JP2017084066A - Semiconductor device and electronic device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve the performance of a semiconductor device and an electronic device.SOLUTION: A semiconductor device includes: a substrate having a first surface and having an interface unit to be connected to a host; a memory mounted on the first surface; a controller mounted on the first surface, to control the memory; a power circuit which receives first power supply from the host, and performs second power supply to the memory and the controller; a capacitor mounted on the first surface, to perform third power supply to the memory and the controller when the first power supply is cut off; a cover which covers the capacitor; and a bonding part which bonds the cover to the first surface. The memory and the controller are located outside the cover.SELECTED DRAWING: Figure 5

Description

本発明の実施形態は、半導体装置及び電子機器に関する。   Embodiments described herein relate generally to a semiconductor device and an electronic apparatus.

電源供給が絶たれた場合のバックアップ用電源として、電気二重層コンデンサが実装された半導体装置が提供されている。   As a backup power source when power supply is cut off, a semiconductor device mounted with an electric double layer capacitor is provided.

特開2000−269100号公報JP 2000-269100 A

本発明の実施形態は、半導体装置及び電子機器の性能を向上させる。   Embodiments of the present invention improve the performance of semiconductor devices and electronic devices.

実施形態の半導体装置は、第一面を有し、ホストと接続可能なインターフェース部を備えた基板と、前記第一面に実装されたメモリと、前記第一面に実装され、前記メモリを制御可能なコントローラと、前記ホストから第一電力供給を受け、前記メモリ及び前記コントローラへの第二電力供給を行う電源回路と、前記第一面に実装され、前記第一電源供給が絶たれた場合に、前記メモリ及び前記コントローラへの第三電力供給を行うコンデンサと、前記コンデンサを覆ったカバーと、前記カバーを前記第一面に接着する接着部と、を有し、前記メモリ及び前記コントローラは、前記カバーの外側に位置する。   The semiconductor device according to the embodiment has a first surface, a substrate having an interface unit connectable to a host, a memory mounted on the first surface, and a memory mounted on the first surface and controlling the memory A controller capable of receiving a first power supply from the host and supplying a second power to the memory and the controller; and mounted on the first surface, and the first power supply is cut off. A capacitor for supplying a third power to the memory and the controller, a cover covering the capacitor, and an adhesive portion for bonding the cover to the first surface. , Located outside the cover.

第1実施形態に係る半導体装置が組み込まれたシステムを例示した斜視図。1 is a perspective view illustrating a system in which a semiconductor device according to a first embodiment is incorporated. 半導体装置がホスト装置に搭載された場合を示した一部切欠き斜視図。FIG. 4 is a partially cutaway perspective view showing a case where a semiconductor device is mounted on a host device. ホスト装置を構成するタブレット部の一部切欠き断面図。The partially cutaway sectional view of the tablet part which constitutes the host device. 第1実施形態に係る半導体装置を示し、(a)は正面図、(b)は背面図、(c)は側面図。The semiconductor device which concerns on 1st Embodiment is shown, (a) is a front view, (b) is a rear view, (c) is a side view. 第1実施形態に係る半導体装置のシステム構成を例示したブロック図。1 is a block diagram illustrating a system configuration of a semiconductor device according to a first embodiment. NANDメモリおよびコントローラを示した断面図。A sectional view showing a NAND memory and a controller. コントローラのシステム構成を例示したブロック図。The block diagram which illustrated the system configuration of the controller. 第1実施形態に係る半導体装置に実装されたコンデンサ及びその周辺構成の概略を示した図。The figure which showed the outline of the capacitor | condenser mounted in the semiconductor device which concerns on 1st Embodiment, and its periphery structure. 第1実施形態に係る半導体装置の一部の断面を示した図。The figure which showed the one part cross section of the semiconductor device which concerns on 1st Embodiment. 第2実施形態に係る半導体装置に実装されたコンデンサ及びその周辺構成の概略を示した図。The figure which showed the outline of the capacitor | condenser mounted in the semiconductor device which concerns on 2nd Embodiment, and its periphery structure. 第3実施形態に係る半導体装置に実装されたコンデンサ及びその周辺構成の概略を示した図。The figure which showed the outline of the capacitor | condenser mounted in the semiconductor device which concerns on 3rd Embodiment, and its periphery structure. 第4実施形態に係る半導体装置の一部の断面を示した図。The figure which showed the one part cross section of the semiconductor device which concerns on 4th Embodiment. 第5実施形態に係る半導体装置の一部の断面を示した図。The figure which showed the one part cross section of the semiconductor device which concerns on 5th Embodiment.

以下、実施の形態について、図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments will be described with reference to the drawings.

本明細書では、いくつかの要素に複数の表現の例を付している。なおこれら表現の例はあくまで例示であり、上記要素が他の表現で表現されることを否定するものではない。また、複数の表現が付されていない要素についても、別の表現で表現されてもよい。   In the present specification, examples of a plurality of expressions are given to some elements. Note that these examples of expressions are merely examples, and do not deny that the above elements are expressed in other expressions. In addition, elements to which a plurality of expressions are not attached may be expressed in different expressions.

また、図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係や各層の厚みの比率などは現実のものと異なることがある。また、図面相互間において互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれることもある。   Further, the drawings are schematic, and the relationship between the thickness and the planar dimensions, the ratio of the thickness of each layer, and the like may differ from the actual ones. Moreover, the part from which the relationship and ratio of a mutual dimension differ between drawings may be contained.

(第1実施形態)
図1乃至図3は、第1実施形態に係る半導体装置1と該半導体装置1が組み込まれたシステム100を示す。システム100は、「電子機器」の一例である。半導体装置1は、「半導体モジュール」及び「半導体記憶装置」の其々一例である。本実施形態に係る半導体装置1は、例えばSSD(Solid State Drive)等のメモリシステムであるが、これに限られるものではない。
(First embodiment)
1 to 3 show a semiconductor device 1 according to the first embodiment and a system 100 in which the semiconductor device 1 is incorporated. The system 100 is an example of an “electronic device”. The semiconductor device 1 is an example of a “semiconductor module” and a “semiconductor memory device”, respectively. The semiconductor device 1 according to the present embodiment is a memory system such as an SSD (Solid State Drive), for example, but is not limited thereto.

図1に示すように、半導体装置1は、例えばサーバ等のシステム100内に記憶装置として組み込まれる。システム100は、半導体装置1と該半導体装置1が装着されたホスト装置2とを含む。ホスト装置2は、例えば上方に開口した複数のコネクタ3(例えばスロット)を有する。   As shown in FIG. 1, the semiconductor device 1 is incorporated as a storage device in a system 100 such as a server. The system 100 includes a semiconductor device 1 and a host device 2 to which the semiconductor device 1 is attached. The host device 2 includes, for example, a plurality of connectors 3 (for example, slots) opened upward.

複数の半導体装置1は、ホスト装置2のコネクタ3に其々装着され、略鉛直方向に起立した姿勢で互いに並べて支持される。このような構成によれば、複数の半導体装置1をコンパクトに纏めて実装可能であり、ホスト装置2の小型化を図ることができる。   The plurality of semiconductor devices 1 are respectively attached to the connectors 3 of the host device 2 and supported side by side in an upright posture in the vertical direction. According to such a configuration, a plurality of semiconductor devices 1 can be mounted in a compact manner, and the host device 2 can be reduced in size.

なお半導体装置1は、例えばノートブック型ポータブルコンピュータやタブレット端末、その他デタッチャブルノートPC(personal computer)のような電子機器のストレージデバイスとして使用されるものでもよい。   The semiconductor device 1 may be used as a storage device of an electronic device such as a notebook portable computer, a tablet terminal, or other detachable notebook PC (personal computer).

以下図2及び図3を用いて、半導体装置1が、ホスト装置2に対応するデタッチャブルノートPCに実装された例について説明する。尚、当該デタッチャブルノートPCはホスト装置2の一例であるためここでは同様の符号を付して、デタッチャブルノートPC2として説明する。またここでは、半導体装置1が接続されたデタッチャブルノートPC2全体をシステム100とする。以下では、デタッチャブルノートPCに半導体装置1が実装される場合を例として説明を行う。   Hereinafter, an example in which the semiconductor device 1 is mounted on a detachable notebook PC corresponding to the host device 2 will be described with reference to FIGS. 2 and 3. Since the detachable notebook PC is an example of the host device 2, the same reference numerals are given here, and the detachable notebook PC 2 will be described. Here, the entire detachable notebook PC 2 to which the semiconductor device 1 is connected is referred to as a system 100. Hereinafter, a case where the semiconductor device 1 is mounted on a detachable notebook PC will be described as an example.

図2は、半導体装置1がデタッチャブルノートPCに実装された場合の図である。図3は、図2に示したデタッチャブルノートPCの表示部110(タブレット型ポータブルコンピュータ201)の断面図である。デタッチャブルノートPCは、表示部110と、第1の入力受付装置であるキーボード部120とが其々互いに切り離し可能に接続部130で接続される。尚、ポータブルコンピュータ201及びデタッチャブルノートPCは、其々ホスト装置2の一例である。   FIG. 2 is a diagram when the semiconductor device 1 is mounted on a detachable notebook PC. FIG. 3 is a cross-sectional view of the display unit 110 (tablet portable computer 201) of the detachable notebook PC shown in FIG. In the detachable notebook PC, a display unit 110 and a keyboard unit 120 which is a first input receiving device are connected to each other by a connection unit 130 so as to be separable from each other. The portable computer 201 and the detachable notebook PC are examples of the host device 2 respectively.

図2及び図3に示す通り、半導体装置1はデタッチャブルノートPCの表示部側に実装される。このため、表示部110を取り外した場合も、タブレット型のポータブルコンピュータ201として機能させることが可能であり、第2の入力受付装置として機能する。   As shown in FIGS. 2 and 3, the semiconductor device 1 is mounted on the display unit side of the detachable notebook PC. For this reason, even when the display unit 110 is removed, it can function as the tablet-type portable computer 201 and functions as the second input receiving device.

ポータブルコンピュータ201は、電子機器の一例であり、例えばユーザが手で持って使用できる大きさを有している。   The portable computer 201 is an example of an electronic device, and has a size that can be used by a user by hand.

