JP2017508528A - 電気生理学システム - Google Patents

Abstract

高周波（ＲＦ）アブレーションシステム及び本高周波アブレーションシステムを使用するための方法が開示される。本ＲＦアブレーションシステムは、伸長部材、ＲＦ発生器、及びプロセッサを含み得る。伸長部材は、１つ以上の電極を含む遠位部分を含んでもよく、ＲＦ発生器は、これらの電極のうちの１つ以上に動作可能に連結され得る。これらの電極のうちの１つ以上に連結され得るプロセッサは、それらの電極から出力信号を得ることができ、得られた出力信号の１つ以上の電位図（ＥＧＭ）読取値のＳＴ部の上昇の変化を監視することができる。プロセッサは、ＥＧＭの上昇したＳＴ部に比例する１つ以上の特性のレベルを決定することができる。【選択図】図３Ｂ

Description

（関連出願の相互参照）
本出願は、参照により本明細書に組み込まれる、米国特許法第１１９条（ｅ）項の下で、２０１４年３月１８日出願の米国仮出願第６１／９５５，０９０号に対する優先権を主張するものである。

（発明の分野）
本開示は、療法を提供するためのシステム及び方法を目的とする。より具体的には、本開示は、心組織をマッピング及びアブレートするためのシステム及び方法を目的とする。

変行伝導経路は、心臓の電気インパルスの正常なパスを乱す。例えば、伝導ブロックは、電気インパルスを心房又は心室の正常な活性化を乱すいくつかの円形のウェーブレットに変質させることがある。変行伝導経路は、不整脈と称される異常で不規則な生命に関わることもある心拍リズムを生み出す。アブレーションは、不整脈を治療し、正常な収縮を回復させる１つの方法である。変行経路の源（限局性不整脈基質と称される）は、所望の場所に位置するマッピング電極を使用して見つけられるか、又はマッピングされる。マッピング後、医師は、変行組織をアブレートすることができる。高周波（ＲＦ）アブレーションでは、ＲＦエネルギーは、アブレーション電極から組織を通して電極に向けられ、組織をアブレートして、損傷を形成する。

本開示は、概して、療法を提供し、かつ療法を提供しながら分析を実施するためのシステム及び方法に関する。これらの分析が、伸長部材と組織との間の接触力のレベル、伸長部材の配向、並びに伸長部材と組織との間の接触を決定することを含み得ることが企図される。

したがって、一例示的事例では、システムは、伸長部材、高周波発生器、及びプロセッサを含んでもよい。伸長部材は、１つ以上の電極を含む遠位部分を有してもよい。高周波発生器は、電極のうちの１つ以上に動作可能に連結されて、連結された電極のうちの１つ以上に伝達され得るエネルギーを発生させることができる。プロセッサは、電極のうちの１つ以上に動作可能に連結されてもよく、電極のうちの１つ以上から出力信号を得ることができてもよく、出力信号のうちの１つ以上は電位図（ＥＧＭ）読取値を含む。いくつかの事例では、プロセッサは、ＥＧＭ読取値のうちの１つ以上のＳＴ部の上昇を監視することができてもよい。

別の例示的事例では、方法は、伸長部材の遠位部分を標的組織に近接する位置に位置付けることと、双極微小電極対の各々から出力信号を得ることと、を含んでもよく、出力信号のうちの１つ以上はＥＧＭ読取値を含む。得られたＥＧＭ読取値のＳＴ部の上昇が監視され得る。場合によっては、伸長部材の位置付けられた遠位部分は、アブレーションエネルギーを標的組織に適用することができる組織アブレーション電極と、組織アブレーション電極の周りに分配され、それから電気的に隔離された複数の微小電極であって、各双極微小電極対が出力信号を発生させることができる、複数の双極微小電極対を規定する複数の微小電極と、を含んでもよい。

別の例示的事例では、システムは、伸長部材、高周波発生器、マッピングプロセッサ、及び表示器を含んでもよい。伸長部材は、アブレーションエネルギーを標的組織に適用することができる組織アブレーション電極と、組織アブレーション電極の周りに分配され、それから電気的に隔離された複数の微小電極であって、各双極微小電極対が出力信号を発生させることができる、複数の双極微小電極対を規定する、複数の微小電極と、を含む、遠位部分を有してもよい。高周波発生器は、組織アブレーション電極に動作可能に連結されて、組織アブレーション電極に伝達されるエネルギーを発生させることができる。プロセッサは、電極のうちの１つ以上に動作可能に連結されてもよく、電極のうちの１つ以上から出力信号を得ることができてもよく、出力信号のうちの１つ以上は、双極微小電極対のうちの１つからのＥＧＭ読取値を含む。場合によっては、双極微小電極対からのＥＧＭ読取値のＳＴ部の上昇は、伸長部材の遠位部分と標的組織との間の接触力のレベルを少なくとも部分的に決定するために、マッピングプロセッサによって、他の双極微小電極対のＥＧＭ読取値のＳＴ部の上昇と比較されてもよい。表示器は、伸長部材の遠位部分と標的組織との間の接触力のレベルを示し得る。

上記発明の概要は、本開示の各実施形態又は全実現例を説明することを意図しない。利点及び達成事項は、本開示をより完全に理解することで明らかとなり、添付図面と共に以下の説明及び特許請求の範囲を参照することによって理解される。

本開示の態様は、添付図面と共に種々の実施形態の以下の詳細な説明を考慮して、より完全に理解され得る。
本開示の種々の実施例に従って使用され得る高周波（ＲＦ）アブレーションシステムの概略図である。 従来のアブレーションカテーテルを左に示し、本開示のＲＦアブレーションカテーテルの一実施形態を右に示す概略図である。 電位図（ＥＧＭ）読取値のＰ−ＱＲＳ−Ｔ波の概略図である。 上昇したＳＴ部を有するＥＧＭ読取値のＰ−ＱＲＳ−Ｔ波の概略図である。 本開示の種々の実施例に従って使用され得るＲＦアブレーションシステムの電極から得られた電気信号の概略図である。 本開示の種々の実施例に従って使用され得るＲＦアブレーションシステムの電極から得られた電気信号の概略図である。 本開示の種々の実施例に従って使用され得るＲＦアブレーションシステムを使用する方法の概略フロー図である。

本開示の態様が種々の修正及び代替形態に従うが、それらの具体例は、図面に一例として示されており、そこで詳細に記載される。しかしながら、その意図が本開示の態様を記載された特定の実施形態に限定するものではないことを理解されたい。反対に、その意図は、本開示の趣旨及び範囲内にある全ての変形例、均等物、及び代替例を網羅することである。

