JP2016126860A - Display device, method of manufacturing the same, and electronic equipment - Google Patents

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昭綱 高木
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耕一 永澤
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a display device capable of improving the display image quality by suppressing generation of leakage current.SOLUTION: A display device comprises on a substrate a plurality of pixels each including a light-emitting element. The light-emitting element has, sequentially from the substrate side, a first electrode arranged so as to be electrically isolated for each pixel, an organic layer including a light-emitting layer of any one of a plurality of kinds of luminous colors, and a second electrode. In a region between two or more adjacent first pixels of the plurality of pixels, a second organic layer that covers an end surface of a first organic layer and that is different from the first organic layer is formed.SELECTED DRAWING: Figure 2

Description

本開示は、有機電界発光装置などの表示装置およびその製造方法、ならびにそのような表示装置を備えた電子機器に関する。   The present disclosure relates to a display device such as an organic electroluminescent device, a manufacturing method thereof, and an electronic apparatus including such a display device.

近年、有機電界発光(EL:Electroluminescence)素子を用いた表示装置(有機ELディスプレイ)の開発が進んでいる。この表示装置では、例えば、画素毎に分離して形成された第1電極の上に、発光層を含む有機層と第2電極とが形成される。また、R,G,Bの各色発光層のいずれかを含む有機層が画素毎に塗り分けられる。このような有機層は、第1電極同士の間の領域に端面を有して形成される。   In recent years, development of display devices (organic EL displays) using organic electroluminescence (EL) elements has been progressing. In this display device, for example, an organic layer including a light emitting layer and a second electrode are formed on a first electrode formed separately for each pixel. In addition, an organic layer including any one of the R, G, and B light emitting layers is separately applied to each pixel. Such an organic layer is formed having an end face in a region between the first electrodes.

ところが、この有機層の端面と、その上に形成される第2電極とが接すると、第1電極同士の間あるいは第1電極と第2電極との間においてリーク電流を生じる。リーク電流の発生は、輝度低下を招き、表示画質の低下につながる。そこで、第1電極同士の間の領域において、有機層の端面が第2電極に対して露出しないように、有機層の端面をSiOからなる絶縁層に埋め込む構造が提案されている(特許文献1)。また、第1電極と第2電極とは互いに交差するように、有機層を挟んで対向配置されている。 However, when the end face of the organic layer is in contact with the second electrode formed thereon, a leak current is generated between the first electrodes or between the first electrode and the second electrode. The occurrence of a leak current causes a decrease in luminance and leads to a decrease in display image quality. Therefore, a structure has been proposed in which the end face of the organic layer is embedded in an insulating layer made of SiO 2 so that the end face of the organic layer is not exposed to the second electrode in the region between the first electrodes (Patent Document). 1). Further, the first electrode and the second electrode are disposed to face each other with the organic layer interposed therebetween so as to intersect each other.

特開2005−276667号公報JP 2005-276667 A

しかしながら、上記特許文献1の手法では、絶縁層(SiO)の成膜温度が高温であり、位置精度において改善の余地がある。絶縁層の成膜位置精度を向上させて、有機層端面を介した電流リークを抑制することが可能な素子構造の実現が望まれている。 However, in the method of Patent Document 1, the film formation temperature of the insulating layer (SiO 2 ) is high, and there is room for improvement in positional accuracy. It is desired to realize an element structure capable of improving the deposition position accuracy of the insulating layer and suppressing current leakage through the end face of the organic layer.

本開示はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、リーク電流の発生を抑制して表示画質を向上させることが可能な表示装置、表示装置の製造方法および電子機器を提供することにある。   The present disclosure has been made in view of such problems, and an object of the present disclosure is to provide a display device, a display device manufacturing method, and an electronic apparatus that can improve the display image quality by suppressing the occurrence of leakage current. It is in.

本開示の表示装置は、基板上に、各々が発光素子を含む複数の画素を備え、発光素子は、基板側から順に、画素毎に電気的に分離して配置された第1電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第2電極とを有し、複数の画素のうち隣接する2以上の第1の画素同士の間の領域に、第1の有機層の端面を覆うと共にこの第1の有機層とは異なる第2の有機層が形成されたものである。   The display device of the present disclosure includes a plurality of pixels each including a light-emitting element on a substrate, and the light-emitting element includes a first electrode arranged in an electrically separated manner for each pixel in order from the substrate side, and a plurality of the light-emitting elements. An organic layer including any one of the light emitting layers of the types of light emitting colors and a second electrode, and a first region is formed in a region between two or more adjacent first pixels among the plurality of pixels. A second organic layer that covers the end face of the organic layer and is different from the first organic layer is formed.

本開示の表示装置の製造方法は、基板上に各々が発光素子を含む複数の画素を形成する際に、基板上に、発光素子として、画素毎に電気的に分離して配置された第1電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第2電極とをこの順に形成し、複数の画素のうち隣接する2以上の第1の画素に第1の有機層を形成した後、第2電極の形成前に、第1の画素同士の間の領域に、第1の有機層の端面を覆うと共に第1の有機層とは異なる第2の有機層を形成する。   In the method for manufacturing a display device according to the present disclosure, when a plurality of pixels each including a light emitting element is formed on a substrate, the first light emitting element is disposed on the substrate as a light emitting element and is electrically separated for each pixel. An electrode, an organic layer including a light emitting layer of any of a plurality of types of light emission colors, and a second electrode are formed in this order, and two or more first pixels adjacent to each other among the plurality of pixels have a first After the organic layer is formed and before the second electrode is formed, a second organic layer that covers the end face of the first organic layer and is different from the first organic layer is formed in a region between the first pixels. Form.

本開示の電子機器は、上記本開示の表示装置を備えたものである。   An electronic device according to the present disclosure includes the display device according to the present disclosure.

本開示の表示装置および電子機器では、隣接する2以上の第1の画素同士の間の領域に、第1の有機層の端面を覆うと共に第1の有機層とは異なる第2の有機層が形成されている。これにより、隣接する第1電極間または第1電極と第2電極との間において、第1の有機層端面を介したリーク電流の発生が抑制される。また、第2の有機層が用いられることで、無機材料が用いられる場合に比べ、成膜温度が低くなり、成膜位置精度が向上する。   In the display device and the electronic apparatus according to the present disclosure, a second organic layer that covers the end surface of the first organic layer and is different from the first organic layer is formed in a region between two or more adjacent first pixels. Is formed. Thereby, generation | occurrence | production of the leakage current via the 1st organic layer end surface is suppressed between adjacent 1st electrodes or between 1st electrode and 2nd electrode. In addition, by using the second organic layer, the film formation temperature is lowered and the film formation position accuracy is improved as compared with the case where an inorganic material is used.

本開示の表示装置の製造方法では、隣接する2以上の第1の画素同士の間の領域に、第1の有機層の端面を覆うと共に第1の有機層とは異なる第2の有機層が形成される。これにより、隣接する第1電極間または第1電極と第2電極との間において、第1の有機層端面を介したリーク電流の発生が抑制される。また、第2の有機層が用いられることで、無機材料が用いられる場合に比べ、成膜温度が低くなり、成膜位置精度が向上する。   In the method for manufacturing a display device according to the present disclosure, a second organic layer that covers the end face of the first organic layer and is different from the first organic layer is formed in a region between two or more adjacent first pixels. It is formed. Thereby, generation | occurrence | production of the leakage current via the 1st organic layer end surface is suppressed between adjacent 1st electrodes or between 1st electrode and 2nd electrode. In addition, by using the second organic layer, the film formation temperature is lowered and the film formation position accuracy is improved as compared with the case where an inorganic material is used.

本開示の表示装置、表示装置の製造方法および電子機器では、隣接する2以上の第1の画素同士の間の領域に、第1の有機層の端面を覆うと共に第1の有機層とは異なる第2の有機層が形成される。これにより、リーク電流の発生を抑制して、表示画質を向上させることが可能となる。   In the display device, the manufacturing method of the display device, and the electronic apparatus according to the present disclosure, the end surface of the first organic layer is covered in a region between two or more adjacent first pixels and is different from the first organic layer. A second organic layer is formed. As a result, it is possible to improve the display image quality by suppressing the occurrence of leakage current.

尚、上記内容は本開示の一例である。本開示の効果は、上述したものに限らず、他の異なる効果であってもよいし、更に他の効果を含んでいてもよい。   The above content is an example of the present disclosure. The effects of the present disclosure are not limited to those described above, and may be other different effects or may include other effects.

本開示の第1の実施の形態に係る表示装置の全体構成を表す図である。It is a figure showing the whole structure of the display apparatus which concerns on 1st Embodiment of this indication. 図1に示した画素回路の一例を表す図である。It is a figure showing an example of the pixel circuit shown in FIG. 図1に示した表示装置の構成を表す断面図である。It is sectional drawing showing the structure of the display apparatus shown in FIG. 図3に示した画素分離膜の開口(画素開口)と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the opening (pixel opening) of the pixel separation film shown in FIG. 3, and the formation area of an organic layer. 図3に示した表示装置の製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the display apparatus shown in FIG. 図5Aに続く工程を表す断面図である。It is sectional drawing showing the process of following FIG. 5A. 図5Bに続く工程を表す断面図である。It is sectional drawing showing the process of following FIG. 5B. 図5Cに続く工程を表す断面図である。It is sectional drawing showing the process of following FIG. 5C. 図5Dに続く工程を表す断面図である。It is sectional drawing showing the process of following FIG. 5D. 有機層成膜時に用いる蒸着装置の一例を表す模式図である。It is a schematic diagram showing an example of the vapor deposition apparatus used at the time of organic layer film-forming. 図6に示した蒸着装置の比較例を表す模式図である。It is a schematic diagram showing the comparative example of the vapor deposition apparatus shown in FIG. 図6に示した蒸着装置の効果を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the effect of the vapor deposition apparatus shown in FIG. 比較例1−1に係る表示装置の要部構成を表す断面図である。It is sectional drawing showing the principal part structure of the display apparatus which concerns on the comparative example 1-1. 比較例1−2に係る表示装置の要部構成を表す断面図である。It is sectional drawing showing the principal part structure of the display apparatus which concerns on the comparative example 1-2. 比較例1−3に係る表示装置の要部構成を表す断面図である。It is sectional drawing showing the principal part structure of the display apparatus which concerns on Comparative Example 1-3. 比較例1−4に係る表示装置の要部構成を表す断面図である。It is sectional drawing showing the principal part structure of the display apparatus which concerns on the comparative example 1-4. 図3に示した表示装置の要部構成を表す断面図である。It is sectional drawing showing the principal part structure of the display apparatus shown in FIG. 変形例1−1に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on the modification 1-1, and the formation area of an organic layer. 変形例1−2に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 1-2, and the formation area of an organic layer. 変形例1−3に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 1-3, and the formation area of an organic layer. 変形例2−1に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 2-1, and the formation area of an organic layer. 変形例2−2に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 2-2, and the formation area of an organic layer. 変形例2−3に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 2-3, and the formation area of an organic layer. 変形例2−4に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 2-4, and the formation area of an organic layer. 変形例3−1に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on the modification 3-1, and the formation area of an organic layer. 変形例3−2に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 3-2, and the formation area of an organic layer. 変形例3−3に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 3-3, and the formation area of an organic layer. 本開示の第2の実施の形態に係る表示装置の要部構成を表す断面図である。10 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a main part of a display device according to a second embodiment of the present disclosure. FIG. 図13に示した表示装置の画素開口と有機層の形成領域との一例を表す平面図である。FIG. 14 is a plan view illustrating an example of a pixel opening and an organic layer formation region of the display device illustrated in FIG. 13. 図13に示した表示装置の画素開口と有機層の形成領域との他の例を表す平面図である。FIG. 14 is a plan view illustrating another example of a pixel opening and an organic layer formation region of the display device illustrated in FIG. 13. 比較例2に係る表示装置の要部構成を表す断面図である。12 is a cross-sectional view illustrating a configuration of a main part of a display device according to Comparative Example 2. FIG. 変形例4−1に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on the modification 4-1, and the formation area of an organic layer. 変形例4−2に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 4-2, and the formation area of an organic layer. 変形例4−3に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 4-3, and the formation area of an organic layer. 変形例4−4に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 4-4, and the formation area of an organic layer. 変形例5−1に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on the modification 5-1, and the formation area of an organic layer. 変形例5−2に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 5-2, and the formation area of an organic layer. 変形例5−3に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 5-3, and the formation area of an organic layer. 変形例5−4に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 5-4, and the formation area of an organic layer. 変形例5−5に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on the modification 5-5, and the formation area of an organic layer. 変形例5−6に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 5-6, and the formation area of an organic layer. 変形例6−1に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 6-1, and the formation area of an organic layer. 変形例6−2に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 6-2, and the formation area of an organic layer. 変形例6−3に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 6-3, and the formation area of an organic layer. 変形例6−4に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 6-4, and the formation area of an organic layer. 変形例6−5に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on the modification 6-5, and the formation area of an organic layer. 変形例6−6に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on modification 6-6, and the formation area of an organic layer. 変形例6−7に係る画素開口と有機層の形成領域とを表す平面図である。It is a top view showing the pixel opening which concerns on the modification 6-7, and the formation area of an organic layer. スマートフォンの構成を表す斜視図である。It is a perspective view showing the composition of a smart phone. スマートフォンの構成を表す斜視図である。It is a perspective view showing the composition of a smart phone. テレビジョン装置の構成を表す斜視図である。It is a perspective view showing the structure of a television apparatus. 携帯電話機の構成を表す平面図である。It is a top view showing the structure of a mobile telephone. 携帯電話機の構成を表す平面図である。It is a top view showing the structure of a mobile telephone.

