JP2017220537A - キャリア基板と樹脂層からなるワークの分離方法および分離装置 - Google Patents

キャリア基板と樹脂層からなるワークの分離方法および分離装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2017220537A
JP2017220537A JP2016113162A JP2016113162A JP2017220537A JP 2017220537 A JP2017220537 A JP 2017220537A JP 2016113162 A JP2016113162 A JP 2016113162A JP 2016113162 A JP2016113162 A JP 2016113162A JP 2017220537 A JP2017220537 A JP 2017220537A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
carrier substrate
resin layer
support roller
support
pillow
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016113162A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6670683B2 (ja
Inventor
光生 植村
Mitsuo Uemura
光生 植村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Screen Laminatech Co Ltd
Original Assignee
Screen Laminatech Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Screen Laminatech Co Ltd filed Critical Screen Laminatech Co Ltd
Priority to JP2016113162A priority Critical patent/JP6670683B2/ja
Priority to TW106102782A priority patent/TWI701146B/zh
Priority to KR1020170024791A priority patent/KR20170138338A/ko
Priority to US15/591,201 priority patent/US9987838B2/en
Priority to CN201710345575.0A priority patent/CN107482133B/zh
Publication of JP2017220537A publication Critical patent/JP2017220537A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6670683B2 publication Critical patent/JP6670683B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B43/00Operations specially adapted for layered products and not otherwise provided for, e.g. repairing; Apparatus therefor
    • B32B43/006Delaminating
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/80Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass using temporary substrates
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092Apparatus for mechanical treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K26/00Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
    • B23K26/36Removing material
    • B23K26/40Removing material taking account of the properties of the material involved
    • B23K26/402Removing material taking account of the properties of the material involved involving non-metallic material, e.g. isolators
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C63/00Lining or sheathing, i.e. applying preformed layers or sheathings of plastics; Apparatus therefor
    • B29C63/0004Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
    • B29C63/0013Removing old coatings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/02Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by a sequence of laminating steps, e.g. by adding new layers at consecutive laminating stations
    • B32B37/025Transfer laminating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67132Apparatus for placing on an insulating substrate, e.g. tape
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/6835Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • B23KSOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
    • B23K2103/00Materials to be soldered, welded or cut
    • B23K2103/50Inorganic material, e.g. metals, not provided for in B23K2103/02 – B23K2103/26
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2310/00Treatment by energy or chemical effects
    • B32B2310/08Treatment by energy or chemical effects by wave energy or particle radiation
    • B32B2310/0806Treatment by energy or chemical effects by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation
    • B32B2310/0843Treatment by energy or chemical effects by wave energy or particle radiation using electromagnetic radiation using laser
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B2457/00Electrical equipment
    • B32B2457/20Displays, e.g. liquid crystal displays, plasma displays
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/10Removing layers, or parts of layers, mechanically or chemically
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/18Handling of layers or the laminate
    • B32B38/1858Handling of layers or the laminate using vacuum
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2221/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
    • H01L2221/67Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L2221/683Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L2221/68304Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
    • H01L2221/68381Details of chemical or physical process used for separating the auxiliary support from a device or wafer
    • H01L2221/68386Separation by peeling
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/11Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
    • Y10T156/1126Using direct fluid current against work during delaminating
    • Y10T156/1132Using vacuum directly against work during delaminating
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/11Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
    • Y10T156/1153Temperature change for delamination [e.g., heating during delaminating, etc.]
    • Y10T156/1158Electromagnetic radiation applied to work for delamination [e.g., microwave, uv, ir, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/11Methods of delaminating, per se; i.e., separating at bonding face
    • Y10T156/1168Gripping and pulling work apart during delaminating
    • Y10T156/1174Using roller for delamination [e.g., roller pairs operating at differing speeds or directions, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/19Delaminating means
    • Y10T156/1911Heating or cooling delaminating means [e.g., melting means, freezing means, etc.]
    • Y10T156/1917Electromagnetic radiation delaminating means [e.g., microwave, uv, ir, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/19Delaminating means
    • Y10T156/1928Differential fluid pressure delaminating means
    • Y10T156/1944Vacuum delaminating means [e.g., vacuum chamber, etc.]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/19Delaminating means
    • Y10T156/195Delaminating roller means
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T156/00Adhesive bonding and miscellaneous chemical manufacture
    • Y10T156/19Delaminating means
    • Y10T156/1978Delaminating bending means

Abstract

【課題】最終製品となる樹脂層を破損等させることなく、しかも樹脂層のその後の取り扱いが容易となるように、キャリア基板と樹脂層を分離可能な分離方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る分離方法は、樹脂層の表面を保護膜で覆う保護工程S2と、保護膜で覆われた樹脂層を平坦な吸着面を有する吸着ステージに吸着させる吸着保持工程S8と、キャリア基板の一端から他端に向かって移動可能な支持ローラーにキャリア基板の一端側の裏面を支持させた後に、支持ローラーを他端に向かって移動させながらキャリア基板の一端を下降させていくことにより、キャリア基板を支持ローラーによって支持された部分において屈曲させながら樹脂層から剥がしていく剥離工程S10とを備えている。
【選択図】図2