ポータブルコンピュータ201は、筐体202、表示モジュール203、半導体装置1およびマザーボード205を主要な要素として備えている。筐体202は、保護板206、ベース207およびフレーム208を有している。保護板206は、ガラスあるいはプラスチック製の四角い板であり、筐体202の表面を構成している。ベース207は、例えばアルミニウム合金又はマグネシウム合金のような金属製であり、筐体202の底を構成している。   The portable computer 201 includes a housing 202, a display module 203, the semiconductor device 1, and a motherboard 205 as main elements. The housing 202 has a protection plate 206, a base 207, and a frame 208. The protection plate 206 is a square plate made of glass or plastic and constitutes the surface of the housing 202. The base 207 is made of a metal such as an aluminum alloy or a magnesium alloy, and constitutes the bottom of the housing 202.

フレーム208は、保護板206とベース207との間に設けられている。フレーム208は、例えばアルミニウム合金又はマグネシウム合金のような金属製であり、実装部210とバンパー部211とを一体に有している。実装部210は、保護板206とベース207との間に設けられている。本実施形態によると、実装部210は、保護板206との間に第1の実装スペース212を規定するとともに、ベース207との間に第2の実装スペース213を規定している。   The frame 208 is provided between the protection plate 206 and the base 207. The frame 208 is made of a metal such as an aluminum alloy or a magnesium alloy, and integrally includes a mounting part 210 and a bumper part 211. The mounting part 210 is provided between the protection plate 206 and the base 207. According to the present embodiment, the mounting unit 210 defines a first mounting space 212 between the protective plate 206 and the second mounting space 213 between the base 207 and the mounting unit 210.

バンパー部211は、実装部210の外周縁部に一体に形成されて、第1の実装スペース212および第2の実装スペース213を周方向に連続して取り囲んでいる。さらに、バンパー部211は、保護板206の外周縁部とベース207の外周縁部との間に跨るように筐体202の厚み方向に延びて、筐体202の外周面を構成している。   The bumper portion 211 is formed integrally with the outer peripheral edge portion of the mounting portion 210 and continuously surrounds the first mounting space 212 and the second mounting space 213 in the circumferential direction. Further, the bumper portion 211 extends in the thickness direction of the housing 202 so as to straddle between the outer peripheral edge portion of the protection plate 206 and the outer peripheral edge portion of the base 207, and constitutes the outer peripheral surface of the housing 202.

表示モジュール203は、筐体202の第1の実装スペース212に収容されている。表示モジュール203は、保護板206で覆われているとともに、保護板206と表示モジュール203との間に手書き入力機能を有するタッチパネル214が介在されている。タッチパネル214は、保護板206の裏面に接着されている。   The display module 203 is accommodated in the first mounting space 212 of the housing 202. The display module 203 is covered with a protective plate 206, and a touch panel 214 having a handwriting input function is interposed between the protective plate 206 and the display module 203. The touch panel 214 is bonded to the back surface of the protection plate 206.

図3に示すように、半導体装置1は、筐体202の第2の実装スペース213にマザーボード205と一緒に収容されている。半導体装置1は、基板11、NANDメモリ12、コントローラ13、及びその他DRAM14等の電子部品を備えている。   As shown in FIG. 3, the semiconductor device 1 is accommodated together with the mother board 205 in the second mounting space 213 of the housing 202. The semiconductor device 1 includes electronic components such as a substrate 11, a NAND memory 12, a controller 13, and other DRAMs 14.

基板11は、例えばプリント配線板であり、導体パターン(図示せず)が形成された第1面11aと該第1面11aの反対側に位置した第2面11bとを有している。回路部品は、基板11の第1面11a及び第2面11bに実装されて、導体パターンに半田付けされている。   The substrate 11 is a printed wiring board, for example, and has a first surface 11a on which a conductor pattern (not shown) is formed and a second surface 11b located on the opposite side of the first surface 11a. The circuit component is mounted on the first surface 11a and the second surface 11b of the substrate 11 and soldered to the conductor pattern.

マザーボード205は、基板224および半導体パッケージおよびチップのような複数の回路部品225を備えている。基板224は、複数の導体パターン(図示していない)が形成されている。回路部品225は、基板224に実装されて、該基板224の導体パターンに半田付けに伴い電気的に接続されている。   The motherboard 205 includes a substrate 224 and a plurality of circuit components 225 such as a semiconductor package and a chip. A plurality of conductor patterns (not shown) are formed on the substrate 224. The circuit component 225 is mounted on the substrate 224 and is electrically connected to the conductor pattern of the substrate 224 along with soldering.

図4は、半導体装置1の外観を示す。図4において、(a)は平面図、(b)は下面図、(c)は側面図である。また図5は、半導体装置1のシステム構成の一例を示す。   FIG. 4 shows the appearance of the semiconductor device 1. 4A is a plan view, FIG. 4B is a bottom view, and FIG. 4C is a side view. FIG. 5 shows an example of the system configuration of the semiconductor device 1.

図4に示すように半導体装置1は、基板11と不揮発性半導体記憶素子としてのNAND型フラッシュメモリ(以下、NANDメモリと略す)12、コントローラ13、NANDメモリ12よりも高速記憶動作が可能な揮発性半導体記憶素子であるDRAM(Dynamic Random Access Memory)14、オシレータ15(OSC)、EEPROM16(Electrically Erasable and Programmable ROM)、電源回路17、温度センサ18、抵抗等のその他の電子部品19、及びコンデンサ20を有する。尚、後述するがコンデンサ20は例えばカバー50に覆われるが、その構成を図4においては省略する。   As shown in FIG. 4, the semiconductor device 1 is a volatile memory that can perform higher-speed storage operation than a substrate 11, a NAND flash memory (hereinafter, abbreviated as a NAND memory) 12 as a nonvolatile semiconductor memory element, a controller 13, and a NAND memory 12. DRAM (Dynamic Random Access Memory) 14, which is a conductive semiconductor memory element, oscillator 15 (OSC), EEPROM 16 (Electrically Erasable and Programmable ROM), power supply circuit 17, temperature sensor 18, other electronic components 19 such as resistors, and capacitor 20 Have In addition, although mentioned later, although the capacitor | condenser 20 is covered by the cover 50, the structure is abbreviate | omitted in FIG.

尚、本実施形態のNANDメモリ12やコントローラ13は、電子部品である半導体パッケージとして実装される。例えばNANDメモリ12の半導体パッケージは、SiP(System in Package)タイプのモジュールであり、複数の半導体チップが1つのパッケージ内に封止されている。コントローラ13は、NANDメモリ12の動作を制御する。   Note that the NAND memory 12 and the controller 13 of this embodiment are mounted as a semiconductor package that is an electronic component. For example, the semiconductor package of the NAND memory 12 is a SiP (System in Package) type module, and a plurality of semiconductor chips are sealed in one package. The controller 13 controls the operation of the NAND memory 12.

基板11は、例えばガラスエポキシ樹脂等の材料で構成された略矩形状の回路基板であり、半導体装置1の外形寸法を規定する。基板11は、第1面11aと、該第1面11aとは反対側に位置した第2面11bとを有する。なお、本明細書において、基板11を構成する面の内、第1面11a及び第2面11b以外の面を基板11の「側面」と定義する。   The substrate 11 is a substantially rectangular circuit substrate made of a material such as glass epoxy resin, and defines the outer dimensions of the semiconductor device 1. The board | substrate 11 has the 1st surface 11a and the 2nd surface 11b located in the opposite side to this 1st surface 11a. In the present specification, a surface other than the first surface 11 a and the second surface 11 b among the surfaces constituting the substrate 11 is defined as a “side surface” of the substrate 11.

半導体装置1において、第1面11aは、NANDメモリ12、コントローラ13、DRAM14、オシレータ15、EEPROM16、電源回路17、温度センサ18、抵抗等のその他の電子部品19、及びコンデンサ20等が実装される部品実装面である。   In the semiconductor device 1, a NAND memory 12, a controller 13, a DRAM 14, an oscillator 15, an EEPROM 16, a power supply circuit 17, a temperature sensor 18, other electronic components 19 such as a resistor, a capacitor 20, and the like are mounted on the first surface 11 a. This is a component mounting surface.

一方で、本実施形態において基板11の第2面11bは、部品が実装されない非部品実装面である。このように、基板11とは独立に設けられた浮く数の部品を基板11の一方の面に集中して配置することで、基板11表面からの部品の突出を片面側のみに集めることが可能である。これにより、部品が基板11の第1面11aと第2面11bとの両面から突出する場合と比較して、半導体装置1の薄型化を図ることができる。   On the other hand, in the present embodiment, the second surface 11b of the substrate 11 is a non-component mounting surface on which no component is mounted. In this way, by arranging the floating number of components provided independently of the substrate 11 so as to be concentrated on one surface of the substrate 11, the protrusions of the components from the surface of the substrate 11 can be collected only on one side. It is. Thereby, compared with the case where components protrude from both surfaces of the first surface 11a and the second surface 11b of the substrate 11, the semiconductor device 1 can be made thinner.

図4に示す通り基板11は、第1縁部11cと、該第1縁部11cとは反対側に位置した第2縁部11dとを有する。第1縁部11cは、インターフェース部21(基板インターフェース部、端子部、接続部)を有する。   As shown in FIG. 4, the substrate 11 has a first edge portion 11c and a second edge portion 11d located on the opposite side of the first edge portion 11c. The first edge part 11c has an interface part 21 (substrate interface part, terminal part, connection part).

インターフェース部21は、例えば複数の接続端子21a(金属端子)を有する。インターフェース部21は、例えばホスト装置2のコネクタ3に差し込まれ、コネクタ3に電気的に接続される。インターフェース部21は、該インターフェース部21とホスト装置2との間で信号(制御信号及びデータ信号)をやり取りする。尚、ここでのホスト装置2とは、例えば前述したポータブルコンピュータ201である。   The interface unit 21 includes, for example, a plurality of connection terminals 21a (metal terminals). For example, the interface unit 21 is inserted into the connector 3 of the host device 2 and is electrically connected to the connector 3. The interface unit 21 exchanges signals (control signals and data signals) between the interface unit 21 and the host device 2. The host device 2 here is, for example, the portable computer 201 described above.

