JP2015514810A - アルファ，オメガ−ジオールの製造 - Google Patents

Abstract

Ｃｎオキシジェネートを含む原料からのα，ω−Ｃｎ−ジオール（ここで、ｎは５以上である）の製造方法が本明細書で開示される。一実施形態では、本方法は、この原料を、ＷＯ３またはＷＯｘ担体上にＰｔ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、またはＦｅを含む触媒の存在下で水素ガスと接触させる工程を含む。一実施形態では、本方法は、この原料を、金属Ｍ１および金属Ｍ２またはＭ２の酸化物、ならびに任意選択的に担体を含む触媒の存在下で水素ガスと接触させる工程を含む。一実施形態では、Ｍ１は、Ｐｄ、Ｐｔ、またはＩｒであり；Ｍ２は、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｕ、またはＣｏである。Ｃｎオキシジェネートは、バイオ再生可能な資源から得られてもよい。

Description

関連出願の相互参照
本出願は、２０１２年４月２７日出願の米国仮特許出願第６１／６３９，４０４号明細書の、米国特許法第１１９条（ｅ）項の下での優先権を主張するものであり、その利益を主張するものであり、これは、あらゆる目的のために本明細書の一部としてその全体が本参照により援用される。

本発明は、アルファ，オメガ−ジオール（「α，ω−ジオール」）の製造方法に関する。より具体的には、本発明は、炭水化物または生物学的起源に由来し得る含酸素化合物の選択的水素化脱酸素によるα，ω−ジオールの製造方法に関する。

１，５−ペンタンジオールおよび１，６−ヘキサンジオールなどのα，ω−ジオールは、農薬、医薬品、およびポリマーの製造用の化学中間体として有用である。たとえば、α，ω−ジオールは、可塑剤としてならびにポリエステルおよびポリエーテル−ウレタンでのコモノマーとして使用することができる。α，ω−ジオール、またはそれらの前駆体などの工業的化学品を、安価であるのみならず、環境にやさしい材料から得ることがますます望ましくなっている。再生可能源、すなわち、植え付け、農耕、または収穫などの生物学的活動によって生産される材料から得ることができる材料が特に興味がある。本明細書で用いるところでは、用語「再生可能な」および「生物学的起源の」は、同じ意味で用いることができる。

かかる材料のためのバイオマス源は、石油ベースのものに対して経済的により魅力的になりつつある。バイオマスからのＣ_５およびＣ_６炭素環式中間体の収束的、選択的な合成は、バイオマスの多くの成分の高い酸素化度のために困難であるが、原料としてのかかるバイオマス由来中間体の使用は、工業的に有用な化学品への新たなルートを提供するであろう。

１，６−ヘキサンジオールは、ナイロン６６の工業的製造での有用な中間体である。１，６−ヘキサンジオールは、公知の方法によって１，６−ヘキサメチレンジアミン、ナイロン製造での出発成分に変換することができる。１，６−ヘキサンジオールは典型的には、アジピン酸もしくはそのエスエルの水素化またはカプロラクトンもしくはそのオリゴマーの水素化から製造される。たとえば、特許文献１で、ｄｅＶｒｉｅｓ Ｊ−Ｇらは、５−ヒドロキシメチル−２−フルフルアルデヒドからのカプロラクトン、カプロラクタム、２，５−テトラヒドロフラン−ジメタノール、１，６−ヘキサンジオールまたは１，２，６−ヘキサントリオールの製造方法を記載しており、１，２，６−ヘキサントリオールが、パラジウム、ニッケル、ロジウム、ルテニウム、銅およびクロムまたはそれらの混合物をベースとする触媒を使用して１，６−ヘキサンジオールに水素化され得ることを教示している。さらに、触媒は、レニウムなどの、１つ以上の他の元素でドープされてもよい。

特許文献２は、２００〜２４０℃で酸性担体に担持された金属触媒、とりわけ５％Ｐｔ／Ａｌ_２Ｏ_３および５％Ｐｔ／ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３の存在下での出発原料の水素化を含む、テトラヒドロピラン誘導体、たとえば２，５−ジエチルテトラヒドロピラン−２−メタノールからの２，５−ジエチル−１，６−ヘキサンジオールの製造方法を教示している。収率は、４０〜６１％の範囲であった。