以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
1.第1の実施の形態(隣接する第1の画素(R画素,G画素)間の領域に、第2の画素(B画素)の有機層が形成された表示装置の例)
2.変形例1−1〜1−3(画素開口形状の他の例)
3.変形例2−1〜2−4(有機層を所定のマスクを用いて成膜した場合の例)
4.変形例3−1〜3−4(有機層を他のマスクを用いて成膜した場合の例)
5.第2の実施の形態(第2電極と電気的に接続された補助電極を更に備えた表示装置の例)
6.変形例4−1〜4−4(画素開口形状の他の例)
7.変形例5−1〜5−6(有機層を所定のマスクを用いて成膜した場合の例)
8.変形例6−1〜6−7(有機層を他のマスクを用いて成膜した場合の例)
9.適用例(電子機器の例)
Hereinafter, embodiments of the present disclosure will be described in detail with reference to the drawings. The description will be given in the following order.
1. First embodiment (an example of a display device in which an organic layer of a second pixel (B pixel) is formed in a region between adjacent first pixels (R pixel, G pixel))
2. Modifications 1-1 to 1-3 (Other example of pixel aperture shape)
3. Modified examples 2-1 to 2-4 (examples where the organic layer is formed using a predetermined mask)
4). Modified examples 3-1 to 3-4 (examples in which the organic layer is formed using another mask)
5). Second embodiment (an example of a display device further including an auxiliary electrode electrically connected to the second electrode)
6). Modified examples 4-1 to 4-4 (other examples of pixel aperture shapes)
7). Modified examples 5-1 to 5-6 (examples where the organic layer is formed using a predetermined mask)
8). Modifications 6-1 to 6-7 (example in which the organic layer is formed using another mask)
9. Application examples (examples of electronic devices)

<第1の実施の形態>
[構成]
図1は、本開示の第1の実施の形態に係る表示装置(表示装置1)の構成を表すものである。この表示装置1は、例えば有機ELディスプレイであり、基板(第1基板11)上の表示領域110Aに、マトリクス状に配置された複数の画素PIXCを有している。各画素PIXCは、例えば発光色の異なる複数種類の有機EL素子10(10R,10G,10B)(発光素子)のいずれかを含み、R画素,G画素およびB画素のうちのいずれかのサブピクセルに相当するものである。尚、R画素,G画素およびB画素の組が1ピクセルに相当する。有機EL素子10Rは、赤色の光LR(波長620nm〜750nm)を、有機EL素子10Gは、緑色の光LG(波長495nm〜570nm)を、有機EL素子10Bは、青色の光LB(波長450nm〜495nm)を、それぞれ発生する。但し、以下では、特に発光色の区別が必要ない場合には、有機EL素子10と称して説明を行う。表示領域110Aの周辺には、映像表示用の信号線駆動回路120および走査線駆動回路130と、図示しない電源回路とが設けられている。
<First Embodiment>
[Constitution]
FIG. 1 illustrates a configuration of a display device (display device 1) according to the first embodiment of the present disclosure. The display device 1 is an organic EL display, for example, and has a plurality of pixels PIXC arranged in a matrix in a display area 110A on a substrate (first substrate 11). Each pixel PIXC includes, for example, any of a plurality of types of organic EL elements 10 (10R, 10G, 10B) (light emitting elements) having different emission colors, and any subpixel of the R pixel, the G pixel, and the B pixel. It is equivalent to. A set of R pixel, G pixel and B pixel corresponds to one pixel. The organic EL element 10R is red light LR (wavelength 620 nm to 750 nm), the organic EL element 10G is green light LG (wavelength 495 nm to 570 nm), and the organic EL element 10B is blue light LB (wavelength 450 nm to 450 nm). 495 nm) respectively. However, in the following description, when it is not particularly necessary to distinguish the emission color, the organic EL element 10 will be described. Around the display area 110A, a signal line driving circuit 120 and a scanning line driving circuit 130 for video display, and a power supply circuit (not shown) are provided.

図2は、画素PIXCの回路構成を表したものである。画素PIXCは、例えばアクティブ型の画素回路を含み、駆動用のトランジスタTr1および書き込み用のトランジスタTr2と、これらのトランジスタTr1,Tr2の間に配置されたキャパシタCsとを有する。第1の電源ライン(Vcc)と第2の電源ライン(GND)との間において、有機EL素子10のトランジスタTr1に直列に接続されている。信号線駆動回路120は、列方向に配置された複数の信号線120Aを通じてトランジスタTr2のソース電極に画像信号を供給する。走査線駆動回路130は、行方向に配置された複数の走査線130Aを通じてトランジスタTr2のゲート電極に走査信号を順次供給する。   FIG. 2 illustrates a circuit configuration of the pixel PIXC. The pixel PIXC includes, for example, an active pixel circuit, and includes a driving transistor Tr1 and a writing transistor Tr2, and a capacitor Cs disposed between the transistors Tr1 and Tr2. Between the first power supply line (Vcc) and the second power supply line (GND), the transistor Tr1 of the organic EL element 10 is connected in series. The signal line driver circuit 120 supplies an image signal to the source electrode of the transistor Tr2 through a plurality of signal lines 120A arranged in the column direction. The scanning line driving circuit 130 sequentially supplies a scanning signal to the gate electrode of the transistor Tr2 through a plurality of scanning lines 130A arranged in the row direction.

図3は図1に示した表示装置1の断面構成を表すものである。尚、図3では、R画素,G画素,B画素に対応する領域についてのみ示している。表示装置1は、例えば後述の有機層(有機層15R,15G,15B)で発生した光が第2電極16側から取り出される、いわゆるトップエミッション方式(上面発光方式)の有機ELディスプレイである。有機EL素子10R,10G,10Bは、第1基板11と第2基板18との間に設けられている。第1基板11には、上記のトランジスタTr1,Tr2等を含む回路層(図3には図示せず)が形成されており、この回路層を覆うように平坦化膜12が形成されている。平坦化膜12上には、例えば陽極(アノード)としての第1電極13が設けられている。第1電極13は、トランジスタTr1と電気的に接続されている。   FIG. 3 shows a cross-sectional configuration of the display device 1 shown in FIG. In FIG. 3, only regions corresponding to the R pixel, G pixel, and B pixel are shown. The display device 1 is a so-called top emission type (top emission type) organic EL display in which light generated in, for example, organic layers (organic layers 15R, 15G, and 15B) described later is extracted from the second electrode 16 side. The organic EL elements 10R, 10G, and 10B are provided between the first substrate 11 and the second substrate 18. A circuit layer (not shown in FIG. 3) including the above-described transistors Tr1, Tr2, etc. is formed on the first substrate 11, and a planarizing film 12 is formed so as to cover the circuit layer. On the planarizing film 12, for example, a first electrode 13 as an anode (anode) is provided. The first electrode 13 is electrically connected to the transistor Tr1.

有機EL素子10は、第1基板11の側から順に、第1電極13と、発光層を含む有機層(有機層15R,15G,15B)と、例えば陰極としての第2電極16とが積層されたものである。有機層15R,15G,15Bは、画素毎に塗り分けられている(画素毎に分離して形成されている)。この有機EL素子10上には、保護膜および接着層などを含む封止層17を介して第2基板18が貼り合わされている。以下、各部の構成について説明する。   In the organic EL element 10, a first electrode 13, an organic layer including a light emitting layer (organic layers 15R, 15G, and 15B), and a second electrode 16 as a cathode, for example, are stacked in order from the first substrate 11 side. It is a thing. The organic layers 15R, 15G, and 15B are separately painted for each pixel (formed separately for each pixel). On this organic EL element 10, the 2nd board | substrate 18 is bonded together through the sealing layer 17 containing a protective film, an adhesive layer, etc. FIG. Hereinafter, the configuration of each unit will be described.

第1基板11は、例えばガラス,シリコン(Si)ウェハ、樹脂あるいは導電性基板などの上に上記の回路層が形成された駆動基板である。導電性基板としては、例えば表面を酸化シリコン(SiO2)や樹脂等により絶縁化したものが用いられる。回路層に形成されるトランジスタTr1,Tr2は、例えば例えばMOSFET(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)により構成された薄膜トランジスタ(TFT:Thin Film Transistor)である。 The first substrate 11 is a drive substrate in which the circuit layer is formed on, for example, glass, a silicon (Si) wafer, a resin, or a conductive substrate. As the conductive substrate, for example, a substrate whose surface is insulated with silicon oxide (SiO 2 ), resin, or the like is used. The transistors Tr1 and Tr2 formed in the circuit layer are thin film transistors (TFTs) configured by, for example, MOSFETs (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistors).

平坦化膜12は、第1基板11の表面を平坦化し、有機EL素子10の各層の膜厚を均一に形成するためのものである。平坦化膜12の構成材料としては、例えば、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂およびノボラック樹脂などの有機材料、あるいは酸化シリコン(SiO2),窒化シリコン(SiNx)または酸窒化シリコン(SiON)などの無機材料が挙げられる。 The planarization film 12 is for planarizing the surface of the first substrate 11 and forming the thickness of each layer of the organic EL element 10 uniformly. As a constituent material of the planarizing film 12, for example, an organic material such as polyimide resin, acrylic resin, and novolac resin, or an inorganic material such as silicon oxide (SiO 2 ), silicon nitride (SiNx), or silicon oxynitride (SiON) is used. Can be mentioned.

第1電極13は、平坦化膜12上に、画素毎に電気的に分離して配置されている(平坦化膜12上に間隔をおいて配置されている)。具体的には、複数の第1電極13が間隔をおいて配置され、これらの複数の第1電極13の上に、画素分離膜(隔壁)14が形成されている。画素分離膜14は、第1電極13に対向して開口を有し、この開口において第1電極13と有機層15R,15G,15Bのいずれかが接している。   The first electrode 13 is disposed on the planarizing film 12 so as to be electrically separated for each pixel (arranged on the planarizing film 12 with an interval). Specifically, a plurality of first electrodes 13 are arranged at intervals, and a pixel separation film (partition wall) 14 is formed on the plurality of first electrodes 13. The pixel separation film 14 has an opening facing the first electrode 13, and any one of the first electrode 13 and the organic layers 15R, 15G, and 15B is in contact with the opening.

第1電極13の平面形状は、例えば矩形状である。各第1電極13は、有機層15R,15G,15Bのいずれかに例えば正孔を注入する電極として機能するものである。第1電極13は、光反射性を有しており、できるだけ高い反射率を有することが発光効率を高める上で望ましい。このような第1電極13の構成材料としては、例えば銀(Ag)およびアルミニウム(Al)などの金属元素の単体または合金が挙げられる。また、第1電極13は、上述した金属の単体または合金を含む単層膜であってもよいし積層膜であってもよい。あるいは、酸化錫インジウム(ITO)等が用いられてもよい。   The planar shape of the first electrode 13 is, for example, a rectangular shape. Each first electrode 13 functions as an electrode that injects holes, for example, into any of the organic layers 15R, 15G, and 15B. The first electrode 13 has light reflectivity, and it is desirable to increase the luminous efficiency to have as high a reflectance as possible. Examples of the constituent material of the first electrode 13 include simple elements or alloys of metal elements such as silver (Ag) and aluminum (Al). In addition, the first electrode 13 may be a single layer film including a single metal or an alloy described above, or may be a laminated film. Alternatively, indium tin oxide (ITO) or the like may be used.

