JP2018056144A - パワー半導体モジュール装置及びその製造方法 - Google Patents
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 98
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 98
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims description 14
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 88
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 10
- 239000000463 material Substances 0.000 description 7
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 4
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 3
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 3
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 2
- 229920002614 Polyether block amide Polymers 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005304 joining Methods 0.000 description 2
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 2
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 1
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002040 relaxant effect Effects 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 238000007665 sagging Methods 0.000 description 1
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
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- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
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- H01L23/29—Encapsulations, e.g. encapsulating layers, coatings, e.g. for protection characterised by the material, e.g. carbon
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- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
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- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/76—Unipolar devices, e.g. field effect transistors
- H01L29/772—Field effect transistors
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- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/86—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable only by variation of the electric current supplied, or only the electric potential applied, to one or more of the electrodes carrying the current to be rectified, amplified, oscillated or switched
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- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
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- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
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- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
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- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
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- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
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- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
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Abstract
【課題】耐圧特性を確保しつつ、素子アクティブ領域の面積を拡大したSiC素子搭載パワー半導体モジュール装置を提供することを目的とする。
【解決手段】上記課題を解決するために、本発明に係るパワー半導体モジュールは、周縁部に終端構造領域を有するSiCからなる半導体素子と、半導体素子を封止するシリコーンゲルと、終端構造領域上に配置された無機層と、無機層とシリコーンゲルとの間に配置された樹脂層と、を備え、樹脂層は、少なくとも一つの層から構成され、半導体素子のコーナ部に配置された樹脂層の最上層の外側端部は、半導体素子の端面よりも内側に位置していることを特徴とする。
【選択図】図3
【解決手段】上記課題を解決するために、本発明に係るパワー半導体モジュールは、周縁部に終端構造領域を有するSiCからなる半導体素子と、半導体素子を封止するシリコーンゲルと、終端構造領域上に配置された無機層と、無機層とシリコーンゲルとの間に配置された樹脂層と、を備え、樹脂層は、少なくとも一つの層から構成され、半導体素子のコーナ部に配置された樹脂層の最上層の外側端部は、半導体素子の端面よりも内側に位置していることを特徴とする。
【選択図】図3
Description
本発明は、SiC素子を搭載した高耐圧パワー半導体モジュールのSiC素子の実装構造及びその製造方法に関する。
省エネルギー化、省資源、環境保全などへの規制・要請を背景に、パワー半導体モジュールを用いた電力制御システムが不可欠なものになっている。特に、小型で耐圧性に優れたパワー半導体モジュールの開発が求められている。しかし、パワー半導体モジュールを小型化して高耐圧の用途で用いようとすると、電位の分布が集中してしまう素子端部で、絶縁破壊が起こってしまう。
そこで、従来の素子では、素子上面周辺領域(終端領域)を取り囲むようにガードリングを形成したり、FLR(Field Limiting Ring)やJTE(Junction Termination Extension)などの技術が適用されている。
本発明者らは、絶縁性樹脂ワニスやペーストを用いて、SiC素子周辺部に絶縁性樹脂被膜を形成し耐圧特性を確保する技術を特許文献1に開示した。
SiC素子を用いたパワー半導体モジュールにおいても低コスト化の観点から、電流を流すアクティブ面積を広くすることが望まれている。このためには、素子周辺の終端領域を狭める必要がある。しかし、素子の終端構造を縮小すると、発生電界強度が増加し耐圧特性を確保できない。特許文献1に開示されているパワー半導体モジュールでは、形成する樹脂層の両サイドで垂れが発生することから、狭幅化に限界がある。また、SiC素子をスイッチング素子として用いる場合には、ゲートやセンスパッドが素子周辺の終端領域に近接して配置すると、これらのパッドを避けて急速に膜厚立ち上げる絶縁層が必要となり、特許文献1の手法では限界があった。
そこで、本発明では上記課題に鑑み、耐圧特性を確保し、かつ素子のアクティブ領域の面積を拡大したSiC素子搭載パワー半導体モジュール装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明に係るパワー半導体モジュールは、周縁部に終端構造領域を有するSiCからなる半導体素子と、半導体素子を封止するシリコーンゲルと、終端構造領域上に配置された無機層と、無機層とシリコーンゲルとの間に配置された樹脂層と、を備え、樹脂層は、少なくとも一つの層から構成され、半導体素子のコーナ部に配置された樹脂層の最上層の外側端部は、半導体素子の端面よりも内側に位置していることを特徴とする。
本発明によれば、耐圧特性を確保し、かつ、素子のアクティブ領域の面積を拡大したSiC素子搭載パワー半導体モジュール装置を提供することができる。
以下、本発明の実施例を図面に基づき説明する。
(第一の実施形態)
