JP2017196595A - 基体の表面保護膜及び基体の表面保護膜の造膜方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明による基体の表面保護膜は、光半導体の粒子又は結晶体を含有し、該光半導体の粒子又は結晶体に酸素欠損が生成されていることを特徴とし、基体の表面電気抵抗を導電性を有する表面状態と絶縁性を有する表面状態とに周期的に変動させることができる。
【選択図】図1
Description
概要
本発明による基体の表面保護膜は、光半導体の粒子又は結晶体を含有し、その光半導体の粒子又は結晶体に酸素欠損が生成されていることにより、基体の表面電気抵抗を、導電性を有する表面状態と絶縁性を有する表面状態とに周期的に変動させることを特徴とする。
本発明による基体の表面保護膜は、光半導体の粒子又は結晶体、あるいは、金属又はその他の無機物をドープした光半導体の粒子又は結晶体を含有する。以下に記載する<1>〜<6>において、この表面保護膜を構成する光半導体や、光半導体にドープする金属又はその他の無機物(これらの化合物を含む)について説明する。
光半導体とは、その伝導電子体と価電子体のバンドギャップエネルギーより大きい光エネルギーが照射されると、励起状態となり電子・ホール対を生成する光半導体物質のことである。
本願発明による基体の表面保護膜は、光半導体を使用することにより実現可能であるが、光半導体に金属又はその他の無機物をドープすることにより、さらに機能を追加あるいは高めることができる。
光半導体含有膜は、光半導体に加えて金属(Ag、Pt等)を含んでいてもよい。また金属塩等の各種物質を含むこともできる。前記金属塩としては、例えば、アルミニウム、錫、クロム、ニッケル、アンチモン、鉄、セシウム、インジウム、セリウム、セレン、銅、マンガン、カルシウム、白金、タングステン、ジルコニウム、亜鉛等の金属塩が有り、それ以外にも一部の金属あるいは非金属等については水酸化物又は酸化物を含むことも可能である。具体的には、塩化アルミニウム、塩化第一及び第二錫、塩化クロム、塩化ニッケル、塩化第一及び第二アンチモン、塩化第一及び第二鉄、硝酸銀、塩化セシウム、三塩化インジウム、塩化第一セリウム、四塩化セレン、塩化第二銅、塩化マンガン、塩化カルシウム、塩化第二白金、四塩化タングステン、オキシ二塩化タングステン、タングステン酸カリウム、塩化第二金、オキシ塩化ジルコニウム、塩化亜鉛等の各種金属塩が例示できる。また、金属塩以外の化合物としては、水酸化インジウム、ケイタングステン酸、シリカゾル、水酸化カルシウム等が例示できる。
ここでは、本発明において使用し得る金属又はその他の無機物をドープした光半導体のうち、好ましい例として、金属又はその他の無機物ドープ二酸化チタンを含有する膜を形成するための、金属又はその他の無機物ドープ酸化チタンの製造方法について説明する。
Ag化合物:AgNO3、AgF、AgClO3、AgOH、Ag(NH3)OH、Ag2SO4等
Pt化合物:PtCl2、PtO、Pt(NH3)Cl2、PtO2、PtCl4、[Pt(OH)6]2−等
Ni化合物:Ni(OH)2、NiCl2等
Co化合物:Co(OH)NO3、Co(OH)2、CoSO4、CoCl2等
Cu化合物:Cu(OH)2、Cu(NO3)2、CuSO4、CuCl2等
Mn化合物:MnNO4、MnSO4、MnCl2等
Fe化合物:Fe(OH)2、Fe(OH)3、FeCl3等
Zn化合物:Zn(NO3)2、ZnSO4、ZnCl2等
Li化合物:LiOH、Li2CO3、LiCl等
Na化合物:NaOH、NaCl、Na2CO2等
Si化合物:SiO2、SiH4、SiCl4等
K化合物:KOH、K2O、KCl等
Zr化合物:Zr2O、Zr(OH)2、ZrCl等
Ce化合物:CeO2、CeCl2等
Hf化合物:HfCl2、Hf(OH)2等
Rb化合物:RbO2、RbOH等
Sr化合物:SrO2、SrCl2等
Y化合物:Y2O3、Y(OH)2等
Nb化合物:NbCl4、NbO等
Mo化合物:MoO2、MoCl4等
Pd化合物:PdCl4、Pd2O4等
Ba化合物:BaCl2等