以下の定義される用語に関して、異なる定義が特許請求の範囲又は本明細書の他の箇所に与えられない限り、これらの定義が適用されるのもとする。

全ての数値は、明確に示されるかどうかにかかわらず、本明細書では「約」という用語によって修飾されるものとする。「約」という用語は、概して、当業者が記載された値と同等（すなわち、同じ機能又は結果を有する）と見なすであろう様々な範囲の数を指す。多くの事例では、「約」という用語は、最も近い有効数字に四捨五入された数を含むことを示してもよい。

終点による数値範囲の記載は、その範囲内の全ての数を含む（例えば、１〜５は、１、１．５、２、２．７５、３、３．８０、４、及び５を含む）。

ある特徴部に関連して本明細書で使用される第１、第２、第３、右、左、下、上等の任意の相対語は、ただそれだけであり、別の特徴部に対してその修飾された特徴部の相対的関係を示す以外に制限するものではない。

種々の構成要素、特徴部、及び／又は仕様に関するいくつかの好適な寸法、範囲、及び／又は値が開示されるが、当業者であれば、本開示に誘起されて、所望の寸法、範囲、及び／又は値が、明示的に開示されるものから逸脱し得ることを理解するだろう。

本明細書及び添付の特許請求の範囲で使用される場合、「ａ」、「ａｎ」、及び「ｔｈｅ」という単数形は、別途文脈で明確に示されない限り、複数の言及物を含む。本明細書及び添付の特許請求の範囲で使用される場合、「又は」という用語は、一般的に、別途文脈で明確に示されない限り、「及び／又は」を含む意味で採用される。

以下の発明を実施するための形態は、異なる図面における類似の要素に同じ番号が付される図面を参照して読まれるべきである。詳細な説明及び図面は、必ずしも縮尺通りではなく、例示的事例を描写し、本開示の範囲を限定することを意図しない。任意の例示的事例の選択された特徴部は、反対に明確に記載されない限り、追加の事例に組み込まれ得る。

図１は、例示的な高周波（ＲＦ）アブレーションシステム１０である。図１に示されるように、システム１０は、伸長部材１２（例えば、カテーテル、アブレーションカテーテル、マッピングカテーテル、又は他の伸長部材）、ＲＦ発生器１４、及びプロセッサ１６（例えば、マッピングプロセッサ又は他のプロセッサのうちの１つ以上）のうちの１つ以上を含んでもよい。例示的に、伸長部材１２は、ＲＦ発生器１４及びプロセッサ１６のうちの１つ以上（例えば、一方又は両方）に動作可能に連結され得る。いくつかの事例では、ＲＦアブレーションシステム１０は、伸長部材１２、ＲＦ発生器１４、及び／又はプロセッサ１６と通信している表示器を含んでもよい。表示器は、ＲＦアブレーションシステム１０によって感知される電気信号に関連する１つ以上の特性又は測定値（例えば、以下で論じられるように、ＳＴ部の感知若しくは監視された上昇に関連するか、又は比例する１つ以上の特性、又は他の特性）を示すことができてもよい。ＲＦアブレーションシステム１０は、所望に応じて１つ以上の他の特徴部を含んでもよい。一事例では、ＲＦアブレーションシステム１０は、ノイズアーチファクトアイソレータ（図示されない）を含んでもよく、微小電極２６は、このノイズアーチファクトアイソレータによって外壁から電気的に絶縁され得る。

例示的に、ＲＦ発生器１４は、伸長部材１２の１つ以上の電極に連結され得る。ＲＦ発生器と電極のうちの１つ以上との間の連結は、ＲＦ発生器１４によって発生したＲＦエネルギーの連結された電極への伝達を促進することができてもよい。

伸長部材１２は、アクチュエータ２０（例えば、制御ノブ又は他のアクチュエータ）を有し得るハンドル１８を含んでもよい。ハンドル１８（例えば、近位ハンドル）は、伸長部材１２の近位端に、又は伸長部材１２に沿って任意の他の位置に位置付けられてもよい。いくつかの事例では、伸長部材１２は、複数の環状電極２２、組織アブレーション電極２４（例えば、組織アブレーション電極又は他の電極）、並びにアブレーション電極２４内に配設されるか、さもなければ位置付けられ、かつ／又はアブレーション電極２４から電気的に隔離される微小電極２６（例えば、ピン電極とも称され得るマッピング微小電極又は他の微小電極）のうちの１つ以上を含み得る遠位部分を有する可撓性本体を含んでもよく、伸長部材１２の遠位端１３の１つ以上の特徴部は、ハンドル１８を通して少なくとも部分的に制御され得る。

いくつかの事例では、ＲＦアブレーションシステム１０は、患者へのアブレーション手技において利用されてもよい。したがって、伸長部材１２は、患者の血管系を通じて導入されるように構成されてもよい。例示的に、伸長部材１２は、患者の血管系を通じて患者の１つ以上の心房内に、又は１つ以上の他の標的区域に挿入され得る。患者の血管系又は心臓内である場合、伸長部材１２は、微小電極２６及び／若しくは組織アブレーション電極２４を使用して心筋組織をマッピング並びに／又はアブレートするために使用され得る。いくつかの事例では、アブレーション電極２４は、アブレーションエネルギーを患者の心臓の心筋組織に適用するように構成されてもよい。

場合によっては、伸長部材１２は、患者の血管系の通過、又は他の内腔の通過を促進するように操縦可能であってもよい。例示的に、伸長部材１２の遠位部分は、アクチュエータ２０の操作によって偏向されて、伸長部材１２の操縦を達成することができる。例えば、伸長部材１２の遠位部分１３は、アクチュエータ２０の操作によって、又は標的組織に隣接する組織アブレーション電極２４及び／若しくは微小電極２６を位置付けるための任意の他の方法で偏向されてもよい。更に、又はあるいは、伸長部材１２の遠位部分１３は、標的組織に隣接するアブレーション電極２４及び／又は微小電極２６の位置付けを促進するように適合された予め形成された形状を有してもよい。例示的に、伸長部材１２の遠位部分１３の予め形成された形状は、円弧形状（例えば、略円形状、略半円形状）であり得、かつ／又は伸長部材１２の略長手方向に横断する平面に配向され得る。

微小電極２６は、アブレーション電極２４の周囲に円周方向に分配されてもよく、かつ／又はそれから電気的に隔離されてもよい。微小電極２６は、単極若しくは双極感知モードで動作することができてもよく、又は動作するように構成されてもよい。いくつかの事例では、複数の微小電極２６は、１つ以上の双極微小電極対２８を規定し得、かつ／又は少なくとも部分的に形成し得る。