本発明の実施形態に係るSiC素子搭載パワー半導体モジュール100の模式断面を図1に示す。SiC素子搭載パワー半導体モジュールは、SiC素子がスイッチング素子として搭載されていても良いし、フリーホイールダイオード素子として搭載されていても良いし、両方の素子として搭載されていても良い。
本発明の実施形態に係るSiC素子搭載パワー半導体モジュール100の模式断面を図1に示す。SiC素子搭載パワー半導体モジュールは、SiC素子がスイッチング素子として搭載されていても良いし、フリーホイールダイオード素子として搭載されていても良いし、両方の素子として搭載されていても良い。
図1では、スイッチング素子とダイオード素子の両方にSiC素子を用いたものを例に説明する。本実施形態に係るパワー半導体モジュール100は、放熱ベース11、セラミックス回路基板6、SiCダイオード素子1A、SiCスイッチング素子1B、外部出力端子9A、9B、及びモジュールケース10を有している。セラミックス回路基板6は、一方の面に、配線パターン6A1、6A2が設けられ、他方の面に、配線パターン6Cを備える。配線パターン6Cと放熱ベース11は、はんだもしくは金属ペーストを焼結した接合層5Bを介して接合される。一方、配線パターン6A1とSiC素子1A、1Bとは、はんだもしくは金属ペーストを焼結した接合層5Aを介して接合される。また、正極側と接続される外部出力端子9A(9)は、配線パターン6A1(6A)と直接超音波接合で接合されており、負極側と接続される外部出力端子9B(9)は、配線パターン6A2(6A)と直接超音波接合で接合されている。なお、ここでは外部出力端子9と配線パターン6Aとの接続方法は超音波接合としたが、他の接合方法を用いても良い。なお、スイッチング素子1Bのゲート及びセンス配線の結線の様子は図中では省略している。
この外部出力端子9A及び9Bは、モジュールケース10の外部に引き出されて他の機器と接続される。
SiC素子1A、1Bにおける配線パターン6A1側と反対側の面は、ボンディングワイヤ4を介して、外部出力端子9Bが接続される配線パターン6A2に接続されている。なお、SiCスイッチング素子1Bの詳細構造については、下記で詳細に説明する。
モジュールケース10は、放熱ベース11に固定されており、内部がシリコーンゲル3で満たされている。
図2は図1のSiC素子搭載部110を拡大したものである。SiC素子1Bの表面周辺部には樹脂材2A,2Bが配置されており、SiC素子1Bの端部の樹脂材の厚さが急峻に立ち上がって厚くなった構造をしている。ここで、SiC素子1Bの端部とは、素子の終端構造領域をいう。一般に、Si素子の終端構造領域は、素子外側端面から内側に2mm程度の範囲である。一方、耐圧3kV以上のSiC素子の場合、素子のアクティブ領域を確保するために、終端構造領域はSi素子の終端構造領域よりも狭い範囲とすることが好ましい。
図2のSiC素子端部120のより詳細な構造を図3に示す。SiC素子1Bは、接合層5Aと接続される電極7C、電極7A、チャネルストッパ7B、無機層8、及びSiC層25を備える。無機層8の上には順に、複数の樹脂層2C、2A、2Bが配置されている。樹脂層は、少なくとも一つの層から構成されていれば、単層でも複数層でも良い。本実施形態においては、第一の層2A、第二の層2B、第三の層3Cから構成される樹脂層を備える構成を説明する。
本発明に係わるSiC素子1Bの素子周縁部の終端構造領域には、ガードリング、FLR、JTE等を含めた電界緩和構造が設けられている(詳細は省略する)。この領域で最も電界が集中するのは図中Lで示した領域であり、この領域に厚膜の絶縁層を配置する必要がある。
終端構造領域の各種構成を図4、5、6に示す。図4、5は、素子の少なくとも4つのコーナ部に位置する樹脂層の最上層の外側端面が素子端面よりも内側である構成、図6は、素子の周縁部全周の樹脂層の最上層の外側端部が素子端面よりも内側に位置する構成を示す。ここで、樹脂層のうち無機層側の層を最下層、シリコーンゲル側の層を最上層をという。なお、図示はしていないが、素子の4つのコーナ部に位置する樹脂層の全体の外側端部が素子端面よりも内側である構成や、素子の周縁部全周の樹脂層全体の外側端部が素子端面よりも内側に位置する構成であっても良い。具体的には、樹脂層の外側端部は素子端面より50〜150μm程度内側であることが好ましい。
図4、図6において、a−1、b−1はダイオード素子の場合、a−2、b−2はスイッチング素子でゲート1B2及びセンスパッド1B3が素子周辺部に配置している場合、a−3、b−3はスイッチング素子でゲートパッド1B3が素子中央領域に配置している場合の構成を示す。なお、これらは代表的な構成であり、本発明の対象はこれらに限定されることはない。
代表例として、a−3、b−3の構成について図7、図8を用いて説明する。図7は、図4のa−3について破線部で切断したときの円に囲まれた部分の断面図である。図8は、図6のb−3について破線部で切断したときの円に囲まれた部分の断面図である。図7、図8いずれも、半導体素子のコーナ部に配置された樹脂層の最上層の外側の端部が、半導体素子の端面よりも内側に位置している。素子をセラミックス回路基板に接合する工程では、カーボン製等のジグの所定の開口部に接合材と素子を落とし込み、位置決めしてから加熱処理する手法が多く適用されている。この際、樹脂層が熱膨張して外側に張り出すと、ジグと干渉して接合に不具合が発生するおそれがある。特に、素子の4つのコーナ部は樹脂の熱膨張が大きい。したがってこの部分の樹脂層を予め除去しておくと不具合発生を抑止できる。樹脂層が熱膨張して外側に貼りだすことを効果的に抑制するためには、素子の全周の最上層樹脂の外側端面を素子内側にするとよい。