画素分離膜14は、発光領域(画素開口)を定義すると共に、第1電極13を画素毎に電気的に分離するための絶縁膜である。この画素分離膜14は、例えばSiOなどのシリコン酸化物膜、あるいはポリイミドなどから構成されている。この画素分離膜14の開口部分に、有機層15R,15G,15Bが形成され、第1電極13が形成されている。 The pixel separation film 14 is an insulating film for defining a light emitting region (pixel opening) and electrically separating the first electrode 13 for each pixel. The pixel isolation film 14 is made of, for example, a silicon oxide film such as SiO 2 or polyimide. Organic layers 15R, 15G, and 15B are formed in the opening of the pixel separation film 14, and the first electrode 13 is formed.

有機層15R,15G,15Bは、例えば複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層と、正孔輸送層(HTL:Hole Transport Layer)とを含むものである。但し、有機層15R,15G,15Bは、この他にも、例えば正孔注入層(HIL:Hole Injection Layer)および電子輸送層(ETL:Electron Transport Layer)などを含んでいてもよい。   The organic layers 15R, 15G, and 15B include, for example, any one of a plurality of types of emission colors and a hole transport layer (HTL). However, the organic layers 15R, 15G, and 15B may further include, for example, a hole injection layer (HIL) and an electron transport layer (ETL).

図4は、本実施の形態の画素分離膜14の開口(開口H1a,H1b)と、有機層15R,15G,15Bの形成領域とを表したものである。尚、図4中のI−I線における矢視断面の構成が図3の構成に対応している。画素分離膜14の開口H1a,H1bの開口形状はそれぞれ矩形状である。即ち、本実施の形態では、R,G,Bの画素のそれぞれが矩形状の領域に形成され、これらのR,G,Bの画素の組がストライプ状を成している。ここでは、R画素およびG画素に対応する領域に、開口H1aが、B画素に対応する領域に開口H1bがそれぞれ形成されている。開口H1aに対向して有機層15R,15Gが形成され、開口H1bに対向して、有機層15Bが形成されている。   FIG. 4 shows the openings (openings H1a and H1b) of the pixel isolation film 14 and the formation regions of the organic layers 15R, 15G, and 15B according to the present embodiment. The configuration of the cross section taken along the line II in FIG. 4 corresponds to the configuration of FIG. Each of the openings H1a and H1b in the pixel isolation film 14 has a rectangular shape. That is, in this embodiment, each of the R, G, and B pixels is formed in a rectangular region, and the set of these R, G, and B pixels forms a stripe shape. Here, an opening H1a is formed in a region corresponding to the R pixel and the G pixel, and an opening H1b is formed in a region corresponding to the B pixel. Organic layers 15R and 15G are formed facing the opening H1a, and an organic layer 15B is formed facing the opening H1b.

本実施の形態では、隣接する2画素(ここでは、R画素,G画素:第1の画素)同士の間の領域(開口H1a同士の間の領域)に、有機層15R,15G(第1の有機層)の各端面を覆って、有機層15R,15Gとは異なる有機材料からなる有機層(有機層15B1:第2の有機層)が形成されている。有機層15B1は、B画素(第2の画素)の有機層15Bの構成材料を含んでいる。ここでは、図4に示したように、平面視的に、R画素,G画素の開口H1aを除く領域の略全域にわたって有機層15B(斜線部)が形成されている。有機層15Bのうちの開口H1a同士の間の領域において延在する部分が有機層15B1に相当する。有機層15B1の端部は、テーパ形状を有することが望ましい。第2電極16の断線を抑制するためである。   In the present embodiment, organic layers 15R and 15G (first pixels) are formed in a region (region between the openings H1a) between two adjacent pixels (here, R pixel and G pixel: first pixel). An organic layer (organic layer 15B1: second organic layer) made of an organic material different from the organic layers 15R and 15G is formed so as to cover each end face of the organic layer). The organic layer 15B1 includes a constituent material of the organic layer 15B of the B pixel (second pixel). Here, as shown in FIG. 4, the organic layer 15 </ b> B (shaded portion) is formed over substantially the entire region excluding the opening H <b> 1 a of the R pixel and the G pixel in plan view. A portion extending in a region between the openings H1a in the organic layer 15B corresponds to the organic layer 15B1. The end portion of the organic layer 15B1 desirably has a tapered shape. This is to suppress disconnection of the second electrode 16.

第2電極16は、光透過性を有し、例えば全画素に共通して、表示領域110Aの全面にわたって形成されている。この第2電極16は、例えば仕事関数の低いリチウム(Li),カリウム(K)などのアルカリ金属、マグネシウム(Mg),カルシウム(Ca)などのアルカリ土類金属、およびこれらの金属と銀あるいはアルミニウムなどとの合金や混合物等の金属材料から形成されるのが好ましい。陰極における保存安定性と電子注入性とを両立させるために、上記材料で形成した電極を、仕事関数が大きく導電性の高い銀、アルミニウム(Al)あるいは金(Au)などで更に被覆してもよい。また、第2電極18は透明電極であってもよい。この第2電極18は、例えば真空蒸着法、スパッタ法またはイオンプレーティング法などの公知の方法で形成することができる。   The second electrode 16 is light transmissive and is formed over the entire surface of the display region 110A, for example, common to all pixels. The second electrode 16 is made of, for example, an alkali metal such as lithium (Li) or potassium (K) having a low work function, an alkaline earth metal such as magnesium (Mg) or calcium (Ca), and these metals and silver or aluminum. It is preferably formed from a metal material such as an alloy or a mixture thereof. In order to achieve both storage stability and electron injectability at the cathode, the electrode formed of the above material may be further coated with silver, aluminum (Al), gold (Au) or the like having a high work function and high conductivity. Good. The second electrode 18 may be a transparent electrode. The second electrode 18 can be formed by a known method such as a vacuum deposition method, a sputtering method, or an ion plating method.

封止層17は、例えば窒化シリコン、酸化シリコンまたは金属酸化物などから構成された保護膜と、例えば熱硬化型樹脂または紫外線硬化型樹脂から構成された接着層などを含むものである。   The sealing layer 17 includes a protective film made of, for example, silicon nitride, silicon oxide, or metal oxide, and an adhesive layer made of, for example, a thermosetting resin or an ultraviolet curable resin.

第2基板18は、有機EL素子10R,10G,10Bにおいて発生した各色光に対して透明なガラスなどの材料により構成されている。   The second substrate 18 is made of a material such as glass that is transparent to each color light generated in the organic EL elements 10R, 10G, and 10B.

[製造方法]
上記のような表示装置1は、例えば次のようにして製造することができる。図5A〜図5Eは、本実施の形態の表示装置1の製造方法を説明するための模式図である。
[Production method]
The display device 1 as described above can be manufactured, for example, as follows. FIG. 5A to FIG. 5E are schematic views for explaining a method for manufacturing the display device 1 of the present embodiment.

まず、第1基板11上に平坦化層12を形成した後、この上に、複数の第1電極13を所定の間隔をおいて形成する。第1電極13の成膜手法としては、例えば真空蒸着法、スパッタリング法またはイオンプレーティング法等が挙げられる。   First, after the planarization layer 12 is formed on the first substrate 11, a plurality of first electrodes 13 are formed on the first substrate 11 at a predetermined interval. Examples of the film formation method for the first electrode 13 include a vacuum deposition method, a sputtering method, and an ion plating method.

この後、図5Aに示したように、上述した材料よりなる画素分離膜14を形成する。このとき、画素分離膜14により、第1電極13の端部を覆うことで、段差による電気的不具合を緩和することができる。この画素分離膜14は、例えばSiOをCVD法などにより成膜した後、あるいはポリイミドを塗布により成膜した後に、フォトリソグラフィ法などによって開口H1a,H1bを形成する。 Thereafter, as shown in FIG. 5A, the pixel isolation film 14 made of the above-described material is formed. At this time, by covering the end portion of the first electrode 13 with the pixel separation film 14, it is possible to alleviate an electrical failure due to a step. The pixel isolation film 14 is formed with openings H1a and H1b by photolithography or the like after, for example, SiO 2 is formed by CVD or the like, or after polyimide is applied by coating.

次に、図5Bおよび図5Cに示したように、開口H1aにおいて第1電極13を覆うように、有機層15R,15Gを順次形成する。このとき、有機層15R,15Gは、重畳することのないように、互いに分離したパターンとなるように形成される。これらの有機層15R,15Gは、例えば不連続となる部分(R画素とG画素との間の領域)をマスクして、例えば真空蒸着法により有機材料を蒸着させることで形成することができる。あるいは、インクジェット方式により、有機層15R,15Gを上記のようなパターンで形成することも可能である。また、有機層15R,15Gは、このような形成手法に限らず、エッチングを用いたパターニングによって形成されてもよい。例えば、有機層15R,15Gを、列方向に連続的に延在した状態でそれぞれ成膜し、その後、第1電極13同士の間の部分に形成された有機層15R,15Gをエッチングにより選択的に除去するようにしてもよい。エッチング手法としては、例えばレーザーエッチング、フォトリソグラフィを用いたドライエッチングまたはウェットエッチングなどが挙げられる。また、鋭利な針によって有機層15R,15Gを部分的に除去することも可能である。但し、これらのエッチング手法の中では、第1電極13の上に残す有機層15R,15Gにダメージを与えないことから、レーザーエッチングが望ましい。   Next, as shown in FIGS. 5B and 5C, organic layers 15R and 15G are sequentially formed so as to cover the first electrode 13 in the opening H1a. At this time, the organic layers 15R and 15G are formed to have patterns separated from each other so as not to overlap. These organic layers 15R and 15G can be formed by, for example, masking a discontinuous portion (a region between the R pixel and the G pixel) and depositing an organic material by, for example, a vacuum deposition method. Alternatively, the organic layers 15R and 15G can be formed in the above pattern by an inkjet method. Further, the organic layers 15R and 15G are not limited to such a forming method, and may be formed by patterning using etching. For example, the organic layers 15R and 15G are respectively formed in a state extending continuously in the column direction, and then the organic layers 15R and 15G formed in the portion between the first electrodes 13 are selectively etched. You may make it remove. Examples of the etching technique include laser etching, dry etching using photolithography, wet etching, and the like. It is also possible to partially remove the organic layers 15R and 15G with a sharp needle. However, in these etching methods, laser etching is desirable because the organic layers 15R and 15G remaining on the first electrode 13 are not damaged.

ここで、図6に、上記のような有機層15R,15G,15Bを所定のパターンで成膜する際に好適な蒸着装置の構成例について模式的に示す。この蒸着装置は、例えば材料供給源120と、ヒータ121と、蒸着ベルト122と、蒸着ヒータ123と、反射板124とを備えている。蒸着ベルト122は、材料供給源120と反射板124との間を巡回的に移動可能に構成されている。反射板124には溝124aが設けられ、この溝124aを介して蒸着ベルト122の一部が、被蒸着基板(第1基板11)側に露出するように構成されている。このような構成により、材料供給源120に貯蔵された有機材料を、ヒータ121の熱によって、一旦蒸着ベルト122上に蒸着させて薄膜を形成する。この後、形成した薄膜を、反射板124の溝124a付近まで移動させる。反射板124の溝124aでは、蒸着ヒータ123によって蒸着ベルト122上の薄膜が再び加熱され、これにより、被蒸着基板に有機材料を蒸着させることができる。   Here, FIG. 6 schematically shows a configuration example of a vapor deposition apparatus suitable for forming the organic layers 15R, 15G, and 15B as described above in a predetermined pattern. The vapor deposition apparatus includes, for example, a material supply source 120, a heater 121, a vapor deposition belt 122, a vapor deposition heater 123, and a reflection plate 124. The vapor deposition belt 122 is configured to be able to move cyclically between the material supply source 120 and the reflection plate 124. The reflector 124 is provided with a groove 124a, and a part of the vapor deposition belt 122 is exposed to the vapor deposition substrate (first substrate 11) through the groove 124a. With such a configuration, the organic material stored in the material supply source 120 is once deposited on the deposition belt 122 by the heat of the heater 121 to form a thin film. Thereafter, the formed thin film is moved to the vicinity of the groove 124a of the reflecting plate 124. In the groove 124a of the reflection plate 124, the thin film on the vapor deposition belt 122 is heated again by the vapor deposition heater 123, whereby an organic material can be vapor-deposited on the vapor deposition substrate.

