JP2017024267A - Laminate and method for producing the same - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a laminate capable of suppressing pattern visualization of a laminated transparent conductive layer and in addition to provide a method for producing the laminate.SOLUTION: There is provided a laminate which comprises: a transparent conductor having a transparent substrate, a first optical adjustment layer and a patterned transparent conductive layer in this order; and an adhesive layer formed on the transparent conductive layer of the transparent conductor, wherein the adhesive layer has a base adhesive region essentially formed by an adhesive composition across the thickness direction from one principal surface of the adhesive layer and an inorganic particle-containing region including inorganic particles across the thickness direction from the other principal surface, the adhesive layer and the transparent conductor are formed so that the inorganic particle-containing region of the adhesive layer and the transparent conductive layer of the transparent conductor come into contact with each other and the element ratio (metal element/carbon) between metal elements and carbon contained in the inorganic particle-containing region is 0.01 to 0.2.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、積層体及びその製造方法に関する。   The present invention relates to a laminate and a method for producing the same.

近年、様々な分野で、液晶ディスプレイ(LCD)等の表示装置や、タッチパネル等を前記表示装置と組み合わせて用いられる入力装置が広く用いられるようになってきている。前記タッチパネルとしては、静電容量方式のタッチパネルが広く普及しており、前記静電容量方式のタッチパネルは、多くの部材を積層させた構成を有しており、部材の貼り合わせには粘着剤層が使用されている。前記静電容量方式のタッチパネルとしては、例えば、カバーガラス/粘着剤層/透明導電層/ガラス基板の積層構成を有する静電容量方式のタッチパネルが挙げられる。   In recent years, display devices such as a liquid crystal display (LCD) and input devices using a touch panel or the like in combination with the display device have been widely used in various fields. As the touch panel, a capacitive touch panel is widely used, and the capacitive touch panel has a structure in which many members are laminated, and an adhesive layer is used for bonding the members. Is used. Examples of the capacitive touch panel include a capacitive touch panel having a laminated structure of cover glass / adhesive layer / transparent conductive layer / glass substrate.

前記透明導電層は、例えば、インジウム・スズ酸化物(ITO)等、高い透明性と導電性を有する材料から形成される。前記透明導電層は、通常屈折率が高いため(ITO膜で1.9前後)、一般的に屈折率が1.45〜1.5程度である粘着剤層と貼り合わせると、透明導電層と粘着剤層との界面における屈折率差から反射率が大きくなる場合があり、視認性に劣るという課題があった。また、前記透明導電層がパターンニングされている場合、パターン化された透明導電層上に粘着剤層を介してカバーガラス等の他部材と貼り合わせると、透明導電層を有していないパターン開口部と、透明導電層を有するパターン部との反射率の差により前記パターンが見える(パターン見え)という不具合が生じる場合があった。   The transparent conductive layer is formed of a material having high transparency and conductivity, such as indium tin oxide (ITO). Since the transparent conductive layer usually has a high refractive index (around 1.9 with an ITO film), the transparent conductive layer generally has a refractive index of about 1.45 to 1.5. The reflectance may increase due to the difference in refractive index at the interface with the pressure-sensitive adhesive layer, and there is a problem that the visibility is poor. In addition, when the transparent conductive layer is patterned, a pattern opening that does not have a transparent conductive layer is formed by pasting on a patterned transparent conductive layer with another member such as a cover glass via an adhesive layer. In some cases, the pattern can be seen (pattern appearance) due to the difference in reflectance between the portion and the pattern portion having the transparent conductive layer.

このような課題に対して、例えば、透明基材、特定の屈折率を有するハードコート層、特定の屈折率を有するアンダーコート層、パターニングされた透明導電層がこの順で積層された透明導電性積層体が知られている(例えば、特許文献1参照)。   For such problems, for example, a transparent substrate, a hard coat layer having a specific refractive index, an undercoat layer having a specific refractive index, and a patterned transparent conductive layer are laminated in this order. A laminate is known (see, for example, Patent Document 1).

特許第5683734号公報Japanese Patent No. 5683734

前記特許文献1では、透明導電層と透明基材の間に特定の屈折率を有するハードコート層やアンダーコート層を配置することにより、パターン見えを抑制できることが開示されている。しかしながら、特許文献1では、透明導電層上に積層される粘着剤層については十分に検討されていないものであり、パターン見えの抑制が十分ではなく、改善の余地があるものであった。   Patent Document 1 discloses that the appearance of a pattern can be suppressed by disposing a hard coat layer or an undercoat layer having a specific refractive index between a transparent conductive layer and a transparent substrate. However, in patent document 1, the adhesive layer laminated | stacked on a transparent conductive layer is not fully examined, suppression of pattern appearance is not enough, and there was room for improvement.

従って、本発明は、透明導電層のパターン見えを抑制することができる積層体を提供することを目的とする。また、本発明は、前記積層体の製造方法を提供することも目的とする。   Therefore, an object of this invention is to provide the laminated body which can suppress the pattern appearance of a transparent conductive layer. Another object of the present invention is to provide a method for producing the laminate.

本発明者等は、前記課題を解決すべく鋭意検討した結果、下記積層体とすることで、前記目的を達成できることを見出して、本発明を完成させるに至った。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the object can be achieved by using the following laminate, and have completed the present invention.

すなわち、本発明は、透明基材、第1光学調整層及びパターニングされた透明導電層をこの順に有する透明導電体、並びに当該透明導電体の透明導電層上に形成された粘着剤層を有する積層体であって、
前記粘着剤層は、当該粘着剤層の一方の主面から厚み方向にわたって、粘着剤組成物により本質的に形成されるベース粘着剤領域を、他方の主面から厚み方向にわたって、無機粒子を含む無機粒子含有領域を有し、
前記粘着剤層と前記透明導電体は、前記粘着剤層の無機粒子含有領域と、前記透明導電体の透明導電層が接するように積層されており、
前記無機粒子含有領域中に含まれる金属元素と炭素の元素比率(金属元素/炭素)が0.01〜0.2であることを特徴とする積層体に関する。
That is, the present invention provides a transparent substrate, a first optical adjustment layer, a transparent conductor having a patterned transparent conductive layer in this order, and a laminate having a pressure-sensitive adhesive layer formed on the transparent conductive layer of the transparent conductor. Body,
The pressure-sensitive adhesive layer includes a base pressure-sensitive adhesive region essentially formed of the pressure-sensitive adhesive composition from one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer to the thickness direction, and inorganic particles from the other main surface to the thickness direction. Having an inorganic particle-containing region,
The pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductor are laminated so that the inorganic particle-containing region of the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductive layer of the transparent conductor are in contact with each other,
The present invention relates to a laminate having a metal element to carbon element ratio (metal element / carbon) contained in the inorganic particle-containing region of 0.01 to 0.2.

前記透明基材の屈折率が、前記第1光学調整層の屈折率より大きく、透明導電層の屈折率より低いことが好ましい。   The refractive index of the transparent substrate is preferably larger than the refractive index of the first optical adjustment layer and lower than the refractive index of the transparent conductive layer.

前記第1光学調整層と透明基材との間に、さらに、前記第1光学調整層の屈折率より高く、前記透明導電層の屈折率より低い屈折率を有する第2光学調整層を備えることが好ましい。   A second optical adjustment layer having a refractive index higher than the refractive index of the first optical adjustment layer and lower than the refractive index of the transparent conductive layer is further provided between the first optical adjustment layer and the transparent substrate. Is preferred.

前記無機粒子含有領域の、透明導電層と接する側の表面の屈折率が、1.47〜1.74であることが好ましい。   The refractive index of the surface of the inorganic particle-containing region on the side in contact with the transparent conductive layer is preferably 1.47 to 1.74.

前記無機粒子含有領域の屈折率が、当該無機粒子含有領域の透明導電層と接する側から、無機粒子含有領域の他方の側に向けて連続的に小さくなっていくことが好ましい。   It is preferable that the refractive index of the inorganic particle-containing region continuously decreases from the side in contact with the transparent conductive layer of the inorganic particle-containing region toward the other side of the inorganic particle-containing region.

前記無機粒子が、ジルコニア粒子を含むことが好ましい。   It is preferable that the inorganic particles include zirconia particles.

前記無機粒子含有領域の平均厚みが、20nm〜600nmであることが好ましい。   The average thickness of the inorganic particle-containing region is preferably 20 nm to 600 nm.

前記透明導電層の表面抵抗値が100Ω/□以下であることが好ましい。   The transparent conductive layer preferably has a surface resistance value of 100Ω / □ or less.

また、本発明は、透明基材、第1光学調整層及び透明導電層をこの順に有する透明導電体を準備する工程、
粘着剤組成物から形成された粘着剤層の一方の主面に、無機粒子を含有する分散液を塗布して、該分散液に含まれる無機粒子を、粘着剤層の一方の主面から厚み方向に浸透させて、前記粘着剤組成物により本質的に形成されるベース粘着剤領域と、無機粒子含有領域とを形成する工程、
前記粘着剤層と前記透明導電体を、前記粘着剤層の前記無機粒子含有領域と、前記透明導電体の透明導電層が接するように貼り合せる工程、を有し、
前記無機粒子含有領域中に含まれる金属元素と炭素の元素比率(金属元素/炭素)が0.1〜0.2であることを特徴とする前記積層体の製造方法に関する。
Further, the present invention provides a step of preparing a transparent conductor having a transparent substrate, a first optical adjustment layer, and a transparent conductive layer in this order,
A dispersion containing inorganic particles is applied to one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive composition, and the inorganic particles contained in the dispersion are thickened from one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer. Infiltrating in the direction to form a base pressure-sensitive adhesive region essentially formed by the pressure-sensitive adhesive composition, and an inorganic particle-containing region,
Bonding the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductor so that the inorganic particle-containing region of the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductive layer of the transparent conductor are in contact with each other;
It is related with the manufacturing method of the said laminated body characterized by the element ratio (metal element / carbon) of the metal element and carbon contained in the said inorganic particle containing area | region being 0.1-0.2.

本発明の積層体は、粘着剤層の透明導電層と接する側に、特定の無機粒子含有領域を有するため、粘着剤層と透明導電層との間の界面における反射を抑制することができ、透明導電層のパターン見えを抑制することができる。また、本発明は、前記効果を奏する積層体を製造することができる積層体の製造方法を提供することができる。   Since the laminate of the present invention has a specific inorganic particle-containing region on the side of the pressure-sensitive adhesive layer in contact with the transparent conductive layer, reflection at the interface between the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductive layer can be suppressed, The pattern appearance of the transparent conductive layer can be suppressed. Moreover, this invention can provide the manufacturing method of the laminated body which can manufacture the laminated body which show | plays the said effect.

本発明の積層体の一実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one Embodiment of the laminated body of this invention. 本発明の積層体の一実施形態を模式的に示す断面図である。It is sectional drawing which shows typically one Embodiment of the laminated body of this invention. 図1、2の粘着剤層の一部の拡大図である。It is a one part enlarged view of the adhesive layer of FIG. 本発明で用いる粘着剤層の形成工程を示す概略図である。It is the schematic which shows the formation process of the adhesive layer used by this invention.

1.積層体
本発明の積層体は、透明基材、第1光学調整層及びパターニングされた透明導電層をこの順に有する透明導電体、並びに当該透明導電体の透明導電層上に形成された粘着剤層を有し、
前記粘着剤層は、当該粘着剤層の一方の主面から厚み方向にわたって、粘着剤組成物により本質的に形成されるベース粘着剤領域を、他方の主面から厚み方向にわたって、無機粒子を含む無機粒子含有領域を有し、
前記粘着剤層と前記透明導電体は、前記粘着剤層の無機粒子含有領域と、前記透明導電体の透明導電層が接するように積層されており、
前記無機粒子含有領域中に含まれる金属元素と炭素の元素比率(金属元素/炭素)が0.01〜0.2であることを特徴とする。
1. Laminated body The laminated body of the present invention includes a transparent base material, a first optical adjustment layer and a patterned transparent conductive layer in this order, and a pressure-sensitive adhesive layer formed on the transparent conductive layer of the transparent conductor. Have
The pressure-sensitive adhesive layer includes a base pressure-sensitive adhesive region essentially formed of the pressure-sensitive adhesive composition from one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer to the thickness direction, and inorganic particles from the other main surface to the thickness direction. Having an inorganic particle-containing region,
The pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductor are laminated so that the inorganic particle-containing region of the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductive layer of the transparent conductor are in contact with each other,
The element ratio (metal element / carbon) of the metal element and carbon contained in the inorganic particle-containing region is 0.01 to 0.2.

本発明の積層体の構成について図面を参照しながら詳細に説明する。なお、図1における各構成の寸法は、その一例を示すものであり、本発明はこれに限定されるものではない。   The configuration of the laminate of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In addition, the dimension of each structure in FIG. 1 shows the example, and this invention is not limited to this.

図1に示すように、本発明の積層体1は、透明導電体5、並びに粘着剤層8を有する。透明導電体5は、透明基材2、第1光学調整層3及びパターニングされた透明導電層4(以下、単に「透明導電層4」ということもある)をこの順に有する。また、粘着剤層8は、粘着剤層8の一方の主面(図1中の矢印Aで示す面)から厚み方向にわたって、粘着剤組成物により本質的に形成されるベース粘着剤領域7と、粘着剤層8の他方の主面(図1中の矢印Bで示す面)から厚み方向にわたって、無機粒子を含む無機粒子含有領域6とを有する。前記粘着剤層8と前記透明導電体5は、前記粘着剤層8の無機粒子含有領域6と、前記透明導電体5の透明導電層4が接するように積層されている。   As shown in FIG. 1, the laminate 1 of the present invention has a transparent conductor 5 and an adhesive layer 8. The transparent conductor 5 includes the transparent base material 2, the first optical adjustment layer 3, and the patterned transparent conductive layer 4 (hereinafter sometimes simply referred to as “transparent conductive layer 4”) in this order. The pressure-sensitive adhesive layer 8 includes a base pressure-sensitive adhesive region 7 that is essentially formed of the pressure-sensitive adhesive composition from one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer 8 (the surface indicated by the arrow A in FIG. 1) to the thickness direction. And an inorganic particle-containing region 6 containing inorganic particles from the other main surface of the pressure-sensitive adhesive layer 8 (the surface indicated by the arrow B in FIG. 1) in the thickness direction. The pressure-sensitive adhesive layer 8 and the transparent conductor 5 are laminated so that the inorganic particle-containing region 6 of the pressure-sensitive adhesive layer 8 and the transparent conductive layer 4 of the transparent conductor 5 are in contact with each other.

本発明においては、粘着剤層8の透明導電層4と接する側に、特定の無機粒子含有領域6を有するため、粘着剤層8と透明導電層4との間の界面における反射を抑制することができる。以下、本発明の積層体1の各構成について、詳細に説明する。   In this invention, since it has the specific inorganic particle containing area | region 6 in the side which contacts the transparent conductive layer 4 of the adhesive layer 8, it suppresses the reflection in the interface between the adhesive layer 8 and the transparent conductive layer 4. Can do. Hereinafter, each structure of the laminated body 1 of this invention is demonstrated in detail.

(1)透明導電体
(1−1)透明基材
透明基材2としては、透明性を有するものであればよく、例えば、樹脂フィルムや、ガラス等からなる基材(例えば、シート状やフィルム状、板状の基材等)等が挙げられ、樹脂フィルムが特に好ましい。透明基材2の厚さは、特に限定されないが、10μm〜200μm程度が好ましく、15μm〜150μm程度がより好ましい。
(1) Transparent conductor (1-1) Transparent base material As the transparent base material 2, what is necessary is just to have transparency, for example, a base material made of a resin film, glass or the like (for example, a sheet or film) A resin film is particularly preferable. The thickness of the transparent substrate 2 is not particularly limited, but is preferably about 10 μm to 200 μm, and more preferably about 15 μm to 150 μm.

前記樹脂フィルムの材料としては、特に制限されないが、透明性を有する各種のプラスチック材料が挙げられる。例えば、その材料として、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。これらの中でも、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂及びポリエーテルスルホン系樹脂が好ましい。   Although it does not restrict | limit especially as a material of the said resin film, Various plastic materials which have transparency are mentioned. For example, the materials include polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, acetate resins, polyethersulfone resins, polycarbonate resins, polyamide resins, polyimide resins, polyolefin resins, (meth) acrylic resins. , Polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polystyrene resin, polyvinyl alcohol resin, polyarylate resin, polyphenylene sulfide resin, and the like. Among these, polyester resins, polyimide resins and polyethersulfone resins are preferable.

また、前記透明基材2には、表面に予めプラズマ処理、コロナ放電、火炎、紫外線照射、電子線照射、化成、酸化等のエッチング処理や下塗り処理を施して、この上に設けられる光学調整層等の前記透明基材2に対する密着性を向上させるようにしてもよい。また、光学調整層等を設ける前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄等により除塵、清浄化してもよい。   In addition, the transparent base material 2 is subjected to etching treatment such as plasma treatment, corona discharge, flame, ultraviolet ray irradiation, electron beam irradiation, chemical conversion, oxidation and undercoating treatment on the surface in advance, and an optical adjustment layer provided thereon You may make it improve the adhesiveness with respect to the said transparent base materials 2, such as. Further, before providing the optical adjustment layer or the like, dust may be removed and cleaned by solvent cleaning, ultrasonic cleaning, or the like, if necessary.

前記透明基材2の屈折率は特に限定されるものではなく、通常1.45〜1.75程度である。また、前記透明基材2の屈折率は、後述する第1光学調整層3の屈折率より大きく、透明導電層4の屈折率より低いことが透明導電層のパターン視認性抑制の点から好ましい。   The refractive index of the transparent substrate 2 is not particularly limited, and is usually about 1.45 to 1.75. Moreover, it is preferable from the point of suppression of the pattern visibility of a transparent conductive layer that the refractive index of the said transparent base material 2 is larger than the refractive index of the 1st optical adjustment layer 3 mentioned later, and lower than the refractive index of the transparent conductive layer 4.

(1−2)光学調整層
第1光学調整層3は、有機物及び無機物からなる群から選択される1種以上の材料から形成されることが好ましく、例えば、無機物と有機物との混合物、有機物単体、無機物単体により形成することができるが、透明導電層のパターニングの加工性(有機物単体の方がエッチングしやすい)の観点からは、有機物単体により形成されることが好ましい。
(1-2) Optical Adjustment Layer The first optical adjustment layer 3 is preferably formed from one or more materials selected from the group consisting of organic substances and inorganic substances. For example, a mixture of an inorganic substance and an organic substance, or an organic substance alone Although it can be formed from an inorganic substance alone, it is preferably formed from an organic substance alone from the viewpoint of the patterning processability of the transparent conductive layer (the organic substance is easier to etch).

