JP2018157025A - Substrate processing apparatus - Google Patents

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友宏 松尾
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate processing apparatus capable of enhancing airtightness of a processing container.SOLUTION: A substrate processing apparatus 1 includes a housing 11, a lid 13, a holding member 6, a stopper 7, and a manual adjusting portion 8. The housing 11 has an opening on the upper surface of the housing 11. The lid 13 opens and closes an opening of the casing 11 by attaching to and detaching from the housing 11. The stopper 6 includes a first end portion 21 and a second end portion 22. The holding member 6 presses the lid 13 against the housing 11. The stopper 7 contacts the first end portion 21 of the holding member 6 and prohibits the first end portion 21 from moving upward. The manual adjustment portion 8 adjusts the height position of the second end portion 22 of the holding member 6 by a user operation.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明は、基板を処理する基板処理装置に関する。基板は、半導体ウエハ、フォトマスク用基板、液晶表示用基板、プラズマディスプレイ用基板、有機EL用基板、FED(Field Emission Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、太陽電池用基板などである。   The present invention relates to a substrate processing apparatus for processing a substrate. Substrates are semiconductor wafer, photomask substrate, liquid crystal display substrate, plasma display substrate, organic EL substrate, FED (Field Emission Display) substrate, optical display substrate, magnetic disk substrate, optical disk substrate, optical Examples include magnetic disk substrates and solar cell substrates.

特許文献1は、基板を熱処理する基板処理装置を開示する。基板処理装置はプレートと蓋と蓋昇降機構を備える。基板はプレートに載置される。プレートは、プレート上の基板を加熱する。プレートの上方の空間は、基板を処理する処理空間である。蓋は処理空間の上方の開口(以下、「上部開口」という)を開閉する。蓋昇降機構は、蓋を上方位置と下方位置とに移動させる。蓋が上方位置にあるとき、上部開口が開放される。すなわち、処理空間が開放される。蓋が下方位置にあるとき、上部開口が閉塞される。処理空間は密閉される。すなわち、処理空間が密閉される。制御部は蓋昇降機構を制御する。   Patent Document 1 discloses a substrate processing apparatus that heat-treats a substrate. The substrate processing apparatus includes a plate, a lid, and a lid lifting mechanism. The substrate is placed on the plate. The plate heats the substrate on the plate. The space above the plate is a processing space for processing the substrate. The lid opens and closes an opening above the processing space (hereinafter referred to as “upper opening”). The lid lifting mechanism moves the lid to an upper position and a lower position. When the lid is in the upper position, the top opening is opened. That is, the processing space is released. When the lid is in the lower position, the upper opening is closed. The processing space is sealed. That is, the processing space is sealed. The control unit controls the lid lifting mechanism.

処理空間に基板を搬入する手順は次の通りである。蓋昇降機構は、制御部による制御に従って、蓋を上方位置に移動させる。これにより、上部開口が開放される。基板Wは、略水平姿勢の状態で、上部開口の上方から下降する。これにより、基板Wが上部開口を通過して処理空間に入る。基板Wはプレート上に載置される。その後、蓋昇降機構は、制御部による制御に従って、蓋を下方位置に移動させる。これにより、上部開口が閉塞される。   The procedure for carrying the substrate into the processing space is as follows. The lid raising / lowering mechanism moves the lid to the upper position in accordance with control by the control unit. Thereby, the upper opening is opened. The substrate W descends from above the upper opening in a substantially horizontal posture. As a result, the substrate W passes through the upper opening and enters the processing space. The substrate W is placed on the plate. Thereafter, the lid lifting mechanism moves the lid to a lower position according to control by the control unit. Thereby, the upper opening is closed.

処理空間から基板を搬出する手順は次の通りである。蓋昇降機構は、制御部による制御に従って、蓋を上方位置に移動させる。これにより、上部開口が開放される。基板Wは、略水平姿勢の状態で、プレートから離れ、上方に移動する。これにより、基板Wは上部開口を通過して処理空間から出る。   The procedure for unloading the substrate from the processing space is as follows. The lid raising / lowering mechanism moves the lid to the upper position in accordance with control by the control unit. Thereby, the upper opening is opened. The substrate W moves away from the plate in a substantially horizontal posture. As a result, the substrate W passes through the upper opening and exits the processing space.

このように、上部開口は、基板Wが処理空間に入り、且つ、処理空間からであるための搬送口に相当する。   Thus, the upper opening corresponds to a transfer port for the substrate W to enter the processing space and from the processing space.

特開2014−22570号公報JP 2014-22570 A

従来例の基板処理装置では、搬送口の面積が比較的に大きい。このため、処理空間の気密性を確保することが困難になる場合がある。   In the conventional substrate processing apparatus, the area of the transfer port is relatively large. For this reason, it may be difficult to ensure the airtightness of the processing space.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、処理容器の気密性を高めることができる基板処理装置を提供することを目的とする。   This invention is made | formed in view of such a situation, Comprising: It aims at providing the substrate processing apparatus which can improve the airtightness of a processing container.

本発明者らは、処理容器における搬送口の配置の変更を試みた。具体的には、本発明者らは、側面に搬送口を有し、且つ、上面に開口を有しない処理容器を検討した。この場合、基板Wは、略水平姿勢の状態で略水平方向に移動することによって、搬送口を通過する。このため、搬送口の面積が小さくても、基板Wは通ることができる。したがって、搬送口の面積を小さくすることによって、処理容器の気密性を高めることができる。   The inventors of the present invention tried to change the arrangement of the transfer ports in the processing container. Specifically, the present inventors examined a processing container having a transfer port on the side surface and no opening on the upper surface. In this case, the substrate W passes through the transport port by moving in a substantially horizontal direction in a substantially horizontal posture. For this reason, even if the area of a conveyance opening is small, the board | substrate W can pass. Therefore, the airtightness of the processing container can be enhanced by reducing the area of the transfer port.

しかしながら、本発明者らは、上述した処理容器が新たな問題を有することを知見した。すなわち、上述した処理容器の場合、搬送口が小さいので、処理容器のメンテナンスが困難である。   However, the present inventors have found that the above-described processing container has a new problem. That is, in the case of the processing container described above, since the transport port is small, maintenance of the processing container is difficult.

そこで、本発明は、側面に搬送口を有し、且つ、上面に開口(以下、適宜に「上部開口」という)を有する処理容器を検討した。具体的には、処理容器は、筐体とシャッターと蓋部を備える。筐体は、側面に搬送口を有し、且つ、上面に上部開口を有する。シャッターは搬送口を開閉する。蓋部は、上部開口を開閉する。   In view of this, the present invention has examined a processing container having a transfer port on the side surface and an opening on the upper surface (hereinafter referred to as “upper opening” as appropriate). Specifically, the processing container includes a housing, a shutter, and a lid. The housing has a transfer port on the side surface and an upper opening on the upper surface. The shutter opens and closes the transport port. The lid opens and closes the upper opening.

さらに、本発明者は、蓋部を筐体に複数のボルトによって締結することを検討した。ボルトによれば、蓋部と筐体は強固に密着する。このため、処理容器の気密性を好適に維持できる。なお、ボルトの着脱と筐体に対する蓋部の着脱は、ユーザーの手作業による。   Furthermore, this inventor examined fastening the cover part to a housing | casing with a some volt | bolt. According to the bolt, the lid and the housing are firmly attached. For this reason, the airtightness of a processing container can be maintained suitably. In addition, attachment / detachment of a bolt and attachment / detachment of a cover part with respect to a housing | casing are manual operations of a user.

しかしながら、本発明者らは、上述した処理容器が新たな問題を有することを知見した。すなわち、蓋部を筐体に締結するボルトの数が複数であるので、ボルトを着脱する作業が煩雑となる。さらに、処理容器の周囲における作業スペースが狭小である場合、ボルトを着脱する作業が困難となる。さらに、処理容器が高温になる場合、ボルトの焼き付き、または、かじりが発生するおそれがある。ボルトの焼き付き、または、かじりが発生すると、ボルトを容易に外すことができない。これらの結果、蓋部を筐体に容易に着脱できない。したがって、メンテナンスを容易に行うことができない。   However, the present inventors have found that the above-described processing container has a new problem. That is, since there are a plurality of bolts for fastening the lid portion to the housing, the work of attaching and detaching the bolts becomes complicated. Furthermore, when the work space around the processing container is small, it is difficult to attach and detach the bolts. Furthermore, when the processing container becomes high temperature, there is a possibility that the seizure of bolts or galling occurs. If the seizure or galling of the bolt occurs, the bolt cannot be easily removed. As a result, the lid cannot be easily attached to and detached from the housing. Therefore, maintenance cannot be performed easily.

本発明者らは、これらの知見に基づいて、処理容器の気密性を高めることができ、且つ、処理容器のメンテナンスを容易に行うことができる基板処理装置をさらに検討した。   Based on these findings, the present inventors have further studied a substrate processing apparatus that can improve the hermeticity of the processing container and can easily perform maintenance of the processing container.

本発明は、このような試行、知見および検討によって得られたものであり、次のような構成をとる。すなわち、本発明は、基板処理装置であって、筐体であって、その上面に開口を有する前記筐体と、前記筐体に着脱することによって、前記開口を開閉する蓋部と、第1端部と第2端部を有し、前記蓋部を前記筐体に対して押さえる押さえ部材と、前記押さえ部材の前記第1端部と接触し、前記第1端部が上方に動くことを禁止する止め具と、ユーザーの操作によって前記押さえ部材の前記第2端部の高さ位置を調整する手動調整部と、を備える基板処理装置である。   The present invention has been obtained by such trials, knowledge and examinations, and has the following configuration. That is, the present invention is a substrate processing apparatus, which is a housing, the housing having an opening on an upper surface thereof, a lid portion that opens and closes the opening by being attached to and detached from the housing, and a first A pressing member that has an end and a second end, presses the lid against the housing, contacts the first end of the pressing member, and the first end moves upward. A substrate processing apparatus comprising: a stopper to be prohibited; and a manual adjustment unit that adjusts a height position of the second end portion of the pressing member by a user operation.

基板処理装置は、押さえ部材と止め具と手動調整部を備える。このため、押さえ部材の第1端部が上方に動くことを禁止した状態で、押さえ部材の第2端部の高さ位置を低くできる。これにより、押さえ部材は、筐体に対して蓋部を適切に押さえることができる。よって、処理容器の密着性を高めることができる。   The substrate processing apparatus includes a pressing member, a stopper, and a manual adjustment unit. For this reason, the height position of the second end portion of the pressing member can be lowered in a state where the first end portion of the pressing member is prohibited from moving upward. Thereby, the pressing member can appropriately press the lid against the casing. Therefore, the adhesion of the processing container can be improved.

さらに、押さえ部材の第1端部が上方に動くことを禁止した状態で、押さえ部材の第2端部の高さ位置を高くできる。これにより、押さえ部材による蓋部の押さえを解除できる。よって、蓋部を筐体から容易に分離できる。すなわち、開口を容易に開放できる。したがって、処理容器のメンテナンスを容易に行うことができる。   Furthermore, the height position of the second end portion of the pressing member can be increased in a state where the first end portion of the pressing member is prohibited from moving upward. Thereby, pressing of the lid by the pressing member can be released. Therefore, the lid can be easily separated from the housing. That is, the opening can be easily opened. Therefore, maintenance of the processing container can be easily performed.

上述した基板処理装置において、前記押さえ部材の前記第1端部は、平面視で前記蓋部の一方に位置し、前記押さえ部材の前記第2端部は、平面視で前記蓋部の一方とは反対の他方に位置することが好ましい。平面視で蓋部が第1端部と第2端部との間に配置される。このため、手動調整部が押さえ部材の第2端部の高さ位置を調整することによって、押さえ部材が蓋部を押さえる力を好適に変えることができる。   In the substrate processing apparatus described above, the first end portion of the pressing member is positioned on one side of the lid portion in a plan view, and the second end portion of the pressing member is positioned on one side of the lid portion in a plan view. Is preferably located on the other opposite side. The lid is disposed between the first end and the second end in plan view. For this reason, when the manual adjustment part adjusts the height position of the 2nd end part of a pressing member, the force in which a pressing member presses a cover part can be changed suitably.

上述した基板処理装置において、前記筐体は平面視において略矩形形状を有し、前記蓋部は平面視において前記筐体の略中央部に配置され、前記押さえ部材の前記第1端部および前記止め具は、平面視において前記筐体の第1角部に配置され、前記押さえ部材の前記第2端部および前記手動調整部は、平面視において前記第1角部に対向する前記筐体の第2角部に配置されることが好ましい。これによれば、第1角部のスペースを利用して押さえ部材の第1端部および止め具を効率良く配置できる。さらに、第2角部のスペースを利用して押さえ部材の第2端部および手動調整部を効率良く配置できる。よって、基板処理装置の設置面積を小さくできる。   In the substrate processing apparatus described above, the casing has a substantially rectangular shape in a plan view, and the lid portion is disposed at a substantially central portion of the casing in a plan view, and the first end portion of the pressing member and the lid The stopper is disposed at the first corner of the casing in a plan view, and the second end portion and the manual adjustment unit of the pressing member of the casing are opposed to the first corner in the plan view. It is preferable to arrange at the second corner. According to this, the 1st end part and stopper of a pressing member can be efficiently arrange | positioned using the space of a 1st corner | angular part. Furthermore, the second end portion of the pressing member and the manual adjustment portion can be efficiently arranged using the space of the second corner portion. Therefore, the installation area of the substrate processing apparatus can be reduced.

上述した基板処理装置において、前記基板処理装置は、前記筐体の側方に配置され、取り外し可能な外壁パネルを備え、前記手動調整部は、前記止め具よりも、前記外壁パネルに近い位置に配置されることが好ましい。外壁パネルを取り外した状態で、ユーザーは手動調整部を容易に操作できる。よって、処理容器のメンテナンスを一層容易に行うことができる。   In the substrate processing apparatus described above, the substrate processing apparatus is disposed on a side of the housing and includes a removable outer wall panel, and the manual adjustment unit is closer to the outer wall panel than the stopper. Preferably they are arranged. With the outer wall panel removed, the user can easily operate the manual adjustment unit. Therefore, the maintenance of the processing container can be performed more easily.

上述した基板処理装置において、前記手動調整部は、前記筐体に取り付けられ、前記筐体に対して前記押さえ部材の前記第2端部を上下動させることが好ましい。手動調整部は筐体に取り付けられるので、手動調整部を好適に設置できる。さらに、手動調整部は筐体に対して押さえ部材の第2端部を上下動させるので、手動調整部は押さえ部材の第2端部の高さ位置を好適に調整できる。   In the above-described substrate processing apparatus, it is preferable that the manual adjustment unit is attached to the housing and moves the second end portion of the pressing member up and down with respect to the housing. Since the manual adjustment unit is attached to the housing, the manual adjustment unit can be suitably installed. Furthermore, since the manual adjustment unit moves the second end of the pressing member up and down with respect to the housing, the manual adjustment unit can suitably adjust the height position of the second end of the pressing member.

上述した基板処理装置において、前記手動調整部はねじを含み、前記ねじの回動に応じて、前記押さえ部材の前記第2端部が上下動することが好ましい。ユーザーがねじを回動するだけで、押さえ部材の第2端部の高さ位置を容易に調整できる。   In the substrate processing apparatus described above, it is preferable that the manual adjustment unit includes a screw, and the second end portion of the pressing member moves up and down in accordance with the rotation of the screw. The user can easily adjust the height position of the second end of the pressing member simply by turning the screw.

上述した基板処理装置において、前記ねじはローレットボルトであることが好ましい。ユーザーは工具を使わずに、ローレットボルトを回動できる。よって、ユーザーは、押さえ部材の第2端部の高さ位置を一層容易に調整できる。   In the substrate processing apparatus described above, the screw is preferably a knurled bolt. The user can turn the knurled bolt without using a tool. Thus, the user can more easily adjust the height position of the second end portion of the pressing member.

上述した基板処理装置において、前記押さえ部材は、平面視で環形状を有し、且つ、平面視で前記蓋部と重なる外枠を有することが好ましい。押さえ部材は外枠を含むので、押さえ部材は筐体に対して蓋部を効果的に押さえることができる。   In the substrate processing apparatus described above, it is preferable that the pressing member has an annular shape in a plan view and has an outer frame that overlaps the lid portion in a plan view. Since the pressing member includes the outer frame, the pressing member can effectively press the lid against the casing.

上述した基板処理装置において、前記外枠の輪郭は略多角形状を有することが好ましい。外枠の輪郭が略多角形状を有するので、外枠のたわみや歪みを効果的に防止できる。よって、押さえ部材は蓋部を比較的に均一に押さえることができる。   In the substrate processing apparatus described above, it is preferable that the outline of the outer frame has a substantially polygonal shape. Since the outline of the outer frame has a substantially polygonal shape, it is possible to effectively prevent deflection and distortion of the outer frame. Therefore, the pressing member can press the lid portion relatively uniformly.

上述した基板処理装置において、前記押さえ部材は、平面視において前記外枠の内方に配置される補強部材であって、その両端が前記外枠と接合される補強部材を有することが好ましい。押さえ部材は補強部材を有するので、外枠のたわみや歪みを一層効果的に防止できる。よって、押さえ部材は蓋部を一層均一に押さえることができる。   In the substrate processing apparatus described above, it is preferable that the pressing member is a reinforcing member that is disposed inward of the outer frame in a plan view, and has reinforcing members that are joined to the outer frame at both ends. Since the pressing member has the reinforcing member, it is possible to more effectively prevent the outer frame from being bent or distorted. Therefore, the pressing member can press the lid portion more uniformly.

上述した基板処理装置において、前記押さえ部材は、前記外枠に直接的または間接的に接続され、前記蓋部と接触する3つ以上の座部を有することが好ましい。押さえ部材は座部を有するので、押さえ部材は蓋部を一層適切に押さえることができる。   In the substrate processing apparatus described above, it is preferable that the pressing member has three or more seats that are directly or indirectly connected to the outer frame and are in contact with the lid. Since the pressing member has the seat portion, the pressing member can press the lid portion more appropriately.

上述した基板処理装置において、前記押さえ部材は、前記外枠と前記座部との間に設けられる弾性部材を有することが好ましい。押さえ部材は弾性部材を有するので、各座部はそれぞれ、蓋部を一層適切に押さえることができる。   In the substrate processing apparatus described above, it is preferable that the pressing member includes an elastic member provided between the outer frame and the seat portion. Since the pressing member has an elastic member, each seat portion can press the lid portion more appropriately.

上述した基板処理装置において、前記押さえ部材は前記止め具および前記手動調整部から分離可能であることが好ましい。押さえ部材が止め具および手動調整部から分離した状態では、蓋部を筐体に容易に着脱できる。さらに、押さえ部材が止め具および手動調整部から分離した状態では、処理容器のメンテナンスを一層容易に行うことができる。   In the substrate processing apparatus described above, the pressing member is preferably separable from the stopper and the manual adjustment unit. In a state where the pressing member is separated from the stopper and the manual adjustment portion, the lid portion can be easily attached to and detached from the housing. Furthermore, in a state where the pressing member is separated from the stopper and the manual adjustment unit, the processing container can be more easily maintained.

上述した基板処理装置において、前記止め具は前記筐体に固定されることが好ましい。止め具は筐体に固定されるので、止め具を好適に設置できる。   In the substrate processing apparatus described above, it is preferable that the stopper is fixed to the housing. Since the stopper is fixed to the housing, the stopper can be preferably installed.

上述した基板処理装置において、前記止め具は略水平方向に延びる軸部材を含み、前記押さえ部材は前記軸部材回りに回転可能であることが好ましい。押さえ部材は略水平な軸部材回りに回転可能であるので、手動調整部は押さえ部材の第2端部の高さ位置を好適に調整できる。   In the substrate processing apparatus described above, it is preferable that the stopper includes a shaft member extending in a substantially horizontal direction, and the pressing member is rotatable around the shaft member. Since the pressing member can rotate around the substantially horizontal shaft member, the manual adjustment portion can suitably adjust the height position of the second end portion of the pressing member.