このように蒸着ベルト122を介して段階的に有機材料を蒸着させることで、次のようなメリットがある。即ち、噴出孔(蒸着孔)から有機材料を噴出するような装置では、孔の目詰まりが生じることがあるが、上記のような蒸着ベルト122を用いた蒸着装置では、そのような目詰まりが生じない。また、薄膜の有機材料を、再付着あるいは固着を懸念することなく蒸着することができることから、蒸着ヒータ123による加熱温度を極限まで低く設定することができる。このため、マスクの温度を低減することが可能となる。   Thus, there are the following merits by depositing the organic material stepwise through the deposition belt 122. That is, in an apparatus in which an organic material is ejected from an ejection hole (deposition hole), clogging of the hole may occur. However, in the deposition apparatus using the above-described deposition belt 122, such clogging occurs. Does not occur. Moreover, since the organic material of a thin film can be vapor-deposited without worrying about redeposition or fixation, the heating temperature by the vapor deposition heater 123 can be set as low as possible. For this reason, the temperature of the mask can be reduced.

ここで、図7Aに、比較例として一般的な蒸着装置を用いた場合の噴出孔(蒸着孔1103)と成膜エリア(成膜エリア1102)との配置関係について、模式的に示す。このように、蒸着孔1103から有機材料を噴出するような装置では、蒸着源と被蒸着基板1101との間の距離が大きいことから、成膜エリア1102の外の領域Bにも、蒸着源および蒸着孔1103が設けられる。これに対し、図6に示した蒸着装置では、マスク温度の低減が可能なことから、蒸着源と被蒸着基板(第1基板11)との間の距離を狭くすることができるため、成膜エリア125に相応の領域に蒸着ベルト122を配置すればよい。これにより、被蒸着基板にマスクを近づけて配置することが可能となり,蒸着材料の材料効率を上げることができる。   Here, FIG. 7A schematically shows the arrangement relationship between the ejection holes (deposition holes 1103) and the film formation areas (film formation areas 1102) when a general vapor deposition apparatus is used as a comparative example. As described above, in an apparatus that ejects an organic material from the vapor deposition hole 1103, the distance between the vapor deposition source and the deposition target substrate 1101 is large. A vapor deposition hole 1103 is provided. On the other hand, in the vapor deposition apparatus shown in FIG. 6, since the mask temperature can be reduced, the distance between the vapor deposition source and the deposition target substrate (first substrate 11) can be narrowed. The vapor deposition belt 122 may be disposed in a region corresponding to the area 125. Thereby, it becomes possible to arrange | position a mask close to a to-be-deposited board | substrate, and can raise the material efficiency of vapor deposition material.

加えて、蒸着ベルト122のレイアウトは、図示したような上下方向に沿った配置である必要は無く、自在に設定することができる。このため、被蒸着基板を縦にした状態で使用することも可能である。   In addition, the layout of the vapor deposition belt 122 does not have to be arranged along the vertical direction as shown in the drawing, and can be freely set. For this reason, it is also possible to use the substrate to be deposited in a vertical state.

続いて、図5Dに示したように、有機層15Bを形成する。このとき、有機層15R,15Bが形成されていない部分に、有機層15R,15Gの端面を覆うように(端面が露出しないように)、有機層15Bを成膜する。これにより、R画素,G画素間の領域(開口H1a,H1b間の領域)には、有機層15R,15Gの端面を覆って有機層15B1が形成される。   Subsequently, as shown in FIG. 5D, an organic layer 15B is formed. At this time, the organic layer 15B is formed in a portion where the organic layers 15R and 15B are not formed so as to cover the end faces of the organic layers 15R and 15G (so that the end faces are not exposed). Thereby, in the region between the R pixel and the G pixel (region between the openings H1a and H1b), the organic layer 15B1 is formed so as to cover the end faces of the organic layers 15R and 15G.

この後、図5Eに示したように、第2電極9を形成することで、有機EL素子10R,10G,10Bを形成することができる。最後に、これらの有機EL素子10R,10G,10Bを覆って封止層17を形成し、第2基板18を貼り合わせることで、図3に示した表示装置1を完成する。   Thereafter, as shown in FIG. 5E, the organic EL elements 10R, 10G, and 10B can be formed by forming the second electrode 9. Finally, the sealing layer 17 is formed so as to cover these organic EL elements 10R, 10G, and 10B, and the second substrate 18 is bonded to complete the display device 1 shown in FIG.

[作用,効果]
表示装置1では、図1および図2に示したように、走査線駆動回路130から各画素PIXCのトランジスタTr2のゲートに走査信号が供給されると共に、信号線駆動回路120からは映像信号が、トランジスタTr2を介して保持容量Csに供給され、保持される。この保持容量Csに保持された信号に応じてトランジスタTr1がオンオフ制御され、これによって、各画素PIXCの有機EL素子10(10R,10G,10B)に駆動電流Idが注入される。この駆動電流Idが、第1電極13および第2電極16を通じて、有機層15R,15G,15Bの各発光層に注入されることにより、正孔と電子とが再結合し、発光が起こる。
[Action, Effect]
In the display device 1, as shown in FIGS. 1 and 2, a scanning signal is supplied from the scanning line driving circuit 130 to the gate of the transistor Tr2 of each pixel PIXC, and a video signal is output from the signal line driving circuit 120. The voltage is supplied to and held in the holding capacitor Cs via the transistor Tr2. The transistor Tr1 is controlled to be turned on / off according to the signal held in the holding capacitor Cs, whereby the drive current Id is injected into the organic EL element 10 (10R, 10G, 10B) of each pixel PIXC. When this drive current Id is injected into the respective light emitting layers of the organic layers 15R, 15G, and 15B through the first electrode 13 and the second electrode 16, holes and electrons are recombined and light emission occurs.

各有機EL素子10R,10G,10Bから発生した各色光は、第2電極16、封止層17および第2基板18等を透過し、赤色光LR,緑色光LG,青色光LBとして、第2基板18の上方へ出射する。このようにして、表示装置1では、上面発光方式による映像表示が行われる。   Each color light generated from each organic EL element 10R, 10G, 10B is transmitted through the second electrode 16, the sealing layer 17, the second substrate 18 and the like, and is converted into red light LR, green light LG, blue light LB as the second light. The light exits above the substrate 18. In this way, the display device 1 performs video display by the top emission method.

ここで、本実施の形態の比較例(比較例1−1)として、図8Aに、有機層(有機層105)を全画素に共通の層として形成した場合の要部構成について示す。この比較例1−1では、第1基板101上に平坦化膜102を介して複数の第1電極103が配置されている。これらの複数の第1電極103上には、開口をもつ画素分離膜104が形成され、これらの第1電極103と画素分離膜104との全面を覆って、白色発光層などを含む有機層105が形成されている。この有機層105の上に第2電極106が形成されている。このような比較例1−1の素子構造では、有機層105が全画素に共通して形成されていることから、隣接画素間において有機層105を通じて電流リーク(図中の矢印X)が生じる。   Here, as a comparative example of the present embodiment (Comparative Example 1-1), FIG. 8A shows a main configuration in the case where the organic layer (organic layer 105) is formed as a common layer for all pixels. In Comparative Example 1-1, a plurality of first electrodes 103 are arranged on the first substrate 101 with the planarizing film 102 interposed therebetween. A pixel separation film 104 having an opening is formed on the plurality of first electrodes 103, and covers the entire surface of the first electrode 103 and the pixel separation film 104, and an organic layer 105 including a white light emitting layer and the like. Is formed. A second electrode 106 is formed on the organic layer 105. In such an element structure of Comparative Example 1-1, since the organic layer 105 is formed in common for all the pixels, current leakage (arrow X in the drawing) occurs between the adjacent pixels through the organic layer 105.

また、図8Bには、比較例1−2として、有機層を画素毎に塗り分けて形成した場合の要部構成について示す。この比較例1−2では、有機層105Rの端面e1と、有機層105Gの端面e2とが第2電極106と接している。この結果、端面e1,e2を介して第1電極103と第2電極106との間で電流リーク(図中のX1,X2)が生じる。   FIG. 8B shows a configuration of a main part when an organic layer is formed separately for each pixel as Comparative Example 1-2. In Comparative Example 1-2, the end face e1 of the organic layer 105R and the end face e2 of the organic layer 105G are in contact with the second electrode 106. As a result, current leakage (X1, X2 in the figure) occurs between the first electrode 103 and the second electrode 106 via the end faces e1, e2.

尚、上記のような電流リークを抑制するために、図8Cおよび図8Dに示した比較例1−3,1−4のように、画素分離膜104に、有機層105を分断するような構造を形成することが考えられる。例えば、図8Cに示したように、画素分離膜14の上面に凸部104aを形成し、この凸部104aにおいて、有機層105を分断させる。あるいは、図8Dに示したように、画素分離膜14の上面に凹部104bを形成し、この凹部104bにおいて、有機層105を分断させる。ところが、これらの比較例1−3,1−4ではいずれも、第2電極106において断切れ(図中のX3,X4)が生じる虞がある。   In order to suppress the current leakage as described above, a structure in which the organic layer 105 is divided into the pixel separation film 104 as in Comparative Examples 1-3 and 1-4 shown in FIGS. 8C and 8D. Can be considered. For example, as shown in FIG. 8C, a convex portion 104a is formed on the upper surface of the pixel separation film 14, and the organic layer 105 is divided at the convex portion 104a. Alternatively, as shown in FIG. 8D, a recess 104b is formed on the upper surface of the pixel isolation film 14, and the organic layer 105 is divided in the recess 104b. However, in these Comparative Examples 1-3 and 1-4, there is a possibility that disconnection (X3, X4 in the drawing) occurs in the second electrode 106.

これに対し、本実施の形態では、図9に示したように、隣接する2つの画素(ここではR画素,G画素)間の領域において、有機層15R,15Gの各端面e1,e2を覆って、有機層15B1が形成されている(図中の領域A)。これにより、隣接する第1電極13同士の間で、有機層15R,15Gを介してリーク電流が生じることが抑制される。また、第2電極16が有機層15R,15Gの端面e1,e2と導通して、第1電極13と第2電極16との間にリーク電流が生じることも抑制される。   On the other hand, in the present embodiment, as shown in FIG. 9, the end faces e1 and e2 of the organic layers 15R and 15G are covered in the region between two adjacent pixels (here, R pixel and G pixel). Thus, an organic layer 15B1 is formed (region A in the figure). Thereby, it is suppressed that leak current arises between adjacent 1st electrodes 13 via organic layer 15R, 15G. In addition, the second electrode 16 is electrically connected to the end faces e1 and e2 of the organic layers 15R and 15G, and the occurrence of a leakage current between the first electrode 13 and the second electrode 16 is also suppressed.

これにより、有機層15R,15Gのうち、発光させるべき部分(開口H1aに対向する部分)に、本来発光に利用される電流の略全てが流れるようになるので、その発光部分の輝度低下を抑制できる。また、発光部を電気容量として用いるような回路動作を行う場合においても、漏れ電流による表示品位の低下が抑制される。   As a result, in the organic layers 15R and 15G, almost all of the current that is originally used for light emission flows through the portion that should emit light (the portion that opposes the opening H1a). it can. In addition, even when a circuit operation is performed in which the light emitting unit is used as an electric capacity, a reduction in display quality due to leakage current is suppressed.

以上説明したように、本実施の形態では、隣接する2以上の第1の画素(ここではR画素,G画素)同士の間の領域に、有機層15R,15Gの端面を覆うと共にこれらの有機層15R,15Gとは異なる有機層(有機層15B1)が形成されている。これにより、隣接する第1電極13間または第1電極13と第2電極16との間において、有機層15R,15Gの端面を介したリーク電流の発生を抑制することができる。また、有機層15B1が用いられることで、無機材料が用いられる場合に比べ、成膜温度を低くすることができ、成膜位置精度が向上する。よって、リーク電流の発生を抑制して、表示画質を向上させることが可能となる。   As described above, in the present embodiment, the end surfaces of the organic layers 15R and 15G are covered in a region between two or more adjacent first pixels (here, R pixels and G pixels) and these organic layers are covered. An organic layer (organic layer 15B1) different from the layers 15R and 15G is formed. Thereby, generation | occurrence | production of the leakage current via the end surface of organic layer 15R, 15G can be suppressed between the adjacent 1st electrodes 13 or between the 1st electrode 13 and the 2nd electrode 16. FIG. In addition, the use of the organic layer 15B1 makes it possible to lower the film formation temperature and improve the film formation position accuracy as compared with the case where an inorganic material is used. Therefore, it is possible to improve the display image quality by suppressing the occurrence of leakage current.