樹脂層としては、特に限定はないが、ポリアミドイミド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリエーテルアミドイミド樹脂、ポリエーテルアミド樹脂等の少なくともいずれかを用いることが好ましい。本実施形態において、第三の層3Cは厚さ10μm以下のポリイミドを用いている。無機層の上に形成される第三の層は、高耐熱性が必要とされるためである。
樹脂層の厚さは、50μm〜500μmであることが好ましい。樹脂層を形成しない場合(厚さが0μm)の場合、ゲル中にゲル自体の絶縁破壊強度の5倍程度の電界が発生するが、樹脂層の厚さを50μm以上とすることによりゲル自体の絶縁破壊強度と同程度まで最大電界を抑制することができる。一方、樹脂層の厚さを500μm以上とすると、樹脂事態にクラックが発生しやすくなり、却って素子の耐圧性を損なうことになる。
また、本実施例のように樹脂層が複数の層から構成される場合、第二の層の厚さを厚くすると、ゲル中の最大電界を低減することができる。したがって、第二の層は、第一の層よりも厚いことが好ましい。
無機層としては、SiO2を用いることが好ましい。SiC素子は、終端構造領域に発生する電界強度がSi素子に比べ大きいため、特性変動を避けるために、高純度膜を形成可能なシリコン酸化膜を使用することが好ましい。また、各部材の誘電率差が大きいと界面に電荷が蓄積しやすくなり、特性変動の原因となる。しかし、SiO2の誘電率とシリコーンゲルの誘電率は近いため、SiC素子表面からシリコーンゲルに至るまでの経路の誘電率の差を小さくすることができる。その結果、分極を抑制でき高耐圧のパワー半導体モジュールを提供できる。
さらに、樹脂層の誘電率は、無機層の誘電率以下であり、かつシリコーンゲルの誘電率以上であることが好ましい。誘電率が、無機層の誘電率以下であり、かつシリコーンゲルの誘電率以上である樹脂層を用いることにより、無機層からシリコーンゲルに至るまでの誘電率を緩やかに変化させることができる。その結果、電荷の蓄積による影響を抑えることができる。同様の理由から、樹脂層が複数の層から構成される場合、シリコーンゲル側の第二の層の誘電率は、無機層側の第一の層の誘電率よりも小さいことが好ましい。
SiO2無機層はプラズマCVD法等による堆積手法で形成可能である。なお、SiO2無機層の形成方法は、これに限定されず他の方法で形成してもいい。
(パワー半導体モジュールの製造方法)
本実施形態に係るパワー半導体モジュールの製造方法は、半導体素子を形成するSiCウェハに樹脂層を配置し、表面に樹脂層が配置されたSiCウェハを得る工程と、表面に樹脂層が配置されたSiCウェハを個々のチップに切り離すダイシング工程と、を含む。
本実施形態に係るパワー半導体モジュールの製造方法は、半導体素子を形成するSiCウェハに樹脂層を配置し、表面に樹脂層が配置されたSiCウェハを得る工程と、表面に樹脂層が配置されたSiCウェハを個々のチップに切り離すダイシング工程と、を含む。
具体的な樹脂層の形成方法を図9で説明する。まず、前工程処理したウェハに樹脂体を貼り付ける。ここで、図9Aに示すように、樹脂体は所定の形状に加工したポリイミド等のフィルム材2Bに接着層2Aが付いた構成になっている。このフィルム材2Bの幅と厚さを変えることで、狭幅化及び厚膜化の仕様を調整することができる。接着層2Aには熱可塑性ポリアミドイミドのように高温で軟化する耐熱性樹脂を用いる。ウェハ上に位置合せしながら樹脂体を所定の位置に載置し、ホットプレスで樹脂層2Aの融点以上に加熱しながら加圧して接着する。樹脂の種類によって貼付け条件は異なるが、例えば、不活性雰囲気中、320℃、面圧0.3MPa、加圧時間30秒である。
この後、ダイシングして素子を個片化し、目的の素子を得る。厚膜の樹脂体を貼り付けると、ウェハに反りが発生することがあり、ダイシングに悪影響が生じる。この場合には、ダイシング工程の前に、前記樹脂層のダイシングライン部に切れ込みを入れる工程により、図6Bに示すように、樹脂2Bに切れ込みを入れておくと反りは軽減できる。
また、反り軽減のためには図11のように、ダイシングライン部の2Bを予め除去した樹脂体を用いても良い。
以上のように、第一の実施形態によれば、狭幅で急峻に膜厚が立ち上がった断面形状を有する樹脂層を素子周辺部に形成することが可能となる。その結果、電界強度の強い終端構造領域の電界を緩和しつつ、素子のアクティブ領域の面積を拡大できる。また、素子端部に設けた樹脂層により電界強度を緩和できるため、耐圧を確保できる。
(第二の実施形態)