例示的事例では、伸長部材１２は、円周方向に離間された微小電極が、隣接する微小電極２６のそれぞれの双極微小電極対２８（例えば、第１の微小電極２６ａ及び第２の微小電極２６ｂの第１の双極微小電極対２８ａ、第２の微小電極２６ｂ及び第３の微小電極２６ｃの第２の双極微小電極対２８ｂ、並びに第３の微小電極２６ｃ及び第１の微小電極２６ａの第３の双極微小電極対２８ｃ）を形成し得るように、組織アブレーション電極２４の円周の周囲に分配された３つの微小電極２６（例えば、第１の微小電極２６ａ、第２の微小電極２６ｂ、及び第３の微小電極２６ｃ）を有してもよい。各双極微小電極対２８は、そこに近接する心筋組織の感知される電気活動に対応する出力信号（例えば、電位図（ＥＧＭ））を発生させることができてもよく、又は発生するように構成されてもよい。

円周方向に離間される微小電極２６に加えて、又はその代替として、伸長部材１２は、１つ以上の順方向微小電極２６（図示されない）を含んでもよい。順方向微小電極２６は、アブレーション電極２４内で、かつ／又は伸長部材１２の先端で、ほぼ中心に位置してもよい。

微小電極２６は、プロセッサ１６に動作可能に連結されてもよく、微小電極２６から発生した出力信号は、本明細書で論じられる１つ以上の方法で処理するために、かつ／又は他の方法で処理するために、プロセッサ１６に送信されてもよい。例示的に、発生した出力信号のＥＧＭ読取値の分析は、接触評価の基準、及び／又は伸長部材１２によって標的組織に適用される力のレベルの決定基準を少なくとも部分的に形成し得る。

アブレーション電極２４は、任意の長さであってもよく、そこに位置付けられ、その周囲に円周方向及び／又は長手方向に離間される任意の数の微小電極２６を有してもよい。いくつかの事例では、アブレーション電極２４は、１ｍｍ〜２０ｍｍ、３ｍｍ〜１７ｍｍ、又は６ｍｍ〜１４ｍｍの長さを有してもよい。一例示的な実施例では、組織アブレーション電極２４は、約８ｍｍの軸長さを有してもよい。

アブレーション電極２４内の複数の微小電極２６は、アブレーション電極２４の円周の周囲に任意の間隔で離間されてもよい。一例では、アブレーション電極２４は、アブレーション電極２４の円周の周囲に均等に又は別様に離間され、その長手方向軸に沿って同じ若しくは異なる長手方向位置で、少なくとも３つの微小電極２６を含んでもよい。微小電極２６が均等に円周方向に離間され、同じ長手方向位置にある事例、並びに他の事例では、３つの微小電極２６は、第１の双極微小電極対２８ａ、第２の双極微小電極対２８ｂ、及び第３の双極微小電極対２８ｃを形成するように構成されてもよい。

アブレーション電極２４は、開放内部領域（図示されない）を少なくとも部分的に画定する外壁を有してもよい。外壁は、各開口部内に微小電極２６を収納するために１つ以上の開口部を含んでもよい。更に、又はあるいは、アブレーション電極２４は、１つ以上の洗浄ポート（図示されない）を含んでもよい。例示的に、洗浄ポートは、存在する場合、マッピング及び／若しくはアブレートされるか、又はされている組織に流体を供給するために使用され得る外部洗浄流体リザーバ及びポンプと流体連通し得る。

伸長部材１２として使用され得る例示的なカテーテルには、他のアブレーションカテーテル及び／又はマッピングカテーテルの中でも特に、ＨＩＧＨ ＲＥＳＯＬＵＴＩＯＮ ＥＬＥＣＴＲＯＰＨＹＳＩＯＬＯＧＹ ＣＡＴＨＥＴＥＲと題される、２００８年３月２６日出願の米国特許出願第１２／０５６，２１０号、並びにＭＡＰ ＡＮＤ ＡＢＬＡＴＥ ＯＰＥＮ ＩＲＲＩＧＡＴＥＤ ＨＹＢＲＩＤ ＣＡＴＨＥＴＥＲと題される、２０１０年６月２３日出願の米国特許第８，４１４，５７９号に記載されるものが挙げられ、これらは両方ともに、あらゆる目的のために参照によりそれらの全体が本明細書に組み込まれる。あるいは、又は加えて、伸長部材１２として使用され得るカテーテルには、他のアブレーションカテーテル及び／又はマッピングカテーテルの中でも特に、ＭＵＬＴＩＰＬＥ ＥＬＥＣＴＲＯＤＥ ＳＵＰＰＯＲＴ ＳＴＲＵＣＴＵＲＥＳと題される、１９９３年３月１６日出願の米国第３３，６４０号の一部継続出願として、１９９４年３月４日出願の米国第２０６，４１４号の継続である、１９９６年１月１６日出願の米国特許第５，６４７，８７０号、ＥＸＰＡＮＤＡＢＬＥ ＤＩＡＧＮＯＳＴＩＣ ＯＲ ＴＨＥＲＡＰＥＵＴＩＣ ＡＰＰＡＲＡＴＵＳ ＡＮＤ ＳＹＳＴＥＭ ＦＯＲ ＩＮＴＲＯＤＵＣＩＮＧ ＴＨＥ ＳＡＭＥ ＩＮＴＯ ＴＨＥ ＢＯＤＹと題される、２００１年４月６日出願の米国特許第６，６４７，２８１号、並びにＥＬＥＣＴＲＩＣＡＬ ＭＡＰＰＩＮＧ ＡＮＤ ＣＲＹＯ ＡＢＬＡＴＩＮＧ ＷＩＴＨ Ａ ＢＡＬＬＯＯＮ ＣＡＴＨＥＴＥＲに題される、２００８年５月２７日出願の米国特許第８，１２８，６１７号に記載されるものが挙げられ、これらは全て、あらゆる目的のために参照によりそれらの全体が本明細書に組み込まれる。

いくつかの例示的事例では、プロセッサ１６は、伸長部材１２を介して心臓内の電気信号（例えば、電位図（ＥＧＭ））を検出、処理、及び／若しくは記録することができ得るか、又は検出、処理、及び／若しくは記録するように構成されてもよい。検出、処理、及び／又は記録された電気信号に基づいて、医師は、心臓内の特定の標的組織部位を特定することができ、いかなる不整脈を引き起こす基質もＲＦアブレーションシステム１０からのアブレーション処置によって電気的に隔離されていることを確実にすることができる。

プロセッサ１６は、微小電極２６及び／若しくは環状電極２２からの出力信号を処理することができてもよく、又は処理するように構成されてもよい。微小電極２６及び／又は環状電極２２からの処理された出力信号に基づいて、プロセッサ１６は、医師又は他のユーザによる使用のためにディスプレイ（図示されない）に出力を生成してもよい。

いくつかの事例では、ディスプレイは、ＲＦアブレーションシステム１０の使用に関連する種々の静的及び／又は動的情報を含み得る。一例では、ディスプレイは、心臓内の不整脈基質の存在及び／若しくは位置を決定し、かつ／又は心臓内の伸長部材１２の位置を決定するために、プロセッサ１６及び／若しくはユーザによって分析され得る心電図（ＥＣＧ）情報を有する表示器を含んでもよい。例示的に、プロセッサ１６の出力は、ディスプレイを介して、伸長部材１２並びに／又は相互作用される及び／若しくはマッピングされる心筋組織の特性に関する表示を臨床医に提供するために使用され得る。