なお、図1を参照して説明した金属ドープ酸化チタン分散液の製造方法以外にも、無機物質や金属と酸化チタンを複合化する方法は多数存在し、例えば、あらかじめ酸化チタンの粒子と、複合化する無機物質や金属の粒子とを別々に作製し、それぞれを混合してから酸素欠損を生成してもよいし、複合化する無機物質や金属の酸素欠損粒子をそれぞれ作製した上で混合してもよい。本願発明において、金属等をドープした酸化チタンを作製するためには、上記の製法以外にも、多種の酸化チタンの微細不定形物質及びその分散溶液を製造する方法があり、そのいずれを用いてもよい。
ここでは、本発明において使用し得る金属又はその他の無機物をドープした光半導体のうち、好ましい例として、金属又はその他の無機物ドープ二酸化ケイ素を含有する膜を形成するための、金属又はその他の無機物ドープ酸化ケイ素の分散液の製造方法について説明する。
・有機官能基とアルコキシ基を分子内に有するオリゴマ型のカップリング剤として、各種の物質を複合化して樹脂改質や機能性コーティング剤として使用されるシリコーンオリゴマー
・後述する基材への撥水性付与機能材として使用される、メチル基や長鎖アルキル基、フェニル基を有するアルコキシランやアルコキシラザン
・有機材料や無機材料の活性水素の保護機能を有するオリガノシリル基を有していたり、アルキル基の反応位置を制御することによって有機合成部材を作ることの出来るシリル化剤等
上記した酸化ケイ素を含有する材を使用して、金属又はその他の無機物ドープ酸化ケイ素の造膜液を作ることができる。以下、図2を用いて、複合化するのが金、銀、白金、銅、マンガン、ニッケル、コバルト、鉄、亜鉛等の典型金属及び遷移金属である場合の、金属又はその他の無機物ドープ酸化ケイ素の分散液の作製方法の一例について説明する。
最後に、酸化チタン及び酸化ケイ素に対して、金属又はその他の無機物を複合化させた溶液の作製方法について説明する。まず、純水に対して、四塩化チタンとシリカゾルを、モル比で1:0.5の割合で混合し、無機物化合物や金属化合物(結晶水を有する化合物)を、さらに混合する。無機物化合物や金属化合物は複数の種類を混合することができる。四塩化チタンと無機物化合物や金属化合物との混合割合は、モル比で好ましくは1:0.01〜1:0.3、より好ましくは、1:0.02〜1:0.1がよい。これに25%に調整したアンモニア水を滴下して、pH7前後に調整して、チタン、ケイ素及び複合化する無機物質や金属の水酸化物を析出させる。この析出した水酸化物を純水で上澄み液の導電率が0.9mS/m以下になるまで洗浄する。洗浄された水酸化物に、濃度が35%の過酸化水素水を混合し、数時間反応させて限外濾過することにより、シリカと複合された金属や無機物質が修飾されたアモルファス型過酸化チタンの微細不定形物質が分散された溶液が得られる。
以下の<A>〜<C>において、光半導体(金属又はその他の無機物をドープした光半導体を含む)の粒子又は結晶体に酸素欠損が生成された表面保護膜を基体に造膜する方法の例を説明する。しかしながら、光半導体(金属又はその他の無機物をドープした光半導体を含む)の粒子又は結晶体に酸素欠損が生成された表面保護膜を基体に造膜する方法であれば、<A>〜<C>には限定されるものではなく、どのような方法でもよい。例えば、あらかじめ、光半導体(あるいは、金属又はその他の無機物をドープした光半導体)の酸素欠損を生成させた粒子又は結晶体を作製し、これを使用してウェット工法やドライ工法により基体に造膜する方法もある。
光半導体(あるいは、金属又はその他の無機物をドープした光半導体)と炭素及び/又は熱分解性有機化合物とを含む造膜液に基体を浸漬してディップコーティングを行い、あるいは、前記造膜液を、基体の表面又は表面層上にスプレー、ロール、刷毛、スポンジ等で塗布した後、340℃以上、望ましくは400℃以上で加熱することにより、炭素及び/又は熱分解性有機化合物を二酸化炭素ガスとして噴出させ、噴出に伴い、炭素及び/又は熱分解性有機化合物の近傍あるいは隣接して存在する光半導体(あるいは、金属又はその他の無機物をドープした光半導体)の粒子又は結晶体の酸素を引き抜くことによって、基体に積層した膜中の光半導体(あるいは、金属又はその他の無機物をドープした光半導体)の粒子又は結晶体に酸素欠損を生成する。