本発明の第二の実施形態に係わるSiC素子を図4、図6を用いて説明する。第一の実施形態と異なるのは、樹脂層2A、2Bにポリイミド系あるいはエポキシ系の感光性樹脂を用いている点である。第一の実施形態と同様な構成は説明を省略する。
本発明の第二の実施形態に係わるSiC素子を図4、図6を用いて説明する。第一の実施形態と異なるのは、樹脂層2A、2Bにポリイミド系あるいはエポキシ系の感光性樹脂を用いている点である。第一の実施形態と同様な構成は説明を省略する。
図12を用いて第二の実施形態に係る樹脂層の形成方法を説明する。図12は樹脂層の形成方法のプロセスを示す。まず、各種の前工程処理を施したSiCウェハの表面に、第一の感光性樹脂を配置する(工程1)。液状樹脂の塗布、樹脂フィルムを貼り付け等によりSiCウェハ表面への感光性樹脂の配置することができる。次いで、所定のパターンマスクを用いて露光する(工程2)。図12では、露光部が現像後に残るネガ型のイメージとしているが、ポジ型を応用しても良い。次いで、第二の感光性樹脂を工程1と同様に配置し(工程3)、所定のパターンマスクを用いて露光する(工程4)。第一と第二の感光性樹脂は、同じ樹脂材料でも、異なる樹脂材料を組み合わせてもどちらでもよい。その後第一、第二の感光性樹脂層を一括して現像し(工程5)、加熱硬化後(図示せず)、ダイシングして(工程6)、所望の構成の素子を得る。ホトリソプロセスを適用できる感光性樹脂の厚さは、現状厚くても40μm程度であるため、50μm以上の膜厚を得るためには、第一、第二の複数層構成にする必要がある。
感光性の樹脂層を用いることにより、樹脂層を特定の場所に形成することが容易となる。したがって、第二の実施形態によれば、狭幅で急峻に膜厚が立ち上がった断面形状を有する樹脂層を、高精度に樹脂形状を制御しながら素子周辺部に形成することが可能となる。
以上、上述したように、本発明を用いることによって、耐圧特性を確保しつつ、アクティブ面積を広くしたSiC素子搭載パワー半導体モジュールを提供することが可能となる。
1A…ダイオード素子、1B…スイッチング素子、1B1…主電流パッド、1B2…ゲートパッド、1B3…センスパッド、2A…最外部樹脂層に接する内側の樹脂層、2B…最外部樹脂層、2C…最下部樹脂層、3…シリコーンゲル、4A…主電流を流すワイヤー、4B…ゲートやセンス用ワイヤー、5…接合層、6…セラミックス回路基板、6A1、6A2…配線パターン、6B…セラミックス絶縁板、6C…金属パターン、7…切り込み、8…開口、9…貼り付け樹脂体、10…ウェハ、11…ダイシングライン、12…第一感光性樹脂膜、13…第二感光性樹脂膜
Claims (14)
- 周縁部に終端構造領域を有するSiCからなる半導体素子と、
前記半導体素子を封止するシリコーンゲルと、
前記終端構造領域上に配置された無機層と、
前記無機層と前記シリコーンゲルとの間に配置された樹脂層と、を備えるパワー半導体モジュールであって、
前記樹脂層は、少なくとも一つの層から構成され、
前記半導体素子のコーナ部に配置された前記樹脂層の最上層の外側端部は、前記半導体素子の端面よりも内側に位置していることを特徴とするパワー半導体モジュール。 - 請求項1に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記樹脂層の内側端部は、急峻に膜厚が立ち上がった形状であることを特徴とするパワー半導体モジュール。 - 請求項1に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記樹脂層の厚さは、50μm以上500μm以下であることを特徴とする半導体装置。 - 請求項3に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記樹脂層は、前記無機層上に配置される第一の層と、前記第一の層上に配置される第二の層と、を含み、
前記第二の層は、前記第一の層よりも厚いことを特徴とするパワー半導体モジュール。 - 請求項1に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記樹脂層は、感光性樹脂を含むことを特徴とするパワー半導体モジュール。 - 請求項1に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記樹脂層の誘電率は、前記無機層の誘電率以下であり、かつ前記シリコーンゲルの誘電率以上であることを特徴とするパワー半導体モジュール。 - 請求項4に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記第二の層の誘電率は、前記第一の層の誘電率よりも小さいことを特徴とするパワー半導体モジュール。 - 請求項1に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記無機層はSiO2からなることを特徴とするパワー半導体モジュール。 - 請求項1に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記半導体素子は、ダイオード素子、スイッチング素子の少なくともいずれかであることを特徴とするパワー半導体モジュール。 - 請求項1に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記半導体素子のコーナ部に配置された前記樹脂層の外側端部は、前記半導体素子の端面よりも内側に位置していることを特徴とするパワー半導体モジュール。 - 請求項1に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記樹脂層の最上層の外側端部は、前記半導体素子の端面よりも内側に位置していることを特徴とするパワー半導体モジュール。 - 請求項1に記載のパワー半導体モジュールであって、