また、本実施の形態では、第1の有機層(有機層15R,15G)の端面を覆う第2の有機層として、B画素の有機層15Bを利用している。つまり、有機層15B1は、有機層15Bの構成材料を含み、ここでは、有機層15Bが開口H1aを除く領域の全域にわたって形成されており、有機層15B1が有機層15Bと連続した膜(同一膜)となっている。つまり、有機層15R,15Gの端面を覆う有機層として新たな材料を用意して、別途パターン形成する必要がないため、工程数やコストが増大することもない。   In the present embodiment, the organic layer 15B of the B pixel is used as the second organic layer that covers the end face of the first organic layer (organic layers 15R and 15G). That is, the organic layer 15B1 includes the constituent material of the organic layer 15B. Here, the organic layer 15B is formed over the entire region excluding the opening H1a, and the organic layer 15B1 is a film continuous with the organic layer 15B (same film). ). That is, it is not necessary to prepare a new material and form a separate pattern as an organic layer covering the end faces of the organic layers 15R and 15G, so that the number of processes and cost do not increase.

尚、上記実施の形態では、隣接する2以上の第1の画素として、R画素およびG画素を例に挙げ、第2の画素としてB画素を例に挙げて説明したが、本開示の第1および第2の画素は、この組み合わせに限定されるものではない。但し、第1の画素の有機層よりも、第2の画素の有機層は、電流リーク性が低いことが望ましい。以下の変形例および実施の形態においても同様である。   In the above-described embodiment, the R pixel and the G pixel are described as examples of the two or more adjacent first pixels, and the B pixel is described as an example of the second pixel. The second pixel is not limited to this combination. However, it is desirable that the organic layer of the second pixel has lower current leakage than the organic layer of the first pixel. The same applies to the following modifications and embodiments.

次に、上記第1の実施の形態の変形例および他の実施の形態について説明する。以下では、上記第1の実施の形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、適宜その説明を省略する。   Next, a modified example of the first embodiment and other embodiments will be described. In the following, the same components as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and the description thereof is omitted as appropriate.

<変形例1−1〜1−3>
図10A〜図10Cは、上記第1の実施の形態の変形例1−1〜1−3に係る画素開口と有機層の形成領域とを表したものである。上記実施の形態では、R,G,Bの全画素が矩形状の領域に形成される場合を例示したが、各画素の形状(画素分離膜の開口形状)は、矩形状に限定されず、また画素毎に異なっていてもよい。本変形例においても、第1の画素(R画素,G画素)の開口には、有機層15R,15Gがそれぞれ形成されており、これらの第1の画素(R画素,G画素)の開口を除く領域の略全域にわたって、有機層15Bが形成されている。
<Modifications 1-1 to 1-3>
10A to 10C show pixel openings and organic layer formation regions according to Modifications 1-1 to 1-3 of the first embodiment. In the above embodiment, the case where all the R, G, and B pixels are formed in a rectangular region is illustrated, but the shape of each pixel (the opening shape of the pixel separation film) is not limited to a rectangular shape, Moreover, you may differ for every pixel. Also in this modification, the organic layers 15R and 15G are formed in the openings of the first pixels (R pixels and G pixels), and the openings of these first pixels (R pixels and G pixels) are formed. The organic layer 15B is formed over substantially the entire area except the area.

例えば、図10Aに示したように、第1の画素(R画素,G画素)の開口H2aが正方形状または正方形状に近い矩形状で、第2の画素(B画素)の開口H2bが矩形状であってもよい。この例では、開口H2aが列方向に2つ並び、これらの2つの開口H2aのそれぞれに隣接して開口H2bが形成されている。   For example, as shown in FIG. 10A, the opening H2a of the first pixel (R pixel, G pixel) has a square shape or a rectangular shape close to a square shape, and the opening H2b of the second pixel (B pixel) has a rectangular shape. It may be. In this example, two openings H2a are arranged in the column direction, and an opening H2b is formed adjacent to each of these two openings H2a.

また、図10Bに示したように、第1の画素(R画素,G画素)と第2の画素(B画素)との各開口H2aが正方形状または正方形状に近い矩形状であってもよい。   Further, as shown in FIG. 10B, each opening H2a of the first pixel (R pixel, G pixel) and the second pixel (B pixel) may be a square shape or a rectangular shape close to a square shape. .

更に、図10Cに示したように、第1の画素(R画素,G画素)と第2の画素(B画素)との各開口H3が円形状であってもよい。この場合、第2の画素(B画素)を囲むように、第1の画素(R画素,G画素)が、例えば多角形状または円形状の外周に沿って配置されている。   Furthermore, as shown in FIG. 10C, each opening H3 of the first pixel (R pixel, G pixel) and the second pixel (B pixel) may be circular. In this case, the first pixel (R pixel, G pixel) is arranged along the outer periphery of, for example, a polygonal shape or a circular shape so as to surround the second pixel (B pixel).

<変形例2−1〜2−4>
図11A〜図11Dは、上記第1の実施の形態の変形例2−1〜2−4に係る画素開口と有機層の形成領域とを表したものである。上記実施の形態では、有機層15B(15B1)を、第1の画素(R画素,G画素)の開口を除く略全域にわたって形成したが、有機層15B(15B1)の形成領域は、これに限定されるものではない。即ち、有機層15B(15B1)の形成領域は、第1の画素(R画素,G画素)間の領域において、有機層15R,15Gの端面を覆って形成されていれば、必ずしも有機層15R,15Gの端面の全てを覆っていなくともよい。
<Modifications 2-1 to 2-4>
11A to 11D show pixel openings and organic layer formation regions according to the modified examples 2-1 to 2-4 of the first embodiment. In the above embodiment, the organic layer 15B (15B1) is formed over substantially the entire area excluding the opening of the first pixel (R pixel, G pixel), but the formation region of the organic layer 15B (15B1) is limited to this. Is not to be done. That is, if the formation region of the organic layer 15B (15B1) covers the end surfaces of the organic layers 15R and 15G in the region between the first pixels (R pixel and G pixel), the organic layer 15R, It is not necessary to cover the entire end face of 15G.

例えば、図11Aに示したように、第1の画素(R画素,G画素)が行状または列状(ここでは列状)の領域にそれぞれ配置(列方向に沿って配置)されている場合には、これらの列状の領域を除く領域の略全域にわたって有機層15Bが形成されていてもよい。
このような有機層15Bは、例えばシャドウマスクと呼ばれるスリット状の開口を有するマスクを用いて形成することができる。
For example, as shown in FIG. 11A, when the first pixels (R pixels, G pixels) are respectively arranged (arranged along the column direction) in a row or column (here, column) region. The organic layer 15B may be formed over substantially the entire region excluding these columnar regions.
Such an organic layer 15B can be formed using, for example, a mask having a slit-like opening called a shadow mask.

また、本変形例においても、画素開口の形状は矩形状に限定されるものではなく、図11Bに示したように、第1の画素(R画素,G画素)では、正方形状の開口H2aが形成され、第2の画素(B画素)では、矩形状の開口H2bが形成されていてもよい。   Also in the present modification, the shape of the pixel opening is not limited to a rectangular shape, and as shown in FIG. 11B, the first pixel (R pixel, G pixel) has a square opening H2a. In the formed second pixel (B pixel), a rectangular opening H2b may be formed.

更に、図11Cおよび図11Dに示したように、第1の画素(R画素,G画素)と第2の画素(B画素)の全てが、正方形状の開口H2aを有する場合に、所定のシャドウマスクを用いることで、第1の画素(R画素,G画素)が配置された行状の領域と列状の領域とのそれぞれを除く領域に有機層15Bを形成することもできる。   Furthermore, as shown in FIG. 11C and FIG. 11D, when all of the first pixel (R pixel, G pixel) and the second pixel (B pixel) have a square opening H2a, a predetermined shadow By using the mask, the organic layer 15B can be formed in a region excluding each of the row region and the column region where the first pixels (R pixel and G pixel) are arranged.

<変形例3−1〜3−3>
図12A〜図12Cは、上記第1の実施の形態の変形例3−1〜3−3に係る画素開口と有機層の形成領域とを表したものである。上記実施の形態では、有機層15B(15B1)を、第1の画素(R画素,G画素)の開口を除く略全域にわたって形成したが、有機層15B(15B1)の形成領域は、これに限定されるものではない。即ち、有機層15B(15B1)の形成領域は、第1の画素(R画素,G画素)間の領域において、有機層15R,15Gの端面を覆って形成されていれば、必ずしも有機層15R,15Gの端面の全てを覆っていなくともよい。
<Modifications 3-1 to 3-3>
12A to 12C illustrate pixel openings and organic layer formation regions according to the modified examples 3-1 to 3-3 of the first embodiment. In the above embodiment, the organic layer 15B (15B1) is formed over substantially the entire area excluding the opening of the first pixel (R pixel, G pixel), but the formation region of the organic layer 15B (15B1) is limited to this. Is not to be done. That is, if the formation region of the organic layer 15B (15B1) covers the end surfaces of the organic layers 15R and 15G in the region between the first pixels (R pixel and G pixel), the organic layer 15R, It is not necessary to cover the entire end face of 15G.

例えば、図12Aに示したように、第1の画素(R画素,G画素)が行状または列状(ここでは列状)の領域にそれぞれ配置(列方向に沿って配置)されている場合には、これらの列状の領域を除く領域の略全域にわたって有機層15Bが形成されていてもよい。但し、本変形例では、上記変形例2−1(図11A)と比較して、R画素同士の間およびG画素同士の間の領域において、有機層15Bの非形成領域15BLが狭くなっている。これにより、有機層15R,15Gの端面のほとんどを有機層15Bによって覆うことができる。このような有機層15Bも、例えばシャドウマスクを用いて形成することができる。   For example, as shown in FIG. 12A, when the first pixels (R pixels, G pixels) are respectively arranged (arranged along the column direction) in row or column (here, column) regions. The organic layer 15B may be formed over substantially the entire region excluding these columnar regions. However, in this modified example, the non-formation region 15BL of the organic layer 15B is narrower in the region between the R pixels and the G pixel than in the modified example 2-1 (FIG. 11A). . Thereby, most end surfaces of the organic layers 15R and 15G can be covered with the organic layer 15B. Such an organic layer 15B can also be formed using, for example, a shadow mask.

また、本変形例においても、画素開口の形状は矩形状に限定されるものではなく、図12Bに示したように、第1の画素(R画素,G画素)では、正方形状の開口H2aが形成され、第2の画素(B画素)では、矩形状の開口H2bが形成されていてもよい。   Also in this modification, the shape of the pixel opening is not limited to a rectangular shape, and as shown in FIG. 12B, the first pixel (R pixel, G pixel) has a square opening H2a. In the formed second pixel (B pixel), a rectangular opening H2b may be formed.

更に、図12Cに示したように、第1の画素(R画素,G画素)と第2の画素(B画素)とにおいて、円形状の開口H3が形成されていてもよい。   Furthermore, as illustrated in FIG. 12C, a circular opening H3 may be formed in the first pixel (R pixel, G pixel) and the second pixel (B pixel).

<第2の実施の形態>
[構成]
図13は、本開示の第1の実施の形態に係る表示装置の要部構成を表したものである。本実施の形態の表示装置は、上記第1の実施の形態と同様、例えば有機ELディスプレイであり、第1基板11上の表示領域110Aに、マトリクス状に配置された複数の画素PIXCを有している。また、各画素PIXCは、有機EL素子10(10R,10G,10B)(発光素子)のいずれかを含み、R画素,G画素およびB画素のうちのいずれかのサブピクセルに相当するものである。有機EL素子10R,10G,10Bは、第1基板11と第2基板18との間に設けられ、第1基板11の側から順に、第1電極13と、有機層(有機層15R,15G,15B)と、第2電極16とが積層されたものである。この有機EL素子10上には、図示しない封止層17を介して第2基板18が貼り合わされている。
<Second Embodiment>
[Constitution]
FIG. 13 illustrates a main configuration of the display device according to the first embodiment of the present disclosure. The display device of the present embodiment is, for example, an organic EL display as in the first embodiment, and has a plurality of pixels PIXC arranged in a matrix in the display region 110A on the first substrate 11. ing. Each pixel PIXC includes any of the organic EL elements 10 (10R, 10G, 10B) (light emitting elements), and corresponds to any one of the R pixel, the G pixel, and the B pixel. . The organic EL elements 10R, 10G, and 10B are provided between the first substrate 11 and the second substrate 18, and sequentially from the first substrate 11 side, the first electrode 13 and the organic layers (organic layers 15R, 15G, 15B) and the second electrode 16 are laminated. On this organic EL element 10, the 2nd board | substrate 18 is bonded through the sealing layer 17 which is not shown in figure.