Description

本発明は、矩形状のキャリア基板および該キャリア基板の表面上に形成された略矩形状の樹脂層からなるワークをキャリア基板と樹脂層とに分離する分離方法および分離装置に関する。
近年、次世代のディスプレイ装置、照明装置等への応用が期待されているフレキシブル有機ELデバイスについて、様々な製造方法が検討されている。その1つに、ガラス等からなるキャリア基板上にポリイミド等の樹脂層を塗布により形成する工程と、樹脂層に発光素子のアレイを形成する工程と、キャリア基板の裏面側から樹脂層にレーザを照射してキャリア基板と樹脂層の結合を解くレーザリフトオフ工程と、結合が解かれた両者を分離する分離工程とを含むものがある(例えば、非特許文献1参照)。なお、レーザリフトオフは、Laser Lift Offの頭文字ととってLLOと呼ばれることもある。
分離工程においてキャリア基板から分離された樹脂層は、フレキシブル有機ELデバイス(最終製品)の主要部となる。一方、キャリア基板は廃棄等される。
"有機ELディスプレイ・有機EL照明・有機EL材料の動向 フレキシブル有機ELの製造工程、レーザ・リフト・オフ(LLO:Laser Lift Off)"、[online]、平成28年4月27日、[平成28年5月30日検索]、インターネット<URL:http://multitask1.seesaa.net/article/437179952.html>
しかしながら、上記従来の製造方法では、分離工程においてキャリア基板から分離された、最終製品となる薄くて壊れやすい樹脂層の取り扱い(例えば、次工程への搬送)が非常に難しかった。また、レーザリフトオフ工程は、樹脂層の周縁部とキャリア基板の結合を十分に解くことができないという問題を抱えている。このため、上記従来の製造方法では、樹脂層とキャリア基板が結合したまま両者を無理に分離しようとした結果、最終製品となる樹脂層が破損等することがあった。
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであって、その課題とするところは、最終製品となる樹脂層を破損等させることなく、しかも樹脂層のその後の取り扱いが容易となるように、キャリア基板と樹脂層を分離することができる分離方法および分離装置を提供することにある。
上記課題を解決するために、本発明に係る分離方法は、一端および該一端に対向する他端を有する矩形状のキャリア基板および該キャリア基板の表面上に形成された略矩形状の樹脂層からなるワークをキャリア基板と樹脂層とに分離する分離方法であって、(1)樹脂層の表面を保護膜で覆う保護工程と、(2)保護膜で覆われた樹脂層を平坦な吸着面を有する吸着ステージに吸着させる吸着保持工程と、(3)キャリア基板の一端から他端に向かって移動可能な支持ローラーにキャリア基板の一端側の裏面を支持させる支持工程と、(4)支持ローラーを他端に向かって移動させながらキャリア基板の一端を下降させていくことにより、キャリア基板を支持ローラーによって支持された部分において屈曲させながら樹脂層から剥がしていく剥離工程とを備えたことを特徴とする。
上記分離方法における樹脂層は、例えば、キャリア基板の表面上に塗布により形成されたポリイミド層であり、発光素子のアレイが形成された略矩形状の素子部と、素子部を取り囲む4つの縁部とを有する。
上記分離方法は、(5)保護工程と吸着保持工程の間に実行される、キャリア基板の裏面側から樹脂層にレーザを照射して樹脂層とキャリア基板との結合を解くレーザリフトオフ工程をさらに備えたことが好ましい。
この場合、上記分離方法は、(6)レーザリフトオフ工程と吸着保持工程の間に実行される、キャリア基板の一端に平行な縁部を除く3つの縁部に切り込みを入れる第1切込工程と、(7)支持工程と剥離工程の間に実行される、キャリア基板の一端に平行な縁部に切り込みを入れる第2切込工程をさらに備えたことがより好ましい。
また、上記課題を解決するために、本発明に係る分離装置は、一端および該一端に対向する他端を有する矩形状のキャリア基板および該キャリア基板の表面上に形成された略矩形状の樹脂層からなるワークをキャリア基板と樹脂層とに分離する分離装置であって、(1)下方を向いた平坦な吸着面を有し、樹脂層上に予め設けられた保護膜を介して該樹脂層側からワークを吸着保持する吸着ステージと、(2)吸着保持されたワークを構成するキャリア基板の一端から他端に向かって移動可能な、キャリア基板の裏面を下方から支持する支持ローラーと、(3)キャリア基板の一端の上下への移動を規制する、昇降可能な一端側支持部と、(4)キャリア基板の他端の上下への移動を規制する、昇降可能な他端側支持部と、(5)支持ローラーの移動、並びに一端側支持部および他端側支持部の昇降を制御する制御部とを備え、制御部は、支持ローラーを他端に向かって移動させながら、他端側支持部を昇降させずに一端側支持部を下降させてキャリア基板の一端を下降させていくことにより、キャリア基板を支持ローラーによって支持された部分において屈曲させながら樹脂層から剥がしていくことを特徴とする。
上記分離装置における樹脂層は、例えば、キャリア基板の表面上に塗布により形成されたポリイミド層であり、発光素子のアレイが形成された略矩形状の素子部と、素子部を取り囲む4つの縁部とを有する。
上記分離装置における樹脂層は、キャリア基板の一端に平行な縁部を除く3つの縁部に、予め切り込みが入れられていることが好ましい。
この場合、上記分離装置は、(6)キャリア基板の一端に平行な縁部に切れ込みを入れるカッターユニットをさらに備えたことがより好ましい。
本発明によれば、最終製品となる樹脂層を破損等させることなく、しかも樹脂層のその後の取り扱いが容易となるように、キャリア基板と樹脂層を分離することができる分離方法および分離装置を提供することができる。
キャリア基板と樹脂等とで構成されるワークの平面図(A)、Y方向から見た側面図(B)およびX方向から見た側面図(C)である。 本発明の実施例に係る分離方法のフロー図である。 実施例に係る分離方法に含まれる保護工程S2を経たワークの平面図(A)、Y方向側面図(B)およびX方向側面図(C)である。 実施例に係る分離方法に含まれる主に第1切込工程S6の手順を示す図である。 実施例に係る分離方法に含まれる吸着保持工程S8、第2切込工程S9および剥離工程S10を担う分離装置の模式的なY方向側面図である。 図5に示す分離装置の一部の模式的なX方向側面図である。 図5に示す分離装置の制御ブロック図である。 実施例に係る分離方法に含まれる吸着保持工程S8の手順を示す図である。 実施例に係る分離方法に含まれる第2切込工程S9の手順を示す図である。 実施例に係る分離方法に含まれる第2切込工程S9を経たワークの平面図である。 実施例に係る分離方法に含まれる剥離工程S10の手順を示す図である。 実施例に係る分離方法に含まれる剥離工程S10を経たワークの平面図である。 本発明の第1変形例に係る分離方法のフロー図である。 第1変形例に係る分離方法に含まれる吸着保持工程S8および剥離工程S10を担う分離装置の模式的なY方向側面図である。 図14に示す分離装置の制御ブロック図である。 本発明の第2変形例に係る分離方法に含まれる吸着保持工程S8、第2切込工程S9および剥離工程S10を担う分離装置の模式的なY方向側面図である。 図16に示す分離装置の制御ブロック図である。 図3に示すワークの変形例を示す平面図(A)、Y方向側面図(B)およびX方向側面図(C)である。
以下、添付図面を参照しながら、本発明の実施例に係る分離方法および分離装置について説明する。
[実施例]
図1に、分離対象としてのワーク1Aを示す。同図に示すように、ワーク1Aは、一端2aおよび該一端2aに対向する他端2bを有する矩形状のキャリア基板2と、その表面上に形成された略矩形状の樹脂層3とからなる。キャリア基板2は、0.5〜1.1mm厚のガラス基板からなる。樹脂層3は、ポリイミド樹脂を塗布することにより形成されたポリイミド層に発光素子(有機EL素子)のアレイを形成したものであり、約10μmの厚みを有する。