国際公開第２０１１／１４９３３９号パンフレット 特開２００３−１８３２００号公報

再生可能な生物学的起源からの、α，ω−ジオール、とりわけＣ_５およびＣ_６のα，ω−ジオール、ならびにα，ω−ジオールの製造に有用な合成中間体の製造方法が現在必要とされている。１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、および他のα，ω−ジオールを、１，２，６−ヘキサントリオール、テトラヒドロフラン−２，５−ジメタノール、および２−ヒドロキシメチルテトラヒドロピランなどの、バイオマス由来出発原料から高収率で、かつ、高選択率で製造するための方法が現在必要とされている。

一実施形態では、
（ａ）Ｃ_ｎオキシジェネートを含む原料を提供する工程と；
（ｂ）この原料を、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを含む生成物混合物を形成するのに十分な温度でおよび時間、触媒の存在下で、水素ガスと接触させる工程であって；ｎが５以上であり；触媒が、ＷＯ_３またはＷＯ_ｘ担体上にＰｔ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、もしくはＦｅを含む工程と
を含む、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールの製造方法が提供される。

別の実施形態では、
（ａ）Ｃ_ｎオキシジェネートを含む原料を提供する工程と；
（ｂ）この原料を、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを含む生成物混合物を形成するのに十分な温度でおよび時間、触媒の存在下で、水素ガスと接触させる工程であって；ｎが５以上であり；
触媒が、金属Ｍ１および金属Ｍ２またはＭ２の酸化物、ならびに任意選択的に担体を含み、ここで：
Ｍ１が、Ｐｄ、Ｐｔ、もしくはＩｒであり；Ｍ２が、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＣｏであるか；または
Ｍ１がＲｈであり、Ｍ２が、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＺｒであるか；または
Ｍ１が、Ａｇ、ＡｕもしくはＣｏであり；Ｍ２が、Ｒｅ、Ｍｏ、もしくはＷであるか；または
Ｍ１が、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｆｅ、もしくはＮｉであり；Ｍ２が、Ｒｅ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、もしくはＷであるか；または
Ｍ１が、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ、もしくはＡｕであり、Ｍ２が、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｇｅ、もしくはＩｒであるか；または
Ｍ１がＣｏであり、Ｍ２がＦｅであるか；または
Ｍ１がＮｉであり、Ｍ２が、ＣｏもしくはＦｅであるか；または
Ｍ１がＭｎであり、Ｍ２がＣｒである
工程と
を含む、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールの製造方法が提供される。

本明細書で用いるところでは、不定冠詞「ａ」または「ａｎ」が本明細書に開示される方法での工程の存在の記述または記載に関して用いられる場合、その記述または記載がそれとは反対を明らかに規定しない限り、かかる不定冠詞の使用が方法での工程の存在を数の上で１に限定しないことが理解されるべきである。

本明細書で用いるところでは、量、濃度、または他の値もしくはパラメーターがある範囲、好ましい範囲か、好ましい上方値および好ましい下方値のリストかのどちらかとして与えられるとき、これは、範囲が別々に開示されているかどうかに関係なく、任意の上方の範囲限界または好ましい値と任意の下方の範囲限界または好ましい値との任意のペアから形成されるすべての範囲を具体的に開示するとして理解されるべきである。数値の範囲が本明細書で列挙される場合、特に明記しない限り、この範囲は、その終点、ならびにこの範囲内のすべての整数および分数を含むことを意図される。本発明の範囲は範囲を定義するときに列挙された具体的な値に限定されることを意図されない。

本明細書で用いるところでは、用語「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」、「含む（ｃｏｍｐｒｉｓｉｎｇ）」、「包む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」、「含む（ｉｎｃｌｕｄｉｎｇ）」、「有する（ｈａｓ）」、「有する（ｈａｖｉｎｇ）」、「含有する（ｃｏｎｔａｉｎｓ）」、「含有する（ｃｏｎｔａｉｎｉｎｇ）」、またはそれらの任意の他の変化形は、非排他的な包含をカバーすることを意図される。たとえば、要素のリストを含む組成物、混合物、プロセス、方法、物品、もしくは装置は、それらの要素のみに必ずしも限定されず、明確にリストされないか、またはかかる組成物、混合物、プロセス、方法、物品、もしくは装置に固有の他の要素を含んでもよい。さらに、それとは反対を明確に述べられない限り、「ｏｒ（または）」は、包括的なまたはを意味し、排他的なまたはを意味しない。たとえば、条件ＡまたはＢは次のいずれか１つで満たされる：Ａは真であり（または存在し）かつＢは偽である（存在しない）；Ａは偽であり（または存在せず）かつＢは真である（または存在する）；ならびにＡおよびＢは両方とも真である（または存在する）。

