JP2017132181A - 三次元造形物の製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】高精度な三次元造形物を製造する。【解決手段】層を積層し積層体を形成することにより三次元造形物を製造する三次元造形物の製造方法であって、三次元造形物の構成領域に対応する構成層310を形成する構成層形成工程と、構成層310に接し該構成層310を支持する支持層300を形成する支持層形成工程と、構成層310を焼結する焼結工程と、を有し、支持層300は、少なくとも2方向から構成層310に囲まれた空間Sの焼結工程に伴う体積減少量よりも、該空間Sで該構成層310を支持する支持層300の該焼結工程に伴う体積減少量のほうが、大きくなるよう構成されることを特徴とする三次元造形物の製造方法。【選択図】図7

Description

本発明は、三次元造形物の製造方法に関する。
従来から、層を積層することにより三次元造形物を製造する製造方法が実施されている。このうち、三次元造形物の構成領域に対応する構成層を形成する際に該構成層を支持しながら三次元造形物を製造する製造方法が開示されている。
例えば、特許文献1には、粉末材料で層を形成し、三次元造形物の構成領域に対応する部分(即ち構成層)に結合剤を吐出するというサイクルを複数回行うことで、構成領域に対応する部分以外の粉末材料で構成層を支持しながら三次元造形物を製造する製造方法が開示されている。
特開平6−218712号公報
三次元造形物は、様々な材料で構成でき、例えば、金属やセラミックスなどで三次元造形物の形状を形成し、三次元造形物の形状が完成した後にそれを焼結させる場合がある。このうち、三次元造形物の構成層及びその支持層を一括して加熱し、構成層を焼結させる場合がある。このような場合、支持層は、焼結中の構成層を支持する役割があるとともに、焼結後に構成層と剥離しやすくするため、構成層の焼結に伴う形状変化が少なく、構成層の焼結に伴って溶融及び焼結をしないものが一般的に用いられている。
しかしながら、このような支持層を形成すると、三次元造形物の構成層を形成する際に該構成層を支持しながら三次元造形物を製造する従来の製造方法においては、構成層の焼結に伴う体積変化(収縮)に支持層の形状変化が伴わず、構成層が歪む(即ち三次元造形物の焼結体が変形する)場合があった。すなわち、構成層の歪みに伴って、高精度な三次元造形物が製造できない場合があった。
そこで、本発明の目的は、高精度な三次元造形物を製造することである。
上記課題を解決するための本発明の第1の態様の三次元造形物の製造方法は、層を積層し積層体を形成することにより三次元造形物を製造する三次元造形物の製造方法であって、三次元造形物の構成領域に対応する構成層を形成する構成層形成工程と、前記構成層に接し該構成層を支持する支持層を形成する支持層形成工程と、前記構成層を焼結する焼結工程と、を有し、前記支持層は、少なくとも2方向から前記構成層に囲まれた空間の前記焼結工程に伴う体積減少量よりも、該空間で該構成層を支持する前記支持層の該焼結工程に伴う体積減少量のほうが、大きくなるよう構成されることを特徴とする。
本態様によれば、支持層は、少なくとも2方向から構成層に囲まれた空間の焼結工程に伴う体積減少量よりも、該空間で該構成層を支持する支持層の該焼結工程に伴う体積減少量のほうが、大きくなるよう構成される。すなわち、構成層の焼結に伴う体積変化(収縮)に対応して支持層が形状変化し、支持層は構成層の焼結に伴う収縮の妨げにならない。このため、三次元造形物の焼結体が変形することを抑制でき、高精度な三次元造形物を製造することができる。
なお、「構成層に囲まれた空間の焼結工程に伴う体積減少量」とは、構成層の構成材料に基づく体積減少量を意味し、該空間に支持層が無い場合における該空間の焼結工程後の体積減少量を意味する。
また、「少なくとも2方向から構成層に囲まれた空間」とは、例えば、有底又は無底の筒状の形状における内部空間や、底部に比べて開放部が広い又は狭いコップ状の形状の内部空間など、全体の形状が等方的に小さくなったときにその体積が小さくなる内部空間を意味する。
本発明の第2の態様の三次元造形物の製造方法は、前記第1の態様において、前記支持層は、前記空間で前記構成層を支持する少なくとも一部が、前記焼結工程に伴い構造変化することを特徴とする。
本態様によれば、支持層は、前記空間で構成層を支持する少なくとも一部が、焼結工程に伴い構造変化する。このため、該構造変化により構成層の焼結に伴う体積変化(収縮)に対応して支持層が形状変化し、支持層が構成層の焼結に伴う収縮の妨げを効果的に抑制することができる。
なお、「焼結工程に伴い構造変化する」とは、例えば、支持層の形成材料の一部が分解除去される構成のほか、ハニカム構造、トラス構造、格子構造などで形成された支持層が、焼結工程に伴い、これらの構造が崩れることなどが挙げられる。
本発明の第3の態様の三次元造形物の製造方法は、前記第1又は第2の態様において、前記支持層は、前記空間で前記構成層を支持する少なくとも一部が、前記焼結工程に伴う体積変化が相対的に大きい領域と小さい領域とを有するよう構成されることを特徴とする。
本態様によれば、支持層は、前記空間で構成層を支持する少なくとも一部が、焼結工程に伴う体積変化が相対的に大きい領域と小さい領域とを有する。このため、体積変化が相対的に大きい領域により効果的に構成層の焼結に伴う体積変化(収縮)に対応して支持層が形状変化し、体積変化が相対的に小さい領域により効率的に焼結中の構成層を支持することができる。