上述した基板処理装置において、前記押さえ部材が略水平姿勢である状態では、前記押さえ部材は前記蓋部と接触することが好ましい。これによれば、押さえ部材が略水平姿勢である状態において押さえ部材は蓋部と押さえることができる。このため、押さえ部材は蓋部を一層均一に押さえることができる。   In the substrate processing apparatus described above, it is preferable that the pressing member is in contact with the lid portion when the pressing member is in a substantially horizontal posture. According to this, in a state where the pressing member is in a substantially horizontal posture, the pressing member can be pressed against the lid portion. For this reason, the pressing member can press the lid portion more uniformly.

上述した基板処理装置において、前記軸部材の軸心の方向から見て、前記軸部材から前記第2端部に向かう水平な向きを、第1方向とし、前記止め具は、前記押さえ部材が略水平姿勢である状態で押さえ部材が前記軸部材から前記第1方向に移動することを、禁止し、前記止め具は、前記押さえ部材が前記第1方向に向かって上方に傾いた状態で前記押さえ部材が前記軸部材から前記第1方向に移動することを、許容することが好ましい。押さえ部材が略水平姿勢である状態では押さえ部材は蓋部を押さえることができる。押さえ部材は蓋部を押さえることができる状態では、押さえ部材が第1方向に移動することが禁止されている。よって、押さえ部材は蓋部を一層好適に押さえることができる。押さえ部材が第1方向に向かって上方に傾斜した状態では、押さえ部材は蓋部を押さえていない。押さえ部材が蓋部を押さえていない状態では、押さえ部材が第1方向に移動することが許容されている。よって、押さえ部材を止め具から容易に分離できる。   In the substrate processing apparatus described above, the horizontal direction from the shaft member toward the second end portion when viewed from the direction of the axial center of the shaft member is defined as a first direction, and the stopper is substantially the same as the stopper. The pressing member is prohibited from moving in the first direction from the shaft member in a horizontal posture, and the stopper is configured so that the pressing member is tilted upward in the first direction. It is preferable to allow the member to move from the shaft member in the first direction. When the pressing member is in a substantially horizontal posture, the pressing member can press the lid. In a state where the pressing member can press the lid portion, the pressing member is prohibited from moving in the first direction. Therefore, the pressing member can more suitably press the lid. In a state where the pressing member is inclined upward in the first direction, the pressing member does not press the lid. In a state where the pressing member is not pressing the lid, the pressing member is allowed to move in the first direction. Therefore, the pressing member can be easily separated from the stopper.

上述した基板処理装置において、前記軸部材の前記軸心を通る仮想的な水平面よりも上方に位置する前記軸部材の部分を、前記軸部材の上部とし、前記軸部材の前記上部以外の部分を前記軸部材の下部とし、前記軸部材の前記軸心を通る仮想的な鉛直面よりも前記第2端部側の前記軸部材の部分を、前記軸部材の表部とし、前記軸部材の前記表部以外の部分を前記軸部材の裏部とし、前記押さえ部材が略水平姿勢である状態では、前記第1端部は、前記軸部材の前記裏部と前記下部の共通部分と接触し、且つ、前記軸部材の前記表部と前記下部の共通部分と接触し、前記押さえ部材が前記第1方向且つ上方に傾斜した状態では、前記第1端部は、前記軸部材の前記表部のみと接触することが好ましい。押さえ部材が略水平姿勢である状態では、第1端部は、軸部材の裏部と下部の共通部分と接触する。このため、押さえ部材が蓋部を押さえている状態では、押さえ部材が第1方向に移動することを、止め具は好適に禁止できる。押さえ部材が略水平姿勢である状態では、第1端部は、軸部材の表部と下部の共通部分と接触する。このため、押さえ部材が蓋部を押さえている状態では、押さえ部材が第1方向とは反対の方向に移動することを、止め具は好適に禁止できる。押さえ部材が第1方向に向かって上方に傾斜した状態では、第1端部は、軸部材の表部のみと接触する。このため、押さえ部材が蓋部を押さえていない状態では、押さえ部材が第1方向に移動することを、止め具は好適に許容できる。   In the substrate processing apparatus described above, a portion of the shaft member positioned above a virtual horizontal plane passing through the axis of the shaft member is defined as an upper portion of the shaft member, and a portion other than the upper portion of the shaft member is defined. The lower part of the shaft member, the portion of the shaft member closer to the second end than the virtual vertical plane passing through the axis of the shaft member is a front portion of the shaft member, and the shaft member In a state where the portion other than the front portion is the back portion of the shaft member, and the pressing member is in a substantially horizontal posture, the first end portion is in contact with the back portion of the shaft member and the common portion of the lower portion, In addition, when the pressing member is in contact with the common portion of the shaft member and the lower portion of the shaft member and the pressing member is inclined upward in the first direction, the first end portion is only the surface portion of the shaft member. It is preferable to contact with. In a state where the pressing member is in a substantially horizontal posture, the first end portion comes into contact with the common portion between the back portion and the lower portion of the shaft member. For this reason, in a state where the pressing member is pressing the lid, the stopper can suitably prevent the pressing member from moving in the first direction. In a state where the pressing member is in a substantially horizontal posture, the first end portion is in contact with the common portion between the front portion and the lower portion of the shaft member. For this reason, in the state in which the pressing member is pressing the lid, the stopper can suitably prevent the pressing member from moving in the direction opposite to the first direction. In a state where the pressing member is inclined upward in the first direction, the first end portion contacts only the front portion of the shaft member. For this reason, in a state where the pressing member does not press the lid, the stopper can suitably allow the pressing member to move in the first direction.

本発明に係る基板処理装置によれば、処理容器の気密性を高めることができる。   According to the substrate processing apparatus of the present invention, the airtightness of the processing container can be improved.

基板処理装置の一部の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows the one part schematic structure of a substrate processing apparatus. 基板処理装置の一部の概略構成を示す平面図である。It is a top view which shows the one part schematic structure of a substrate processing apparatus. 処理ユニットの一部の分解斜視図である。It is a disassembled perspective view of a part of processing unit. 処理容器4の一部の分解斜視図である。FIG. 4 is an exploded perspective view of a part of the processing container 4. 処理ユニットの斜視図である。It is a perspective view of a processing unit. 処理ユニットの平面図である。It is a top view of a processing unit. 図7(a)は押さえ部材の平面図であり、図7(b)は押さえ部材の側面図である。FIG. 7A is a plan view of the pressing member, and FIG. 7B is a side view of the pressing member. 図6におけるVIII−VIII線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the VIII-VIII line in FIG. 傾斜姿勢である押さえ部材を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the pressing member which is an inclination attitude | position. 第1端部と軸部材の断面詳細図である。It is a section detailed drawing of the 1st end and a shaft member. 第1端部と軸部材の断面詳細図である。It is a section detailed drawing of the 1st end and a shaft member. 図12(a)−図12(d)は、蓋部を筐体から取り外す手順を示す模式図である。FIG. 12A to FIG. 12D are schematic views illustrating a procedure for removing the lid from the housing. 基板処理装置の動作例の手順を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the procedure of the operation example of a substrate processing apparatus. 変形実形態に係る基板処理装置の斜視図である。It is a perspective view of the substrate processing apparatus which concerns on a deformation | transformation real form. 変形実形態に係る基板処理装置の斜視図である。It is a perspective view of the substrate processing apparatus which concerns on a deformation | transformation real form. 変形実形態に係る基板処理装置の断面図である。It is sectional drawing of the substrate processing apparatus which concerns on a modified real form. 変形実形態に係る基板処理装置の断面図である。It is sectional drawing of the substrate processing apparatus which concerns on a modified real form.

図面を参照して実施形態に係る基板処理装置を説明する。   A substrate processing apparatus according to an embodiment will be described with reference to the drawings.

1.基板処理装置の概略構成
図1は、基板処理装置の一部の概略構成を示す平面図である。図2は、基板処理装置の一部の概略構成を示す平面図である。
1. FIG. 1 is a plan view showing a schematic configuration of a part of a substrate processing apparatus. FIG. 2 is a plan view showing a schematic configuration of a part of the substrate processing apparatus.

図1、2では、前後方向X、幅方向Y、上下方向Zを示す。前後方向Xと幅方向Yと上下方向Zは互いに直交する。前後方向Xおよび幅方向Yは水平である。前後方向Xの一方を「前方」と呼び、前後方向Xの他方を「後方」と呼ぶ。幅方向Yの一方を「右方」と呼び、幅方向Yの他方を「左方」と呼ぶ。前方、後方、右方および左方を区別しない場合には、「水平方向」または、単に「側方」と呼ぶ。上下方向Zの一方を「上方」と呼び、上下方向Zの他方を「下方」と呼ぶ。   1 and 2 show a front-rear direction X, a width direction Y, and a vertical direction Z. The front-rear direction X, the width direction Y, and the up-down direction Z are orthogonal to each other. The front-rear direction X and the width direction Y are horizontal. One of the front and rear directions X is called “front”, and the other of the front and rear directions X is called “rear”. One side in the width direction Y is called “right side”, and the other side in the width direction Y is called “left side”. When the front, rear, right and left are not distinguished, they are referred to as “horizontal direction” or simply “side”. One of the vertical directions Z is called “upward”, and the other of the vertical directions Z is called “downward”.

本実施形態に係る基板処理装置1は、基板(例えば、半導体ウエハ)Wを処理する。基板処理装置1が行う処理は熱処理である。熱処理は、基板Wを加熱する処理と、基板Wを冷却する処理を含む。   The substrate processing apparatus 1 according to this embodiment processes a substrate (for example, a semiconductor wafer) W. The process performed by the substrate processing apparatus 1 is a heat treatment. The heat treatment includes a process for heating the substrate W and a process for cooling the substrate W.

基板処理装置1は複数の処理ユニット2a、2b、2cを備える。処理ユニット2bは処理ユニット2aの右方に配置される。処理ユニット2cは処理ユニット2aの下方に配置される。処理ユニット2a、2b、2cを区別しない場合には、「処理ユニット2」と呼ぶ。   The substrate processing apparatus 1 includes a plurality of processing units 2a, 2b, and 2c. The processing unit 2b is arranged on the right side of the processing unit 2a. The processing unit 2c is disposed below the processing unit 2a. When the processing units 2a, 2b, and 2c are not distinguished, they are referred to as “processing unit 2”.

処理ユニット2は、搬送機構3と処理容器4を備える。処理容器4は搬送機構3に隣接する。処理容器4は搬送機構3の後方に配置される。搬送機構3は1枚の基板Wを略水平姿勢で保持する。搬送機構3は保持した基板Wを略水平方向に搬送する。具体的には、搬送機構3は保持した基板Wを略前後方向Xに搬送する。搬送機構3は処理容器4に基板Wを搬入する。搬送機構3は処理容器4から基板Wを搬出する。処理容器4は1枚の基板Wを収容する。処理容器4は、その内部で基板Wを熱処理する。   The processing unit 2 includes a transport mechanism 3 and a processing container 4. The processing container 4 is adjacent to the transport mechanism 3. The processing container 4 is disposed behind the transport mechanism 3. The transport mechanism 3 holds one substrate W in a substantially horizontal posture. The transport mechanism 3 transports the held substrate W in a substantially horizontal direction. Specifically, the transport mechanism 3 transports the held substrate W substantially in the front-rear direction X. The transport mechanism 3 carries the substrate W into the processing container 4. The transport mechanism 3 unloads the substrate W from the processing container 4. The processing container 4 accommodates one substrate W. The processing container 4 heats the substrate W therein.

処理容器4は筐体11とシャッター12と蓋部13を備える。筐体11は平面視において略矩形形状を有する。シャッター12は筐体11の前部に装着される。蓋部13は筐体11の上部に取り付けられる。蓋部13は平面視において筐体11の略中央に配置される。   The processing container 4 includes a housing 11, a shutter 12, and a lid portion 13. The housing 11 has a substantially rectangular shape in plan view. The shutter 12 is attached to the front part of the housing 11. The lid portion 13 is attached to the upper portion of the housing 11. The lid portion 13 is disposed substantially at the center of the housing 11 in plan view.

処理ユニット2は排気ダクト72を備える。排気ダクト72は筐体11の後部に装着される。   The processing unit 2 includes an exhaust duct 72. The exhaust duct 72 is attached to the rear part of the housing 11.

処理ユニット2は押さえ部材6を備える。押さえ部材6は筐体11に対して蓋部13を押さえる。押さえ部材6は蓋部13の上方に配置される。押さえ部材6の少なくとも一部は、蓋部13の上面と接触する。   The processing unit 2 includes a pressing member 6. The pressing member 6 presses the lid portion 13 against the housing 11. The pressing member 6 is disposed above the lid portion 13. At least a part of the pressing member 6 is in contact with the upper surface of the lid portion 13.

処理ユニット2は止め具7と手動調整部8を備える。止め具7は第1端部21と接触する。止め具7は、第1端部21が上方に移動することを禁止する。手動調整部8は第2端部22と接触する。手動調整部8は第2端部22の高さ位置を調整する。手動調整部8はユーザーによって操作される。具体的には、ユーザーは手動調整部8を手動で操作する。手動調整部8は、ユーザーの操作に応じて、第2端部22の高さ位置を調整する。   The processing unit 2 includes a stopper 7 and a manual adjustment unit 8. The stopper 7 is in contact with the first end 21. The stopper 7 prohibits the first end 21 from moving upward. The manual adjustment unit 8 is in contact with the second end 22. The manual adjustment unit 8 adjusts the height position of the second end 22. The manual adjustment unit 8 is operated by a user. Specifically, the user manually operates the manual adjustment unit 8. The manual adjustment unit 8 adjusts the height position of the second end 22 in accordance with a user operation.

基板処理装置1は複数の外壁パネル9a、9b、9cを備える。外壁パネル9a、9b、9cはそれぞれ、処理ユニット2a、2b、2cの後方に配置される。外壁パネル9a、9b、9cを区別しない場合には、「外壁パネル9」と呼ぶ。   The substrate processing apparatus 1 includes a plurality of outer wall panels 9a, 9b, 9c. The outer wall panels 9a, 9b, 9c are respectively arranged behind the processing units 2a, 2b, 2c. When the outer wall panels 9a, 9b, 9c are not distinguished, they are referred to as “outer wall panel 9”.

外壁パネル9は筐体11の側方に配置される。具体的には、外壁パネル9は筐体11の後方に配置される。   The outer wall panel 9 is disposed on the side of the housing 11. Specifically, the outer wall panel 9 is disposed behind the housing 11.

手動調整部8は、止め具7よりも、外壁パネル9の近くに配置される。手動調整部8は、蓋部13よりも、外壁パネル9の近くに配置される。   The manual adjustment unit 8 is disposed closer to the outer wall panel 9 than the stopper 7. The manual adjustment unit 8 is disposed closer to the outer wall panel 9 than the lid unit 13.

外壁パネル9は取り外し可能である。図2では、外壁パネル9aが取り外されている状態を示す。外壁パネル9が取り外されているとき、処理容器4の後方が開放される。このため、ユーザーは、処理容器4の後方の位置から、処理容器4をメンテナンスできる。例えば、ユーザーは、処理ユニット2bの手動調整部8を容易に操作できる。   The outer wall panel 9 is removable. FIG. 2 shows a state in which the outer wall panel 9a is removed. When the outer wall panel 9 is removed, the rear side of the processing container 4 is opened. For this reason, the user can maintain the processing container 4 from a position behind the processing container 4. For example, the user can easily operate the manual adjustment unit 8 of the processing unit 2b.

基板処理装置1は、複数の隔壁10a、10b、10cを備える。隔壁10aは、処理ユニット2の側方に配置される。隔壁10bは、処理ユニット2の前方に配置される。隔壁10cは、処理ユニット2の上方および下方に配置される。隔壁10a、10b、10cを区別しない場合には、「隔壁10」と呼ぶ。   The substrate processing apparatus 1 includes a plurality of partition walls 10a, 10b, and 10c. The partition wall 10 a is disposed on the side of the processing unit 2. The partition wall 10 b is disposed in front of the processing unit 2. The partition wall 10c is disposed above and below the processing unit 2. When the partition walls 10a, 10b, and 10c are not distinguished, they are referred to as “partition walls 10”.

外壁パネル9と隔壁10は、処理ユニット2を設置するための複数の設置スペースを区画する。処理ユニット2は、各設置スペースに1つずつ配置される。   The outer wall panel 9 and the partition wall 10 define a plurality of installation spaces for installing the processing unit 2. One processing unit 2 is arranged in each installation space.

図1、2から明らかなように、処理容器4の前方には搬送機構3が配置される。このため、処理容器4の前方のスペースは狭小である。よって、ユーザーが処理容器4の前方のスペースに入ることは困難である。処理容器4の下方には、その処理容器4に関連する不図示の機器が配置されている。図示の機器は、例えば、後述する支持ピン駆動機構や配管などである。さらに、処理容器4の右方、左方、上方および下方には、隔壁10は配置されている。さらに、他の処理容器4が、処理容器4の右方、左方、上方および下方には配置されている。このため、処理容器4の右方、左方、上方および下方のスペースも狭小である。よって、ユーザーが処理容器4の右方、左方、上方および下方のスペースに入ることは困難である。このため、処理容器4の前方、右方、左方、上方および下方の位置から、処理容器4をメンテナンスすることは、困難である。   As is clear from FIGS. 1 and 2, the transport mechanism 3 is disposed in front of the processing container 4. For this reason, the space ahead of the processing container 4 is narrow. Therefore, it is difficult for the user to enter the space in front of the processing container 4. Below the processing container 4, equipment (not shown) related to the processing container 4 is arranged. The illustrated device is, for example, a support pin driving mechanism or piping described later. Furthermore, partition walls 10 are arranged on the right, left, upper and lower sides of the processing container 4. Further, other processing containers 4 are arranged on the right, left, upper and lower sides of the processing container 4. For this reason, the right, left, upper, and lower spaces of the processing container 4 are also narrow. Therefore, it is difficult for the user to enter the right, left, upper and lower spaces of the processing container 4. For this reason, it is difficult to maintain the processing container 4 from the front, right, left, upper and lower positions of the processing container 4.

2.処理容器4と、処理容器4に関連する構成
以下、処理容器4と、処理容器4に関連する構成を詳細に説明する。
2. Processing Container 4 and Configuration Related to Processing Container 4 Hereinafter, the processing container 4 and the configuration related to the processing container 4 will be described in detail.

2−1.処理容器4と加熱部31
図3は、処理ユニット2の一部の分解斜視図である。図4は、処理容器4の一部の分解斜視図である。図4は、上方から見た斜視図である。
2-1. Processing container 4 and heating unit 31
FIG. 3 is an exploded perspective view of a part of the processing unit 2. FIG. 4 is an exploded perspective view of a part of the processing container 4. FIG. 4 is a perspective view seen from above.

筐体11は偏平な略箱形状を有する。筐体11はその前面に搬送口Aを有する(図4参照)。搬送口Aは、基板Wが通過するための開口である。具体的には、搬送口Aは、搬送機構3が処理容器4内に基板Wを搬入し、且つ、処理容器4内から基板Wを搬出するための開口である。搬送口Aは横方向に長い形状を有する。   The housing 11 has a flat and substantially box shape. The housing 11 has a transport port A on the front surface thereof (see FIG. 4). The transport port A is an opening through which the substrate W passes. Specifically, the transport port A is an opening through which the transport mechanism 3 carries the substrate W into the processing container 4 and carries the substrate W out of the processing container 4. The transport port A has a shape that is long in the lateral direction.

シャッター12は搬送口Aを開閉する。シャッター12は筐体11の前部に着脱可能である。シャッター12はシール部材19を介して筐体11と密着可能である。シール部材19は、筐体11とシャッターの間に配置される。シール部材19は搬送口Aの周囲に配置される。シール部材19は例えば合成樹脂製である。シール部材19は例えばOリングである。シャッター12が筐体11と密着することによって、搬送口Aは密閉される。シャッター12が筐体11から離脱することによって、搬送口Aは開放される。   The shutter 12 opens and closes the transport port A. The shutter 12 can be attached to and detached from the front portion of the housing 11. The shutter 12 can be in close contact with the housing 11 via a seal member 19. The seal member 19 is disposed between the housing 11 and the shutter. The seal member 19 is disposed around the transport port A. The seal member 19 is made of, for example, a synthetic resin. The seal member 19 is an O-ring, for example. When the shutter 12 is in close contact with the housing 11, the transport port A is sealed. When the shutter 12 is detached from the housing 11, the transport port A is opened.