ＲＦアブレーションシステム１０のＲＦ発生器１４は、プロセッサ１６によって特定された標的組織部位をアブレートするための制御方法において、アブレーションエネルギーを伸長部材１２に送達することができてもよく、かつ／又は送達するように構成されてもよい。心臓内の組織のアブレーションは、当該技術分野において周知であり、故に簡潔にするために、ＲＦ発生器１４は更に詳細に記載されない。ＲＦ発生器に関する更なる詳細は、ＳＹＳＴＥＭＳ ＦＯＲ ＩＤＥＮＴＩＦＹＩＮＧ ＣＡＴＨＥＴＥＲＳ ＡＮＤ ＭＯＮＩＴＯＲＩＮＧ ＴＨＥＩＲ ＵＳＥと題される、１９９２年１１月１３日出願の米国特許第５，３８３，８７４号に提供され、これはあらゆる目的のために参照によりその全体が本明細書に組み込まれる。プロセッサ１６及びＲＦ発生器１４が別個の構成要素として示されているが、これらの構成要素又は構成要素の特徴部は、単一の装置内に組み込まれてもよい。

ＲＦアブレーション発生器１４から受信されたアブレーションエネルギーの標的組織への適用、及び／若しくは標的組織へのマッピングに加えて、又はその代替として、伸長部材１２を利用して種々の診断機能を実施して、アブレーション及び／又はマッピング処置において医師を支援することができる。一例では、伸長部材１２を使用して、心臓不整脈をアブレートし、同時に、アブレーション中（例えば、ＲＦアブレーション中）に形成される損傷のリアルタイム評価を提供することができる。損傷のリアルタイム評価は、損傷での、若しくは損傷周囲の表面及び／又は組織温度の監視、心電図信号の低減、インピーダンスの急落、損傷部位の直接及び／若しくは表面視覚化、並びに組織部位の撮像（例えば、コンピュータ断層撮影、磁気共鳴撮像、超音波等を使用する）のうちの１つ以上を含み得る。更に、又はあるいは、アブレーション電極２４での、若しくはその周りの、及び／又は伸長部材１２の先端（例えば、遠位端）内の微小電極２６の存在は、医師に、アブレーション電極２４を所望の処置部位に位置させる及び／若しくは位置付けさせる、アブレートされる組織に対する若しくは任意の他の特徴部に対する組織アブレーション電極の位置及び／若しくは配向を決定させる、並びに／又は伸長部材と標的組織との間の接触力のレベルを決定させることを促進することができる。

従来のアブレーションカテーテル１００における電極の位置付けと比較した、伸長部材１２の電極の位置付けが図２に示される。図２は、従来のアブレーションカテーテル１００（例えば、組織アブレーション電極内にいかなる微小電極も有しないアブレーションカテーテル）を左に示し、伸長部材１２を右に示す概略図である。心臓マッピングに関して、従来のアブレーションカテーテル１００は、アブレーション電極１０８からある距離（例えば、最大８ｍｍ又は８ｍｍを上回る距離）を置いて配設される従来の環状電極１０２、１０４、１０６に依存する。環状電極１０２、１０４、１０６のそのような位置付けは、マッピングの中心とアブレーションの中心との間に長い距離をもたらす場合がある。対照的に、伸長部材１２は、マッピングの中心がアブレーションの中心と実質的に同じ位置にあることを可能にするようにアブレーション電極２４の中又はその上に微小電極２６を含んでもよく、これは標的組織の周りのアブレーション電極２４の位置付けのより正確な理解を促進し得る。

ＲＦアブレーションシステム分析
アブレーション電極２４内の微小電極２６の大きさ及び／又は位置は、伸長部材１２の先端（例えば、遠位端）が組織と接触しているとき、及び／又は伸長部材１２の先端と標的組織（例えば、心組織、静脈組織、動脈組織等）との間の接触の範囲を明確にし得る電気生理学的電位図（ＥＧＭ）符号の特定を可能にすることができる。伸長部材１２の先端への微小電極２６の近接は、微小電極２６が、伸長部材１２の先端が心筋中に押し付けられるときに生じ得る一過性局所虚血を検出することを可能にし得る。いくつかの事例では、局所虚血は、組織の圧迫により発生することがあり、これは、局所細胞伝導に、ＥＧＭ読取値又は符号から観察され得るはっきりと異なる単相性活動電位（ＭＡＰ）を形成させ得る。例示的に、これらのＭＡＰは、単独で記録されるとき、又はＥＧＭ読取値若しくは符号の多相複合体の一部として記録されるときのいずれかで、非常に異なる形態を有し得る。

微小電極２６は、共通のＰ−ＱＲＳ−Ｔ波ＥＧＭを発生し得る様相を記録する多相性の双極を利用してもよい。ＱＲＳ複合体をＴ波と接続するＰ−ＱＲＳ−Ｔ波ＥＧＭのＳＴ部は、心筋が収縮するとき、心室収縮の再分極の期間に対応し得る。その後の弛緩は、拡張期再分極相中に生じ得る。例示的に、ＳＴ部の正常な経過は、図３Ａに示されるように、再分極を受ける筋層のある特定の順序及びこの活動のある特定のタイミングを反映し得る。例えば、ＳＴ部は、図３ＡのＰ−ＱＲＳ−Ｔ波に示されるような実質的なレベルパターン等の再分極を受けるときのパターンに従うことが予期され得る。

心筋が損傷され、かつ／又は病理学的なプロセス（例えば、傷害若しくは虚血）を受けるとき、その収縮特性及び／又は電気的特性が変化し得る。いくつかの事例では、変化した収縮特性及び／又は変化した電気的特性は、早期の再分極又は収縮期の早期終了を引き起こし得る。図３Ｂは、典型的なＳＴ部（図３Ａに示される）と比較して上昇したＳＴ部を有するＰ−ＱＲＳ−Ｔ波を示し、上昇したＳＴ部は、伸長部材１２の先端と心組織との間の接触、及び／又は伸長部材１２の先端から心組織への力によって生じ得る。

論じられるように、伸長部材１２の微小電極２６は、心臓内の電極接触及び／又は先端電極配向に関するフィードバックを提供し得る。図４及び５は、伸長部材１２の微小電極２６及び環状電極２２によって感知される心臓の電気信号の振幅を有するＥＧＭ信号の概略図である。図４及び５に示されるデータは、カテーテル先端の電極接触及び／又は配向を決定するための方法を実施するために使用され得る。