本実施形態に係るインターフェース部21は、例えばPCI Express(以下、PCIe)の規格に則したインターフェースである。すなわち、インターフェース部21とホスト装置2との間には、PCIeの規格に則した高速信号(高速差動信号)が流れる。なお、インターフェース部21は、例えばSATA(Serial Advanced Technology Attachment)、USB(Universal Serial Bus)、SAS(Serial Attached SCSI)などの他の規格に則したものでもよい。半導体装置1は、インターフェース部21を介してホスト装置2から電力の供給を受ける。   The interface unit 21 according to the present embodiment is an interface conforming to, for example, a PCI Express (hereinafter, PCIe) standard. That is, a high-speed signal (high-speed differential signal) conforming to the PCIe standard flows between the interface unit 21 and the host device 2. The interface unit 21 may conform to other standards such as SATA (Serial Advanced Technology Attachment), USB (Universal Serial Bus), and SAS (Serial Attached SCSI). The semiconductor device 1 receives supply of power from the host device 2 via the interface unit 21.

尚インターフェース部21には、基板11の短手方向に沿った中心位置からずれた位置にスリット21bが形成されており、ホスト装置2のコネクタ3側に設けられた突起(図示せず)などと嵌まり合うようになっている。これにより、半導体装置1が表裏逆に取り付けられることを防ぐことができる。   The interface section 21 is formed with a slit 21b at a position shifted from the center position along the short direction of the substrate 11, and a projection (not shown) provided on the connector 3 side of the host device 2 and the like. It comes to fit. This can prevent the semiconductor device 1 from being attached upside down.

電源回路17は、例えばDC−DCコンバータであり、ホスト装置2から供給される電源から半導体パッケージ12などに必要な所定電圧を生成する。尚、電源回路17は、ホスト装置2から供給される電力の損失を抑えるために、インターフェース部21の近傍に設置されることが望ましい。   The power supply circuit 17 is a DC-DC converter, for example, and generates a predetermined voltage necessary for the semiconductor package 12 or the like from the power supplied from the host device 2. The power supply circuit 17 is desirably installed in the vicinity of the interface unit 21 in order to suppress loss of power supplied from the host device 2.

また本実施形態において電源回路17は、ホスト装置2からの電力供給が予告なく絶たれたこと(不正電源断)を検知すると、コンデンサ20からの電力供給に切り替え、不正電源断が起きたことを示す不正電源断通知FEIをコントローラ13に発行する。   Further, in the present embodiment, when the power supply circuit 17 detects that the power supply from the host device 2 has been cut off without notice (unauthorized power cut), the power supply circuit 17 switches to the power supply from the capacitor 20 and detects that the improper power cut has occurred. The unauthorized power-off notification FEI shown is issued to the controller 13.

コントローラ13は、NANDメモリ12の動作を制御する。すなわち、コントローラ13は、NANDメモリ12に対するデータの書き込み、読み出し、及び消去を制御する。   The controller 13 controls the operation of the NAND memory 12. That is, the controller 13 controls writing, reading, and erasing of data with respect to the NAND memory 12.

DRAM14は、揮発性メモリの一例であり、NANDメモリ12の管理情報の保管やデータのキャッシュなどに用いられる。オシレータ15は、所定周波数の動作信号をコントローラ13に供給する。EEPROM16は、制御プログラム等を固定情報として格納している。   The DRAM 14 is an example of a volatile memory, and is used for storage of management information of the NAND memory 12 or data cache. The oscillator 15 supplies an operation signal having a predetermined frequency to the controller 13. The EEPROM 16 stores a control program and the like as fixed information.

温度センサ18は、半導体装置1の温度をコントローラ13に通知する。尚、本実施形態では基板11に1つの温度センサ18が搭載されており、半導体装置1の温度が温度センサ18によって監視される。   The temperature sensor 18 notifies the controller 13 of the temperature of the semiconductor device 1. In the present embodiment, one temperature sensor 18 is mounted on the substrate 11, and the temperature of the semiconductor device 1 is monitored by the temperature sensor 18.

本実施形態において基板11には、NANDメモリ12、コントローラ13、及びDRAM14等の複数種類の電子部品が実装され、それぞれの温度は、半導体装置1の動作状態や、それぞれの電子部品にかかる負荷等によって異なる。このため厳密には、半導体装置1の温度は均一ではない。   In the present embodiment, a plurality of types of electronic components such as a NAND memory 12, a controller 13, and a DRAM 14 are mounted on the substrate 11, and the respective temperatures are the operating state of the semiconductor device 1, the load applied to each electronic component, etc. It depends on. Therefore, strictly speaking, the temperature of the semiconductor device 1 is not uniform.

そこで、本実施形態において「半導体装置1の温度」とは、温度センサ18が実装された位置で計測された温度であると定義する。換言すれば、本実施形態に「半導体装置1の温度」とは、温度センサ18の実装位置周辺の温度である。   Therefore, in the present embodiment, “the temperature of the semiconductor device 1” is defined as a temperature measured at a position where the temperature sensor 18 is mounted. In other words, the “temperature of the semiconductor device 1” in the present embodiment is a temperature around the mounting position of the temperature sensor 18.

本実施形態においてNANDメモリ12の個数や実装位置などは図面に限定されない。例えば、本実施形態ではNANDメモリ12を基板11の第1面11aに2つ(12a及び12b)実装した例を示すが、例えばNANDメモリ12の個数はこれに限定されない。   In the present embodiment, the number and mounting position of the NAND memory 12 are not limited to the drawings. For example, in the present embodiment, an example is shown in which two NAND memories 12 (12a and 12b) are mounted on the first surface 11a of the substrate 11, but the number of NAND memories 12 is not limited to this.

また、温度センサ18は必ずしも1つである必要は無く、例えば複数の温度センサ18が基板11に設けられ、複数の位置における温度を監視する構成としても良い。さらに温度センサ18は、必ずしも基板11上に設けられる必要は無く、コントローラ13の機能として設けられても良い。   The temperature sensor 18 is not necessarily required to be one. For example, a plurality of temperature sensors 18 may be provided on the substrate 11 to monitor temperatures at a plurality of positions. Furthermore, the temperature sensor 18 is not necessarily provided on the substrate 11 and may be provided as a function of the controller 13.

また、温度センサ18はNANDメモリ12、コントローラ13等のパッケージ内部に実装しても良いし、パッケージ表面に貼り付けられるように設けられても良い。この場合、温度センサ18はNANDメモリ12単体の温度やコントローラ13単体の温度を、より正確に測ることが可能となる。   Further, the temperature sensor 18 may be mounted inside a package such as the NAND memory 12 or the controller 13 or may be provided so as to be attached to the surface of the package. In this case, the temperature sensor 18 can measure the temperature of the NAND memory 12 alone and the temperature of the controller 13 alone more accurately.

コンデンサ20は、前述した不正電源断時に、半導体装置1のバックアップ電源として機能する。尚、このような不正電源断時におけるデータ保護を目的としたバックアップ機能を一般にPLP(Power Loss Protection)機能という。尚、本実施形態においてコンデンサ20は、例えば電気二重層コンデンサ(EDLC:Electric Double Layer Capacitor)である。   The capacitor 20 functions as a backup power source for the semiconductor device 1 when the unauthorized power supply is cut off. Note that such a backup function for the purpose of data protection at the time of unauthorized power interruption is generally referred to as a PLP (Power Loss Protection) function. In the present embodiment, the capacitor 20 is, for example, an electric double layer capacitor (EDLC: Electric Double Layer Capacitor).

不正電源断時には、前もって(ホスト装置2からの電力供給が絶たれる前に)充電されたコンデンサ20が、電源回路17に代わって半導体装置1に電力を供給する。   When unauthorized power is cut off, the capacitor 20 charged in advance (before the power supply from the host device 2 is cut off) supplies power to the semiconductor device 1 instead of the power supply circuit 17.

尚、コンデンサ20はコントローラ13から離れた位置に実装されるのが望ましい。コンデンサ20は一般に高熱環境下において、容量劣化が起こる可能性がある。一方で、一般に半導体装置1の動作中、コントローラ13の周辺は、他の領域と比較して温度が高くなりやすい。したがって、本実施形態ではコンデンサ20を図4に示すように、NANDメモリ12とコントローラ13との並び方向においてNANDメモリ12側に配置したが、コンデンサ20の実装位置は図4に限定されない。   The capacitor 20 is preferably mounted at a position away from the controller 13. In general, the capacitor 20 may deteriorate in capacity under a high heat environment. On the other hand, in general, during the operation of the semiconductor device 1, the temperature around the controller 13 tends to be higher than that in other regions. Therefore, in this embodiment, the capacitor 20 is arranged on the NAND memory 12 side in the arrangement direction of the NAND memory 12 and the controller 13 as shown in FIG. 4, but the mounting position of the capacitor 20 is not limited to FIG.

さらに、前述の「NANDメモリ12とコントローラ13との並び方向においてNANDメモリ12側に配置」とは、基板11の第2縁部11dとNANDメモリ12との間の領域にコンデンサ20が配置されるだけでなく、NANDメモリ12とコントローラ13との間の領域において、コンデンサ20がNANDメモリ12側に寄せて配置される場合も含む。   Furthermore, the above-mentioned “arrangement on the NAND memory 12 side in the arrangement direction of the NAND memory 12 and the controller 13” means that the capacitor 20 is disposed in a region between the second edge portion 11 d of the substrate 11 and the NAND memory 12. In addition, the capacitor 20 is disposed near the NAND memory 12 in the region between the NAND memory 12 and the controller 13.

したがってコンデンサ20は、NANDメモリ12との中心間距離よりも、コントローラ13との中心間距離が長くなるような位置に配置されるのが望ましい。   Therefore, it is desirable that the capacitor 20 be arranged at a position where the center distance to the controller 13 is longer than the center distance to the NAND memory 12.