樹脂層3は、発光素子のアレイが形成された略矩形状の素子部4と、これを取り囲む4つの縁部5a,5b,5c,5d(以下、まとめて「縁部5」ともいう)とを有する。これらのうち、縁部5aは、キャリア基板2の一端2aに近接した該一端2aに平行な縁部である。また、縁部5bは、キャリア基板2の他端2bに近接した該他端2bに平行な縁部である。樹脂層3は、本実施例に係る分離方法および分離装置によりキャリア基板2から分離された後、最終製品であるフレキシブル有機ELデバイスの主要部となる。
なお、図1においては、素子部4がポリイミド層に埋もれているが、素子部4はポリイミド層の表面から突出していてもよい。他の側面図(例えば、図3,図18)についても同様である。
また、本明細書では、ワークを示す参照符号が、その状態の変化に応じて1A→1B(1B’)→1C→1D→1Eの順に変化する。
図2に、実施例に係る分離方法のフロー図を示す。同図に示すように、本実施例に係る分離方法は、順次実行されるステップS1〜ステップS10を含む。これらのうち、ステップS8〜ステップS10の実行は分離装置20A(図5参照)が担う。
ステップS1では、コンベア等によりワーク1Aを所定の第1ポジションまで搬送する。そして、ステップS2(保護工程)では、第1ポジションにおいて位置決めされたワーク1Aの樹脂層3の表面に保護膜を貼り付ける。
図3に、ステップS2を経たワーク1Bを示す。同図に示すように、ワーク1Bは、キャリア基板2と、樹脂層3と、樹脂層3の表面に貼り付けられた保護膜6とからなる。保護膜6は、素子部4を完全に覆っている。すなわち、保護膜6のX方向およびY方向の寸法は、素子部4の寸法よりも大きい。一方、保護膜6のX方向およびY方向の寸法は、樹脂層3の寸法よりも小さい。このため、保護膜6を貼り付けた後においても、縁部5a,5b,5c,5dは部分的に露出している。
本実施例では、30〜100μm厚のポリエチレンフィルム(PE)を保護膜6として使用した。保護膜6は、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリオレフィン(PO)、ポリプロピレン(PP)、ポリスチレン(PS)またはポリ塩化ビニル(PVC)のフィルムであってもよい。
ステップS3では、コンベア等によりワーク1Bを所定の第2ポジションまで搬送する。そして、ステップS4(レーザリフトオフ工程)では、第2ポジションにおいて位置決めされたワーク1Bを構成するキャリア基板2の裏面側から樹脂層3にレーザを照射する。これにより、キャリア基板2と樹脂層3の結合が解かれる。ただし、樹脂層3の縁部5は、通常、他の部分よりもキャリア基板2との結合が強固である。このため、ステップS4を実行した後においても、樹脂層3の縁部5とキャリア基板2は、弱く結合したままとなっていることがある。
ステップS5では、コンベア等によりワーク1Bを所定の第3ポジションまで搬送する。ステップS6(第1切込工程)では、第3ポジションにおいて位置決めされたワーク1Bを構成する樹脂層3の3つの縁部5b,5c,5dに切り込み7を入れる。そして、ステップS7では、切り込み7が入れられたワーク1Cをコンベア等により所定の第4ポジションまで搬送する。
ステップS5,S6,S7について、図4を参照しながらさらに詳細に説明する。
まず、等間隔に並んだ複数の搬送ローラー10からなるコンベアによって搬送されてきたワーク1Bを、隣り合う2つ搬送ローラー10の間を通って上昇させた位置決め板11を用いて第3ポジションに位置決めする(図4(A1),(A2),(B1),(B2)参照)。続いて、縁部5dの縁部5a寄りの端部に第1カッター12を降ろして食い込ませ、縁部5cの縁部5a寄りの端部に第2カッター13を降ろして食い込ませ、縁部5bの縁部5d寄りの端部に第3カッター14を降ろして食い込ませ、これらを走行させることにより縁部5aを除く3つの縁部5b,5c,5dに切り込み7を入れる(図4(C1),(C2)参照)。その後、位置決め板11を下降させ、切り込み7が入れられたワーク1Cを第4ポジションまで搬送する(図4(D1),(D2)参照)。
本実施例では、カッター12,13,14として丸刃を使用したが、各カッター12,13,14の構成はこれに限定されない。例えば、所定の幅を有する溝状の切り込み7を入れるために、2枚の丸刃を隣り合うように配置したものを使用してもよい。
続いて、ステップS8〜ステップS10の実行を担う分離装置20Aについて、図5〜図7を参照しながら説明する。
図5に示すように、分離装置20Aは、吸着ステージ21を備える。吸着ステージ21は、下方を向いた平坦な吸着面21aと、該吸着面21aに設けられた複数の吸着ノズル21bとを有する。各吸着ノズル21bはポンプ81に接続されており、制御部80Aの制御下でポンプ81が作動することにより、ワーク1Cの樹脂層3が保護膜6を介して吸着面21aに吸着保持される(図7参照)。
図5,図6に示すように、分離装置20Aは、基台22と、基台22の下段部に設けられた2本の外側ガイド23と、基台22の上段部に設けられた2本の内側ガイド24とを備える。外側ガイド23および内側ガイド24は、いずれもX方向に延びている。また、基台22の上段部(2本の内側ガイド24)は、2本の外側ガイド23の間に配置されている。
図5に示すように、分離装置20Aは、一端側支持ユニット25と、他端側支持ユニット26と、第1支持ローラーユニット27と、第2支持ローラーユニット28と、第4カッターユニット29とをさらに備える。
一端側支持ユニット25は、本発明の「一端側支持部」に相当する第1ピロー30と、第1ピロー第1支持部31と、第1ピロー第2支持部32と、ガイド33と、第1ピロー走行手段34とを含む。第1ピロー30は、V字状に加工された端面によってキャリア基板2の一端2aを支持し、該一端2aの上下への移動を規制する。第1ピロー30は、第1ピロー第1支持部31に固定されている。第1ピロー第1支持部31は、第1ピロー第2支持部32の一側面に設けられたガイド33にスライド可能に取り付けられている。また、第1ピロー第2支持部32は、外側ガイド23に沿って走行する第1ピロー走行手段34に固定されている。
制御部80Aの制御下で第1ピロー第1支持部31が第1ピロー第2支持部32に対して上下にスライドすると、これにともなって、キャリア基板2の一端2aを支持したまま第1ピロー30も上下に移動する(昇降する)。つまり、第1ピロー第1支持部31、第1ピロー第2支持部32およびガイド33は、第1ピロー30を昇降させる「第1ピロー昇降手段」であるといえる。
また、制御部80Aの制御下で第1ピロー走行手段34が外側ガイド23に沿って走行すると、第1ピロー30のV字状端面および第2ピロー40のV字状端面の間の距離が変化し、ワーク1Cが把持または解放される。
他端側支持ユニット26は、本発明の「他端側支持部」に相当する第2ピロー40と、第2ピロー第1支持部41と、第2ピロー第2支持部42と、ガイド43と、第2ピロー走行手段44とを含む。第2ピロー40は、V字状に加工された端面によってキャリア基板2の他端2bを支持し、該他端2bの上下への移動を規制する。第2ピロー40は、第2ピロー第1支持部41に固定されている。第2ピロー第1支持部41は、第2ピロー第2支持部42の一側面に設けられたガイド43にスライド可能に取り付けられている。また、第2ピロー第2支持部42は、外側ガイド23に沿って走行する第2ピロー走行手段44に固定されている。
制御部80Aの制御下で第2ピロー第1支持部41が第2ピロー第2支持部42に対して上下にスライドすると、これにともなって、キャリア基板2の他端2bを支持したまま第2ピロー40も上下に移動する(昇降する)。つまり、第2ピロー第1支持部41、第2ピロー第2支持部42およびガイド43は、第2ピロー40を昇降させる「第2ピロー昇降手段」であるといえる。
また、制御部80Aの制御下で第2ピロー走行手段44が外側ガイド23に沿って走行すると、第1ピロー30のV字状端面および第2ピロー40のV字状端面の間の距離が変化し、ワーク1Cが把持または解放される。
第1支持ローラーユニット27は、第1支持ローラー50と、第1支持ローラー昇降手段51と、第1支持ローラー走行手段52とを含む。第1支持ローラー50は、キャリア基板2の裏面を下方から支持する。第1支持ローラー50は、シリンダ等からなる第1支持ローラー昇降手段51の上端部に回転自在に取り付けられている。また、第1支持ローラー昇降手段51は、内側ガイド24に沿って走行する第1支持ローラー走行手段52に固定されている。