例示的に、図４及び５では、円周方向に離間された（例えば、均等に円周方向に離間されるか、又は別様に離間された）微小電極が、隣接する微小電極２６のそれぞれの双極微小電極対２８（例えば、第１の微小電極２６ａ及び第２の微小電極２６ｂの第１の双極微小電極対２８ａ、第２の微小電極２６ｂ及び第３の微小電極２６ｃの第２の双極微小電極対２８ｂ、並びに第３の微小電極２６ｃ及び第１の微小電極２６ａの第３の双極微小電極対２８ｃ）を形成し得るように、組織アブレーション電極２４の円周の周囲に分配される３つの微小電極２６（例えば、第１の微小電極２６ａ、第２の微小電極２６ｂ、及び第３の微小電極２６ｃ）を有する伸長部材１２。例示的に、１つ以上の（例えば、各）双極微小電極対２８のＥＧＭ信号は、損傷形成を予測するための接触評価及び／又はアルゴリズムの基準を形成し得る。

伸長部材１２の先端が標的組織と接触しており、あるレベルの力（例えば、少なくとも小さいレベルの力又は少なくとも多少のレベルの力）が伸長部材１２から心組織に与えられる場合、Ｐ−ＱＲＳ−Ｔ波のＳＴ部は上昇することがあり、微小電極２６から得られたＥＧＭに現れ得る（例えば、ＳＴ部の上昇は、伸長部材１２によって心組織に与えられた力のレベルに比例し得る）。いくつかの事例では、伸長部材１２の遠位端の周囲に円周方向に配置された微小電極２６の双極微小電極対２８からのアブレーション電極２４の配向は、少なくとも一部には見掛けの上昇したＳＴ部に基づいて決定され得る。

心組織と最良に接触している伸長部材１２の遠位端の周囲に円周方向に離間された微小電極２６の特定の双極微小電極対２８又は特定の微小電極２６は、双極微小電極対２８のＥＧＭから決定され得る。例えば、図４に示されるように、Ｐ−ＱＲＳ−Ｔ波は、各双極微小電極対２８（例えば、第１の微小電極２６ａと第２の微小電極２６ｂとの間の第１の対２８ａ、第２の微小電極２６ｂと第３の微小電極２６ｃとの間の第２の対２８ｂ、及び第３の微小電極２６ｃと第１の微小電極２６ａとの間の第３の対２８ｃ）に関して表示され得る。一例では、上昇したＳＴ部を有する隣接するＥＧＭの共通微小電極２６は、プロセッサ１６によって決定されるか、又は別様で決定されるように、心組織と最良に接触している微小電極２６であり得る。例示的に、図４に示されるように、第２の双極微小電極対２８ｂ及び第３の双極微小電極対２８ｃは両方が上昇したＳＴ部を有し、そこから、共通微小電極２６、第３の微小電極２６ｃが、心組織との伸長部材の微小電極２６の最良又は最大の接触を有し得ることが決定され得る。

あるいは、又は加えて、双極微小電極対２８が伸長部材１２の遠位端の周囲に円周方向に位置付けられる場合、極性の見掛けの変化は、心組織と最良に接触している微小電極２６を含む双極微小電極対２８のＳＴ部において検出され得る。極性の変化は、心組織と最大に接触している微小電極２６を通り抜けるか、又は通り過ぎる（例えば、行き来する）波面によるものであり得る。例えば、図４に示されるように、第２の双極微小電極対２８ｂの極性は正であり、第３の双極微小電極対２８ｃの極性は負である。双極微小電極対２８のＥＧＭのこのパターンは、円周方向に離間される微小電極２６の心組織と最良の接触を有する共通微小電極２６（例えば、図４の第３の微小電極２６ｃ）を示し得、及び／又は双極微小電極対２８の共通微小電極２６からの心組織における急速な損傷形成を示し得る。いくつかの事例では、共通微小電極２６は、微小電極２６と称されてもよく、双極微小電極対２８の中心から外れている。

プロセッサ１６又はその他を有する伸長部材１２のアブレーション電極２４の配向を決定する一例示的な実施例では、標的組織と最大に接触している双極微小電極対２８は、最高振幅（例えば、最高電圧振幅）及び最高周波数スペクトルを有するＰ−ＱＲＳ−Ｔ波から決定され得る。次いで、標的組織と最良に接触している特定の微小電極２６は、最高のＳＴ部上昇を含むＥＧＭを有する双極微小電極対２８の共通微小電極２６を決定することによって決定され得る。ＥＧＭ読取値のＰ−ＱＲＳ−Ｔ波の周波数及び／又は振幅分析の更なる考察は、ＥＬＥＣＴＲＯＰＨＹＳＩＯＬＯＧＹ ＳＹＳＴＥＭと題され、代理人整理番号１００１．３５０６１００を有する２０１４年３月１８日出願の米国特許仮特許出願第６１／９５５，０８７号、並びにＥＬＥＣＴＲＯＰＨＹＳＩＯＬＯＧＹ ＳＹＳＴＥＭと題され、代理人整理番号１００１．３５０６１０１を有する２０１５年３月１８日出願の米国特許出願第＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿＿号において見られ、これらは、あらゆる目的のために参照によりそれらの全体が本明細書に組み込まれる。

場合によっては、及びＳＴ部の上昇を使用して標的組織に対する伸長部材１２の配向を決定することに加えて、又はその代替として、ＳＴ部の上昇は、ＳＴ部上昇は伸長部材１２の遠位端と標的組織との間の接触／力の度合い／レベルに比例し得るため、伸長部材１２の遠位部分１３と標的組織との間の接触力のレベル又は量を決定するために分析され得る。例えば、伸長部材１２の遠位端と心組織との間の軽い接触は、ＳＴ部の上昇をほとんど若しくは全く生成しないことがあるが、伸長部材１２の遠位端と心組織との間の著しい接触（例えば、軽い接触よりも著しい接触）は、著しいＳＴ部上昇（例えば、伸長部材１２の遠位端と心組織との間に軽い接触が存在するときに明らかなものよりも、多くのＳＴ部の上昇）を生成することがある。双極微小電極対２８のうちの１つ以上からの一連のＰ−ＱＲＳ−Ｔ波のＳＴ部の上昇は、経時的に標的組織上に伸長部材１２の遠位部分１３によって適用される力のレベルの変化を決定するために分析され得る。更に、又はあるいは、伸長部材１２の遠位部分１３と組織との間の接触力のレベル又は量の決定は、それぞれ正極性及び負極性を有する第１及び第２の双極微小電極対２８の共通微小電極２６を含む双極微小電極対２８のＥＧＭ読取値のＳＴ部のうちの１つ以上の上昇を分析することを含み得る。ＳＴ部上昇は、中心線からのＳＴ部の上昇の絶対値を決定することによって測定されることに留意されたい。