筐体11は、その上面に開口Bを有する(図4参照)。開口Bは例えば略円形状を有する。
開口Bは比較的に大きい。例えば、開口Bの面積は、搬送口Aの面積よりも大きい。開口Bの直径は基板Wの直径よりも大きい。開口Bが、本発明における開口の例である。
The housing 11 has an opening B on its upper surface (see FIG. 4). The opening B has a substantially circular shape, for example.
The opening B is relatively large. For example, the area of the opening B is larger than the area of the transport port A. The diameter of the opening B is larger than the diameter of the substrate W. The opening B is an example of the opening in the present invention.

蓋部13は開口Bを開閉する。蓋部13は筐体11の上部に着脱可能である。蓋部13が筐体11に着脱することによって、開口Bを開閉する。   The lid 13 opens and closes the opening B. The lid 13 can be attached to and detached from the top of the housing 11. The opening B is opened and closed when the lid 13 is attached to and detached from the housing 11.

蓋部13は略水平な板形状を有する。蓋部13は平面視で略円形状を有する。蓋部13の上面13aは略平坦である。蓋部13の上面13aは略水平である。   The lid portion 13 has a substantially horizontal plate shape. The lid portion 13 has a substantially circular shape in plan view. The upper surface 13a of the lid part 13 is substantially flat. The upper surface 13a of the lid part 13 is substantially horizontal.

蓋部13はシール部材19を介して筐体11と密着可能である。シール部材19は、筐体11と蓋部13の間に配置される。シール部材19は、開口Bの周囲に配置される。蓋部13は開口Bの周囲において筐体11と密着する。具体的には、蓋部13の周縁部が筐体11と密着する。蓋部13が筐体11に密着することによって、開口Bは密閉される。蓋部13が筐体11から離脱することによって、開口Bは開放される。   The lid portion 13 can be in close contact with the housing 11 via a seal member 19. The seal member 19 is disposed between the housing 11 and the lid portion 13. The seal member 19 is disposed around the opening B. The lid 13 is in close contact with the housing 11 around the opening B. Specifically, the peripheral edge portion of the lid portion 13 is in close contact with the housing 11. The opening B is hermetically sealed when the lid 13 is in close contact with the housing 11. The opening B is opened when the lid portion 13 is detached from the housing 11.

なお、処理ユニット2は、筐体11と蓋部13を結合するための部材を備えない。筐体11と蓋部13は、ボルト等の締結部材によって結合されない。蓋部13は筐体11に載置されているだけである。押さえ部材6が蓋部13を筐体11に対して押さえることによって、蓋部13は筐体11に密着する。   Note that the processing unit 2 does not include a member for connecting the housing 11 and the lid 13. The housing | casing 11 and the cover part 13 are not couple | bonded by fastening members, such as a volt | bolt. The lid 13 is only placed on the housing 11. When the pressing member 6 presses the lid portion 13 against the housing 11, the lid portion 13 comes into close contact with the housing 11.

処理容器4は収容部14と底板15を備える。収容部14は筐体11の下面に接続される。収容部14は例えば略円筒形状を有する。収容部14の内部は、筐体11の内部に開放されている。すなわち、収容部14の内部は筐体11の内部と連通している。収容部14は筐体11の下面から下方に延びる。収容部14の下端は開放されている。底板15は収容部14の下端に取り付けられる。底板15は、シール部材19を介して収容部14の下端と密着する。シール部材19は収容部14と底板15の間に配置される。底板15が収容部14に密着することによって、収容部14の下端は密閉される。   The processing container 4 includes a storage portion 14 and a bottom plate 15. The accommodating portion 14 is connected to the lower surface of the housing 11. The accommodating part 14 has a substantially cylindrical shape, for example. The interior of the accommodating portion 14 is open to the interior of the housing 11. That is, the inside of the accommodating portion 14 communicates with the inside of the housing 11. The accommodating portion 14 extends downward from the lower surface of the housing 11. The lower end of the accommodating part 14 is open. The bottom plate 15 is attached to the lower end of the accommodating portion 14. The bottom plate 15 is in close contact with the lower end of the accommodating portion 14 via the seal member 19. The seal member 19 is disposed between the accommodating portion 14 and the bottom plate 15. When the bottom plate 15 is in close contact with the housing part 14, the lower end of the housing part 14 is sealed.

熱処理装置1は加熱部31を備える。加熱部31は基板Wを加熱する。加熱部31は基板Wを比較的に高い温度で加熱可能である。加熱部31は、例えば、300度以上で基板Wを加熱可能である。さらに、加熱部31は基板Wを加熱する温度を調整する。   The heat treatment apparatus 1 includes a heating unit 31. The heating unit 31 heats the substrate W. The heating unit 31 can heat the substrate W at a relatively high temperature. For example, the heating unit 31 can heat the substrate W at 300 degrees or more. Furthermore, the heating unit 31 adjusts the temperature at which the substrate W is heated.

加熱部31は処理容器4内に配置される。加熱部31は底板15上に載置される。加熱部31は収容部14の内部に配置される。加熱部31は略円盤形状を有する。加熱部31の外径は収容部14の内径よりも僅かに小さい。よって、収容部14と加熱部31の隙間は十分に小さい。   The heating unit 31 is disposed in the processing container 4. The heating unit 31 is placed on the bottom plate 15. The heating unit 31 is disposed inside the housing unit 14. The heating unit 31 has a substantially disk shape. The outer diameter of the heating part 31 is slightly smaller than the inner diameter of the accommodating part 14. Therefore, the gap between the storage unit 14 and the heating unit 31 is sufficiently small.

加熱部31は略平坦な上面31aを有する。加熱部31の上面31aは、筐体11の内部の底面11bと略同じ高さ位置に位置する(図1参照)。   The heating unit 31 has a substantially flat upper surface 31a. The upper surface 31a of the heating unit 31 is located at substantially the same height as the bottom surface 11b inside the housing 11 (see FIG. 1).

加熱部31は、例えば、温調部とプレート(いずれも不図示)を備えている。温調部は熱を発生する。さらに、温調部は基板Wを加熱する温度を調整する。温調部は例えばヒータである。温調部はプレートに取り付けられる。温調部は、例えば、プレートの上部またはプレートの内部に配置される。プレートは基板Wを載置する。プレートは、温調部が発した熱をプレート上の基板Wに伝達する。プレートは例えば金属製である。   The heating unit 31 includes, for example, a temperature control unit and a plate (both not shown). The temperature control unit generates heat. Further, the temperature adjustment unit adjusts the temperature at which the substrate W is heated. The temperature control unit is, for example, a heater. The temperature control unit is attached to the plate. The temperature adjustment unit is disposed, for example, in the upper part of the plate or in the plate. The plate places the substrate W thereon. The plate transmits the heat generated by the temperature control unit to the substrate W on the plate. The plate is made of metal, for example.

筐体11はその背面に側部排出口Dを有する。側部排出口Dは処理容器4内の気体を排出するための開口である。側部排出口Dは横方向に長い形状を有する。   The housing 11 has a side discharge port D on its back surface. The side discharge port D is an opening for discharging the gas in the processing container 4. The side discharge port D has a shape that is long in the lateral direction.

排気ダクト72は側部排出口Dと連通接続される。排気ダクト72は筐体11の後部に着脱可能である。排気ダクト72が筐体11に装着されることによって、筐体11は側部排出口Dを通じて排気ダクト72と連通接続する。排気ダクト72が筐体11から離脱することによって、側部排出口Dは開放される。   The exhaust duct 72 is connected in communication with the side discharge port D. The exhaust duct 72 can be attached to and detached from the rear part of the housing 11. When the exhaust duct 72 is attached to the casing 11, the casing 11 is connected to the exhaust duct 72 through the side discharge port D. When the exhaust duct 72 is detached from the housing 11, the side discharge port D is opened.

2−2.シャッター駆動機構35
図3を参照する。熱処理装置1はシャッター駆動機構35を備える。シャッター駆動機構35は、シャッター12を移動させることによって、シャッター12を筐体11に着脱させる。シャッター駆動機構35は処理容器4の外部に配置される。シャッター駆動機構35は例えばエアシリンダを含む。
2-2. Shutter drive mechanism 35
Please refer to FIG. The heat treatment apparatus 1 includes a shutter drive mechanism 35. The shutter drive mechanism 35 moves the shutter 12 to detach the shutter 12 from the housing 11. The shutter drive mechanism 35 is disposed outside the processing container 4. The shutter drive mechanism 35 includes an air cylinder, for example.

2−3.基板移動機構37および封止機構41
熱処理装置1は基板移動機構37を備える。基板移動機構37は、加熱位置PHと冷却位置PCとにわたって基板Wを移動させる。
2-3. Substrate moving mechanism 37 and sealing mechanism 41
The heat treatment apparatus 1 includes a substrate moving mechanism 37. The substrate moving mechanism 37 moves the substrate W between the heating position PH and the cooling position PC.

図3は、加熱位置PHにある基板Wを実線で示す。図3は、冷却位置PCにある基板Wを点線で示す。加熱位置PHは、加熱部31に接触または近接する基板Wの位置である。具体的には、加熱位置PHは加熱部31上に載置される基板Wの位置である。基板Wが加熱位置PHにあるとき、基板Wの下面は加熱部31の上面31aと接触または近接する。冷却位置PCは加熱位置PHに比べて加熱部31から遠い基板Wの位置である。具体的には、冷却位置PCは加熱位置PHの上方の位置である。基板Wが冷却位置PCにあるとき、基板Wは加熱部31と接触しない。なお、加熱位置PHおよび冷却位置PCはいずれも、処理容器4内における基板Wの位置である。基板Wが加熱位置PHおよび冷却位置PCのいずれにあるときも、基板Wは略水平姿勢である。   FIG. 3 shows the substrate W at the heating position PH by a solid line. FIG. 3 shows the substrate W at the cooling position PC by a dotted line. The heating position PH is a position of the substrate W that is in contact with or close to the heating unit 31. Specifically, the heating position PH is the position of the substrate W placed on the heating unit 31. When the substrate W is at the heating position PH, the lower surface of the substrate W is in contact with or close to the upper surface 31 a of the heating unit 31. The cooling position PC is a position of the substrate W farther from the heating unit 31 than the heating position PH. Specifically, the cooling position PC is a position above the heating position PH. When the substrate W is at the cooling position PC, the substrate W is not in contact with the heating unit 31. Note that both the heating position PH and the cooling position PC are positions of the substrate W in the processing container 4. When the substrate W is at either the heating position PH or the cooling position PC, the substrate W is in a substantially horizontal posture.

基板移動機構37は複数(例えば3つ)の支持ピン38を備える。複数の支持ピン38が1枚の基板Wの下面と接触する。これにより、複数の支持ピン38が1枚の基板Wを支持する。支持ピン38は処理容器4の内部と外部にわたって配置される。すなわち、支持ピン38は、処理容器4内に位置する先端部を有する。支持ピン38は、処理容器4の外部(下方)に位置する基端部を有する。支持ピン38は底板15に形成される開口15aを通じて、底板15を貫通する。処理容器4内では、支持ピン38は支持ピン孔32に配置される。支持ピン孔32は加熱部31の内部に形成された貫通孔である。支持ピン孔32は加熱部31の上方に開放される。   The substrate moving mechanism 37 includes a plurality of (for example, three) support pins 38. The plurality of support pins 38 come into contact with the lower surface of one substrate W. Thus, the plurality of support pins 38 support one substrate W. The support pin 38 is disposed over the inside and the outside of the processing container 4. That is, the support pin 38 has a tip portion located in the processing container 4. The support pin 38 has a proximal end portion located outside (below) the processing container 4. The support pin 38 passes through the bottom plate 15 through an opening 15 a formed in the bottom plate 15. In the processing container 4, the support pin 38 is disposed in the support pin hole 32. The support pin hole 32 is a through hole formed inside the heating unit 31. The support pin hole 32 is opened above the heating unit 31.

基板移動機構37は支持ピン駆動機構39を備える。支持ピン駆動機構39は支持ピン38を上下動させる。支持ピン駆動機構39は処理容器4の外部に配置される。支持ピン駆動機構39は支持ピン38の基端部と接続する。支持ピン38の上下動によって、基板Wは加熱位置PHと冷却位置PCとの間で移動する。支持ピン駆動機構39は例えばエアシリンダを含む。   The substrate moving mechanism 37 includes a support pin driving mechanism 39. The support pin drive mechanism 39 moves the support pin 38 up and down. The support pin drive mechanism 39 is disposed outside the processing container 4. The support pin drive mechanism 39 is connected to the base end portion of the support pin 38. The substrate W moves between the heating position PH and the cooling position PC by the vertical movement of the support pins 38. The support pin drive mechanism 39 includes, for example, an air cylinder.

熱処理装置1は封止機構41を備える。封止機構41は、支持ピン38の上下動を許容しつつ、底板15の開口15aを密閉する。封止機構41は処理容器4の外部(下方)に配置される。   The heat treatment apparatus 1 includes a sealing mechanism 41. The sealing mechanism 41 seals the opening 15a of the bottom plate 15 while allowing the support pin 38 to move up and down. The sealing mechanism 41 is disposed outside (below) the processing container 4.

封止機構41は1つの集合部42を備える。集合部42はその内部に1つの空間Eを有する。集合部42は、シール部材19を介して底板15と密着する。シール部材19は底板15と集合部42の間に配置されている。シール部材19は、開口15aの周囲に配置されている。集合部42は、開口15aの周囲において底板15と密着する。これにより、処理容器4は集合部42と連通接続される。処理容器4の内部は、開口15aを介して集合部42の空間Eと連通する。   The sealing mechanism 41 includes one aggregate portion 42. The gathering part 42 has one space E inside. The collecting portion 42 is in close contact with the bottom plate 15 via the seal member 19. The seal member 19 is disposed between the bottom plate 15 and the collecting portion 42. The seal member 19 is disposed around the opening 15a. The collecting portion 42 is in close contact with the bottom plate 15 around the opening 15a. Thereby, the processing container 4 is connected to the collecting portion 42 in communication. The inside of the processing container 4 communicates with the space E of the collecting portion 42 through the opening 15a.

封止機構41は複数(例えば3つ)の軸封部43を備える。軸封部43は筒部44とシール部材45を有する。筒部44は円筒形状を有する。筒部44は集合部42と密着する。シール部材45は筒部44の内部に配置される。シール部材45は円環形状を有する。シール部材45は、その中央に開口を有する。シール部材45は筒部44の内周面と密着する。シール部材45は金属製である。   The sealing mechanism 41 includes a plurality of (for example, three) shaft sealing portions 43. The shaft seal portion 43 has a tube portion 44 and a seal member 45. The cylinder part 44 has a cylindrical shape. The cylindrical portion 44 is in close contact with the collecting portion 42. The seal member 45 is disposed inside the cylindrical portion 44. The seal member 45 has an annular shape. The seal member 45 has an opening at the center thereof. The seal member 45 is in close contact with the inner peripheral surface of the cylindrical portion 44. The seal member 45 is made of metal.

集合部42および筒部44は、支持ピン38の一部を収容する。換言すれば、支持ピン38は、集合部42の内部と筒部44の内部を貫通するように配置される。支持ピン38は、シール部材45の開口を貫通するように配置される。シール部材45は、支持ピン38と摺動可能に、支持ピン38の外周面と密着する。支持ピン38がシール部材45に対して摺動しても、支持ピン38とシール部材45の密着は維持される。   The collecting portion 42 and the cylindrical portion 44 accommodate a part of the support pin 38. In other words, the support pin 38 is disposed so as to penetrate the inside of the collecting portion 42 and the inside of the cylindrical portion 44. The support pin 38 is disposed so as to penetrate the opening of the seal member 45. The seal member 45 is in close contact with the outer peripheral surface of the support pin 38 so as to be slidable with the support pin 38. Even if the support pin 38 slides relative to the seal member 45, the close contact between the support pin 38 and the seal member 45 is maintained.

シール部材45は、筒部44の内部を2つの空間F1、F2に遮断する。空間F1はシール部材45の上方の空間である。空間F2はシール部材45の下方の空間である。空間F1と空間F2は相互に連通していない。   The seal member 45 blocks the inside of the cylindrical portion 44 into two spaces F1 and F2. The space F1 is a space above the seal member 45. The space F <b> 2 is a space below the seal member 45. The space F1 and the space F2 do not communicate with each other.

開口15aと空間Eは、空間F1と連通する。開口15aと空間E、F1は、空間F2から遮断される。空間F2は、処理容器4および封止機構41の外部に開放される。よって、開口15aと空間E、F1は外気から遮断される。   The opening 15a and the space E communicate with the space F1. The opening 15a and the spaces E and F1 are blocked from the space F2. The space F2 is opened to the outside of the processing container 4 and the sealing mechanism 41. Therefore, the opening 15a and the spaces E and F1 are blocked from the outside air.

以上の通り、処理容器4は開口15aの周囲において集合部42と密着し、集合部42は筒部44と密着し、集合部42と筒部44は支持ピン38の一部を収容する。シール部材45は、筒部44の内周面と密着し、且つ、支持ピン38と摺動可能に支持ピン38の外周面と密着する。これにより、開口15aは密閉される。   As described above, the processing container 4 is in close contact with the collecting portion 42 around the opening 15a, the collecting portion 42 is in close contact with the cylindrical portion 44, and the collecting portion 42 and the cylindrical portion 44 accommodate a part of the support pin 38. The seal member 45 is in close contact with the inner peripheral surface of the cylindrical portion 44 and in close contact with the outer peripheral surface of the support pin 38 so as to be slidable with the support pin 38. Thereby, the opening 15a is sealed.

ここで、集合部42と筒部44を区別しない場合には、「シールハウジング46」と呼ぶ。   Here, when the collective portion 42 and the cylindrical portion 44 are not distinguished, they are referred to as “seal housing 46”.

2−4.上部供給部51
処理ユニット2は上部供給部51を備える。上部供給部51は処理容器4内に非酸化性ガスを供給する。上部供給部51は冷却位置PCよりも高い位置から非酸化性ガスを吹き出す。非酸化性ガスは例えば不活性ガスである。不活性ガスは例えば窒素ガスやアルゴンガスである。
2-4. Upper supply part 51
The processing unit 2 includes an upper supply unit 51. The upper supply unit 51 supplies a non-oxidizing gas into the processing container 4. The upper supply unit 51 blows out non-oxidizing gas from a position higher than the cooling position PC. The non-oxidizing gas is, for example, an inert gas. The inert gas is, for example, nitrogen gas or argon gas.

上部供給部51は、配管52と供給ポート53と開閉弁54と流量調整部55を備える。配管52の一端は非酸化性ガス供給源69に接続される。非酸化性ガス供給源69は非酸化性ガスを供給する。配管52の他端は供給ポート53に接続される。供給ポート53は蓋部13に取り付けられている。供給ポート53は平面視において蓋部13の中央に配置される。供給ポート53は処理容器4の内部と連通する。開閉弁54と流量調整部55はそれぞれ配管52上に設けられる。開閉弁54は配管52内の流路を開閉する。流量調整部55は配管52を流れる非酸化性ガスの流量を調整する。流量調整部55は、例えば、ニードル弁またはマスフローメータの少なくともいずれかを含む。   The upper supply unit 51 includes a pipe 52, a supply port 53, an on-off valve 54, and a flow rate adjustment unit 55. One end of the pipe 52 is connected to a non-oxidizing gas supply source 69. The non-oxidizing gas supply source 69 supplies a non-oxidizing gas. The other end of the pipe 52 is connected to the supply port 53. The supply port 53 is attached to the lid portion 13. The supply port 53 is disposed at the center of the lid portion 13 in plan view. The supply port 53 communicates with the inside of the processing container 4. The on-off valve 54 and the flow rate adjusting unit 55 are respectively provided on the pipe 52. The on-off valve 54 opens and closes the flow path in the pipe 52. The flow rate adjusting unit 55 adjusts the flow rate of the non-oxidizing gas flowing through the pipe 52. The flow rate adjusting unit 55 includes, for example, at least one of a needle valve or a mass flow meter.

