JP2016060688A - 単結晶SiCウェーハの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の単結晶SiCウェーハの製造方法は、シリコンウェーハ上に単結晶SiC層をエピタキシャル成長させる第1工程と、前記シリコンウェーハを除去して、前記単結晶SiC層からなる単結晶SiCウェーハを得る第2工程と、を有し、前記第1工程では、前記シリコンウェーハの温度をシリコンの融点未満の温度に維持しつつ、炭素及びケイ素を含む原料ガスをイオン化し、該イオンを加速して前記シリコンウェーハに照射することを特徴とする。
【選択図】図1
Description
(1)シリコンウェーハ上に単結晶SiC層をエピタキシャル成長させる第1工程と、
前記シリコンウェーハを除去して、前記単結晶SiC層からなる単結晶SiCウェーハを得る第2工程と、
を有する単結晶SiCウェーハの製造方法であって、
前記第1工程では、前記シリコンウェーハの温度をシリコンの融点未満の温度に維持しつつ、炭素及びケイ素を含む原料ガスをイオン化し、該イオンを加速して前記シリコンウェーハに照射することを特徴とする単結晶SiCウェーハの製造方法。
該β型単結晶SiC層からなるβ型単結晶SiCウェーハを製造する、上記(1)に記載の単結晶SiCウェーハの製造方法。
前記第2工程後に、前記β型単結晶SiC層を除去して、前記α型単結晶SiC層からなるα型単結晶SiCウェーハを製造する、上記(1)に記載の単結晶SiCウェーハの製造方法。
前記第1工程で、前記シリコンウェーハのβ型単結晶SiC層上にα型単結晶SiC層をエピタキシャル成長させることにより、
該α型単結晶SiC層からなるα型単結晶SiCウェーハを製造する上記(1)に記載の単結晶SiCウェーハの製造方法。
チャンバ内のウェーハ固定台に前記シリコンウェーハを固定し、
前記チャンバ内を減圧後、前記チャンバ内に前記原料ガスを導入し、
前記シリコンウェーハを加熱した後に、前記シリコンウェーハにパルス電圧を印加することにより、前記原料ガスのプラズマを生成しつつ、該プラズマ中の前記イオンを前記シリコンウェーハに向けて加速する上記(1)〜(8)のいずれか1項に記載の単結晶SiCウェーハの製造方法。
図1を参照して、本発明の第1の実施形態を説明する。まず第1工程では、シリコンウェーハ10上にβ型単結晶SiC層12をエピタキシャル成長させる(図1(A),(B))。次に、第2工程では、シリコンウェーハ10を除去して、β型単結晶SiC層12からなるβ型単結晶SiCウェーハ100を得る(図1(C),(D))。
図2を参照して、本発明の第2の実施形態を説明する。まず第1工程では、シリコンウェーハ10上にβ型単結晶SiC層12をエピタキシャル成長させ、引き続きβ型単結晶SiC層12上にα型単結晶SiC層14をエピタキシャル成長させる(図2(A)〜(C))。次に、第2工程では、シリコンウェーハ10を除去する(図2(D))。この第2工程後に、β型単結晶SiC層12を除去して、α型単結晶SiC層14からなるα型単結晶SiCウェーハ200を得る(図2(E),(F))。
図3を参照して、本発明の第3の実施形態を説明する。本実施形態では、第1工程(単結晶SiCのエピタキシャル成長工程)に先立ち、シリコンウェーハ10を炭化処理して、シリコンウェーハ10の表層部をβ型単結晶SiC層10Aとする(図3(A),(B))。次に、第1工程として、シリコンウェーハ10のβ型単結晶SiC層10A上にα型単結晶SiC層14をエピタキシャル成長させる(図3(C))。次に、第2工程では、β型単結晶層10Aも含めてシリコンウェーハ10を除去して、α型単結晶SiC層14からなるα型単結晶SiCウェーハ300を得る(図3(D),(E))。
図1(A)、図2(A)、図3(A)において用意するシリコンウェーハ10は、チョクラルスキー法(CZ法)や浮遊帯域溶融法(FZ法)により育成された単結晶シリコンインゴットをワイヤーソー等でスライスしたものを使用することができる。また、高いゲッタリング能力を得るために、シリコンウェーハ10に炭素及び/又は窒素を添加してもよい。さらに、プラズマ処理時の電圧制御のために、シリコンウェーハ10に任意のドーパントを所定濃度添加して、いわゆるn型又はp型の基板としてもよい。