なお、「体積変化が相対的に大きい領域と小さい領域」とは、該小さい領域の体積変化率(収縮率)が該大きい領域の体積変化率(収縮率)よりも大きければその差や絶対量に特に限定はなく、該小さい領域の体積変化率(収縮率)が実質的にない場合も含む意味である。
本発明の第4の態様の三次元造形物の製造方法は、前記第1から第3のいずれか1つの態様において、前記支持層は、前記空間で前記構成層を支持する少なくとも一部が、前記焼結工程に伴いパウダー化することを特徴とする。
本態様によれば、支持層は、前記空間で構成層を支持する少なくとも一部が、焼結工程に伴いパウダー化する。このため、焼結工程後に、三次元造形物の焼結体を支持層から簡単に取り出す(三次元造形物の焼結体から支持層を簡単に除去する)ことができる。
本発明の第5の態様の三次元造形物の製造方法は、前記第1から第4のいずれか1つの態様において、前記支持層は、前記空間で前記構成層を支持する少なくとも一部が、前記焼結工程に伴い揮発することを特徴とする。
本態様によれば、支持層は、前記空間で構成層を支持する少なくとも一部が、焼結工程に伴い揮発する。このため、焼結工程中又は焼結工程後に該揮発した成分を含む気体の除去工程を実行することで、三次元造形物の焼結体から支持層を簡単に除去することができる。
図1Aは本発明の一の実施形態に係る三次元造形物の製造装置の構成を示す概略構成図、図1Bは図1Aに示すC部の拡大図。 図2Aは本発明の一の実施形態に係る三次元造形物の製造装置の構成を示す概略構成図、図2Bは図2Aに示すC’部の拡大図。 本発明の一の実施形態に係るヘッドベースの概略透視図。 本発明の一の実施形態に係るヘッドユニットの配置と、三次元造形物の形成形態と、の関係を概念的に説明する平面図。 三次元造形物の形成形態を概念的に説明する概略図。 ヘッドベースに配置されるヘッドユニットの、その他の配置の例を示す模式図。 本発明の一実施例に係る三次元造形物の製造過程を表す概略図。 本発明の一実施例に係る三次元造形物の製造方法のフローチャート。 本発明の一実施例に係る三次元造形物の製造方法で製造可能な三次元造形物の具体例を表す概略図。 本発明の別の一実施例に係る三次元造形物の製造過程を表す概略図。
以下、図面を参照して、本発明に係る実施形態を説明する。
図1及び図2は本発明の一の実施形態に係る三次元造形物の製造装置の構成を示す概略構成図である。
ここで、本実施形態の三次元造形物の製造装置は、2種類の材料供給部(ヘッドベース)と2種類の固化部とを備えている。このうち、図1は、一の材料供給部(構成材料(三次元造形物を構成する粉末と溶媒とバインダーとを含む材料)を供給する材料供給部)のみを表した図である。また、図2は、一の材料供給部(三次元造形物を形成する際に該三次元造形物を支持する支持部を形成する支持部形成用材料を供給する材料供給部)と、二の固化部(支持層形成用材料を硬化させるための電磁波を用いた硬化部、支持層形成用材料を焼結させるためのレーザーを用いた加熱部)と、を表した図である。
なお、本明細書における「三次元造形」とは、いわゆる立体造形物を形成することを示すものであって、例えば、平板状、いわゆる二次元形状の形状であっても厚さを有する形状を形成することも含まれる。また、「支持する」とは、下側から支持する場合の他、横側から支持する場合や、場合によっては上側から支持する場合も含む意味である。
図1及び図2に示す三次元造形物の製造装置2000(以下、形成装置2000という)は、基台110と、基台110に備える駆動手段としての駆動装置111によって、図示するX,Y,Z方向の移動、あるいはZ軸を中心とする回転方向に駆動可能に備えられたステージ120を備えている。
そして、図1で表されるように、一方の端部が基台110に固定され、他方の端部に構成材料を吐出する構成材料吐出部1230を備えるヘッドユニット1400を複数保持するヘッドベース1100が保持固定される、ヘッドベース支持部130を備えている。
また、図2で表されるように、一方の端部が基台110に固定され、他方の端部に三次元造形物を支持する支持層形成用材料を吐出する支持層形成用材料吐出部1730を備えるヘッドユニット1900を複数保持するヘッドベース1600が保持固定される、ヘッドベース支持部730と、を備えている。
ここで、ヘッドベース1100と、ヘッドベース1600とは、XY平面において並列に設けられている。
なお、構成材料吐出部1230と支持層形成用材料吐出部1730とは同様の構成のものである。ただし、このような構成に限定されない。
ステージ120上には、三次元造形物500が形成される過程での層501、502及び503が形成される。三次元造形物500の形成には、レーザーなどによる熱エネルギーの照射がなされるため、ステージ120の熱からの保護のため、耐熱性を有する試料プレート121を用いて、試料プレート121の上に三次元造形物500を形成してもよい。本実施形態の試料プレート121は頑丈で製造の容易な金属製のものである。しかしながら、試料プレート121としては、例えばセラミック板を用いることで、高い耐熱性を得ることができ、更に溶融(あるいは焼結されてもよい)される三次元造形物の構成材料との反応性も低く、三次元造形物500の変質を防止することができる。なお、図1A及び図2Aでは、説明の便宜上、層501、502及び503の3層を例示したが、所望の三次元造形物500の形状まで(図1A及び図2A中の層50nまで)積層される。
ここで、層501、502、503、・・・50nは、各々、支持層形成用材料吐出部1730から吐出される支持層形成用材料で形成される支持層300と、構成材料吐出部1230から吐出される構成材料で形成される構成層310と、で構成される。
