JP2018155982A - Light irradiation device and exposure device therewith - Google Patents
Light irradiation device and exposure device therewith Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018155982A JP2018155982A JP2017053997A JP2017053997A JP2018155982A JP 2018155982 A JP2018155982 A JP 2018155982A JP 2017053997 A JP2017053997 A JP 2017053997A JP 2017053997 A JP2017053997 A JP 2017053997A JP 2018155982 A JP2018155982 A JP 2018155982A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- lens barrel
- lamp
- light irradiation
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Lens Barrels (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
Description
この発明はショートアークフラッシュランプを用いた光照射装置及びこれを備えた露光装置に関するものであり、特に、ショートアークフラッシュランプからの真空紫外光を平行光として被処理物に照射して各種の処理を行う光照射装置及びこれを備えた露光装置に係わるものである。 The present invention relates to a light irradiation apparatus using a short arc flash lamp and an exposure apparatus equipped with the same, and in particular, various kinds of processing by irradiating a workpiece with vacuum ultraviolet light from a short arc flash lamp as parallel light. The present invention relates to a light irradiation apparatus that performs the above and an exposure apparatus including the same.
近年、波長200nm以下の真空紫外光(以下、VUVともいう)が様々な分野で用いられている。この波長帯の光を発光できるLEDは存在せず、放電ランプが光源として用いられている。例えば、フォトレジストによるパターン形成工程を用いずにVUVとマスクを用い、直接光で化学反応を引き起こして自己組織化単分子膜(以下、SAM膜)をパターニングする技術が開発されている。
従来、このようなVUV光源としては、波長185nmに輝線を有する低圧水銀ランプが使用されてきた。しかしながら、最近では、より短波長の光、具体的には波長180nm以下のVUVが有効であるといわれることから、波長172nmの真空紫外光を放射するエキシマランプを光源とした開発も行われている。ところで、これらのランプから放射される光は発散光であるために、マスクを用いた微細な選択的表面改質(パターニング)には不向きであるとされ、解像可能なパターンサイズに限界があるといわれている。具体的に述べると、ラインパターンでは100μm程度が限界といわれている。
In recent years, vacuum ultraviolet light (hereinafter also referred to as VUV) having a wavelength of 200 nm or less has been used in various fields. There is no LED that can emit light in this wavelength band, and a discharge lamp is used as a light source. For example, a technique for patterning a self-assembled monomolecular film (hereinafter referred to as a SAM film) by causing a chemical reaction with direct light using a VUV and a mask without using a pattern forming process using a photoresist has been developed.
Conventionally, as such a VUV light source, a low-pressure mercury lamp having an emission line at a wavelength of 185 nm has been used. However, recently, it has been said that light with a shorter wavelength, specifically VUV with a wavelength of 180 nm or less, is effective. Therefore, an excimer lamp that emits vacuum ultraviolet light with a wavelength of 172 nm is also used as a light source. . By the way, since the light emitted from these lamps is diverging light, it is not suitable for fine selective surface modification (patterning) using a mask, and there is a limit to the resolvable pattern size. It is said that. More specifically, the line pattern is said to have a limit of about 100 μm.
近時、より微細なパターニングに適した光源装置の開発が要請されており、このようなことから新規のVUV光源を用いた光照射装置について提案されていて、例えば、特開2016−192343号公報(特許文献1)にその構造が開示されている。
図8にその概略構造が示されていて、ハウジング101内にショートアークフラッシュランプ102及び反射ミラー103を下方に光が照射されるように配し、下方には光透過窓104が設けられていて、ハウジングの内部を窒素で満たしている。
反射ミラー103と光透過窓104との間には部材は配置されておらず、窓面において光はドーナツ状(円環状)の分布を示すので、その照度が高く均一である一部分にのみアパーチャ105を配置するものである。
Recently, development of a light source device suitable for finer patterning has been requested, and for this reason, a light irradiation device using a novel VUV light source has been proposed. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-192343 has been proposed. (Patent Document 1) discloses the structure.