光半導体(あるいは、金属又はその他の無機物をドープした光半導体)を含む造膜液を、基体の表面又は表面層上に塗布した後、窒素を含む還元雰囲気で還元焼成することにより、該光半導体(あるいは、金属又はその他の無機物をドープした光半導体)の粒子又は結晶体に酸素欠損を生成する。
金属又はその他の無機物をドープした光半導体を含む成分を、スパッタリング・イオンプレーティングを含むドライ工法によりイオン化して基体の表面又は表面層上に噴射して、金属又はその他の無機物をドープした光半導体の粒子又は結晶体を基体の表面又は表面層上に形成し、還元雰囲気で放射線を照射し該光半導体(あるいは、金属又はその他の無機物をドープした光半導体)の粒子又は結晶体に酸素欠損を生成する。
本願発明による基体の表面保護膜は、光半導体(あるいは、金属又はその他の無機物をドープした光半導体)の粒子又は結晶体を含有し、これらの粒子又は結晶体に酸素欠損が生成されていることにより、基体の表面電気抵抗を、導電性を有する表面状態と絶縁性を有する表面状態とに周期的に変動させることができる。以下では、この表面保護膜が、どのように機能して基体表面を保護するかについて、図3を用いて説明する。
上記した表面保護膜と基体との間に中間層を設けることが出来る。この中間層は、例えば、基体に親水性若しくは疎水性又は撥水性若しくは撥油性を付与することのできる各種の有機又は無機物質を使用することができる。
本発明の対象となる基体の材質は、特に限定されるものではなく、各種の親水性又は疎水性の無機系基体及び有機系基体、あるいは、それらを組み合わせたものを使用することができる。
純水1000gに50%四塩化チタン溶液(株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ製)10gを添加した溶液を準備する。これに25%アンモニア水(高杉製薬株式会社製)を10倍希釈したアンモニア水を滴下してpH7.0の水酸化チタンを沈殿させた。この沈殿物を純水で上澄み液の導電率が0.9mS/m以下になるまで洗浄する。導電率が0.809mS/mになったので洗浄を終了すると0.77wt%濃度の水酸化物が350g作製された。次に、これを室温下で35%過酸化水素水(タイキ薬品工業株式会社製)を20g添加し16時間撹拌すると黄色の透明なアモルファス型過酸化チタン溶液370gが得られた。
[ストロンチウムドープアモルファス型過酸化チタン水溶液の調整]
純水1000gにSrCl3・6H2O(塩化ストロンチウム)0.167gを完全に溶かした溶液に50%四塩化チタン溶液(株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ製)10gを添加した溶液を準備する。これに25%アンモニア水(高杉製薬株式会社製)を10倍希釈したアンモニア水を滴下してpH7.0の水酸化ストロンチウムと水酸化チタンの混合物を沈殿させた。この沈殿物を純水で上澄み液の導電率が0.9mS/m以下になるまで洗浄する。導電率が0.825mS/mになったので洗浄を終了すると0.75wt%濃度の水酸化物が350g作製された。次に、これを室温下で35%過酸化水素水(タイキ薬品工業株式会社製)を56g添加し16時間撹拌すると黄色の透明なストロンチウムが修飾されたアモルファス型過酸化チタン溶液405gが得られた。
前記のストロンチウムが修飾されたアモルファス型過酸化チタン溶液100gに二糖類を2%混合して得られた。
[ストロンチュウムドープアナターゼ型過酸化チタン水分散液の調整]
実施例2で調整したストロンチウムが修飾されたアモルファス型過酸化チタン溶液100gを90℃で5時間加熱するとストロンチウムが修飾されたアナターゼ型過酸化チタン水分散液が得られた。
前記のストロンチウムが修飾されたアナターゼ型過酸化チタン水分散液100gに二糖類を2%混合して得られた。
[バリウムドープアナターゼ型過酸化チタン水分散液の調整]