制御部80Aの制御下で第1支持ローラー昇降手段51を構成するシリンダが伸縮すると、これにともなって、第1支持ローラー50も上下に移動する(昇降する)。これにより、第1支持ローラー50は、任意のZ位置においてワーク1C(キャリア基板2)を支持したり、ワーク1Cを吸着ステージ21の吸着面21aに押し付けたりする。
また、制御部80Aの制御下で第1支持ローラー走行手段52が内側ガイド24に沿って走行すると、第1支持ローラー50はX方向に移動する。つまり、第1支持ローラー50は、一端2aと他端2bの間の任意のX位置においてキャリア基板2を支持または押圧することができる。
第2支持ローラーユニット28は、第2支持ローラー60と、第2支持ローラー昇降手段61と、第2支持ローラー走行手段62とを含む。第2支持ローラー60は、第1支持ローラー50よりも他端2b寄りのX位置においてキャリア基板2の裏面を下方から支持する。第2支持ローラー60は、シリンダ等からなる第2支持ローラー昇降手段61の上端部に回転自在に取り付けられている。また、第2支持ローラー昇降手段61は、内側ガイド24に沿って走行する第2支持ローラー走行手段62に固定されている。
制御部80Aの制御下で第2支持ローラー昇降手段61を構成するシリンダが伸縮すると、これにともなって、第2支持ローラー60も上下に移動する(昇降する)。これにより、第2支持ローラー60は、任意のZ位置においてワーク1C(キャリア基板2)を支持したり、ワーク1Cを吸着ステージ21の吸着面21aに押し付けたりする。
また、制御部80Aの制御下で第2支持ローラー走行手段62が内側ガイド24に沿って走行すると、第2支持ローラー60はX方向に移動する。つまり、第2支持ローラー60は、第1支持ローラー50と他端2bの間の任意のX位置においてキャリア基板2を支持または押圧することができる。
図6に示すように、他端側支持ユニット26は門型を有する。このため、第1支持ローラーユニット27および第2支持ローラーユニット28は、第2ピロー40の下をくぐって退避位置に移動することができる。同様に、一端側支持ユニット25も門型を有する。このため、第1支持ローラーユニット27および第2支持ローラーユニット28は、第1ピロー30の下をくぐって別の退避位置に移動することもできる。
第4カッターユニット29は、第4カッター70と、第4カッター第1支持部71と、第4カッター第2支持部72と、ガイド73と、第4カッター走行手段74とを含む。第4カッター70は、第4カッター第1支持部71の下端部に取り付けられている。また、第4カッター第1支持部71は、第4カッター第2支持部72のZ方向に対して25°傾斜した一側面に設けられたガイド73にスライド可能に取り付けられている。第4カッター第2支持部72は、吸着ステージ21に設けられたガイド75に沿って走行する第4カッター走行手段74に固定されている。ガイド75は、Y方向に延びている。なお、上記の25°は単なる一例である。ガイド73が設けられた第4カッター第2支持部72の一側面は、Z方向に対して平行であってもよい、
制御部80Aの制御下で第4カッター第1支持部71が第4カッター第2支持部72に対してスライドすると、第4カッター70もZ方向に対して25°傾斜した方向に移動する(昇降する)。つまり、第4カッター第1支持部71、第4カッター第2支持部72およびガイド73は、第4カッター70を昇降させる「第4カッター昇降手段」であるといえる。
また、制御部80Aの制御下で第4カッター走行手段74がガイド75に沿って走行すると、第4カッター70はY方向に移動する。
本実施例では、第4カッター70として丸刃を使用したが、第4カッター70の構成はこれに限定されない。例えば、所定の幅を有する溝状の切り込み7(図10参照)を入れるために、2枚の丸刃を隣り合うように配置したものを使用してもよい。
図7に、本実施例に係る分離装置20Aの制御ブロック図を示す。同図に示すように、制御部80Aは、(1)吸着ステージ21に接続されたポンプ81の制御、(2)第1ピロー30、第1ピロー昇降手段31,32,33および第1ピロー走行手段34からなる一端側支持ユニット25の制御、(3)第2ピロー40、第2ピロー昇降手段41,42,43および第2ピロー走行手段44からなる他端側支持ユニット26の制御、(4)第1支持ローラー50、第1支持ローラー昇降手段51および第1支持ローラー走行手段52からなる第1支持ローラーユニット27の制御、(5)第2支持ローラー60、第2支持ローラー昇降手段61および第2支持ローラー走行手段62からなる第2支持ローラーユニット28の制御、並びに、(6)第4カッター70、第4カッター昇降手段71,72,73および第4カッター走行手段74からなる第4カッターユニット29の制御、を行う。
続いて、図8を参照しながら、分離装置20Aによって実行されるステップS8(吸着保持工程)について説明する。なお、図8においては、一部の構成要素および参照符号が省略されている。図9,図11についても同様である。
図8(A)は、ステップS8の初期状態を示している。この状態では、吸着ステージ21の吸着面21aおよびワーク1Cは上下に離間している。また、第1ピロー30および第2ピロー40の高さが同一であり、かつ、第1支持ローラー50および第2支持ローラー60がキャリア基板2の裏面を下方から支持しているので、ワーク1Cは、自重により撓むことなく、吸着ステージ21の吸着面21aに対して平行に保たれている。
図8(B)は、(A)に示す初期状態から第1ピロー30および第1支持ローラー50を略同量上昇させるとともに、これらよりも僅かに第2支持ローラー60を上昇させることにより、ワーク1Cを所定の湾曲姿勢とした状態を示している。この状態では、第2ピロー40が一端2aよりも低い位置において他端2bを支持するとともに、第2支持ローラー60が一端2aよりも低く他端2bよりも高い位置においてキャリア基板2を支持している。
図8(C)は、(B)に示す状態から第1ピロー30、第1支持ローラー50、第2支持ローラー60および第2ピロー40を同量上昇させ、保護膜6の一部のみを吸着ステージ21の吸着面21aに吸着保持させた状態を示している。第1ピロー30、第1支持ローラー50、第2支持ローラー60および第2ピロー40の上昇量が等しいため、ワーク1Cの姿勢は所定の湾曲姿勢のままである。
図8(D)は、(C)に示す状態から第1支持ローラー50および第2支持ローラー60を同じ速度でX方向に走行させつつ、ワーク1Cが湾曲し過ぎるのを防ぐために、第2ピロー40を僅かに上昇させた状態を示している。ワーク1Cを湾曲させたまま、ワーク1Cを吸着ステージ21の吸着面21aに吸着保持させていくことにより、保護膜6および樹脂層3に皺が発生したり、保護膜6と吸着面21aとの間に空気が挟み込まれたりするのを防ぐことができる。
その後、第1支持ローラー50がキャリア基板2の他端2b近傍に到達すると、ステップS8は終了する。なお、このとき、第2支持ローラー60は、第2ピロー40の下をくぐって退避位置に移動している。
続いて、図9を参照しながら、分離装置20Aによって実行されるステップS9(第2切込工程)について説明する。
図9(A)は、ステップS8の終了後に第1支持ローラー50および第2支持ローラー60を移動させた、ステップS9の初期状態を示している。この状態では、第1支持ローラー50は、一端2a近傍においてキャリア基板2の裏面を支持している。また、第2支持ローラー60は、一端2aと他端2bの略中央においてキャリア基板2の裏面を支持している。なお、第1支持ローラー50にキャリア基板2の一端2a近傍の裏面を支持させることは、本発明の「支持工程」に相当する。
図9(B)は、(A)に示す初期状態から第4カッター70を下降させ、第4カッター70を樹脂層3の縁部5a(図3参照)に食い込ませた状態を示している。キャリア基板2の一端2a近傍は、第1支持ローラー50によってしっかりと支持されている。このため、第4カッター70を下降させたときに、キャリア基板2の一端2aが第1ピロー30から脱落することはない。
図9(C)は、(B)に示す状態から第4カッター70をY方向に走行させて樹脂層3の縁部5aに切り込み7を入れた後に、第4カッター70を上昇させた状態を示している。これにより、ワーク1Cは、素子部4を取り囲むように切り込み7が形成されたワーク1Dとなる(図10参照)。