また、図1Bは、図1Aに示すヘッドベース1100を示すC部拡大概念図である。図1Bに示すように、ヘッドベース1100は、複数のヘッドユニット1400が保持されている。詳細は後述するが、1つのヘッドユニット1400は、構成材料供給装置1200に備える構成材料吐出部1230が保持治具1400aに保持されることで構成される。構成材料吐出部1230は、吐出ノズル1230aと、材料供給コントローラー1500によって吐出ノズル1230aから構成材料を吐出させる吐出駆動部1230bと、を備えている。
図2Bは、図2Aに示すヘッドベース1600を示すC’部拡大概念図である。図2Bに示すように、ヘッドベース1600は、複数のヘッドユニット1900が保持されている。ヘッドユニット1900は、支持層形成用材料供給装置1700に備える支持層形成用材料吐出部1730が保持治具1900aに保持されることで構成される。支持層形成用材料吐出部1730は、吐出ノズル1730aと、材料供給コントローラー1500によって吐出ノズル1730aから支持層形成用材料を吐出させる吐出駆動部1730bと、を備えている。また、支持層形成用材料として電磁波(紫外線など)により硬化可能な材料を使用した場合において該支持層形成用材料を硬化させるための、電磁波照射部1800をヘッドベース1600に備えている。また、支持層形成用材料に含まれるバインダーとして溶剤に溶解可能な材料を用いた場合においては、溶剤を除去し、該支持層形成用材料を硬化(バインダーによる結着)させるための、電磁波(赤外線)照射部1800をヘッドベース1600に備えてもよい。さらに、支持層形成用材料として焼結可能な材料を使用した場合において該支持層形成用材料を焼結させるためのレーザー照射部3100と、レーザー照射部3100からのレーザー光を位置決めするガルバノミラー3000をステージ120の上方に備えている。
図1で表されるように、構成材料吐出部1230は、ヘッドベース1100に保持されるヘッドユニット1400それぞれに対応させた構成材料を収容した構成材料供給ユニット1210と供給チューブ1220により接続されている。そして、所定の構成材料が構成材料供給ユニット1210から構成材料吐出部1230に供給される。構成材料供給ユニット1210には、本実施形態に係る形成装置2000によって造形される三次元造形物500の構成材料が構成材料収容部1210aに収容され、個々の構成材料収容部1210aは、供給チューブ1220によって、個々の構成材料吐出部1230に接続されている。このように、個々の構成材料収容部1210aを備えることにより、ヘッドベース1100から、複数の異なる種類の材料を供給することができる。
図2で表されるように、支持層形成用材料吐出部1730は、ヘッドベース1600に保持されるヘッドユニット1900それぞれに対応させた支持層形成用材料を収容した支持層形成用材料供給ユニット1710と供給チューブ1720により接続されている。そして、所定の支持層形成用材料が支持層形成用材料供給ユニット1710から支持層形成用材料吐出部1730に供給される。支持層形成用材料供給ユニット1710には、三次元造形物500を造形する際の支持層を構成する支持層形成用材料が支持層形成用材料収容部1710aに収容され、個々の支持層形成用材料収容部1710aは、供給チューブ1720によって、個々の支持層形成用材料吐出部1730に接続されている。このように、個々の支持層形成用材料収容部1710aを備えることにより、ヘッドベース1600から、複数の異なる種類の支持層形成用材料を供給することができる。
構成材料及び支持層形成用材料としては、例えばマグネシウム(Mg)、鉄(Fe)、コバルト(Co)やクロム(Cr)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、銅(Cu)、ニッケル(Ni)の単体粉末、もしくはこれらの金属を1つ以上含む合金(マルエージング鋼、ステンレス、コバルトクロムモリブデン、チタニウム合金、ニッケル合金、アルミニウム合金、コバルト合金、コバルトクロム合金)などの混合粉末を、溶剤と、バインダーとを含むスラリー状(あるいはペースト状)の混合材料などにして用いることが可能である。
また、ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンテレフタレートなどの汎用エンジニアリングプラスチックを用いることが可能である。その他、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリアリレート、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトンなどのエンジニアリングプラスチックも用いることが可能である。
このように、構成材料及び支持層形成用材料に特に限定はなく、上記金属以外の金属やセラミックスや樹脂等も使用可能である。また、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウムなどを好ましく使用可能である。