純水1000gにBaCl2・2H2O(塩化バリウム)0.219gを完全に溶かした溶液に50%四塩化チタン溶液(株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ製)10gを添加した溶液を準備する。これに25%アンモニア水(高杉製薬株式会社製)を10倍希釈したアンモニア水を滴下してpH7.0の水酸化バリウムと水酸化チタンの混合物を沈殿させた。この沈殿物を純水で上澄み液の導電率が0.9mS/m以下になるまで洗浄する。導電率が0.843mS/mになったので洗浄を終了すると0.71wt%濃度の水酸化物が350g作製された。次に、これを室温下で35%過酸化水素水(タイキ薬品工業株式会社製)を56g添加し16時間撹拌すると黄色の透明なバリウムが修飾されたアモルファス型過酸化チタン溶液403gが得られた。更に、このバリウムが修飾されたアモルファス型過酸化チタン溶液100gを90℃で5時間加熱するとバリウムが修飾されたアナターゼ型過酸化チタン水分散液が得られた。
前記のバリウムが修飾されたアナターゼ型過酸化チタン水分散液100gに二糖類を2%混合して得られた。
[インジウムドープアモルファス型過酸化チタン水溶液の調整]
純水1000gにInCl3・xH2O(塩化インジウム)0.772gを完全に溶かした溶液に50%四塩化チタン溶液(株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ製)10gを添加した溶液を準備する。これに25%アンモニア水(高杉製薬株式会社製)を10倍希釈したアンモニア水を滴下してpH7.0の水酸化インジウムと水酸化チタンの混合物を沈殿させた。この沈殿物を純水で上澄み液の導電率が0.9mS/m以下になるまで洗浄する。導電率が0.865mS/mになったので洗浄を終了すると0.73wt%濃度の水酸化物が350g作製された。次に、これを室温下で35%過酸化水素水(タイキ薬品工業株式会社製)を56g添加し16時間撹拌すると黄色の透明なインジウムが修飾されたアモルファス型過酸化チタン溶液403gが得られた。
前記のインジウムが修飾されたアモルファス型酸化チタン溶液100gに二糖類を2%混合して得られた。
[ニオブドープアナターゼ型過酸化チタン水分散液の調整]
純水1000gにNbCl5(五塩化ニオブ)0.285gを完全に溶かした溶液に50%四塩化チタン溶液(株式会社大阪チタニウムテクノロジーズ製)10gを添加した溶液を準備する。これに25%アンモニア水(高杉製薬株式会社製)を10倍希釈したアンモニア水を滴下してpH7.0の水酸化ニオブと水酸化チタンの混合物を沈殿させた。この沈殿物を純水で上澄み液の導電率が0.9mS/m以下になるまで洗浄する。導電率が0.839mS/mになったので洗浄を終了すると0.77wt%濃度の水酸化物が350g作製された。次に、これを室温下で35%過酸化水素水(タイキ薬品工業株式会社製)を56g添加し16時間撹拌すると黄色の透明なニオブが修飾されたアモルファス型過酸化チタン溶液403gが得られた。更に、このニオブが修飾されたアモルファス型過酸化チタン溶液100gを90℃で5時間加熱するとニオブが修飾されたアナターゼ型過酸化チタン水分散液が得られた。
前記のニオブが修飾されたアナターゼ型酸化チタン水分散液100gに二糖類を2%混合して得られた。
実施例1〜実施例6に記載した造膜液を、それぞれ、厚さ3mmのソーダライムガラスにSS工法(スポンジスキージー工法)を用いて乾燥膜100nm前後となるように塗布し乾燥した上で、500℃で15分間(ピーク保持温度)加熱焼成し、評価基板1〜6とした。
評価基板1〜6及び比較基板1〜2の「暗所(UV−A光量0μw/cm2)」、「蛍光灯下(UV−A光量10μw/cm2)」、「屋外・太陽光下(UV−A光量1800μw/cm2)」における体積抵抗値(導電性)評価を、以下の評価装置、評価条件及び評価時間の下に実施した。
・評価条件:膜厚(100nm)、電圧:(90V)
・評価時間:30秒/枚(通電時間)
評価1の結果を以下の表1に示す。
半導電性(×103〜×107:OV.RG)
導電性(0.0×100)
絶縁性⇔導電性スイッチング状態:OV.LD⇔0.0×100