上部供給部51は整流板56を備える。整流板56は処理容器4内に配置される。整流板56は開口Bに配置される。整流板56は蓋部13の下方に配置される。整流板56は冷却位置PCの上方に配置される。整流板56は蓋部13に支持される。整流板56は略水平な板形状を有する。整流板56は複数の小孔56aを有する。小孔56aは整流板56を鉛直方向に貫通する。   The upper supply unit 51 includes a current plate 56. The rectifying plate 56 is disposed in the processing container 4. The rectifying plate 56 is disposed in the opening B. The rectifying plate 56 is disposed below the lid portion 13. The current plate 56 is disposed above the cooling position PC. The rectifying plate 56 is supported by the lid portion 13. The rectifying plate 56 has a substantially horizontal plate shape. The current plate 56 has a plurality of small holes 56a. The small hole 56a penetrates the current plate 56 in the vertical direction.

ここで、蓋部13と整流板56によって区画される空間を「導入室S1」と呼ぶ。筐体11とシャッター12と整流板56と加熱部31とによって区画される空間を「処理室S2」と呼ぶ。導入室S1は、整流板56の上方に位置する。処理室S2は、整流板56の下方に位置する。導入室S1と処理室S2は小孔56aを通じて互いに連通している。なお、導入室S1および処理室S2はいずれも、処理容器4内の空間である。導入室S1および処理室S2は、処理容器4の内部の一部に相当する。   Here, a space defined by the lid portion 13 and the current plate 56 is referred to as “introduction chamber S1”. A space defined by the casing 11, the shutter 12, the current plate 56 and the heating unit 31 is referred to as “processing chamber S <b> 2”. The introduction chamber S1 is located above the current plate 56. The processing chamber S2 is located below the current plate 56. The introduction chamber S1 and the processing chamber S2 communicate with each other through a small hole 56a. Both the introduction chamber S1 and the processing chamber S2 are spaces in the processing container 4. The introduction chamber S1 and the processing chamber S2 correspond to a part of the inside of the processing container 4.

開閉弁54が開くことによって、非酸化性ガスは非酸化性ガス供給源69から配管52および供給ポート53を通じて導入室S1に流入する。さらに、非酸化性ガスは、導入室S1から整流板56の小孔56aを通じて処理室S2に流れる。小孔56aは、非酸化性ガスを下方に吹き出す。流量調整部55は、供給ポート53を通じて処理容器4に供給する非酸化性ガスの供給量を調整する。開閉弁54が閉じることによって、上部供給部51は非酸化性ガスの供給を停止する。開閉弁54が閉じることによって、供給ポート53は密閉される。   By opening the on-off valve 54, the non-oxidizing gas flows from the non-oxidizing gas supply source 69 into the introduction chamber S1 through the pipe 52 and the supply port 53. Further, the non-oxidizing gas flows from the introduction chamber S1 to the processing chamber S2 through the small holes 56a of the rectifying plate 56. The small holes 56a blow out non-oxidizing gas downward. The flow rate adjusting unit 55 adjusts the supply amount of the non-oxidizing gas supplied to the processing container 4 through the supply port 53. When the on-off valve 54 is closed, the upper supply unit 51 stops supplying the non-oxidizing gas. By closing the on-off valve 54, the supply port 53 is sealed.

2−5.下部供給部61
処理ユニット2は下部供給部61を備える。下部供給部61は処理容器4内に非酸化性ガスを供給する。下部供給部61は冷却位置PCよりも低い位置から非酸化性ガスを吹き出す。
2-5. Lower supply part 61
The processing unit 2 includes a lower supply unit 61. The lower supply unit 61 supplies a non-oxidizing gas into the processing container 4. The lower supply unit 61 blows out non-oxidizing gas from a position lower than the cooling position PC.

下部供給部61は配管62とポート63と開閉弁64と流量調整部65を備える。配管62の一端は非酸化性ガス供給源69に接続される。配管62の他端はポート63に接続される。ポート63は底板15に取り付けられている。ポート63は処理容器4の内部と連通する。開閉弁64と流量調整部65はそれぞれ配管62上に設けられる。開閉弁64は配管62内の流路を開閉する。流量調整部65は配管62を流れる非酸化性ガスの流量を調整する。流量調整部65は、例えば、ニードル弁またはマスフローメータの少なくともいずれかを含む。   The lower supply unit 61 includes a pipe 62, a port 63, an on-off valve 64, and a flow rate adjustment unit 65. One end of the pipe 62 is connected to a non-oxidizing gas supply source 69. The other end of the pipe 62 is connected to the port 63. The port 63 is attached to the bottom plate 15. The port 63 communicates with the inside of the processing container 4. The on-off valve 64 and the flow rate adjusting unit 65 are provided on the pipe 62, respectively. The on-off valve 64 opens and closes the flow path in the pipe 62. The flow rate adjusting unit 65 adjusts the flow rate of the non-oxidizing gas flowing through the pipe 62. The flow rate adjustment unit 65 includes, for example, at least one of a needle valve or a mass flow meter.

ポート63はガス流通孔34に連通接続される。ガス流通孔34は加熱部31の内部に形成された貫通孔である。ガス流通孔34は加熱部31の上面31aに達する。ガス流通孔34は加熱部31の上方に開放される。   The port 63 is connected in communication with the gas flow hole 34. The gas flow hole 34 is a through hole formed inside the heating unit 31. The gas flow hole 34 reaches the upper surface 31 a of the heating unit 31. The gas circulation hole 34 is opened above the heating unit 31.

開閉弁64が開くことによって、非酸化性ガスは非酸化性ガス供給源69から配管62およびポート63を通じて処理容器4内に流入する。さらに、非酸化性ガスはガス流通孔34を通じて処理室S2に流れる。ガス流通孔34は、非酸化性ガスを上方に吹き出す。流量調整部65はポート63を通じて処理容器4に供給する非酸化性ガスの供給量を調整する。開閉弁64が閉じることによって、下部供給部61は非酸化性ガスの供給を停止する。開閉弁64が閉じることによって、ポート63は密閉される。   By opening the on-off valve 64, the non-oxidizing gas flows into the processing container 4 from the non-oxidizing gas supply source 69 through the pipe 62 and the port 63. Further, the non-oxidizing gas flows into the processing chamber S2 through the gas flow hole 34. The gas flow hole 34 blows out non-oxidizing gas upward. The flow rate adjusting unit 65 adjusts the supply amount of the non-oxidizing gas supplied to the processing container 4 through the port 63. When the on-off valve 64 is closed, the lower supply unit 61 stops supplying the non-oxidizing gas. By closing the on-off valve 64, the port 63 is sealed.

2−6.側部排出部71
処理ユニット2は側部排出部71を備える。側部排出部71は処理容器4内の気体を処理容器4の外部に排出する。側部排出部71は冷却位置PCの側方の位置を通じて気体を排出する。
2-6. Side discharge part 71
The processing unit 2 includes a side discharge unit 71. The side discharge unit 71 discharges the gas in the processing container 4 to the outside of the processing container 4. The side discharge part 71 discharges the gas through the side position of the cooling position PC.

側部排出部71は上述した排気ダクト72を備える。排気ダクト72は側部排出口Dに気密に連通接続する。側部排出部71は、さらに、排気管73と開閉弁74と排気機構75を備える。排気管73は、排気ダクト72に連通接続される第1端を有する。開閉弁74は排気管73上に設けられる。排気管73は、排気機構75に連通接続される第2端を有する。排気機構75は、気体を吸引し、排出する。排気機構75は、気体の排出量を調整可能である。より具体的には、排気機構75は、気体の流量または気体の吸引圧を調整することによって、気体の排出量を調整可能である。排気機構75は、例えば真空ポンプ、排気ブロアまたはエジェクタである。   The side discharge unit 71 includes the exhaust duct 72 described above. The exhaust duct 72 is connected to the side discharge port D in an airtight manner. The side discharge unit 71 further includes an exhaust pipe 73, an on-off valve 74, and an exhaust mechanism 75. The exhaust pipe 73 has a first end that is connected in communication with the exhaust duct 72. The on-off valve 74 is provided on the exhaust pipe 73. The exhaust pipe 73 has a second end that is connected in communication with the exhaust mechanism 75. The exhaust mechanism 75 sucks and discharges gas. The exhaust mechanism 75 can adjust the amount of gas discharged. More specifically, the exhaust mechanism 75 can adjust the gas discharge amount by adjusting the gas flow rate or the gas suction pressure. The exhaust mechanism 75 is, for example, a vacuum pump, an exhaust blower, or an ejector.

開閉弁74が開放し、且つ、排気機構75が駆動することによって、処理容器4内の気体は側部排出口Dを通じて処理容器4の外部に排出される。これにより、処理室S2の気体が円滑に排出される。さらに、排気機構75は、側部排出口Dを通じて処理容器4から排出する気体の排出量を調整する。排気機構75の駆動が停止することによって、側部排出部71は気体の排出を停止する。開閉弁74が閉じることによって、側部排出口Dは密閉される。   When the on-off valve 74 is opened and the exhaust mechanism 75 is driven, the gas in the processing container 4 is discharged to the outside of the processing container 4 through the side discharge port D. Thereby, the gas of process chamber S2 is discharged | emitted smoothly. Further, the exhaust mechanism 75 adjusts the amount of gas discharged from the processing container 4 through the side discharge port D. When the driving of the exhaust mechanism 75 is stopped, the side discharge unit 71 stops the gas discharge. By closing the on-off valve 74, the side discharge port D is sealed.

2−7.下部排出部81
処理ユニット2は下部排出部81を備える。下部排出部81はシールハウジング46内の気体を排出する。下部排出部81はさらに、処理容器4内の気体を排出する。下部排出部81は冷却位置PCよりも低い位置を通じて処理容器4から気体を排出する。
2-7. Lower discharge part 81
The processing unit 2 includes a lower discharge unit 81. The lower discharge part 81 discharges the gas in the seal housing 46. The lower discharge unit 81 further discharges the gas in the processing container 4. The lower discharge part 81 discharges gas from the processing container 4 through a position lower than the cooling position PC.

下部排出部81は、配管82と排気ポート83と開閉弁84と排気機構85を備える。配管82の一端は排気ポート83に接続される。排気ポート83は集合部42に連通接続される。排気ポート83は集合部42の空間Eと連通する。開閉弁84は配管82上に設けられる。開閉弁84は配管82内の流路を開閉する。排気機構85は配管82の他端と連通接続される。排気機構85は気体を吸引し、排出する。排気機構85は気体の排出量を調整可能である。より具体的には、排気機構85は、気体の流量または気体の吸引圧を調整することによって、気体の排出量を調整可能である。排気機構85は、例えば真空ポンプ、排気ブロアまたはエジェクタである。   The lower discharge portion 81 includes a pipe 82, an exhaust port 83, an on-off valve 84, and an exhaust mechanism 85. One end of the pipe 82 is connected to the exhaust port 83. The exhaust port 83 is connected to the collecting portion 42 in communication. The exhaust port 83 communicates with the space E of the collecting portion 42. The on-off valve 84 is provided on the pipe 82. The on-off valve 84 opens and closes the flow path in the pipe 82. The exhaust mechanism 85 is connected in communication with the other end of the pipe 82. The exhaust mechanism 85 sucks and discharges the gas. The exhaust mechanism 85 can adjust the amount of gas discharged. More specifically, the exhaust mechanism 85 can adjust the amount of gas discharged by adjusting the gas flow rate or the gas suction pressure. The exhaust mechanism 85 is, for example, a vacuum pump, an exhaust blower, or an ejector.

開閉弁84が開放し、且つ、排気機構85が駆動することによって、シールハウジング46内の気体と処理容器4内の気体は、排出される。具体的は、空間F1の気体は、空間Eに流れる。処理容器4内の気体は、支持ピン孔32と開口15aを通じて空間Eに流れる。空間Eの気体は、排気ポート83を通じて配管82に流れる。これにより、シールハウジング46内の気体と処理容器4内の気体は、シールハウジング46および処理容器4の外部に排出される。排気機構85は、排気ポート83を通じて処理容器4から排出する気体の排出量を調整する。   When the on-off valve 84 is opened and the exhaust mechanism 85 is driven, the gas in the seal housing 46 and the gas in the processing container 4 are discharged. Specifically, the gas in the space F1 flows into the space E. The gas in the processing container 4 flows into the space E through the support pin hole 32 and the opening 15a. The gas in the space E flows to the pipe 82 through the exhaust port 83. Thereby, the gas in the seal housing 46 and the gas in the processing container 4 are discharged to the outside of the seal housing 46 and the processing container 4. The exhaust mechanism 85 adjusts the amount of gas discharged from the processing container 4 through the exhaust port 83.

仮に支持ピン38とシール部材45の摺動によって塵埃が空間F1で発生した場合、塵埃は、空間F1から空間Eを通って排気ポート83に流入する。すなわち、空間F1の塵埃も排気ポート83を通じて排出される。このため、塵埃が処理容器4に進入することを的確に防止できる。さらに、開口15aにおいて、気体は、処理容器4(支持ピン孔32)からシールハウジング46(空間E)に向かって流れる。このような気体の流れは、塵埃がシールハウジング46から処理容器4に流入することを好適に阻止する。よって、塵埃が処理容器4に進入することを一層的確に防止できる。   If dust is generated in the space F1 due to the sliding of the support pin 38 and the seal member 45, the dust flows from the space F1 through the space E into the exhaust port 83. That is, dust in the space F1 is also discharged through the exhaust port 83. For this reason, it is possible to accurately prevent dust from entering the processing container 4. Further, in the opening 15a, the gas flows from the processing container 4 (support pin hole 32) toward the seal housing 46 (space E). Such a gas flow suitably prevents dust from flowing into the processing container 4 from the seal housing 46. Therefore, it is possible to prevent dust from entering the processing container 4 more accurately.

仮に外気が支持ピン38とシール部材45の密着部を通じて空間F1に流入した場合、外気は、空間F1から空間Eを通って排気ポート83に流入する。すなわち、空間F1の外気も排気ポート83を通じて排出される。このため、外気が処理容器4に進入することを的確に防止できる。さらに、開口15aにおいて、気体は、処理容器4(支持ピン孔32)からシールハウジング46(空間E)に向かって流れる。このような気体の流れは、外気がシールハウジング46から処理容器4に流入することを好適に阻止する。よって、外気が処理容器4に進入することを一層的確に防止できる。   If the outside air flows into the space F1 through the close contact portion between the support pin 38 and the seal member 45, the outside air flows from the space F1 through the space E into the exhaust port 83. That is, the outside air in the space F1 is also discharged through the exhaust port 83. For this reason, it is possible to accurately prevent outside air from entering the processing container 4. Further, in the opening 15a, the gas flows from the processing container 4 (support pin hole 32) toward the seal housing 46 (space E). Such a gas flow suitably prevents outside air from flowing into the processing container 4 from the seal housing 46. Therefore, it is possible to more accurately prevent outside air from entering the processing container 4.

以上のとおり、排気ポート83を通じてシールハウジング46内の気体および処理容器4内の気体を排出することにより、塵埃や外気などの異物が処理容器4に入ることを好適に防止できる。   As described above, by discharging the gas in the seal housing 46 and the gas in the processing container 4 through the exhaust port 83, it is possible to suitably prevent foreign matters such as dust and outside air from entering the processing container 4.

排気機構85の駆動が停止すると、下部排出部81は気体の排出を停止する。開閉弁84が閉じると、排気ポート83は密閉される。   When the driving of the exhaust mechanism 85 is stopped, the lower discharge unit 81 stops the gas discharge. When the on-off valve 84 is closed, the exhaust port 83 is sealed.

2−8.センサ91、93
処理ユニット2は、圧力センサ91と酸素濃度センサ93を備える。圧力センサ91は処理容器4内の気体の圧力を検出する。酸素濃度センサ93は処理容器4内の酸素濃度を検出する。酸素濃度センサ93は、例えば、ガルバニ電池式酸素センサまたはジルコニア式酸素センサである。
2-8. Sensor 91, 93
The processing unit 2 includes a pressure sensor 91 and an oxygen concentration sensor 93. The pressure sensor 91 detects the pressure of the gas in the processing container 4. The oxygen concentration sensor 93 detects the oxygen concentration in the processing container 4. The oxygen concentration sensor 93 is, for example, a galvanic cell type oxygen sensor or a zirconia type oxygen sensor.

2−9.制御部95
処理ユニット2は制御部95を備える。制御部95は、加熱部31とシャッター駆動機構35と支持ピン駆動機構39と開閉弁54、64、74、84と流量調整部55、65と排気機構75、85と圧力センサ91と酸素濃度センサ93と通信可能に接続されている。制御部95は、圧力センサ91の検出結果と酸素濃度センサ93の検出結果を受信する。制御部95は、加熱部31とシャッター駆動機構35と支持ピン駆動機構39と開閉弁54、64、74、84と流量調整部55、65と排気機構75、85を制御する。制御部95は、各種処理を実行する中央演算処理装置(CPU)、演算処理の作業領域となるRAM(Random-Access Memory)、固定ディスク等の記憶媒体等によって実現されている。記憶媒体には、基板Wを処理するための処理レシピ(処理プログラム)や、酸素濃度の基準値など各種情報を記憶されている。
2-9. Control unit 95
The processing unit 2 includes a control unit 95. The control unit 95 includes a heating unit 31, a shutter drive mechanism 35, a support pin drive mechanism 39, on-off valves 54, 64, 74 and 84, flow rate adjustment units 55 and 65, exhaust mechanisms 75 and 85, a pressure sensor 91, and an oxygen concentration sensor. 93 is communicably connected. The control unit 95 receives the detection result of the pressure sensor 91 and the detection result of the oxygen concentration sensor 93. The control unit 95 controls the heating unit 31, the shutter drive mechanism 35, the support pin drive mechanism 39, the on-off valves 54, 64, 74 and 84, the flow rate adjustment units 55 and 65, and the exhaust mechanisms 75 and 85. The control unit 95 is realized by a central processing unit (CPU) that executes various processes, a RAM (Random-Access Memory) that is a work area for the arithmetic processing, a storage medium such as a fixed disk, and the like. The storage medium stores various information such as a processing recipe (processing program) for processing the substrate W and a reference value of the oxygen concentration.

3.押さえ部材6と止め具7と手動調整部8
図5は、処理ユニット2の斜視図である。図6は、処理ユニット2の平面図である。図7(a)は押さえ部材の平面図であり、図7(b)は押さえ部材の側面図である。図8は、図6におけるVIII−VIII線に沿う断面図である。
3. Holding member 6, stopper 7, and manual adjustment portion 8
FIG. 5 is a perspective view of the processing unit 2. FIG. 6 is a plan view of the processing unit 2. FIG. 7A is a plan view of the pressing member, and FIG. 7B is a side view of the pressing member. 8 is a cross-sectional view taken along line VIII-VIII in FIG.

図6を参照する。第1端部21および止め具7は平面視において蓋部13から外れた位置に配置される。すなわち、第1端部21および止め具7は、平面視において蓋部13と重ならない。第1端部21および止め具7は、平面視において蓋部13の前方に配置される。より厳密には、第1端部21および止め具7は、平面視において蓋部13に中央に対して、前方且つ右方に配置される。蓋部13に中央は、例えば、平面視において供給ポート53と重なる部分である。   Please refer to FIG. The first end 21 and the stopper 7 are disposed at a position away from the lid 13 in plan view. That is, the first end portion 21 and the stopper 7 do not overlap the lid portion 13 in plan view. The first end portion 21 and the stopper 7 are disposed in front of the lid portion 13 in plan view. More precisely, the first end portion 21 and the stopper 7 are disposed forward and to the right with respect to the center of the lid portion 13 in plan view. The center of the lid 13 is, for example, a portion that overlaps with the supply port 53 in plan view.

第2端部22および手動調整部8は、平面視において蓋部13から外れた位置に配置される。すなわち、第2端部22および手動調整部8は、平面視において蓋部13と重ならない。第2端部22および手動調整部8は、平面視において蓋部13の後方に配置される。より厳密には、第2端部22および手動調整部8は、平面視において蓋部13の中央に対して、後方且つ左方に配置される。   The second end portion 22 and the manual adjustment portion 8 are disposed at a position that is out of the lid portion 13 in plan view. That is, the second end 22 and the manual adjustment unit 8 do not overlap with the lid 13 in plan view. The second end portion 22 and the manual adjustment portion 8 are disposed behind the lid portion 13 in plan view. More precisely, the second end portion 22 and the manual adjustment portion 8 are disposed rearward and leftward with respect to the center of the lid portion 13 in plan view.