FIG. 8 shows a schematic structure thereof. A short
No member is disposed between the reflecting
この特許文献1記載の技術は、従来の発光長が長いランプ(エキシマランプ、低圧水銀ランプ)に替えて、発光長がより短いショートアークフラッシュランプを光源として採用するものである。このフラッシュランプから放射されたVUV光を、反射ミラーを用いて平行光(ないしは略平行光)として露光用光源としての光照射装置を構成するものである。
The technique described in
この従来技術によれば、ランプに反射ミラーとして放物面鏡を取り付け、レンズ等の光学系が無い状態で平行光を形成していた。しかしながら、ドーナツ状に放射される光の一部分のみを利用するものであるために、光利用効率が低かった。また、照射面での照度均一性も高くはなかった。
そこで、本発明者らは光利用効率の向上と照度均一性の向上のために、レンズ等の光学部品を光源(ランプ)とアパーチャの間に配置することを検討した。
しかしながら、200nm以下の光を伝搬させるため伝搬空間に酸素が存在すると光が著しく減衰するという事情がある。
例えば、光が伝搬する空間中には酸素が10ppm以上存在しないことが好ましく、また光学部品も波長200nm以下の光の透過率が高いものが好ましい。さらに言えば、光の損失が発生する折り返しミラーは光学系中に配置しないことが好ましい。
According to this prior art, a parabolic mirror is attached to the lamp as a reflecting mirror, and parallel light is formed without an optical system such as a lens. However, since only a part of the light emitted in a donut shape is used, the light use efficiency is low. Also, the illuminance uniformity on the irradiated surface was not high.
In view of this, the present inventors have examined the arrangement of an optical component such as a lens between a light source (lamp) and an aperture in order to improve light utilization efficiency and illuminance uniformity.
However, in order to propagate light of 200 nm or less, there is a situation that light is significantly attenuated when oxygen is present in the propagation space.
For example, it is preferable that 10 ppm or more of oxygen is not present in the light propagation space, and the optical component preferably has a high transmittance for light with a wavelength of 200 nm or less. Furthermore, it is preferable not to arrange the folding mirror in which optical loss occurs in the optical system.
この発明が解決しようとする課題は、上記従来技術の問題点に鑑みて、鏡筒内に波長200nm以下の真空紫外光を放射するショートアークフラッシュランプおよび該ランプからの光を反射する集光鏡を備え、前記鏡筒の下部には光照射窓を備えてなる光照射装置及びこれを備えた露光装置において、前記集光鏡からの光の全てを光照射窓から出射して、光利用効率が高く、照度均一性が向上した構造を提供することである。 In view of the above-mentioned problems of the prior art, the problems to be solved by the present invention are a short arc flash lamp that emits vacuum ultraviolet light having a wavelength of 200 nm or less in a lens barrel, and a condenser mirror that reflects light from the lamp. In the light irradiation apparatus having a light irradiation window at the lower part of the lens barrel and the exposure apparatus having the light irradiation window, all the light from the condenser mirror is emitted from the light irradiation window, and the light use efficiency Is to provide a structure having high illuminance uniformity.