伸長部材１２と標的組織との間の力のレベルを決定するいくつかの事例では、ＥＧＭ信号のＳＴ部の上昇は、１つ以上の閾値レベルと比較され得る。例えば、ＳＴ部の上昇が第１の閾値レベルを超える場合、伸長部材１２と標的組織との間の力のレベルは、第１の力のレベル（例えば、縮尺される力のレベル、接触を示す力のレベル、接触がないことを示す力のレベル等）であり得る。例では、ＳＴ部の上昇が第２の閾値レベル以下である場合、伸長部材１２と標的組織との間の力のレベルは、第２の力のレベル（例えば、縮尺される力のレベル、接触を示す力のレベル、接触がないことを示す力のレベル等）であり得る。場合によっては、第２の力のレベルは、第１の力のレベル未満であってもよい。例示的に、この例での第１の閾値レベル及び第２の閾値レベルは、同じ又は異なる閾値レベルであり得る。第１の閾値レベル及び第２の閾値レベルが異なる閾値レベルである場合、閾値レベル間に収まるＳＴ部の上昇は、伸長部材１２と標的組織との間の第３の力のレベルを示してもよく、第３の力のレベルは、第１の力のレベルと第２の力のレベルとの間である。このような比較分析は、所望に応じて、２つを超える閾値レベルを使用して推定され得る。

図５は、双極微小電極対２８のＰ−ＱＲＳ−ＴのＥＧＭを含む更なる一連のＰ−ＱＲＳ−Ｔ波のＥＧＭの概略画像である。図５で見ることができるように、第１の双極微小電極対２８ａ及び第３の双極微小電極対２８ｃは、上昇したＳＴ部及び反極性を有する。結果として、双極微小電極対２８の第１の微小電極２６ａ（例えば、上昇したＳＴ部及び／又は隣接する反極性を持つ共通微小電極）が、心組織と最良又は最大に接触している伸長部材１２の微小電極２６であることが決定され得る（例えば、プロセッサによって）。

図６は、ＲＦアブレーションシステム１０を用いて、伸長部材１２のアブレーション電極２４の特性（例えば、組織接触、配向、又は組織接触の度合い／力のレベル）を評価するための方法２００を例示するフローチャートである。いくつかの事例では、方法２００の１つ以上の分析特徴は、リアルタイムで（例えば、伸長部材１２を位置付けている間に、アブレート手技を実施している間に、マッピング手技を実施している間に、かつ／又は任意の他の活動を実施している間に、又は活動がない間に）プロセッサ１６を用いて実施されてもよく、ＲＦアブレーションシステム１０は、情報（例えば、データ等）及びコンピュータ可読命令を記憶することができ、かつ／若しくはそれを記憶するように構成されたメモリ、並びに／又は他のデータの処理と共に記憶された情報及び記憶されたコンピュータ可読命令を処理することができ、かつ／若しくは処理するように構成されたプロセッサを含んでもよく、かつ／又は利用してもよい。

例示的に、方法２００は、伸長部材１２の遠位部分１３の血管内、標的組織（例えば、マッピング及び／又はアブレートされる心筋組織）に近接する位置への位置付け（例えば、前進等）２１０を含み得る。伸長部材１２が標的組織に達する前、達する時、又は達した後、アブレーションシステム１０は、双極微小電極対２８及び／又はアブレーション電極２４と環状電極２２との間の双極対からのＥＧＭ出力信号若しくは読取値を得る（例えば、取得する等）ことができる２１２。いったんＥＧＭ信号が得られると、双極微小電極対２８のＥＧＭ信号の各々からのＰ−ＱＲＳ−ＴのＥＧＭのＳＴ部の上昇は、監視され得る２１４（例えば、互いに対して比較される、関連する１つ以上の閾値と比較される、経時的に比較される、及び／又は任意の他の方法で監視される）。双極微小電極対２８の出力信号のＰ−ＱＲＳ−ＴのＥＧＭのＳＴ部の上昇の比較に基づいて、表示器が起動されてもよく、場合によっては、ディスプレイ上に表示されてもよく２６、表示器は、アブレーション電極２４に隣接する組織の状態、アブレーション電極２４に隣接する組織のタイプ、伸長部材１２の配向、伸長部材１２と組織との間の接触、伸長部材１２から組織に適用される接触、並びに／又は伸長部材１２の使用及び／若しくは組織に関連する他の情報を示すことができる。

一例示的な実施例では、表示される状態は、伸長部材１２の標的組織（例えば心筋組織）への近接の表示（例えば、視覚的、音声の、又は物理的表示のうちの１つ以上）を含み得る。表示例には、双極微小電極対２８指定に隣接する光表示、特定の双極微小電極対２８と関連付けられる色光表示、テキスト表示、振動表示、時間可変表示、可聴表示、それらの任意の組み合わせ、及び／又は任意の他の表示が挙げられるが、これらに限定されない。

近接の表示には、双極微小電極対２８からのＥＧＭ信号のＳＴ部のうちのいずれか１つの上昇と、双極微小電極対２８のうちの別のものからのＥＧＭ信号のＳＴ部のうちのいずれかの他の上昇との間の差が所定の閾値を超える場合、アブレーション電極２４が標的組織と接触していることの表示を含み得る。あるいは、又は加えて、近接の表示には、双極微小電極対２８からのＥＧＭ信号のＳＴ部のうちのいずれか１つの上昇と、双極微小電極対２８のうちの別のものからのＥＧＭ信号のＳＴ部のうちのいずれかの他の上昇との間の差が所定の閾値を超えない場合、アブレーション電極２４が標的組織と接触していないことの表示を含み得る。

例示的に、アブレーション電極２４が標的組織と接触していることを決定するための所定の閾値と、アブレーション電極２４が標的組織と接触していないことを決定するための所定の閾値とは、同じ又は異なる閾値であってもよい。アブレーション電極２４が標的組織と接触しているか、又は標的組織と接触していないことを決定するための所定の閾値が異なる場合、双極微小電極対２８のＥＧＭ信号のうちのいずれか１つと、双極微小電極対２８のＥＧＭ信号のうちのいずれかの他のものとのＳＴ部の振幅差のとき、アブレーション電極２４と標的組織との間の接触に関する決定が行われ得ないことを示す表示が表示され得る。

いくつかの例示的事例では、微小電極２６（及び結果として双極微小電極対２８）は、各々、アブレーション電極２４及び／又は他の微小電極２６に関して既知の位置付けを有し得る。微小電極２６のこれらの既知の位置付けから、方法２００は、上述されるように、双極微小電極対２８のＥＧＭ出力信号のＳＴ部上昇の互いに対する、一組の閾値に対する、ＳＴ部上昇が入力され得る方程式／アルゴリズムに対する、及び／又は他のパラメータに対する比較に少なくとも部分的に基づいて、標的組織に対するアブレーション電極２４の配向の表示を表示することを含み得る。いくつかの事例では、表示される表示は、微小電極２６を通して感知される方法における標的に対して配向される伸長部材１２の仮想イメージ、標的組織と最良若しくは最大に接触している双極微小電極対２８の表示、標的組織と最良若しくは最大に接触している微小電極２６の表示、並びに／又は伸長部材１２及び／若しくは標的組織の間の相互作用に関連する特性の任意の他の表示であってもよい。

