JP2017518531A - エレクトロウェッティングディスプレイの製造方法及び装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本出願は、2014年6月26日に申請されたU.S.Patent Application No.l4/316,349への優先権を主張する。このため、それの全内容は、参照によって本明細書に援用される。
1.一つ以上のエレクトロウェッティング表示素子の製造装置であって、前記装置が、
ガラス基板上へエレクトロウェッティング油及び電解質溶液を配出するための流体ディスペンサ、及び
前記流体ディスペンサから前記エレクトロウェッティング油及び前記電解質溶液を受ける前記ガラス基板を保持するためのプラットホームを含み、前記プラットホームが、前記流体ディスペンサが前記エレクトロウェッティング油及び前記電解質溶液を配出する間、前記流体ディスペンサに対して移動するように構成されており、前記ガラス基板が、
前記ガラス基板の第一の領域に形成された一つ以上のピクセルアレイであって、前記ピクセルアレイの個々のピクセルが、前記ピクセルアレイが前記電解質溶液で覆われる間に前記エレクトロウェッティング油を少なくとも部分的に保持するピクセル壁を含む前記ピクセルアレイ、及び
前記ガラス基板の前記第一の領域と異なる第二の領域に形成されたウェッティング・ストリップを含み、前記エレクトロウェッティング油と前記ウェッティング・ストリップとの間の湿潤度が、前記電解質溶液と前記ウェッティング・ストリップとの間の湿潤度と異なる、前記装置。
前記基板の第一の領域内に形成された表示素子の複数のアレイであって、前記表示素子が、第一流体及び第二流体を少なくとも部分的に保持するように構成された前記複数のアレイ、及び
前記基板の前記第一の領域と異なる第二の領域内に形成されたウェッティング・ストリップを含み、前記第一流体と前記ウェッティング・ストリップとの間の湿潤度が、前記第二流体と前記ウェッティング・ストリップとの間の湿潤度と異なる、前記基板。
前記基板から第一の高さへ延在し且つ前記表示素子の各々を囲うピクセル壁、及び
前記第一の高さを超える第二の高さへ延在し且つ表示素子の前記アレイを囲うアレイ壁を含む、条項5に記載の基板。
基板上へ第一流体及び第二流体を配出する流体ディスペンサを使用することを含み、前記基板上には、(i) 表示素子の一つ以上のアレイ、及び(ii)ウェッティング・ストリップが形成されて、前記第一流体と前記ウェッティング・ストリップとの間の湿潤度が、前記第二流体と前記ウェッティング・ストリップとの間の湿潤度と異なり、
前記流体ディスペンサに、前記基板上に形成された前記ウェッティング・ストリップ上を通過させることを含む前記方法。
前記第二流体で前記表示素子及び前記第一流体を少なくとも部分的に覆うことを含む、条項13に記載の方法。
表示素子の一つ以上のアレイが形成された基板上へ第一流体及び第二流体を配出する流体ディスペンサを使用すること、及び
前記透明な基板上へ前記第一流体及び前記第二流体を配出するよう前記流体ディスペンサを使用しながら、前記基板を覆う透明なトッププレートを移動させること含む前記方法。
前記第二流体で前記表示素子及び前記第一流体を少なくとも部分的に覆うことを含む、条項16に記載の方法。
Claims (15)
- 一つ以上のエレクトロウェッティング表示素子の製造装置であって、前記装置が、
ガラス基板上へエレクトロウェッティング油及び電解質溶液を配出するための流体ディスペンサ、及び
前記流体ディスペンサから前記エレクトロウェッティング油及び前記電解質溶液を受ける前記ガラス基板を保持するためのプラットホームであって、前記流体ディスペンサが前記エレクトロウェッティング油及び前記電解質溶液を配出する間、前記流体ディスペンサに対して移動するように構成された前記プラットホームで、前記ガラス基板が、
前記ガラス基板の第一の領域に形成された一つ以上のピクセルアレイであって、前記ピクセルアレイの個々のピクセルが、前記ピクセルアレイが前記電解質溶液で覆われる間に前記エレクトロウェッティング油を少なくとも部分的に保持するピクセル壁を含む前記ピクセルアレイ、及び