上記課題を解決するために、この発明に係るショートアークフラッシュランプを用いた光照射装置では、鏡筒内に、前記集光鏡によって反射された光を平行化し照度を均一化する光学系を備え、該光学系は、前記ランプと前記光照射窓の間に同一光軸上に沿って直線状に配置された複数のレンズ部材からなり、前記鏡筒は複数の鏡筒ユニットからなり、各鏡筒ユニットは、前記ランプや前記複数のレンズ部材をそれぞれ保持し、前記鏡筒の前記ランプが配置された位置の上方に不活性ガス供給口が設けられるとともに、前記鏡筒の下端面に不活性ガス排出口が設けられていて、前記鏡筒内が不活性ガスで置換されていることを特徴とする。
また、前記鏡筒ユニットは、ランプ鏡筒ユニットとレンズ鏡筒ユニットからなり、前記レンズ鏡筒ユニットにはレンズ部材保持部が設けられ、前記レンズ部材保持部には、前記レンズ部材の上面側から下面側へ不活性ガスを流通させる通気孔が形成されていることを特徴とする。
また、前記通気孔からの不活性ガスの流出方向を前記レンズ部材の下面に向けて変更する風向板が、前記通気孔の下方に設けられていることを特徴とする。
In order to solve the above-described problems, a light irradiation apparatus using a short arc flash lamp according to the present invention includes an optical system in a lens barrel that collimates the light reflected by the condenser mirror and uniformizes illuminance. The optical system includes a plurality of lens members arranged linearly along the same optical axis between the lamp and the light irradiation window, and the lens barrel includes a plurality of lens barrel units. The tube unit holds the lamp and the plurality of lens members, respectively, and an inert gas supply port is provided above the position of the lamp in the lens barrel, and an inert gas is provided on the lower end surface of the lens barrel. A gas discharge port is provided, and the inside of the lens barrel is replaced with an inert gas.
The lens barrel unit includes a lamp barrel unit and a lens barrel unit. The lens barrel unit is provided with a lens member holding portion, and the lens member holding portion is provided on the upper surface side of the lens member. Ventilation holes for flowing an inert gas to the lower surface side are formed.
In addition, a wind direction plate that changes the outflow direction of the inert gas from the vent toward the lower surface of the lens member is provided below the vent.
上記光照射装置を備えた露光装置では、光照射装置の下方に配置されたマスクステージと、該マスクステージの下方に配置されたワークステージとを備えたことを特徴とする。
また、前記光照射装置の下部に、前記マスクステージの上方を覆う被覆部材が設けられていることを特徴とする。
An exposure apparatus including the light irradiation apparatus includes a mask stage disposed below the light irradiation apparatus and a work stage disposed below the mask stage.
In addition, a covering member that covers an upper portion of the mask stage is provided below the light irradiation device.
この発明のショートアークフラッシュランプを用いた光照射装置によれば、鏡筒内にランプと集光鏡を備え、前記鏡筒の下部には光照射窓を備えてなる光照射装置において、前記鏡筒内に、前記集光鏡によって反射された光を平行化し照度を均一化する光学系を備え、該光学系は、前記ランプと前記光照射窓の間に同一光軸上に沿って直線状に配置された複数のレンズ部材からなるので、ランプから出射し集光鏡で反射された光は、光学系により平行化され照度を均一化されて、その全てが光照射窓から出射されるので、光利用効率が極めて高くなり、かつ、照度均一性が向上する。 According to the light irradiation apparatus using the short arc flash lamp of the present invention, in the light irradiation apparatus including a lamp and a condensing mirror in a lens barrel, and having a light irradiation window below the lens barrel, the mirror An optical system for collimating the light reflected by the condenser mirror and making the illuminance uniform is provided in the cylinder, and the optical system is linear along the same optical axis between the lamp and the light irradiation window. Since the light emitted from the lamp and reflected by the condensing mirror is made parallel by the optical system and the illuminance is made uniform, all of it is emitted from the light irradiation window. The light use efficiency is extremely high and the illuminance uniformity is improved.