溶剤としては、例えば、水;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル等の(ポリ)アルキレングリコールモノアルキルエーテル類;酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸iso−プロピル、酢酸n−ブチル、酢酸iso−ブチル等の酢酸エステル類;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン、エチル−n−ブチルケトン、ジイソプロピルケトン、アセチルアセトン等のケトン類;エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類;テトラアルキルアンモニウムアセテート類;ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤;ピリジン、γ−ピコリン、2,6−ルチジン等のピリジン系溶剤;テトラアルキルアンモニウムアセテート(例えば、テトラブチルアンモニウムアセテート等)等のイオン液体等が挙げられ、これらから選択される1種または2種以上を組み合わせて用いることができる。
バインダーとしては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、セルロース系樹脂或いはその他の合成樹脂又はPLA(ポリ乳酸)、PA(ポリアミド)、PPS(ポリフェニレンサルファイド)或いはその他の熱可塑性樹脂である。また、紫外線の照射により重合する紫外線硬化樹脂をバインダーに用いてもよい。
形成装置2000には、図示しない、例えばパーソナルコンピューター等のデータ出力装置から出力される三次元造形物の造形用データに基づいて、上述したステージ120、構成材料供給装置1200に備える構成材料吐出部1230、並びに、支持層形成用材料供給装置1700に備える支持層形成用材料吐出部1730を制御する制御手段としての制御ユニット400を備えている。そして、制御ユニット400には、図示しないが、ステージ120及び構成材料吐出部1230が連携して駆動及び動作するよう制御し、ステージ120及び支持層形成用材料吐出部1730が連携して駆動及び動作するよう制御する制御部を備えている。
基台110に移動可能に備えられているステージ120は、制御ユニット400からの制御信号に基づき、ステージコントローラー410においてステージ120の移動開始と停止、移動方向、移動量、移動速度などを制御する信号が生成され、基台110に備える駆動装置111に送られ、図示するX,Y,Z方向にステージ120が移動する。ヘッドユニット1400に備える構成材料吐出部1230では、制御ユニット400からの制御信号に基づき、材料供給コントローラー1500において構成材料吐出部1230に備える吐出駆動部1230bにおける吐出ノズル1230aからの材料吐出量などを制御する信号が生成され、生成された信号により吐出ノズル1230aから所定量の構成材料が吐出される。
同様に、ヘッドユニット1900に備える支持層形成用材料吐出部1730では、制御ユニット400からの制御信号に基づき、材料供給コントローラー1500において支持層形成用材料吐出部1730に備える吐出駆動部1730bにおける吐出ノズル1730aからの材料吐出量などを制御する信号が生成され、生成された信号により吐出ノズル1730aから所定量の支持層形成用材料が吐出される。
次に、ヘッドユニット1400についてさらに詳細に説明する。なお、ヘッドユニット1900は、ヘッドユニット1400と同様の構成である。このため、ヘッドユニット1900についての詳細な構成の説明は省略する。
図3及び図4は、ヘッドベース1100に複数保持されるヘッドユニット1400及び構成材料吐出部1230の保持形態の一例を示し、このうち図4は、図1Bに示す矢印D方向からのヘッドベース1100の外観図である。
図3に示すように、ヘッドベース1100に複数のヘッドユニット1400が、図示しない固定手段によって保持されている。また、図4で表されるように、本実施形態に係る形成装置2000のヘッドベース1100では、図下方より第1列目のヘッドユニット1401、第2列目のヘッドユニット1402、第3列目のヘッドユニット1403、そして第4列目のヘッドユニット1404の、4ユニットが千鳥状(互い違い)に配置されたヘッドユニット1400を備えている。そして、図4Aで表されるように、ステージ120をヘッドベース1100に対してX方向に移動させながら各ヘッドユニット1400から構成材料を吐出させて構成層構成部50(構成層構成部50a、50b、50c及び50d)が形成される。構成層構成部50の形成手順については後述する。
なお、図示しないが、それぞれのヘッドユニット1401〜1404に備える構成材料吐出部1230は、吐出駆動部1230bを介して構成材料供給ユニット1210に供給チューブ1220で繋がれる構成となっている。
図3に示すように、構成材料吐出部1230は吐出ノズル1230aから、ステージ120上に載置された試料プレート121上に向けて三次元造形物の構成材料である材料Mが吐出される。ヘッドユニット1401では、材料Mが液滴状で吐出される吐出形態を例示し、ヘッドユニット1402では、材料Mが連続体状で供給される吐出形態を例示している。材料Mの吐出形態は、液滴状であっても連続体状であっても、どちらでもよいが、本実施形態では材料Mは液滴状で吐出される形態により説明する。
吐出ノズル1230aから液滴状に吐出された材料Mは、略重力方向に飛翔し、試料プレート121上に着弾する。ステージ120は移動し、着弾した材料Mにより構成層構成部50が形成される。この構成層構成部50の集合体が、試料プレート121上に形成される三次元造形物500の構成層310(図1参照)として形成される。
次に、構成層構成部50の形成手順について、図4及び図5を用いて説明する。
図4は、本実施形態のヘッドユニット1400の配置と、構成層構成部50の形成形態と、の関係を概念的に説明する平面図である。そして、図5は、構成層構成部50の形成形態を概念的に表す側面図である。