平面視において、第1端部21と第2端部22を結ぶ仮想線Lは、蓋部13の中央を通る。押さえ部材6は、第1端部21と第2端部22の間で、蓋部13を筐体11に対して押さえる。   In plan view, a virtual line L connecting the first end 21 and the second end 22 passes through the center of the lid 13. The pressing member 6 presses the lid portion 13 against the housing 11 between the first end portion 21 and the second end portion 22.

第1端部21と止め具7は、平面視において筐体11と重なる。なわち、第1端部21と止め具7は、筐体11の上方に配置される。第1端部21と止め具7は、平面視において筐体11の第1角部11aに配置される。第1角部11aは、筐体11の前部且つ右部に位置する。   The first end 21 and the stopper 7 overlap the housing 11 in plan view. In other words, the first end 21 and the stopper 7 are disposed above the housing 11. The first end 21 and the stopper 7 are disposed at the first corner 11a of the housing 11 in plan view. The first corner portion 11 a is located on the front and right side of the housing 11.

第2端部22と手動調整部8は、平面視において筐体11と重なる。すなわち、第2端部22と手動調整部8は、筐体11の上方に配置される。第2端部22および手動調整部8は、平面視において筐体11の第2角部11cに配置される。第2角部11cは、平面視において第1角部11aと対向する。第2角部11cは、第1角部11aと隣り合わない。第2角部11cは、筐体11の後部且つ左部に位置する。   The second end 22 and the manual adjustment unit 8 overlap with the housing 11 in plan view. That is, the second end 22 and the manual adjustment unit 8 are disposed above the housing 11. The second end 22 and the manual adjustment unit 8 are disposed at the second corner 11c of the housing 11 in plan view. The second corner portion 11c faces the first corner portion 11a in plan view. The second corner portion 11c is not adjacent to the first corner portion 11a. The second corner portion 11 c is located at the rear portion and the left portion of the housing 11.

図5−図8を参照する。押さえ部材6は、外枠23と2つの補強部材24を備える。外枠23は、平面視において第1端部21と第2端部22の間に配置される。外枠23は第1端部21と連結される。外枠23は第2端部22と連結される。第1端部21は外枠23の第1側部23bに連結される。第2端部22は外枠23の第2側部23cに連結される。   Reference is made to FIGS. The pressing member 6 includes an outer frame 23 and two reinforcing members 24. The outer frame 23 is disposed between the first end 21 and the second end 22 in plan view. The outer frame 23 is connected to the first end 21. The outer frame 23 is connected to the second end 22. The first end 21 is connected to the first side 23 b of the outer frame 23. The second end 22 is connected to the second side 23 c of the outer frame 23.

外枠23は平面視で環形状を有する。外枠23は蓋部13の上方に配置される。外枠23は平面視で蓋部13と重なる。外枠23の輪郭は略多角形状(例えば、六角形状)を有する。   The outer frame 23 has a ring shape in plan view. The outer frame 23 is disposed above the lid portion 13. The outer frame 23 overlaps the lid portion 13 in plan view. The outline of the outer frame 23 has a substantially polygonal shape (for example, a hexagonal shape).

外枠23は、直線的に延びる複数(例えば6つ)の直線部23aを含む。各直線部23aは相互に接合される。各直線部23aはリング状に接合される。   The outer frame 23 includes a plurality of (for example, six) linear portions 23a extending linearly. The straight portions 23a are joined to each other. Each linear part 23a is joined in a ring shape.

外枠23の下面23dは略平坦である。外枠23の下面23dは略水平である。外枠23の下面23dは蓋部13の上面13aより高い。   The lower surface 23d of the outer frame 23 is substantially flat. The lower surface 23d of the outer frame 23 is substantially horizontal. The lower surface 23 d of the outer frame 23 is higher than the upper surface 13 a of the lid portion 13.

補強部材24は、平面視において外枠23の内方に配置される。具体的には、補強部材24は直線的に延びる。補強部材24は、平面視において仮想線Lと略直交する方向に延びる。補強部材24の両端はそれぞれ、外枠23と接合される。補強部材24は、外枠23に接合される第1端と、外枠23に接合される第2端を有する。   The reinforcing member 24 is disposed inside the outer frame 23 in plan view. Specifically, the reinforcing member 24 extends linearly. The reinforcing member 24 extends in a direction substantially orthogonal to the virtual line L in plan view. Both ends of the reinforcing member 24 are joined to the outer frame 23. The reinforcing member 24 has a first end joined to the outer frame 23 and a second end joined to the outer frame 23.

押さえ部材6は、3つ以上(例えば、4つ)の座部25を有する。座部25は外枠23に接続される。座部25は外枠23から下方に延びる。座部25の下面は略平坦である。座部25の下面は略水平である。座部25の下面は略円形状である。座部25は蓋部13と接触する。具体的には、座部25の下面が蓋部13の上面13aと接触する。   The pressing member 6 has three or more (for example, four) seats 25. The seat 25 is connected to the outer frame 23. The seat 25 extends downward from the outer frame 23. The lower surface of the seat part 25 is substantially flat. The lower surface of the seat portion 25 is substantially horizontal. The lower surface of the seat part 25 is substantially circular. The seat portion 25 is in contact with the lid portion 13. Specifically, the lower surface of the seat portion 25 is in contact with the upper surface 13 a of the lid portion 13.

図6を参照する。座部25は、平面視において蓋部13と重なる。座部25は、平面視において蓋部13よりも十分に小さい。座部25は、平面視において筐体11と蓋部13とが密着する部位と重なる。座部25は、平面視において開口Bの周囲に配置されるシール部材19と重なる。座部25は、平面視において蓋部13の周縁部と重なる。   Please refer to FIG. The seat portion 25 overlaps the lid portion 13 in plan view. The seat portion 25 is sufficiently smaller than the lid portion 13 in plan view. The seat portion 25 overlaps a portion where the housing 11 and the lid portion 13 are in close contact with each other in plan view. The seat portion 25 overlaps with the seal member 19 disposed around the opening B in plan view. The seat portion 25 overlaps the peripheral edge portion of the lid portion 13 in plan view.

図5−図8を参照する。止め具7は、筐体11に固定される。止め具7は、2つのステー26と、1本の軸部材27を備える。ステー26は筐体11の上面に固定される。ステー26は筐体11の上面から上方に突出する。軸部材27はステー26に支持される。軸部材27は、一方のステー26に連結される第1端と、他のステー26に連結される第2端を有する。   Reference is made to FIGS. The stopper 7 is fixed to the housing 11. The stopper 7 includes two stays 26 and one shaft member 27. The stay 26 is fixed to the upper surface of the housing 11. The stay 26 protrudes upward from the upper surface of the housing 11. The shaft member 27 is supported by the stay 26. The shaft member 27 has a first end connected to one stay 26 and a second end connected to the other stay 26.

軸部材27は略水平方向に延びる。すなわち、軸部材27の軸心Cは水平方向と略平行である。軸部材27は略円柱形状を有する。軸部材27の下端は、外枠23の下面23dと略同じ高さである。軸部材27の下端は、蓋部13の上面13aより高い。   The shaft member 27 extends in a substantially horizontal direction. That is, the axis C of the shaft member 27 is substantially parallel to the horizontal direction. The shaft member 27 has a substantially cylindrical shape. The lower end of the shaft member 27 is substantially the same height as the lower surface 23 d of the outer frame 23. The lower end of the shaft member 27 is higher than the upper surface 13 a of the lid portion 13.

軸部材27は第1端部21と接触する。具体的には、軸部材27は第1端部21の上面と接触する。これにより、軸部材27は、第1端部21が上方に動くことを禁止する。   The shaft member 27 is in contact with the first end portion 21. Specifically, the shaft member 27 is in contact with the upper surface of the first end portion 21. Thereby, the shaft member 27 prohibits the first end portion 21 from moving upward.

図7(a)、図7(b)を参照する。第1端部21は、軸部材27の外周面と接触する接触面21aを有する。接触面21aは、第1端部21の上面に形成される。   Please refer to FIG. 7A and FIG. The first end 21 has a contact surface 21 a that contacts the outer peripheral surface of the shaft member 27. The contact surface 21 a is formed on the upper surface of the first end portion 21.

接触面21aは、さらに、軸部材27の外周面と摺動可能である。接触面21aは、湾曲している。これにより、第1端部21は軸部材27回りに回転可能である。すなわち、押さえ部材6は軸部材27回りに回転可能である。   Further, the contact surface 21 a is slidable with the outer peripheral surface of the shaft member 27. The contact surface 21a is curved. Thereby, the first end portion 21 can rotate around the shaft member 27. That is, the pressing member 6 can rotate around the shaft member 27.

図8は、略水平姿勢である押さえ部材6を示す。押さえ部材6が略水平姿勢である状態では、外枠23の下面23dは略水平である。押さえ部材6が略水平姿勢である状態では、押さえ部材6が蓋部13と接触する。押さえ部材6が略水平姿勢である状態において、押さえ部材6は蓋部13を押さえることができる。   FIG. 8 shows the pressing member 6 in a substantially horizontal posture. In a state where the pressing member 6 is in a substantially horizontal posture, the lower surface 23d of the outer frame 23 is substantially horizontal. In a state where the pressing member 6 is in a substantially horizontal posture, the pressing member 6 contacts the lid portion 13. In the state where the pressing member 6 is in a substantially horizontal posture, the pressing member 6 can press the lid portion 13.

図9は、傾斜姿勢である押さえ部材6を示す。図9では、第2端部22の高さ位置が第1端部21よりも高い。   FIG. 9 shows the pressing member 6 in an inclined posture. In FIG. 9, the height position of the second end portion 22 is higher than that of the first end portion 21.

ここで、軸部材27の軸心Cの方向から見て、軸部材27から第2端部22に向かう水平な向きを「第1方向d1」という。第1方向d1とは反対の向きを「第2方向d2」と呼ぶ。そうすると、図9では、押さえ部材6が第1方向d1に向かって上方に傾斜している。押さえ部材6が第1方向d1に向かって上方に傾斜した状態では、外枠23の下面23dは第1方向d1に向かって上方に傾斜している。押さえ部材6が第1方向d1に向かって上方に傾斜した状態では、押さえ部材6は蓋部13と接触しない。   Here, when viewed from the direction of the axis C of the shaft member 27, the horizontal direction from the shaft member 27 toward the second end portion 22 is referred to as a “first direction d1”. The direction opposite to the first direction d1 is referred to as “second direction d2”. Then, in FIG. 9, the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d1. In a state where the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d1, the lower surface 23d of the outer frame 23 is inclined upward in the first direction d1. In a state where the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d1, the pressing member 6 does not contact the lid portion 13.

接触面21aは上方に開放される。接触面21aは下方に凹む。接触面21aは軸部材27の全周と接触しない。接触面21aと接触する軸部材27の周方向の長さは、軸部材27の全周の半分未満である。これにより、第1端部21は軸部材27から分離可能である。すなわち、押さえ部材6は軸部材27から分離可能である。   The contact surface 21a is opened upward. The contact surface 21a is recessed downward. The contact surface 21 a does not contact the entire circumference of the shaft member 27. The length of the shaft member 27 in contact with the contact surface 21 a in the circumferential direction is less than half of the entire circumference of the shaft member 27. As a result, the first end 21 can be separated from the shaft member 27. That is, the pressing member 6 can be separated from the shaft member 27.

図10、11は、第1端部21と軸部材27の断面詳細図である。図10は、押さえ部材6が略水平姿勢である状態における第1端部21と軸部材27を示す。図11は、押さえ部材6が第1方向d1に向かって上方に傾斜した状態における第1端部21と軸部材27を示す。   10 and 11 are detailed cross-sectional views of the first end 21 and the shaft member 27. FIG. 10 shows the first end 21 and the shaft member 27 in a state where the pressing member 6 is in a substantially horizontal posture. FIG. 11 shows the first end 21 and the shaft member 27 in a state where the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d1.

ここで、軸部材27の軸心Cを通る仮想的な水平面Hよりも上方に位置する軸部材27の部分を、「上部27T」と呼ぶ。軸部材27のうち、上部27T以外の部分を「下部27B」と呼ぶ。軸部材27の軸心Cを通る仮想的な鉛直面Vよりも第2端部22側(すなわち、第1方向d1)の部分を、「表部27F」と呼ぶ。軸部材27のうち、表部27F以外の部分を「裏部27R」と呼ぶ。表部27Fと下部27Bの共通部分を、「表下部27FB」と呼ぶ。裏部27Bと下部27Bの共通部分を、「裏下部27RB」と呼ぶ。   Here, the portion of the shaft member 27 located above the virtual horizontal plane H passing through the axis C of the shaft member 27 is referred to as “upper portion 27T”. A portion of the shaft member 27 other than the upper portion 27T is referred to as a “lower portion 27B”. The portion on the second end 22 side (that is, the first direction d1) from the virtual vertical plane V passing through the axis C of the shaft member 27 is referred to as a “front portion 27F”. A portion of the shaft member 27 other than the front portion 27F is referred to as a “back portion 27R”. A common part of the front portion 27F and the lower portion 27B is referred to as a “front lower portion 27FB”. A common part of the back portion 27B and the lower portion 27B is referred to as a “back lower portion 27RB”.

図10を参照する。押さえ部材6が略水平姿勢である状態では、接触面21aは、軸部材27の裏下部27RBと接触する。このため、軸部材27(止め具7)は、押さえ部材6が略水平姿勢である状態で第1端部21(押さえ部材6)が第1方向d1に移動することを、禁止する。   Please refer to FIG. In a state where the pressing member 6 is in a substantially horizontal posture, the contact surface 21 a contacts the back lower portion 27 RB of the shaft member 27. For this reason, the shaft member 27 (stopper 7) prohibits the first end 21 (pressing member 6) from moving in the first direction d1 while the pressing member 6 is in a substantially horizontal posture.

押さえ部材6が略水平姿勢である状態では、接触面21aは、軸部材27の表下部27FBと接触する。このため、軸部材27(止め具7)は、押さえ部材6が略水平姿勢である状態で第1端部21(押さえ部材6)が第2方向d2に移動することを、禁止する。   In a state where the pressing member 6 is in a substantially horizontal posture, the contact surface 21 a contacts the front and lower portions 27 FB of the shaft member 27. For this reason, the shaft member 27 (stopper 7) prohibits the first end 21 (pressing member 6) from moving in the second direction d2 while the pressing member 6 is in a substantially horizontal posture.

図11を参照する。押さえ部材6が第1方向d1に向かって上方に傾斜した状態では、接触面21aは軸部材27の表部27Fのみと接触する。すなわち、押さえ部材6が第1方向d1に向かって上方に傾斜した状態では、接触面21aは、軸部材27の裏部27Rと接触しない。このため、軸部材27(止め具7)は、押さえ部材6が第1方向d1に向かって上方に傾斜した状態で第1端部21(押さえ部材6)が第1方向d1に移動することを、許容する。すなわち、押さえ部材6が第1方向d1に向かって上方に傾斜した状態では、第1端部21(押さえ部材6)は軸部材27(止め具7)から離脱可能である。   Please refer to FIG. In a state where the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d1, the contact surface 21a contacts only the front portion 27F of the shaft member 27. That is, the contact surface 21 a does not contact the back portion 27 </ b> R of the shaft member 27 when the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d <b> 1. For this reason, the shaft member 27 (stopper 7) indicates that the first end 21 (pressing member 6) moves in the first direction d1 while the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d1. Tolerate. That is, in a state where the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d1, the first end portion 21 (the pressing member 6) can be detached from the shaft member 27 (the stopper 7).

押さえ部材6が止め具7と着脱可能な押さえ部材6の傾斜角度は、15度以上であることが好ましい。押さえ部材6が止め具と着脱可能な押さえ部材6の傾斜角度は、10度以上であることがさらに好ましい。押さえ部材6が止め具と着脱可能な押さえ部材6の傾斜角度は、5度以上であることが一層好ましい。ここで、押さえ部材6の傾斜角度とは、例えば、外枠23の下面23dと水平面Hとのなす角度である。   It is preferable that the inclination angle of the pressing member 6 to which the pressing member 6 can be attached to and detached from the stopper 7 is 15 degrees or more. More preferably, the holding member 6 is attachable to and detachable from the stopper with an inclination angle of 10 degrees or more. It is more preferable that the inclination angle of the pressing member 6 detachably attached to the pressing member 6 is 5 degrees or more. Here, the inclination angle of the pressing member 6 is, for example, an angle formed between the lower surface 23d of the outer frame 23 and the horizontal plane H.

なお、本実施形態では、接触面21aと接触する軸部材27の周方向の長さは、軸部材27の全周の4分の1以上である。   In the present embodiment, the length in the circumferential direction of the shaft member 27 that contacts the contact surface 21 a is at least a quarter of the entire circumference of the shaft member 27.

図5−図8を参照する。手動調整部8は筐体11に取り付けられる。手動調整部8は、筐体11に対して第2端部22を上下動させる。   Reference is made to FIGS. The manual adjustment unit 8 is attached to the housing 11. The manual adjustment unit 8 moves the second end 22 up and down with respect to the housing 11.

手動調整部8は結合部28とねじ29を備える。結合部28は筐体11に固定される。結合部28は、筐体11の上面から上方に突出する。結合部28はねじ穴を有する。ねじ穴は結合部28の内部に形成される。ねじ穴は略上下方向Zに延びる。ねじ穴は上方に開放される。   The manual adjustment unit 8 includes a coupling unit 28 and a screw 29. The coupling portion 28 is fixed to the housing 11. The coupling portion 28 protrudes upward from the upper surface of the housing 11. The coupling portion 28 has a screw hole. The screw hole is formed inside the coupling portion 28. The screw hole extends substantially in the vertical direction Z. The screw hole is opened upward.

ねじ29は、例えばボルトである。ねじは、例えばローレットボルトである。ねじ29は、結合部28(ねじ穴)と結合する。ねじ29の軸部29aは上下方向Zと略平行である。ねじ29の頭部29bは、ねじ29の軸部29aの上端に配置される。   The screw 29 is, for example, a bolt. The screw is, for example, a knurled bolt. The screw 29 is coupled to the coupling portion 28 (screw hole). The shaft portion 29a of the screw 29 is substantially parallel to the vertical direction Z. The head portion 29 b of the screw 29 is disposed at the upper end of the shaft portion 29 a of the screw 29.

押さえ部材6の第2端部22は、取付座22aと切り欠き22bを有する。取付座22aは平らな板形状を有する。切り欠き22bは取付座22aに形成される。ねじ29の軸部29aは、切り欠き22bに配置される。第2端部22(取付座22a)は、ねじ29の頭部29bと結合部28の間に配置される。ねじ29の回動に応じて、第2端部22が上下動する。   The second end 22 of the pressing member 6 has a mounting seat 22a and a notch 22b. The mounting seat 22a has a flat plate shape. The notch 22b is formed in the mounting seat 22a. A shaft portion 29a of the screw 29 is disposed in the notch 22b. The second end portion 22 (mounting seat 22 a) is disposed between the head portion 29 b of the screw 29 and the coupling portion 28. In response to the rotation of the screw 29, the second end 22 moves up and down.

4.蓋部13を着脱する作業
図12(a)−図12(d)は、蓋部13を筐体11から取り外す手順を示す模式図である。蓋部13を筐体11から取り外す作業を説明する。なお、この作業は、ユーザーの手作業によって行われる。すなわち、この作業は、制御部95の制御によって実行されない。
4). Work for Removing and Attaching Lid 13 FIGS. 12A to 12D are schematic views showing a procedure for removing the lid 13 from the housing 11. An operation of removing the lid 13 from the housing 11 will be described. This operation is performed manually by the user. That is, this operation is not executed under the control of the control unit 95.

図12(a)を参照する。ユーザーは、外壁パネル9を取り外す。   Reference is made to FIG. The user removes the outer wall panel 9.

図12(b)を参照する。ユーザーは、ねじ29を回動して、手動調整部8から第2端部22を取り外す。ねじ29はローレットボルトであるので、ユーザーは素手でねじを回動できる。これにより、押さえ部材6による蓋部13の押さえが、解除される。ユーザーは、押さえ部材6を軸部材27回りに回動する。これにより、押さえ部材6は、第1方向d1に向かって上方に傾斜する。   Reference is made to FIG. The user removes the second end portion 22 from the manual adjustment unit 8 by rotating the screw 29. Since the screw 29 is a knurled bolt, the user can turn the screw with bare hands. Thereby, the pressing of the lid portion 13 by the pressing member 6 is released. The user rotates the pressing member 6 around the shaft member 27. Thereby, the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d1.