のスイッチングが約1秒〜数秒
毎に切り替わる
≪表示数値は体積抵抗値:Ω・cm≫
<評価1による結果>
表1に示すように、光照射の有無に関わらず、評価基板1〜6は、「絶縁性⇔導電性」のスイッチング現象を確認することが出来た。また、比較基板1〜2は、造膜組成分の各々の電気的特性を表示しているが、スイッチング現象が生じることはない。
基体を保護する機能として、表面に付着する汚染物の電荷を可変させて付着を防止・低減する機能を確認するために、ガラス固定用シリコーンシール材に対する付着低減性能評価と表面の親水性維持について、評価基板1〜6と比較基板1〜2の長期屋外暴露評価を実施した。
実施場所:佐賀県
評価2の結果を、以下の表2に示す。
土木・建築・工作分野での外部器材の汚染の原因で最も高度な対応が必要なシリコーンシール材の可塑部材の油分流出拡大による撥水性分の拡大を低減するのは大変難しいとされてきた。その中で、表2に示すように、長期間にわたる評価(2014/08〜2015/08)において、評価基板1〜6は、シール撥水成分の拡大を抑える効果があることが分かる。
Claims (10)
- 光半導体の粒子又は結晶体を含有し、該光半導体の粒子又は結晶体に酸素欠損が生成されていることを特徴とする、基体の表面電気抵抗を導電性を有する表面状態と絶縁性を有する表面状態とに周期的に変動させる、基体の表面保護膜。
- 前記光半導体が、金属又はその他の無機物をドープした光半導体である、請求項1に記載の基体の表面保護膜
- 光半導体と、炭素及び/又は熱分解性有機化合物と、を含む造膜液を、基体の表面又は表面層上に塗布した後、高温で加熱することにより炭素及び/又は熱分解性有機化合物を二酸化炭素ガスとして噴出させ、該光半導体の粒子又は結晶体に酸素欠損を生成することを特徴とする、基体の表面電気抵抗を導電性を有する表面状態と絶縁性を有する表面状態とに周期的に変動させる基体の表面保護膜の造膜方法。
- 光半導体を含む造膜液を、基体の表面又は表面層上に塗布した後、窒素を含む還元雰囲気で還元焼成することにより、該光半導体の粒子又は結晶体に酸素欠損を生成することを特徴とする、基体の表面電気抵抗を導電性を有する表面状態と絶縁性を有する表面状態とに周期的に変動させる基体の表面保護膜の造膜方法。
- 前記光半導体が、金属又はその他の無機物をドープした光半導体である、請求項3又は請求項4に記載の基体の表面保護膜の造膜方法。
- 前記した金属又はその他の無機物をドープした光半導体において、ドープされる金属が、元素周期表における第5周期の金属元素又はその化合物である、請求項2に記載の基体の表面保護膜。
- 前記した金属又はその他の無機物をドープした光半導体において、ドープされるその他の無機物が、ケイ素、リン又は硫黄の少なくともいずれか1つの元素又はその化合物である、請求項2に記載の基体の表面保護膜。
- 前記した金属又はその他の無機物をドープした光半導体において、ドープされる金属が、元素周期表における第5周期の金属元素又はその化合物である、請求項5に記載の基体の表面保護膜の造膜方法。
- 前記した金属又はその他の無機物をドープした光半導体において、ドープされるその他の無機物が、ケイ素、リン又は硫黄の少なくともいずれか1つの元素又はその化合物である、請求項5に記載の基体の表面保護膜の造膜方法。
- 請求項1又は請求項2に記載の基体の表面保護膜を備えた基体。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017197695A (ja) * | 2016-04-28 | 2017-11-02 | サスティナブル・テクノロジー株式会社 | 基体の表面保護用膜及び基体の表面保護方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000038509A (ja) * | 1998-05-18 | 2000-02-08 | Jsr Corp | 多孔質膜形成用組成物、該組成物の製造方法、膜の形成方法および多孔質膜 |