図6は、本実施形態におけるNANDメモリ12としての半導体パッケージ、及びコントローラ13としての半導体パッケージを開示した断面を示す。コントローラ13は、パッケージ基板41、コントローラチップ42、ボンディングワイヤ43、封止部(モールド材)44、及び複数の半田ボール45を有する。NANDメモリ12は、パッケージ基板31、複数のメモリチップ32、ボンディングワイヤ33、封止部(モールド材)34、及び複数の半田ボール35を有する。   FIG. 6 shows a cross section disclosing the semiconductor package as the NAND memory 12 and the semiconductor package as the controller 13 in the present embodiment. The controller 13 includes a package substrate 41, a controller chip 42, bonding wires 43, a sealing portion (mold material) 44, and a plurality of solder balls 45. The NAND memory 12 includes a package substrate 31, a plurality of memory chips 32, bonding wires 33, a sealing portion (mold material) 34, and a plurality of solder balls 35.

基板11は、上述した通り例えば多層の配線基板であり、図示しない電源層、グランド層、及び内部配線を含み、ボンディングワイヤ33,43及び複数の半田ボール35,45等を介してコントローラチップ42と複数の半導体メモリ32とを電気的に接続する。尚、基板11は例えば8層であるがこれに限られない。   The substrate 11 is, for example, a multilayer wiring board as described above, and includes a power supply layer, a ground layer, and internal wiring (not shown). The substrate 11 and the controller chip 42 are connected via bonding wires 33 and 43, a plurality of solder balls 35 and 45, and the like. A plurality of semiconductor memories 32 are electrically connected. In addition, although the board | substrate 11 is 8 layers, for example, it is not restricted to this.

図6に示すように、パッケージ基板31,41には、複数の半田ボール35,45が設けられている。複数の半田ボール35,45は、例えばパッケージ基板31の第2面31bに格子状に配置されている。なお、複数の半田ボール35は、パッケージ基板31の第2面31bの全体にフルで配置される必要はなく、部分的に配置されてもよい。   As shown in FIG. 6, the package substrates 31 and 41 are provided with a plurality of solder balls 35 and 45. The plurality of solder balls 35 and 45 are arranged in a grid pattern on the second surface 31b of the package substrate 31, for example. Note that the plurality of solder balls 35 do not have to be disposed entirely on the entire second surface 31b of the package substrate 31 and may be partially disposed.

また、パッケージ基板31、41とコントローラチップ42、及び半導体メモリ32との固定や、複数の半導体メモリ32同士の固定は、マウントフィルム38、48によって行われる。   The package substrates 31 and 41, the controller chip 42, and the semiconductor memory 32, and the plurality of semiconductor memories 32 are fixed by the mount films 38 and 48.

尚、マウントフィルム38、48は、単体でパッケージ基板31、41に貼り付けられた後、メモリチップ32、及びコントローラチップ42が実装されても良い。また、例えばマウントフィルム48は、コントローラチップ42に用いられるウェハに貼り付けられ、当該ウェハをダイシングすることでチップ個片(コントローラチップ42)としても良い。メモリチップ32及びマウントフィルム38についても同様である。   The mount films 38 and 48 may be attached to the package substrates 31 and 41 as a single unit, and then the memory chip 32 and the controller chip 42 may be mounted thereon. Further, for example, the mount film 48 may be attached to a wafer used for the controller chip 42, and the wafer may be diced into chip pieces (controller chip 42). The same applies to the memory chip 32 and the mount film 38.

また、図4に示すように、本実施形態におけるコントローラ13は略矩形状であり、短手方向の第1縁部13aと、該第1縁部13aの反対側に位置する第2縁部13bと、長手方向の第3縁部13cと、該第3縁部13cの反対側に位置する第4縁部13dとを有する。なお、前記第2縁部13bは、コントローラ13と隣り合って基板11上に搭載されたNANDメモリ12側に位置し、前記第1縁部13aは、基板11が有するインターフェース部21側に位置する。   As shown in FIG. 4, the controller 13 in the present embodiment has a substantially rectangular shape, and includes a first edge 13a in the short direction and a second edge 13b located on the opposite side of the first edge 13a. And a third edge 13c in the longitudinal direction and a fourth edge 13d located on the opposite side of the third edge 13c. The second edge 13b is located on the side of the NAND memory 12 mounted on the substrate 11 adjacent to the controller 13, and the first edge 13a is located on the interface 21 side of the board 11. .

尚、前述した半田ボール45は、コントローラ13の第1縁部13a側に存在する半田ボール45aと、第2縁部13b側に存在する半田ボール45bを含む。また、半田ボール35は、コントローラ13側に位置する半田ボール35aと、該半田ボール35aの反対側に位置する半田ボール35bを含む。   The solder balls 45 described above include a solder ball 45a present on the first edge 13a side of the controller 13 and a solder ball 45b present on the second edge 13b side. The solder ball 35 includes a solder ball 35a located on the controller 13 side and a solder ball 35b located on the opposite side of the solder ball 35a.

図7は、コントローラ13のシステム構成の一例を示す。図7に示すように、コントローラ13は、バッファ131、CPU132(Central Processing Unit)、ホストインターフェース部133、及びメモリインターフェース部134を有する。   FIG. 7 shows an example of the system configuration of the controller 13. As illustrated in FIG. 7, the controller 13 includes a buffer 131, a CPU 132 (Central Processing Unit), a host interface unit 133, and a memory interface unit 134.

尚、コントローラ13には前述のように、例えば温度センサ18の機能が設けられても良いし、電源回路17の機能が設けられても良く、コントローラ13のシステム構成はこれに限定されない。   As described above, the controller 13 may be provided with the function of the temperature sensor 18, for example, or may be provided with the function of the power supply circuit 17, and the system configuration of the controller 13 is not limited to this.

バッファ131は、ホスト装置2から送られてくるデータをNANDメモリ12に書き込む際に、一定量のデータを一時的に記憶したり、NANDメモリ12から読み出されるデータをホスト装置2へ送り出す際に、一定量のデータを一時的に記憶したりする。   The buffer 131 temporarily stores a certain amount of data when writing data sent from the host device 2 to the NAND memory 12, or sends data read from the NAND memory 12 to the host device 2. A certain amount of data is temporarily stored.

CPU132は、半導体装置1の全体の制御を司る。CPU132は、例えばホスト装置2から書込コマンド、読出コマンド、消去コマンドを受けてNANDメモリ12の該当領域に対するアクセスを実行したり、バッファ131を通じたデータ転送処理を制御したりする。   The CPU 132 governs overall control of the semiconductor device 1. For example, the CPU 132 receives a write command, a read command, and an erase command from the host device 2 and executes access to the corresponding area of the NAND memory 12 or controls data transfer processing through the buffer 131.

また、CPU132は前述した不正電源断通知FEIが発行された場合、コンデンサ20からの電力供給中に不正電源断処理を行う。尚不正電源断処理とは、例えば、DRAM14やバッファ131に格納されたデータの不揮発化処理である。換言すれば、DRAM14やバッファ131に格納されたデータを読み出し、NANDメモリ12への書き込み処理を行う。尚、不正電源断処理はこれに限られない。   In addition, when the above-described unauthorized power-off notification FEI is issued, the CPU 132 performs unauthorized power-off processing while supplying power from the capacitor 20. Note that the unauthorized power-off processing is, for example, non-volatile processing of data stored in the DRAM 14 or the buffer 131. In other words, the data stored in the DRAM 14 or the buffer 131 is read and the write process to the NAND memory 12 is performed. Note that the unauthorized power-off process is not limited to this.

一般にSSDなどの半導体装置1では、ホスト装置2からデータの書き込みを要求された場合、当該データをバッファ131に格納した時点で、ホスト装置2に書き込み完了を通知する。よって、不正電源断時にはバッファ131に格納されているが未だNANDメモリ12への書き込みが完了していない当該データの不揮発化処理を行う必要がある。   In general, in the semiconductor device 1 such as an SSD, when the host device 2 is requested to write data, the host device 2 is notified of the completion of writing when the data is stored in the buffer 131. Therefore, it is necessary to perform nonvolatile processing of the data that has been stored in the buffer 131 but has not yet been written to the NAND memory 12 when the unauthorized power is turned off.

ホストインターフェース部133は、基板11のインターフェース部21と、CPU132及びバッファ131との間に位置する。ホストインターフェース部133は、コントローラ13とホスト装置2との間のインターフェース処理を行う。ホストインターフェース部133とホスト装置2との間には例えばPCIe規格に則した高速信号が流れる。   The host interface unit 133 is located between the interface unit 21 of the substrate 11 and the CPU 132 and the buffer 131. The host interface unit 133 performs interface processing between the controller 13 and the host device 2. For example, a high-speed signal conforming to the PCIe standard flows between the host interface unit 133 and the host device 2.

尚、ホストインターフェース部133は、コントローラ13内において、基板11のインターフェース部21の方向、すなわち第1縁部13a側に寄せて配置されている。この場合、ホストインターフェース部133と基板11のインターフェース部21との配線を、短くすることが可能になる。   The host interface unit 133 is arranged in the controller 13 so as to be close to the direction of the interface unit 21 of the substrate 11, that is, the first edge 13 a side. In this case, the wiring between the host interface unit 133 and the interface unit 21 of the substrate 11 can be shortened.

例えば前記ホストインターフェース部133が、コントローラ13内において、インターフェース部21の反対方向、すなわち第2縁部13b側に寄せて配置されると、図4からも分かるように、コントローラチップの長手方向の長さ分だけ、インターフェース部21とホストインターフェース部133とを接続する配線距離も伸びてしまう。配線が長くなることで、寄生容量、寄生抵抗、及び寄生インダクタンス等が増え、信号配線の特性インピーダンスの維持が困難になる。また、信号遅延の原因にもなり得る。   For example, when the host interface unit 133 is arranged in the controller 13 in the opposite direction of the interface unit 21, that is, close to the second edge 13b side, the length of the controller chip in the longitudinal direction can be seen from FIG. Accordingly, the wiring distance for connecting the interface unit 21 and the host interface unit 133 also increases. As the wiring becomes longer, parasitic capacitance, parasitic resistance, parasitic inductance, and the like increase, and it becomes difficult to maintain the characteristic impedance of the signal wiring. It can also cause signal delay.