また、前記鏡筒は、前記ランプや前記複数のレンズ部材をそれぞれ保持する複数の鏡筒ユニットからなることにより、その構造が簡略化され、これらの鏡筒ユニットを組み立てることで容易に鏡筒全体の製造ができる。
また、鏡筒の上部に不活性ガス供給口を備え、下部に排出口を備えたことで、鏡筒内の全体を容易に不活性ガスで置換することができ、真空紫外光(VUV)の減衰を抑制できる。
また、各レンズ鏡筒設けられたレンズ部材保持部に通気口を形成することで、鏡筒全体に亘って容易に不活性ガス雰囲気とすることができる。
また、各レンズの下面側は大気が淀んで、不活性ガスで置換することが難しいが、風向板を設けて通気口からの不活性ガスをレンズ下面に向けることで、効果的に不活性ガスで置換することができる。
In addition, the lens barrel includes a plurality of lens barrel units that respectively hold the lamp and the plurality of lens members, so that the structure thereof is simplified, and the entire lens barrel can be easily assembled by assembling these lens barrel units. Can be manufactured.
In addition, by providing an inert gas supply port at the top of the lens barrel and a discharge port at the bottom, the entire interior of the lens barrel can be easily replaced with inert gas, and vacuum ultraviolet light (VUV) Attenuation can be suppressed.
Further, by forming a vent in the lens member holding portion provided in each lens barrel, an inert gas atmosphere can be easily formed over the entire barrel.
In addition, the atmosphere on the lower surface side of each lens is stagnant and it is difficult to replace it with an inert gas. However, by providing a wind direction plate and directing the inert gas from the vent to the lower surface of the lens, the inert gas is effectively removed Can be substituted.
図1は本発明のショートアークフラッシュランプを用いた光照射装置の全体を表し、図3〜5は、その部分拡大図である。
図1において、本発明の光照射装置1は、鏡筒2と、その内部に設けられたショートアークフラシュランプ3と、これを取り囲む集光鏡4と、光学系5と、最下部に設けられた光照射窓6とを備えている。
鏡筒2は、複数の鏡筒ユニット20〜25からなり、これら各鏡筒ユニットにはそれぞれランプ3や、光学系5を構成する複数のレンズ部材51〜55が保持されている。
この光学系5は、ランプ3から出射され集光鏡4で反射された光を、平行化し照度を均一化するためのものであって、例えば、第1のレンズ部材(両凹レンズ)51、第2のレンズ部材(平凸レンズ)52、第3のレンズ部材(インテグレータレンズ)53、第4のレンズ部材(凸メニスカスレンズ)54および第5のレンズ部材(両凸レンズ)55から構成されている。
FIG. 1 shows the whole light irradiation apparatus using the short arc flash lamp of the present invention, and FIGS. 3 to 5 are partial enlarged views thereof.
In FIG. 1, a
The
The
最上部に位置するランプ鏡筒ユニット20には、ランプ3および集光鏡4が保持されている。ここで用いられるランプ3はショートアークフラシュランプであり、図2にその概要構造が示されている。