第1光学調整層3を形成する無機物としては、NaF、NaAlF、LiF、MgF、CaF、SiO、LaF、CeF、Al、TiO、Nb、Ta、ZrO、ZnO、ZnS、SiO(xは1.5以上2未満)等を挙げることができ、これらの中でも、SiO、Al、TiO、Nb、Ta、ZrO、ZnO、SiO(xは1.5以上2未満)等の無機酸化物が好ましく、SiOがより好ましい。また、第1光学調整層3を形成する有機物としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シロキサン系ポリマー等が挙げられる。特に、有機物として、メラミン樹脂とアルキド樹脂と有機シラン縮合物の混合物からなる熱硬化型樹脂を使用することが好ましい。第1光学調整層3は、上記の材料を用いて、グラビアコート法やバーコート法等の塗工法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等により形成できる。 Examples of inorganic substances forming the first optical adjustment layer 3 include NaF, Na 3 AlF 6 , LiF, MgF 2 , CaF 2 , SiO 2 , LaF 3 , CeF 3 , Al 2 O 3 , TiO 2 , Nb 2 O 5 , Ta 2 O 5 , ZrO 2 , ZnO, ZnS, SiO x (x is 1.5 or more and less than 2) and the like can be mentioned. Among these, SiO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , Nb 2 O 5 Inorganic oxides such as Ta 2 O 5 , ZrO 2 , ZnO, and SiO x (x is 1.5 or more and less than 2) are preferable, and SiO 2 is more preferable. Moreover, as an organic substance which forms the 1st optical adjustment layer 3, an acrylic resin, a urethane resin, a melamine resin, an alkyd resin, an epoxy resin, a siloxane polymer etc. are mentioned. In particular, it is preferable to use a thermosetting resin made of a mixture of a melamine resin, an alkyd resin, and an organic silane condensate as the organic substance. The first optical adjustment layer 3 can be formed using the above materials by a coating method such as a gravure coating method or a bar coating method, a vacuum deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like.

第1光学調整層3が、無機物と有機物の混合物から形成される場合、その混合比は特に限定されないが、例えば、第1光学調整層3における無機物の含有量は、当該無機物を構成する無機原子と第1光学調整層3中に含まれる炭素原子の原子数比により表すことができる。すなわち、無機物を構成する無機原子の原子数と、炭素原子の原子数の比(無機原子/炭素原子)が、0.15以上であることが好ましく、0.30以上であることがより好ましい。前記無機物を構成する無機原子としては、Na、Al、Li、Mg、Ca、Si、La、Ce、Ti、Nb、Ta、Zr、及びZnからなる群から選択される1種以上の原子を挙げることができ、これらの中でもSi、Nb等が好ましく、Siがより好ましい。   When the first optical adjustment layer 3 is formed from a mixture of an inorganic substance and an organic substance, the mixing ratio is not particularly limited. For example, the content of the inorganic substance in the first optical adjustment layer 3 is an inorganic atom constituting the inorganic substance. And the atomic ratio of carbon atoms contained in the first optical adjustment layer 3. That is, the ratio of the number of inorganic atoms and the number of carbon atoms (inorganic atoms / carbon atoms) constituting the inorganic substance is preferably 0.15 or more, and more preferably 0.30 or more. Examples of the inorganic atoms constituting the inorganic substance include one or more atoms selected from the group consisting of Na, Al, Li, Mg, Ca, Si, La, Ce, Ti, Nb, Ta, Zr, and Zn. Among these, Si, Nb and the like are preferable, and Si is more preferable.

前記比(無機原子/炭素原子)は、第1光学調整層3中に含まれる無機原子と炭素原子の原子数比を表すものであり、本発明の積層体が第2光学調整層やその他の光学調整層を含む場合、第1光学調整層3以外の光学調整層は、前記比(無機原子/炭素原子)については適宜調整することができる。   The ratio (inorganic atom / carbon atom) represents the atomic ratio of the inorganic atom and the carbon atom contained in the first optical adjustment layer 3, and the laminate of the present invention is the second optical adjustment layer or other When the optical adjustment layer is included, the optical adjustment layer other than the first optical adjustment layer 3 can be appropriately adjusted with respect to the ratio (inorganic atom / carbon atom).

なお、例えば、第1光学調整層3を構成する材料として、有機シラン縮合物等の無機原子を含む有機物を用いた場合には、光学調整層に無機物を含まない場合であっても、当該有機物中の無機原子(有機シラン縮合物の場合はSi)が検出されることとなる。しかしながら、通常、有機物に由来する無機原子による(無機原子/炭素原子)の比は0.15未満と少ないものである。   For example, when an organic material containing an inorganic atom such as an organic silane condensate is used as a material constituting the first optical adjustment layer 3, the organic material may be used even if the optical adjustment layer does not contain an inorganic material. Inorganic atoms (Si in the case of organosilane condensate) are detected. However, the ratio of (inorganic atoms / carbon atoms) due to inorganic atoms derived from organic substances is usually as low as less than 0.15.

前記第1光学調整層3における無機物を構成する無機原子の含有量は、光電子分光分析(ESCA:Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)で、元素比率のデプスプロファイルを測定することで求めることができる。すなわち、第1光学調整層3に含まれる無機原子を、深さ方向に対してプロットし、第1光学調整層3に該当する深さ範囲において、前記比(無機原子/炭素原子)が最大になる値を採用することができる。   The content of inorganic atoms constituting the inorganic substance in the first optical adjustment layer 3 can be obtained by measuring the depth profile of the element ratio by photoelectron spectroscopy analysis (ESCA). That is, the inorganic atoms contained in the first optical adjustment layer 3 are plotted with respect to the depth direction, and the ratio (inorganic atoms / carbon atoms) is maximized in the depth range corresponding to the first optical adjustment layer 3. Can be adopted.

第1光学調整層3の厚さは、特に限定されるものではないが、例えば、3nm〜200nmであることが好ましく、5nm〜150nmであることがより好ましく、10nm〜40nmであることがさらに好ましい。第1光学調整層3の厚さが前記範囲にあることで、透明導電層のパターンが視認しにくくなるため、好ましい。   Although the thickness of the 1st optical adjustment layer 3 is not specifically limited, For example, it is preferable that they are 3 nm-200 nm, It is more preferable that they are 5 nm-150 nm, It is further more preferable that they are 10 nm-40 nm. . Since the thickness of the 1st optical adjustment layer 3 exists in the said range, since it becomes difficult to visually recognize the pattern of a transparent conductive layer, it is preferable.

第1光学調整層3には、ナノ微粒子を有していてもよい。前記ナノ粒子の粒径としては、特に限定されないが、例えば1〜200nmであり、10〜80nmが好ましく、20〜40nmがより好ましい。粒子サイズが1nmを下回ると、光学調整層内に粒子が均一に分散しなくなる恐れがあり、200nmを上回ると、表面に凹凸が生じ、抵抗値が上昇する恐れがある。ナノ微粒子を形成する無機酸化物としては、例えば、酸化ケイ素(シリカ)、中空ナノシリカ、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ニオブ等の微粒子が挙げられる。これらの中でも、酸化ケイ素(シリカ)、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化ジルコニウム、酸化ニオブの微粒子が好ましい。これらは1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。第1光学調整層3中のナノ微粒子の含有量は90重量%以下であることが好ましく、0.1〜90重量%であることがより好ましい。第1光学調整層3に前記ナノ粒子が含まれる場合は、透過型電子顕微鏡(TEM)の断面像を観察すると、コントラストの違いからナノ粒子の存在を確かめることができる。なお、第1光学調整層3に、ナノ微粒子を含有する場合は、当該ナノ微粒子に由来する無機原子も前記比(無機原子/炭素原子)の「無機原子」の対象となるものである。   The first optical adjustment layer 3 may have nanoparticles. Although it does not specifically limit as a particle size of the said nanoparticle, For example, it is 1-200 nm, 10-80 nm is preferable and 20-40 nm is more preferable. If the particle size is less than 1 nm, the particles may not be uniformly dispersed in the optical adjustment layer. If the particle size is more than 200 nm, the surface may be uneven and the resistance value may be increased. Examples of the inorganic oxide forming the nano fine particles include fine particles of silicon oxide (silica), hollow nano silica, titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, niobium oxide, and the like. Among these, fine particles of silicon oxide (silica), titanium oxide, aluminum oxide, zinc oxide, tin oxide, zirconium oxide, and niobium oxide are preferable. These may be used alone or in combination of two or more. The content of the nanoparticles in the first optical adjustment layer 3 is preferably 90% by weight or less, and more preferably 0.1 to 90% by weight. When the first optical adjustment layer 3 contains the nanoparticles, the presence of the nanoparticles can be confirmed from the difference in contrast when a cross-sectional image of a transmission electron microscope (TEM) is observed. In the case where the first optical adjustment layer 3 contains nanoparticles, the inorganic atoms derived from the nanoparticles are also subject to the “inorganic atoms” in the above ratio (inorganic atoms / carbon atoms).

前記第1光学調整層3の配置は、透明基材2と透明導電層4との間に配置されていればよい。   The first optical adjustment layer 3 may be disposed between the transparent substrate 2 and the transparent conductive layer 4.

前記第1光学調整層3の屈折率は、特に限定されないが、1.35〜1.75程度であることが好ましく、1.40〜1.55程度であることがより好ましい。   The refractive index of the first optical adjustment layer 3 is not particularly limited, but is preferably about 1.35 to 1.75, and more preferably about 1.40 to 1.55.

また、本発明においては、図2に示すように、前記第1光学調整層3と透明基板2の間に、前記第1光学調整層3の屈折率よりも高く、前記透明導電層4の屈折率より低い屈折率を有する第2光学調整層3’を有することが、光学特性の観点から好ましい。   In the present invention, as shown in FIG. 2, the refractive index of the transparent conductive layer 4 is higher than the refractive index of the first optical adjustment layer 3 between the first optical adjustment layer 3 and the transparent substrate 2. It is preferable from the viewpoint of optical characteristics to have the second optical adjustment layer 3 ′ having a refractive index lower than the refractive index.

前記第2光学調整層3’としては、有機物及び無機物からなる群から選択される1種以上の材料から形成されることが好ましく、例えば、無機物と有機物との混合物、有機物単体、無機物単体により形成することができる。無機物、有機物としては、第1光学調整層3で例示したものと同様のものを挙げることができる。第2光学調整層3’の膜厚は、5〜300nm程度が好ましく、10〜100nmがより好ましく、20〜40nmがさらに好ましい。上記の膜厚範囲にすることで、よりパターン視認性を向上させることが出来るため、好ましい。   The second optical adjustment layer 3 ′ is preferably formed from one or more materials selected from the group consisting of organic substances and inorganic substances, for example, a mixture of an inorganic substance and an organic substance, an organic substance alone, or an inorganic substance alone. can do. As an inorganic substance and an organic substance, the thing similar to what was illustrated by the 1st optical adjustment layer 3 can be mentioned. The thickness of the second optical adjustment layer 3 ′ is preferably about 5 to 300 nm, more preferably 10 to 100 nm, and further preferably 20 to 40 nm. By making the film thickness within the above range, the pattern visibility can be further improved, which is preferable.

また、第2光学調整層3’を形成する材料としては、特に限定されるものではなく、前記第1光学調整層3と同じものを挙げることができるが、前記無機物の中でも、屈折率の高い、TiO、Nb、ZrO等の金属酸化物を好適に使用することができる。また、第2光学調整層3’中に含まれる金属元素と炭素の元素比率(金属元素/炭素)としては、特に限定されるものではないが、0.15以上であることが、パターン視認性を好適に制御できる観点から好ましい。前記金属元素と炭素の元素比率については、第1光学調整層における測定方法と同じ方法により測定することができる。また、第1光学調整層3と同様に、第2光学調整層3’においても、平均粒径が1nm〜500nmのナノ微粒子を含有していてもよい。 In addition, the material for forming the second optical adjustment layer 3 ′ is not particularly limited, and the same material as the first optical adjustment layer 3 can be exemplified. Among the inorganic substances, the refractive index is high. , TiO 2 , Nb 2 O 5 , ZrO 2 and other metal oxides can be preferably used. Further, the element ratio between the metal element and the carbon contained in the second optical adjustment layer 3 ′ (metal element / carbon) is not particularly limited, but it is 0.15 or more that the pattern visibility. Is preferable from the viewpoint that can be suitably controlled. About the element ratio of the said metal element and carbon, it can measure by the same method as the measuring method in a 1st optical adjustment layer. Similarly to the first optical adjustment layer 3, the second optical adjustment layer 3 ′ may contain nanoparticles having an average particle diameter of 1 nm to 500 nm.

第2光学調整層3’の屈折率としては、前記第1光学調整層3の屈折率よりも高く、前記透明導電層4の屈折率より低ければよく、特に限定されるものではないが、例えば、1.60〜2.40程度であることが好ましい。第2光学調整層3’の屈折率が前記範囲にあることで、透明導電層のパターン視認性が抑制できるため好ましい。   The refractive index of the second optical adjustment layer 3 ′ is not particularly limited as long as it is higher than the refractive index of the first optical adjustment layer 3 and lower than the refractive index of the transparent conductive layer 4. It is preferably about 1.60 to 2.40. It is preferable that the refractive index of the second optical adjustment layer 3 ′ is in the above range because the pattern visibility of the transparent conductive layer can be suppressed.

また、第1光学調整層3と第2光学調整層3’の屈折率差は、特に限定されるものではないが、0.05〜0.90程度であることが好ましく、0.10〜0.30程度であることがより好ましい。第1光学調整層3と第2光学調整層3’の屈折率差が前記範囲にあることで、透明導電層のパターン視認性が抑制できるため好ましい。   The difference in refractive index between the first optical adjustment layer 3 and the second optical adjustment layer 3 ′ is not particularly limited, but is preferably about 0.05 to 0.90, preferably 0.10 to 0 More preferably, it is about .30. It is preferable that the refractive index difference between the first optical adjustment layer 3 and the second optical adjustment layer 3 ′ is in the above range because the pattern visibility of the transparent conductive layer can be suppressed.

(1−3)透明導電層
透明導電層4は、金属酸化物により形成された層であることが好ましい。金属酸化物としては、インジウム、スズ、亜鉛、ガリウム、アンチモン、チタン、珪素、ジルコニウム、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、銅、パラジウム、タングステンからなる群より選択される少なくとも1種の金属の金属酸化物が好適に用いられる。当該金属酸化物には、必要に応じて、さらに上記群に示された金属原子を含んでいてもよい。これらの中でも、インジウム・スズ酸化物(ITO)であることが好ましい。
(1-3) Transparent conductive layer The transparent conductive layer 4 is preferably a layer formed of a metal oxide. As the metal oxide, metal oxidation of at least one metal selected from the group consisting of indium, tin, zinc, gallium, antimony, titanium, silicon, zirconium, magnesium, aluminum, gold, silver, copper, palladium, tungsten A thing is used suitably. The metal oxide may further contain a metal atom shown in the above group, if necessary. Among these, indium tin oxide (ITO) is preferable.

透明導電層4の厚さは特に制限されないが、その表面抵抗を300Ω/□以下の良好な導電性を有する連続被膜とするには、厚さを10nm以上とするのが好ましい。膜厚が、厚くなりすぎると透明性の低下等をきたすため、15nm〜35nmであることが好ましく、20nm〜30nmがより好ましい。透明導電層4の厚さが10nm未満であると膜表面の電気抵抗が高くなり、かつ連続被膜になり難くなる。また、透明導電層4の厚さが35nmを超えると透明性の低下等をきたす場合がある。   The thickness of the transparent conductive layer 4 is not particularly limited, but the thickness is preferably 10 nm or more in order to obtain a continuous film having good surface resistance of 300Ω / □ or less. When the film thickness becomes too thick, the transparency is lowered, and therefore, it is preferably 15 nm to 35 nm, and more preferably 20 nm to 30 nm. If the thickness of the transparent conductive layer 4 is less than 10 nm, the electrical resistance of the film surface becomes high and it becomes difficult to form a continuous film. Further, when the thickness of the transparent conductive layer 4 exceeds 35 nm, the transparency may be lowered.

透明導電層4の表面抵抗値は、特に限定されず、300Ω/□以下であればよいが、100Ω/□以下であることが好ましく、0.1〜100Ω/□がより好ましく、0.1〜80Ω/□がさらに好ましい。導電層の表面抵抗値が100Ω/□以下であると、タッチパネル等とした時の電力消費が抑えられ、かつ、操作性も良くなるため好ましい。   The surface resistance value of the transparent conductive layer 4 is not particularly limited and may be 300Ω / □ or less, preferably 100Ω / □ or less, more preferably 0.1 to 100Ω / □, 80Ω / □ is more preferable. It is preferable that the surface resistance value of the conductive layer is 100Ω / □ or less because power consumption when a touch panel or the like is used is suppressed and operability is improved.

透明導電層4の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。具体的には、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法を例示できる。これらの方法は、必要とする膜厚に応じて適宜採用することができる。   It does not specifically limit as a formation method of the transparent conductive layer 4, A conventionally well-known method is employable. Specifically, for example, a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method can be exemplified. These methods can be appropriately employed depending on the required film thickness.

また、透明導電層4は、非晶質であっても結晶質であってもよい。   The transparent conductive layer 4 may be amorphous or crystalline.

本発明で用いる透明導電層4は、パターニングされている。パターン形成方法としては、公知のいかなる方法も採用することができるが、例えば、エッチングにより行なうことができる。パターニング部の形状としては、例えば、ストライプ状、スクエア状等が挙げられる。パターニングされている透明導電層4は、透明導電層を有していないパターン開口部と、透明導電層を有するパターン部で段差を生じるが、当該段差は粘着剤層8により埋めることができる。   The transparent conductive layer 4 used in the present invention is patterned. As the pattern forming method, any known method can be adopted, but for example, etching can be performed. Examples of the shape of the patterning portion include a stripe shape and a square shape. The patterned transparent conductive layer 4 has a level difference between a pattern opening having no transparent conductive layer and a pattern having a transparent conductive layer. The level difference can be filled with the adhesive layer 8.