図12(c)を参照する。ユーザーは、押さえ部材6が第1方向d1に向かって上方に傾斜した状態で押さえ部材6を第1方向d1に引く。これにより、押さえ部材6(第1端部21)は、止め具7から分離する。ユーザーは、押さえ部材6を、筐体11の上方から外れた位置に移動する。   Reference is made to FIG. The user pulls the pressing member 6 in the first direction d1 in a state where the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d1. Thereby, the pressing member 6 (first end portion 21) is separated from the stopper 7. The user moves the pressing member 6 to a position off the upper side of the housing 11.

図12(d)を参照する。ユーザーは、蓋部13を持ち上げる。これにより、蓋部13は筐体11から外れる。この際、整流板56も蓋部13と一体に筐体11から外れる。すなわち、開口Bが開放される。ユーザーは、蓋部13を筐体11の上方から外れた位置に移動する。   Reference is made to FIG. The user lifts the lid 13. As a result, the lid 13 is detached from the housing 11. At this time, the current plate 56 is also detached from the housing 11 together with the lid portion 13. That is, the opening B is opened. The user moves the lid portion 13 to a position off the upper side of the housing 11.

蓋部13を筐体11に取り付ける作業を説明する。なお、この作業も、ユーザーの手作業によって行われる。   An operation for attaching the lid 13 to the housing 11 will be described. This operation is also performed manually by the user.

ユーザーが、蓋部13を筐体11の上部に載置する。ユーザーが、押さえ部材6の第1端部21を、止め具7に接触させる(係合させる)。具体的には、ユーザーは、押さえ部材6が第1方向d1に向かって上方に傾斜した状態で、第2方向d2に移動させる。そして、ユーザーは、第1端部21を軸部材27の下方に挿入する。これにより、第1端部21(接触面21a)は軸部材27に接触する(掛かる)。ユーザーは、押さえ部材6を軸部材27回りに回動し、押さえ部材6を略水平姿勢にする。これにより、押さえ部材6(座部25)が蓋部13と接触する。ユーザーは、押さえ部材6の第2端部22を手動調整部8にセットする。具体的には、ユーザーは、押さえ部材6の第2端部22を結合部28とねじ29の間に配置する。ユーザーは、ねじ29を回動して、第2端部22の高さ位置を調整する。具体的には、ユーザーは、ねじ29を回動して、第2端部22を下方に移動させる。これにより、第1端部21の高さ位置が一定に保たれた状態で、第2端部22の高さ位置が低くなる。このため、押さえ部材6は、適切な力で筐体11に対して蓋部13を押さえる。その結果、蓋部13は筐体11と密着する。その後、ユーザーは、外壁パネル9を取り付ける。   A user places the lid 13 on the top of the housing 11. The user makes the first end portion 21 of the pressing member 6 contact (engage with) the stopper 7. Specifically, the user moves the pressing member 6 in the second direction d2 in a state where the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d1. Then, the user inserts the first end portion 21 below the shaft member 27. Thereby, the 1st end part 21 (contact surface 21a) contacts the shaft member 27 (hangs). The user rotates the pressing member 6 around the shaft member 27 to bring the pressing member 6 into a substantially horizontal posture. Thereby, the pressing member 6 (seat portion 25) comes into contact with the lid portion 13. The user sets the second end 22 of the pressing member 6 to the manual adjustment unit 8. Specifically, the user arranges the second end portion 22 of the pressing member 6 between the coupling portion 28 and the screw 29. The user rotates the screw 29 to adjust the height position of the second end portion 22. Specifically, the user rotates the screw 29 to move the second end 22 downward. Thereby, the height position of the 2nd end part 22 becomes low in the state where the height position of the 1st end part 21 was kept constant. For this reason, the pressing member 6 presses the lid portion 13 against the housing 11 with an appropriate force. As a result, the lid 13 is in close contact with the housing 11. Thereafter, the user attaches the outer wall panel 9.

5.基板を処理する処理例
次に、処理ユニット2が基板Wを処理する処理例を説明する。
本処理例では、基板処理装置1は、自己組織化材料が塗布された基板(例えば、半導体ウエハ)Wに熱処理を行う。基板処理装置1は、基板Wを加熱することによって、自己組織化材料を相分離させる。相分離した自己組織化材料は規則性の高い構造を有する。さらに、基板処理装置1は、基板Wを冷却することによって、相分離した自己組織化材料の構造を劣化や崩壊から保護する。
5. Processing Example for Processing Substrate Next, a processing example in which the processing unit 2 processes the substrate W will be described.
In the present processing example, the substrate processing apparatus 1 performs a heat treatment on a substrate (for example, a semiconductor wafer) W coated with a self-organizing material. The substrate processing apparatus 1 causes the self-organized material to phase-separate by heating the substrate W. The phase-separated self-assembled material has a highly ordered structure. Furthermore, the substrate processing apparatus 1 protects the structure of the phase-separated self-organized material from deterioration and collapse by cooling the substrate W.

図13は、基板処理装置1の動作例の手順を示すフローチャートである。基板処理装置1の動作例は、搬入工程(ステップS1)と密閉工程(ステップS2)と置換工程(ステップS3)と加熱工程(ステップS4)と冷却工程(ステップS5)と開放工程(ステップS6)と搬出工程(ステップS7)を含む。   FIG. 13 is a flowchart showing a procedure of an operation example of the substrate processing apparatus 1. The operation example of the substrate processing apparatus 1 includes a carry-in process (step S1), a sealing process (step S2), a replacement process (step S3), a heating process (step S4), a cooling process (step S5), and an opening process (step S6). And a carrying-out process (step S7).

以下、各工程を説明する。以下の動作例において、各部材は、制御部95による制御に従って動作する。以下の動作例では、押さえ部材6は筐体11に対して蓋部13を押しており、蓋部13は筐体11に密着している。   Hereinafter, each process will be described. In the following operation example, each member operates according to control by the control unit 95. In the following operation example, the pressing member 6 presses the lid portion 13 against the housing 11, and the lid portion 13 is in close contact with the housing 11.

<ステップS1> 搬入工程
シャッター駆動機構35がシャッター12を筐体11から離脱させる。これにより、搬送口Aが開放される。搬送機構3が基板Wを処理容器4内に搬入する。具体的は、搬送機構3が基板Wを水平姿勢で保持した状態で前方に移動し、搬送口Aを通じて処理容器4の内部に進入する。これにより、基板Wは、水平姿勢で前方に移動し、搬送口Aを通じて処理容器4内に入る。基板W上には自己組織化材料が既に塗布されている。支持ピン駆動機構39が支持ピン38を上方位置に移動させる。支持ピン38が搬送機構3から基板Wを受け取る。支持ピン38が基板Wを受け取った後、搬送機構3が処理容器4の外部に退出する。支持ピン38は基板Wを冷却位置PCで支持する。
<Step S <b>1> Carry-in Process The shutter drive mechanism 35 releases the shutter 12 from the housing 11. Thereby, the conveyance port A is opened. The transport mechanism 3 carries the substrate W into the processing container 4. Specifically, the transport mechanism 3 moves forward with the substrate W held in a horizontal posture, and enters the processing container 4 through the transport port A. Accordingly, the substrate W moves forward in a horizontal posture and enters the processing container 4 through the transfer port A. A self-organizing material has already been applied on the substrate W. The support pin drive mechanism 39 moves the support pin 38 to the upper position. The support pins 38 receive the substrate W from the transport mechanism 3. After the support pins 38 receive the substrate W, the transport mechanism 3 moves out of the processing container 4. The support pins 38 support the substrate W at the cooling position PC.

搬入工程では、下部排出部81はシールハウジング46および処理容器4から気体を排出する。下部排出部81は、後述する搬出工程(ステップS7)が終了するまで、シールハウジング46および処理容器4から気体を排出し続ける。   In the carry-in process, the lower discharge portion 81 discharges gas from the seal housing 46 and the processing container 4. The lower discharge part 81 continues to discharge gas from the seal housing 46 and the processing container 4 until the unloading process (step S7) described later is completed.

<ステップS2> 密閉工程
シャッター駆動機構35はシャッター12を筐体11に取り付ける。シャッター12はシール部材19を介して筐体11と密着する。これにより、搬送口Aは密閉される。すなわち、処理容器4は略密閉される。密閉工程では、支持ピン38は上方位置にあり、基板Wは冷却位置PCで静止する。
<Step S <b>2> Sealing Step The shutter drive mechanism 35 attaches the shutter 12 to the housing 11. The shutter 12 is in close contact with the housing 11 via a seal member 19. Thereby, the conveyance port A is sealed. That is, the processing container 4 is substantially sealed. In the sealing process, the support pins 38 are in the upper position, and the substrate W is stationary at the cooling position PC.

<ステップS3> 置換工程
置換工程では、処理容器4内の気体を非酸化性ガスに置換する。
具体的には、上部供給部51および下部供給部61が処理容器4内に非酸化性ガスを供給し、側部排出部71が処理容器4内の気体を排出する。置換工程では、支持ピン38は上方位置にあり、基板Wは冷却位置PCで静止する。
<Step S3> Replacement Process In the replacement process, the gas in the processing container 4 is replaced with a non-oxidizing gas.
Specifically, the upper supply unit 51 and the lower supply unit 61 supply a non-oxidizing gas into the processing container 4, and the side discharge unit 71 discharges the gas in the processing container 4. In the replacement process, the support pins 38 are in the upper position, and the substrate W is stationary at the cooling position PC.

ここで、処理容器4への非酸化性ガスの供給量と、処理容器4からの気体の排出量を時間的に変化させてもよい。さらに、処理容器4内の気体の圧力を時間的に変化させてもよい。たとえば、置換工程の初期段階において、処理容器4内を真空引きする。具体的には、置換工程の初期において、非酸化性ガスを供給せずに、大きな排出量で気体を排出し、処理容器4の真空度を高める。たとえば、置換工程の中期段階において、大きな供給量で非酸化性ガスを供給し、大きな排出量で気体を排出し、処理容器4の気体の圧力を負圧にする。例えば、置換工程の終期段階において、大きな供給量で非酸化性ガスを供給し、小さな排出量で気体を排出し、処理容器4内の気体の圧力を正圧にする。   Here, the supply amount of the non-oxidizing gas to the processing container 4 and the discharge amount of the gas from the processing container 4 may be temporally changed. Furthermore, you may change the pressure of the gas in the processing container 4 temporally. For example, in the initial stage of the replacement process, the inside of the processing container 4 is evacuated. Specifically, in the initial stage of the replacement process, the gas is discharged with a large discharge amount without supplying the non-oxidizing gas, and the degree of vacuum of the processing container 4 is increased. For example, in the middle stage of the replacement process, the non-oxidizing gas is supplied with a large supply amount, the gas is discharged with a large discharge amount, and the pressure of the gas in the processing container 4 is set to a negative pressure. For example, in the final stage of the replacement process, the non-oxidizing gas is supplied with a large supply amount, the gas is discharged with a small discharge amount, and the pressure of the gas in the processing container 4 is set to a positive pressure.

置換工程によって、処理容器4内の酸素濃度は、基準値以下に低下する。すなわち、処理容器4内が非酸化性ガス雰囲気になる。   By the replacement step, the oxygen concentration in the processing container 4 is reduced to a reference value or less. That is, the inside of the processing container 4 becomes a non-oxidizing gas atmosphere.

<ステップS4> 加熱工程
加熱工程は非酸化性ガス雰囲気で基板Wを加熱する。基板Wの加熱により、基板W上の自己組織化材料を相分離させる。
<Step S4> Heating Process The heating process heats the substrate W in a non-oxidizing gas atmosphere. By heating the substrate W, the self-organized material on the substrate W is phase-separated.

加熱工程が始まる時、支持ピン駆動機構39が支持ピン38を下方位置に移動させる。これにより、基板Wは冷却位置PCから加熱位置PHに移動する。基板Wが冷却位置PCから加熱位置PHに移動する期間のみ、下部供給部61が処理容器4内に非酸化性ガスを供給する。下部供給部61は、加熱部31のガス流通孔34を通じて、非酸化性ガスを吹き出す。これにより、基板Wと加熱部31との隙間に酸素が滞留することを確実に防止する。   When the heating process starts, the support pin driving mechanism 39 moves the support pin 38 to the lower position. As a result, the substrate W moves from the cooling position PC to the heating position PH. Only during the period in which the substrate W moves from the cooling position PC to the heating position PH, the lower supply unit 61 supplies the non-oxidizing gas into the processing container 4. The lower supply unit 61 blows out non-oxidizing gas through the gas flow hole 34 of the heating unit 31. This reliably prevents oxygen from staying in the gap between the substrate W and the heating unit 31.

基板Wが加熱位置PHに到達した後、加熱工程が終了するまで、基板Wは加熱位置PHで静止する。加熱部31は加熱位置PHにある基板Wを加熱する。基板Wを加熱する温度は、例えば300度以上である。基板Wを加熱する温度は、例えば自己組織化材料のガラス転移点以上である。基板Wを加熱する温度は、例えば340度から360度の範囲内の値である。   After the substrate W reaches the heating position PH, the substrate W stops at the heating position PH until the heating process is completed. The heating unit 31 heats the substrate W at the heating position PH. The temperature for heating the substrate W is, for example, 300 degrees or more. The temperature which heats the board | substrate W is more than the glass transition point of a self-organization material, for example. The temperature at which the substrate W is heated is, for example, a value within the range of 340 degrees to 360 degrees.

加熱工程では、上部供給部51が非酸化性ガスを処理容器4内に供給し、側部排出部71が処理容器4から気体を排出する。これにより、処理容器4内を非酸化性ガス雰囲気に保つ。加熱工程では、処理容器4内の気体の圧力は負圧である。   In the heating process, the upper supply unit 51 supplies the non-oxidizing gas into the processing container 4, and the side discharge unit 71 discharges the gas from the processing container 4. Thereby, the inside of the processing container 4 is kept in a non-oxidizing gas atmosphere. In the heating process, the pressure of the gas in the processing container 4 is a negative pressure.

<ステップS5> 冷却工程
冷却工程は非酸化性ガス雰囲気で基板Wを冷却する。これにより、相分離した自己組織化材料の構造を、崩壊や劣化から保護する。
<Step S5> Cooling Process The cooling process cools the substrate W in a non-oxidizing gas atmosphere. This protects the structure of the phase-separated self-assembled material from collapse and deterioration.

冷却工程が始まる時、支持ピン駆動機構39が支持ピン38を上方位置に移動させる。これにより、基板Wは加熱位置PHから冷却位置PCに上昇する。基板Wが冷却位置PCに到達した後、冷却工程が終了するまで、基板Wは冷却位置PCに静止する。   When the cooling process starts, the support pin driving mechanism 39 moves the support pin 38 to the upper position. As a result, the substrate W rises from the heating position PH to the cooling position PC. After the substrate W reaches the cooling position PC, the substrate W remains at the cooling position PC until the cooling process is completed.

冷却工程では、上部供給部51および下部供給部61が非酸化性ガスを処理容器4内に供給し、側部排出部71が処理容器4内の気体を排出する。これにより、処理容器4内を非酸化性ガス雰囲気に保つ。冷却工程では、処理容器4内の気体の圧力は負圧である。   In the cooling process, the upper supply unit 51 and the lower supply unit 61 supply the non-oxidizing gas into the processing container 4, and the side discharge unit 71 discharges the gas in the processing container 4. Thereby, the inside of the processing container 4 is kept in a non-oxidizing gas atmosphere. In the cooling process, the pressure of the gas in the processing container 4 is a negative pressure.

例えば、冷却工程における非酸化性ガスの供給量は、加熱工程における非酸化性ガスの供給量よりも大きい。これにより、基板Wを短時間で冷却できる。例えば、冷却工程における処理容器4内の気体の排出量は、加熱工程における処理容器4内の気体の排出量よりも大きい。これにより、基板Wを短時間で冷却できる。   For example, the supply amount of the non-oxidizing gas in the cooling process is larger than the supply amount of the non-oxidizing gas in the heating process. Thereby, the substrate W can be cooled in a short time. For example, the amount of gas discharged from the processing container 4 in the cooling process is larger than the amount of gas discharged from the processing container 4 in the heating process. Thereby, the substrate W can be cooled in a short time.

<ステップS6> 開放工程
シャッター駆動機構35はシャッター12を筐体11から離脱させる。これにより、搬送口Aが開放される。すなわち、処理容器4が開放される。
<Step S <b>6> Opening Process The shutter drive mechanism 35 releases the shutter 12 from the housing 11. Thereby, the conveyance port A is opened. That is, the processing container 4 is opened.

<ステップS7> 搬出工程
不図示の基板搬送機構が基板Wを処理容器4から搬出する。具体的には、搬送機構3が搬送口Aを通じて処理容器4の内部に進入する。支持ピン駆動機構39が支持ピン38を下降させる。搬送機構3は支持ピン38から基板Wを受け取る。搬送機構3は基板Wを水平姿勢で保持する。搬送機構3は、基板Wを水平姿勢で保持した状態で後方に移動し、搬送口Aを通じて処理容器4の外部に退出する。これにより、基板Wは水平姿勢で後方に移動し、搬送口Aを通じて処理容器4から出る。
<Step S <b>7> Unloading process A substrate transport mechanism (not shown) unloads the substrate W from the processing container 4. Specifically, the transport mechanism 3 enters the processing container 4 through the transport port A. The support pin drive mechanism 39 lowers the support pin 38. The transport mechanism 3 receives the substrate W from the support pins 38. The transport mechanism 3 holds the substrate W in a horizontal posture. The transport mechanism 3 moves rearward while holding the substrate W in a horizontal posture, and exits outside the processing container 4 through the transport port A. As a result, the substrate W moves backward in a horizontal posture and exits from the processing container 4 through the transfer port A.

6.実施形態の効果
このように、実施形態に係る基板処理装置によれば、以下の効果を奏する。
6). Effects of the Embodiment As described above, the substrate processing apparatus according to the embodiment has the following effects.

基板処理装置1は、押さえ部材6と止め具7と手動調整部8を備える。このため、押さえ部材6の第1端部21が上方に動くことを禁止した状態で、押さえ部材6の第2端部22の高さ位置を低くできる。これにより、押さえ部材6は、蓋部13を筐体11に対して適切に押さえることができる。よって、処理容器4の密着性を高めることができる。   The substrate processing apparatus 1 includes a pressing member 6, a stopper 7, and a manual adjustment unit 8. For this reason, the height position of the second end portion 22 of the pressing member 6 can be lowered while the first end portion 21 of the pressing member 6 is prohibited from moving upward. Thereby, the pressing member 6 can appropriately press the lid portion 13 against the housing 11. Therefore, the adhesiveness of the processing container 4 can be improved.

さらに、押さえ部材6の第1端部21が上方に動くことを禁止した状態で、押さえ部材6の第2端部22の高さ位置を高くできる。これにより、押さえ部材6による蓋部13の押さえを解除できる。よって、蓋部13を筐体11から容易に分離できる。すなわち、開口Bを容易に開放できる。したがって、処理容器4のメンテナンスを容易に行うことができる。   Furthermore, the height position of the second end portion 22 of the pressing member 6 can be increased in a state where the first end portion 21 of the pressing member 6 is prohibited from moving upward. Thereby, pressing of the lid portion 13 by the pressing member 6 can be released. Therefore, the lid 13 can be easily separated from the housing 11. That is, the opening B can be easily opened. Therefore, maintenance of the processing container 4 can be easily performed.

押さえ部材6の第1端部21は、平面視で蓋部13の前方に位置し、押さえ部材6の第2端部22は、平面視で蓋部13の後方に位置する。このため、平面視で蓋部13が第1端部21と第2端部22との間に配置される。よって、手動調整部8が押さえ部材6の第2端部22の高さ位置を調整することによって、押さえ部材6が蓋部13を押さえる力を適切に調整できる。   The first end portion 21 of the pressing member 6 is positioned in front of the lid portion 13 in a plan view, and the second end portion 22 of the pressing member 6 is positioned behind the lid portion 13 in a plan view. For this reason, the cover part 13 is arrange | positioned between the 1st end part 21 and the 2nd end part 22 by planar view. Therefore, when the manual adjustment unit 8 adjusts the height position of the second end portion 22 of the pressing member 6, it is possible to appropriately adjust the force with which the pressing member 6 presses the lid portion 13.