まず、ステージ120が+X方向に移動すると、複数の吐出ノズル1230aから材料Mが液滴状に吐出され、試料プレート121の所定の位置に材料Mが配置され、構成層構成部50が形成される。
より具体的には、まず、図5Aで表されるように、ステージ120を+X方向に移動させながら、複数の吐出ノズル1230aから試料プレート121の所定の位置に一定の間隔で材料Mを配置させる。
次に、図5Bで表されるように、ステージ120を図1に示す−X方向に移動させながら、一定の間隔で配置された材料Mの間を埋めるように新たに材料Mを配置させる。
ただし、ステージ120を+X方向に移動させながら、複数の吐出ノズル1230aから試料プレート121の所定の位置に材料Mが重なるように(間隔を空けないように)配置させる構成(ステージ120のX方向における往復移動で構成層構成部50を形成する構成ではなく、ステージ120のX方向における片側の移動のみで構成層構成部50を形成する構成)としても良い。
上記のように構成層構成部50を形成することによって、図4Aで表されるような、各ヘッドユニット1401、1402、1403及び1404のX方向における1ライン分(Y方向における1ライン目)の構成層構成部50(構成層構成部50a、50b、50c及び50d)が形成される。
次に、各ヘッドユニット1401、1402、1403及び1404のY方向における2ライン目の構成層構成部50’(構成層構成部50a’、50b’、50c’及び50d’)を形成するため、−Y方向にヘッドベース1100を移動させる。移動量は、ノズル間のピッチをPとすると、P/n(nは自然数)ピッチ分だけ−Y方向に移動させる。本実施例ではnを3として説明する。
図5A及び図5Bで表されるような、上記と同様な動作を行うことで、図4Bで表されるような、Y方向における2ライン目の構成層構成部50’(構成層構成部50a’、50b’、50c’及び50d’)が形成される。
次に、各ヘッドユニット1401、1402、1403及び1404のY方向における3ライン目の構成層構成部50’’
(構成層構成部50a’’、50b’’、50c’’及び50d’’)を形成するため、−Y方向にヘッドベース1100を移動させる。移動量は、P/3ピッチ分だけ−Y方向に移動させる。
そして、図5A及び図5Bで表されるような、上記と同様な動作を行うことで、図4Cで表されるような、Y方向における3ライン目の構成層構成部50’’
(構成層構成部50a’’、50b’’、50c’’及び50d’’)が形成され、構成層310を得ることができる。
また、構成材料吐出部1230から吐出される材料Mを、ヘッドユニット1401、1402、1403、1404のいずれか1ユニット、あるいは2ユニット以上からその他ヘッドユニットと異なる構成材料を吐出供給することもできる。従って、本実施形態に係る形成装置2000を用いることによって、異種材料から形成される三次元造形物を得ることができる。
なお、第1層目の層501において、上述したように構成層310を形成する前或いは後に、支持層形成用材料吐出部1730から支持層形成用材料を吐出させて、同様の方法で、支持層300を形成することができる。そして、層501に積層させて層502、503、・・・50nを形成する際にも、同様に、構成層310及び支持層300を形成することができる。なお、支持層300は、支持層形成用材料の種類に応じて、電磁波照射部1800を用いて硬化すること、レーザー照射部3100及びガルバノミラー3000を用いて焼結すること、などが可能である。
上述の本実施形態に係る形成装置2000が備えるヘッドユニット1400及び1900の数及び配列は、上述した数及び配列に限定されない。図6に、その例として、ヘッドベース1100に配置されるヘッドユニット1400の、その他の配置の例を模式図的に示す。
図6Aは、ヘッドベース1100にヘッドユニット1400をX軸方向に複数、並列させた形態を示す。図6Bは、ヘッドベース1100にヘッドユニット1400を格子状に配列させた形態を示す。なお、いずれも配列されるヘッドユニットの数は、図示の例に限定されない。
次に、上述の本実施形態に係る形成装置2000を用いて行う三次元造形物の製造方法の一実施例について説明する。
図7は、形成装置2000を用いて行う三次元造形物の製造過程の一例を表す概略図である。このうち、図7Aから図7Dは三次元造形物の製造過程を側面視で表しており、図7E及び図7Fは三次元造形物の製造過程を平面視で表している。また、7E及び図7Fは、7C及び図7Dに対応している。
最初に、図7Aは、支持層形成用材料吐出部1730を使用して試料プレート121の上に第1層目の層501のうちの支持層300を形成した状態を表している。なお、本実施例においては、支持層形成用材料としてセラミックス粒子とバインダーとしての紫外線硬化樹脂とを含む材料を使用している。なお、支持層形成用材料として、セラミックス粒子と溶剤とバインダーとを含む材料を使用してもよい。
ここで、図7Aは、支持層形成用材料吐出部1730から支持層形成用材料を吐出するとともに該支持層形成用材料に向けて電磁波照射部1800から電磁波を照射した状態を表している。
次に、図7Bは、構成材料吐出部1230を使用して試料プレート121の上に第1層目の層501のうちの構成層310を形成した状態を表している。なお、本実施例においては、構成材料として金属粒子を含む材料を使用している。
そして、図7Aで表される支持層300の形成及び図7Bで表される構成層310の形成を繰り返すことにより、図7C及び図7Eで表されるように、三次元造形物の積層体を形成する。