前記透明導電層4の屈折率は、特に限定されるものではないが、通常、1.75〜2.14程度である。   The refractive index of the transparent conductive layer 4 is not particularly limited, but is usually about 1.75 to 2.14.

(1−4)透明導電体の構成
本発明で用いる透明導電体5は、透明基材2、第1光学調整層3及び透明導電層4をこの順に有するものであればよく、第2光学調整層3’等のその他の層をさらに含んでいてもよいが、前記透明導電層4は、前記第1光学調整層3上に直接形成されていることが、パターン見えの抑制の観点から好ましい。
(1-4) Configuration of Transparent Conductor The transparent conductor 5 used in the present invention may have the transparent base material 2, the first optical adjustment layer 3, and the transparent conductive layer 4 in this order, and the second optical adjustment. Although other layers such as a layer 3 ′ may further be included, the transparent conductive layer 4 is preferably formed directly on the first optical adjustment layer 3 from the viewpoint of suppressing pattern appearance.

前記透明基材2には、必要に応じて、ブロッキング防止層、ハードコート層、易接着層等をさらに設けることもできる。   If necessary, the transparent substrate 2 may further be provided with an anti-blocking layer, a hard coat layer, an easy adhesion layer, and the like.

一般に、前記ハードコート層は、フィルムに硬度を持たせてキズ付きを防止する目的で設けられ、前記ブロッキング防止層は、フィルム表面に凹凸を形成して滑り性や耐ブロッキング性を付与するために設けられる。ハードコート層やブロッキング防止層は、第1光学調整層3(又は第2光学調整層3’)と透明基材2との間に形成することもできるし、透明基材2の透明導電層4が形成される側と反対側の面に形成することもできる。   Generally, the hard coat layer is provided for the purpose of imparting hardness to the film to prevent scratches, and the anti-blocking layer is provided for forming slipperiness and blocking resistance by forming irregularities on the film surface. Provided. The hard coat layer and the anti-blocking layer can be formed between the first optical adjustment layer 3 (or the second optical adjustment layer 3 ′) and the transparent substrate 2, or the transparent conductive layer 4 of the transparent substrate 2 can be formed. It can also be formed on the surface opposite to the side on which is formed.

ハードコート層を形成する樹脂としては、熱硬化型樹脂、熱可塑型樹脂、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂、二液混合型樹脂等が挙げられるが、これらの中でも、紫外線照射による硬化処理にて、簡単な加工操作にて効率よくハードコート層を形成することができる紫外線硬化型樹脂が好適である。紫外線硬化型樹脂としては、ポリエステル系、アクリル系、ウレタン系、アミド系、シリコーン系、エポキシ系等の各種のものが挙げられ、紫外線硬化型のモノマー、オリゴマー、ポリマー等が含まれる。好ましく用いられる紫外線硬化型樹脂は、例えば、紫外線重合性の官能基を有するもの、なかでも当該官能基を2個以上、特に3〜6個有するアクリル系のモノマーやオリゴマー成分を含むものが挙げられる。また、紫外線硬化型樹脂には、紫外線重合開始剤が配合されている。   Examples of the resin that forms the hard coat layer include thermosetting resins, thermoplastic resins, ultraviolet curable resins, electron beam curable resins, and two-component mixed resins. Among these, curing by ultraviolet irradiation is possible. An ultraviolet curable resin capable of efficiently forming a hard coat layer by a simple processing operation is preferable. Examples of the ultraviolet curable resin include various types such as polyester, acrylic, urethane, amide, silicone, and epoxy, and examples include ultraviolet curable monomers, oligomers, and polymers. Examples of the ultraviolet curable resin preferably used include those having an ultraviolet polymerizable functional group, particularly those containing an acrylic monomer or oligomer component having 2 or more, particularly 3 to 6 functional groups. . Further, an ultraviolet polymerization initiator is blended in the ultraviolet curable resin.

ハードコート層の形成方法は特に制限されず、適宜な方式を採用することができる。例えば、前記透明基材2上にハードコート層を形成する樹脂組成物を塗工し、乾燥後、硬化処理する方法が採用される。樹脂組成物の塗工は、ファンテン、ダイコーター、キャスティング、スピンコート、ファンテンメタリング、グラビア等の適宜な方式で塗工される。なお、塗工にあたり、前記樹脂組成物は、トルエン、酢酸エチル、酢酸ブチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、イソプロピルアルコール、エチルアルコール等の一般的な溶剤で希釈して溶液としておくことが好ましい。   The formation method in particular of a hard-coat layer is not restrict | limited, A suitable system can be employ | adopted. For example, a method of applying a resin composition for forming a hard coat layer on the transparent substrate 2 and drying and then curing is employed. The resin composition is applied by an appropriate method such as phantom, die coater, casting, spin coating, phanten metalling, and gravure. In the application, the resin composition is preferably diluted with a common solvent such as toluene, ethyl acetate, butyl acetate, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, isopropyl alcohol, ethyl alcohol, and the like to prepare a solution.

ブロッキング防止層としては、硬化型樹脂層中に微粒子を含有させたものや、硬化型樹脂組成物として相分離する2種以上の成分を含有するコーティング組成物を用いたもの、あるいはこれらを併用することによって、表面に凹凸が形成されたものが好適に用いられる。硬化型樹脂層の成分としては、ハードコート層の各成分として前記したものが好適に用いられる。また、相分離する2種以上の成分を含有するコーティング組成物としては、例えば国際公開第2005/073763号パンフレットに記載の組成物を好適に用いることができる。   As the anti-blocking layer, a curable resin layer containing fine particles, a curable resin composition using a coating composition containing two or more components that are phase-separated, or a combination thereof are used. Thus, those having irregularities formed on the surface are preferably used. As the components of the curable resin layer, those described above as the components of the hard coat layer are preferably used. Moreover, as a coating composition containing 2 or more types of components which phase-separate, the composition as described, for example in international publication 2005/073763 pamphlet can be used suitably.

本発明で用いる透明導電体5は、長尺状の透明導電体5がロール状に巻回された透明導電体巻回体とすることができる。また、長尺状の透明導電体5の巻回体は、長尺状の透明基材2のロール状巻回体を用い、前述の透明導電層4、第1光学調整層3、及び必要に応じて付加的な層を、いずれもロール・トゥ・ロール法により形成することによっても形成し得る。   The transparent conductor 5 used in the present invention can be a transparent conductor wound body in which the long transparent conductor 5 is wound in a roll shape. Moreover, the wound body of the long transparent conductor 5 uses the roll-shaped wound body of the long transparent base material 2, the above-mentioned transparent conductive layer 4, the 1st optical adjustment layer 3, and necessity. Accordingly, any additional layers can be formed by roll-to-roll method.

(2)粘着剤層
(2−1)ベース粘着剤領域
本発明で用いる粘着剤層8は、粘着剤組成物により本質的に形成されるベース粘着剤領域7と、無機粒子を含む無機粒子含有領域6とを有する。ここで、「粘着剤組成物により本質的に形成される」とは、ベース粘着剤領域7中の無機粒子の金属元素の元素比率が1atomic%以下であることを意味し、0.5atomic%以下であることが好ましく、0atomic%である(すなわち、無機粒子を含有しない)ことが特に好ましい。無機粒子の元素比率の測定方法は、実施例に記載の方法による。
(2) Pressure-sensitive adhesive layer (2-1) Base pressure-sensitive adhesive region The pressure-sensitive adhesive layer 8 used in the present invention contains a base pressure-sensitive adhesive region 7 essentially formed of a pressure-sensitive adhesive composition, and inorganic particles containing inorganic particles. Region 6. Here, “essentially formed by the pressure-sensitive adhesive composition” means that the element ratio of the metal element of the inorganic particles in the base pressure-sensitive adhesive region 7 is 1 atomic% or less, and 0.5 atomic% or less. And is particularly preferably 0 atomic% (that is, containing no inorganic particles). The method for measuring the element ratio of the inorganic particles is based on the method described in the examples.

前記粘着剤組成物としては、光学用途に使用可能な組成物であれば特に限定されないが、例えば、アクリル系粘着剤組成物、ゴム系粘着剤組成物、シリコーン系粘着剤組成物、ポリエステル系粘着剤組成物、ウレタン系粘着剤組成物、エポキシ系粘着剤組成物及びポリエーテル系粘着剤組成物からなる群から適宜選択して用いることができ、これらを一種単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。これらの中でも、透明性、加工性、耐久性等の観点から、(メタ)アクリル系ポリマーをベースポリマーとするアクリル系粘着剤が好ましい。   The pressure-sensitive adhesive composition is not particularly limited as long as it is a composition that can be used for optical applications. For example, an acrylic pressure-sensitive adhesive composition, a rubber-based pressure-sensitive adhesive composition, a silicone-based pressure-sensitive adhesive composition, and a polyester-based pressure-sensitive adhesive Agent composition, urethane pressure-sensitive adhesive composition, epoxy pressure-sensitive adhesive composition, and polyether-based pressure-sensitive adhesive composition can be appropriately selected and used, and these can be used alone or in combination of two or more. Can be used. Among these, an acrylic pressure-sensitive adhesive having a (meth) acrylic polymer as a base polymer is preferable from the viewpoints of transparency, workability, durability, and the like.

前記(メタ)アクリル系ポリマーとしては、特に限定されるものではないが、炭素数4〜24のアルキル基をエステル基の末端に有するアルキル(メタ)アクリレートを含むモノマー成分を重合することにより得られたものを挙げることができる。なお、アルキル(メタ)アクリレートは、アルキルアクリレート及び/又はアルキルメタクリレートをいい、本発明の(メタ)とは同様の意味である。   Although it does not specifically limit as said (meth) acrylic-type polymer, It is obtained by superposing | polymerizing the monomer component containing the alkyl (meth) acrylate which has a C4-C24 alkyl group in the terminal of an ester group. Can be mentioned. Alkyl (meth) acrylate refers to alkyl acrylate and / or alkyl methacrylate, and (meth) in the present invention has the same meaning.

アルキル(メタ)アクリレートとしては、直鎖状又は分岐鎖状の炭素数4〜24のアルキル基を有すものを例示でき、直鎖状又は分岐鎖状の炭素数4〜9のアルキル基を有するアルキル(メタ)アクリレートが、粘着特性のバランスがとりやすい点で好ましい。これらのアルキル(メタ)アクリレートは1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。   Examples of the alkyl (meth) acrylate include those having a linear or branched alkyl group having 4 to 24 carbon atoms, and having a linear or branched alkyl group having 4 to 9 carbon atoms. Alkyl (meth) acrylates are preferred because they are easy to balance the adhesive properties. These alkyl (meth) acrylates can be used alone or in combination of two or more.

本発明において、前記炭素数4〜24のアルキル基をエステル末端に有するアルキル(メタ)アクリレートは、(メタ)アクリル系ポリマーを形成する単官能性モノマー成分の全量に対して40重量%以上であることが好ましく、50重量%以上であることがより好ましく、60重量%以上であることが特に好ましい。前記炭素数4〜24のアルキル基をエステル末端に有するアルキル(メタ)アクリレートを前記範囲で用いることで、粘着特性のバランスがとりやすいため好ましい。   In the present invention, the alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 4 to 24 carbon atoms at the ester terminal is 40% by weight or more based on the total amount of the monofunctional monomer component forming the (meth) acrylic polymer. It is preferably 50% by weight or more, more preferably 60% by weight or more. It is preferable to use an alkyl (meth) acrylate having an alkyl group having 4 to 24 carbon atoms at the ester end in the above range because the adhesive property can be easily balanced.

(メタ)アクリル系ポリマーを形成するモノマー成分には、単官能性モノマー成分として、前記アルキル(メタ)アクリレート以外の共重合モノマーを含有することができる。共重合モノマーは、モノマー成分における前記アルキル(メタ)アクリレートの残部として用いることができる。   The monomer component that forms the (meth) acrylic polymer may contain a copolymerization monomer other than the alkyl (meth) acrylate as a monofunctional monomer component. A copolymerization monomer can be used as the remainder of the said alkyl (meth) acrylate in a monomer component.

共重合モノマーとしては、例えば、環状窒素含有モノマー、ヒドロキシル基含有モノマー、カルボキシル基含有モノマー、環状エーテル基を有するモノマーが挙げられる。   Examples of the copolymerization monomer include a cyclic nitrogen-containing monomer, a hydroxyl group-containing monomer, a carboxyl group-containing monomer, and a monomer having a cyclic ether group.

また、(メタ)アクリル系ポリマーを形成するモノマー成分には、前記単官能性モノマーの他に、粘着剤の凝集力を調整するために、必要に応じて多官能性モノマーを含有することができる。   In addition to the monofunctional monomer, the monomer component forming the (meth) acrylic polymer can contain a polyfunctional monomer as necessary in order to adjust the cohesive force of the pressure-sensitive adhesive. .

多官能性モノマーは、(メタ)アクリロイル基又はビニル基等の不飽和二重結合を有する重合性の官能基を少なくとも2つ有するモノマーであり、例えば、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレートが挙げられる。多官能性モノマーは、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   The polyfunctional monomer is a monomer having at least two polymerizable functional groups having an unsaturated double bond such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group. For example, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1, Examples include 6-hexanediol di (meth) acrylate and trimethylolpropane tri (meth) acrylate. A polyfunctional monomer can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

多官能性モノマーの使用量は、その分子量や官能基数等により異なるが、単官能性モノマーの合計100重量部に対して、3重量部以下で用いることが好ましい。多官能性モノマーの使用量が前記範囲内であることにより、接着力を向上することができる。   The amount of the polyfunctional monomer used varies depending on the molecular weight, the number of functional groups, and the like, but it is preferably used at 3 parts by weight or less with respect to 100 parts by weight of the monofunctional monomer in total. Adhesive force can be improved when the usage-amount of a polyfunctional monomer exists in the said range.

このような(メタ)アクリル系ポリマーの製造は、溶液重合、紫外線重合等の放射線重合、塊状重合、乳化重合等の各種ラジカル重合等の公知の製造方法を適宜選択できる。また、得られる(メタ)アクリル系ポリマーは、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体等いずれでもよい。   The production of such a (meth) acrylic polymer can be appropriately selected from known production methods such as radiation polymerization such as solution polymerization and ultraviolet polymerization, various radical polymerizations such as bulk polymerization and emulsion polymerization. Further, the (meth) acrylic polymer obtained may be a random copolymer, a block copolymer, a graft copolymer or the like.

ラジカル重合に用いられる重合開始剤、連鎖移動剤、乳化剤等は特に限定されず適宜選択して使用することができる。なお、(メタ)アクリル系ポリマーの重量平均分子量は、重合開始剤、連鎖移動剤の使用量、反応条件により制御可能であり、これらの種類に応じて適宜のその使用量が調整される。   The polymerization initiator, chain transfer agent, emulsifier and the like used for radical polymerization are not particularly limited and can be appropriately selected and used. In addition, the weight average molecular weight of a (meth) acrylic-type polymer can be controlled by the usage-amount of a polymerization initiator and a chain transfer agent, and reaction conditions, The usage-amount is suitably adjusted according to these kinds.

例えば、溶液重合等においては、重合溶媒として、例えば、酢酸エチル、トルエン等が用いられる。具体的な溶液重合例としては、反応は窒素等の不活性ガス気流下で、重合開始剤を加え、通常、50〜70℃程度で、5〜30時間程度の反応条件で行われる。   For example, in solution polymerization or the like, for example, ethyl acetate, toluene or the like is used as a polymerization solvent. As a specific example of solution polymerization, the reaction is performed under an inert gas stream such as nitrogen and a polymerization initiator is added, and the reaction is usually performed at about 50 to 70 ° C. under reaction conditions for about 5 to 30 hours.

溶液重合等に用いられる熱重合開始剤としては、例えば、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル等のアゾ系開始剤、過硫酸カリウム等の過硫酸塩、ジ(2−エチルヘキシル)パーオキシジカーボネート等の過酸化物系開始剤、過硫酸塩と亜硫酸水素ナトリウムの組み合わせ、過酸化物とアスコルビン酸ナトリウムの組み合わせ等の過酸化物と還元剤とを組み合わせたレドックス系開始剤等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。   Examples of thermal polymerization initiators used for solution polymerization include azo initiators such as 2,2′-azobisisobutyronitrile, persulfates such as potassium persulfate, and di (2-ethylhexyl) peroxy. List peroxide-based initiators such as dicarbonates, redox-based initiators that combine peroxides and reducing agents, such as combinations of persulfates and sodium bisulfite, and peroxides and sodium ascorbate. However, it is not limited to these.

前記重合開始剤は、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量はモノマー100重量部に対して、0.005〜1重量部程度であることが好ましく、0.02〜0.5重量部程度であることがより好ましい。   The polymerization initiator may be used alone or in combination of two or more, but the total content is 0.005 to 1 part by weight with respect to 100 parts by weight of the monomer. Is preferably about 0.02 to 0.5 parts by weight.

連鎖移動剤としては、例えば、ラウリルメルカプタン、グリシジルメルカプタン、メルカプト酢酸、2−メルカプトエタノール、チオグリコール酸、チオグルコール酸2−エチルヘキシル、2,3−ジメルカプト−1−プロパノール等が挙げられる。連鎖移動剤は、単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量はモノマー成分の全量100重量部に対して、0.1重量部程度以下である。   Examples of the chain transfer agent include lauryl mercaptan, glycidyl mercaptan, mercaptoacetic acid, 2-mercaptoethanol, thioglycolic acid, 2-ethylhexyl thioglycolate, and 2,3-dimercapto-1-propanol. The chain transfer agent may be used alone or in combination of two or more, but the total content is 0.1 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the total amount of monomer components. Less than or equal to

また、乳化重合する場合に用いる乳化剤としては、例えば、ラウリル硫酸ナトリウム、ラウリル硫酸アンモニウム等のアニオン系乳化剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル等のノニオン系乳化剤等が挙げられる。これらの乳化剤は、単独で用いてもよく2種以上を併用してもよい。   Examples of the emulsifier used for emulsion polymerization include anionic emulsifiers such as sodium lauryl sulfate and ammonium lauryl sulfate, and nonionic emulsifiers such as polyoxyethylene alkyl ether and polyoxyethylene alkylphenyl ether. These emulsifiers may be used alone or in combination of two or more.