仮にステップS6(第1切込工程)において全ての縁部5a,5b,5c,5dに切れ込み7を入れると、ステップS7,S8において、樹脂層3の素子部4とキャリア基板2の位置関係がずれるおそれがある。これを防ぐために、本実施例では、後述するステップS10(剥離工程)の直前に縁部5aに切れ込み7を入れる。言い換えると、本実施例では、ステップS10(剥離工程)の直前まで、素子部4と縁部5を少なくとも1か所において繋げておく。
続いて、図11を参照しながら、分離装置20Aによって実行されるステップS10(剥離工程)について説明する。
図11(A)は、ステップS10の初期状態を示している。図9(A)と同様、この状態では、第1支持ローラー50は、一端2a近傍においてキャリア基板2の裏面を支持している。また、第2支持ローラー60は、一端2aと他端2bの略中央においてキャリア基板2の裏面を支持している。
図11(B)は、(A)に示す初期状態から第1支持ローラー50および第2支持ローラー60を同じ速度でX方向に走行させつつ、第1ピロー30を下降させた状態を示している。第1ピロー30が下降すると、キャリア基板2の一端2aも同じように下降する。その結果、キャリア基板2は、第1支持ローラー50に支持された部分において屈曲した姿勢となる。
このとき、樹脂層3のうち、縁部4からなる切り込み7よりも外側の部分は、キャリア基板2に貼り付いたまま該キャリア基板2と一緒に屈曲する。一方、主に素子部4からなる切り込み7よりも内側の部分は、ステップS4(レーザリフトオフ工程)でキャリア基板2との結合が解かれているので、キャリア基板2と一緒に屈曲するのではなく、吸着ステージ21(保護膜6)側に残る。すなわち、最終製品となる樹脂層3の素子部4がキャリア基板2から分離する。言い換えると、最終製品となる樹脂層3の素子部4から不要なキャリア基板2が剥離される。
図11(C)は、(B)に示す状態から第1支持ローラー50をX方向に走行させつつ、第1ピロー30を下降させた結果、キャリア基板2と樹脂層3(特に素子部4)の分離がさらに進んだ状態を示している。この状態では、第2支持ローラー60は、第2ピロー40の下をくぐって退避位置に移動している。
ここで、キャリア基板2と樹脂層3の分離がある程度進むと、図5,図7に図示されていない第3支持ローラー90でキャリア基板2の裏面を支持することが好ましい。第3支持ローラー90は、第1支持ローラー50および一端2aの間においてキャリア基板2の裏面を支持し、キャリア基板2の一端2aが第1ピロー30から脱落するのを防ぐ。
図11(D)は、分離(剥離)が終了した状態を示している。この状態では、第1支持ローラー50および第2支持ローラー60は、退避位置に移動している。また、最終製品となる樹脂層3の素子部4は、キャリア基板2から完全に分離している。
なお、この状態では、前述の第3支持ローラー90でキャリア基板2の略中央を支持することが好ましい。これにより、キャリア基板2と、該キャリア基板2の表面に残った樹脂層3の縁部5とからなるワーク1E(図12参照)が自重により撓むのを防ぐことができる。
キャリア基板2から分離された樹脂層3の素子部4は、保護膜6を介して吸着ステージ21にしっかりと吸着保持されているので、キャリア基板2に接していた側の面(裏面)への保護膜の貼り付けや、吸着ステージ21の移動による次工程への搬送が容易である。
以上、本発明に係る分離方法および分離装置の実施例について説明してきたが、本発明は実施例の構成に限定されるものではない。以下、本発明に係る分離方法および分離装置の変形例を例示する。
[第1変形例]
図13に、本発明の第1変形例に係る分離方法のフロー図を示す。同図に示すように、本変形例に係る分離方法は、ステップS5(第3ポジションへの搬送)、ステップS6(第1切込工程)およびステップS9(第2切込工程)を備えていない。また、これに対応して、本変形例に係る分離装置20Bは、第4カッターユニット29が省略されている(図14参照)。このため、制御部80Bは、第4カッターユニット29の制御を行わない(図15参照)。
ステップS4(レーザリフトオフ工程)で、樹脂層3の縁部5とキャリア基板2との結合を解くことができる場合は、上記の通りに分離方法および分離装置を構成することで、工程および装置を簡略化することができる。
[第2変形例]
図16に、本発明の第2変形例に係る分離装置20Cを示す。同図に示すように、本変形例に係る分離装置20Cは、第2支持ローラーユニット28を備えていない。このため、制御部80Cは、第2支持ローラーユニット28の制御を行わない(図17参照)。
ワーク1Cの寸法が比較的小さく、自重によるワーク1Cの撓みが問題にならない場合は、上記の通りに分離装置を構成することで、装置および該装置における制御を簡略化することができる。
反対に、ワーク1Cの寸法が比較的大きい場合は、第2支持ローラーユニット28の数を複数にすることで、ワーク1Cの撓みや脱落をより確実に防ぐことができる。この場合は、第3支持ローラー90(図11参照)の数も複数であることがより好ましい。
[その他の変形例]
図18に、図3に示すワーク1Bの変形例を示す。同図に示すように、変形例に係るワーク1B’においては、保護膜6’が樹脂層3の素子部4および縁部5を完全に覆っている。すなわち、保護膜6’のX方向およびY方向の寸法は、樹脂層3の寸法よりも大きい。ただし、保護膜6’のX方向およびY方向の寸法は、キャリア基板2の寸法よりも小さい。
この場合、ステップS6(第1切込工程)における各カッター12,13,14およびステップS9(第2切込工程)における第4カッター70は、保護膜6’越しに樹脂層3の縁部5に切れ込み7を入れることになる。この構成によれば、切れ込み7を入れる際に、縁部5を構成する樹脂の屑が周囲に飛び散るのを防ぐことができる。
また、ステップS8(吸着保持工程)においては、他端2b側(第2ピロー40側)を他の部分に先駆けて吸着保持させてもよいし、第1支持ローラー50によって押し上げられて他の部分よりも突出した中央部分を該他の部分に先駆けて吸着保持させてもよい。後者の場合、第1支持ローラー50は、一端2aまたは他端2bに向かって走行した後、反対方向に走行する。
また、キャリア基板2は、ガラス以外の任意の材料で構成されていてもよい。ただし、キャリア基板2は、ステップS4(レーザリフトオフ工程)において必要とされる透光性を有し、かつ、一端側支持ユニット25および他端側支持ユニット26で支持され得る程度の剛性を有している必要がある。
また、樹脂層3は、ポリイミド以外の樹脂で構成されていてもよい。
また、これらの変形例は、適宜組み合わせることができる。
1A,1B,1B’,1C,1D,1E ワーク
2 キャリア基板
2a (キャリア基板の)一端
2b (キャリア基板の)他端
3 樹脂層
4 素子部
5,5a,5b,5c,5d 縁部
6,6’ 保護膜
7 切り込み
10 搬送ローラー
11 位置決め板
12 第1カッター
13 第2カッター
14 第3カッター
20A,20B,20C 分離装置
21 吸着ステージ
21a 吸着面
21b 吸着ノズル
22 基台
23 外側ガイド
24 内側ガイド
25 一端側支持ユニット
26 他端側支持ユニット
27 第1支持ローラーユニット
28 第2支持ローラーユニット
29 第4カッターユニット
30 第1ピロー
31 第1ピロー第1支持部(第1ピロー昇降手段)
32 第1ピロー第2支持部(第1ピロー昇降手段)
33 ガイド(第1ピロー昇降手段)
34 第1ピロー走行手段
40 第2ピロー
41 第2ピロー第1支持部(第2ピロー昇降手段)
42 第2ピロー第2支持部(第2ピロー昇降手段)
43 ガイド(第2ピロー昇降手段)
44 第2ピロー走行手段
50 第1支持ローラー
51 第1支持ローラー昇降手段
52 第1支持ローラー走行手段
60 第2支持ローラー
61 第2支持ローラー昇降手段
62 第2支持ローラー走行手段
70 第4カッター
71 第4カッター第1支持部(第4カッター昇降手段)
72 第4カッター第2支持部(第4カッター昇降手段)
73 ガイド(第4カッター昇降手段)
74 第4カッター走行手段
75 ガイド
80A,80B,80C 制御部
81 ポンプ
90 第3支持ローラー