上述のように、伸長部材が組織に与える力の量は、ＥＧＭのＳＴ部の上昇から決定され得る。ＳＴ部上昇と伸長部材１２によって組織に適用される力との間の関係から、方法２００は、双極微小電極対２８のＥＧＭ出力信号のＳＴ部上昇のそれぞれの双極微小電極対２８からの一連のＰ−ＱＲＳ−Ｔ波に対する、他の双極微小電極対２８のＰ−ＱＲＳ−Ｔ波に対する、１つ以上の閾値に対する、ＳＴ部上昇が入力され得る方程式／アルゴリズムに対する、及び／又は他のパラメータに対する比較に基づいて、伸長部材１２が組織にリアルタイムで（例えば、アブレーション電極２４又は他の電極を組織の周りに位置付けている間に）適用している力の量の表示を表示することを含み得る。いくつかの事例では、表示される表示は、ディスプレイ上に表示される仮想の伸長部材の遠位端の色の変化、数値、一組の光、それらの任意の組み合わせ、及び／又は任意の他の表示であり得る。

当業者であれば、本開示の態様が、本明細書に記載及び企図される特定の実施形態以外の様々な形態で明示され得ることを認識する。したがって、形態及び詳細における新たな試みが、添付の特許請求の範囲に記載されるように、本開示の範囲及び趣旨から逸脱することなく作製され得る。

更なる実施例
第１の実施例では、システムは、遠位部分を有する伸長部材であって、該伸長部材の該遠位部分が１つ以上の電極を含む、伸長部材と、該電極のうちの１つ以上に作動的に連結される無線周波数発生器であって、該連結された１つ以上の電極に伝達されるアブレーションエネルギーを発生するための無線周波数発生器と、該電極のうちの１つ以上に動作可能に連結されるプロセッサであって、該電極のうちの１つ以上から出力信号を得ることであって、該出力信号のうちの１つ以上が電位図（ＥＧＭ）読取値を含む、出力信号を得ることと、該ＥＧＭ読取値のうちの１つ以上のＳＴ部の上昇を監視することと、を行うことができる、プロセッサと、を含んでもよい。

第２の実施例では、該プロセッサが、該伸長部材と標的組織との間の力のレベルを決定することが可能であり、力のレベルが、該監視されるＳＴ部分の上昇のうちの１つ以上に比例する、実施例１に記載のシステム。

第３の実施例では、該プロセッサと通信している表示器であって、該監視されたＳＴ部の上昇のうちの１つ以上に関連する特性を示すことができる表示器を更に含む、実施例１又は実施例２に記載のシステム。

第４の実施例では、該伸長部材の該遠位部分の該１つ以上の電極が、アブレーションエネルギーを該標的組織に適用するように構成された組織アブレーション電極と、該組織アブレーション電極の周りに分配され、それから電気的に隔離された複数の微小電極であって、各双極微小電極対が出力信号を発生させるように構成される、複数の双極微小電極対を規定する、該複数の微小電極と、を含む、実施例１〜３のいずれか一項に記載のシステム。

第５の実施例では、該複数の微小電極が、第１の双極微小電極対、第２の双極微小電極対、及び第３の双極微小電極対を規定する３つの微小電極を含む、実施例４に記載のシステム。

第６の実施例では、該複数の微小電極のうちの２つ以上が、該組織アブレーション電極に沿って同じ長手方向位置に配設される、実施例４又は実施例５に記載のシステム。

第７の実施例では、該プロセッサが、どの双極微小電極対が標的組織と最良に接触しているかを決定することができる、実施例４〜６のいずれか一項に記載のシステム。

第８の実施例では、プロセッサが、１つ以上のＥＧＭ読取値の電圧関連測定値及び１つ以上のＥＧＭ読取値の周波数関連測定値のうちの１つ以上から、どの双極微小電極対が該標的組織と最良に接触しているかを決定することができる、実施例７に記載のシステム。

第９の実施例では、該プロセッサが、どの電極が標的組織と最大に接触しているかを決定することができる、実施例１〜８のいずれか一項に記載のシステム。

第１０の実施例では、該１つ以上の電極が、複数の双極微小電極対を形成する微小電極を含み、どの電極が標的組織と最大に接触しているかを決定することが、正の上昇したＳＴ部を有する第１の双極微小電極対と、負の上昇したＳＴ部を有する第２の双極微小電極対との共通微小電極を特定することを含む、実施例９に記載のシステム。

第１１の実施例では、該伸長部材と標的組織との間の決定された力のレベルが、該共通微小電極を含む該双極微小電極対の該ＥＧＭ読取値の該ＳＴ部のうちの１つ以上の該上昇に比例する、実施例１０に記載のシステム。

第１２の実施例では、該伸長部材が、ユーザによる操作のための制御要素を有するハンドルを更に備え、該伸長部材の該遠位部分が、制御要素の操作時に偏向可能である、実施例１〜１１のいずれか一項に記載のシステム。

第１３の実施例では、伸長部材の遠位部分を標的組織に近接する位置に位置付けることであって、該伸長部材の該遠位部分が１つ以上の電極を含む、伸長部材の遠位部分を位置付けることと、該電極のうちの１つ以上から出力信号を得ることであって、該出力信号のうちの１つ以上が電位図（ＥＧＭ）読取値を含む、出力信号を得ることと、該ＥＧＭ読取値のうちの１つ以上のＳＴ部の上昇を監視することと、を含む、方法。

第１４の実施例では、どの電極が該標的組織と最大に接触しているかを決定することを更に含む、実施例１３に記載の方法。

第１５の実施例では、該１つ以上の電極が、複数の双極微小電極対を形成する微小電極を含み、どの電極が該標的組織と最大に接触しているかを決定することが、正の上昇したＳＴ部を有する第１の双極微小電極対と、負の上昇したＳＴ部を有する第２の双極微小電極対との共通微小電極によって決定される、実施例１３又は１４のいずれか一項に記載の方法。

第１６の実施例では、該伸長部材と該標的組織との間の力のレベルを決定することを更に含み、該力のレベルが、ＳＴ部の該上昇のうちの１つ以上に比例する、実施例１３〜１５のいずれか一項に記載の方法。

第１７の実施例では、１つ以上の閾値レベルのＳＴ部の該上昇を比較することを更に含む、実施例１６に記載の方法。

第１８の実施例では、該伸長部材と該標的組織との間の力のレベルを決定することが、ＳＴ部の該上昇のうちの１つ以上が第１の閾値レベルを超える場合に、該力のレベルが第１の力のレベルであることを決定することと、ＳＴ部の該上昇のうちの１つ以上が第２の閾値レベル以下である場合に、該力のレベルが第２の力のレベルであることを決定することと、を含む、実施例１６及び１７のいずれか一項に記載の方法。