また、(メタ)アクリル系ポリマーは、放射線重合により製造する場合には、前記モノマー成分を、電子線、紫外線等の放射線を照射することにより重合して製造することができる。前記放射線重合を電子線で行う場合には、前記モノマー成分には光重合開始剤を含有させることは特に必要ではないが、前記放射線重合を紫外線重合で行う場合には、特に、重合時間を短くすることができる利点等から、モノマー成分に光重合開始剤を含有させることができる。光重合開始剤は1種を単独で又は2種以上を組み合わせて使用することができる。   Moreover, when manufacturing a (meth) acrylic-type polymer by radiation polymerization, it can superpose | polymerize and manufacture the said monomer component by irradiating radiation, such as an electron beam and an ultraviolet-ray. When the radiation polymerization is performed with an electron beam, it is not particularly necessary to include a photopolymerization initiator in the monomer component. However, when the radiation polymerization is performed with ultraviolet polymerization, the polymerization time is particularly shortened. For example, a photopolymerization initiator can be contained in the monomer component because of the advantages that can be achieved. A photoinitiator can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

光重合開始剤としては、特に制限されないが、光重合を開始するものであれば特に制限されず、通常用いられる光重合開始剤を用いることができる。例えば、ベンゾインエーテル系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、α−ケトール系光重合開始剤、芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤、光活性オキシム系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンジル系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ケタール系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド系光重合開始剤等を用いることができる。ベンゾインエーテル系光重合開始剤としては、例えば、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン(商品名:イルガキュア651、BASF社製)等が挙げられる。アセトフェノン系光重合開始剤としては、例えば、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(商品名:イルガキュア184、BASF社製)等が挙げられる。α−ケトール系光重合開始剤としては、例えば、2−メチル−2−ヒドロキシプロピオフェノン等が挙げられる。芳香族スルホニルクロリド系光重合開始剤としては、例えば、2−ナフタレンスルホニルクロライド等が挙げられる。光活性オキシム系光重合開始剤としては、例えば、1−フェニル−1,1−プロパンジオン−2−(o−エトキシカルボニル)−オキシム等が挙げられる。ベンゾイン系光重合開始剤には、例えば、ベンゾイン等が含まれる。ベンジル系光重合開始剤には、例えば、ベンジル等が含まれる。ベンゾフェノン系光重合開始剤には、例えば、ベンゾフェノン等が含まれる。ケタール系光重合開始剤には、例えば、ベンジルジメチルケタール等が含まれる。チオキサントン系光重合開始剤には、例えば、チオキサントン等が含まれる。アシルフォスフィン系光重合開始剤としては、例えば、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)フェニルホスフィンオキシド、ビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)(2,4,4−トリメチルペンチル)ホスフィンオキシド等が挙げられる。   The photopolymerization initiator is not particularly limited, but is not particularly limited as long as it initiates photopolymerization, and a commonly used photopolymerization initiator can be used. For example, benzoin ether photopolymerization initiator, acetophenone photopolymerization initiator, α-ketol photopolymerization initiator, aromatic sulfonyl chloride photopolymerization initiator, photoactive oxime photopolymerization initiator, benzoin photopolymerization initiator Agents, benzyl photopolymerization initiators, benzophenone photopolymerization initiators, ketal photopolymerization initiators, thioxanthone photopolymerization initiators, acylphosphine oxide photopolymerization initiators, and the like can be used. Examples of the benzoin ether photopolymerization initiator include 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one (trade name: Irgacure 651, manufactured by BASF). Examples of the acetophenone-based photopolymerization initiator include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (trade name: Irgacure 184, manufactured by BASF). Examples of the α-ketol photopolymerization initiator include 2-methyl-2-hydroxypropiophenone. Examples of the aromatic sulfonyl chloride photopolymerization initiator include 2-naphthalene sulfonyl chloride. Examples of the photoactive oxime photopolymerization initiator include 1-phenyl-1,1-propanedione-2- (o-ethoxycarbonyl) -oxime. Examples of the benzoin photopolymerization initiator include benzoin. Examples of the benzyl photopolymerization initiator include benzyl. Examples of the benzophenone photopolymerization initiator include benzophenone. Examples of the ketal photopolymerization initiator include benzyl dimethyl ketal. Examples of the thioxanthone photopolymerization initiator include thioxanthone. Examples of the acylphosphine photopolymerization initiator include bis (2,6-dimethoxybenzoyl) phenylphosphine oxide, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) (2,4,4-trimethylpentyl) phosphine oxide, and the like. It is done.

光重合開始剤の使用量は、特に制限されないが、例えば、前記モノマー成分100重量部に対して0.01〜10重量部であることが好ましい。   Although the usage-amount of a photoinitiator is not restrict | limited in particular, For example, it is preferable that it is 0.01-10 weight part with respect to 100 weight part of said monomer components.

本発明で用いる(メタ)アクリル系ポリマーの重量平均分子量は40万〜400万であるのが好ましい。重量平均分子量を40万より大きくすることで、粘着剤層の耐久性を満足させたり、粘着剤層の凝集力が小さくなって糊残りが生じるのを抑えることができる。一方、重量平均分子量が400万よりも大きくなると貼り合せ性が低下する傾向がある。さらに、粘着剤が溶液系において、粘度が高くなりすぎ、塗工が困難になる場合がある。なお、重量平均分子量は、GPC(ゲルパーミネーション・クロマトグラフィー)により測定し、ポリスチレン換算により算出された値をいう。なお、放射線重合で得られた(メタ)アクリル系ポリマーについては、分子量測定は困難である。   The weight average molecular weight of the (meth) acrylic polymer used in the present invention is preferably 400,000 to 4,000,000. By making the weight average molecular weight larger than 400,000, it is possible to satisfy the durability of the pressure-sensitive adhesive layer, or to suppress the occurrence of adhesive residue due to the reduced cohesive force of the pressure-sensitive adhesive layer. On the other hand, when the weight average molecular weight is larger than 4 million, the bonding property tends to be lowered. Furthermore, in the solution system, the viscosity becomes too high, and coating may be difficult. The weight average molecular weight is a value measured by GPC (gel permeation chromatography) and calculated in terms of polystyrene. In addition, it is difficult to measure the molecular weight of the (meth) acrylic polymer obtained by radiation polymerization.

本発明で用いる粘着剤組成物には、架橋剤を含有することができる。架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、シリコーン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、シラン系架橋剤、アルキルエーテル化メラミン系架橋剤、金属キレート系架橋剤、過酸化物等の架橋剤を挙げることができ、これらを1種単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。前記架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤が好ましく用いられる。   The pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention can contain a crosslinking agent. Examples of crosslinking agents include isocyanate crosslinking agents, epoxy crosslinking agents, silicone crosslinking agents, oxazoline crosslinking agents, aziridine crosslinking agents, silane crosslinking agents, alkyletherified melamine crosslinking agents, metal chelate crosslinking agents, Examples of the crosslinking agent include oxides, and these can be used alone or in combination of two or more. As said crosslinking agent, an isocyanate type crosslinking agent and an epoxy-type crosslinking agent are used preferably.

上記架橋剤は1種を単独で使用してもよく、また2種以上を混合して使用してもよいが、全体としての含有量は、前記(メタ)アクリル系ポリマー100重量部に対し、前記架橋剤を10重量部以下で含有することが好ましく、0.01〜10重量部の範囲で含有することがより好ましい。   The crosslinking agent may be used alone or in combination of two or more, but the total content is based on 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer. The crosslinking agent is preferably contained in an amount of 10 parts by weight or less, and more preferably in the range of 0.01 to 10 parts by weight.

本発明において用いる粘着剤組成物には、接着力を向上させるために、(メタ)アクリル系オリゴマーを含有させることができる。(メタ)アクリル系オリゴマーは、本発明で用いる(メタ)アクリル系ポリマーよりもガラス転移温度(Tg)が高く、重量平均分子量が小さい重合体を用いるのが好ましい。かかる(メタ)アクリル系オリゴマーは、粘着付与樹脂として機能し、接着力を増加させる利点を有する。(メタ)アクリル系オリゴマーの配合量は、(メタ)アクリル系ポリマー100重量部に対して20重量部以下であるのが好ましく、0.01〜10重量部がより好ましい。   The pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention can contain a (meth) acrylic oligomer in order to improve the adhesive force. The (meth) acrylic oligomer is preferably a polymer having a glass transition temperature (Tg) higher than that of the (meth) acrylic polymer used in the present invention and a small weight average molecular weight. Such a (meth) acrylic oligomer functions as a tackifier resin and has the advantage of increasing the adhesive force. The blending amount of the (meth) acrylic oligomer is preferably 20 parts by weight or less, more preferably 0.01 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer.

さらに、本発明に用いる粘着剤組成物には、シランカップリング剤を含有することができる。シランカップリング剤の配合量は、(メタ)アクリル系ポリマー100重量部に対して1重量部以下であるのが好ましく、0.01〜1重量部がより好ましい。   Furthermore, the pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention can contain a silane coupling agent. The amount of the silane coupling agent is preferably 1 part by weight or less, more preferably 0.01 to 1 part by weight, based on 100 parts by weight of the (meth) acrylic polymer.

好ましく用いられ得るシランカップリング剤としては、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシ基含有シランカップリング剤、3−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアミノ基含有シランカップリング剤、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の(メタ)アクリル基含有シランカップリング剤、3−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート基含有シランカップリング剤等が挙げられる。   Examples of silane coupling agents that can be preferably used include epoxy group-containing silane coupling agents such as 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, amino group-containing silane coupling agents such as 3-aminopropyltrimethoxysilane, and 3-acrylic acid. Examples include (meth) acrylic group-containing silane coupling agents such as loxypropyltrimethoxysilane, and isocyanate group-containing silane coupling agents such as 3-isocyanatopropyltriethoxysilane.

さらに、本発明で用いる粘着剤組成物には、その他、界面活性剤、可塑剤、粘着性付与剤等の公知の添加剤を含有していてもよい。   Furthermore, the pressure-sensitive adhesive composition used in the present invention may contain other known additives such as surfactants, plasticizers, and tackifiers.

前記ベース粘着剤領域7は、前記粘着剤組成物により形成されるが、その形成方法については後述する。前記ベース粘着剤領域7の屈折率は、通常1.40〜1.55程度である。   The base pressure-sensitive adhesive region 7 is formed of the pressure-sensitive adhesive composition, and the formation method will be described later. The refractive index of the base adhesive region 7 is usually about 1.40 to 1.55.

(2−2)無機粒子含有領域
本発明で用いる粘着剤層8の無機粒子含有領域6を構成する無機粒子は、特に限定されるものではないが、ベース粘着剤層7よりも屈折率が高い高屈折率粒子を含むことが好ましい。
(2-2) Inorganic particle-containing region The inorganic particles constituting the inorganic particle-containing region 6 of the pressure-sensitive adhesive layer 8 used in the present invention are not particularly limited, but have a higher refractive index than the base pressure-sensitive adhesive layer 7. It is preferable that high refractive index particles are included.

本発明で用いる無機率粒子の屈折率は、特にされないが、一般的に、ベース粘着剤層の屈折率が1.40〜1.55程度であるため、1.60〜2.74程度であることが好ましく、1.65〜2.20程度であることがより好ましい。無機粒子の屈折率が前記範囲にあることで、粘着剤層の一方主面(無機粒子含有領域6の表面)の屈折率を高くすることができるため好ましい。   The refractive index of the inorganic particles used in the present invention is not particularly limited, but is generally about 1.60 to 2.74 because the refractive index of the base adhesive layer is about 1.40 to 1.55. It is preferable that it is about 1.65 to 2.20. It is preferable for the refractive index of the inorganic particles to be in the above range because the refractive index of one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer (the surface of the inorganic particle-containing region 6) can be increased.

前記無機粒子の屈折率は、前記ベース粘着剤層7の屈折率よりも大きいことが好ましく、無機粒子の屈折率と、ベース粘着剤層7の屈折率の差が、0.2〜1.3であることが好ましく、0.3〜1.2であることがより好ましい。屈折率の差が0.2未満であると、無機粒子含有領域6の屈折率を高くするのに多量の無機粒子を必要とし、透明性や接着性を維持することが困難となる傾向がある。また、屈折率の差が1.3を超えると粘着剤層との屈折率差が大きくなり、無機粒子による散乱が強くなることで透明性(低ヘイズ値)の維持が困難となる傾向がある。屈折率の差が前記範囲であることで、透明性と高屈折率の両立の制御が可能となるため、好ましい。   The refractive index of the inorganic particles is preferably larger than the refractive index of the base adhesive layer 7, and the difference between the refractive index of the inorganic particles and the refractive index of the base adhesive layer 7 is 0.2 to 1.3. It is preferable that it is 0.3 and 1.2. If the difference in refractive index is less than 0.2, a large amount of inorganic particles are required to increase the refractive index of the inorganic particle-containing region 6, and it tends to be difficult to maintain transparency and adhesiveness. . In addition, when the difference in refractive index exceeds 1.3, the difference in refractive index from the pressure-sensitive adhesive layer increases, and it becomes difficult to maintain transparency (low haze value) due to strong scattering by inorganic particles. . It is preferable that the difference in refractive index is in the above-mentioned range since it is possible to control both transparency and high refractive index.

前記無機粒子としては、TiO、ZrO、CeO、Al、BaTiO、Nb及びSnO等からなる群から選択される1種以上の金属酸化物であることが好ましく、光学的な観点から、可視光領域に吸収を有さず吸収端波長が小さい、ジルコニア粒子(ZrO)を含むことがより好ましい。 The inorganic particles are preferably one or more metal oxides selected from the group consisting of TiO 2 , ZrO 2 , CeO 2 , Al 2 O 3 , BaTiO 3 , Nb 2 O 5 and SnO 2. From an optical viewpoint, it is more preferable to include zirconia particles (ZrO 2 ) having no absorption in the visible light region and having a small absorption edge wavelength.

前記無機粒子の平均一次粒子径は、3nm〜100nmであることが好ましく、5nm〜50nmであることがより好ましく、5nm〜30nmであることがさらに好ましく、5nm〜20nmであることが特に好ましい。平均一次粒子径が前記範囲あることで、透明性と高屈折率の両立制御が可能となる。前記平均一次粒子径の測定は、粒子径分布測定やTEMによる直接観察により行うことができる。   The average primary particle diameter of the inorganic particles is preferably 3 nm to 100 nm, more preferably 5 nm to 50 nm, still more preferably 5 nm to 30 nm, and particularly preferably 5 nm to 20 nm. When the average primary particle diameter is in the above range, both transparency and high refractive index can be controlled. The average primary particle size can be measured by particle size distribution measurement or direct observation by TEM.

本発明においては、前記無機粒子を用いて、粘着剤層8中に無機粒子含有領域6を形成するが、その形成方法については、後述する。   In this invention, although the inorganic particle containing area | region 6 is formed in the adhesive layer 8 using the said inorganic particle, the formation method is mentioned later.

前記無機粒子含有領域6において、前記無機粒子由来の金属元素と炭素の元素比率(金属元素/炭素)が0.01〜0.2であり、0.05〜0.15であることが好ましく、0.07〜0.13であることがより好ましい。無機粒子由来の金属元素と炭素の元素比率が前記範囲を下回ると透明導電層のパターン視認性が悪化するおそれがあり、前記範囲を上回ると、粘着力の低下や、パターン化された透明導電層の視認性が上がる場合がある。ここで、無機粒子に含まれる金属元素と炭素の元素比率とは、具体的には、例えば、無機粒子がZrOの場合、ZrとCの元素比率(Zr/C)を示すものである。また、無機粒子が複数の金属元素を含む場合は、全ての金属元素の合計量と炭素の比である。 In the inorganic particle-containing region 6, the element ratio of the metal element and carbon derived from the inorganic particles (metal element / carbon) is 0.01 to 0.2, preferably 0.05 to 0.15, It is more preferable that it is 0.07-0.13. If the element ratio of the metal element and carbon derived from inorganic particles is less than the above range, the pattern visibility of the transparent conductive layer may be deteriorated, and if it exceeds the above range, the adhesive strength may be reduced or the patterned transparent conductive layer may be deteriorated. The visibility of may increase. Here, the element ratio between the metal element and carbon contained in the inorganic particles specifically indicates, for example, the element ratio of Zr and C (Zr / C) when the inorganic particles are ZrO 2 . Moreover, when an inorganic particle contains a some metal element, it is the ratio of the total amount of all the metal elements, and carbon.

無機粒子含有領域6における、無機粒子由来の金属元素と炭素の元素比率は、下記の条件にてX線光電子分光法(ESCA:Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)によって測定することができる。測定装置、条件としては、以下の通りである。
(測定条件)
測定装置:Quantera SMX、アルバック・ファイ社製
測定条件:X線源:モノクロAlKα
X Ray setting:200μmφ、15kV、26W
光電子取り出し角:試料表面に対して45°
帯電中和条件:電子中和銃とArイオン銃(中和モード)の併用
結合エネルギー:C1sスペクトルのC−C結合由来のピークを285.0eVに補正 Arイオン銃の加速電圧:1kV
Arイオン銃のエッチング速度:2nm/分(SiO換算)
エッチング面積:2mm×2mm
上記の条件で、深さ方向に対する元素比率のデプスプロファイルを作成する。得られたデプスプロファイルにおける無機粒子含有領域6に該当する深さ範囲(すなわち、金属元素の元素比率が1atomic%以上になる深さ範囲)において、金属元素の全元素(但し、H、Heを除く)に対する元素比(atomic%)を積分し、また、炭素元素の全元素(但し、H、Heを除く)に対する元素比(atomic%)を積分し、金属元素の積分値と炭素の積分値の比として算出した値を採用する。
(上記では、測定装置として、アルバック・ファイ社製のQuantera SMXを使用した方法を記載しているが、上記測定装置の同等機によっても測定することは可能である。)
In the inorganic particle-containing region 6, the element ratio between the metal element derived from the inorganic particle and carbon can be measured by X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA) under the following conditions. Measurement equipment and conditions are as follows.
(Measurement condition)
Measuring apparatus: Quantera SMX, manufactured by ULVAC-PHI, Inc. Measurement conditions: X-ray source: Monochrome AlKα
X Ray setting: 200 μmφ, 15 kV, 26 W
Photoelectron extraction angle: 45 ° to the sample surface
Charge neutralization condition: combined use of electron neutralizing gun and Ar ion gun (neutralization mode) Binding energy: Peak derived from CC bond in C1s spectrum is corrected to 285.0 eV Acceleration voltage of Ar ion gun: 1 kV
Etching rate of Ar ion gun: 2 nm / min (SiO 2 conversion)
Etching area: 2mm x 2mm
Under the above conditions, a depth profile of the element ratio with respect to the depth direction is created. In the depth range corresponding to the inorganic particle containing region 6 in the obtained depth profile (that is, the depth range where the element ratio of the metal element is 1 atomic% or more), all elements of the metal element (however, excluding H and He) ) And the element ratio (atomic%) of all carbon elements (excluding H and He), and the integrated value of the metal element and the integrated value of carbon. The value calculated as the ratio is adopted.
(In the above description, a method using Quantera SMX manufactured by ULVAC-PHI, Inc. is described as a measuring device, but it is also possible to measure with an equivalent device of the measuring device.)