本実施の形態においても、上記第1の実施の形態と同様、第1の画素(R画素,G画素)間の領域において、有機層15R,15Gの端面が、有機層15B1によって覆われている。これにより、有機層15R,15Gの端面を介したリーク電流の発生を抑制することができる。   Also in the present embodiment, as in the first embodiment, the end surfaces of the organic layers 15R and 15G are covered with the organic layer 15B1 in the region between the first pixels (R pixels and G pixels). . Thereby, generation | occurrence | production of the leakage current via the end surface of organic layer 15R, 15G can be suppressed.

但し、本実施の形態では、第1基板11上(平坦化膜12上)の選択的な領域に、第2電極16と電気的に接続された補助電極19が形成されている。補助電極19上には有機層15Bは形成されておらず、第2電極16と接して形成されている(カソードコンタクト部19Cを有する)。   However, in the present embodiment, an auxiliary electrode 19 electrically connected to the second electrode 16 is formed in a selective region on the first substrate 11 (on the planarizing film 12). The organic layer 15B is not formed on the auxiliary electrode 19, but is formed in contact with the second electrode 16 (having a cathode contact portion 19C).

カソードコンタクト部19C(あるいは補助電極19)の形成箇所は特に限定されないが、例えば図14Aおよび図14Bに示したように、カソードコンタクト部19Cは、行方向において隣り合う画素間の領域に配置される。尚、図14AのII−II線における矢視断面構成が、図13の要部構成に対応している。図14Aの例では、B画素同士の間の領域に、図14Bの例では、R画素同士の間の領域に、それぞれ配置されている。このように、カソードコンタクト部19Cが配置される場合には、有機層15Bは、平面視的に、第1の画素(R画素,G画素)の開口H1aとカソードコンタクト部19C(補助電極19)とを除く領域に形成される。   The location where the cathode contact portion 19C (or auxiliary electrode 19) is formed is not particularly limited. For example, as shown in FIGS. 14A and 14B, the cathode contact portion 19C is disposed in a region between adjacent pixels in the row direction. . 14A corresponds to the main configuration of FIG. 13. In the example of FIG. 14A, it arrange | positions in the area | region between B pixels, and in the example of FIG. 14B, respectively, it arrange | positions in the area | region between R pixels. As described above, when the cathode contact portion 19C is disposed, the organic layer 15B includes the opening H1a of the first pixel (R pixel, G pixel) and the cathode contact portion 19C (auxiliary electrode 19) in plan view. It is formed in the area except for.

ここで、図15に、本実施の形態の比較例(比較例2)に係る表示装置の要部構成について示す。比較例2の表示装置では、第1基板101上に、平坦化膜102を介して、第1電極103と補助電極107とが形成されている。有機層は、画素毎に塗り分けられている(有機層105R,105Gが形成されている)。このような構成において、第1基板101の全面にわたって、共通電子輸送層(電荷ブロック層)108が形成される。この比較例2の表示装置では、有機層105R,105Gと第2電極106との間に共通電子輸送層108が介在することにより、リーク電流の発生は抑制できるものの、補助電極107と第2電極106との間にも共通電子輸送層108が介在することとなる。このため、良好なカソードコンタクトを確保することができない。   Here, FIG. 15 shows a main configuration of a display device according to a comparative example (comparative example 2) of the present embodiment. In the display device of Comparative Example 2, the first electrode 103 and the auxiliary electrode 107 are formed on the first substrate 101 via the planarization film 102. The organic layer is applied separately for each pixel (organic layers 105R and 105G are formed). In such a configuration, a common electron transport layer (charge blocking layer) 108 is formed over the entire surface of the first substrate 101. In the display device of Comparative Example 2, although the common electron transport layer 108 is interposed between the organic layers 105R and 105G and the second electrode 106, the generation of leakage current can be suppressed, but the auxiliary electrode 107 and the second electrode The common electron transport layer 108 is also interposed between the first and second layers 106. For this reason, a good cathode contact cannot be secured.

これに対し、本実施の形態では、所定のマスクを用いて有機層15Bを形成することにより、補助電極19上には有機層15bが形成されない。このため、補助電極19と第2電極16とを電気的に接続することができ、良好なカソードコンタクトを実現できる。   On the other hand, in the present embodiment, the organic layer 15b is not formed on the auxiliary electrode 19 by forming the organic layer 15B using a predetermined mask. For this reason, the auxiliary electrode 19 and the 2nd electrode 16 can be electrically connected, and a favorable cathode contact is realizable.

<変形例4−1〜4−4>
図16A〜図16Dは、上記第2の実施の形態の変形例4−1〜4−4に係る画素開口と有機層の形成領域とを表したものである。上記第2の実施の形態では、R,G,Bの全画素が矩形状の領域に形成される場合を例示したが、各画素の形状(画素分離膜の開口形状)は、矩形状に限定されず、また画素毎に異なっていてもよい。また、カソードコンタクト部19Cの形成位置も上述したものに限定されない。本変形例においても、第1の画素(R画素,G画素)の開口には、有機層15R,15Gがそれぞれ形成されており、これらの第1の画素(R画素,G画素)の開口と、カソードコンタクト部19Cとを除く領域の略全域にわたって、有機層15Bが形成されている。
<Modifications 4-1 to 4-4>
FIGS. 16A to 16D show pixel openings and organic layer formation regions according to modified examples 4-1 to 4-4 of the second embodiment. In the second embodiment, the case where all the R, G, and B pixels are formed in a rectangular region has been exemplified. However, the shape of each pixel (the opening shape of the pixel separation film) is limited to a rectangular shape. They may not be different for each pixel. Further, the formation position of the cathode contact portion 19C is not limited to that described above. Also in this modification, the organic layers 15R and 15G are formed in the openings of the first pixels (R pixels and G pixels), respectively, and the openings of these first pixels (R pixels and G pixels) The organic layer 15B is formed over substantially the entire region excluding the cathode contact portion 19C.

例えば、図16Aおよび図16Bに示したように、第1の画素(R画素,G画素)では、正方形状の開口H2aが形成され、第2の画素(B画素)では、矩形状の開口H2bが形成されていてもよい。また、カソードコンタクト部19Cは、図16Aに示したように、列方向において隣合う開口H2b同士の間(B画素同士の間)の領域に形成されていてもよいし、図16Bに示したように、第1の画素の開口H2aに隣接した位置に形成されていてもよい。あるいは、図16Cに示したような位置に形成されていてもよい。   For example, as shown in FIG. 16A and FIG. 16B, a square opening H2a is formed in the first pixel (R pixel, G pixel), and a rectangular opening H2b is formed in the second pixel (B pixel). May be formed. Further, as shown in FIG. 16A, the cathode contact portion 19C may be formed in a region between openings H2b adjacent in the column direction (between B pixels), or as shown in FIG. 16B. In addition, it may be formed at a position adjacent to the opening H2a of the first pixel. Or you may form in the position as shown to FIG. 16C.

更に、図16Dに示したように、第1の画素(R画素,G画素)と第2の画素(B画素)とにおいて、円形状の開口H3が形成されていてもよい。   Furthermore, as illustrated in FIG. 16D, a circular opening H3 may be formed in the first pixel (R pixel, G pixel) and the second pixel (B pixel).

<変形例5−1〜5−6>
図17A〜図17Fは、上記第2の実施の形態の変形例5−1〜5−6に係る画素開口と有機層の形成領域とを表したものである。上記第2の実施の形態では、有機層15B(15B1)を、第1の画素(R画素,G画素)の開口とカソードコンタクト部19Cとを除く略全域にわたって形成したが、有機層15B(15B1)の形成領域は、これに限定されるものではない。即ち、有機層15B(15B1)の形成領域は、第1の画素(R画素,G画素)間の領域において、有機層15R,15Gの端面を覆って形成されていればよく、有機層15R,15Gの端面の全てを覆っていなくともよい。
<Modifications 5-1 to 5-6>
FIG. 17A to FIG. 17F show pixel openings and organic layer formation regions according to Modifications 5-1 to 5-6 of the second embodiment. In the second embodiment, the organic layer 15B (15B1) is formed over substantially the entire area excluding the opening of the first pixel (R pixel, G pixel) and the cathode contact portion 19C. However, the organic layer 15B (15B1) is formed. The formation region is not limited to this. That is, the formation region of the organic layer 15B (15B1) may be formed so as to cover the end surfaces of the organic layers 15R and 15G in the region between the first pixels (R pixel and G pixel). It is not necessary to cover the entire end face of 15G.

例えば、図17Aに示したように、第1の画素(R画素,G画素)が行状または列状(ここでは列状)の領域にそれぞれ配置され、カソードコンタクト部19Cが、隣合う開口H1b同士の間の領域に形成されている場合には、第1の画素(R画素,G画素)を含む列状の領域と、カソードコンタクト部19Cを含む行状の領域とを除く領域の略全域にわたって有機層15Bが形成される。このような有機層15Bは、例えばシャドウマスクと呼ばれるスリット状の開口を有するマスクを用いて形成することができる。   For example, as shown in FIG. 17A, the first pixels (R pixels, G pixels) are arranged in a row or column (here, column) region, and the cathode contact portion 19C is formed between adjacent openings H1b. In the case of being formed in the region between the organic regions, the organic region is formed over substantially the entire region excluding the columnar region including the first pixel (R pixel, G pixel) and the row region including the cathode contact portion 19C. Layer 15B is formed. Such an organic layer 15B can be formed using, for example, a mask having a slit-like opening called a shadow mask.

また、図17Bに示したように、第1の画素(R画素,G画素)が行状または列状(ここでは列状)の領域にそれぞれ配置され、カソードコンタクト部19Cが、隣合う開口H1a同士の間の領域に形成されている場合には、第1の画素(R画素,G画素)を含む列状の領域を除く領域の略全域にわたって有機層15Bが形成される。   Also, as shown in FIG. 17B, the first pixels (R pixels, G pixels) are arranged in row or column (here, column) regions, respectively, and the cathode contact portions 19C are arranged between adjacent openings H1a. When the organic layer 15B is formed in the region between the organic layers 15B, the organic layer 15B is formed over substantially the entire region excluding the columnar region including the first pixel (R pixel, G pixel).

更に、図17Cおよび図17Dに示したように、第1の画素(R画素,G画素)では、正方形状の開口H2aが形成され、第2の画素(B画素)では、矩形状の開口H2bが形成されていてもよい。また、カソードコンタクト部19Cは、図17Cに示したように、開口H2b同士の間の領域に形成されていてもよいし、図17Dに示したように、開口H2aに隣接した位置に形成されていてもよい。   Furthermore, as illustrated in FIGS. 17C and 17D, the first pixel (R pixel, G pixel) has a square opening H2a, and the second pixel (B pixel) has a rectangular opening H2b. May be formed. Further, the cathode contact portion 19C may be formed in a region between the openings H2b as shown in FIG. 17C, or is formed at a position adjacent to the opening H2a as shown in FIG. 17D. May be.

あるいは、図17Eおよび図17Fに示したように、第1の画素(R画素,G画素)と第2の画素(B画素)の全てが、正方形状の開口H2aを有する場合に、所定のシャドウマスクを用いることで、第1の画素(R画素,G画素)が配置された行状および列状の領域と、カソードコンタクト部19Cとのそれぞれを除く領域に有機層15Bを形成することもできる。   Alternatively, as shown in FIGS. 17E and 17F, when all of the first pixel (R pixel, G pixel) and the second pixel (B pixel) have a square opening H2a, the predetermined shadow By using the mask, the organic layer 15B can be formed in a region excluding each of the row and column regions where the first pixels (R pixels and G pixels) are arranged and the cathode contact portion 19C.