このショートアーク型フラッシュランプ3は、発光空間を形成する発光管301と、その発光管301の一端に連続して管軸方向に沿って外方に延びる第1封止管302と、他端に連続して管軸方向に沿って外方に延びる第2封止管303を有していて、前記第2封止管303には封止用ガラス管304が挿入されており、その重なり領域において両者は溶着されている。
The
The short arc
前記発光管301内には、一対の第1主電極305と第2主電極306とが対向配置されている。前記第1主電極305は、その芯線307が第1封止管302に段継ガラスなどの手段により封着されて外方に気密に導出されており、一方、前記第2主電極306は、その芯線308が前記封止用ガラス管304に段継ガラスなどの手段により封着されて外方に気密に導出されている。
In the
そして、前記発光管301内の一対の主電極305、306の間には、一対の第1始動補助電極310と第2始動補助電極311が配設されていて、それぞれの内部リード312、315と外部リード313、316とが、前記第2封止管303と封止用ガラス管304との間の溶着領域において、金属箔314、317を介して電気的に接続されている。
Between the pair of
前記始動補助電極310、311の外部リード313、316が導出される側にある第2封止管303にはアルミニウム製などの口金320が固定されている。この口金320と第2封止管303との間の空隙には、第1の接着剤321が充填され、仕切り部材323を介して、口金320と封止用ガラス管304との間の空隙には第2の接着剤322が充填されている。
この第2の接着剤322中には、第2封止管303から導出された外部リード313、316が埋設され、口金320の後方から外部に導出されている。この外部リード313、316は、その後方部において絶縁性の被覆材313a、316aによって被覆されている。
なお、このようなショートアークフラシュランプ3の詳細は、特開2016−131135号公報に開示されている。
A base 320 made of aluminum or the like is fixed to the
External leads 313 and 316 led out from the
The details of such a short
前記鏡筒2は、細長い筒状をなし、例えば、アルミニウムを切削した円筒状部材によって構成されている。この鏡筒2は、複数の鏡筒ユニット20〜25からなり、最上部に位置する鏡筒ユニットは、内部にランプ3を収容保持するランプ鏡筒ユニット20を構成している。そして、このランプ鏡筒ユニット20内には、ランプ3を取り囲むように集光鏡4が設けられていて、この集光鏡4は、例えば楕円集光鏡である。
The
図3に示すように、ランプ3の口金320は、ランプ保持部材31によってランプ鏡筒ユニット20の上部に保持されており、このランプ保持部材31には、鏡筒2内に開口する不活性ガス供給口32が形成されていて、不活性ガス供給管33が接続されている。
不活性ガス供給口32からランプ鏡筒ユニット20内に供給される窒素ガスなどの不活性ガスは、集光鏡4とランプ3の間隙からランプに沿って下方に流下して、ランプ3を冷却し、更に下方に流れていく。
As shown in FIG. 3, the
An inert gas such as nitrogen gas supplied from the inert
再び図1を参照して、ランプ鏡筒ユニット20の下方には、複数のレンズ鏡筒ユニット21〜25が設けられていて、これらレンズ鏡筒ユニット21〜25には、前記ランプ3から出射されて集光鏡4によって反射された光を平行化し、また、照度を均一化する光学系5を構成する複数のレンズ部材51〜55がそれぞれ保持されている。
つまり、第1のレンズ鏡筒ユニット21には第1のレンズ部材(両凹レンズ)51が、第2のレンズ鏡筒ユニット22には第2のレンズ部材(平凸レンズ)52が、第3のレンズ鏡筒ユニット23には第3のレンズ部材(インテグレータレンズ)53が、第4のレンズ鏡筒ユニット24には第4のレンズ部材(凸メニスカスレンズ)54が、そして、第5のレンズ鏡筒ユニット25には第5のレンズ部材(両凸レンズ)55が、それぞれ保持されている。
そして、最下部に位置する第5のレンズ鏡筒ユニット25の下端には、光照射窓6が設けられている。
なお、第1〜第5のレンズの選択及び組合せは、目的とする平行度及び照度均一性に合わせて適宜選択可能である。
Referring to FIG. 1 again, a plurality of
In other words, the first
A
The selection and combination of the first to fifth lenses can be appropriately selected according to the target parallelism and illuminance uniformity.