前記無機粒子含有領域6の表面(図1、2の矢印Bで示す表面、すなわち、透明導電層4と接する側の表面)では、無機粒子含有領域6の面内方向で無機粒子がほぼ均一に分散して配置され、かつベース粘着剤層7と同じ組成の粘着層と前記無機粒子が混在して存在していることが好ましい。無機粒子含有領域6の面内方向での分散状態については、無機粒子含有領域6の表面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察することで確認することができる。   On the surface of the inorganic particle-containing region 6 (the surface indicated by arrow B in FIGS. 1 and 2, that is, the surface in contact with the transparent conductive layer 4), the inorganic particles are substantially uniform in the in-plane direction of the inorganic particle-containing region 6. It is preferable that an adhesive layer having the same composition as that of the base adhesive layer 7 and the inorganic particles are present in a mixed manner. The dispersion state in the in-plane direction of the inorganic particle-containing region 6 can be confirmed by observing the surface of the inorganic particle-containing region 6 with a scanning electron microscope (SEM).

前記無機粒子含有領域6の表面における、前記無機粒子が占める面積比率(表面被覆率)は、55%以上100%未満であることが好ましく、60〜99%であることがより好ましく、70〜99%であることがさらに好ましく、75〜99%であることが特に好ましい。前記無機粒子の面積比率が55%以上であることで、光学用途に必要とされる程度の粘着性を維持しつつ、無機粒子含有領域6表面における屈折率を上昇することができるため好ましい。また、前記無機粒子の面積比率が高いほど、無機粒子含有領域6を透明導電層4に貼り合わせ損ねた際に、糊が残ることがなく、容易に剥がすことができ、リワーク性を向上することができるため好ましい。なお、無機粒子の面積比率(表面被覆率)は、1辺が10μm〜200μmの方形領域における全体面積に対する面積として測定すれば、方形領域の大きさは特に限定されないが、例えば、長辺23μm、短辺18μmの長方形領域の面積にて測定することができる。つまり、表面被覆率は、(測定領域内の無機粒子が存在する領域部分の面積)/(測定領域の全面積)×100で計算された値である。   The area ratio (surface coverage) occupied by the inorganic particles on the surface of the inorganic particle-containing region 6 is preferably 55% or more and less than 100%, more preferably 60 to 99%, and more preferably 70 to 99. % Is more preferable, and 75 to 99% is particularly preferable. It is preferable that the area ratio of the inorganic particles is 55% or more because the refractive index on the surface of the inorganic particle-containing region 6 can be increased while maintaining the degree of adhesiveness required for optical applications. In addition, as the area ratio of the inorganic particles is higher, when the inorganic particle-containing region 6 is failed to be bonded to the transparent conductive layer 4, no glue remains and can be easily peeled off, thereby improving reworkability. Is preferable. In addition, if the area ratio (surface coverage) of the inorganic particles is measured as an area with respect to the entire area in a square region having one side of 10 μm to 200 μm, the size of the square region is not particularly limited. It can be measured by the area of a rectangular region having a short side of 18 μm. That is, the surface coverage is a value calculated by (area of the region portion where the inorganic particles exist in the measurement region) / (total area of the measurement region) × 100.

図3は、粘着剤層8の一部分の拡大図である。前記粘着剤層8の厚さ方向における前記無機粒子9の濃度分布は、無機粒子含有領域6の表面(すなわち、粘着剤層8の表面、透明導電層4と接する側の表面、図3の矢印Bの表面)から、無機粒子含有領域の他方の側に向かうにつれて略連続的に減少していることが好ましい。すなわち、無機粒子含有領域6における無機粒子9の濃度分布は、前記無機粒子含有領域6の透明導電層4と接する側の表面で最も高く、前記無機粒子含有領域6の厚さ方向に従って減少していく分布を有することが好ましい。無機粒子9がこのような分布で存在することにより、前記無機粒子含有領域6の屈折率が、当該無機粒子含有領域6の透明導電層と接する側で最も大きくなり、無機粒子含有領域の他方の側に向けて連続的に小さくなっていく。従って、本発明においては、粘着剤層8の表面での屈折率を増大することができ、透明導電層4に貼り合わせた場合にも、粘着剤層8と透明導電層4の界面での反射率を小さくすることができる。さらに、無機粒子含有領域6の透明導電層4と接する側から、厚さ方向に向かうにつれて前記無機粒子9が減少していく分布を有する配置となることで、無機粒子含有領域6とベース粘着剤領域7とのバルク物性の変化を低減することができ、粘着機能・接着信頼性の観点から好ましい。   FIG. 3 is an enlarged view of a part of the pressure-sensitive adhesive layer 8. The concentration distribution of the inorganic particles 9 in the thickness direction of the pressure-sensitive adhesive layer 8 is the surface of the inorganic particle-containing region 6 (that is, the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 8, the surface in contact with the transparent conductive layer 4, the arrow in FIG. 3). It is preferable that it decreases substantially continuously from the surface of B) toward the other side of the inorganic particle-containing region. That is, the concentration distribution of the inorganic particles 9 in the inorganic particle-containing region 6 is highest on the surface of the inorganic particle-containing region 6 on the side in contact with the transparent conductive layer 4 and decreases according to the thickness direction of the inorganic particle-containing region 6. It is preferable to have a distribution. Due to the presence of the inorganic particles 9 in such a distribution, the refractive index of the inorganic particle-containing region 6 becomes the largest on the side in contact with the transparent conductive layer of the inorganic particle-containing region 6, and the other of the inorganic particle-containing regions It becomes smaller continuously toward the side. Therefore, in the present invention, the refractive index on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 8 can be increased, and even when bonded to the transparent conductive layer 4, reflection at the interface between the pressure-sensitive adhesive layer 8 and the transparent conductive layer 4 is possible. The rate can be reduced. Further, the inorganic particle-containing region 6 and the base pressure-sensitive adhesive are arranged so as to have a distribution in which the inorganic particles 9 decrease in the thickness direction from the side in contact with the transparent conductive layer 4 of the inorganic particle-containing region 6. A change in bulk physical properties with the region 7 can be reduced, which is preferable from the viewpoint of adhesive function and adhesion reliability.

無機粒子9の濃度分布が、粘着剤層8の厚さ方向に従って減少していることについては、ESCAを用いて、元素比率のデプスプロファイルを取得することで特定することができる。すなわち、無機粒子含有領域6に含まれる無機粒子9に含まれる無機原子の元素比率が、無機粒子含有領域6の側の表面から他方の面に向けて、略連続的に減少していく傾向がある。略連続的とは、粘着剤層8において、厳密には、無機粒子9が連続的に減少しない領域を一部含有することを許容するものであり、一方で、当該粘着剤層8において無機粒子9が連続的に減少しない領域が支配的であること、及び、粘着剤層8が、無機粒子9が急激に減少する領域を含有することを許容しないことを意味する。なお、前記粘着剤層8の表面からの深さを横軸に、粘着剤層8に含まれる無機粒子の金属元素の含有率(単位:atomic%)の深さ方向を縦軸にとって折れ線グラフを書いた時に、ジグザグ上に波打ってはいるが、全体としては減少している傾向が見て取れるときがある。このようなときも「無機粒子9が略連続的に減少する」ときに該当する。このような判定が難しい場合には、次のようにして判定する。移動平均法を用いて、前後の測定点を含めた平均値を算出して、再度グラフにすることにより、略連続的に減少している傾向が見られれば、「無機粒子9が略連続的に減少する」ときに該当する。任意の測定点を中心に前後1点のデータを含めて平均を算出してもいいし(3項異動平均)、それでも傾向が読み取りにくい場合は、前後2点以上のデータも含めて平均を算出してもよい(前後2点以上のデータも含めて平均を算出する場合は、5項移動平均となる)。   The fact that the concentration distribution of the inorganic particles 9 decreases in the thickness direction of the pressure-sensitive adhesive layer 8 can be specified by acquiring a depth profile of the element ratio using ESCA. That is, the element ratio of the inorganic atoms contained in the inorganic particles 9 contained in the inorganic particle-containing region 6 tends to decrease substantially continuously from the surface on the inorganic particle-containing region 6 side to the other surface. is there. The term “substantially continuous” means that the pressure-sensitive adhesive layer 8 strictly allows the inorganic particles 9 to partially contain a region that does not continuously decrease. It means that the region where 9 does not continuously decrease is dominant, and that the pressure-sensitive adhesive layer 8 does not allow the inorganic particles 9 to contain regions where they rapidly decrease. A line graph is shown with the depth from the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 8 as the horizontal axis and the depth direction of the metal element content (unit: atomic%) of the inorganic particles contained in the pressure-sensitive adhesive layer 8 as the vertical axis. There are times when you can see a trend of declining as a whole, although it is undulating on the zigzag. This is also the case when “inorganic particles 9 decrease substantially continuously”. When such a determination is difficult, the determination is performed as follows. If the average value including the measurement points before and after using the moving average method is calculated and plotted again, if there is a tendency to decrease substantially continuously, “inorganic particles 9 are substantially continuous. This is the case when “decreases to”. You can calculate the average including one point of data before and after an arbitrary measurement point (ternary transfer average). If the trend is still difficult to read, calculate the average including data of two or more points before and after. (When calculating an average including data of two or more points before and after, it is a 5-term moving average).

無機粒子9がベース樹脂に対して、均一に分散されている場合、ESCAで元素比率のデプスプロファイルを取得すると、深さに対する元素比率のプロットがピークを持った形状になる。これは、ベース樹脂成分と無機粒子成分のエッチングレートに起因する。一般に樹脂成分の方が、エッチングレートが高く、無機粒子の方が低いため、ベース樹脂が優先的にエッチングされて、見かけの無機の元素量は一定深さまでは増加する傾向となる。その後、無機粒子も十分にエッチングされると元素量は減少する傾向となる。一方で、本発明のような濃度勾配を持つ系に対しては、深くエッチングされるほど、元素量が少なくなるため、元素比率のプロットとしては、ピークを持つ形状とはならず、前述の略連続的に減少する傾向となる。これが屈折率の連続的変化を生み、結果としてパターン視認性は向上する。従って、本発明においては、ESCAで元素比率のデプスプロファイルにおいてピークを持たない無機粒子含有領域を有することを一つの特徴とするものである。   When the inorganic particles 9 are uniformly dispersed with respect to the base resin, when the depth profile of the element ratio is obtained by ESCA, the plot of the element ratio with respect to the depth has a shape having a peak. This is due to the etching rate of the base resin component and the inorganic particle component. Since the resin component generally has a higher etching rate and the inorganic particles are lower, the base resin is preferentially etched, and the apparent inorganic element amount tends to increase at a certain depth. Thereafter, when the inorganic particles are also sufficiently etched, the amount of elements tends to decrease. On the other hand, for a system having a concentration gradient as in the present invention, the deeper the etching, the smaller the amount of elements, so the element ratio plot does not have a peak shape, but the aforementioned abbreviation. It tends to decrease continuously. This produces a continuous change in the refractive index, resulting in improved pattern visibility. Therefore, the present invention is characterized by having an inorganic particle-containing region having no peak in the depth profile of the element ratio by ESCA.

前記無機粒子9の減少率は、特に限定されるものではないが、0.09〜0.20atomic%/nmであることが好ましい。無機粒子9の減少率が前記範囲にあることで透明導電層のパターン視認性を好適に抑制できるため好ましい。   The reduction rate of the inorganic particles 9 is not particularly limited, but is preferably 0.09 to 0.20 atomic% / nm. Since the reduction rate of the inorganic particles 9 is in the above range, the pattern visibility of the transparent conductive layer can be suitably suppressed, which is preferable.

無機粒子含有領域6の平均厚みは、特に限定されるものではないが、透明導電層のパターン視認性の抑制の観点から、20nm〜600nmであることが好ましく、20nm〜300nmであることがより好ましく、20nm〜200nmであることがさらに好ましい。前記範囲とすることで、パターン化された透明導電層の視認性を低下させることが出来る傾向があるため好ましい。前記無機粒子含有領域6とベース粘着剤領域7との境界は、不規則な凹凸形状になるが、本発明においては、前記無機粒子含有領域6の平均厚みは、凹凸形状の深さの測定値を平均することにより決定することができる。ベース粘着剤領域7の厚みは、粘着剤層8全体の厚みから、前記無機粒子含有領域6の平均厚みを引いた値になる。無機粒子含有領域6の平均厚みの測定方法は、実施例に記載の方法により測定することができる。   The average thickness of the inorganic particle-containing region 6 is not particularly limited, but is preferably 20 nm to 600 nm and more preferably 20 nm to 300 nm from the viewpoint of suppressing the pattern visibility of the transparent conductive layer. More preferably, the thickness is 20 nm to 200 nm. By setting it as the said range, since there exists a tendency which can reduce the visibility of the patterned transparent conductive layer, it is preferable. The boundary between the inorganic particle-containing region 6 and the base pressure-sensitive adhesive region 7 has an irregular uneven shape. In the present invention, the average thickness of the inorganic particle-containing region 6 is a measured value of the depth of the uneven shape. Can be determined by averaging. The thickness of the base pressure-sensitive adhesive region 7 is a value obtained by subtracting the average thickness of the inorganic particle-containing region 6 from the thickness of the entire pressure-sensitive adhesive layer 8. The measuring method of the average thickness of the inorganic particle containing area | region 6 can be measured by the method as described in an Example.

前記無機粒子含有領域6の透明導電層4と接する側の表面(図1、2の矢印Bで示す表面)の屈折率は、1.47〜1.74であることが好ましく、1.58〜1.74あることがより好ましく、1.60〜1.74であることがさらに好ましい。無機粒子含有領域6の表面の平均屈折率が前記範囲であることで、透明導電層のパターン視認性を抑制できるため好ましい。また、無機粒子含有領域6の表面の平均屈折率は、透明導電層4の屈折率より低いことが好ましい。   The refractive index of the surface of the inorganic particle-containing region 6 on the side in contact with the transparent conductive layer 4 (surface indicated by arrow B in FIGS. 1 and 2) is preferably 1.47 to 1.74, and 1.58 to 1.74 is more preferable, and 1.60 to 1.74 is more preferable. It is preferable that the average refractive index of the surface of the inorganic particle-containing region 6 is in the above range because the pattern visibility of the transparent conductive layer can be suppressed. The average refractive index of the surface of the inorganic particle-containing region 6 is preferably lower than the refractive index of the transparent conductive layer 4.

(2−3)粘着剤層の特性
粘着剤層8の全体としての厚さは、特に限定されるものではないが、例えば、5μm〜500μmであることが好ましく、5μm〜400μmであることがより好ましく、5μm〜300μmであることがさらに好ましく、5μm〜250μmであることが特に好ましい。粘着剤層8の厚さが5μm未満では、透明導電体5に対する密着性が乏しくなる傾向がある。一方、粘着剤層8の厚さが500μmを超える場合には、粘着剤層8を形成する際の粘着剤組成物の塗布、乾燥時に十分に乾燥しきれず、気泡が残存したり、粘着剤層8の面に厚さムラの発生、さらに工程での巻き取り時にシワ等が発生し易くなることから、外観上の問題が顕在化し易くなる傾向がある。
(2-3) Properties of the pressure-sensitive adhesive layer The overall thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 8 is not particularly limited, but is preferably 5 μm to 500 μm, for example, and more preferably 5 μm to 400 μm. It is preferably 5 μm to 300 μm, more preferably 5 μm to 250 μm. When the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 8 is less than 5 μm, the adhesion to the transparent conductor 5 tends to be poor. On the other hand, when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer 8 exceeds 500 μm, the pressure-sensitive adhesive composition is not sufficiently dried during the application and drying of the pressure-sensitive adhesive layer 8, and bubbles remain or the pressure-sensitive adhesive layer Since thickness unevenness is generated on the surface No. 8 and wrinkles and the like are likely to occur during winding in the process, problems in appearance tend to become obvious.

本発明の粘着剤層8のヘイズ値は、1以下であることが好ましく、1未満であることがより好ましく、0〜0.9であることがさらに好ましく、0〜0.8であることがさらに好ましく、0〜0.6であることが特に好ましい。ヘイズ値が前記範囲内であることで、光学用途で用いる粘着剤層に要求される透明性を満足できるものである。   The haze value of the pressure-sensitive adhesive layer 8 of the present invention is preferably 1 or less, more preferably less than 1, more preferably from 0 to 0.9, and further preferably from 0 to 0.8. Further preferred is 0 to 0.6. When the haze value is within the above range, the transparency required for the pressure-sensitive adhesive layer used in optical applications can be satisfied.

前記粘着剤層8の全光線透過率は、80%以上であることが好ましく、90%以上であることがより好ましい。全光線透過率が前記範囲にあることで、優れた透明性や優れた外観が得られるため好ましい。全光線透過率は、JIS K7361に準拠して測定することができる。   The total light transmittance of the pressure-sensitive adhesive layer 8 is preferably 80% or more, and more preferably 90% or more. It is preferable for the total light transmittance to be in the above range because excellent transparency and excellent appearance can be obtained. The total light transmittance can be measured according to JIS K7361.

また、前記粘着剤層8の透明導電層4と接する側と反対側の粘着剤層面(ベース粘着剤層7表面、図1〜3の矢印Aの表面)には、実用に供されるまで離型フィルム等で粘着剤層面を保護することもできる。離型フィルムについては、後述のものを使用することができる。   Further, the pressure-sensitive adhesive layer 8 on the side opposite to the side in contact with the transparent conductive layer 4 (the surface of the base pressure-sensitive adhesive layer 7, the surface of the arrow A in FIGS. 1 to 3) is separated until practical use. The pressure-sensitive adhesive layer surface can be protected with a mold film or the like. As the release film, those described below can be used.