<変形例6−1〜6−7>
図18A〜図18Gは、上記第2の実施の形態の変形例6−1〜6−7に係る画素開口と有機層の形成領域とを表したものである。上記第2の実施の形態では、有機層15B(15B1)を、第1の画素(R画素,G画素)の開口とカソードコンタクト部19Cとを除く略全域にわたって形成したが、有機層15B(15B1)の形成領域は、これに限定されるものではない。即ち、有機層15B(15B1)の形成領域は、第1の画素(R画素,G画素)間の領域において、有機層15R,15Gの端面を覆って形成されていればよく、有機層15R,15Gの端面の全てを覆っていなくともよい。
<Modifications 6-1 to 6-7>
FIGS. 18A to 18G show pixel openings and organic layer formation regions according to the modified examples 6-1 to 6-7 of the second embodiment. In the second embodiment, the organic layer 15B (15B1) is formed over substantially the entire area excluding the opening of the first pixel (R pixel, G pixel) and the cathode contact portion 19C. However, the organic layer 15B (15B1) is formed. The formation region is not limited to this. That is, the formation region of the organic layer 15B (15B1) may be formed so as to cover the end surfaces of the organic layers 15R and 15G in the region between the first pixels (R pixel and G pixel). It is not necessary to cover the entire end face of 15G.

例えば、図18Aに示したように、第1の画素(R画素,G画素)が行状または列状(ここでは列状)の領域にそれぞれ配置され、カソードコンタクト部19Cが、開口H1b同士の間の領域に形成されている場合には、第1の画素(R画素,G画素)を含む列状の領域と、カソードコンタクト部19Cを含む行状の領域とを除く領域の略全域にわたって有機層15Bが形成される。但し、本変形例では、上記変形例5−1(図17A)と比較して、R画素同士の間およびG画素同士の間の領域において、有機層15Bの非形成領域15BLが狭くなっている。これにより、有機層15R,15Gの端面のほとんどを有機層15Bによって覆うことができる。このような有機層15Bも、例えば所定のシャドウマスクを用いて形成することができる。   For example, as shown in FIG. 18A, the first pixels (R pixels, G pixels) are arranged in row or column (here, column) regions, respectively, and the cathode contact portion 19C is located between the openings H1b. The organic layer 15B extends over substantially the entire region excluding the columnar region including the first pixels (R pixel and G pixel) and the row region including the cathode contact portion 19C. Is formed. However, in this modified example, the non-formation region 15BL of the organic layer 15B is narrower in the region between the R pixels and the G pixel than in the modified example 5-1 (FIG. 17A). . Thereby, most end surfaces of the organic layers 15R and 15G can be covered with the organic layer 15B. Such an organic layer 15B can also be formed using, for example, a predetermined shadow mask.

また、図18Bに示したように、第1の画素(R画素,G画素)が行状または列状(ここでは列状)の領域にそれぞれ配置され、カソードコンタクト部19Cが、R画素同士の間の領域に形成されている場合には、第1の画素(R画素,G画素)を含む列状の領域を除く領域の略全域にわたって有機層15Bが形成される。但し、カソードコンタクト部19Cの形成されていない、G画素同士の間の領域では、有機層15Bの非形成領域15BLが狭くなっている。   Further, as shown in FIG. 18B, the first pixels (R pixels, G pixels) are respectively arranged in a row-like or column-like (column-like here) region, and the cathode contact portion 19C is located between the R pixels. In this case, the organic layer 15B is formed over substantially the entire region excluding the columnar region including the first pixel (R pixel, G pixel). However, the non-formation region 15BL of the organic layer 15B is narrow in the region between the G pixels where the cathode contact portion 19C is not formed.

更に、本変形例においても、図18Cおよび図18Dに示したように、第1の画素(R画素,G画素)では、正方形状の開口H2aが形成され、第2の画素(B画素)では、矩形状の開口H2bが形成されていてもよい。また、カソードコンタクト部19Cは、図18Cに示したように、隣合う開口H2b同士の間の領域に形成されていてもよいし、図18Dに示したように、第1の画素の開口H2aに隣接した位置に形成されていてもよい。   Further, also in this modification, as shown in FIGS. 18C and 18D, the first pixel (R pixel, G pixel) has a square opening H2a, and the second pixel (B pixel) A rectangular opening H2b may be formed. Further, the cathode contact portion 19C may be formed in a region between the adjacent openings H2b as shown in FIG. 18C, or the opening H2a of the first pixel as shown in FIG. 18D. You may form in the adjacent position.

あるいは、図18Eおよび図18Fに示したように、第1の画素(R画素,G画素)と第2の画素(B画素)の全てが、正方形状の開口H2aを有する場合に、所定のシャドウマスクを用いることで、第1の画素(R画素,G画素)が配置された行状および列状の領域と、カソードコンタクト部19Cとのそれぞれを除く領域に有機層15Bを形成することもできる。   Alternatively, as shown in FIGS. 18E and 18F, when all of the first pixel (R pixel, G pixel) and the second pixel (B pixel) have a square opening H2a, the predetermined shadow By using the mask, the organic layer 15B can be formed in a region excluding each of the row and column regions where the first pixels (R pixels and G pixels) are arranged and the cathode contact portion 19C.

加えて、図18Gに示したように、第1の画素(R画素,G画素)と第2の画素(B画素)とにおいて、円形状の開口H3が形成されていてもよい。   In addition, as illustrated in FIG. 18G, a circular opening H3 may be formed in the first pixel (R pixel, G pixel) and the second pixel (B pixel).

このように、本開示の第1の画素、第2の画素、補助電極、および第2の画素の有機層のレイアウト等は、様々なものが挙げられる。また、上述した例に限定されるものでもない。例えば、図6に示した蒸着装置や所定のシャドウマスクを用いた蒸着法、あるいは印刷技術などを用いることで、様々なレイアウトを実現することができる。   As described above, various layouts of the first pixel, the second pixel, the auxiliary electrode, and the organic layer of the second pixel of the present disclosure can be used. Moreover, it is not limited to the example mentioned above. For example, various layouts can be realized by using the vapor deposition apparatus shown in FIG. 6, a vapor deposition method using a predetermined shadow mask, or a printing technique.

<適用例>
上記実施の形態および変形例において説明した表示装置は、外部から入力された映像信号あるいは内部で生成した映像信号を、映像として表示するあらゆる分野の電子機器に用いることができる。特に、中型および小型の電子機器に好適に用いることができる。以下にその一例を示す。
<Application example>
The display devices described in the above embodiments and modifications can be used for electronic devices in various fields that display a video signal input from the outside or a video signal generated inside as a video. In particular, it can be suitably used for medium-sized and small-sized electronic devices. An example is shown below.

図19Aおよび図19Bは、スマートフォン220の外観を表したものである。このスマートフォン220は、例えば、表側に表示部221および操作部222を有し、裏側にカメラ223を有しており、表示部221に上記実施の形態の表示装置1が搭載されている。   FIG. 19A and FIG. 19B represent the appearance of the smartphone 220. The smartphone 220 includes, for example, a display unit 221 and an operation unit 222 on the front side, a camera 223 on the back side, and the display device 1 according to the above embodiment is mounted on the display unit 221.

図20は、テレビジョン装置250の外観を表したものである。このテレビジョン装置250は、例えば、本体部251とスタンド252とを有している。本体部251に、上記実施の形態の表示装置1が搭載されている。   FIG. 20 shows the appearance of the television apparatus 250. For example, the television apparatus 250 includes a main body 251 and a stand 252. The display device 1 according to the above embodiment is mounted on the main body 251.

図21Aおよび図21Bは、携帯電話機290の外観を表したものである。この携帯電話機290は、例えば、上側筐体291と下側筐体292とを連結部(ヒンジ部)293で連結したものであり、ディスプレイ294,サブディスプレイ295,ピクチャーライト296およびカメラ297を有している。ディスプレイ294またはサブディスプレイ295に、上記実施の形態の表示装置1が搭載されている。   FIG. 21A and FIG. 21B show the appearance of the mobile phone 290. The cellular phone 290 is formed by, for example, connecting an upper housing 291 and a lower housing 292 with a connecting portion (hinge portion) 293, and includes a display 294, a sub display 295, a picture light 296, and a camera 297. ing. The display device 1 of the above embodiment is mounted on the display 294 or the sub display 295.

以上、実施の形態および変形例を挙げて説明したが、本開示は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、本開示の第1の画素としてR画素およびG画素を、第2の画素としてB画素をそれぞれ例に挙げて説明したが、第1および第2の画素の組み合わせはこれに限定されるものではない。   As described above, the embodiments and modifications have been described, but the present disclosure is not limited to the above-described embodiments and the like, and various modifications can be made. For example, in the above-described embodiment and the like, the R pixel and the G pixel have been described as examples of the first pixel of the present disclosure, and the B pixel has been described as the second pixel. However, a combination of the first and second pixels has been described. Is not limited to this.

更に、上記実施の形態等に記載した各層の材料および厚み等は列挙したものに限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよい。また、表示装置では、上述した全ての層を備えている必要はなく、あるいは上述した各層に加えて更に他の層を備えていてもよい。また、上記実施の形態等において説明した効果は一例であり、本開示の効果は、他の効果であってもよいし、更に他の効果を含んでいてもよい。   Furthermore, the material, thickness, and the like of each layer described in the above embodiment and the like are not limited to those listed, and may be other materials and thicknesses. In addition, the display device does not have to include all the layers described above, or may include other layers in addition to the layers described above. Moreover, the effect demonstrated in the said embodiment etc. is an example, The effect of this indication may be other effects and may also contain other effects.

