、手動で９０度回転させるだけで、ステムを介して、金属ダイアフラム弁体を安定して駆動して弁閉状態とすることができ、また、９０度逆回転させるだけで、ステムを介して、金属ダイアフラム弁体を安定して駆動して全開状態とすることができる。

第１実施の形態のガス制御弁の構成を示す断面図（弁閉状態）である。 ガス制御弁の構成を示す断面図（弁開状態）である。 弁本体の平面図である。 図３のＡＡ断面図である。 弁本体の背面図である。 ゴムダイアフラムの平面図である。 第２の実施の形態のガス制御弁の弁閉状態を示す断面図である。 ガス制御弁の弁開状態を示す断面図である。 ガス制御弁の表蓋を外した状態の平面図である。 第３の実施の形態のガス制御弁の表蓋を外した弁開状態を示す平面図である。 ガス制御弁の弁開状態を示す断面図である。 ガス制御弁の表蓋を外した弁閉状態を示す平面図である。 ガス制御弁の弁閉状態を示す断面図である。 回転カムの平面図である。 図１４のＢＢ断面図である。 第４の実施の形態のガス制御弁の弁閉状態を示す断面図である。 ガス制御弁の弁開状態を示す断面図である。 ガス制御弁の表蓋を外した平面図である。 図１８の右側面図である。

本発明のガス制御弁１の実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図１及び図２に、第１実施の形態のガス制御弁１の構成を断面図で示す。図１は、弁閉状態であり、図２は、弁開状態である。図３に、弁本体１０の平面図を示し、図４に図３のＡＡ断面図を示し、図５に、弁本体１０の背面図を示す。図６に、ゴムダイアフラム３３の平面図を示す。
図１に示すように、ガス制御弁１は、一対の広い対向面である表面２、裏面３を備え、４つの側面のうち、第１側面４に、第１ポート１１、及び第２ポート１９（図５に示す）が形成されている。また、第１側面４に対向する第３側面５に、外部エアを導入するための外部エアポート２４が形成されている。

図５に示すように、第１ポート１１から、弁本体１０の中央に形成された弁孔１４まで、弁本体１０に第１連通路１２が溝として形成されている。また、第２ポート１９から、弁孔１４に隣接して弁室２７と連通する連通孔２８まで、弁本体１０に第２連通路２０が溝として形成されている。第１連通路１２、第２連通路２０は、２つの裏蓋２１により各々隔離して密閉されている。すなわち、図４に示すように、弁本体１０の裏面３に形成された第１連通路１２、第２連通路２０には、段差部１３、２９が形成されており、段差部１３、２９の各々に裏蓋２１が装着固定されている。

図４に示すように、弁孔１４の上端面には、円周溝１５が形成され、円周溝１５には、弁座２６が装着固定されている。図１に示すように、弁閉状態では、弁座２６に金属ダイアフラム３１の下面が当接している。金属ダイアフラム３１は、円形状で上向きに凸形状の薄板であり、全外周が弁本体１０に溶接接合されている。金属ダイアフラム３１の下面であって、弁座２６の当接部より外側には、弁室２７が形成されている。
金属ダイアフラム３１の上面には、中空状のリングガイド３５が固設されている。リングガイド３５の中空部には、ステム３２が摺動可能に保持されている。ステム３２の上下両面は、凸状円弧形状に形成されている。図２に示すように、弁開状態では、ステム３２の下面の凸状円弧の頂点部が金属ダイアフラム３１に接触している。図１に示すように、ステム３２の下面の円弧形状は、ステム３２が金属ダイアフラム３１を押圧したときに、金属ダイアフラム３１が無理なく変形して弁座２６に当接するように設計されている。

ステム３２の上部には、ゴムダイアフラム３３が配置されている。ゴムダイアフラム３３の外周部３３ｅ（図６に示す）が、弁本体１０と固定用リング２５、及び表蓋２２により挟まれて固定されている。ゴムダイアフラム３３は、中央の平面部３３ａの外周に凸状の屈曲部３３ｂを備えている。
平面部３３ａの下面には、金属薄板３４が接着剤により貼り付けられている。ゴムダイアフラム３３に圧縮空気が作用したときに、ゴムは伸びてしまうが、金属薄板３４が貼り付けられている平面部３３ａは、伸びて変形することがなく、屈曲部３３ｂにおいてゴムダイアフラム３３は変形する。金属薄板３４の下面がステム３２の上面に接触している。