(3)積層体
本発明の積層体は、前記粘着剤層8と前記透明導電体5を、前記粘着剤層8の無機粒子含有領域6と、前記透明導電体5の透明導電層4が接するように積層することで形成することができる。
(3) Laminate In the laminate of the present invention, the pressure-sensitive adhesive layer 8 and the transparent conductor 5 are in contact with the inorganic particle-containing region 6 of the pressure-sensitive adhesive layer 8 and the transparent conductive layer 4 of the transparent conductor 5. It can form by laminating | stacking.

本発明の積層体は、上記構成とすることで、透明導電層4のパターン部の反射光とパターン開口部の直下の反射光の色差(ΔE)を、3.0以下とすることができるものであり、パターン見えが抑制されるものである。ここで、「色差」とは、Lの差ΔL、aの差Δa、及びbの差Δbを用いて、
ΔE={(ΔL+(Δa2+(Δb0.5
で表される値のことである。
In the laminate of the present invention, the color difference (ΔE) between the reflected light of the pattern portion of the transparent conductive layer 4 and the reflected light immediately below the pattern opening can be 3.0 or less by adopting the above configuration. Thus, the pattern appearance is suppressed. Here, the "color difference", L * difference [Delta] L *, with a * difference .DELTA.a *, and b * of the difference [Delta] b *,
ΔE = {(ΔL * ) 2 + (Δa * ) 2 + (Δb * ) 2 } 0.5
It is a value represented by.

2.積層体の製造方法
本発明の積層体の製造方法は、
透明基材、第1光学調整層及び透明導電層をこの順に有する透明導電体を準備する工程、
粘着剤組成物から形成された粘着剤層の一方の主面に、無機粒子を含有する分散液を塗布して、該分散液に含まれる無機粒子を、粘着剤層の一方の主面から厚み方向に浸透させて、前記粘着剤組成物により本質的に形成されるベース粘着剤領域と、無機粒子含有領域とを形成する工程、
前記粘着剤層と前記透明導電体を、前記粘着剤層の前記無機粒子含有領域と、前記透明導電体の透明導電層が接するように貼り合せる工程、を有し、
前記無機粒子含有領域中に含まれる金属元素と炭素の元素比率(金属元素/炭素)が0.01〜0.2であることを特徴とする。
2. Manufacturing method of laminate The manufacturing method of the laminate of the present invention is as follows.
A step of preparing a transparent conductor having a transparent substrate, a first optical adjustment layer and a transparent conductive layer in this order;
A dispersion containing inorganic particles is applied to one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive composition, and the inorganic particles contained in the dispersion are thickened from one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer. Infiltrating in the direction to form a base pressure-sensitive adhesive region essentially formed by the pressure-sensitive adhesive composition, and an inorganic particle-containing region,
Bonding the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductor so that the inorganic particle-containing region of the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductive layer of the transparent conductor are in contact with each other;
The element ratio (metal element / carbon) of the metal element and carbon contained in the inorganic particle-containing region is 0.01 to 0.2.

前記透明導電体、粘着剤組成物、無機粒子については、本明細書に記載のものを挙げることができる。また、無機粒子含有領域の無機粒子由来の金属元素量についても、前述の通りである。   About the said transparent conductor, an adhesive composition, and an inorganic particle, the thing as described in this specification can be mentioned. The amount of the metal element derived from the inorganic particles in the inorganic particle-containing region is also as described above.

前記粘着剤組成物から形成された粘着剤層は、無機粒子を含有しないものである。粘着剤組成物を支持体等に塗布して、重合溶剤等を乾燥除去することにより形成することができる。また、前記粘着剤組成物の塗布にあたっては、適宜に、重合溶剤以外の一種以上の溶剤を新たに加えてもよい。   The pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive composition does not contain inorganic particles. It can be formed by applying the pressure-sensitive adhesive composition to a support or the like and drying and removing the polymerization solvent or the like. In applying the pressure-sensitive adhesive composition, one or more solvents other than the polymerization solvent may be added as appropriate.

前記支持体としては、粘着剤層を支持するものであり、粘着剤層から剥離可能な材料であることが好ましい。支持体としては、例えば、離型フィルム、フッ素系ポリマーからなる低接着性基材や無極性ポリマーからなる低接着性基材等を挙げることができる。   As said support body, it is preferable that it is a material which supports an adhesive layer and can be peeled from an adhesive layer. Examples of the support include a release film, a low adhesive substrate made of a fluorine-based polymer, and a low adhesive substrate made of a nonpolar polymer.

前記離型フィルムの構成材料としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエステルフィルム等の樹脂フィルム、紙、布、不織布等の多孔質材料、ネット、発泡シート、金属箔、及びこれらのラミネート体等の適宜な薄葉体等を挙げることができるが、表面平滑性に優れる点から樹脂フィルムが好適に用いられる。   Examples of the constituent material of the release film include resin films such as polyethylene, polypropylene, polyethylene terephthalate, and polyester films, porous materials such as paper, cloth, and nonwoven fabric, nets, foam sheets, metal foils, and laminates thereof. Suitable thin leaf bodies and the like can be mentioned, but a resin film is suitably used from the viewpoint of excellent surface smoothness.

樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム等が挙げられる。   Examples of the resin film include polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, polyvinyl chloride film, vinyl chloride copolymer film, polyethylene terephthalate film, polybutylene terephthalate film, polyurethane film, ethylene- A vinyl acetate copolymer film etc. are mentioned.

前記離型フィルムの厚さは、通常5μm〜200μmであり、好ましくは5μm〜125μm程度である。前記離型フィルムには、必要に応じて、シリコーン系、フッ素系、長鎖アルキル系若しくは脂肪酸アミド系の離型剤、シリカ粉等による離型及び防汚処理や、塗布型、練り込み型、蒸着型等の帯電防止処理をすることもできる。特に、前記離型フィルムの表面にシリコーン処理、長鎖アルキル処理、フッ素処理等の剥離処理を適宜行うことにより、前記粘着剤層からの剥離性をより高めることができる。   The thickness of the release film is usually 5 μm to 200 μm, preferably about 5 μm to 125 μm. For the release film, if necessary, release agent and antifouling treatment with a silicone-based, fluorine-based, long-chain alkyl-based or fatty acid amide-based release agent, silica powder, etc., coating type, kneading type, An antistatic treatment such as a vapor deposition type can also be performed. In particular, the release property from the pressure-sensitive adhesive layer can be further improved by appropriately performing a release treatment such as silicone treatment, long-chain alkyl treatment, or fluorine treatment on the surface of the release film.

前記粘着剤組成物の塗布方法としては、各種方法が用いられる。具体的には、例えば、ロールコート、キスロールコート、グラビアコート、リバースコート、ロールブラッシュ、スプレーコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーター等による押出しコート法等の方法が挙げられる。   Various methods are used as a method of applying the pressure-sensitive adhesive composition. Specifically, for example, by roll coat, kiss roll coat, gravure coat, reverse coat, roll brush, spray coat, dip roll coat, bar coat, knife coat, air knife coat, curtain coat, lip coat, die coater, etc. Examples thereof include an extrusion coating method.

前記加熱乾燥温度は、特に限定されるものではないが、40〜200℃であることが好ましく、50〜180℃がより好ましく、60〜170℃がさらに好ましい。加熱温度を上記の範囲とすることによって、優れた粘着特性を有する透明樹脂層を得ることができる。乾燥時間は、適宜、適切な時間が採用され得る。上記乾燥時間は、5秒〜20分が好ましく、5秒〜10分がより好ましく、10秒〜5分が特に好ましい。   Although the said heat drying temperature is not specifically limited, It is preferable that it is 40-200 degreeC, 50-180 degreeC is more preferable, and 60-170 degreeC is further more preferable. By setting the heating temperature within the above range, a transparent resin layer having excellent adhesive properties can be obtained. As the drying time, an appropriate time can be adopted as appropriate. The drying time is preferably 5 seconds to 20 minutes, more preferably 5 seconds to 10 minutes, and particularly preferably 10 seconds to 5 minutes.

また、前記粘着剤層の形成は、前記粘着剤組成物に、紫外線等の活性エネルギー線を照射することにより重合して行うこともできる。紫外線照射には、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ等を用いることができる。なお、モノマー成分から(メタ)アクリル系ポリマーを製造するとともに、粘着剤層を形成することができる。モノマー成分には、適宜に架橋剤等を配合することができる。前記モノマー成分は、紫外線照射にあたり、事前に一部を重合してシロップにしたものを用いることができる。   The pressure-sensitive adhesive layer can also be formed by polymerizing the pressure-sensitive adhesive composition by irradiating active energy rays such as ultraviolet rays. For ultraviolet irradiation, a high-pressure mercury lamp, a low-pressure mercury lamp, a metal halide lamp, or the like can be used. In addition, while producing a (meth) acrylic-type polymer from a monomer component, an adhesive layer can be formed. A crosslinking agent or the like can be appropriately blended with the monomer component. As the monomer component, a part of the monomer component previously polymerized into a syrup can be used for ultraviolet irradiation.

本発明においては、上記得られた(無機粒子を含まない)粘着剤層の少なくとも一方の主面側に、無機粒子を含有する分散液を塗布することで、前記粘着剤層の一方の主面から無機粒子を浸透することができる。具体的な方法としては、図4に示すように、無機粒子9を含む分散液10を粘着剤層8’の表面に塗布する(図4(a))。粘着剤層8’の表面は、分散液10の溶媒により膨潤され、その過程で分散液10内の無機粒子9が、粘着剤層8’内に厚み方向に浸透する(図4(b))。その後、粘着剤層8’を乾燥させることにより、分散液10の溶媒を蒸発させて、ベース粘着剤領域7と、無機粒子を含む無機粒子含有領域6とを形成することができる(図4(c))。   In the present invention, one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer is coated with a dispersion containing inorganic particles on at least one main surface side of the obtained pressure-sensitive adhesive layer (not containing inorganic particles). Can penetrate the inorganic particles. As a specific method, as shown in FIG. 4, a dispersion 10 containing inorganic particles 9 is applied to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer 8 '(FIG. 4 (a)). The surface of the pressure-sensitive adhesive layer 8 ′ is swollen by the solvent of the dispersion liquid 10, and in the process, the inorganic particles 9 in the dispersion liquid 10 penetrate into the pressure-sensitive adhesive layer 8 ′ in the thickness direction (FIG. 4B). . Thereafter, by drying the pressure-sensitive adhesive layer 8 ′, the solvent of the dispersion 10 can be evaporated to form the base pressure-sensitive adhesive region 7 and the inorganic particle-containing region 6 containing inorganic particles (FIG. 4 ( c)).

前記分散液の分散媒は、粘着剤と相溶性を有することが必要であり、このような分散媒としては、水、有機溶媒、液状の有機樹脂モノマー、液状の有機樹脂オリゴマーの群から選択された1種又は2種以上を含む溶媒を挙げることができる。前記有機溶媒としては、例えば、アルコール、エーテル、ケトン、炭化水素等の有機溶媒を挙げることができる。前記液状の有機樹脂モノマーとしては、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル等のアクリル系又はメタクリル系のモノマー、エポキシ系モノマー等を挙げることができる。また、前記液状の有機樹脂オリゴマーとしては、ウレタンアクリレート系オリゴマー、エポキシアクリレート系オリゴマー、アクリレート系オリゴマー等を挙げることができる。これらの中でも、粘着層上への塗工性・粘度・乾燥性の理由より、アルコール、ケトンが好ましく、炭素数4以下のアルキルアルコール、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン(MIBK)等がより好ましい。   The dispersion medium of the dispersion liquid needs to be compatible with the pressure-sensitive adhesive, and such a dispersion medium is selected from the group of water, an organic solvent, a liquid organic resin monomer, and a liquid organic resin oligomer. In addition, a solvent containing one type or two or more types can be given. Examples of the organic solvent include organic solvents such as alcohol, ether, ketone, and hydrocarbon. Examples of the liquid organic resin monomer include acrylic or methacrylic monomers such as methyl acrylate and methyl methacrylate, and epoxy monomers. Examples of the liquid organic resin oligomer include urethane acrylate oligomers, epoxy acrylate oligomers, and acrylate oligomers. Among these, alcohols and ketones are preferable because of coating properties, viscosity, and drying properties on the adhesive layer, and alkyl alcohols having 4 or less carbon atoms, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), and the like are more preferable. .

無機粒子を含有する分散液の粘着剤層表面への塗布方法は、通常の方法を挙げることができ、例えば、バーコート、リバースコート、スプレーコート、グラビアコート、ロッドコート、ディップロールコート、バーコート、ナイフコート、エアーナイフコート、カーテンコート、リップコート、ダイコーター等による押出しコート法等を挙げることができる。   Examples of the method for applying the dispersion containing the inorganic particles to the pressure-sensitive adhesive layer surface include the usual methods such as bar coating, reverse coating, spray coating, gravure coating, rod coating, dip roll coating, and bar coating. Extrusion coating using a knife coat, air knife coat, curtain coat, lip coat, die coater or the like.

無機粒子を含有する分散液の粘着剤層表面へ塗布した後、分散溶媒等を乾燥除去することにより、無機粒子を粘着剤層の一方主面から浸透することができる。前記乾燥温度、乾燥時間は、特に限定されるものではなく、適宜、適切な時間が採用され得る。塗布した分散溶媒を十分乾燥することで、優れた粘着特性を有する透明樹脂層を得ることができる。   After applying the dispersion liquid containing inorganic particles to the surface of the pressure-sensitive adhesive layer, the inorganic particles can be permeated from one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer by drying and removing the dispersion solvent and the like. The drying temperature and drying time are not particularly limited, and appropriate times can be appropriately employed. By sufficiently drying the applied dispersion solvent, a transparent resin layer having excellent adhesive properties can be obtained.

本発明においては、無機粒子を含有する分散液を粘着剤層の一方の主面に塗布し、分散溶媒等を乾燥除去することにより、無機粒子を粘着剤層の一方の主面から浸透することができ、粘着剤層中において、無機粒子含有領域6とベース粘着剤領域7を形成することができる。無機粒子含有領域6とベース粘着剤領域7は、前述の通りである。   In the present invention, the dispersion containing inorganic particles is applied to one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer, and the inorganic solvent is permeated from one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer by drying and removing the dispersion solvent and the like. In the pressure-sensitive adhesive layer, the inorganic particle-containing region 6 and the base pressure-sensitive adhesive region 7 can be formed. The inorganic particle-containing region 6 and the base pressure-sensitive adhesive region 7 are as described above.

前記得られた粘着剤層と前記透明導電体を、前記粘着剤層の前記無機粒子含有領域と、前記透明導電体の透明導電層が接するように貼り合せることで本発明の積層体を得ることができる。   The laminated body of the present invention is obtained by bonding the obtained pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductor so that the inorganic particle-containing region of the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductive layer of the transparent conductor are in contact with each other. Can do.

本発明の積層体は、静電容量式タッチパネルに好適に用いることができる。   The laminate of the present invention can be suitably used for a capacitive touch panel.

以下、本発明に関し実施例を用いて詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in detail using an Example, this invention is not limited to a following example, unless the summary is exceeded.

製造例1(粘着剤層の製造)
(アクリル系オリゴマー(A−1)の作製)
攪拌羽根、温度計、窒素ガス導入管、冷却器を備えた4つ口フラスコに、ジシクロペンタニルメタクリレート(DCPMA)60重量部、メチルメタクリレート(MMA)40重量部、連鎖移動剤としてのα−チオグリセロール3.5重量部、及び重合溶媒としてのトルエン100重量部を仕込み、緩やかに攪拌しながら窒素ガスを導入して窒素置換した後、フラスコ内の液温を70℃付近に保って1時間撹拌した。次に、重合開始剤としての2,2−アゾビスイソブチロニトリル0.2重量部を前記4つ口フラスコに投入し、70℃で2時間反応させ、続いて、80℃で2時間反応させた。その後、反応液を130℃の温度雰囲気下に投入し、トルエン、連鎖移動剤及び未反応モノマーを乾燥除去して、固形状のアクリル系オリゴマー(A−1)を得た。このアクリル系オリゴマー(A−1)の重量平均分子量(Mw)は、5.1×10であった。
Production Example 1 (Production of pressure-sensitive adhesive layer)
(Preparation of acrylic oligomer (A-1))
In a four-necked flask equipped with a stirring blade, a thermometer, a nitrogen gas inlet tube and a condenser, 60 parts by weight of dicyclopentanyl methacrylate (DCPMA), 40 parts by weight of methyl methacrylate (MMA), α- as a chain transfer agent After charging 3.5 parts by weight of thioglycerol and 100 parts by weight of toluene as a polymerization solvent and introducing nitrogen gas with gentle stirring to replace nitrogen, the liquid temperature in the flask was kept at around 70 ° C. for 1 hour. Stir. Next, 0.2 part by weight of 2,2-azobisisobutyronitrile as a polymerization initiator is put into the four-necked flask and reacted at 70 ° C. for 2 hours, followed by reaction at 80 ° C. for 2 hours. I let you. Thereafter, the reaction solution was added to a temperature atmosphere of 130 ° C., and toluene, the chain transfer agent and the unreacted monomer were removed by drying to obtain a solid acrylic oligomer (A-1). The acrylic oligomer (A-1) had a weight average molecular weight (Mw) of 5.1 × 10 3 .

