JP2016067831A5 - - Google Patents

Claims (8)

1. 本体ケース（１）の内部に、ミスト原液をミスト化するミスト発生部（２）と、ミスト発生部（２）で生成した冷ミストを流動案内するミスト送給路（３）が設けられており、
   ミスト送給路（３）は、ミスト発生部（２）と対向するミスト入口部（２１）から、本体ケース（１）の外面に臨むミスト出口部（２２）にわたって形成されており、
   ミスト送給路（３）に、冷ミストを加熱する加熱部（４）が設けてあることを特徴とするミスト発生装置。
2. 加熱部（４）が、電熱体（３０）を含む加熱体（Ｋ）を備えており、
   ミスト送給路（３）には、加熱体（Ｋ）を収容する加熱チャンバー（２３）が設けられており、
   加熱チャンバー（２３）において加熱体（Ｋ）が占める仮想空間の断面積（Ｓ１）が、加熱チャンバー（２３）の断面積（Ｓ）の半分以上を占めている請求項１に記載のミスト発生装置。
3. 加熱部（４）における加熱体（Ｋ）の通気方向の長さ（Ｈ）が、前記通気方向と直交する向きの加熱体（Ｋ）の長さ（Ｗ）より大きく設定してある請求項２に記載のミスト発生装置。
4. 加熱チャンバー（２３）の内面に、冷ミストの流動方向を変える堰止め体（２８）が設けられており、
   加熱チャンバー（２３）を通過する冷ミストを堰止め体（２８）で受止めて、冷ミストと加熱体（Ｋ）の接触機会を増加している請求項２または３に記載のミスト発生装置。
5. ミスト送給路（３）のミスト入口部（２１）における入口通路（２４）の断面積（Ｓ２）が、加熱チャンバー（２３）の断面積（Ｓ）より小さく設定してある請求項２から４いずれかひとつに記載のミスト発生装置。
6. ミスト送給路（３）のミスト出口部（２２）における出口通路（２６）の断面積（Ｓ３）が、ミスト入口部（２１）における入口通路（２４）の断面積（Ｓ２）より大きく設定してある請求項２から５のいずれかひとつに記載のミスト発生装置。
7. ミスト入口部（２１）における入口通路（２４）の断面積（Ｓ２）と、ミスト出口部（２２）における出口通路（２６）の断面積（Ｓ３）と、加熱チャンバー（２３）の断面積（Ｓ）の３者が、不等式（Ｓ２＜Ｓ３＜Ｓ）を満足するように設定してある請求項２から６のいずれかひとつに記載のミスト発生装置。
8. ミスト入口部（２１）に、入口通路（２４）からミスト発生部（２）へ向かって徐々に拡開するミスト導入部（２５）が形成してある請求項２から７のいずれかひとつに記載のミスト発生装置。