ゴムダイアフラム３３の上面には、背圧室３６が形成されている。背圧室３６に圧縮空気が供給されたときにゴムダイアフラム３３が受ける有効受圧面積 Ａ１は、π×（Ｗ１／２）×（Ｗ１／２）である。
仮に、金属ダイアフラム３１に直接圧縮空気を供給したときに、金属ダイアフラム３１が受ける有効受圧面積Ａ２は、圧縮空気を受ける面積が金属ダイアフラム３１全体の約２分の１である（π×（Ｗ２／２）×（Ｗ２／２））。ここで、Ｗ１は、Ｗ２の約１．９倍なので、ゴムダイアフラム３３の有効受圧面積Ａ１は、金属ダイアフラム３１の有効受圧面積Ａ２の約３．５倍となっている。

金属ダイアフラム３１は上向きにバネ力が働くため、金属ダイアフラム３１の有効受圧面積Ａ２では、高圧の圧縮空気を供給しなければ安定した駆動が得られない問題があるが、本実施の形態では、有効受圧面積Ａ１が約３．５倍のゴムダイアフラム３３を用いているため、低圧の圧縮空気でも金属ダイアフラム３１の変形を容易に行うことができるため、ガス制御弁１の駆動を安定して行うことができる。
背圧室３６は、図６に示すように、ゴムダイアフラム３３に形成された流路３３ｃ、ポート３３ｄを介して、外部エアポート２４に連通している。外部エアポート２４は、継ぎ手部材２３に形成されており、継ぎ手部材２３は、弁本体１０の第１ポート１１、第２ポート１９が形成された側面に対向する側面に固設されている。
なお、請求項の「流路ブロック体」は、本実施形態では、弁本体１０、裏蓋２１、表蓋２２、及び継ぎ手部材２３を示す。

次に、ガス制御弁１の作用について説明する。外部エアポート２４に圧縮エアが供給されていないときには、図２に示すように、ゴムダイアフラム３３に空気圧が作用していないため、金属ダイアフラム３１のバネ力により、金属ダイアフラム３１は、弁座２６から離間している。これにより、弁孔１４と弁室２７が連通し、第１ポート１１と第２ポート１９が連通している。
外部エアポート２４に圧縮空気が供給されているときには、図１に示すように、ゴムダイアフラム３３に空気圧が作用しているため、ゴムダイアフラム３３が、金属薄板３４を介してステム３２を押し下げ、金属ダイアフラム３１のバネ力に抗して、金属ダイアフラム３１は、弁座２６に当接している。これにより、弁孔１４と弁室２７が遮断され、第１ポート１１と第２ポート１９が遮断されている。

本実施の形態のガス制御弁１は、次のような作用・効果を有する。
（１）弁座２６が形成された流路ブロック体（弁本体１０、裏蓋２１、表蓋２２、継ぎ手部材２３）と、弁座２６に当接または離間する金属ダイアフラム３１と、を備えるガス制御弁１において、流路ブロック体（弁本体１０、裏蓋２１、表蓋２２、継ぎ手部材２３）が、一対の広い対向面（表面２、裏面３）を備える平板形状であって、金属ダイアフラム３１が、表面２、裏面３と平行に配置されていること、金属ダイアフラム３１を押圧するためのステム３２を有すること、外部から加えられた外力により、ステム３２を押圧する外力機構（ゴムダイアフラム３３）を有することを特徴とするので、ステム３２の円弧形状の底面が金属ダイアフラム３１を押圧したときに、金属ダイアフラム３１を弁座２６に対して均一に押圧できると共に、金属ダイアフラム３１が加えられた外力によりステム３２を押圧できるため、安定して弁閉を行うことができ、弁の高さを低く抑えると共に、金属ダイアフラム３１を安定して駆動することができる。