(アクリル系プレポリマー組成物(A−2)の製造)
アクリル酸2−エチルヘキシル(2EHA)68重量部、N−ビニル−2−ピロリドン(NVP)14.5重量部、及びアクリル酸2−ヒドロキシエチル(HEA)17.5重量部から構成されるモノマー成分に、さらに、光重合開始剤(商品名:イルガキュア184、BASF製)0.035重量部、及び光重合開始剤(商品名:イルガキュア651、BASF製)0.035重量部を配合した後、粘度(計測条件:BH粘度計No.5ローター、10rpm、測定温度:30℃)が約20Pa・sとなるまで紫外線を照射して、上記モノマー成分の一部が重合したプレポリマー組成物(A−2)を得た。
(Production of acrylic prepolymer composition (A-2))
A monomer component composed of 68 parts by weight of 2-ethylhexyl acrylate (2EHA), 14.5 parts by weight of N-vinyl-2-pyrrolidone (NVP), and 17.5 parts by weight of 2-hydroxyethyl acrylate (HEA) Furthermore, 0.035 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 184, manufactured by BASF) and 0.035 parts by weight of a photopolymerization initiator (trade name: Irgacure 651, manufactured by BASF) are mixed with a viscosity ( Measurement conditions: BH viscometer No. 5 rotor, 10 rpm, measurement temperature: 30 ° C.) Pre-polymer composition (A-2) in which a part of the monomer component is polymerized by irradiating ultraviolet rays until the pressure reaches about 20 Pa · s. )

次に、得られたプレポリマー組成物(A−2)100重量部に、上記アクリル系オリゴマー(A−1)5重量部、ヘキサンジオールジアクリレート(HDDA)0.15重量部、シランカップリング剤(商品名:KBM−430、信越化学工業(株)製)0.3重量部を添加・混合して、アクリル系粘着剤組成物(A−3)を得た。得られたアクリル系粘着剤組成物(A−3)を、剥離フィルム(商品名:MRF#38、三菱樹脂(株)製)の剥離処理された面上に、粘着剤層形成後の厚さ150μmとなるように塗布して、粘着剤塗布層を形成し、次で、該粘着剤塗布層の表面に、剥離フィルム(商品名:MRF#38、三菱樹脂(株)製)を貼り合せた。その後、照度5mW/cm、光量1500mJ/cmの条件で紫外線照射を行い、粘着剤塗布層を光硬化させて、粘着剤層Aを形成した。粘着剤層Aの屈折率は、1.49であった。 Next, 100 parts by weight of the obtained prepolymer composition (A-2), 5 parts by weight of the acrylic oligomer (A-1), 0.15 parts by weight of hexanediol diacrylate (HDDA), and a silane coupling agent (Product name: KBM-430, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) 0.3 parts by weight was added and mixed to obtain an acrylic pressure-sensitive adhesive composition (A-3). Thickness of the resulting acrylic pressure-sensitive adhesive composition (A-3) after the pressure-sensitive adhesive layer is formed on the surface of the release film (trade name: MRF # 38, manufactured by Mitsubishi Plastics). The pressure-sensitive adhesive coating layer was formed by coating to 150 μm, and then a release film (trade name: MRF # 38, manufactured by Mitsubishi Resin Co., Ltd.) was bonded to the surface of the pressure-sensitive adhesive coating layer. . Then, the pressure-sensitive adhesive coating layer was photocured by irradiating with ultraviolet rays under the conditions of an illuminance of 5 mW / cm 2 and a light amount of 1500 mJ / cm 2 to form a pressure-sensitive adhesive layer A. The refractive index of the pressure-sensitive adhesive layer A was 1.49.

実施例1
製造例1で得られた粘着剤層Aの一方の剥離フィルムを剥離した。露出した粘着剤層の表面に、ジルコニア粒子(ZrO、屈折率:2.17、一次粒子径:20nm)を含有する塗布用分散液(分散媒:エタノール、粒子濃度:1.5重量%、分散液の透過率:75%、CIKナノテック(株)製)を、無機粒子含有領域の平均厚さが200nmになるように、バーコーターRDS No.5を用いて塗布し、110℃の乾燥オーブンで180秒間乾燥させた。次いで、ジルコニア(ZrO)粒子が分散された粘着剤表面に、PET剥離シートを貼り合せて、粘着剤シートを得た。無機粒子含有領域表面の屈折率は、1.68であり、ジルコニア粒子が占める面積比率(表面被覆率)は、93%であった。また得られた粘着剤層の無機粒子含有領域中のZr/Cの元素比率は0.07であった。得られた粘着剤層の元素比率のデプスプロファイルを取得した所、Zrの元素比率は深さ方向でピークを持たず、粘着剤層表面(無機粒子含有領域表面)から粘着剤層の内部に向かって、単調に減少していることが分かった。減少率は、0.20atomic%/nm(厚さはSiO換算)であった。また、ベース粘着剤領域中の無機粒子の金属元素比率は0atomic%であった。なお、ジルコニア粒子の平均一次粒子径は、TEM観察により計測した。
Example 1
One release film of the pressure-sensitive adhesive layer A obtained in Production Example 1 was peeled off. On the surface of the exposed pressure-sensitive adhesive layer, a coating dispersion liquid (dispersion medium: ethanol, particle concentration: 1.5% by weight) containing zirconia particles (ZrO 2 , refractive index: 2.17, primary particle size: 20 nm), The transmittance of the dispersion liquid: 75%, manufactured by CIK Nanotech Co., Ltd.) was adjusted so that the average thickness of the inorganic particle-containing region was 200 nm. 5 and dried in a drying oven at 110 ° C. for 180 seconds. Next, a PET release sheet was bonded to the pressure-sensitive adhesive surface in which zirconia (ZrO 2 ) particles were dispersed to obtain a pressure-sensitive adhesive sheet. The refractive index of the surface of the inorganic particle-containing region was 1.68, and the area ratio (surface coverage) occupied by the zirconia particles was 93%. Moreover, the element ratio of Zr / C in the inorganic particle containing area | region of the obtained adhesive layer was 0.07. When the depth profile of the element ratio of the obtained pressure-sensitive adhesive layer was obtained, the element ratio of Zr did not have a peak in the depth direction, and it went from the pressure-sensitive adhesive layer surface (the surface containing the inorganic particles) to the inside of the pressure-sensitive adhesive layer. It was found that it decreased monotonously. The reduction rate was 0.20 atomic% / nm (thickness was converted to SiO 2 ). Moreover, the metal element ratio of the inorganic particles in the base pressure-sensitive adhesive region was 0 atomic%. In addition, the average primary particle diameter of the zirconia particles was measured by TEM observation.

メラミン樹脂:アルキド樹脂:有機シラン縮合物を、固形分で2:2:1の重量比で含む熱硬化型樹脂組成物を、固形分濃度が8重量%となるようにメチルエチルケトンで希釈した。この溶液を、厚さ50μmのPETフィルム(商品名:ルミラー、東レ(株)製)からなる透明フィルム基材(屈折率:1.65)の一方主面に塗布し、150℃で2分間加熱硬化させ、膜厚30nm、屈折率1.54の光学調整層を形成した。   A thermosetting resin composition containing a melamine resin: alkyd resin: organosilane condensate in a weight ratio of 2: 2: 1 in terms of solid content was diluted with methyl ethyl ketone so that the solid content concentration was 8% by weight. This solution was applied to one main surface of a transparent film substrate (refractive index: 1.65) made of a PET film (trade name: Lumirror, manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 50 μm, and heated at 150 ° C. for 2 minutes. Curing was performed to form an optical adjustment layer having a thickness of 30 nm and a refractive index of 1.54.

屈折率調整層の表面に、透明導電層として、厚み21nmのインジウム・スズ酸化物層(ITO層、屈折率:1.90)を積層した。続いて、得られた透明導電体を150℃で加熱し、ITO層を結晶化させた。加熱した透明導電体の抵抗値を四端子法により測定した所、140Ω/□であった。形成したITO層上の、ITO層を残したいところに、ポリイミド粘着テープを貼り合わせ、1mol/Lの塩酸に2分間浸漬して、ITO層をエッチングした。その後、透明導電体をイオン交換水で充分に洗浄した後、120℃で10分間乾燥させてからポリイミド粘着テープを剥離し、ITO層がパターニングされた透明導電体を得た。得られた透明導電体のパターニングされたITO層面と、前記粘着剤層の無機粒子含有領域が接するように、透明導電体と粘着剤層を積層した。   On the surface of the refractive index adjusting layer, an indium tin oxide layer (ITO layer, refractive index: 1.90) having a thickness of 21 nm was laminated as a transparent conductive layer. Subsequently, the obtained transparent conductor was heated at 150 ° C. to crystallize the ITO layer. When the resistance value of the heated transparent conductor was measured by the four-terminal method, it was 140Ω / □. A polyimide adhesive tape was attached to the ITO layer where the ITO layer was desired to remain, and the ITO layer was etched by immersion in 1 mol / L hydrochloric acid for 2 minutes. Thereafter, the transparent conductor was sufficiently washed with ion-exchanged water, dried at 120 ° C. for 10 minutes, and then the polyimide adhesive tape was peeled off to obtain a transparent conductor on which the ITO layer was patterned. The transparent conductor and the pressure-sensitive adhesive layer were laminated so that the patterned ITO layer surface of the obtained transparent conductor was in contact with the inorganic particle-containing region of the pressure-sensitive adhesive layer.

実施例2
粘着剤層の無機粒子含有領域の膜厚を500nmとすること以外は実施例1と同様の手法で、透明導電体と粘着剤層の積層体を作製した。
Example 2
A laminate of the transparent conductor and the pressure-sensitive adhesive layer was produced in the same manner as in Example 1 except that the film thickness of the inorganic particle-containing region of the pressure-sensitive adhesive layer was 500 nm.

実施例3
透明導電層の厚みを30nmのインジウム・スズ酸化物層(ITO層、屈折率:1.90、抵抗値:80Ω/□)とする以外は実施例1と同様の手法で、透明導電体と粘着剤層の積層体を作製した。
Example 3
Adhering to the transparent conductor in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the transparent conductive layer is an indium tin oxide layer (ITO layer, refractive index: 1.90, resistance value: 80Ω / □) of 30 nm. A laminate of the agent layer was produced.

実施例4
厚さ50μmのPETフィルム(商品名:ルミラー、東レ(株)製)からなる透明フィルム基材(屈折率:1.65)の両面に、ハードコート層形成用塗布液として紫外線硬化型アクリル樹脂(屈折率:1.52)を乾燥後の厚さが2.0μmとなるように塗布し、80℃で3分間加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量200mJ/cmの紫外線を照射することで、ハードコート層(屈折率:1.52)を形成した(ハードコート層を有するPETフィルム)。
Example 4
A UV curable acrylic resin (hard coat layer forming coating solution) is applied on both sides of a transparent film substrate (refractive index: 1.65) made of a PET film (trade name: Lumirror, manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 50 μm. Refractive index: 1.52) was applied so that the thickness after drying was 2.0 μm, and the coating film was dried by heating at 80 ° C. for 3 minutes. Then, the hard coat layer (refractive index: 1.52) was formed by irradiating the ultraviolet ray of the integrated light quantity 200mJ / cm < 2 > with the high pressure mercury lamp (PET film which has a hard coat layer).

続いて、紫外線硬化型アクリル樹脂(屈折率:1.52)100部に対して、酸化ジルコニウムのナノ粒子(平均粒径:10nm)を屈折率が1.65になるように調整した高屈折率層形成用塗布液を調整した。次に、ハードコート層を有するPETフィルムの一方のハードコート層の表面に前記高屈折率層形成用塗布液を乾燥後の厚さが30nmとなるように塗布し、80℃で3分間加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量200mJ/cmの紫外線を照射することで、光学調整層(高屈折率層、屈折率:1.65)を形成した。光学調整層における金属元素と炭素の元素比率(金属元素/炭素)は、0.41であった。 Subsequently, with respect to 100 parts of UV curable acrylic resin (refractive index: 1.52), zirconium oxide nanoparticles (average particle size: 10 nm) were adjusted to have a refractive index of 1.65. A layer forming coating solution was prepared. Next, the coating liquid for forming a high refractive index layer is applied to the surface of one hard coat layer of a PET film having a hard coat layer so that the thickness after drying is 30 nm, and heated at 80 ° C. for 3 minutes. Thus, the coating film was dried. Thereafter, an optical adjustment layer (high refractive index layer, refractive index: 1.65) was formed by irradiating ultraviolet rays with an integrated light quantity of 200 mJ / cm 2 with a high-pressure mercury lamp. The metal element to carbon element ratio (metal element / carbon) in the optical adjustment layer was 0.41.

紫外線硬化型アクリル樹脂(屈折率:1.52)にナノシリカ粒子(平均粒径:15nm)を屈折率が1.45になるように調整した低屈折率層形成用塗布液を調整した。形成した光学調整層(高屈折率層)の表面に前記低屈折率層形成用塗布液を乾燥後の厚さが40nmとなるように塗布し、80℃で3分間加熱することにより塗膜を乾燥させた。その後、高圧水銀ランプにて、積算光量200mJ/cmの紫外線を照射することで、低屈折率層(屈折率:1.45)を形成した。低屈折率層における(無機原子/炭素原子)の比は、0.32であった。 A coating solution for forming a low refractive index layer was prepared by adjusting nanosilica particles (average particle size: 15 nm) to an ultraviolet curable acrylic resin (refractive index: 1.52) so that the refractive index was 1.45. The coating liquid is formed by applying the coating liquid for forming the low refractive index layer to the surface of the formed optical adjustment layer (high refractive index layer) so that the thickness after drying becomes 40 nm and heating at 80 ° C. for 3 minutes. Dried. Then, the low refractive index layer (refractive index: 1.45) was formed by irradiating the ultraviolet-ray of the integrated light quantity 200mJ / cm < 2 > with a high pressure mercury lamp. The ratio of (inorganic atom / carbon atom) in the low refractive index layer was 0.32.

上記積層フィルム(ハードコート層/PETフィルム/ハードコート層/高屈折率層/低屈折率層)を、DCマグネトロンスパッタ装置へ装着し、加熱した成膜ロールに密着および走行させながら巻き取った。積層フィルムを走行させながら、DCマグネトロンスパッタ装置に備えられる排気装置により、装置内の真空度を1×10−4Paとした(脱ガス処理)。 The laminated film (hard coat layer / PET film / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer) was mounted on a DC magnetron sputtering apparatus and wound up while closely contacting and running on a heated film forming roll. While the laminated film was running, the degree of vacuum in the apparatus was set to 1 × 10 −4 Pa (degassing process) by the exhaust apparatus provided in the DC magnetron sputtering apparatus.

続いて、実施例1と同様の手法でITOの積層、結晶化処理、パターニング処理、積層を実施した。   Subsequently, ITO was laminated, crystallized, patterned, and laminated in the same manner as in Example 1.

比較例1
実施例3において、製造例1で得られた粘着剤層Aを粘着シートとして用いた(すなわち、比較例1の粘着剤層には無機粒子含有領域を有さない)以外は実施例3と同様にして、透明導電体と粘着剤層の積層体を作製した。
Comparative Example 1
In Example 3, it was the same as Example 3 except that the pressure-sensitive adhesive layer A obtained in Production Example 1 was used as a pressure-sensitive adhesive sheet (that is, the pressure-sensitive adhesive layer of Comparative Example 1 did not have an inorganic particle-containing region). Thus, a laminate of a transparent conductor and an adhesive layer was produced.

比較例2
実施例4において、製造例1で得られた粘着剤層Aを粘着シートとして用いた(すなわち、比較例2の粘着剤層には無機粒子含有領域を有さない)以外は実施例4と同様にして、透明導電体と粘着剤層の積層体を作製した。
Comparative Example 2
In Example 4, the same as Example 4 except that the pressure-sensitive adhesive layer A obtained in Production Example 1 was used as a pressure-sensitive adhesive sheet (that is, the pressure-sensitive adhesive layer of Comparative Example 2 does not have an inorganic particle-containing region). Thus, a laminate of a transparent conductor and an adhesive layer was produced.

実施例及び比較例で得られた積層体について、以下の評価を行った。評価結果は、表1及び図面に示す。   The following evaluation was performed about the laminated body obtained by the Example and the comparative example. The evaluation results are shown in Table 1 and the drawings.

<透明導電層の抵抗値測定>
透明導電性フィルムを150℃で加熱処理して透明導電層を結晶転化させた後、透明導
電層の表面抵抗(Ω/□)をJIS K7194(1994年)に準じて四端子法により
測定した。
<Measurement of resistance value of transparent conductive layer>
The transparent conductive film was heat-treated at 150 ° C. to crystallize the transparent conductive layer, and then the surface resistance (Ω / □) of the transparent conductive layer was measured by a four-terminal method according to JIS K7194 (1994).

<無機粒子含有領域の平均表面屈折率>
実施例及び比較例で得られた粘着シートの平均表面屈折率を、分光エリプソメーター(商品名:EC−400、JA.Woolam製)を用いてナトリウムD線(589nm)における屈折率を測定した。実施例及び比較例の粘着シートでは、両面の剥離シートを剥離して、粒子を塗布してない面に黒板を貼り合せた状態で、粒子が塗布されている面の平均屈折率を測定した。比較例の粘着シートでは、両方の剥離シートを剥離して、一方の面に黒板を貼り合せた状態で、粘着剤層表面の平均屈折率を測定した。
<Average surface refractive index of the inorganic particle-containing region>
The average surface refractive index of the pressure-sensitive adhesive sheets obtained in Examples and Comparative Examples was measured for the refractive index at sodium D line (589 nm) using a spectroscopic ellipsometer (trade name: EC-400, manufactured by JA Woollam). In the pressure-sensitive adhesive sheets of Examples and Comparative Examples, the average refractive index of the surface on which the particles were applied was measured in a state where the release sheets on both sides were peeled off and the blackboard was bonded to the surface on which the particles were not applied. In the pressure-sensitive adhesive sheet of the comparative example, the average refractive index on the surface of the pressure-sensitive adhesive layer was measured in a state where both the release sheets were peeled off and a blackboard was bonded to one surface.

<無機粒子含有領域の厚み測定>
粘着剤層の深さ方向の断面を調整し、TEM観察を行った。得られたTEM像から無機粒子含有領域の厚さの測定を計測した。無機粒子含有領域の厚みは、ベース粘着剤層と無機粒子含有領域との界面の凹凸の平均値とし、ベース粘着剤層との界面の判断が困難な場合には、表面TEM像を画像処理ソフト(ImageJ)で二値化画像処理し、ナノ粒子の90%が存在する領域の深さを調整層の厚みとした。
<Measurement of thickness of inorganic particle-containing region>
The cross section in the depth direction of the pressure-sensitive adhesive layer was adjusted, and TEM observation was performed. Measurement of the thickness of the inorganic particle-containing region was measured from the obtained TEM image. The thickness of the inorganic particle-containing region is the average value of the irregularities at the interface between the base pressure-sensitive adhesive layer and the inorganic particle-containing region. The binarized image processing was performed with (ImageJ), and the depth of the region where 90% of the nanoparticles were present was defined as the thickness of the adjustment layer.