前記樹脂層の外側端部は、前記半導体素子の端面よりも内側に位置していることを特徴とするパワー半導体モジュール。 - 請求項1ないし9のいずれかに記載のパワー半導体モジュールの製造方法であって、
前記半導体素子を形成するSiCウェハに前記樹脂層を配置し、表面に前記樹脂層が配置されたSiCウェハを得る工程と、
表面に前記樹脂層が配置されたSiCウェハを個々のチップに切り離すダイシング工程と、を含むことを特徴とするパワー半導体モジュールの製造方法。 - 請求項13に記載のパワー半導体モジュールの製造方法であって、
前記ダイシング工程の前に、前記樹脂層のダイシングライン部に切れ込みを入れる工程を含むことを特徴とするパワー半導体モジュールの製造方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015001236A JP2018056144A (ja) | 2015-01-07 | 2015-01-07 | パワー半導体モジュール装置及びその製造方法 |
PCT/JP2015/085130 WO2016111127A1 (ja) | 2015-01-07 | 2015-12-16 | パワー半導体モジュール装置及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2015001236A JP2018056144A (ja) | 2015-01-07 | 2015-01-07 | パワー半導体モジュール装置及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2018056144A true JP2018056144A (ja) | 2018-04-05 |
Family
ID=56355829
Family Applications (1)
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JP2015001236A Pending JP2018056144A (ja) | 2015-01-07 | 2015-01-07 | パワー半導体モジュール装置及びその製造方法 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2018056144A (ja) |
WO (1) | WO2016111127A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018060928A (ja) * | 2016-10-06 | 2018-04-12 | 株式会社日立製作所 | パワーモジュールおよび電力変換装置 |
JP6822056B2 (ja) * | 2016-10-18 | 2021-01-27 | 富士電機株式会社 | 半導体装置およびモジュール型半導体装置 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4401527B2 (ja) * | 2000-04-03 | 2010-01-20 | イビデン株式会社 | 半導体チップの製造方法 |
JP5607339B2 (ja) * | 2009-11-05 | 2014-10-15 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP2012045659A (ja) * | 2010-08-26 | 2012-03-08 | Yamaha Corp | Memsトランスデューサの製造方法 |
JP5600698B2 (ja) * | 2012-03-14 | 2014-10-01 | 株式会社 日立パワーデバイス | SiC素子搭載パワー半導体モジュール |
-
2015
- 2015-01-07 JP JP2015001236A patent/JP2018056144A/ja active Pending
- 2015-12-16 WO PCT/JP2015/085130 patent/WO2016111127A1/ja active Application Filing
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Publication number | Publication date |
---|---|
WO2016111127A1 (ja) | 2016-07-14 |
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