Claims (11)

  1. 一端および該一端に対向する他端を有する矩形状のキャリア基板および該キャリア基板の表面上に形成された略矩形状の樹脂層からなるワークを前記キャリア基板と前記樹脂層とに分離する分離方法であって、
    前記樹脂層の表面を保護膜で覆う保護工程と、
    前記保護膜で覆われた前記樹脂層を平坦な吸着面を有する吸着ステージに吸着させる吸着保持工程と、
    前記キャリア基板の前記一端から前記他端に向かって移動可能な支持ローラーに前記キャリア基板の前記一端側の裏面を支持させる支持工程と、
    前記支持ローラーを前記他端に向かって移動させながら前記キャリア基板の前記一端を下降させていくことにより、前記キャリア基板を前記支持ローラーによって支持された部分において屈曲させながら前記樹脂層から剥がしていく剥離工程と、
    を備えたことを特徴とする分離方法。
  2. 前記樹脂層が、前記キャリア基板の表面上に塗布により形成されたポリイミド層であることを特徴とする請求項1に記載の分離方法。
  3. 前記樹脂層が、発光素子のアレイが形成された略矩形状の素子部と、前記素子部を取り囲む4つの縁部とを有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載の分離方法。
  4. 前記保護工程と前記吸着保持工程の間に実行される、前記キャリア基板の裏面側から前記樹脂層にレーザを照射して前記樹脂層と前記キャリア基板との結合を解くレーザリフトオフ工程をさらに備えたことを特徴とする請求項3に記載の分離方法。
  5. 前記レーザリフトオフ工程と前記吸着保持工程の間に実行される、前記キャリア基板の前記一端に平行な前記縁部を除く3つの前記縁部に切り込みを入れる第1切込工程をさらに備えたことを特徴とする請求項4に記載の分離方法。
  6. 前記支持工程と前記剥離工程の間に実行される、前記キャリア基板の前記一端に平行な前記縁部に切り込みを入れる第2切込工程をさらに備えたことを特徴とする請求項5に記載の分離方法。
  7. 一端および該一端に対向する他端を有する矩形状のキャリア基板および該キャリア基板の表面上に形成された略矩形状の樹脂層からなるワークを前記キャリア基板と前記樹脂層とに分離する分離装置であって、
    下方を向いた平坦な吸着面を有し、前記樹脂層上に予め設けられた保護膜を介して該樹脂層側から前記ワークを吸着保持する吸着ステージと、
    吸着保持された前記ワークを構成する前記キャリア基板の前記一端から前記他端に向かって移動可能な、前記キャリア基板の裏面を下方から支持する支持ローラーと、
    前記キャリア基板の前記一端の上下への移動を規制する、昇降可能な一端側支持部と、
    前記キャリア基板の前記他端の上下への移動を規制する、昇降可能な他端側支持部と、
    前記支持ローラーの移動、並びに前記一端側支持部および前記他端側支持部の昇降を制御する制御部と、を備え、
    前記制御部は、前記支持ローラーを前記他端に向かって移動させながら、前記他端側支持部を昇降させずに前記一端側支持部を下降させて前記キャリア基板の前記一端を下降させていくことにより、前記キャリア基板を前記支持ローラーによって支持された部分において屈曲させながら前記樹脂層から剥がしていく
    ことを特徴とする分離装置。
  8. 前記樹脂層が、前記キャリア基板の表面上に塗布により形成されたポリイミド層であることを特徴とする請求項7に記載の分離装置。
  9. 前記樹脂層が、発光素子のアレイが形成された略矩形状の素子部と、前記素子部を取り囲む4つの縁部とを有することを特徴とする請求項7または請求項8に記載の分離装置。
  10. 前記キャリア基板の前記一端に平行な前記縁部を除く3つの前記縁部に、予め切り込みが入れられていることを特徴とする請求項9に記載の分離装置。
  11. 前記キャリア基板の前記一端に平行な前記縁部に切れ込みを入れるカッターユニットをさらに備えたことを特徴とする請求項10に記載の分離装置。
JP2016113162A 2016-06-07 2016-06-07 キャリア基板と樹脂層からなるワークの分離方法および分離装置 Expired - Fee Related JP6670683B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016113162A JP6670683B2 (ja) 2016-06-07 2016-06-07 キャリア基板と樹脂層からなるワークの分離方法および分離装置
TW106102782A TWI701146B (zh) 2016-06-07 2017-01-25 由載體基板與樹脂層構成之工件的分離方法及分離裝置
KR1020170024791A KR20170138338A (ko) 2016-06-07 2017-02-24 캐리어 기판과 수지층으로 이루어지는 워크의 분리 방법 및 분리 장치
US15/591,201 US9987838B2 (en) 2016-06-07 2017-05-10 Method and device for separating workpiece consisting of carrier substrate and resin layer
CN201710345575.0A CN107482133B (zh) 2016-06-07 2017-05-16 由载体基板与树脂层构成的工件的分离方法以及分离装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2016113162A JP6670683B2 (ja) 2016-06-07 2016-06-07 キャリア基板と樹脂層からなるワークの分離方法および分離装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017220537A true JP2017220537A (ja) 2017-12-14
JP6670683B2 JP6670683B2 (ja) 2020-03-25