<第1光学調整層における無機物(無機原子)含有量の測定方法>
下記の条件にてX線光電子分光法(ESCA:Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)を実施して、デプスプロファイルを取得した。
測定装置:Quantera SMX、アルバック・ファイ社製
X線源:モノクロAlKα
X Ray setting:200μmφ、15kV、26W
光電子取り出し角:試料表面に対して45°
帯電中和条件:電子中和銃とArイオン銃(中和モード)の併用
結合エネルギー:C1sスペクトルのC−C結合由来のピークを285.0eVに補正 Arイオン銃の加速電圧:1kV
Arイオン銃のエッチング速度:2nm/分(SiO換算)
エッチング面積:2mm×2mm
デプスプロファイルの第1光学調整層に該当する領域において、無機原子の元素比率(光学調整層に含まれる全元素(但し、H、Heを除く)に対する無機原子の元素比率)が最も高くなる深さにおける、(無機原子/炭素原子)の原子数比をここでは採用した。
<Measuring method of inorganic substance (inorganic atom) content in first optical adjustment layer>
An X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA) was carried out under the following conditions to obtain a depth profile.
Measuring device: Quantera SMX, manufactured by ULVAC-PHI, Inc. X-ray source: Monochrome AlKα
X Ray setting: 200 μmφ, 15 kV, 26 W
Photoelectron extraction angle: 45 ° to the sample surface
Charge neutralization condition: combined use of electron neutralizing gun and Ar ion gun (neutralization mode) Binding energy: Peak derived from CC bond in C1s spectrum is corrected to 285.0 eV Acceleration voltage of Ar ion gun: 1 kV
Etching rate of Ar ion gun: 2 nm / min (SiO 2 conversion)
Etching area: 2mm x 2mm
In the region corresponding to the first optical adjustment layer of the depth profile, the depth at which the element ratio of inorganic atoms (element ratio of inorganic atoms to all elements (excluding H and He) included in the optical adjustment layer) is the highest The number ratio of (inorganic atom / carbon atom) was adopted here.

<無機粒子含有領域における金属元素の含有率>
下記の条件にてX線光電子分光法(ESCA:Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)を実施して、深さ方向に対する元素比率のデプスプロファイルを取得した。
測定装置:Quantera SMX、アルバック・ファイ社製
X線源:モノクロAlKα
X Ray setting:200μmφ、15kV、26W
光電子取り出し角:試料表面に対して45°
帯電中和条件:電子中和銃とArイオン銃(中和モード)の併用
結合エネルギー:C1sスペクトルのC−C結合由来のピークを285.0eVに補正 Arイオン銃の加速電圧:1kV
Arイオン銃のエッチング速度:2nm/分(SiO換算)
エッチング面積:2mm×2mm
得られたデプスプロファイルにおける無機粒子含有領域に該当する深さ範囲(すなわち、金属元素の元素比率が1atomic%以上になる深さ範囲)において、金属元素の全元素(但し、H、Heを除く)に対する元素比(atomic%)を積分し、また、炭素元素の全元素(但し、H、Heを除く)に対する元素比(atomic%)を積分し、金属元素の積分値と炭素の積分値の比として算出した。
<Content of metal element in the inorganic particle-containing region>
X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA) was performed under the following conditions to obtain a depth profile of the element ratio in the depth direction.
Measuring device: Quantera SMX, manufactured by ULVAC-PHI, Inc. X-ray source: Monochrome AlKα
X Ray setting: 200 μmφ, 15 kV, 26 W
Photoelectron extraction angle: 45 ° to the sample surface
Charge neutralization condition: combined use of electron neutralizing gun and Ar ion gun (neutralization mode) Binding energy: Peak derived from CC bond in C1s spectrum is corrected to 285.0 eV Acceleration voltage of Ar ion gun: 1 kV
Etching rate of Ar ion gun: 2 nm / min (SiO 2 conversion)
Etching area: 2mm x 2mm
In the depth range corresponding to the inorganic particle-containing region in the obtained depth profile (that is, the depth range in which the element ratio of the metal element is 1 atomic% or more), all the elements of the metal element (however, excluding H and He) The element ratio (atomic%) to carbon is integrated, and the element ratio (atomic%) to all elements of carbon element (excluding H and He) is integrated, and the ratio of the integrated value of metal element to the integrated value of carbon Calculated as

<ベース粘着剤層領域における無機粒子含有量の測定方法>
前記<無機粒子含有領域における金属元素の含有率>と同様の手法で、ベース粘着剤層領域に含まれる全元素(但し、H、Heを除く)に対する無機粒子の金属元素比率を算出した。
<Measurement method of inorganic particle content in base adhesive layer region>
The metal element ratio of the inorganic particles relative to all the elements (excluding H and He) contained in the base pressure-sensitive adhesive layer region was calculated in the same manner as in the above <content ratio of metal element in the inorganic particle-containing region>.

<無機粒子が占める面積比率(表面被覆率)>
粘着剤層の無機粒子含有領域表面を、FE−SEMを用いて、加速電圧2kV、観察倍率500倍、2,000倍、5,000倍で観察した。得られた表面SEM画像を画像処理ソフト(ImageJ)で二値化画像処理することで、長辺23μm、短辺18μmの長方形領域における全体面積に対する面積として、無機粒子の占める面積比率(%)を求めた。
<Area ratio occupied by inorganic particles (surface coverage)>
The surface of the adhesive layer containing the inorganic particles was observed using an FE-SEM at an acceleration voltage of 2 kV, an observation magnification of 500 times, 2,000 times, and 5,000 times. By performing binarized image processing on the obtained surface SEM image with image processing software (ImageJ), the area ratio (%) occupied by the inorganic particles as the area with respect to the entire area in a rectangular region having a long side of 23 μm and a short side of 18 μm is obtained. Asked.

<反射率のΔY値測定>
実施例及び比較例で得られた粘着剤層と貼り合せる前の状態の透明導電体(未エッチング処理)の透明基材面(ハードコート層を有する場合はハードコート層面)に黒テープ(吸収体)を貼り合せて、裏面からの反射が測定されないようにした。その後、エッチングされていない透明導電層上に各実施例及び比較例で用いた粘着剤層を貼り合せて、積層体を作製した。その際、粘着剤層に無機粒子含有領域を持つ場合は、透明導電層と無機粒子含有領域が接するように貼り合せを行った(パターン部サンプル)。また、実施例及び比較例で得られた粘着剤層と貼り合せる前の状態の透明導電体(未エッチング処理)を、50℃、10重量%の塩酸(HCl)でエッチングし、光学調整層をむき出しにした非パターン部サンプルを準備し、透明基材面に黒テープを貼り合せて、その後、むき出しになった光学調整層上に各実施例及び比較例で用いた粘着剤層を貼り合せて、積層体を作製した。その際、粘着剤層に無機粒子含有領域を持つ場合は、光学調整層と無機粒子含有領域が接するように貼り合せを行った(非パターン部サンプル)。
その後、それぞれのパターン部サンプルと非パターン部サンプルを反射率測定機(製品名:U−4100(+積分球ユニット)、(株)日立製作所製)を用いて、粘着剤層の表面から反射率スペクトルを測定した。反射率スペクトルの測定条件は以下の通りである。
データモード:%R
測定範囲:380nm〜780nm
スキャンスピード:600nm/分
スリット:4nm
サンプリング間隔:5nm
光源:D65、
視野:2℃視野
パターン部サンプルと非パターン部サンプルのそれぞれのXYZ座標における反射率Y(JIS Z 8701に記載)をスペクトルから算出し、その差を算出することでΔYを求めた。
<Measurement of ΔY value of reflectance>
Black tape (absorber) on the transparent base material surface (hard coat layer surface if it has a hard coat layer) of the transparent conductor (unetched) before being bonded to the adhesive layer obtained in Examples and Comparative Examples ) So that reflection from the back surface is not measured. Then, the adhesive layer used by each Example and the comparative example was bonded on the transparent conductive layer which has not been etched, and the laminated body was produced. At that time, in the case where the pressure-sensitive adhesive layer has an inorganic particle-containing region, bonding was performed so that the transparent conductive layer and the inorganic particle-containing region were in contact (pattern part sample). Moreover, the transparent conductor (unetched treatment) in a state before being bonded to the pressure-sensitive adhesive layer obtained in Examples and Comparative Examples was etched at 50 ° C. with 10% by weight hydrochloric acid (HCl) to form an optical adjustment layer. Prepare the exposed non-patterned part sample, and paste the black tape on the transparent substrate surface, and then paste the adhesive layer used in each example and comparative example on the exposed optical adjustment layer. A laminate was produced. At that time, when the pressure-sensitive adhesive layer had an inorganic particle-containing region, bonding was performed so that the optical adjustment layer and the inorganic particle-containing region were in contact (non-patterned portion sample).
Thereafter, the reflectance of each pattern portion sample and non-pattern portion sample from the surface of the pressure-sensitive adhesive layer using a reflectance measuring machine (product name: U-4100 (+ integrating sphere unit), manufactured by Hitachi, Ltd.). The spectrum was measured. The measurement conditions of the reflectance spectrum are as follows.
Data mode:% R
Measurement range: 380 nm to 780 nm
Scan speed: 600 nm / min Slit: 4 nm
Sampling interval: 5 nm
Light source: D65
Field of view: 2 ° C. field of view The reflectance Y (described in JIS Z 8701) of each of the pattern portion sample and the non-pattern portion sample in the XYZ coordinates was calculated from the spectrum, and ΔY was determined by calculating the difference between them.

<色差(ΔE)測定>
まず、<反射率のΔY値測定>と同様の手法で反射スペクトルを測定した。その後、JIS Z 8729に規定されているL*値、a*値、b*値を反射スペクトルから算出し、色差ΔL*、Δa*、Δb*を求め、以下の式に代入して求めた。
ΔE={(ΔL+(Δa+(Δb0.5
<Color difference (ΔE) measurement>
First, a reflection spectrum was measured in the same manner as in <Measurement of ΔY value of reflectance>. Thereafter, the L * value, a * value, and b * value defined in JIS Z 8729 were calculated from the reflection spectrum, and the color differences ΔL *, Δa *, and Δb * were determined and substituted into the following equations.
ΔE = {(ΔL * ) 2 + (Δa * ) 2 + (Δb * ) 2 } 0.5

<パターン見え>
実施例及び比較例で得られた粘着剤層と貼り合せる前の状態の透明導電体(未エッチング処理)を5cm×10cmに切り出し、透明導電体の透明導電層の表面に、透明導電体の短辺方向に沿って、ストライプ状に幅1mmのポリイミドテープを2mm間隔で貼付し、50℃、10質量%の塩酸に5分間含浸させた。これによって、ストライプ形状のパターン部を有する配線パターンに形成した。その後、ポリイミドテープを剥がし、透明導電体の透明基材を黒板に貼付して配線パターン視認性評価用のサンプルを作製した。
作製した配線パターン視認性評価用のサンプルのパターン化した透明導電層上に、実施例及び比較例で使用したそれぞれの粘着剤層を貼り合せ、積層体を作製した。その際、粘着剤層に無機粒子含有領域を持つ場合は、無機粒子含有領域側の面と透明導電層側の面が接するように貼り合せを行った。その後、配線パターンを観察して、視認抑制(パターン見え)を、下記の基準に基づいて、評価した。
◎:導電層のパターンがほとんど視認できず、観察角度を変えてもパターンをほとんど視認できなかった。
〇:導電層のパターンがほとんど視認できないが、観察角度を変えることによりパターンを視認できる場合があった。
×:観察角度を変えることによりパターンを必ず確認できる。
<Pattern appearance>
The transparent conductor (unetched treatment) in a state before being bonded to the pressure-sensitive adhesive layer obtained in Examples and Comparative Examples was cut out to 5 cm × 10 cm, and the surface of the transparent conductor of the transparent conductor was short of the transparent conductor. Along the side direction, a polyimide tape having a width of 1 mm was applied in a stripe shape at intervals of 2 mm and impregnated with hydrochloric acid at 50 ° C. and 10% by mass for 5 minutes. Thus, a wiring pattern having a stripe-shaped pattern portion was formed. Thereafter, the polyimide tape was peeled off and a transparent base material made of a transparent conductor was pasted on a blackboard to prepare a sample for wiring pattern visibility evaluation.
Each adhesive layer used in the examples and comparative examples was bonded onto the patterned transparent conductive layer of the prepared sample for wiring pattern visibility evaluation to prepare a laminate. At that time, when the pressure-sensitive adhesive layer had an inorganic particle-containing region, the bonding was performed so that the surface on the inorganic particle-containing region side and the surface on the transparent conductive layer side were in contact. Thereafter, the wiring pattern was observed, and visual suppression (pattern appearance) was evaluated based on the following criteria.
A: The pattern of the conductive layer was hardly visible, and the pattern was hardly visible even when the observation angle was changed.
A: The pattern of the conductive layer is hardly visible, but the pattern may be visible by changing the observation angle.
X: The pattern can always be confirmed by changing the observation angle.

Figure 2017024267
Figure 2017024267

1 積層体
2 透明基材
3 第1光学調整層
3’ 第2光学調整層
4 パターニングされた透明導電層
5 透明導電体
6 無機粒子含有領域(屈折率調整層)
7 ベース粘着剤領域
8 粘着剤層
9 無機粒子
10 分散液
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Laminated body 2 Transparent base material 3 1st optical adjustment layer 3 '2nd optical adjustment layer 4 Patterned transparent conductive layer 5 Transparent conductor 6 Inorganic particle containing area | region (refractive index adjustment layer)
7 Base adhesive region 8 Adhesive layer 9 Inorganic particles 10 Dispersion

Claims (9)

透明基材、第1光学調整層及びパターニングされた透明導電層をこの順に有する透明導電体、並びに当該透明導電体の透明導電層上に形成された粘着剤層を有する積層体であって、
前記粘着剤層は、当該粘着剤層の一方の主面から厚み方向にわたって、粘着剤組成物により本質的に形成されるベース粘着剤領域を、他方の主面から厚み方向にわたって、無機粒子を含む無機粒子含有領域を有し、
前記粘着剤層と前記透明導電体は、前記粘着剤層の無機粒子含有領域と、前記透明導電体の透明導電層が接するように積層されており、
前記無機粒子含有領域中に含まれる金属元素と炭素の元素比率(金属元素/炭素)が0.01〜0.2であることを特徴とする積層体。
A transparent substrate, a first optical adjustment layer and a transparent conductor having a patterned transparent conductive layer in this order, and a laminate having a pressure-sensitive adhesive layer formed on the transparent conductive layer of the transparent conductor,
The pressure-sensitive adhesive layer includes a base pressure-sensitive adhesive region essentially formed of the pressure-sensitive adhesive composition from one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer to the thickness direction, and inorganic particles from the other main surface to the thickness direction. Having an inorganic particle-containing region,
The pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductor are laminated so that the inorganic particle-containing region of the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductive layer of the transparent conductor are in contact with each other,
A laminate having a metal element to carbon element ratio (metal element / carbon) contained in the inorganic particle-containing region of 0.01 to 0.2.
前記透明基材の屈折率が、前記第1光学調整層の屈折率より大きく、前記透明導電層の屈折率より低いことを特徴とする請求項1に記載の積層体。   2. The laminate according to claim 1, wherein a refractive index of the transparent substrate is larger than a refractive index of the first optical adjustment layer and lower than a refractive index of the transparent conductive layer. 前記第1光学調整層と透明基材との間に、さらに、前記第1光学調整層の屈折率より高く、前記透明導電層の屈折率より低い屈折率を有する第2光学調整層を備えることを特徴とする請求項1又は2に記載の積層体。   A second optical adjustment layer having a refractive index higher than the refractive index of the first optical adjustment layer and lower than the refractive index of the transparent conductive layer is further provided between the first optical adjustment layer and the transparent substrate. The laminate according to claim 1 or 2, wherein: 前記無機粒子含有領域の、透明導電層と接する側の表面の屈折率が、1.47〜1.74であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の積層体。   The laminated body according to any one of claims 1 to 3, wherein a refractive index of a surface of the inorganic particle-containing region on a side in contact with the transparent conductive layer is 1.47 to 1.74. 前記無機粒子含有領域の屈折率が、当該無機粒子含有領域の透明導電層と接する側から、他方の側に向けて連続的に小さくなっていくことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の積層体。   The refractive index of the inorganic particle-containing region is continuously reduced from the side in contact with the transparent conductive layer of the inorganic particle-containing region toward the other side. The laminated body as described in. 前記無機粒子が、ジルコニア粒子を含むことを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の積層体。   The laminate according to claim 1, wherein the inorganic particles include zirconia particles. 前記無機粒子含有領域の平均厚みが、20nm〜600nmであることを特徴とする請求項1〜6のいずれかに記載の積層体。   The average thickness of the said inorganic particle containing area | region is 20 nm-600 nm, The laminated body in any one of Claims 1-6 characterized by the above-mentioned. 前記透明導電層の表面抵抗値が100Ω/□以下であることを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の積層体。   The laminate according to any one of claims 1 to 7, wherein the transparent conductive layer has a surface resistance value of 100 Ω / □ or less. 透明基材、第1光学調整層及び透明導電層をこの順に有する透明導電体を準備する工程、
粘着剤組成物から形成された粘着剤層の一方の主面に、無機粒子を含有する分散液を塗布して、該分散液に含まれる無機粒子を、粘着剤層の一方の主面から厚み方向に浸透させて、前記粘着剤組成物により本質的に形成されるベース粘着剤領域と、無機粒子含有領域とを形成する工程、
前記粘着剤層と前記透明導電体を、前記粘着剤層の前記無機粒子含有領域と、前記透明導電体の透明導電層が接するように貼り合せる工程、を有し、
前記無機粒子含有領域中に含まれる金属元素と炭素の元素比率(金属元素/炭素)が0.01〜0.2であることを特徴とする請求項1〜8のいずれかに記載の積層体の製造方法。
A step of preparing a transparent conductor having a transparent substrate, a first optical adjustment layer and a transparent conductive layer in this order;
A dispersion containing inorganic particles is applied to one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer formed from the pressure-sensitive adhesive composition, and the inorganic particles contained in the dispersion are thickened from one main surface of the pressure-sensitive adhesive layer. Infiltrating in the direction to form a base pressure-sensitive adhesive region essentially formed by the pressure-sensitive adhesive composition, and an inorganic particle-containing region,
Bonding the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductor so that the inorganic particle-containing region of the pressure-sensitive adhesive layer and the transparent conductive layer of the transparent conductor are in contact with each other;
The layered product according to any one of claims 1 to 8, wherein an element ratio of metal element to carbon (metal element / carbon) contained in the inorganic particle-containing region is 0.01 to 0.2. Manufacturing method.
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