押さえ部材6の第1端部21および止め具7は、平面視において筐体11の第1角部11aに配置され、押さえ部材6の第2端部22および手動調整部8は、平面視において筐体11の第2角部11cに配置される。このため、第1角部11aのスペースを利用して押さえ部材6の第1端部21および止め具7を効率良く配置できる。さらに、第2角部11cのスペースを利用して押さえ部材6の第2端部22および手動調整部8を効率良く配置できる。よって、処理ユニット2(基板処理装置1)の設置面積を小さくできる。   The first end 21 and the stopper 7 of the pressing member 6 are arranged at the first corner 11a of the housing 11 in a plan view, and the second end 22 and the manual adjustment unit 8 of the pressing member 6 are in a plan view. It arrange | positions at the 2nd corner | angular part 11c of the housing | casing 11. FIG. For this reason, the 1st edge part 21 and the stopper 7 of the pressing member 6 can be efficiently arrange | positioned using the space of the 1st corner | angular part 11a. Furthermore, the second end portion 22 of the pressing member 6 and the manual adjustment portion 8 can be efficiently arranged using the space of the second corner portion 11c. Therefore, the installation area of the processing unit 2 (substrate processing apparatus 1) can be reduced.

手動調整部8は、止め具7よりも、外壁パネル9に近い位置に配置される。このため、外壁パネル9を取り外した状態で、ユーザーは手動調整部8を容易に操作できる。よって、処理容器4のメンテナンスを一層容易に行うことができる。   The manual adjustment unit 8 is disposed at a position closer to the outer wall panel 9 than the stopper 7. Therefore, the user can easily operate the manual adjustment unit 8 with the outer wall panel 9 removed. Therefore, the maintenance of the processing container 4 can be performed more easily.

処理容器4の前方、右方、左方、上方および下方のスペースが狭小であっても、ユーザーは手動調整部8を容易に操作できる。このように、処理容器4の周囲のスペースが狭小な場合には、本基板処理装置1の有用性が特に高い。   Even if the front, right, left, upper and lower spaces of the processing container 4 are narrow, the user can easily operate the manual adjustment unit 8. Thus, when the space around the processing container 4 is narrow, the substrate processing apparatus 1 is particularly useful.

手動調整部8は、筐体11に取り付けられる。よって、手動調整部8を好適に設置できる。   The manual adjustment unit 8 is attached to the housing 11. Therefore, the manual adjustment unit 8 can be preferably installed.

手動調整部8は、筐体11に対して押さえ部材6の第2端部22を上下動させる。よって、手動調整部8は、押さえ部材6の第2端部22の高さ位置を好適に調整できる。   The manual adjustment unit 8 moves the second end 22 of the pressing member 6 up and down with respect to the housing 11. Therefore, the manual adjustment unit 8 can suitably adjust the height position of the second end 22 of the pressing member 6.

手動調整部8はねじ29を含む。ねじ29の回動に応じて、押さえ部材6の第2端部22が上下動する。このため、ユーザーがねじ29を回動するだけで、押さえ部材6の第2端部22の高さ位置を容易に調整できる。すなわち、ユーザーがねじ29を回動するだけで、蓋部13を筐体11に密着させることができる。さらに、ユーザーがねじ29を回動するだけで、押さえ部材6による蓋部13の押さえを解除できる。   The manual adjustment unit 8 includes a screw 29. As the screw 29 rotates, the second end 22 of the pressing member 6 moves up and down. For this reason, the user can easily adjust the height position of the second end 22 of the pressing member 6 simply by turning the screw 29. That is, the lid 13 can be brought into close contact with the housing 11 simply by turning the screw 29 by the user. Furthermore, the pressing of the lid 13 by the pressing member 6 can be released only by the user turning the screw 29.

ねじ29はローレットボルトである。このため、ユーザーは工具を使わずに、ねじ29を回動できる。よって、ユーザーは、押さえ部材6の第2端部22の高さ位置を一層容易に調整できる。   The screw 29 is a knurled bolt. For this reason, the user can turn the screw 29 without using a tool. Therefore, the user can adjust the height position of the second end 22 of the pressing member 6 more easily.

押さえ部材6は外枠23を有する。このため、押さえ部材6は筐体11に対して蓋部13を効果的に押さえることができる。   The pressing member 6 has an outer frame 23. For this reason, the pressing member 6 can effectively hold the lid portion 13 against the housing 11.

外枠23の輪郭は略多角形状を有する。このため、外枠23のたわみや歪みを効果的に防止できる。よって、押さえ部材6は蓋部13を均一に押さえることができる。   The outline of the outer frame 23 has a substantially polygonal shape. For this reason, the deflection and distortion of the outer frame 23 can be effectively prevented. Therefore, the pressing member 6 can press the lid portion 13 uniformly.

押さえ部材6は補強部材24を有する。このため、外枠23のたわみや歪みを一層効果的に防止できる。よって、押さえ部材6は蓋部13を一層均一に押さえることができる。   The pressing member 6 has a reinforcing member 24. For this reason, the deflection and distortion of the outer frame 23 can be more effectively prevented. Therefore, the pressing member 6 can press the lid portion 13 more uniformly.

押さえ部材6は座部25を有する。よって、押さえ部材6は蓋部13を一層適切に押さえることができる。   The pressing member 6 has a seat portion 25. Therefore, the pressing member 6 can press the lid portion 13 more appropriately.

押さえ部材6は止め具7および手動調整部8から分離可能である。このため、押さえ部材6を蓋部13の上方から外れた位置に移動できる。よって、蓋部13を筐体11に容易に着脱できる。さらに、開口Bを通じて、処理容器4のメンテナンスを一層容易に行うことができる。   The pressing member 6 can be separated from the stopper 7 and the manual adjustment unit 8. For this reason, the pressing member 6 can be moved to a position deviated from above the lid portion 13. Therefore, the lid portion 13 can be easily attached to and detached from the housing 11. Furthermore, the maintenance of the processing container 4 can be more easily performed through the opening B.

止め具7は筐体11に固定される。よって、止め具7を好適に設置できる。   The stopper 7 is fixed to the housing 11. Therefore, the stopper 7 can be suitably installed.

止め具7は略水平方向に延びる軸部材27を含む。押さえ部材6は軸部材27回りに回転可能である。このため、手動調整部8は、押さえ部材6の第2端部22の高さ位置を好適に調整できる。   The stopper 7 includes a shaft member 27 extending in a substantially horizontal direction. The pressing member 6 can rotate around the shaft member 27. For this reason, the manual adjustment unit 8 can suitably adjust the height position of the second end 22 of the pressing member 6.

押さえ部材6が略水平姿勢である状態では、押さえ部材6は蓋部13と接触する。このため、押さえ部材6が略水平姿勢である状態において押さえ部材6は蓋部13と押さえることができる。よって、押さえ部材6は蓋部13を一層均一に押さえることができる。   In a state where the pressing member 6 is in a substantially horizontal posture, the pressing member 6 contacts the lid portion 13. For this reason, the pressing member 6 can be pressed against the lid portion 13 in a state where the pressing member 6 is in a substantially horizontal posture. Therefore, the pressing member 6 can press the lid portion 13 more uniformly.

止め具7は、押さえ部材6が略水平姿勢である状態で押さえ部材6が第1方向d1に移動することを、禁止する。よって、押さえ部材6は蓋部13を一層好適に押さえることができる。   The stopper 7 prohibits the pressing member 6 from moving in the first direction d1 while the pressing member 6 is in a substantially horizontal posture. Therefore, the pressing member 6 can press the lid portion 13 more suitably.

押さえ部材6が略水平姿勢である状態では、第1端部21は、軸部材27の裏下部27RBと接触する。このため、押さえ部材6が蓋部13を押さえている状態で押さえ部材6が第1方向d1に移動することを、止め具7は好適に禁止できる。   In a state where the pressing member 6 is in a substantially horizontal posture, the first end portion 21 is in contact with the back lower portion 27 RB of the shaft member 27. For this reason, the stopper 7 can suitably inhibit the pressing member 6 from moving in the first direction d1 while the pressing member 6 is pressing the lid portion 13.

止め具7は、押さえ部材6が略水平姿勢である状態で押さえ部材6が第2方向d2に移動することを、禁止する。よって、押さえ部材6は蓋部13を一層好適に押さえることができる。   The stopper 7 prohibits the pressing member 6 from moving in the second direction d2 while the pressing member 6 is in a substantially horizontal posture. Therefore, the pressing member 6 can press the lid portion 13 more suitably.

押さえ部材が略水平姿勢である状態では、第1端部21は、軸部材27の表下部27FBと接触する。このため、押さえ部材6が蓋部13を押さえている状態で押さえ部材6が第2方向d2に移動することを、止め具7は好適に禁止できる。   In a state where the pressing member is in a substantially horizontal posture, the first end portion 21 is in contact with the front lower portion 27FB of the shaft member 27. For this reason, the stopper 7 can suitably inhibit the pressing member 6 from moving in the second direction d2 while the pressing member 6 is pressing the lid portion 13.

止め具7は、押さえ部材6が第1方向d1に向かって上方に傾いた状態で押さえ部材6が軸部材27から第1方向d1に移動することを、許容する。よって、押さえ部材6が蓋部13を押さえていない状態では、押さえ部材6を止め具7から容易に分離できる。   The stopper 7 allows the pressing member 6 to move from the shaft member 27 in the first direction d1 in a state where the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d1. Therefore, the pressing member 6 can be easily separated from the stopper 7 in a state where the pressing member 6 is not pressing the lid portion 13.

押さえ部材6が第1方向d1に向かって上方に傾斜した状態では、第1端部21は、軸部材27の表部27Fのみと接触する。すなわち、押さえ部材6が第1方向d1に向かって上方に傾斜した状態では、第1端部21は、軸部材27の裏部27Rと接触しない。このため、押さえ部材6が蓋部13を押さえていない状態では、押さえ部材6が第1方向d1に移動することを、止め具7は好適に許容できる。   In a state in which the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d1, the first end portion 21 contacts only the front portion 27F of the shaft member 27. That is, in a state where the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d <b> 1, the first end portion 21 does not contact the back portion 27 </ b> R of the shaft member 27. For this reason, in a state where the pressing member 6 is not pressing the lid portion 13, the stopper 7 can suitably allow the pressing member 6 to move in the first direction d <b> 1.

押さえ部材6が第1方向d1に向かって上方に傾斜した状態で押さえ部材6が第1方向d1に移動するだけで、押さえ部材6は止め具から分離する。押さえ部材6が第1方向d1に向かって上方に傾斜した状態で押さえ部材6が第2方向d2に移動するだけで、押さえ部材6は止め具7と係合する。このように、ユーザーは、止め具7を操作せずに、押さえ部材6を止め具7に着脱できる。よって、ユーザーは、押さえ部材6を止め具7に一層容易に着脱できる。   The pressing member 6 is separated from the stopper only by moving the pressing member 6 in the first direction d1 while the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d1. The pressing member 6 engages with the stopper 7 only by moving the pressing member 6 in the second direction d2 while the pressing member 6 is inclined upward in the first direction d1. In this way, the user can attach / detach the pressing member 6 to / from the stopper 7 without operating the stopper 7. Therefore, the user can attach and detach the pressing member 6 to and from the stopper 7 more easily.

押さえ部材6が止め具7と着脱可能な押さえ部材6の傾斜角度は、例えば、15度以上、10度以上、または5度以上である。このように、押さえ部材6が止め具7と着脱可能な押さえ部材6の傾斜角度の最小値は、比較的に小さい。よって、処理容器4の上方のスペースが狭小であっても、押さえ部材6を止め具7に容易に着脱できる。   The inclination angle of the pressing member 6 to which the pressing member 6 can be attached to and detached from the stopper 7 is, for example, 15 degrees or more, 10 degrees or more, or 5 degrees or more. As described above, the minimum value of the inclination angle of the pressing member 6 that can be attached to and detached from the stopper 7 is relatively small. Therefore, even if the space above the processing container 4 is narrow, the pressing member 6 can be easily attached to and detached from the stopper 7.

開口Bは比較的に大きい。このため、開口Bを通して、処理容器4のメンテナンスを一層容易に行うことができる。   The opening B is relatively large. For this reason, the maintenance of the processing container 4 can be more easily performed through the opening B.

本発明は、上記実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。   The present invention is not limited to the above embodiment, and can be modified as follows.

(1)上述した実施形態では、外枠23の形状を例示したが、これに限られない。外枠23の形状を適宜に変更してもよい。外枠23の形状に応じて、補強部材24の数および形状を適宜に変更してもよい。外枠23の形状に応じて、座部25の数を適宜に変更してもよい。   (1) In the embodiment described above, the shape of the outer frame 23 is exemplified, but the present invention is not limited to this. The shape of the outer frame 23 may be changed as appropriate. Depending on the shape of the outer frame 23, the number and shape of the reinforcing members 24 may be changed as appropriate. Depending on the shape of the outer frame 23, the number of seats 25 may be changed as appropriate.

図14は、変形実形態に係る基板処理装置1の斜視図である。なお、実施形態と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。   FIG. 14 is a perspective view of the substrate processing apparatus 1 according to a modified embodiment. In addition, detailed description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol about the same structure as embodiment.

押さえ部材6は、1つの外枠101と1つの補強部材102を有する。外枠23は、平面視で環形状を有する。外枠101の輪郭は、略4角形状を有する。外枠101の輪郭は、略菱形形状を有する。具体的には、外枠101は、直線的に延びる複数(例えば4つ)の直線部101aを含む。各直線部101aは、相互に接合される。各直線部101aは、リング状に接合される。   The pressing member 6 has one outer frame 101 and one reinforcing member 102. The outer frame 23 has a ring shape in plan view. The outline of the outer frame 101 has a substantially quadrangular shape. The outline of the outer frame 101 has a substantially rhombus shape. Specifically, the outer frame 101 includes a plurality of (for example, four) linear portions 101a extending linearly. Each linear part 101a is mutually joined. Each linear part 101a is joined in a ring shape.

補強部材102は、平面視において外枠101の内方に配置される。具体的には、補強部材102は直線的に延びる。補強部材102は、仮想線Lと略直交する方向に延びる。補強部材102の両端はそれぞれ、外枠101と接合される。補強部材102は、外枠101に接合される第1端と、外枠23に接合される第2端を有する。   The reinforcing member 102 is disposed inside the outer frame 101 in a plan view. Specifically, the reinforcing member 102 extends linearly. The reinforcing member 102 extends in a direction substantially orthogonal to the virtual line L. Both ends of the reinforcing member 102 are joined to the outer frame 101. The reinforcing member 102 has a first end joined to the outer frame 101 and a second end joined to the outer frame 23.

なお、本変形実施形態では、押さえ部材6は、3つの座部25を有する。   In this modified embodiment, the pressing member 6 has three seat portions 25.

本変形実施形態によっても、押さえ部材6は筐体11に対して蓋部13を好適に押さえることができる。   Also in this modified embodiment, the pressing member 6 can suitably press the lid portion 13 against the housing 11.

(2)上述した実施形態では、外枠23の輪郭は略多角形状を有したが、これに限られない。外枠の輪郭を、略多角形状とは異なる形状を適宜に変更してもよい。   (2) In the embodiment described above, the outline of the outer frame 23 has a substantially polygonal shape, but is not limited thereto. The outline of the outer frame may be appropriately changed to a shape different from the substantially polygonal shape.

図15は、変形実形態に係る基板処理装置1の斜視図である。なお、実施形態と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。   FIG. 15 is a perspective view of the substrate processing apparatus 1 according to a modified embodiment. In addition, detailed description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol about the same structure as embodiment.

押さえ部材6は外枠105を有する。外枠105は、平面視で円環形状を有する。外枠105の輪郭は、平面視で略円形状を有する。外枠105の輪郭は、平面視で湾曲している。   The pressing member 6 has an outer frame 105. The outer frame 105 has an annular shape in plan view. The outline of the outer frame 105 has a substantially circular shape in plan view. The outline of the outer frame 105 is curved in plan view.

なお、本変形実施形態では、押さえ部材6は、補強部材を有してない。本変形実施形態では、押さえ部材6は、3つの座部25を有する。   In this modified embodiment, the pressing member 6 does not have a reinforcing member. In the present modified embodiment, the pressing member 6 has three seats 25.

本変形実施形態によっても、押さえ部材6は筐体11に対して蓋部13を好適に押さえることができる。   Also in this modified embodiment, the pressing member 6 can suitably press the lid portion 13 against the housing 11.

(3)上述した実施形態では、外枠23は平面視で環形状を有していたが、これに限られない。すなわち、外枠23は平面視で環形状を有しなくてもよい。例えば、外枠23は平面視で開口を有しなくてもよい。例えば、外枠23は、板形状を有してもよい。例えば、外枠23は円盤形状を有してもよい。   (3) In the embodiment described above, the outer frame 23 has an annular shape in plan view, but is not limited thereto. That is, the outer frame 23 may not have a ring shape in plan view. For example, the outer frame 23 may not have an opening in plan view. For example, the outer frame 23 may have a plate shape. For example, the outer frame 23 may have a disk shape.

(4)上述した実施形態では、外枠23と座部25は直接的に接続されていたが、これに限られない。例えば、外枠23と座部25は間接的に接続されてもよい。   (4) In the above-described embodiment, the outer frame 23 and the seat portion 25 are directly connected, but the present invention is not limited to this. For example, the outer frame 23 and the seat portion 25 may be indirectly connected.

(5)上述した実施形態において、押さえ部材6は、外枠23と座部25は、弾性部材を介して接続されてもよい。   (5) In embodiment mentioned above, as for the pressing member 6, the outer frame 23 and the seat part 25 may be connected via an elastic member.

図16は、変形実形態に係る基板処理装置1の断面図である。なお、実施形態と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。   FIG. 16 is a cross-sectional view of the substrate processing apparatus 1 according to a modified embodiment. In addition, detailed description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol about the same structure as embodiment.

押さえ部材6は、弾性部材107を有する。弾性部材107は例えばバネである。弾性部材107は外枠23と座部25の間に設けられる。弾性部材107は外枠23と座部25を連結する。弾性部材107は外枠23に支持される第1端を有する。弾性部材107は座部25を支持する第2端部を有する。   The pressing member 6 has an elastic member 107. The elastic member 107 is a spring, for example. The elastic member 107 is provided between the outer frame 23 and the seat portion 25. The elastic member 107 connects the outer frame 23 and the seat portion 25. The elastic member 107 has a first end supported by the outer frame 23. The elastic member 107 has a second end portion that supports the seat portion 25.

外枠23に対して座部25が上方に移動することによって、弾性部材107は圧縮変形(弾性変形)する。圧縮変形した弾性部材107は、座部25を下方に押圧する。   As the seat portion 25 moves upward with respect to the outer frame 23, the elastic member 107 is compressed and deformed (elastically deformed). The compression-deformed elastic member 107 presses the seat portion 25 downward.

本変形実施形態によれば、弾性部材107は、座部25の高さ位置を微調整できる。よって、座部25は蓋部23と一層確実に接触できる。さらに、座部25は蓋部23を一層確実に押さえることができる。   According to the present modified embodiment, the elastic member 107 can finely adjust the height position of the seat portion 25. Therefore, the seat part 25 can contact the lid part 23 more reliably. Furthermore, the seat part 25 can hold down the cover part 23 more reliably.

(6)上述した実施形態では、第2端部22は切り欠き22bを有したが、これに限られない。例えば、第2端部22は貫通孔を有してもよい。貫通孔は、取付座22aに形成される。貫通孔には、ねじ29の軸部29aが配置される。   (6) In the above-described embodiment, the second end 22 has the notch 22b, but the present invention is not limited to this. For example, the second end portion 22 may have a through hole. The through hole is formed in the mounting seat 22a. A shaft portion 29a of the screw 29 is disposed in the through hole.

(7)上述した実施形態では、手動調整部8は結合部28とねじ29を備えたが、これに限られない。手動調整部8の構成を適宜に変更してもよい。手動調整部8の変更に応じて、第2端部22の構成も適宜に変更してもよい。   (7) In the embodiment described above, the manual adjustment unit 8 includes the coupling unit 28 and the screw 29, but is not limited thereto. You may change the structure of the manual adjustment part 8 suitably. Depending on the change of the manual adjustment unit 8, the configuration of the second end 22 may be changed as appropriate.