Family

ID=60482076

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016113162A Expired - Fee Related JP6670683B2 (ja) 2016-06-07 2016-06-07 キャリア基板と樹脂層からなるワークの分離方法および分離装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9987838B2 (ja)
JP (1) JP6670683B2 (ja)
KR (1) KR20170138338A (ja)
CN (1) CN107482133B (ja)
TW (1) TWI701146B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019180927A1 (ja) * 2018-03-23 2019-09-26 シャープ株式会社 表示デバイスの製造方法
JP2021100107A (ja) * 2019-12-23 2021-07-01 キヤノントッキ株式会社 成膜装置、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017026279A1 (ja) * 2015-08-11 2017-02-16 東京応化工業株式会社 支持体分離装置及び支持体分離方法
TWI797154B (zh) * 2018-01-31 2023-04-01 日商三星鑽石工業股份有限公司 膜剝離機構及基板裂斷系統
KR102572801B1 (ko) * 2018-03-20 2023-08-29 코닝 인코포레이티드 디본딩 서포트 장치 및 이를 이용한 디본딩 방법
CN110254872A (zh) * 2019-07-04 2019-09-20 丹阳市宏鑫光学眼镜有限公司 一种镜片去胶装置
CN110930880A (zh) * 2019-11-27 2020-03-27 昆山国显光电有限公司 显示模组及显示模组制作方法
JP6900540B1 (ja) * 2020-04-08 2021-07-07 信越エンジニアリング株式会社 ワーク分離装置及びワーク分離方法
KR102315781B1 (ko) * 2020-05-12 2021-10-20 육경식 건식 클리너
US20220108901A1 (en) * 2020-10-07 2022-04-07 Asm Technology Singapore Pte Ltd Detape apparatus for an optical alignment machine
CN113103071B (zh) * 2021-03-22 2022-05-27 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其磨边方法
CN113370632A (zh) * 2021-06-09 2021-09-10 业成科技(成都)有限公司 载具及其贴膜方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005050754A1 (en) * 2003-11-21 2005-06-02 Koninklijke Philips Electronics N.V. Active matrix displays and other electronic devices having plastic substrates
JP2007123846A (ja) * 2005-09-29 2007-05-17 Semiconductor Energy Lab Co Ltd ピックアップ装置及びピックアップ方法
JP2010062527A (ja) * 2008-09-02 2010-03-18 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 薄膜素子の製造方法
JP2013503366A (ja) * 2009-08-27 2013-01-31 コーニング インコーポレイテッド 超音波を利用した担体からのガラス基板の剥離
JP2014192459A (ja) * 2013-03-28 2014-10-06 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 剥離装置
JP2015171947A (ja) * 2013-08-30 2015-10-01 株式会社半導体エネルギー研究所 支持体の供給装置、積層体の作製装置
JP2015180517A (ja) * 2013-08-30 2015-10-15 株式会社半導体エネルギー研究所 剥離の起点の形成装置、積層体の作製装置、剥離の起点の形成方法