第１９の実施例では、遠位部分を有する伸長部材であって、アブレーションエネルギーを該標的組織に適用するように構成された組織アブレーション電極と、該組織アブレーション電極の周りに分配され、それから電気的に隔離された複数の微小電極であって、各双極微小電極対が出力信号を発生させるように構成される、複数の双極微小電極対を規定する、複数の微小電極と、を含む、遠位部分を有する伸長部材と、該組織アブレーション電極に伝達されるアブレーションエネルギーを発生させるために、該組織アブレーション電極に動作可能に連結される高周波発生器と、該電極のうちの１つ以上に動作可能に連結されるマッピングプロセッサであって、該電極のうちの１つ以上から出力信号を得ることができ、該出力信号のうちの１つ以上が該双極微小電極対のうちの１つからの電位図（ＥＧＭ）読取値を含む、出力信号を得ることと、該伸長部材の該遠位部分と該標的組織との間の接触力のレベルを決定するために、双極微小電極対からの該ＥＧＭ読取値のＳＴ部の上昇を、該他の双極微小電極対の該ＥＧＭ読取値のＳＴ部の上昇と比較することと、を行うことができる、マッピングプロセッサと、該伸長部材の該遠位部分と該標的組織との間の該接触力のレベルを示すための、該マッピングプロセッサと通信している表示器と、を含む、システム。

第２０の実施例では、該マッピングプロセッサが、該双極微小電極対の該ＥＧＭ読取値のうちのいずれか１つのＳＴ部の該上昇と、該双極微小電極対の該ＥＧＭ読取値のうちのいずれかの他のＳＴ部の該上昇との間の差が第１の閾値を超える場合に、第１の接触力のレベルを決定することと、該双極微小電極対の該ＥＧＭ読取値のうちのいずれか１つのＳＴ部の該上昇と、該双極微小電極対の該ＥＧＭ読取値のうちのいずれかの他のＳＴ部の上昇との間の差が第２の閾値未満である場合に、第２の接触力のレベルを決定することと、を行うことができる、実施例１９に記載のシステム。

Claims (15)

1. 遠位部分を有する伸長部材であって、前記伸長部材の前記遠位部分が１つ以上の電極を備える、伸長部材と、
   前記電極のうちの１つ以上に動作可能に連結される高周波発生器であって、前記連結された１つ以上の電極に伝達されるアブレーションエネルギーを発生させるための高周波発生器と、
   前記電極のうちの１つ以上に動作可能に連結されるプロセッサであって、
   前記電極のうちの１つ以上から出力信号を得ることであって、前記出力信号のうちの１つ以上が電位図（ＥＧＭ）読取値を含む、出力信号を得ることと、
   前記ＥＧＭ読取値のうちの１つ以上のＳＴ部の上昇を監視することと、を行うことができる、プロセッサと、を備える、システム。
2. 前記プロセッサが、前記伸長部材と標的組織との間の力のレベルを決定することができ、前記力のレベルが、前記監視されたＳＴ部の上昇のうちの１つ以上に比例する、請求項１に記載のシステム。
3. 前記伸長部材の前記遠位部分の前記１つ以上の電極が、
   アブレーションエネルギーを前記標的組織に適用するように構成された組織アブレーション電極と、
   前記組織アブレーション電極の周りに分配され、それから電気的に隔離された複数の微小電極であって、各双極微小電極対が出力信号を発生させるように構成される、複数の双極微小電極対を規定する、複数の微小電極と、を備える、請求項１又は請求項２に記載のシステム。
4. 前記複数の微小電極が、第１の双極微小電極対、第２の双極微小電極対、及び第３の双極微小電極対を規定する３つの微小電極を含む、請求項３に記載のシステム。
5. 前記複数の微小電極のうちの２つ以上が、前記組織アブレーション電極に沿って同じ長手方向位置に配設される、請求項３又は請求項４に記載のシステム。
6. 前記プロセッサが、どの双極微小電極対が標的組織と最良に接触しているかを決定することができる、請求項３〜５のいずれか一項に記載のシステム。
7. 前記プロセッサが、１つ以上のＥＧＭ読取値の電圧関連測定値及び１つ以上のＥＧＭ読取値の周波数関連測定値のうちの１つ以上から、どの双極微小電極対が前記標的組織と最良に接触しているかを決定することができる、請求項６に記載のシステム。
8. 前記プロセッサが、どの電極が標的組織と最大に接触しているかを決定することができる、請求項１〜７のいずれか一項に記載のシステム。
9. 前記１つ以上の電極が、複数の双極微小電極対を形成する微小電極を含み、
   どの電極が標的組織と最大に接触しているかを決定することが、正の上昇したＳＴ部を有する第１の双極微小電極対と、負の上昇したＳＴ部を有する第２の双極微小電極対との共通微小電極を特定することを含む、請求項８に記載のシステム。
10. 前記決定された力のレベルが、前記共通微小電極を含む前記双極微小電極対の前記ＥＧＭ読取値の前記ＳＴ部のうちの１つ以上の前記上昇に比例する、請求項９に記載のシステム。
11. 前記伸長部材が、ユーザによる操作のための制御要素を有するハンドルを更に備え、
    前記伸長部材の前記遠位部分が、前記制御要素の操作時に偏向可能である、請求項１〜１０のいずれか一項に記載のシステム。
12. 前記プロセッサと通信している表示器であって、前記監視されたＳＴ部の上昇に関連する測定値を示す、表示器を更に備える、請求項１〜１１に記載のシステム。
13. 前記プロセッサが、
    ＥＧＭ読取値のＳＴ部の上昇を他のＥＧＭ読取値のＳＴ部の上昇と比較することと、
    前記比較されたＳＴ部の上昇に基づいて、前記伸長部材の前記遠位部分と前記標的組織との間の接触力のレベルを決定することと、を行うことができる、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のシステム。
14. 前記プロセッサが、
    前記ＥＧＭ読取値のうちのいずれか１つのＳＴ部の上昇と、他の前記ＥＧＭ読取値のうちのいずれかのＳＴ部の上昇との間の差が第１の閾値を超える場合に、第１の接触力のレベルを決定することと、
    前記ＥＧＭ読取値のうちのいずれか１つのＳＴ部の上昇と、前記ＥＧＭ読取値のうちのいずれかの他のＳＴ部の前記上昇との間の差が第２の閾値以下である場合に、第２の接触力のレベルを決定することと、を行うことができる、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のシステム。
15. 前記第１の接触力のレベルが、前記伸長部材の前記遠位部分と前記標的組織との間の接触を示し、
    前記第２の接触力のレベルが、前記伸長部材の前記遠位部分と前記標的組織との間の接触が実質的にないことを示す、請求項１４に記載のシステム。

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