ここで、図7C及び図7Eで表されるように、本実施例の三次元造形物の積層体は無底の円筒形状をしており、構成層310で囲まれた部分は空間S(正確には、少なくとも2方向から構成層310に囲まれた空間S)を構成している。
そして、最後に、図7C及び図7Eで表されるように形成された三次元造形物の積層体を、本実施形態に係る形成装置2000とは別体として設けられる恒温槽(加熱槽)で、加熱する(構成層310を焼結させて焼結部310’とする)。ここで、図7D及び図7Fは、三次元造形物の積層体を焼結させた状態を表している。
図7D及び図7Fにおいては、焼結部310’は金属粒子が焼結しており、加熱後の支持層300’はバインダーなどが加熱分解されて揮発し除去された為セラミックス粒子により粒状(パウダー状)となっている。
ここで、図7Cと図7D、図7Eと図7Fを比較すると明らかなように、構成層310を焼結させると、体積は低下する。
体積の低下(体積の収縮)について説明すると、焼結後の1方向の長さをL、焼結前の1方向の長さをL、粒子の充填率をA、焼結密度をBとすると、以下の式1で表される。
=L ×(A/B)…(式1)
すなわち、焼結後の1方向の長さLは、L×(A/B)1/3で表されるように収縮する。
下記表1に、構成材料中の金属粒子の充填率と焼結密度から計算される具体的な体積の収縮率の一例を表す。
Figure 2017132181
このように、三次元造形物の積層体は焼結させることにより収縮するので、焼結後に、空間Sにおける支持層300の体積の収縮率が三次元造形物の積層体の収縮率よりも低い場合、三次元造形物の積層体(構成層310)は歪んでしまう。このため、本実施例においては、焼結後に、空間Sにおける支持層300の体積の収縮率が三次元造形物の積層体の収縮率よりも高くなるように、支持層形成材料の成分及びその配合を決定している。
次に、上記形成装置2000を用いて行う三次元造形物の製造方法の一例(図7に対応する例)についてフローチャートを用いて説明する。
ここで、図8は、本実施例に係る三次元造形物の製造方法のフローチャートである。
図8で表されるように、本実施例の三次元造形物の製造方法においては、最初にステップS110で、三次元造形物のデータを取得する。詳細には、例えばパーソナルコンピューターにおいて実行されているアプリケーションプログラム等から、三次元造形物の形状を表すデータを取得する。
次に、ステップS120で、層毎のデータを作成する。詳細には、三次元造形物の形状を表すデータにおいて、Z方向の造形解像度に従ってスライスし、断面毎にビットマップデータ(断面データ)を生成する。
この際、生成されるビットマップデータは、三次元造形物の形成領域(構成層310)と三次元造形物の非形成領域(支持層300)とで区別されたデータになっている。
次に、ステップS130で、形成しようとする層のデータが、三次元造形物の非形成領域(支持層300)を形成するデータか三次元造形物の形成領域(構成層310)を形成するデータかを判断する。なお。この判断は制御ユニット400に備えられた制御部により行われる。
本ステップで、支持層300を形成するデータと判断された場合はステップS140に進み、構成層310を形成するデータと判断された場合はステップS150に進む。
ステップS140では、支持層300を形成するデータに基づいて支持層形成用材料吐出部1730から支持層形成用材料を吐出することにより、支持層形成用材料を供給する。
そして、ステップS140で支持層形成用材料を吐出すると、ステップS160で、電磁波照射部1800から電磁波(紫外線)を照射(エネルギー付与)して該吐出された液滴(支持層300)を固める。
一方、ステップS150では、構成材料吐出部1230から構成材料を吐出することにより、構成材料を供給する。
そして、ステップS170により、ステップS120において生成された各層に対応するビットマップデータに基づく三次元造形物の積層体の造形が終了するまで、ステップS130からステップS170までが繰り返される。
そして、ステップS180により、不図示の恒温槽において、上記ステップで形成した三次元造形物の積層体を加熱する。詳細には、三次元造形物の形成領域(構成層310)を焼結し、周りの支持層300の樹脂成分などを分解除去してセラミックス粒子で粒子化する。ここで、加熱後の支持層300’の体積収縮率は、加熱後の構成層310(焼結部310’)の体積収縮率よりも高くなる(空間Sに対応する加熱後の支持層300’の体積は焼結部310’の体積よりも小さくなる)。
そして、ステップS180の終了に伴い、本実施例の三次元造形物の製造方法を終了する。
上記のようにして構成される三次元造形物の具体的な形状の例について説明する。
図9はその具体例を表す概略分解側面図であり、このうち、図9AはX方向に延びる2枚の平板が1辺において合わさり斜面が形成された形状を表している。また、図9Bは、無底の2つの円筒が重ねあわされた形状を表している。また、図9Cは、有底の円筒形状で内径の異なる部分を有する形状を表している。また、図9Dは、図9Cの形状に対して配管に対応するトンネルPが構成された形状を表している。そして、図9Eは、ドーム状の形状を表している。トンネルP内についても、トンネルP内の空間Sにおける支持層300の体積の収縮率が三次元造形物の積層体の収縮率よりも高くなるよう支持層300を形成する。
しかしながら、このような形状に限定されるわけではないことは、言うまでもない。
上記のように、本実施例の三次元造形物の製造方法は、層を積層し積層体を形成することにより三次元造形物を製造する三次元造形物の製造方法である。