こうして、ランプ鏡筒ユニット20と複数のレンズ鏡筒ユニット21〜25を組み合わせることで鏡筒2が構成され、その内部に設けられた第1〜第5のレンズ部材51〜55は、ランプ3と光照射窓6の間に同一光軸OA上に沿って直線状に配置された光学系5を構成する。
In this way, the
図4、図5に示すように、各レンズ鏡筒ユニット21〜25にはレンズ保持部211〜251が形成されていて、それぞれ、第1〜第5のレンズ部材51〜55を保持している。このレンズ保持部は、レンズ鏡筒ユニットを切削加工して段部として内側に突出するフランジ部で構成することができる。
そして、このレンズ保持部211〜251には、これらを光軸方向に貫通する通気孔212〜252がそれぞれ形成されていて、各レンズ部材51〜55の上面側と下面側の空間を連通している。
As shown in FIGS. 4 and 5, the
The
また、図4に示すように、例えば、第2のレンズ鏡筒ユニット22におけるレンズ保持部221の通気孔222の下方には、風向板223が設けられ、通気孔222から噴き出てくる不活性ガスを、第2のレンズ部材52の下面側に向けて指向する。
これにより、不活性ガスによる置換時に、空気の流れが淀んで空気溜りを形成して置換しづらいレンズ部材52の下面側が効果的に不活性ガスに置換される。
なお、この風向板は、第2のレンズ鏡筒ユニット22だけでなく、全てのレンズ鏡筒ユニット21〜25に設けるようしてもよい。
Further, as shown in FIG. 4, for example, a
Thereby, at the time of replacement with the inert gas, the lower surface side of the
The wind direction plate may be provided not only in the second
そして、図5(A)(B)に示すように、最下段に位置する第5のレンズ鏡筒ユニット25の下端に設けられた光照射窓6における、光取り出し部以外のフランジ領域61に、不活性ガス排出口62が形成されていて、不活性ガス供給口32から鏡筒2内に供給された不活性ガスが、鏡筒2内を下方に流れて該鏡筒2内を不活性ガス雰囲気とした後に、この不活性ガス排出口62から鏡筒2外に噴出される。
このように、ランプを冷却しつつ、鏡筒2内の酸素濃度を例えば10ppm(体積比)以下に抑える不活性ガス(窒素ガス)の流量は、例えば、25L(リットル)/minである。
And as shown to FIG. 5 (A) (B), in the flange area |
As described above, the flow rate of the inert gas (nitrogen gas) that suppresses the oxygen concentration in the
また、光学系5を構成するレンズ部材51〜55や、光照射窓6は、真空紫外光を効率よく利用するために、例えば200nm以下の光を透過する材料によって構成されている。
さらに好ましくは波長200nmの光の透過率が80%以上の材料で構成されている。具体的にそれらの性質を有するのはフッ化物であり、さらに具体的には例えばフッ化カルシウム(CaF2)、フッ化マグネシウム(MgF2)、フッ化バリウム(BaF2)である。
Further, the
More preferably, it is made of a material having a transmittance of light having a wavelength of 200 nm of 80% or more. Specifically, it is fluoride that has those properties, and more specifically, for example, calcium fluoride (CaF 2 ), magnesium fluoride (MgF 2 ), and barium fluoride (BaF 2 ).
ところで、上記実施例では、各鏡筒ユニットには、ランプやレンズが1つずつ設けられたものとして説明したが、一つの鏡筒にこれらが複数設けられるものであってもよい。例えば、前記第1の鏡筒ユニット21にランプ3と第1のレンズ部材51が設けられ、あるいは、第2の鏡筒ユニット22に第1のレンズ部材51と第2のレンズ部材52が設けられる構成としてもよい。
In the above embodiment, each lens barrel unit has been described as having one lamp and one lens, but a plurality of these may be provided in one lens barrel. For example, the
図6、7に本発明の光照射装置を用いた露光装置の例が示されている。
図6に示すように、光照射装置1は、不図示の光学ベンチ等のフレームを基礎として設けられる架台11によって鏡筒が保持され空中に維持されている。定盤10上にはワークステージ12が、水平方向(XY方向)に移動可能に設けられている。このワークステージ12の上面にはワークWが載置支持されており、θ回転機構を設けてワークWを回転可能としている。
一方、マスク14はマスクステージ13によって真空吸着により支持されており、XY方向に移動可能である。このとき、ワークWは基板のみならず、帯状ワークなどもあり、マスク14と密着させることはできないので、ワークWとマスク14の間は極力近づけて配置される。
6 and 7 show examples of an exposure apparatus using the light irradiation apparatus of the present invention.