以上の観点から、本実施形態において、ホストインターフェース部133は、コントローラ13内において第1縁部31aに寄せて配置されることが望ましく、例えばホスト装置2から命令が送られた場合、インターフェース部21はホスト装置2から信号を受け取り、基板11の配線パターンから半田ボール45aを介してホストインターフェース部133と信号のやり取りを行う。これによって半導体装置1の動作安定性の向上が図られる。   From the above viewpoints, in the present embodiment, the host interface unit 133 is preferably arranged close to the first edge 31a in the controller 13, and for example, when a command is sent from the host device 2, the interface unit 21 Receives a signal from the host device 2 and exchanges a signal with the host interface unit 133 from the wiring pattern of the substrate 11 via the solder ball 45a. As a result, the operational stability of the semiconductor device 1 is improved.

また、ホストインターフェース部133と、基板11のインターフェース部21との間には、電子部品が実装されないことが望ましい。   In addition, it is desirable that no electronic component is mounted between the host interface unit 133 and the interface unit 21 of the substrate 11.

前述の通り、ホストインターフェース部133とインターフェース部21との間の配線距離が長い場合、信号配線のインピーダンス維持が困難になる、また、信号遅延の原因になる、などの問題が生じる。よって、ホストインターフェース部133とインターフェース部21とを接続する配線を最短距離で、すなわち直線的に行うために、ホストインターフェース部133とインターフェース部21との間に電子部品が実装されることは望ましくない。   As described above, when the wiring distance between the host interface unit 133 and the interface unit 21 is long, problems such as difficulty in maintaining the impedance of the signal wiring and causing signal delay occur. Therefore, it is not desirable that an electronic component is mounted between the host interface unit 133 and the interface unit 21 in order to perform wiring for connecting the host interface unit 133 and the interface unit 21 at the shortest distance, that is, linearly. .

また、電源回路17やDRAM14等の電子部品は、動作時にノイズを伴う可能性がある。これらの電子部品がホストインターフェース部133とインターフェース部21との間に実装されないことで、ホストインターフェース部133とインターフェース部21との間で交換される信号がノイズを拾う可能性を低くし、半導体装置1の動作安定性の向上を図ることができる。   In addition, electronic components such as the power supply circuit 17 and the DRAM 14 may be accompanied by noise during operation. Since these electronic components are not mounted between the host interface unit 133 and the interface unit 21, a signal exchanged between the host interface unit 133 and the interface unit 21 is less likely to pick up noise. 1 can improve the operational stability.

メモリインターフェース部134は、NANDメモリ12と、CPU132及びバッファ131との間に位置する。メモリインターフェース部134は、コントローラ13とNANDメモリ12との間のインターフェース処理を行う。   The memory interface unit 134 is located between the NAND memory 12 and the CPU 132 and the buffer 131. The memory interface unit 134 performs an interface process between the controller 13 and the NAND memory 12.

本実施形態では、メモリインターフェース部134はコントローラ13内において、基板11のインターフェース部21とは反対側の方向、すなわち第2縁部13b側に寄せて配置されている。この場合、メモリインターフェース部134とNANDメモリ12との配線距離を短くすることが可能になる。   In the present embodiment, the memory interface unit 134 is disposed in the controller 13 so as to be close to the direction opposite to the interface unit 21 of the substrate 11, that is, the second edge 13 b side. In this case, the wiring distance between the memory interface unit 134 and the NAND memory 12 can be shortened.

コントローラ13から送られる信号は、半田ボール45bを介して基板11の配線パターンへと伝わり、半田ボール35aからメモリチップ32へと伝えられる。これにより、配線距離が短くなり、半導体装置1の動作安定性の向上が図られる。   A signal sent from the controller 13 is transmitted to the wiring pattern of the substrate 11 through the solder balls 45b, and is transmitted from the solder balls 35a to the memory chip 32. Thereby, the wiring distance is shortened and the operational stability of the semiconductor device 1 is improved.

さらに、コントローラ13のメモリインターフェース部134と、基板11上のNANDメモリ12との間にも、電源回路17やDRAM14等が実装されないことが望ましい。これは、メモリインターフェース部134とインターフェース部21との間で交換される信号がノイズを拾う可能性を低くし、半導体装置1の動作安定性の向上を図るためである。   Furthermore, it is desirable that neither the power supply circuit 17 nor the DRAM 14 be mounted between the memory interface unit 134 of the controller 13 and the NAND memory 12 on the substrate 11. This is to reduce the possibility that a signal exchanged between the memory interface unit 134 and the interface unit 21 will pick up noise, and to improve the operational stability of the semiconductor device 1.

図8は、本実施形態に係る半導体装置1に実装されたコンデンサ20及びその周辺構成の概略を示した図である。本実施形態ではコンデンサ20は、上面50aを有したカバー50に覆われている。説明の便宜上図8では、カバー50を破線で表し、コンデンサ20を透視した図としている。さらに、説明の便宜上図8ではカバー50の外形を直方体としているが、カバー50の形状はこれに限定されず、例えばカバー50を基板11の側面側から見た場合に、略台形状になるような形状であっても良い。   FIG. 8 is a diagram schematically showing the capacitor 20 mounted on the semiconductor device 1 according to the present embodiment and its peripheral configuration. In the present embodiment, the capacitor 20 is covered with a cover 50 having an upper surface 50a. In FIG. 8, for convenience of explanation, the cover 50 is represented by a broken line and the capacitor 20 is seen through. Further, for convenience of explanation, the outer shape of the cover 50 is a rectangular parallelepiped in FIG. 8, but the shape of the cover 50 is not limited to this, and for example, when the cover 50 is viewed from the side surface side of the substrate 11, it becomes a substantially trapezoidal shape. It may be a simple shape.

図9は、前述のようにカバー50が、基板11の側面側から見た場合に、略台形状になるような形状である場合において、図8に示した線分ABの断面を示した図である。本実施形態においてカバー50の断面における外形は、前述のように例えば台形形状である。   FIG. 9 is a diagram showing a cross section of the line segment AB shown in FIG. 8 when the cover 50 has a substantially trapezoidal shape when viewed from the side of the substrate 11 as described above. It is. In the present embodiment, the outer shape of the cross section of the cover 50 is, for example, a trapezoidal shape as described above.

本実施形態においてカバー50は、例えばポリカーボネートやABS樹脂等の、一般にプラスチックと称される材質であるとする。尚、ABS樹脂は、アクリロニトリル(Acrylonitrile)、ブタジエン(Butadiene)、スチレン(Styrene)共重合合成樹脂の総称である。   In the present embodiment, the cover 50 is made of a material generally called plastic, such as polycarbonate or ABS resin. The ABS resin is a generic name for acrylonitrile (acrylonitrile), butadiene (butadiene), and styrene (styrene) copolymerized synthetic resins.

カバー50は、基板11の第1面11aに実装されたコンデンサ20を覆う。また、カバー50は、基板11の第1面11aと当接した箇所を、例えば接着剤等で接着することで、基板11に固定されるとともにコンデンサ20を覆う。換言すれば、カバー50は図示されない接着部(接続部)を介して基板11と接続されるとともに、コンデンサ20を覆う。   The cover 50 covers the capacitor 20 mounted on the first surface 11 a of the substrate 11. Further, the cover 50 is fixed to the substrate 11 and covers the capacitor 20 by adhering a portion that contacts the first surface 11a of the substrate 11 with, for example, an adhesive. In other words, the cover 50 is connected to the substrate 11 via an adhesive portion (connection portion) (not shown) and covers the capacitor 20.

このときコンデンサ20は、カバー50及び基板11の第1面11aによって密閉された状態で覆われるのが望ましいが、必ずしも完全に密閉された状態である必要は無い。本実施形態ではコンデンサ20は、カバー50及び第1面11aによって密閉されて覆われているとして説明を行う。   At this time, the capacitor 20 is preferably covered in a state of being sealed by the cover 50 and the first surface 11a of the substrate 11, but is not necessarily in a completely sealed state. In the present embodiment, the capacitor 20 is described as being sealed and covered by the cover 50 and the first surface 11a.

また、本実施形態において「カバー50の外側」とは、カバー50に覆われない領域を示す。また、「カバー50に覆われる領域」は、カバー50の外面の内側の領域であり、カバー50の外面と内面との間の領域も「カバー50に覆われる領域」であるとする。以上より、「カバー50の外側」はカバー50の外面の外側の領域であり、本実施形態において、NANDメモリ12、コントローラ13、及びDRAM14等は、基板11の第1面11aにおいて、カバー50の外側に位置する。   In the present embodiment, “the outside of the cover 50” indicates an area that is not covered by the cover 50. Further, the “area covered by the cover 50” is an area inside the outer surface of the cover 50, and an area between the outer surface and the inner surface of the cover 50 is also an “area covered by the cover 50”. As described above, the “outside of the cover 50” is a region outside the outer surface of the cover 50, and in the present embodiment, the NAND memory 12, the controller 13, the DRAM 14, and the like are arranged on the first surface 11 a of the substrate 11. Located outside.

また、前述のようにカバー50の断面における外形が台形形状である場合、基板11の第1面11aにおいてカバー50に覆われる領域は、カバー50の上面50aよりも広い。   Further, as described above, when the outer shape of the cover 50 is trapezoidal, the area covered by the cover 50 on the first surface 11 a of the substrate 11 is wider than the upper surface 50 a of the cover 50.

一般に電気二重層コンデンサは、正極のシートと負極のシートとを円筒状に丸めた構造のもの(以降、円筒型と称する)や、正極のシートと負極のシートとを重ね合わせた構造のもの(以降、箱型と称する)がある。一般に円筒型のコンデンサは、例えば基板11に実装した場合に、箱型のコンデンサよりも実装高さ(ここでは基板11の厚さ方向の長さと定義)を有する構成となる。   Generally, an electric double layer capacitor has a structure in which a positive electrode sheet and a negative electrode sheet are rolled into a cylindrical shape (hereinafter referred to as a cylindrical type), or a structure in which a positive electrode sheet and a negative electrode sheet are superposed ( Hereinafter referred to as a box type). In general, when a cylindrical capacitor is mounted on the substrate 11, for example, it has a mounting height (defined herein as the length in the thickness direction of the substrate 11) than a box-type capacitor.