そして、三次元造形物の構成領域に対応する構成層310を形成する構成層形成工程(ステップS150に対応)と、構成層310に接し該構成層310を支持する支持層300を形成する支持層形成工程(ステップS140に対応)と、構成層310を焼結する焼結工程(ステップS180に対応)と、を有している。
ここで、支持層300は、少なくとも2方向から構成層に囲まれた空間Sの焼結工程に伴う体積減少量よりも、該空間Sで該構成層310を支持する支持層300の該焼結工程に伴う体積減少量のほうが、大きくなるよう構成されている。
すなわち、構成層310の焼結に伴う体積変化(収縮)に対応して支持層300が形状変化し、支持層300は構成層310の焼結に伴う収縮の妨げにならないよう構成されている。このため、三次元造形物の焼結体(焼結部310’)が変形することを抑制でき、高精度な三次元造形物を製造することができる。
なお、「構成層310に囲まれた空間Sの焼結工程に伴う体積減少量」とは、構成層310の構成材料に基づく体積減少量を意味し、該空間Sに支持層300が無い場合における該空間Sの焼結工程後の体積減少量を意味する。
また、「少なくとも2方向から構成層310に囲まれた空間S」とは、例えば、有底又は無底の筒状の形状(例えば、図9B、図9C及び図9Dに対応)における内部空間(空間S)や、底部に比べて開放部が広い又は狭いコップ状の形状(例えば図9Eに対応)の内部空間など、全体の形状が等方的に小さくなったときにその体積が小さくなる内部空間を意味する。
なお、図7で表される三次元造形物の製造方法の一実施例においては、支持層300は、空間Sで構成層310を支持する全部において焼結工程に伴い構造変化(硬化した状態から一部が分解除去され一部が粒状へ変化)するものであった。しかしながら、このような構成に限定されず、支持層300は、空間Sで構成層310を支持する一部が焼結工程に伴い構造変化するものであってもよい。
支持層300の空間Sで構成層310を支持する少なくとも一部が焼結工程に伴い構造変化する構成であれば、該構造変化により構成層310の焼結に伴う体積変化(収縮)に対応して支持層300が形状変化し、支持層300が構成層310の焼結に伴う収縮の妨げを効果的に抑制することができるためである。
なお、「焼結工程に伴い構造変化する」とは、上記のように支持層形成材料の一部が分解除去され一部が粒状へ変化する構成のほか、例えば、ハニカム構造、トラス構造、格子構造などで形成された支持層が、焼結工程に伴い、これらの構造が崩れること、支持層形成材料が溶融し溶融前後で形状が変化する構成などが挙げられる。
以下に、空間Sで構成層310を支持する支持層300の一部が焼結工程に伴い構造変化する三次元造形物の製造方法の一実施例について説明する。
図10は、このような三次元造形物の製造方法の一実施例における該三次元造形物の製造過程の一例を表す概略図である。このうち、図10Aから図10Dは三次元造形物の製造過程を側面視で表している。
なお、本実施例においては、支持層形成用材料として、樹脂成分などからなり焼結工程ですべての成分が分解除去(揮発)される第1材料300aと、セラミックス粒子を含んだ第2材料300bと、の2種類を使用している。
最初に、図10Aは、支持層形成用材料吐出部1730を使用して試料プレート121の上に第1層目の層501のうちの支持層300を形成した状態を表している。なお、本実施例においては、第1材料300aと第2材料300bとを交互に配置している。
ここで、図10Aは、支持層形成用材料吐出部1730から支持層形成用材料(第1材料300a及び第2材料300b)を吐出するとともに第2材料300bに向けてレーザー照射部3100からレーザーを照射し第2材料300bを焼結させた状態を表している。
次に、図10Bは、構成材料吐出部1230を使用して試料プレート121の上に第1層目の層501のうちの構成層310を形成した状態を表している。なお、本実施例においては、構成材料として金属粒子を含む材料を使用している。
そして、図10Aで表される支持層300の形成及び図10Bで表される構成層310の形成を繰り返すことにより、図10Cで表されるように、三次元造形物の積層体を形成する。
ここで、図10Cで表されるように、本実施例の三次元造形物の積層体はコップ状(コップを逆さまにした状態)をしており、構成層310で囲まれた部分は空間Sを構成している。
そして、最後に、図10Cで表されるように形成された三次元造形物の積層体を、本実施形態に係る形成装置2000とは別体として設けられる恒温槽(加熱槽)で、加熱する(構成層310を焼結させて焼結部310’とする)。ここで、図10Dは、三次元造形物の積層体を焼結させた状態を表している。
図10Dにおいては、焼結部310’は金属粒子が焼結しており、加熱後の支持層300’は、第1材料300aに対応する部分300a’においては分解除去されて何もなくなり、第2材料300bに対応する部分300b’においては焼結されたセラミックスが残っている。すなわち、支持層300の一部である第1材料300aは構造変化し、支持層300の一部である第2材料300bは構造変化していない。
ここで、図10Cと図10Dを比較すると明らかなように、構成層310を焼結させると、体積は低下する。一方、空間Sに対応する部分においては、第1材料300aに対応する部分が分解除去されて何もなくなることで、空間Sにおける支持層300の体積の収縮率が三次元造形物の積層体の収縮率よりも高くなるよう構成されている。