前記ガラス基板の前記第一の領域と異なる第二の領域に形成されたウェッティング・ストリップを含み、前記エレクトロウェッティング油と前記ウェッティング・ストリップとの間の湿潤度が、前記電解質溶液と前記ウェッティング・ストリップとの間の湿潤度と異なる、前記装置。 - 前記流体ディスペンサが、前記一つ以上のピクセルアレイ上へ前記エレクトロウェッティング油及び前記電解質溶液を配出する前に、前記ウェッティング・ストリップ上へ前記エレクトロウェッティング油及び前記電解質溶液を配出するように構成されている、請求項1に記載の装置。
- さらに、前記ガラス基板を少なくとも部分的に覆うガラストッププレートを含み、前記流体ディスペンサが、前記ガラス基板を覆う前記ガラストッププレートを動かすための付着部を含む、請求項1に記載の装置。
- 前記流体ディスペンサが、(i) 前記エレクトロウェッティング油を配出するための第一のスリット、(ii)前記電解質溶液を配出するための第二のスリット、及び(iii)前記第一のスリットと前記第二のスリットとの間の前記流体ディスペンサ上に形成されたディスペンサ・ウェッティング・ストリップを含み、前記エレクトロウェッティング油と前記ディスペンサ・ウェッティング・ストリップとの間の湿潤度が、前記電解質溶液と前記ディスペンサ・ウェッティング・ストリップとの間の湿潤度と異なる、請求項1に記載の装置。
- 電子表示デバイスのための基板であって、前記基板が、
前記基板の第一の領域内に形成された表示素子の複数のアレイであって、前記表示素子が、第一流体及び第二流体を少なくとも部分的に保持するように構成された前記複数のアレイ、及び
前記基板の前記第一の領域と異なる第二の領域内に形成されたウェッティング・ストリップを含み、前記第一流体と前記ウェッティング・ストリップとの間の湿潤度が、前記第二流体と前記ウェッティング・ストリップとの間の湿潤度と異なる、前記基板。 - 前記表示素子が、前記ウェッティング・ストリップの疎水性と異なる疎水性を有する疎水層を含む、請求項5に記載の基板。
- 前記基板が、さらに、前記表示素子内に配置された疎水層を含み、また、前記ウェッティング・ストリップ及び前記疎水層がフルオロポリマーを含む、請求項5に記載の基板。
- 前記基板に形成された前記表示素子の前記複数のアレイが、個々に、
前記基板から第一の高さへ延在し且つ前記表示素子の各々を囲うピクセル壁、及び
前記第一の高さを超える第二の高さへ延在し且つ前記表示素子の前記アレイを囲うアレイ壁を含む、請求項5に記載の基板。 - 前記基板に形成された前記表示素子の前記複数のアレイが、個々に、エレクトロウェッティングディスプレイの一部分を構成する、請求項5に記載の基板。
- 前記表示素子の前記複数のアレイが、前記基板の前記第一の領域内に行及び列で、前記基板に形成される、請求項5に記載の基板。
- 前記基板が、さらに、薄膜トランジスタ(TFT)回路を含む、請求項5に記載の基板。
- 前記第一流体が油を含み、前記第二流体が電解質溶液を含む、請求項5に記載の基板。
- 電子表示デバイスの製造方法であって、前記方法が、
基板上へ第一流体及び第二流体を配出する流体ディスペンサを使用すること含み、前記基板上には、(i) 表示素子の一つ以上のアレイ、及び(ii)ウェッティング・ストリップが形成されて、前記第一流体と前記ウェッティング・ストリップとの間の湿潤度が、前記第二流体と前記ウェッティング・ストリップとの間の湿潤度と異なり、
前記流体ディスペンサに、前記基板上に形成された前記ウェッティング・ストリップ上を通過させること含む前記方法。 - さらに、前記第一流体で前記表示素子を少なくとも部分的に満たすこと、及び
前記第二流体で前記表示素子及び前記第一流体を少なくとも部分的に覆うことを含む、請求項13に記載の方法。 - さらに、前記基板上へ前記第一流体及び前記第二流体を配出するよう前記流体ディスペンサを使用しながら、前記基板を覆う透明なトッププレートを移動させることを含む、請求項13に記載の方法。
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