（２）（１）に記載のガス制御弁において、流路ブロック体（弁本体１０、裏蓋２１、表蓋２２、継ぎ手部材２３）の、一対の広い表面２、裏面３以外の側面のうちの１つの第１側面４に、金属ダイアフラム３１により連通または遮断される第１ポート１１及び第２ポート１９が形成されていること、１つの第１側面４に対向する別の第３側面５に、外力（圧縮空気）を入力する外部エアポート２４（入力部）が形成されていること、を特徴とするので、薄い構造を持つ複数のガス制御弁１を集積して配置したときに、流体の入出力口である第１ポート１１、第２ポート１９を全て同じ方向から繋ぐことができ、かつ外力を全て同じ方向から入力（外部エアポート２４）できるため、作業性を良くすることができる。また、配管を整列させて配置できるため、見栄えを良くすることができる。

（３）（１）または（２）に記載のガス制御弁１において、外力機構が、金属ダイアフラム３１より受圧面積の大きい弾性体ダイアフラム（ゴムダイアフラム３３）であること、を特徴とするので、与えられた圧縮空気による外力を、弾性体ダイアフラム（ゴムダイアフラム３３）の大きな受圧面積により、増幅できるため、ステム３２を介して、金属ダイアフラム３１を安定して駆動することができる。

次に本発明の第２の実施の形態のガス制御弁４０について説明する。第１の実施の形態と同じ部分については、符号を同じにして詳細な説明を割愛し、相違している部分について詳細に説明する。
図７に、ガス制御弁４０の弁閉状態での断面図を示し、図８に、弁開状態での断面図を示す。図９に、ガス制御弁４０の表蓋４４、４５を外した状態の平面図を示す。
図７に示すように、金属ダイアフラム３１、ステム３２は、図１と同じである。ステム３２を押圧しているのは、テコ部材４２の短手部４２ａの下面に設けられた突起である。テコ部材４２は、軸４１により回転可能に保持されている。テコ部材４２の右側には長手部４２ｂが延びている。長手部４２ｂの上端面はゴムダイアフラム３３に当接している。長手部４２ｂは、バネ受け４６を介し、圧縮バネ４３により上向き（金属ダイアフラム３１を弁座２６に当接させる方向）に付勢されている。

長手部４２ｂの長さは、短手部４２ａの長さの約２．５倍あるため、圧縮バネ４３で発生する力が、約２．５倍に増幅されてステム３２に押圧される。
ゴムダイアフラム３３の有効受圧面積に圧縮空気を受けて発生する力は、圧縮バネ４３で発生する力より大きい（ゴムダイアフラム３３の有効受圧面積に圧縮空気を受けて発生する力＞圧縮バネ４３で発生する力）ため、圧縮バネ４３は、圧縮空気により、テコ部材４２とバネ受け４６を介して圧縮し、テコ部材４２が時計方向に回転することにより、金属ダイアフラム３１は、上向きのバネ力により、ステム３２を弁座２６より離間させて弁開状態となる。

（４）（１）または（２）に記載のガス制御弁４０において、外力機構がテコ機構（テコ部材４２）であること、を特徴とするので、例えば、ゴムダイアフラム３３の受圧面積を十分採ることができない場合でも、テコ部材４２により必要な力まで増幅することができるため、ステム３２を介して、金属ダイアフラム３１を安定して駆動することができる。

次に本発明の第３の実施の形態のガス制御弁５０について説明する。第１の実施の形態、及び第２の実施の形態と同じ部分については、符号を同じにして詳細な説明を割愛し、相違している部分について詳細に説明する。
図１０に、ガス制御弁５０の表蓋４４、４５を外した弁開状態での平面図を示し、図１１に、ガス制御弁５０の弁開状態での断面図を示す。図１２に、ガス制御弁５０の表蓋４４、４５を外した弁閉状態での平面図を示し、図１３に、ガス制御弁５０の弁閉状態での断面図を示す。図１４に、回転カム５１の平面図を示し、図１５に、図１４のＢＢ断面図を示す。