WO2003072661A1 (fr) * | 2002-02-27 | 2003-09-04 | Sustainable Titania Technology Incorporated | Solution pour former un film photocatalyseur ultra-hydrophile, structure comportant ce film et procede de production de celui-ci |
JP2009135096A (ja) * | 2007-10-29 | 2009-06-18 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 透明導電性基板およびその製造方法 |
JP2009212435A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Sharp Corp | 低反射性基体及びそれを用いた太陽電池モジュール並びに低反射性基体の製造方法。 |
JP2010050088A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-03-04 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 透明導電性基板およびその製造方法 |
JP2012072234A (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Sekisui Chem Co Ltd | 酸化チタン含有ペースト、多孔質酸化チタン積層体の製造方法、多孔質酸化チタン積層体、色素増感型太陽電池用電極及び色素増感型太陽電池 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000038509A (ja) * | 1998-05-18 | 2000-02-08 | Jsr Corp | 多孔質膜形成用組成物、該組成物の製造方法、膜の形成方法および多孔質膜 |
WO2003072661A1 (fr) * | 2002-02-27 | 2003-09-04 | Sustainable Titania Technology Incorporated | Solution pour former un film photocatalyseur ultra-hydrophile, structure comportant ce film et procede de production de celui-ci |
JP2009135096A (ja) * | 2007-10-29 | 2009-06-18 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 透明導電性基板およびその製造方法 |
JP2009212435A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Sharp Corp | 低反射性基体及びそれを用いた太陽電池モジュール並びに低反射性基体の製造方法。 |
JP2010050088A (ja) * | 2008-07-22 | 2010-03-04 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 透明導電性基板およびその製造方法 |
JP2012072234A (ja) * | 2010-09-28 | 2012-04-12 | Sekisui Chem Co Ltd | 酸化チタン含有ペースト、多孔質酸化チタン積層体の製造方法、多孔質酸化チタン積層体、色素増感型太陽電池用電極及び色素増感型太陽電池 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017197695A (ja) * | 2016-04-28 | 2017-11-02 | サスティナブル・テクノロジー株式会社 | 基体の表面保護用膜及び基体の表面保護方法 |
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