一方で、近年のホスト(例えば前述したノートブック型ポータブルコンピュータやタブレット端末、その他デタッチャブルノートPC等)の薄型化に伴い、SSD等の半導体装置1は小型化及び薄型化が望まれる。このため、半導体装置1では箱型のコンデンサが用いられることが多い。尚、本実施形態においてもコンデンサ20は、箱型の電気二重層コンデンサであるとする。   On the other hand, with the recent thinning of hosts (for example, the above-described notebook portable computers, tablet terminals, and other detachable notebook PCs), the semiconductor device 1 such as an SSD is desired to be reduced in size and thickness. For this reason, a box-type capacitor is often used in the semiconductor device 1. In this embodiment, the capacitor 20 is a box-type electric double layer capacitor.

しかし、箱型の電気二重層コンデンサは、一般にパッケージングの際に電極部を露出させる必要があるため、内部に水分が入りやすい構成となる。内部に水分が入った場合、電気二重層コンデンサに用いられる活性炭等の材料が当該水分を吸収し、電気二重層コンデンサの容量劣化の進行を招き得る。   However, a box-type electric double layer capacitor generally has a configuration in which moisture easily enters because it is necessary to expose an electrode portion during packaging. When moisture enters inside, a material such as activated carbon used for the electric double layer capacitor absorbs the moisture, and the capacity deterioration of the electric double layer capacitor may be promoted.

そこで本実施形態ではコンデンサ20は、カバー50及び基板11によって覆われている。このような構成であれば、コンデンサ20に水分が入り込むことを抑制可能であり、ひいてはコンデンサ20の容量劣化の進行を抑制可能である。   Therefore, in this embodiment, the capacitor 20 is covered with the cover 50 and the substrate 11. With such a configuration, it is possible to suppress moisture from entering the capacitor 20, and as a result, it is possible to suppress the progress of capacity deterioration of the capacitor 20.

また、カバー50は前述の通り、断面図において台形形状である。このため、仮にカバー50と基板11との接着が不十分で、基板11とカバー50との間に隙間が生じている場合であっても、外気に含まれた湿気は図9に示した矢印のようにカバー50の形状に沿って流れる。このため、基板11とカバー50との間からの湿気の侵入を防ぎやすい構成である。   Further, the cover 50 has a trapezoidal shape in the sectional view as described above. For this reason, even if the adhesion between the cover 50 and the substrate 11 is insufficient and a gap is generated between the substrate 11 and the cover 50, the moisture contained in the outside air is shown by the arrow in FIG. It flows along the shape of the cover 50 as shown in FIG. For this reason, it is a structure which is easy to prevent the penetration | invasion of moisture from between the board | substrate 11 and the cover 50. FIG.

さらに、本実施形態においてカバー50はプラスチック製である。プラスチックは一般に透光性を有するため、半導体装置1のユーザは、カバー50によって覆われたコンデンサ20を、カバー50を取り外すことなく目視可能である。   Furthermore, in this embodiment, the cover 50 is made of plastic. Since plastic generally has translucency, the user of the semiconductor device 1 can visually recognize the capacitor 20 covered with the cover 50 without removing the cover 50.

加えて、コンデンサ20がカバー50で覆われることで、外気中の埃や塵等がコンデンサ20に影響を及ぼすリスクや、半導体装置1(もしくはコンデンサ20)に外力がかかった場合に、当該外力によるコンデンサ20への負荷を軽減できる。   In addition, since the capacitor 20 is covered with the cover 50, there is a risk that dust or dust in the outside air may affect the capacitor 20, or when an external force is applied to the semiconductor device 1 (or the capacitor 20), due to the external force. The load on the capacitor 20 can be reduced.

尚、カバー50は必ずしもプラスチック製である必要は無く、例えばアルミニウムやステンレス等の金属製であっても良い。金属製である場合、前述のプラスチック製のカバー50を用いる場合よりも強度が高い構成とすることができる。カバー50の材料は、使用環境や用途に応じて適宜選択可能である。   The cover 50 is not necessarily made of plastic, and may be made of metal such as aluminum or stainless steel. In the case of being made of metal, the strength can be made higher than that in the case of using the plastic cover 50 described above. The material of the cover 50 can be appropriately selected according to the use environment and application.

また、基板11の第1面11aの表面に、図示せぬグランド層の一部を露出させて、適当な金属を材料としたカバー50と当接するような構成とすることで、シールド効果を持たせることも可能である。尚、カバー50が金属製である場合、基板11との接着は、例えば半田付けによって行われても良い。   In addition, a part of the ground layer (not shown) is exposed on the surface of the first surface 11a of the substrate 11 so as to come into contact with the cover 50 made of a suitable metal material, thereby providing a shielding effect. It is also possible to When the cover 50 is made of metal, the adhesion to the substrate 11 may be performed by soldering, for example.

さらに、本実施形態において基板11は多層の配線基板である。したがって、基板11に実装されたNANDメモリ12、コントローラ13、及びその他DRAM14等の電子部品同士の接続やインターフェース部21との接続を、基板11の内部層の配線で行われる構成とすることで、カバー50を接着剤等で容易に固定(接着)することが可能である。すなわち、接着剤と配線との干渉を考慮せず、カバー50を設けることができる。   Further, in the present embodiment, the substrate 11 is a multilayer wiring substrate. Therefore, by connecting the electronic components such as the NAND memory 12, the controller 13, and the DRAM 14 mounted on the substrate 11 and the interface unit 21 with the wiring of the inner layer of the substrate 11, The cover 50 can be easily fixed (adhered) with an adhesive or the like. That is, the cover 50 can be provided without considering the interference between the adhesive and the wiring.

尚、本実施形態においてコンデンサ20は、基板11上のいずれの位置に実装されても良く、図面で示したものは一例に過ぎない。しかし、カバー50を設ける上で、基板11上の各種部品の実装位置を修正する必要がある場合、コントローラ13とNANDメモリ12とを接続する配線の長さと、コントローラ13とDRAM14とを接続する配線の長さとを、略同一にすることが望ましい。この際の「略同一」の示す範囲は、例えば半導体装置1の製造時においてタイミング測定をする際の許容範囲を基準としても良い。   In the present embodiment, the capacitor 20 may be mounted on any position on the substrate 11, and what is shown in the drawings is merely an example. However, when it is necessary to correct the mounting positions of various components on the substrate 11 in providing the cover 50, the length of the wiring connecting the controller 13 and the NAND memory 12 and the wiring connecting the controller 13 and the DRAM 14. It is desirable that the lengths of these are substantially the same. The range indicated by “substantially the same” at this time may be based on, for example, an allowable range when timing measurement is performed at the time of manufacturing the semiconductor device 1.

(第2実施形態)
図10に、第2実施形態に係る半導体装置1に実装されたコンデンサ20及びその周辺構成の概略を示した図を示す。尚、本実施形態の説明において、第1実施形態と同様の構成については、同様の符号を付して詳細な説明を省略する。また説明の便宜上図10では、図8と同様にカバー50を破線で表し、コンデンサ20を透視した図としている。
(Second Embodiment)
FIG. 10 is a diagram showing an outline of the capacitor 20 mounted on the semiconductor device 1 according to the second embodiment and its peripheral configuration. In the description of the present embodiment, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof is omitted. For convenience of description, in FIG. 10, the cover 50 is represented by a broken line and the capacitor 20 is seen through, as in FIG. 8.

本実施形態においてコンデンサ20は、カバー50及び基板11の第1面11aで覆われている。尚、本実施形態の説明においてカバー50とコンデンサ20との間に位置する領域を第一領域と表現するとする。本実施形態において第一領域には、防湿剤60が設けられる。尚、防湿剤60は例えばシリカゲルであるが、これに限られず、カバー50の内側の第一領域に侵入した水分並びに湿気等を吸収、除去することができる材料であれば良い。   In the present embodiment, the capacitor 20 is covered with the cover 50 and the first surface 11 a of the substrate 11. In the description of the present embodiment, a region located between the cover 50 and the capacitor 20 is expressed as a first region. In the present embodiment, a moisture-proof agent 60 is provided in the first region. The moisture-proof agent 60 is, for example, silica gel, but is not limited to this, and any material that can absorb and remove moisture, moisture, and the like that have entered the first region inside the cover 50 may be used.

本実施形態において第一領域は、粒子状の多数の防湿剤60を含んでいる。このため、仮にカバー50及び基板11の第1面11aによる密閉が不十分である場合も、第一領域に侵入した水分並びに湿気がコンデンサ20に影響を及ぼし、コンデンサ20の容量を劣化させるリスクを低減可能である。   In the present embodiment, the first region includes a number of particulate moisture-proof agents 60. For this reason, even if the cover 50 and the first surface 11a of the substrate 11 are not sufficiently sealed, the moisture and moisture that have entered the first region affect the capacitor 20 and there is a risk that the capacitance of the capacitor 20 is deteriorated. It can be reduced.

尚、防湿剤60は例えば第一領域全体を充填するように設けられても良い。また、防湿剤60は粒子状のものでなく、例えばシート状のものを用いてカバー50の内側の面(コンデンサ20と面した側)に固定される(接着される・貼り付けられる)構成としても良いし、粒子状の防湿剤とシート状の防湿剤とを併せて用いても良い。   In addition, the moistureproof agent 60 may be provided so that the whole 1st area | region may be filled, for example. Further, the moisture-proof agent 60 is not in the form of particles, but is configured to be fixed (adhered / attached) to the inner surface (side facing the capacitor 20) of the cover 50 using, for example, a sheet-like material. Alternatively, a particulate moisture-proof agent and a sheet-like moisture-proof agent may be used in combination.

さらには、カバー50を基板11に接着する接着剤に、防湿剤に用いることが可能な材料のフィラー等を混ぜることで、防湿効果を高める構成としても良い。   Furthermore, it is good also as a structure which improves a moisture-proof effect by mixing the filler etc. of the material which can be used for a moisture-proof agent with the adhesive agent which adhere | attaches the cover 50 to the board | substrate 11. FIG.