図１１に示すように、テコ部材４２の長手部４２ｂの先端は、薄くなっており、薄くなった部分の上面に鋼球５４が固定されている。一方、回転カム５１が軸５３に回転可能に保持されている。回転カム５１は、円弧部５１ａと水平に切欠かれた水平部５５を備える。円弧部５１ａは、上面のみの薄板状に形成され、薄板部の下面に、図１３に示すように、カム溝５１ｂが形成されている。図１０、図１１の弁開状態では、カム溝５１ｂの浅い位置５１ｂＢで鋼球５４と当接し、図１２、図１３の弁閉状態では、カム溝５１ｂの深い位置５１ｂＡで鋼球５４と当接している。
水平部５５には、六角レンチ５２を係合するための係合孔５５ａが形成されている。
図１２の弁閉状態において、六角レンチ５２を外した後、ブラケット５６の形成された孔に図示しない南京錠を取り付けることにより、係合孔５５ａが南京錠により塞がれるため、六角レンチ５２を入れることができなくなる。弁開状態では回転カム５１の円弧部５１ａが南京錠の挿入を不可能にするため、弁開状態における南京錠の取り付けはできない。これにより、手動弁において弁閉状態を確実に確保できる。

次に、ガス制御弁５０の作用について説明する。図１０、図１１に示す弁開状態では、回転カム５１の円弧部５１ａ下面のカム溝５１ｂの浅い位置５１ｂＢに鋼球５４が当接し、長手部４２ｂを、圧縮バネ４３の上向きの付勢力に抗してバネ受け４６を介して押し下げている。
長手部４２ｂが押し下げられることにより、テコ部材４２の短手部４２ａが上向きに移動して、ステム３２が金属ダイアフラム３１の上向きのバネ力で押し上げられる。これにより、金属ダイアフラム３１は、弁座２６から離間して弁開状態となる。

図１２、図１３においては、図１０の状態から六角レンチ５２を時計回りに回転させる。これにより、鋼球５４は、カム溝５１ｂの中の取り込まれた状態となり、圧縮バネ４３の付勢力により、長手部４２ｂが上向きに回転する。
長手部４２ｂが上向きに回転されることにより、テコ部材４２の短手部４２ａが下向きに移動して、ステム３２が金属ダイアフラム３１の上向きのバネ力に抗して押し下げられる。これにより、金属ダイアフラム３１は、弁座２６に当接して弁閉状態となる。

（６）（４）に記載のガス制御弁において、外力が、手動による回転カム５１の回転によること、を特徴とするので、エアオペレート弁ではなく、手動弁においても、回転カム５１を回転させるだけで、金属ダイアフラム３１を駆動できるため、ステム３２を介して、金属ダイアフラム３１を安定して駆動することができる。また、回転カム５１を回転させる工具（例えば、六角レンチ５２）の位置により、容易かつ確実に弁の開閉状態を外から把握することができる。

次に本発明の第４の実施の形態のガス制御弁６０について説明する。第１の実施の形態、第２の実施の形態、及び第３の実施の形態と同じ部分については、符号を同じにして詳細な説明を割愛し、相違している部分について詳細に説明する。
図１８に、ガス制御弁６０の表蓋４４を外した平面図を示し、図１６に、ガス制御弁６０の弁閉状態での断面図を示し、図１７に、ガス制御弁６０の弁開状態での断面図を示す。図１９に、図１８の右側面図を示す。
テコ部材６１が、軸６２に回転可能に保持されている。左手部６１ａの下面は、ステム３２の上面に当接している。テコ部材６１の軸の右側は、左手部６１ａより短くされた右手部６１ｃが設けられている。右手部６１ｃの端面には、傾斜部６１ｂが形成されている。

傾斜部６１ｂには、摺動部材６５の先端軸６３に回転可能に保持されたローラ６４が当接している。摺動部材６５は、弁本体１０に直線的に摺動可能に保持されている。また、摺動部材６５は、付勢バネ６６により、右方向に付勢されている。
摺動部材６５の右端面には、ネジ部材６７の左端面が当接している。ネジ部材６７は、雄ネジ部６７ａを備え、本体に形成された雌ネジ部とネジ結合している。ネジ部材６７の右端には、ネジ穴が形成され、ネジ部材６８によりカバー６９がネジ連結されている。カバー６９を９０度回転させると、摺動部材６５が左方向に移動する。カバー６９には、マイナスドライバーを差し入れるためのマイナスネジ穴６９ａが形成されている。
また、右手部６１ｃが左手部６１ａと比較して短いため、右手部６１ｃが少し回転移動するだけで、左手部６１ａの回転移動量を大きく増幅することができる。