As shown in FIG. 6, in the
On the other hand, the
そして、光照射装置1の下端の光照射窓もマスク14に近接配置するが、どうしても一定の間隙が存在することになる。
本発明の光照射装置1は200nm以下の真空紫外光を利用するものであるので、光照射窓とマスクの間の間隙に存在する酸素によって吸収が生じるが、この吸収を抑制するために、光照射装置1の下端には、板材もしくはブロック材などからなる被覆部材7が設けられていて、マスク14およびマスクステージ13上を覆うように近接配置される。
図7に示すように、この被覆部材7によって、光照射窓から噴出する不活性ガスをマスク14に沿うように流し、これによって光照射窓とマスクの間の間隙の酸素を効果的にパージすることができるものである。
The light irradiation window at the lower end of the
Since the
As shown in FIG. 7, the covering
以上説明したように、本発明に係るショートアークフラッシュランプを用いた光照射装置では、鏡筒内にランプと集光鏡を備え、前記鏡筒の下部には光照射窓を備えてなる光照射装置において、前記鏡筒内に、前記集光鏡によって反射された光を平行化し照度を均一化する光学系を備え、該光学系は、前記ランプと前記光照射窓の間に同一光軸上に沿って直線状に配置された複数のレンズ部材からなるので、ランプから出射し集光鏡で反射された光は、光学系により平行化され照度を均一化されて、その全てが光照射窓から出射されるので、光利用効率が極めて高くなり、かつ、照度均一性が向上する。
また、前記鏡筒は複数の鏡筒ユニットからなり、各鏡筒ユニットは、前記ランプや前記複数のレンズ部材をそれぞれ保持しているので、鏡筒の全体構造が簡略化して、これらの鏡筒ユニットを組み立てることで、容易に鏡筒全体の製造ができる。
As described above, in the light irradiation apparatus using the short arc flash lamp according to the present invention, the light irradiation includes a lamp and a condensing mirror in a lens barrel, and a light irradiation window in the lower part of the lens barrel. In the apparatus, an optical system for collimating the light reflected by the condenser mirror and making the illuminance uniform is provided in the lens barrel, and the optical system is on the same optical axis between the lamp and the light irradiation window. Since the light emitted from the lamp and reflected by the condenser mirror is made parallel by the optical system and the illuminance is made uniform, all of which is a light irradiation window. Since the light is emitted from the light, the light utilization efficiency is extremely high and the illuminance uniformity is improved.
In addition, since the lens barrel includes a plurality of lens barrel units, and each lens barrel unit holds the lamp and the plurality of lens members, respectively, the entire structure of the lens barrel is simplified. By assembling the unit, the entire lens barrel can be easily manufactured.
1 光照射装置
2 鏡筒
20 ランプ鏡筒ユニット
21〜25 第1〜第5のレンズ鏡筒ユニット
211〜251 レンズ保持部
212〜252 通気孔
3 ショートアークフラッシュランプ
32 不活性ガス供給口
4 集光鏡
5 光学系
51〜55 第1〜第5のレンズ部材
6 光照射窓
62 不活性ガス排出口
7 被覆部材
12 ワークステージ
13 マスクステージ
14 マスク
W ワーク
DESCRIPTION OF
Claims (5)
前記鏡筒内には、前記集光鏡によって反射された光を平行化し照度を均一化する光学系を備え、
該光学系は、前記ランプと前記光照射窓の間に同一光軸上に沿って直線状に配置された複数のレンズ部材からなり、
前記鏡筒は複数の鏡筒ユニットからなり、各鏡筒ユニットには、前記ランプや前記複数のレンズ部材がそれぞれ保持され、
前記鏡筒の前記ランプが配置された位置の上方に不活性ガス供給口が設けられるとともに、前記鏡筒の下端面に不活性ガス排出口が設けられていて、前記鏡筒内が不活性ガスで置換されていることを特徴とする光照射装置。 A light irradiating apparatus comprising a short arc flash lamp that emits vacuum ultraviolet light having a wavelength of 200 nm or less and a condensing mirror that reflects light from the lamp in a lens barrel, and a light irradiation window provided at a lower portion of the lens barrel Because
The lens barrel includes an optical system that collimates the light reflected by the condenser mirror and uniformizes illuminance,
The optical system includes a plurality of lens members arranged linearly along the same optical axis between the lamp and the light irradiation window,
The lens barrel includes a plurality of lens barrel units, and each lens barrel unit holds the lamp and the plurality of lens members, respectively.
An inert gas supply port is provided above the position of the lamp in the lens barrel, and an inert gas discharge port is provided at the lower end surface of the lens barrel. The light irradiation apparatus characterized by being substituted by.
前記レンズ部材保持部には、前記レンズ部材の上面側から下面側へ不活性ガスを流通させる通気孔が形成されていることを特徴とする請求項1に記載の光照射装置。 The lens barrel unit includes a lamp lens barrel unit and a lens barrel unit, and the lens barrel unit is provided with a lens member holding portion,
The light irradiation device according to claim 1, wherein the lens member holding portion is formed with a vent hole for allowing an inert gas to flow from the upper surface side to the lower surface side of the lens member.
The exposure apparatus according to claim 4, wherein a coating member that covers an upper portion of the mask stage is provided below the light irradiation apparatus.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017053997A JP2018155982A (en) | 2017-03-21 | 2017-03-21 | Light irradiation device and exposure device therewith |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017053997A JP2018155982A (en) | 2017-03-21 | 2017-03-21 | Light irradiation device and exposure device therewith |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018155982A true JP2018155982A (en) | 2018-10-04 |
Family
ID=63718075
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017053997A Pending JP2018155982A (en) | 2017-03-21 | 2017-03-21 | Light irradiation device and exposure device therewith |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2018155982A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021536594A (en) * | 2018-08-27 | 2021-12-27 | ケーエルエー コーポレイション | Vapor as a protective agent in optical systems and life extension devices |
-
2017
- 2017-03-21 JP JP2017053997A patent/JP2018155982A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021536594A (en) * | 2018-08-27 | 2021-12-27 | ケーエルエー コーポレイション | Vapor as a protective agent in optical systems and life extension devices |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7989786B2 (en) | Laser-driven light source | |
JP2010087388A (en) | Aligner | |
KR101899266B1 (en) | Patterning device of self-assembled monolecular film, light irradiation device and method for patterning self-assembled monomolecular film | |
JP6197641B2 (en) | Vacuum ultraviolet irradiation treatment equipment | |
US9070526B2 (en) | Light source device, light irradiating apparatus equipped with light source device, and method of patterning self-assembled monolayer using light irradiating apparatus | |
JP2007115817A (en) | Light irradiation device | |
KR20010053391A (en) | Method for decontaminating microlithography projection lighting devices | |
KR100379873B1 (en) | Improving membrane quality | |
KR20120122916A (en) | Lamp module, particularly for spectral analysis devices | |
JP2008191252A (en) | Light source for exposure and exposure apparatus using the same | |
JP2010027268A (en) | Excimer lamp | |
KR101207983B1 (en) | Using the EUV plasma generation device | |
JP2018155982A (en) | Light irradiation device and exposure device therewith | |
JP2008279396A (en) | Ultraviolet irradiation device | |
US20100033688A1 (en) | Light-source unit, light-source apparatus, and projection-type display apparatus | |
JP6562316B2 (en) | Exposure equipment | |
US20050151471A1 (en) | Light emitting apparatus and extra-high pressure mercury lamp therefor | |
JP2015114439A (en) | Ultraviolet irradiation device | |
JP5223443B2 (en) | ArF excimer lamp | |
JP2016192343A (en) | Light source device | |
JP5320006B2 (en) | Exposure drawing device | |
KR102246188B1 (en) | Ultra violet irradiation apparatus | |
JP2003257822A (en) | Optical device and aligner | |
JP6590252B2 (en) | Exposure equipment | |
JP2008300219A (en) | Discharge lamp lighting device |