(第3実施形態)
図11に、第3実施形態に係る半導体装置1に実装されたコンデンサ20及びその周辺構成の概略を示した図を示す。尚、本実施形態の説明において、第1実施形態及び第2実施形態と同様の構成については、同様の符号を付して詳細な説明を省略する。本実施形態においてコンデンサ20は、樹脂70で覆われるが、説明の便宜上図11では、樹脂70を破線で表し、コンデンサ20を透視した図としている。
(Third embodiment)
FIG. 11 is a diagram showing an outline of the capacitor 20 mounted on the semiconductor device 1 according to the third embodiment and its peripheral configuration. In the description of the present embodiment, the same reference numerals are given to the same configurations as those in the first embodiment and the second embodiment, and the detailed description is omitted. In this embodiment, the capacitor 20 is covered with the resin 70, but for convenience of explanation, in FIG. 11, the resin 70 is represented by a broken line, and the capacitor 20 is seen through.

コンデンサ20は、前述の通り樹脂70で覆われる。尚、樹脂70の材料は、例えば熱硬化性のエポキシ樹脂であるがこれに限られない。よって換言すれば、コンデンサ20は樹脂70によりモールドされる。   The capacitor 20 is covered with the resin 70 as described above. The material of the resin 70 is, for example, a thermosetting epoxy resin, but is not limited thereto. In other words, the capacitor 20 is molded with the resin 70.

樹脂70は前述の通り熱硬化性である。流動性を持った(硬化前の)樹脂70をコンデンサ20の周辺に流し、熱を加えて樹脂70を硬化させることで、コンデンサ20が樹脂70に覆われる構成となる。   As described above, the resin 70 is thermosetting. The capacitor 70 is covered with the resin 70 by flowing the resin 70 having fluidity (before curing) around the capacitor 20 and curing the resin 70 by applying heat.

本実施形態においては、樹脂70を熱硬化させる際に基板11への接着も同時に行われるため、接着剤等を用いて接着する必要が無い。また、第2実施形態の第一領域のような隙間も存在しない構成である。   In the present embodiment, when the resin 70 is thermally cured, the bonding to the substrate 11 is also performed at the same time, so there is no need to bond using an adhesive or the like. Further, there is no gap as in the first region of the second embodiment.

また、本実施形態の樹脂70は前述の通り熱硬化前は流動性を有するため、基板11と樹脂70との間に隙間が生じにくい。このため、外部からの水分や湿気等の侵入をより防ぎやすい構成である。   Moreover, since the resin 70 of this embodiment has fluidity before thermosetting as described above, a gap is not easily generated between the substrate 11 and the resin 70. For this reason, it is a structure which is easy to prevent the penetration | invasion of the water | moisture content, moisture, etc. from the outside.

さらに、本実施形態の樹脂70は前述の通り熱硬化前は流動性を有する。よって、硬化前の樹脂70に例えば、鉄(Fe)、ニッケル(Ni)、コバルト(Co)等の軟磁性金属や、珪素鋼(Fe−Si)、炭素鋼(Fe−C)、パーマロイ(Fe−Ni)、その他フェライトステンレス等の軟磁性合金のフィラーを混ぜることで、磁気に対するシールド効果を持たせることも可能である。同様に、必要に応じて材料を選択して添加することで、電磁シールド効果を持たせても良いし、例えばカーボン等の熱伝導率の高い材料を用いて、放熱性を高めてもよい。   Furthermore, the resin 70 of this embodiment has fluidity before thermosetting as described above. Therefore, for example, soft resin such as iron (Fe), nickel (Ni), cobalt (Co), silicon steel (Fe-Si), carbon steel (Fe-C), permalloy (Fe) -Ni) and other soft magnetic alloy fillers such as ferritic stainless steel can be mixed to provide a magnetic shielding effect. Similarly, an electromagnetic shielding effect may be provided by selecting and adding a material as necessary, and heat dissipation may be enhanced by using a material having high thermal conductivity such as carbon.

(第4実施形態)
図12に、第4実施形態に係る半導体装置1の一部の断面を示した図を示す。尚、本実施形態の説明において、第1実施形態乃至第3実施形態と同様の構成については、同様の符号を付して詳細な説明を省略する。
(Fourth embodiment)
FIG. 12 is a view showing a cross section of a part of the semiconductor device 1 according to the fourth embodiment. In the description of the present embodiment, the same reference numerals are given to the same configurations as those in the first to third embodiments, and the detailed description is omitted.

本実施形態において半導体装置1は、装置筐体300を備えており、装置筐体300は、基板11の第1面11a側に位置した第一の装置筐体300aと、基板11の第2面11b側に位置した第二の装置筐体300bとを含む。尚基板11は、いずれかの方法で装置筐体300に固定される。尚装置筐体300は、例えば金属製である。また、本実施形態においてコンデンサ20は、カバー80に覆われている。   In the present embodiment, the semiconductor device 1 includes a device housing 300, and the device housing 300 includes a first device housing 300 a located on the first surface 11 a side of the substrate 11 and a second surface of the substrate 11. And a second device housing 300b located on the 11b side. The substrate 11 is fixed to the apparatus housing 300 by any method. The device housing 300 is made of, for example, metal. In the present embodiment, the capacitor 20 is covered with a cover 80.

カバー80は、例えばグラファイトが挙げられる。グラファイトは、ベンゼン環が平面上に並んだグラフェンシートと呼ばれる巨大平面分子がスタッキングされた構成をとり、非常に高い熱伝導率を有する。尚、カバー80は、高い熱伝導性を有する合成樹脂材料(シリコーンゴム、エラストマ、他の柔軟性樹脂等)で形成されてもよい。   An example of the cover 80 is graphite. Graphite has a structure in which large planar molecules called graphene sheets in which benzene rings are arranged on a plane are stacked, and has a very high thermal conductivity. The cover 80 may be formed of a synthetic resin material (silicone rubber, elastomer, other flexible resin, etc.) having high thermal conductivity.

本実施形態においてカバー80は、コンデンサ20を覆うとともに、第一の装置筐体300a及びコンデンサ20と当接する。換言すれば、コンデンサ20は、カバー80を介して装置筐体300(第一の装置筐体300a)と熱的に接続される。尚、本実施形態において「熱的に接続」とは、例えば空気(外気)よりも高い熱伝導率を有した媒体を介して、積極的に熱輸送がされる構成を指す。   In the present embodiment, the cover 80 covers the capacitor 20 and abuts on the first apparatus housing 300 a and the capacitor 20. In other words, the capacitor 20 is thermally connected to the device housing 300 (first device housing 300a) via the cover 80. In the present embodiment, “thermally connected” refers to a configuration in which heat is positively transported through a medium having a higher thermal conductivity than air (outside air), for example.

一般にコンデンサ20は高熱環境下において、容量が劣化することがある。さらに、コンデンサ20が高温環境下に長時間さらされた場合、コンデンサ20そのものが膨張する等の可能性も有る。   In general, the capacity of the capacitor 20 may deteriorate in a high heat environment. Furthermore, when the capacitor 20 is exposed to a high temperature environment for a long time, the capacitor 20 itself may expand.

そこで、本実施形態における前述の構成によれば、例えばコンデンサ20が発熱した場合において、該熱はカバー80を介して装置筐体300(第一の装置筐体300a)へ拡散させることが可能となり、水分だけでなく熱からもコンデンサ20を保護することができる。このため、コンデンサ20の容量劣化の抑制に貢献できる。   Therefore, according to the above-described configuration in the present embodiment, for example, when the capacitor 20 generates heat, the heat can be diffused to the device housing 300 (first device housing 300a) through the cover 80. The capacitor 20 can be protected not only from moisture but also from heat. For this reason, it can contribute to suppression of capacity degradation of capacitor 20.

尚、前述の説明は、カバー80の外側の温度よりもコンデンサ20の温度が高くなる場合を例にとって、カバー80の熱伝導率を高くする構成としたが、例えばカバー80の外側の温度がコンデンサ20の温度よりも高くなるような条件で半導体装置が用いられる場合は、熱伝導率の低い(断熱性の高い)材料でカバー80を構成しても良い。その他、カバー80の材料は、半導体装置1の使用環境に応じて、適宜変更しても良い。   In the above description, the case where the temperature of the capacitor 20 is higher than the temperature outside the cover 80 is described as an example, and the thermal conductivity of the cover 80 is increased. When the semiconductor device is used under a condition that the temperature is higher than 20, the cover 80 may be made of a material having low thermal conductivity (high thermal insulation). In addition, the material of the cover 80 may be appropriately changed according to the use environment of the semiconductor device 1.

(第5実施形態)
図13に、第5実施形態に係る半導体装置1の一部の断面を示した図を示す。尚、本実施形態の説明において、第1実施形態乃至第4実施形態と同様の構成については、同様の符号を付して詳細な説明を省略する。
(Fifth embodiment)
FIG. 13 shows a partial cross-sectional view of the semiconductor device 1 according to the fifth embodiment. In the description of the present embodiment, the same reference numerals are given to the same configurations as those in the first to fourth embodiments, and the detailed description is omitted.

半導体装置1は、第4実施形態と同様に装置筐体300を備えており、装置筐体300は、基板11の第1面11a側に位置した第一の装置筐体300aと、基板11の第2面11b側に位置した第二の装置筐体300bとを含む。尚基板11は、いずれかの方法で装置筐体300に固定される。尚装置筐体300は、例えば金属製である。また、本実施形態においてコンデンサ20は、カバー90に覆われている。   Similar to the fourth embodiment, the semiconductor device 1 includes the device housing 300, and the device housing 300 includes a first device housing 300 a located on the first surface 11 a side of the substrate 11 and the substrate 11. And a second device casing 300b located on the second surface 11b side. The substrate 11 is fixed to the apparatus housing 300 by any method. The device housing 300 is made of, for example, metal. In the present embodiment, the capacitor 20 is covered with a cover 90.

また、本実施形態においてカバー90は、第一の装置筐体300aに固定(接着)されている。このとき、固定手段は接着剤や両面テープ等で接着しても良いし、第一の装置筐体300aに対してカバー90をネジ留めしても良い。さらに、本実施形態において半導体装置1は、基板11とカバー90との間に弾性材95を備える。   In the present embodiment, the cover 90 is fixed (adhered) to the first apparatus housing 300a. At this time, the fixing means may be bonded with an adhesive, double-sided tape, or the like, or the cover 90 may be screwed to the first apparatus housing 300a. Furthermore, in the present embodiment, the semiconductor device 1 includes an elastic material 95 between the substrate 11 and the cover 90.