図1の手順に従い、図4の装置を用いて、直径300mmのβ型単結晶SiCウェーハを作製した。
図2の手順に従い、図4の装置を用いて、直径300mmのα型単結晶SiCウェーハを作製した。
図3の手順に従い、図4の装置を用いて、直径300mmのα型単結晶SiCウェーハを作製した。
昇華法により育成されたα型SiC単結晶インゴットをスライス、加工して、直径100mmのα型SiCウェーハを得た。このα型SiCウェーハ上に、一般的なCVD法で、ウェーハの温度を1580℃にした状態で、α型単結晶SiC層を10μmエピタキシャル成長させた。ここで得られた単結晶SiC層は高い結晶性を有するはずのものである。
レーザ散乱式欠陥検査装置を用いて表面完全性を評価した結果を表1に示す。各実施例及び比較例において3枚のウェーハに対して、10μm以上のサイズの欠陥の個数(個/cm2)を求めた。表1より、実施例1〜3では、比較例1と同様の高い結晶性が得られていることがわかる。
10A β型単結晶SiC層
12 β型単結晶SiC層
14 α型単結晶SiC層
100 β型単結晶SiCウェーハ
200,300 α型単結晶SiCウェーハ
40 プラズマイオン照射装置
41 プラズマチャンバ
42 ガス導入口
43 真空ポンプ
44 パルス電圧印加手段
45 ウェーハ固定台
46 ヒーター
Claims (9)
- シリコンウェーハ上に単結晶SiC層をエピタキシャル成長させる第1工程と、
前記シリコンウェーハを除去して、前記単結晶SiC層からなる単結晶SiCウェーハを得る第2工程と、
を有する単結晶SiCウェーハの製造方法であって、
前記第1工程では、前記シリコンウェーハの温度をシリコンの融点未満の温度に維持しつつ、炭素及びケイ素を含む原料ガスをイオン化し、該イオンを加速して前記シリコンウェーハに照射することを特徴とする単結晶SiCウェーハの製造方法。 - 前記第1工程で、前記シリコンウェーハ上にβ型単結晶SiC層をエピタキシャル成長させることにより、
該β型単結晶SiC層からなるβ型単結晶SiCウェーハを製造する、請求項1に記載の単結晶SiCウェーハの製造方法。 - 前記第1工程で、前記シリコンウェーハの温度を800〜1000℃に維持する請求項2に記載の単結晶SiCウェーハの製造方法。
- 前記第1工程で、前記シリコンウェーハ上にβ型単結晶SiC層をエピタキシャル成長させ、引き続き該β型単結晶SiC層上にα型単結晶SiC層をエピタキシャル成長させ、
前記第2工程後に、前記β型単結晶SiC層を除去して、前記α型単結晶SiC層からなるα型単結晶SiCウェーハを製造する、請求項1に記載の単結晶SiCウェーハの製造方法。 - 前記第1工程で、前記シリコンウェーハの温度を、前記β型単結晶SiC層の成長時には800〜1000℃に維持し、前記α型単結晶SiC層の成長時には1000〜1300℃に維持する請求項4に記載の単結晶SiCウェーハの製造方法。
- 前記第1工程に先立ち、前記シリコンウェーハを炭化処理して、前記シリコンウェーハの表層部をβ型単結晶SiC層とし、
前記第1工程で、前記シリコンウェーハのβ型単結晶SiC層上にα型単結晶SiC層をエピタキシャル成長させることにより、
該α型単結晶SiC層からなるα型単結晶SiCウェーハを製造する請求項1に記載の単結晶SiCウェーハの製造方法。 - 前記第1工程で、前記シリコンウェーハの温度を1000〜1300℃に維持する請求項6に記載の単結晶SiCウェーハの製造方法。
- 前記第1工程で、ケイ素イオンの加速エネルギーを7eV以上7keV未満とし、炭素イオンの加速エネルギーを3eV以上3keV未満とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の単結晶SiCウェーハの製造方法。
- 前記第1工程では、
チャンバ内のウェーハ固定台に前記シリコンウェーハを固定し、
前記チャンバ内を減圧後、前記チャンバ内に前記原料ガスを導入し、
前記シリコンウェーハを加熱した後に、前記シリコンウェーハにパルス電圧を印加することにより、前記原料ガスのプラズマを生成しつつ、該プラズマ中の前記イオンを前記シリコンウェーハに向けて加速する請求項1〜8のいずれか1項に記載の単結晶SiCウェーハの製造方法。
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