次に、ガス制御弁６０の作用について説明する。図１７に示す弁開状態では、図１９に示すように、マイナスネジ穴６９ａが水平方向に位置している。摺動部材６５は、右方向の位置にあり、ローラ６４は、右手部６１ｃに当接しているが、テコ部材６１を反時計回りに回転させてはいない。この状態では、左手部６１ａの下面は、ステム３２と離間しており、金属ダイアフラム３１は、バネ力により、弁座２６から離間している。
次に図１７において、マイナスネジ穴６９ａを垂直まで９０度回転させる。これにより、摺動部材６５が左方向に移動する。そして、ローラ６４が傾斜部６１ｂを押圧して、テコ部材６１を反時計回りに回転させる。これにより、左手部６１ａの下面がステム３２を下向きに押し下げて、金属ダイアフラム３１が変形して弁座２６に当接する。

（７）（４）に記載のガス制御弁において、外力が、手動によるネジ部材６８、６７の移動によること、を特徴とするので、例えば、マイナスドライバーをマイナスネジ穴６９ａに差し入れて、手動で９０度回転させるだけで、ステム３２を介して、金属ダイアフラム３１を安定して駆動して弁閉状態とすることができ、また、９０度逆回転させるだけで、ステム３２を介して、金属ダイアフラム３１を安定して駆動して全開状態とすることができる。

なお、本実施形態は単なる例示にすぎず、本発明を何ら限定するものではない。したがって本発明は当然に、その要旨を逸脱しない範囲内で様々な改良、変形が可能である。
例えば、本実施の形態では、ゴムダイアフラム３３を用いているが、樹脂製のダイアフラムを用いても良い。
また、本実施の形態では、カムとして溝カムを用いているが、他のカムでも良い。

１０ 弁本体
１１ 第１ポート
１９ 第２ポート
２６ 弁座
３１ 金属ダイアフラム
３２ ステム
３３ ゴムダイアフラム
３５ リングガイド
４２、６１ テコ部材
４３ 圧縮バネ
５１ 回転カム
５４ 鋼球
６５ 摺動部材
６７、６８ ネジ部材

Claims (7)

1. 弁座が形成された流路ブロック体と、前記弁座に当接または離間する金属ダイアフラム弁体と、を備えるガス制御弁において、
   前記流路ブロック体が、一対の広い対向面を備える平板形状であって、前記金属ダイアフラム弁体が、前記対向面と平行に配置されていること、
   前記金属ダイアフラム弁体を押圧するためのステムを有すること、
   外部から加えられた外力により、前記ステムを押圧する外力機構を有すること、
   を特徴とするガス制御弁。
2. 請求項１に記載のガス制御弁において、
   前記流路ブロック体の、前記一対の広い対向面以外の側面のうちの１つの側面に、前記金属ダイアフラム弁体により連通または遮断される第１ポート及び第２ポートが形成されていること、
   前記１つの側面に対向する別の側面に、前記外力を入力する入力部が形成されていること、
   を特徴とするガス制御弁。
3. 請求項１または請求項２に記載のガス制御弁において、
   前記外力機構が、前記金属ダイアフラム弁体より受圧面積の大きい弾性体ダイアフラムであること、
   を特徴とするガス制御弁。
4. 請求項１または請求項２に記載のガス制御弁において、
   前記外力機構がテコ機構であること、
   を特徴とするガス制御弁。
5. 請求項４に記載のガス制御弁において、
   前記外力が、圧縮空気による弾性体ダイアフラムの移動によること、
   を特徴とするガス制御弁。
6. 請求項４に記載のガス制御弁において、
   前記外力が、手動によるカムの移動によること、
   を特徴とするガス制御弁。
7. 請求項４に記載のガス制御弁において、
   前記外力が、手動によるネジの移動によること、
   を特徴とするガス制御弁。

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