尚、弾性材95は弾性変形可能な物質であり、ゴムやシリコンエラストマ、その他樹脂等でも良く、その材料は限定されない。また、弾性材95は塑性変形可能な物質でも良い。   The elastic member 95 is an elastically deformable substance, and may be rubber, silicon elastomer, other resin, etc., and the material is not limited. The elastic material 95 may be a plastically deformable material.

本実施形態において、第一の装置筐体300aが第二の装置筐体300bに固定されることで筐体300が形成され、基板11並びに該基板11に実装された各部品は筐体300に収容される。第一の装置筐体300aが第二の装置筐体300bに固定される時、カバー90には基板11方向への力が加わる。このとき、基板11の第1面11a上に予め準備された弾性材95は、図13に示すように、カバー90によって変形されるとともにカバー90と基板11とを隙間なく接続する。   In the present embodiment, the first apparatus casing 300a is fixed to the second apparatus casing 300b to form the casing 300, and the substrate 11 and each component mounted on the substrate 11 are attached to the casing 300. Be contained. When the first device housing 300a is fixed to the second device housing 300b, a force in the direction of the substrate 11 is applied to the cover 90. At this time, the elastic material 95 prepared in advance on the first surface 11a of the substrate 11 is deformed by the cover 90 and connects the cover 90 and the substrate 11 without a gap as shown in FIG.

以上の構成により、本実施形態においてもコンデンサ20を外部の水分・湿気等から保護することができ、コンデンサ20の容量劣化に貢献可能である。また、カバー90と基板11との間に弾性材95を設けることで、カバー90によってコンデンサ20をより密閉しやすい構成である。   With the above configuration, the capacitor 20 can be protected from external moisture and moisture in the present embodiment, and can contribute to the capacity deterioration of the capacitor 20. Further, by providing an elastic material 95 between the cover 90 and the substrate 11, the capacitor 20 can be more easily sealed by the cover 90.

尚、本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具現化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合わせてもよい。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment as it is, and can be embodied by modifying the constituent elements without departing from the scope of the invention in the implementation stage. In addition, various inventions can be formed by appropriately combining a plurality of components disclosed in the embodiment. For example, some components may be deleted from all the components shown in the embodiment. Furthermore, you may combine the component covering different embodiment suitably.

1:半導体装置、2:ホスト装置(デタッチャブルノートPC)、3:コネクタ、11:基板、12:NANDメモリ、13:コントローラ、14:DRAM、15:オシレータ(OSC)、16:EEPROM、17:電源回路、18:温度センサ、19:他の電子部品、20:コンデンサ、21:インターフェース部、31:パッケージ基板、32:メモリチップ、33:ボンディングワイヤ、34:封止部、35:半田ボール、38:マウントフィルム、41:パッケージ基板、42:コントローラチップ、43:ボンディングワイヤ、44:封止部、45:半田ボール、48:マウントフィルム、50:カバー、60:防湿剤、70:樹脂、80:カバー、100:システム、110:表示部、120:キーボード部、130:接続部、131:バッファ、132:CPU、133:ホストインターフェース部、134:メモリインターフェース部、135:データ監視部、201:ポータブルコンピュータ、202:筐体、203:表示モジュール、205:マザーボード、206:保護板、207:ベース、208:フレーム、210:実装部、211:バンパー部、212:第1の実装スペース、213:第2の実装スペース、214:タッチパネル、224:基板、225:回路部品、300:装置筐体。 1: Semiconductor device, 2: Host device (detachable notebook PC), 3: Connector, 11: Board, 12: NAND memory, 13: Controller, 14: DRAM, 15: Oscillator (OSC), 16: EEPROM, 17: Power supply Circuit: 18: Temperature sensor, 19: Other electronic components, 20: Capacitor, 21: Interface part, 31: Package substrate, 32: Memory chip, 33: Bonding wire, 34: Sealing part, 35: Solder ball, 38 : Mount film, 41: Package substrate, 42: Controller chip, 43: Bonding wire, 44: Sealing part, 45: Solder ball, 48: Mount film, 50: Cover, 60: Dampproof agent, 70: Resin, 80: Cover: 100: System, 110: Display section, 120: Keyboard section, 130: Connection 131: Buffer, 132: CPU, 133: Host interface unit, 134: Memory interface unit, 135: Data monitoring unit, 201: Portable computer, 202: Housing, 203: Display module, 205: Motherboard, 206: Protection plate 207: base 208: frame 210: mounting part 211: bumper part 212: first mounting space 213: second mounting space 214: touch panel 224: substrate 225: circuit component 300: Device housing.

Claims (11)

第一面を有し、ホストと接続可能なインターフェース部を備えた基板と、
前記第一面に実装されたメモリと、
前記第一面に実装され、前記メモリを制御可能なコントローラと、
前記ホストから第一電力供給を受け、前記メモリ及び前記コントローラへの第二電力供給を行う電源回路と、
前記第一面に実装され、前記第一電源供給が絶たれた場合に、前記メモリ及び前記コントローラへの第三電力供給を行うコンデンサと、
前記コンデンサを覆ったカバーと、
前記カバーと前記第一面とを接続する接続部と、
を有し、
前記メモリ及び前記コントローラは、前記カバーの外側に位置した半導体装置。
A substrate having a first surface and having an interface portion connectable to a host;
A memory mounted on the first surface;
A controller mounted on the first surface and capable of controlling the memory;
A power supply circuit that receives a first power supply from the host and performs a second power supply to the memory and the controller;
When mounted on the first surface and the first power supply is cut off, a capacitor for performing third power supply to the memory and the controller;
A cover covering the capacitor;
A connecting portion for connecting the cover and the first surface;
Have
The memory and the controller are semiconductor devices located outside the cover.
前記カバーは、当該カバーの上面よりも、前記基板上の前記カバーに覆われる領域が大きくなるように前記コンデンサを覆ったことを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the cover covers the capacitor so that a region covered by the cover on the substrate is larger than an upper surface of the cover. 前記カバーと前記コンデンサと前記第一面とに囲まれた第一領域には、防湿剤が含まれることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 1, wherein the first region surrounded by the cover, the capacitor, and the first surface includes a moisture-proof agent. 前記基板は、第一面とは反対側に位置した第二面を有した多層の配線基板であり、
前記基板に実装された部品と前記コンデンサとの接続は、前記第一面と前記第二面との間に位置した内部配線層により行われることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の半導体装置。
The substrate is a multilayer wiring board having a second surface located on the opposite side of the first surface;
4. The connection between the component mounted on the substrate and the capacitor is performed by an internal wiring layer located between the first surface and the second surface. 5. The semiconductor device according to claim 1.
前記基板は、グランド層を有し、
前記カバーは、前記グランド層と少なくとも一部が当接することを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載の半導体装置。
The substrate has a ground layer;
The semiconductor device according to claim 1, wherein the cover is at least partially in contact with the ground layer.
前記基板は装置筐体に収容され、
前記カバーは、前記コンデンサを覆うとともに、前記コンデンサと前記装置筐体とを熱的に接続することを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の半導体装置。
The substrate is housed in a device housing;
The semiconductor device according to claim 1, wherein the cover covers the capacitor and thermally connects the capacitor and the device housing.
前記基板は前記筐体に収容され、
前記カバーは、前記筐体に固定されるとともに、前記コンデンサを覆うことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載の半導体装置。
The substrate is housed in the housing;
The semiconductor device according to claim 1, wherein the cover is fixed to the housing and covers the capacitor.
前記接続部は、弾性を有することを特徴とする請求項7に記載の半導体装置。   The semiconductor device according to claim 7, wherein the connection portion has elasticity. 前記コンデンサは、
前記メモリ及び前記コントローラの並び方向において、前記メモリ側に位置することを特徴とする請求項1乃至請求項9のいずれか一項に記載の半導体装置。
The capacitor is
The semiconductor device according to claim 1, wherein the semiconductor device is located on the memory side in an arrangement direction of the memory and the controller.
ホストと接続可能なインターフェース部を備えた基板と、
前記基板に実装されたメモリと、
前記基板に実装され、前記メモリを制御可能なコントローラと、
前記第基板に実装され、前記ホストからの第一電力供給が絶たれた場合に、前記メモリ及び前記コントローラへの第二電力供給を行うコンデンサと、
前記コンデンサを覆うとともに、前記基板に固定されたカバーと、
を有した半導体装置。
A board with an interface that can be connected to a host;
A memory mounted on the substrate;
A controller mounted on the substrate and capable of controlling the memory;
A capacitor that is mounted on the substrate and that supplies second power to the memory and the controller when the first power supply from the host is cut off;
Covering the capacitor, and a cover fixed to the substrate;
A semiconductor device having
筐体と、
前記筐体に収容された表示モジュールと、
前記表示モジュールと重なる位置で前記筐体に収容された第一基板と、
前記表示モジュールと重なる位置で前記筐体に収容され、前記第一基板と電気的に接続された第二基板と、
前記第二基板に実装されたメモリと、
前記第二基板に実装され、前記メモリを制御可能なコントローラと、
前記第一基板から第一電力供給を受け、前記メモリ及び前記コントローラへの第二電力供給を行う電源回路と、
前記第二基板に実装され、前記第一電源供給が絶たれた場合に、前記メモリ及び前記コントローラへの第三電力供給を行うコンデンサと、
前記コンデンサを覆うとともに、前記基板に固定されたカバーと、
を有し、
前記メモリ及び前記コントローラは、前記カバーの外側に位置した電子機器。
A housing,
A display module housed in the housing;
A first substrate housed in the housing at a position overlapping the display module;
A second substrate housed in the housing at a position overlapping the display module and electrically connected to the first substrate;
A memory mounted on the second substrate;
A controller mounted on the second substrate and capable of controlling the memory;
A power supply circuit that receives a first power supply from the first substrate and performs a second power supply to the memory and the controller;
When mounted on the second substrate and the first power supply is cut off, a capacitor for performing a third power supply to the memory and the controller;
Covering the capacitor, and a cover fixed to the substrate;
Have
The memory and the controller are electronic devices located outside the cover.
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