なお、本開示は以下のような構成であってもよい。
(1)
基板上に、各々が発光素子を含む複数の画素を備え、
前記発光素子は、前記基板側から順に、前記画素毎に電気的に分離して配置された第1電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第2電極とを有し、
前記複数の画素のうち隣接する2以上の第1の画素同士の間の領域において、第1の有機層の端面を覆うと共に前記第1の有機層とは異なる第2の有機層が形成された
表示装置。
(2)
前記第2の有機層は、前記第1の画素とは異なる発光色の第2の画素に形成された有機層の構成材料を含む
上記(1)に記載の表示装置。
(3)
前記第2の有機層の端部は、テーパ形状を有し、
前記第2電極は、前記複数の画素の全域にわたって形成されている
上記(1)または(2)に記載の表示装置。
(4)
前記複数の第1電極の上に形成されると共に、前記第1電極に対向して画素毎に開口を有する画素分離膜を備え、
前記第2の有機層は、平面視的に、複数の前記開口のうち前記第1の画素に対応する第1の開口を除く領域に形成されている
上記(1)〜(3)のいずれか1つに記載の表示装置。
(5)
前記基板上の選択的な領域に形成され、前記第2電極と電気的に接続された補助電極を更に備え、
前記第2の有機層は、平面視的に、前記補助電極と前記第1の開口とを除く領域に形成されている
上記(4)に記載の表示装置。
(6)
前記複数の第1の画素は、行状または列状の領域に配置され、
前記第2の有機層は、平面視的に、前記行状または列状の領域を除く領域に形成されている
上記(4)または(5)に記載の表示装置。
(7)
前記画素分離膜の各開口形状は、正方形状、矩形状または円形状である
上記(4)〜(6)のいずれか1つに記載の表示装置。
(8)
基板上に各々が発光素子を含む複数の画素を形成する際に、
前記基板上に、前記発光素子として、前記画素毎に電気的に分離して配置された第1電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第2電極とをこの順に形成し、
前記複数の画素のうち隣接する2以上の第1の画素に第1の有機層を形成した後、前記第2電極の形成前に、前記第1の画素同士の間の領域に、前記第1の有機層の端面を覆うと共に前記第1の有機層とは異なる第2の有機層を形成する
表示装置の製造方法。
(9)
前記第2の有機層は、前記第1の画素とは異なる発光色の第2の画素に形成された有機層の構成材料を含む
上記(8)に記載の表示装置の製造方法。
(10)
前記第2の有機層の端部は、テーパ形状を有する
上記(8)または(9)に記載の表示装置の製造方法。
(11)
前記第1電極の形成後で前記第1の有機層の形成前に、前記第1電極に対向して画素毎に開口を有する画素分離膜を形成し、
前記第2の有機層は、平面視的に、複数の前記開口のうち前記第1の画素に対応する第1の開口を除く領域に形成される
上記(8)〜(10)のいずれか1つに記載の表示装置の製造方法。
(12)
前記基板上の選択的な領域に、前記第2電極と電気的に接続される補助電極を形成し、
前記第2の有機層は、平面視的に、前記補助電極と前記第1の開口とを除く領域に形成される
上記(11)に記載の表示装置の製造方法。
(13)
前記複数の第1の画素は、行状または列状の領域に配置され、
前記第2の有機層は、平面視的に、前記行状または列状の領域を除く領域に配置される
上記(11)または(12)に記載の表示装置の製造方法。
(14)
前記画素分離膜の各開口形状は、正方形状、矩形状または円形状である
上記(11)〜(13)のいずれか1つに記載の表示装置の製造方法。
(15)
基板上に、各々が発光素子を含む複数の画素を備え、
前記発光素子は、前記基板側から順に、前記画素毎に電気的に分離して配置された第1電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第2電極とを有し、
前記複数の画素のうち隣接する2以上の第1の画素同士の間の領域に、第1の有機層の端面を覆うと共に前記第1の有機層とは異なる第2の有機層が形成された
表示装置を備えた電子機器。
The present disclosure may be configured as follows.
(1)
A plurality of pixels each including a light emitting element on a substrate;
The light emitting element includes, in order from the substrate side, a first electrode electrically separated for each pixel, an organic layer including a light emitting layer of any of a plurality of types of light emitting colors, and a second layer. An electrode,
A second organic layer that covers the end face of the first organic layer and is different from the first organic layer is formed in a region between two or more adjacent first pixels among the plurality of pixels. Display device.
(2)
The display device according to (1), wherein the second organic layer includes a constituent material of an organic layer formed in a second pixel having an emission color different from that of the first pixel.
(3)
The end of the second organic layer has a tapered shape,
The display device according to (1) or (2), wherein the second electrode is formed over the entire area of the plurality of pixels.
(4)
A pixel separation film formed on the plurality of first electrodes and having an opening for each pixel facing the first electrode;
The said 2nd organic layer is formed in the area | region except the 1st opening corresponding to a said 1st pixel among several said opening in planar view, Any of said (1)-(3) The display device according to one.
(5)
An auxiliary electrode formed in a selective region on the substrate and electrically connected to the second electrode;
The display device according to (4), wherein the second organic layer is formed in a region excluding the auxiliary electrode and the first opening in a plan view.
(6)
The plurality of first pixels are arranged in a row or column region,
The display device according to (4) or (5), wherein the second organic layer is formed in a region excluding the row or column region in plan view.
(7)
Each display shape of the said pixel separation film is square shape, a rectangular shape, or circular shape. The display apparatus as described in any one of said (4)-(6).
(8)
When forming a plurality of pixels each including a light emitting element on a substrate,
On the substrate, as the light emitting element, a first electrode electrically separated for each pixel, an organic layer including a light emitting layer of any of a plurality of types of light emission colors, and a second electrode And in this order,
After the first organic layer is formed on two or more adjacent first pixels among the plurality of pixels, before the formation of the second electrode, the first organic layer is formed in a region between the first pixels. A method for manufacturing a display device, wherein an end surface of the organic layer is covered and a second organic layer different from the first organic layer is formed.
(9)
The method for manufacturing a display device according to (8), wherein the second organic layer includes a constituent material of an organic layer formed in a second pixel having a light emission color different from that of the first pixel.
(10)
The end portion of the second organic layer has a tapered shape. The method for manufacturing a display device according to (8) or (9).
(11)
After forming the first electrode and before forming the first organic layer, a pixel separation film having an opening for each pixel is formed facing the first electrode,
The said 2nd organic layer is formed in the area | region except the 1st opening corresponding to a said 1st pixel among several said opening in planar view, Any one of said (8)-(10). The manufacturing method of the display apparatus as described in one.
(12)
Forming an auxiliary electrode electrically connected to the second electrode in a selective region on the substrate;
The method for manufacturing a display device according to (11), wherein the second organic layer is formed in a region excluding the auxiliary electrode and the first opening in a plan view.
(13)
The plurality of first pixels are arranged in a row or column region,
The method for manufacturing a display device according to (11) or (12), wherein the second organic layer is arranged in a region excluding the row-like or column-like region in plan view.
(14)
Each opening shape of the said pixel separation film is square shape, a rectangular shape, or circular shape. The manufacturing method of the display apparatus as described in any one of said (11)-(13).
(15)
A plurality of pixels each including a light emitting element on a substrate;
The light emitting element includes, in order from the substrate side, a first electrode electrically separated for each pixel, an organic layer including a light emitting layer of any of a plurality of types of light emitting colors, and a second layer. An electrode,
A second organic layer that covers the end face of the first organic layer and is different from the first organic layer is formed in a region between two or more adjacent first pixels among the plurality of pixels. An electronic device provided with a display device.

1…表示装置、10,10R,10G,10B…有機EL素子、11…第1基板、12…平坦化膜、13…第1電極、14…画素分離膜、15R,15G,15B,15B1…有機層、16…第2電極、17…封止層、18…第2基板、19…補助電極、19C…カソードコンタクト部、H1a,H1b,H2a,H2b,H3…開口、PIXC…画素。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Display apparatus 10, 10R, 10G, 10B ... Organic EL element, 11 ... 1st board | substrate, 12 ... Planarization film | membrane, 13 ... 1st electrode, 14 ... Pixel separation film | membrane, 15R, 15G, 15B, 15B1 ... Organic Layer 16, second electrode 17, sealing layer 18, second substrate 19, auxiliary electrode 19 C, cathode contact portion, H 1 a, H 1 b, H 2 a, H 2 b, H 3, opening, PIXC, pixel.

Claims (15)

基板上に、各々が発光素子を含む複数の画素を備え、
前記発光素子は、前記基板側から順に、前記画素毎に電気的に分離して配置された第1電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第2電極とを有し、
前記複数の画素のうち隣接する2以上の第1の画素同士の間の領域において、第1の有機層の端面を覆うと共に前記第1の有機層とは異なる第2の有機層が形成された
表示装置。
A plurality of pixels each including a light emitting element on a substrate;
The light emitting element includes, in order from the substrate side, a first electrode electrically separated for each pixel, an organic layer including a light emitting layer of any of a plurality of types of light emitting colors, and a second layer. An electrode,
A second organic layer that covers the end face of the first organic layer and is different from the first organic layer is formed in a region between two or more adjacent first pixels among the plurality of pixels. Display device.
前記第2の有機層は、前記第1の画素とは異なる発光色の第2の画素に形成された有機層の構成材料を含む
請求項1に記載の表示装置。
The display device according to claim 1, wherein the second organic layer includes a constituent material of an organic layer formed in a second pixel having a light emission color different from that of the first pixel.
前記第2の有機層の端部は、テーパ形状を有し、
前記第2電極は、前記複数の画素の全域にわたって形成されている
請求項1に記載の表示装置。
The end of the second organic layer has a tapered shape,
The display device according to claim 1, wherein the second electrode is formed over the entire area of the plurality of pixels.
前記複数の第1電極の上に形成されると共に、前記第1電極に対向して画素毎に開口を有する画素分離膜を備え、
前記第2の有機層は、平面視的に、複数の前記開口のうち前記第1の画素に対応する第1の開口を除く領域に形成されている
請求項1に記載の表示装置。
A pixel separation film formed on the plurality of first electrodes and having an opening for each pixel facing the first electrode;
The display device according to claim 1, wherein the second organic layer is formed in a region excluding the first opening corresponding to the first pixel among the plurality of openings in a plan view.
前記基板上の選択的な領域に形成され、前記第2電極と電気的に接続された補助電極を更に備え、
前記第2の有機層は、平面視的に、前記補助電極と前記第1の開口とを除く領域に形成されている
請求項4に記載の表示装置。
An auxiliary electrode formed in a selective region on the substrate and electrically connected to the second electrode;
The display device according to claim 4, wherein the second organic layer is formed in a region excluding the auxiliary electrode and the first opening in a plan view.
前記複数の第1の画素は、行状または列状の領域に配置され、
前記第2の有機層は、平面視的に、前記行状または列状の領域を除く領域に形成されている
請求項4に記載の表示装置。
The plurality of first pixels are arranged in a row or column region,
The display device according to claim 4, wherein the second organic layer is formed in a region excluding the row-shaped or column-shaped region in plan view.
前記画素分離膜の各開口形状は、正方形状、矩形状または円形状である
請求項4に記載の表示装置。
The display device according to claim 4, wherein each opening shape of the pixel separation film is a square shape, a rectangular shape, or a circular shape.
基板上に各々が発光素子を含む複数の画素を形成する際に、
前記基板上に、前記発光素子として、前記画素毎に電気的に分離して配置された第1電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第2電極とをこの順に形成し、
前記複数の画素のうち隣接する2以上の第1の画素に第1の有機層を形成した後、前記第2電極の形成前に、前記第1の画素同士の間の領域に、前記第1の有機層の端面を覆うと共に前記第1の有機層とは異なる第2の有機層を形成する
表示装置の製造方法。
When forming a plurality of pixels each including a light emitting element on a substrate,
On the substrate, as the light emitting element, a first electrode electrically separated for each pixel, an organic layer including a light emitting layer of any of a plurality of types of light emission colors, and a second electrode And in this order,
After the first organic layer is formed on two or more adjacent first pixels among the plurality of pixels, before the formation of the second electrode, the first organic layer is formed in a region between the first pixels. A method for manufacturing a display device, wherein an end surface of the organic layer is covered and a second organic layer different from the first organic layer is formed.
前記第2の有機層は、前記第1の画素とは異なる発光色の第2の画素に形成された有機層の構成材料を含む
請求項8に記載の表示装置の製造方法。
The method for manufacturing a display device according to claim 8, wherein the second organic layer includes a constituent material of an organic layer formed in a second pixel having a light emission color different from that of the first pixel.
前記第2の有機層の端部は、テーパ形状を有する
請求項8に記載の表示装置の製造方法。
The manufacturing method of the display device according to claim 8, wherein an end portion of the second organic layer has a tapered shape.
前記第1電極の形成後で前記第1の有機層の形成前に、前記第1電極に対向して画素毎に開口を有する画素分離膜を形成し、
前記第2の有機層は、平面視的に、複数の前記開口のうち前記第1の画素に対応する第1の開口を除く領域に形成される
請求項8に記載の表示装置の製造方法。
After forming the first electrode and before forming the first organic layer, a pixel separation film having an opening for each pixel is formed facing the first electrode,
The method for manufacturing a display device according to claim 8, wherein the second organic layer is formed in a region excluding the first opening corresponding to the first pixel among the plurality of openings in a plan view.
前記基板上の選択的な領域に、前記第2電極と電気的に接続される補助電極を形成し、
前記第2の有機層は、平面視的に、前記補助電極と前記第1の開口とを除く領域に形成される
請求項11に記載の表示装置の製造方法。
Forming an auxiliary electrode electrically connected to the second electrode in a selective region on the substrate;
The method for manufacturing a display device according to claim 11, wherein the second organic layer is formed in a region excluding the auxiliary electrode and the first opening in a plan view.
前記複数の第1の画素は、行状または列状の領域に配置され、
前記第2の有機層は、平面視的に、前記行状または列状の領域を除く領域に配置される
請求項11に記載の表示装置の製造方法。
The plurality of first pixels are arranged in a row or column region,
The method for manufacturing a display device according to claim 11, wherein the second organic layer is arranged in a region excluding the row-like or column-like region in plan view.
前記画素分離膜の各開口形状は、正方形状、矩形状または円形状である
請求項11に記載の表示装置の製造方法。
The method for manufacturing a display device according to claim 11, wherein each opening shape of the pixel separation film is a square shape, a rectangular shape, or a circular shape.
基板上に、各々が発光素子を含む複数の画素を備え、
前記発光素子は、前記基板側から順に、前記画素毎に電気的に分離して配置された第1電極と、複数種類の発光色のうちのいずれかの発光層を含む有機層と、第2電極とを有し、
前記複数の画素のうち隣接する2以上の第1の画素同士の間の領域に、第1の有機層の端面を覆うと共に前記第1の有機層とは異なる第2の有機層が形成された
表示装置を備えた電子機器。
A plurality of pixels each including a light emitting element on a substrate;
The light emitting element includes, in order from the substrate side, a first electrode electrically separated for each pixel, an organic layer including a light emitting layer of any of a plurality of types of light emitting colors, and a second layer. An electrode,
A second organic layer that covers the end face of the first organic layer and is different from the first organic layer is formed in a region between two or more adjacent first pixels among the plurality of pixels. An electronic device provided with a display device.
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