別の表現をすると、該三次元造形物の製造方法では、支持層300は、空間Sで構成層310を支持する少なくとも一部が、焼結工程に伴う体積変化が相対的に大きい領域(第1材料300aに対応)と小さい領域(第2材料300bに対応)とを有するよう構成されている。このため、体積変化が相対的に大きい領域により効果的に構成層の焼結に伴う体積変化(収縮)に対応して支持層が形状変化し、体積変化が相対的に小さい領域により効率的に焼結中の構成層を支持することができる。
なお、「体積変化が相対的に大きい領域と小さい領域」とは、該小さい領域の体積変化率(収縮率)が該大きい領域の体積変化率(収縮率)よりも大きければその差や絶対量に特に限定はない。例えば、第2材料300bに対応する部分300b’のように、該小さい領域の体積変化率(収縮率)が実質的にない場合も含む意味である。
一方、図7で表される三次元造形物の製造方法では、支持層300は、空間Sで構成層310を支持する少なくとも一部が、焼結工程に伴いパウダー化(粉末化、粒状化)する。このため、焼結工程後に、三次元造形物の焼結体を支持層300から簡単に取り出す(三次元造形物の焼結体から支持層を簡単に除去する)ことができる。
また、図7で表される三次元造形物の製造方法及び図10で表される三次元造形物の製造方法の何れも、支持層300は、空間Sで構成層310を支持する少なくとも一部が、焼結工程に伴い揮発する。このため、焼結工程中又は焼結工程後に該揮発した成分を含む気体の除去工程を実行することで、三次元造形物の焼結体から支持層300を簡単に除去することができる。構成層310で閉じられた空間がある場合、構成層310に含まれる粒子が焼結する過程で粒子間の空間を通じて該揮発した成分を含む気体の除去を行ってもよい。また、少なくとも一部がポーラスである三次元造形物を造形する場合は、焼結工程後に焼結した粒子間の空間を通じて該揮発した成分を含む気体の除去を行ってもよい。
本発明は、上述の実施例に限られるものではなく、その趣旨を逸脱しない範囲において種々の構成で実現することができる。例えば、発明の概要の欄に記載した各形態中の技術的特徴に対応する実施例中の技術的特徴は、上述の課題の一部又は全部を解決するために、あるいは、上述の効果の一部又は全部を達成するために、適宜、差し替えや、組み合わせを行うことが可能である。また、その技術的特徴が本明細書中に必須なものとして説明されていなければ、適宜、削除することが可能である。
50、50a、50b、50c、50d、50e、50f、50g及び50h…構成層構成部、
110…基台、111…駆動装置、120…ステージ、121…試料プレート、
130…ヘッドベース支持部、300、300’…支持層、
300a…第1材料(支持層)、300b…第2材料(支持層)、310…構成層、
310’…焼結部(三次元造形物の焼結体)、400…制御ユニット、
410…ステージコントローラー、500…三次元造形物、
501、502及び503…層、730…ヘッドベース支持部、
1100…ヘッドベース、1200…構成材料供給装置、
1210…構成材料供給ユニット、1210a…構成材料収容部、
1220…供給チューブ、1230…構成材料吐出部、1230a…吐出ノズル、
1230b…吐出駆動部、1400…ヘッドユニット、1400a…保持治具、
1401、1402、1403及び1404…ヘッドユニット、
1500…材料供給コントローラー、1600…ヘッドベース、
1700…支持層形成用材料供給装置、1710…支持層形成用材料供給ユニット、
1710a…支持層形成用材料収容部、1720…供給チューブ、
1730…支持層形成用材料吐出部、1730a…吐出ノズル、
1730b…吐出駆動部、1800…電磁波照射部、1900…ヘッドユニット、
1900a…保持治具、2000…形成装置(三次元造形物の製造装置)、
3000…ガルバノミラー、3100…レーザー照射部、M…材料(構成材料)、
P…トンネル、S…構成層310に囲まれた空間

Claims (5)

  1. 層を積層し積層体を形成することにより三次元造形物を製造する三次元造形物の製造方法であって、
    三次元造形物の構成領域に対応する構成層を形成する構成層形成工程と、
    前記構成層に接し該構成層を支持する支持層を形成する支持層形成工程と、
    前記構成層を焼結する焼結工程と、を有し、
    前記支持層は、少なくとも2方向から前記構成層に囲まれた空間の前記焼結工程に伴う体積減少量よりも、該空間で該構成層を支持する前記支持層の該焼結工程に伴う体積減少量のほうが、大きくなるよう構成されることを特徴とする三次元造形物の製造方法。
  2. 請求項1に記載された三次元造形物の製造方法において、
    前記支持層は、前記空間で前記構成層を支持する少なくとも一部が、前記焼結工程に伴い構造変化することを特徴とする三次元造形物の製造方法。
  3. 請求項1又は2に記載された三次元造形物の製造方法において、
    前記支持層は、前記空間で前記構成層を支持する少なくとも一部が、前記焼結工程に伴う体積変化が相対的に大きい領域と小さい領域とを有するよう構成されることを特徴とする三次元造形物の製造方法。
  4. 請求項1から3のいずれか1項に記載された三次元造形物の製造方法において、
    前記支持層は、前記空間で前記構成層を支持する少なくとも一部が、前記焼結工程に伴いパウダー化することを特徴とする三次元造形物の製造方法。
  5. 請求項1から4のいずれか1項に記載された三次元造形物の製造方法において、
    前記支持層は、前記空間で前記構成層を支持する少なくとも一部が、前記焼結工程に伴い揮発することを特徴とする三次元造形物の製造方法。
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