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5972159A (en) * 1997-02-28 1999-10-26 Sony Corporation Optical recording disc recycling method
KR100278137B1 (ko) * 1997-09-04 2001-01-15 가나이 쓰도무 반도체소자의 탑재방법 및 그 시스템, 반도체소자 분리장치 및ic카드의 제조방법
JP3619058B2 (ja) * 1998-06-18 2005-02-09 キヤノン株式会社 半導体薄膜の製造方法
US6123800A (en) * 1998-08-04 2000-09-26 Lucent Technologies, Inc. Method and apparatus for handling element on an adhesive film
US6290805B1 (en) * 1999-09-17 2001-09-18 Agere Systems Optoelectronics Guardian Corp. System and method for using a pick and place apparatus
TWI264121B (en) * 2001-11-30 2006-10-11 Semiconductor Energy Lab A display device, a method of manufacturing a semiconductor device, and a method of manufacturing a display device
JP2006316078A (ja) * 2003-10-17 2006-11-24 Lintec Corp 接着テープの剥離方法及び剥離装置
JP4323443B2 (ja) * 2005-02-28 2009-09-02 リンテック株式会社 剥離装置及び剥離方法
US8137050B2 (en) * 2005-09-29 2012-03-20 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Pickup device and pickup method
KR20080072183A (ko) * 2007-02-01 2008-08-06 삼성전자주식회사 필름 박리장치 및 그 방법
EP2555256A4 (en) * 2010-03-31 2015-09-16 Enf Technology Co Ltd SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR MODEL, LIGHT EMITTING ELEMENT USING SUBSTRATE FOR SEMICONDUCTOR MODEL, AND PROCESS FOR PRODUCING SAME
CN102947923B (zh) * 2010-06-02 2015-11-25 库卡系统有限责任公司 制造装置和方法
JP5899220B2 (ja) * 2010-09-29 2016-04-06 ポスコ ロール状の母基板を利用したフレキシブル電子素子の製造方法、フレキシブル電子素子及びフレキシブル基板
KR101869930B1 (ko) * 2011-11-29 2018-06-22 삼성디스플레이 주식회사 디라미네이션 장치 및 이를 포함하는 인라인 열전사 시스템
KR101989484B1 (ko) * 2012-07-09 2019-06-17 삼성디스플레이 주식회사 디라미네이션 장치 및 이를 포함하는 인라인 열전사 시스템
JP5311527B1 (ja) * 2013-04-04 2013-10-09 株式会社Fuk 貼付装置
KR102059827B1 (ko) * 2013-05-14 2020-02-12 삼성디스플레이 주식회사 기판 분리 장치 및 기판 분리 방법
CN104460099B (zh) * 2013-09-13 2019-12-10 日东电工株式会社 剥离辅助构件、剥离装置及剥离方法
KR102159738B1 (ko) * 2013-11-01 2020-09-24 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 표시패널 박리 장치 및 이를 이용한 플렉서블 표시패널 박리 방법
CN110010625A (zh) * 2013-12-02 2019-07-12 株式会社半导体能源研究所 显示装置及其制造方法
WO2015152158A1 (ja) * 2014-03-31 2015-10-08 株式会社Joled 積層体および積層体の剥離方法ならびに可撓性デバイスの製造方法
CN203910868U (zh) * 2014-06-25 2014-10-29 京东方科技集团股份有限公司 一种激光剥离设备
CN104167513A (zh) * 2014-07-22 2014-11-26 京东方科技集团股份有限公司 柔性显示面板的制作方法和柔性显示装置
KR102224848B1 (ko) * 2014-10-06 2021-03-08 삼성전자주식회사 발광 소자 패키지 제조 방법
JP5969663B2 (ja) * 2015-06-15 2016-08-17 東京エレクトロン株式会社 剥離装置、剥離システムおよび剥離方法

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005050754A1 (en) * 2003-11-21 2005-06-02 Koninklijke Philips Electronics N.V. Active matrix displays and other electronic devices having plastic substrates
JP2007123846A (ja) * 2005-09-29 2007-05-17 Semiconductor Energy Lab Co Ltd ピックアップ装置及びピックアップ方法
JP2010062527A (ja) * 2008-09-02 2010-03-18 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 薄膜素子の製造方法
JP2013503366A (ja) * 2009-08-27 2013-01-31 コーニング インコーポレイテッド 超音波を利用した担体からのガラス基板の剥離
JP2014192459A (ja) * 2013-03-28 2014-10-06 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 剥離装置
JP2015171947A (ja) * 2013-08-30 2015-10-01 株式会社半導体エネルギー研究所 支持体の供給装置、積層体の作製装置
JP2015180517A (ja) * 2013-08-30 2015-10-15 株式会社半導体エネルギー研究所 剥離の起点の形成装置、積層体の作製装置、剥離の起点の形成方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2019180927A1 (ja) * 2018-03-23 2019-09-26 シャープ株式会社 表示デバイスの製造方法
JP2021100107A (ja) * 2019-12-23 2021-07-01 キヤノントッキ株式会社 成膜装置、成膜方法及び電子デバイスの製造方法
JP7078696B2 (ja) 2019-12-23 2022-05-31 キヤノントッキ株式会社 成膜装置、成膜方法及び電子デバイスの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
TWI701146B (zh) 2020-08-11
US20170348960A1 (en) 2017-12-07
JP6670683B2 (ja) 2020-03-25
CN107482133A (zh) 2017-12-15
TW201742748A (zh) 2017-12-16
KR20170138338A (ko) 2017-12-15
CN107482133B (zh) 2020-11-27
US9987838B2 (en) 2018-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2017220537A (ja) キャリア基板と樹脂層からなるワークの分離方法および分離装置
TWI409230B (zh) 基板加工系統
KR102356595B1 (ko) 플렉시블 디스플레이 장치의 제조방법 및 제조장치
KR20110097114A (ko) 적층 시트 및 적층 시트 형성 방법
JP6105414B2 (ja) 貼り合わせ基板の加工装置
TW201733936A (zh) 邊材除去裝置及邊材除去方法
JP6942630B2 (ja) 剥離を含む加工の方法
US20150370237A1 (en) Automatically removing waste material using a strip die when cutting a sheet of material according to a predetermined pattern
TW201901855A (zh) 被加工物的加工方法
TWI784267B (zh) 裁切機構、光學膜片、光學裝置及其製造方法
JP6888812B2 (ja) フレキシブルデバイスの製造装置及び製造方法
US11479030B2 (en) Apparatus for supporting debonding and debonding method using the same
JP7381346B2 (ja) フレキシブルパネルの製造方法及び製造装置
WO2013031908A1 (ja) 板ガラス物品の分離装置
JP7168198B2 (ja) 脆性材料基板の傾斜タイプ分断装置
JP2017100281A (ja) 貼り合わせ基板の加工装置
TWI659914B (zh) Substrate processing device
KR20140039358A (ko) 투명도전성 필름 가공 장치
JPWO2021124799A5 (ja)
JP2020001072A (ja) 貼り合わせ基板の分断方法及び分断装置
JP2013112504A (ja) 合紙の配置方法

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20170707

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20170707

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190426

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200210

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200219

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200302

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6670683

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees