JP2018140450A - 研削装置 - Google Patents
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Abstract
Description
また、ウエーハ検出センサ402は、吸着面400がウエーハを吸着したとき静電容量の変化でウエーハを認識する静電容量センサでもよい。
まず、スピン洗浄手段5において、ウェーハの径に対応した適正なスピンナーテーブルを装着しておく。そして、図2に示したロボット4の吸着面400にウェーハを保持していない状態で、図4において二点鎖線で示すように、吸着面400を下に向け、図2に示した進退手段41が、スピン洗浄手段5の回転軸52の軸心方向である鉛直方向に対して直交する水平方向にロボットハンド40を前進させ、ウェーハ検出センサ402がスピンナーテーブル50の上方に位置するようにする。
そして、かかる接触の後、昇降手段42が直ちにロボットハンド40の下降を停止させ、その時に昇降手段43が認識する吸着面400の高さ位置Z1を、高さ記憶手段45に記憶させる。ここで、昇降手段43が認識する吸着面400の高さ位置Z1は、昇降手段43から見た吸着面400の高さ位置であり、昇降手段43が、例えばパルスモータによってロボットハンド40を昇降させる場合は、パルスモータに送出されるパルス数によって認識される。また、ロボットハンド40を昇降させるためのモータに備えるエンコーダからの情報によって吸着面400の高さ位置を認識するようにしてもよい。なお、吸着面400と保持面500aとの接触は、オペレータが確認してもよいし、ウェーハ検出センサ402が検出してもよい。また、高さ記憶手段45に記憶させる吸着面400の高さ位置は、ウェーハ検出センサ402がスピンナーテーブル50の保持面500aを検出する時に昇降手段43が認識するロボットハンド40の高さ位置であればよく、吸着面400の高さ位置と保持面500aの高さ位置とが一致する場合の吸着面400の高さ位置には限られない。例えば、吸着面400の高さ位置が保持面500aの高さ位置よりも所定距離上方にある場合にウェーハ検出センサ402がONになるようにあらかじめ調整しておいた場合は、吸着面400が保持面500aよりも当該所定距離上方に位置した時に昇降手段43が認識する吸着面400の高さ位置を、高さ記憶手段45に記憶させる。
実際の研削加工を行う前には、スピンナーテーブルが装着されているか否かを確認する。ここでは、径が6インチのウェーハに対応した図4に示したスピンナーテーブル50が装着されているものとする。
対応するウェーハの径が異なっていてもスピンナーテーブルの保持面の高さ位置が同じである場合は、すべてのスピンナーテーブルについて、高さ記憶手段45に記憶させる高さ位置が同じになるため、吸着面400を停止させる高さ位置も同じとなり、この時のウェーハ検出センサの状態のみでは適正なスピンナーテーブルが装着されているか否かを確認することはできない。一方、対応するウェーハの径が異なっている複数種類のスピンナーテーブルは、スピンナーテーブル自身の径もそれぞれ異なっている。そこで、この場合は、進退手段41がウェーハ検出センサ402の径方向の位置を調整することにより、適正なサイズのスピンナーテーブルが回転軸52に装着されているか否かを確認することができる。
上記のように、スピンナーテーブルが、6インチウェーハ用のスピンナーテーブル50であるか8インチウェーハ用のスピンナーテーブル50aであるかを判断させるとき、
ウェーハ検出センサ402を吸着面400の高さ位置が保持面500aの高さ位置よりも所定距離上方にある場合でONになるようにあらかじめ調整しておいた場合、ロボットハンド40を昇降させることなく進退手段41によるロボットハンド40の駆動により、8インチウェーハ用のスピンナーテーブル50aが装着されているか否かを判断する。
さらに、ウェーハ検出センサ402は、ウェーハが保持されているか否かを認識するために従来からロボットハンド40に備えているものであるため、新たな設備等を追加することなく、スピンナーテーブルが装着されているか否かを確認することができる。
上記のようにして、適正なスピンナーテーブルがスピン洗浄手段に装着されていることが確認された場合は、実際のウェーハWの研削加工を行う。以下では、図1に示した第1のカセット110aから搬出したウェーハWをチャックテーブル2において保持し、そのウェーハWを研削手段3によって研削し、研削後のウェーハWを洗浄手段5において洗浄した後、第2のカセット110bに搬入する動作について説明する。
研削終了後、チャックテーブル2が搬出入領域Aに移動し、第2搬送手段13bがウェーハWの裏面Wbを吸引保持し、ウェーハWをスピン洗浄手段5のスピンナーテーブル50に搬送する。スピンナーテーブル50では、保持面500aにおいてテープT側が吸引保持され、研削された裏面Wbが上方に露出する。そして、スピンナーテーブル50が高速回転するとともに洗浄水供給ノズル51から裏面Wbに向けて洗浄水が噴射され、供給した洗浄水を高速回転させて遠心力で吹き飛ばしてウェーハWの裏面Wbを洗浄する。その後、洗浄水の供給を止め、スピンナーテーブル50を高速回転させたまま高圧エアーを噴射して、ウェーハWを乾燥させる。
A:搬出入領域 B:加工領域
11a:第1のカセット載置部 11b:第2のカセット載置部
110a:第1のカセット 110b:第2のカセット
12:仮置き領域 120:位置合わせ手段
13a:第1搬送手段 13b:第2搬送手段
2:チャックテーブル
3:研削手段
30:スピンドル 31:ハウジング 32:モータ 33:マウント
34:研削ホイール 340:研削砥石 341:ホイール基台
4:ロボット
40:ロボットハンド 400:吸着面 401:吸引穴 402:ウェーハ検出センサ
41:進退手段 410:第1アーム 411:第2アーム
42:反転手段 420:反転軸 421:ジョイント
43:昇降手段 44:軸
45:高さ記憶手段 46:判断手段
5:スピン洗浄手段
50:スピンナーテーブル 500:吸着部 500a:保持面
51:洗浄水供給ノズル 52:回転軸 53:モータ 54:吸引源
6:研削送り手段
60:ボールネジ 61:ガイドレール 62:モータ 63:昇降板 64:ホルダ
Claims (1)
- ウェーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルが保持したウェーハを研削砥石によって研削する研削手段と、回転軸に着脱自在に装着したスピンナーテーブルの保持面において保持されたウェーハに洗浄水を供給し供給した洗浄水を該回転軸の高速回転によって遠心力で吹き飛ばしウェーハを洗浄するスピン洗浄手段と、ウェーハを吸着する吸着面を有するロボットハンドを備え該スピンナーテーブルからカセットにウェーハを搬送するロボットと、を備える研削装置であって、
該ロボットハンドは、該吸着面にウェーハを保持していることを検出するウェーハ検出センサを備え、
該ロボットは、
該スピン洗浄手段の該回転軸の軸心方向に直交する水平方向に該ロボットハンドを進退させる進退手段と、
該回転軸の軸心方向に該ロボットハンドを昇降させる昇降手段と、
下に向けられた該ロボットハンドの該ウェーハ検出センサが該スピンナーテーブルの該保持面を検出する時に該昇降手段が認識する該ロボットハンドの高さ位置を記憶する高さ記憶手段と、
該吸着面が下に向けられた該ロボットハンドの該ウェーハ検出センサを該スピンナーテーブルが存在すべき位置の上方に進入させ、該高さ記憶手段が記憶している高さ位置に該ロボットハンドを下降させ、該ウェーハ検出センサがOFFであったら所望サイズの該スピンナーテーブルが装着されていないと判断し、該ウェーハ検出センサがONであったら該スピンナーテーブルが装着されていると判断する判断手段と、
を備えた研削装置。
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109623549A (zh) * | 2018-12-21 | 2019-04-16 | 浙江长城玉士集团有限公司 | 一种用于汽车零配件整形机构的刺粉交集装置 |
CN111968927A (zh) * | 2019-05-20 | 2020-11-20 | 爱思开海力士有限公司 | 用于处理晶片的装置以及操作其的方法 |
CN112207655A (zh) * | 2020-10-12 | 2021-01-12 | 华海清科股份有限公司 | 一种具有移动机械手的晶圆磨削设备 |
JP2021065966A (ja) * | 2019-10-23 | 2021-04-30 | 株式会社ディスコ | 洗浄装置 |
CN113492349A (zh) * | 2021-09-08 | 2021-10-12 | 上海士捷机械制造启东有限公司 | 一种机械加工工作面磨削装置 |
CN114012529A (zh) * | 2021-10-12 | 2022-02-08 | 泰州市宇航航空器材有限公司 | 一种基于人工智能的航空座椅餐桌加工用打磨装置 |
JP7495297B2 (ja) | 2020-08-19 | 2024-06-04 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11320395A (ja) * | 1998-05-18 | 1999-11-24 | Nippei Toyama Corp | 研削システム |
JP2005260065A (ja) * | 2004-03-12 | 2005-09-22 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | トレー式ロボットハンド |
JP2008300668A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Disco Abrasive Syst Ltd | 洗浄装置、研削装置及びウェーハの保持方法 |
US20090088047A1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Zurbuchen Mark A | Automated sectioning tomographic measurement system |
JP2011031352A (ja) * | 2009-08-04 | 2011-02-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | 研削装置 |
-
2017
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11320395A (ja) * | 1998-05-18 | 1999-11-24 | Nippei Toyama Corp | 研削システム |
JP2005260065A (ja) * | 2004-03-12 | 2005-09-22 | Tokyo Seimitsu Co Ltd | トレー式ロボットハンド |
JP2008300668A (ja) * | 2007-05-31 | 2008-12-11 | Disco Abrasive Syst Ltd | 洗浄装置、研削装置及びウェーハの保持方法 |
US20090088047A1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Zurbuchen Mark A | Automated sectioning tomographic measurement system |
JP2011031352A (ja) * | 2009-08-04 | 2011-02-17 | Disco Abrasive Syst Ltd | 研削装置 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109623549A (zh) * | 2018-12-21 | 2019-04-16 | 浙江长城玉士集团有限公司 | 一种用于汽车零配件整形机构的刺粉交集装置 |
CN111968927A (zh) * | 2019-05-20 | 2020-11-20 | 爱思开海力士有限公司 | 用于处理晶片的装置以及操作其的方法 |
JP2021065966A (ja) * | 2019-10-23 | 2021-04-30 | 株式会社ディスコ | 洗浄装置 |
JP7320425B2 (ja) | 2019-10-23 | 2023-08-03 | 株式会社ディスコ | 洗浄装置 |
JP7495297B2 (ja) | 2020-08-19 | 2024-06-04 | 株式会社ディスコ | 加工装置 |
CN112207655A (zh) * | 2020-10-12 | 2021-01-12 | 华海清科股份有限公司 | 一种具有移动机械手的晶圆磨削设备 |
CN113492349A (zh) * | 2021-09-08 | 2021-10-12 | 上海士捷机械制造启东有限公司 | 一种机械加工工作面磨削装置 |
CN113492349B (zh) * | 2021-09-08 | 2021-11-09 | 上海士捷机械制造启东有限公司 | 一种机械加工工作面磨削装置 |
CN114012529A (zh) * | 2021-10-12 | 2022-02-08 | 泰州市宇航航空器材有限公司 | 一种基于人工智能的航空座椅餐桌加工用打磨装置 |
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