図17は、変形実形態に係る基板処理装置1の断面図である。なお、実施形態と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。   FIG. 17 is a cross-sectional view of the substrate processing apparatus 1 according to a modified embodiment. In addition, detailed description is abbreviate | omitted by attaching | subjecting the same code | symbol about the same structure as embodiment.

第2端部22は第1傾斜面22cを有する。第1傾斜面22cは第2端部22の上面に形成される。第1傾斜面22cは、第1方向d1に向かって下方に傾斜している。   The second end 22 has a first inclined surface 22c. The first inclined surface 22 c is formed on the upper surface of the second end portion 22. The first inclined surface 22c is inclined downward in the first direction d1.

手動調整部8は、結合部113とねじ114と可動台115を有する。   The manual adjustment unit 8 includes a coupling unit 113, a screw 114, and a movable table 115.

結合部113は筐体11に固定される。結合部113は、筐体11の上面から上方に突出する。結合部113はねじ穴を有する。ねじ穴は、結合部113を貫通するように形成される。ねじ穴は略水平方向に延びる。具体的には、ねじ穴は第1方向d1/第2方向d2に延びる。ねじ穴は、筒部113の両側に開放される。   The coupling portion 113 is fixed to the housing 11. The coupling portion 113 protrudes upward from the upper surface of the housing 11. The coupling portion 113 has a screw hole. The screw hole is formed so as to penetrate the coupling portion 113. The screw hole extends in a substantially horizontal direction. Specifically, the screw hole extends in the first direction d1 / second direction d2. The screw holes are opened on both sides of the cylindrical portion 113.

ねじ114は結合部113(ねじ穴)と結合する。ねじ114の軸部114aは結合部113を貫通する。すなわち、軸部114aは、結合部113の一方(第1方向d1)に位置する第1端と、結合部113の他方(第2方向d2)に位置する第2端を有する。ねじ114の頭部114bは、軸部114aの第1端に位置する。   The screw 114 is coupled to the coupling portion 113 (screw hole). A shaft portion 114 a of the screw 114 passes through the coupling portion 113. That is, the shaft portion 114a has a first end located on one side (first direction d1) of the coupling portion 113 and a second end located on the other side (second direction d2) of the coupling portion 113. The head 114b of the screw 114 is located at the first end of the shaft portion 114a.

可動台115は軸部115aの第2端に結合される。可動台115は、ねじ114の頭部114bよりも第1端部21に近い。ねじ114が回動すると、可動台115は第1方向d1および第2方向d2のいずれかに移動する。   The movable table 115 is coupled to the second end of the shaft portion 115a. The movable table 115 is closer to the first end 21 than the head 114 b of the screw 114. When the screw 114 rotates, the movable table 115 moves in either the first direction d1 or the second direction d2.

可動台115は第2傾斜面115aを有する。第2傾斜面115aは可動台115の下面に形成される。第2傾斜面115aは、第1方向d1に向かって下方に傾斜している。   The movable table 115 has a second inclined surface 115a. The second inclined surface 115 a is formed on the lower surface of the movable table 115. The second inclined surface 115a is inclined downward in the first direction d1.

可動台115(第2傾斜面115a)は、第2端部22(第1傾斜面22c)と接触可能である。さらに、可動台115(第2傾斜面115a)は、第2端部22(第1傾斜面22c)と摺動可能である。   The movable table 115 (second inclined surface 115a) can contact the second end 22 (first inclined surface 22c). Further, the movable table 115 (second inclined surface 115a) is slidable with the second end portion 22 (first inclined surface 22c).

可動台115が第2方向d2に移動すると、可動台115が第2端部22に接触する。さらに、可動台115が第2方向d2に移動すると、可動台115は第2端部22に対して摺動するとともに、第2端部22が下方に移動する。すなわち、第2端部22が下方に移動する。   When the movable table 115 moves in the second direction d2, the movable table 115 contacts the second end portion 22. Further, when the movable table 115 moves in the second direction d2, the movable table 115 slides with respect to the second end 22 and the second end 22 moves downward. That is, the second end 22 moves downward.

可動台115が第1方向d1に移動すると、可動台115は第2端部22が上方に移動することを許容する。例えば、可動台115が第1方向d1に移動すると、第2端部22が上方に移動するとともに、第2端部22は可動台115に対して摺動する。さらに、可動台115が第2方向d2に移動すると、第2端部22が上方に移動せず、可動台115は第2端部22から離れる。   When the movable table 115 moves in the first direction d1, the movable table 115 allows the second end 22 to move upward. For example, when the movable table 115 moves in the first direction d1, the second end 22 moves upward and the second end 22 slides with respect to the movable table 115. Further, when the movable table 115 moves in the second direction d2, the second end 22 does not move upward, and the movable table 115 moves away from the second end 22.

本変形実施形態によっても、手動調整部8は第2端部22の高さ位置を好適に調整できる。   Also according to this modified embodiment, the manual adjustment unit 8 can suitably adjust the height position of the second end 22.

(8)上述した実施形態では、ユーザーが工具を使わずに操作できる手動調整部8を例示したが、これに限られない。ユーザーが工具を使用して操作する手動調整部に変更してもよい。   (8) In the above-described embodiment, the manual adjustment unit 8 that can be operated by a user without using a tool is exemplified, but the present invention is not limited thereto. You may change into the manual adjustment part which a user operates using a tool.

(9)上述した実施形態では、ねじ29としてローレットボルトを例示したが、これに限られない。例えば、ねじ29は、つまみねじであってもよい。例えば、ねじ29は、蝶ボルトであってもよい。例えば、ねじ29は、ユーザーが工具を使って回動するものであってもよい。   (9) In the above-described embodiment, the knurled bolt is exemplified as the screw 29, but is not limited thereto. For example, the screw 29 may be a thumbscrew. For example, the screw 29 may be a butterfly bolt. For example, the screw 29 may be rotated by a user using a tool.

(10)上述した実施形態では、第1端部21および止め具7の配置を詳細に説明したが、これに限られない。第1端部21および止め具7の配置を適宜に変更してもよい。例えば、第1端部21および止め具7は、平面視で蓋部13と重なってもよい。   (10) In the above-described embodiment, the arrangement of the first end portion 21 and the stopper 7 has been described in detail, but is not limited thereto. The arrangement of the first end 21 and the stopper 7 may be changed as appropriate. For example, the first end portion 21 and the stopper 7 may overlap the lid portion 13 in plan view.

(11)上述した実施形態では、第2端部22および手動調整部8の配置を詳細に説明したが、これに限られない。第2端部22および手動調整部8の配置を適宜に変更してもよい。例えば、第2端部22および手動調整部8は、平面視で蓋部13と重なってもよい。   (11) In the above-described embodiment, the arrangement of the second end portion 22 and the manual adjustment unit 8 has been described in detail, but is not limited thereto. You may change suitably arrangement | positioning of the 2nd end part 22 and the manual adjustment part 8. FIG. For example, the second end 22 and the manual adjustment unit 8 may overlap the lid 13 in plan view.

(12)上述した実施形態では、止め具7は筐体11に固定されたが、これに限られない。止め具7を固定的に設置できれば、筐体11以外の部材に止め具7を固定してもよい。   (12) In the embodiment described above, the stopper 7 is fixed to the housing 11, but is not limited thereto. If the stopper 7 can be fixedly installed, the stopper 7 may be fixed to a member other than the housing 11.

(13)上述した実施形態では、手動調整部8は筐体に取り付けられたが、これに限られない。筐体11以外の部材に手動調整部8を取り付けてもよい。   (13) In the embodiment described above, the manual adjustment unit 8 is attached to the housing, but is not limited thereto. The manual adjustment unit 8 may be attached to a member other than the housing 11.

(14)上述した実施形態では、基板処理装置1が行う熱処理は、基板Wを加熱する処理と、基板Wを冷却する処理を含んだが、これに限られない。例えば、基板処理装置1が行う熱処理は、基板Wを加熱する処理および基板Wを冷却する処理のいずれか一方のみを含んでもよい。   (14) In the embodiment described above, the heat treatment performed by the substrate processing apparatus 1 includes a process for heating the substrate W and a process for cooling the substrate W, but is not limited thereto. For example, the heat treatment performed by the substrate processing apparatus 1 may include only one of a process for heating the substrate W and a process for cooling the substrate W.

(15)上述した実施形態では、基板処理装置1が行う処理は熱処理であったが、これに限られない。例えば、基板処理装置1は、熱処理以外の処理を行ってもよい。上述した実施形態では、基板処理装置1が行う処理において、処理液を使用しなかったが、これに限られない。例えば、基板処理装置1が行う処理において、処理液(例えば、溶剤や疏水化処理剤など)を使用してもよい。   (15) In the above-described embodiment, the processing performed by the substrate processing apparatus 1 is heat treatment, but is not limited thereto. For example, the substrate processing apparatus 1 may perform a process other than the heat treatment. In the above-described embodiment, the processing liquid is not used in the processing performed by the substrate processing apparatus 1, but the present invention is not limited to this. For example, in the processing performed by the substrate processing apparatus 1, a processing liquid (for example, a solvent or a water-repellent treatment agent) may be used.

(16)上述した実施形態では、基板処理装置1は、自己組織化材料が塗布された基板Wを熱処理したが、これに限られない。基板処理装置1は、レジスト膜や反射防止膜が形成された基板Wを処理してもよい。例えば、基板処理装置1は、下層膜が形成された基板Wを処理してもよい。下層膜は、例えば、SOC(Spin?on?Carbon)膜やSOG(Spin On Glass)膜である。   (16) In the embodiment described above, the substrate processing apparatus 1 heat-treats the substrate W on which the self-organizing material is applied, but is not limited thereto. The substrate processing apparatus 1 may process the substrate W on which a resist film or an antireflection film is formed. For example, the substrate processing apparatus 1 may process the substrate W on which the lower layer film is formed. The lower layer film is, for example, an SOC (Spin? On? Carbon) film or an SOG (Spin On Glass) film.

(17)上述した各実施形態および上記(1)から(16)で説明した各変形実施形態については、さらに各構成を他の変形実施形態の構成に置換または組み合わせるなどして適宜に変更してもよい。   (17) About each embodiment mentioned above and each deformation | transformation embodiment demonstrated in said (1) to (16), each structure is further changed suitably, such as replacing or combining with the structure of another deformation | transformation embodiment. Also good.

1 … 熱処理装置
2 … 処理ユニット
3 … 搬送機構
4 … 処理容器
6 … 押さえ部材
7 … 止め具
8 … 手動調整部
9、9a、9b、9c … 外壁パネル
11 … 筐体
11a … 第1角部
11c … 第2角部
12 … シャッター
13 … 蓋部
21 … 第1端部
22 … 第2端部
23、101、105 … 外枠
24、102 … 補強部材
25 … 座部
27 … 軸部材
27T … 上部
27B … 下部
27F … 表部
27R … 裏部
27FB… 表下部
27RB… 裏下部
29、114 … ねじ
107 … 弾性部材
A … 搬送口
C … 軸心
D … 側部排出口
d1 … 第1方向
d2 … 第2方向
H … 水平面
V … 鉛直面
W … 基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Heat processing apparatus 2 ... Processing unit 3 ... Conveying mechanism 4 ... Processing container 6 ... Holding member 7 ... Stopper 8 ... Manual adjustment part 9, 9a, 9b, 9c ... Outer wall panel 11 ... Housing | casing 11a ... 1st corner | angular part 11c 2nd corner 12 ... Shutter 13 ... Lid 21 ... 1st end 22 ... 2nd end 23, 101, 105 ... Outer frame 24, 102 ... Reinforcement member 25 ... Seat 27 ... Shaft member 27T ... Upper part 27B ... Lower part 27F ... Front part 27R ... Back part 27FB ... Front lower part 27RB ... Back lower part 29, 114 ... Screw 107 ... Elastic member A ... Conveying port C ... Axle D ... Side part outlet d1 ... First direction d2 ... Second Direction H… Horizontal plane V… Vertical plane W… Substrate

Claims (18)

基板処理装置であって、
筐体であって、その上面に開口を有する前記筐体と、
前記筐体に着脱することによって、前記開口を開閉する蓋部と、
第1端部と第2端部を有し、前記蓋部を前記筐体に対して押さえる押さえ部材と、
前記押さえ部材の前記第1端部と接触し、前記第1端部が上方に動くことを禁止する止め具と、
ユーザーの操作によって前記押さえ部材の前記第2端部の高さ位置を調整する手動調整部と、
を備える基板処理装置。
A substrate processing apparatus,
A housing having an opening on an upper surface thereof;
A lid that opens and closes the opening by attaching to and detaching from the housing;
A holding member that has a first end and a second end, and holds the lid against the housing;
A stopper that contacts the first end of the pressing member and inhibits the first end from moving upward;
A manual adjustment unit that adjusts the height position of the second end of the pressing member by a user operation;
A substrate processing apparatus comprising:
請求項1に記載の基板処理装置において、
前記押さえ部材の前記第1端部は、平面視で前記蓋部の一方に位置し、
前記押さえ部材の前記第2端部は、平面視で前記蓋部の一方とは反対の他方に位置する基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 1,
The first end portion of the pressing member is located on one side of the lid portion in plan view,
The substrate processing apparatus, wherein the second end portion of the pressing member is located on the other side opposite to one of the lid portions in plan view.
請求項1または2に記載の基板処理装置において、
前記筐体は平面視において略矩形形状を有し、
前記蓋部は平面視において前記筐体の略中央に配置され、
前記押さえ部材の前記第1端部および前記止め具は、平面視において前記筐体の第1角部に配置され、
前記押さえ部材の前記第2端部および前記手動調整部は、平面視において前記第1角部に対向する前記筐体の第2角部に配置される基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 1 or 2,
The housing has a substantially rectangular shape in plan view,
The lid portion is disposed in the approximate center of the housing in plan view,
The first end of the pressing member and the stopper are arranged at a first corner of the housing in a plan view,
The substrate processing apparatus, wherein the second end portion and the manual adjustment portion of the pressing member are disposed at a second corner portion of the casing that faces the first corner portion in plan view.
請求項1から3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記基板処理装置は、前記筐体の側方に配置され、取り外し可能な外壁パネルを備え、
前記手動調整部は、前記止め具よりも、前記外壁パネルに近い位置に配置される基板処理装置。
In the substrate processing apparatus according to claim 1,
The substrate processing apparatus is disposed on a side of the housing and includes a removable outer wall panel,
The said manual adjustment part is a substrate processing apparatus arrange | positioned in the position close | similar to the said outer wall panel rather than the said fastener.
請求項1から4のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記手動調整部は、前記筐体に取り付けられ、前記筐体に対して前記押さえ部材の前記第2端部を上下動させる基板処理装置。
In the substrate processing apparatus according to claim 1,
The said manual adjustment part is a substrate processing apparatus attached to the said housing | casing, and moving the said 2nd edge part of the said pressing member up and down with respect to the said housing | casing.
請求項1から5のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記手動調整部はねじを含み、
前記ねじの回動に応じて、前記押さえ部材の前記第2端部が上下動する基板処理装置。
In the substrate processing apparatus in any one of Claim 1 to 5,
The manual adjustment unit includes a screw;
The substrate processing apparatus in which the second end portion of the pressing member moves up and down in accordance with the rotation of the screw.
請求項6に記載の基板処理装置において、
前記ねじはローレットボルトである基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 6,
The substrate processing apparatus, wherein the screw is a knurled bolt.
請求項1から7のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記押さえ部材は、平面視で環形状を有し、且つ、平面視で前記蓋部と重なる外枠を有する基板処理装置。
In the substrate processing apparatus according to claim 1,
The substrate processing apparatus, wherein the pressing member has an annular shape in a plan view and has an outer frame that overlaps the lid portion in a plan view.
請求項8に記載の基板処理装置において、
前記外枠の輪郭は略多角形状を有する基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 8,
The outline of the outer frame is a substrate processing apparatus having a substantially polygonal shape.
請求項8または9に記載の基板処理装置において、
前記押さえ部材は、平面視において前記外枠の内方に配置される補強部材であって、その両端が前記外枠と接合される補強部材を有する基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 8 or 9,
The said holding member is a reinforcing member arrange | positioned inside the said outer frame in planar view, Comprising: The substrate processing apparatus which has a reinforcing member by which the both ends are joined to the said outer frame.
請求項8から10のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記押さえ部材は、前記外枠に直接的または間接的に接続され、前記蓋部と直接的に接触する3つ以上の座部を有する基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to any one of claims 8 to 10,
The holding member is a substrate processing apparatus having three or more seats that are directly or indirectly connected to the outer frame and that are in direct contact with the lid.
請求項11に記載の基板処理装置において、
前記押さえ部材は、前記外枠と前記座部との間に設けられる弾性部材を有する基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 11,
The substrate processing apparatus, wherein the pressing member includes an elastic member provided between the outer frame and the seat portion.
請求項1から12のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記押さえ部材は前記止め具および前記手動調整部から分離可能である基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 12,
The substrate processing apparatus, wherein the pressing member is separable from the stopper and the manual adjustment unit.
請求項1から13のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記止め具は前記筐体に固定される基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 13,
The substrate processing apparatus, wherein the stopper is fixed to the housing.
請求項1から14のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記止め具は略水平方向に延びる軸部材を含み、
前記押さえ部材は前記軸部材回りに回転可能である基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to any one of claims 1 to 14,
The stopper includes a shaft member extending in a substantially horizontal direction,
The substrate processing apparatus, wherein the pressing member is rotatable around the shaft member.
請求項15に記載の基板処理装置において、
前記押さえ部材が略水平姿勢である状態では、前記押さえ部材は前記蓋部と接触する基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 15, wherein
The substrate processing apparatus, wherein the pressing member is in contact with the lid in a state where the pressing member is in a substantially horizontal posture.
請求項15または16に記載の基板処理装置において、
前記軸部材の軸心の方向から見て、前記軸部材から前記第2端部に向かう水平な向きを、第1方向とし、
前記止め具は、前記押さえ部材が略水平姿勢である状態で押さえ部材が前記軸部材から前記第1方向に移動することを、禁止し、
前記止め具は、前記押さえ部材が前記第1方向に向かって上方に傾斜した状態で前記押さえ部材が前記軸部材から前記第1方向に移動することを、許容する基板処理装置。
The substrate processing apparatus according to claim 15 or 16,
A horizontal direction from the shaft member toward the second end as seen from the direction of the axis of the shaft member is defined as a first direction,
The stopper prohibits the pressing member from moving in the first direction from the shaft member in a state where the pressing member is in a substantially horizontal posture;
The stopper is a substrate processing apparatus that allows the pressing member to move from the shaft member in the first direction in a state where the pressing member is inclined upward in the first direction.
請求項17に記載の基板処理装置において、
前記軸部材の前記軸心を通る仮想的な水平面よりも上方に位置する前記軸部材の部分を、前記軸部材の上部とし、
前記軸部材の前記上部以外の部分を前記軸部材の下部とし、
前記軸部材の前記軸心を通る仮想的な鉛直面よりも前記第2端部側の前記軸部材の部分を、前記軸部材の表部とし、
前記軸部材の前記表部以外の部分を前記軸部材の裏部とし、
前記押さえ部材が略水平姿勢である状態では、前記第1端部は、前記軸部材の前記裏部と前記下部の共通部分と接触し、且つ、前記軸部材の前記表部と前記下部の共通部分と接触し、
前記押さえ部材が前記第1方向且つ上方に傾斜した状態では、前記第1端部は、前記軸部材の前記表部のみと接触する基板処理装置。

The substrate processing apparatus according to claim 17, wherein
A portion of the shaft member positioned above a virtual horizontal plane passing through the axis of the shaft member is an upper portion of the shaft member;
A portion other than the upper portion of the shaft member is a lower portion of the shaft member,
A portion of the shaft member closer to the second end than a virtual vertical plane passing through the axis of the shaft member is a front portion of the shaft member,
A portion other than the front portion of the shaft member is a back portion of the shaft member,
In a state where the pressing member is in a substantially horizontal posture, the first end portion is in contact with the back portion of the shaft member and a common portion of the lower portion, and is common to the front portion and the lower portion of the shaft member. In contact with the part,
In the state where the pressing member is inclined in the first direction and upward, the first end portion is in contact with only the front portion of the shaft member.

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