本明細書で用いるところでは、用いられる原料または反応剤の量を修飾する用語「約」は、たとえば、現実の世界で濃縮物または使用溶液を製造するために用いられる典型的な測定および液体ハンドリング手順によって；これらの手順での故意でない誤りによって；組成物を製造するためにもしくは方法を実施するために用いられる原料の製造、ソース、または純度の相違によってなどで起こり得る数量のばらつきを意味する。用語「約」はまた、特定の初期混合物から生じる組成物について異なる平衡条件が原因で異なる量をも包含する。用語「約」で修飾されていようといまいと、特許請求の範囲には、それらの量の均等物が含まれる。用語「約」は、報告される数値の１０％以内、好ましくは報告される数値の５％以内を意味してもよい。

本明細書で用いるところでは、用語「有機化合物」は、次の例外ありで炭素含有化合物を意味する：酸化炭素、カーバイド、二硫化炭素などの２成分化合物；金属シアニド、金属カルボニル、ホスゲン、硫化カルボニルなどの３成分化合物；ならびに炭酸カルシウムおよび炭酸ナトリウムなどの金属炭酸塩。

本明細書で用いるところでは、用語「オキシジェネート」は、少なくとも１個の酸素原子を含有する有機化合物を意味する。本明細書で用いるところでは、用語「Ｃ_ｎオキシジェネート」は、ｎ個の炭素原子を含有するオキシジェネートを意味し、類似して、用語「Ｃ_ｎジオール」は、ｎ個の炭素原子を含有するジオールを意味する。

本明細書で用いるところでは、用語「バイオマス」は、任意のセルロースまたはリグノセルロース材料を意味し、ヘミセルロースを含む、および任意選択的にリグニン、デンプン、オリゴ糖および／または単糖類をさらに含む材料を含む。

本明細書で用いるところでは、用語「リグノセルロース」は、リグニンおよびセルロースを両方とも含むことを意味する。リグノセルロース材料はまた、ヘミセルロースを含んでもよい。ある実施形態では、リグノセルロース材料は、グルカンおよびキシランを含有する。

本明細書で用いるところでは、用語「ヘミセルロース」は、リグノセルロースバイオマス中に見いだされる非セルロース多糖類を意味する。ヘミセルロースは、異なる糖モノマーからなる分岐ヘテロポリマーである。それは典型的には、５００〜３０００の糖モノマー単位を含む。

本明細書で用いるところでは、用語「リグニン」は、針葉樹リグニンにおけるように、グアヤシル単位、または、広葉樹リグニンにおけるように、グアヤシル単位とシリンギル単位との混合物を含むことができる複雑な高分子量ポリマーを意味する。

本明細書で用いるところでは、用語「デンプン」は、グリコシド結合によって結合した多数のグルコース単位からなる炭水化物を意味する。アミルムとしても知られる、デンプンは典型的には、アミロースおよびアミロペクチンを含有する。

本明細書で用いるところでは、用語「糖」は、単糖類、二糖類、およびオリゴ糖を含む。単糖類、または「シンプル糖」は、少なくとも３個の炭素原子を含有する直鎖ポリヒドロキシアルコールのアルデヒドまたはケトン誘導体である。ペントースは、５個の炭素原子を有する単糖であり；例には、キシロース、アラビノース、リキソース、およびリボースが挙げられる。ヘキソースは、６個の炭素原子を有する単糖であり；例には、グルコースおよびフルクトースが挙げられる。二糖分子は、２つの共有結合した単糖単位からなり；例には、サッカロース、ラクトース、およびマルトースが挙げられる。本明細書で用いるところでは、「オリゴ糖」分子は、約３〜約２０個の共有結合した単糖単位からなる。本明細書では特に明記しない限り、具体的な糖へのすべての言及は、Ｄ−立体異性体、Ｌ−立体異性物、および立体異性体の混合物を含むことを意図される。

本明細書で用いるところでは、用語「Ｃ_ｎ糖」は、ｎ個の炭素原子を有する単糖類；ｎ個の炭素原子を有する単糖単位を含む二糖類；およびｎ個の炭素原子を有する単糖単位を含むオリゴ糖を含む。したがって、用語「Ｃ_５糖」は、ペントース、ペントース単位を含む二糖類、およびペントース単位を含むオリゴ糖を含み；用語「Ｃ_６糖」は、ヘキソース、ヘキソース単位を含む二糖類、およびヘキソース単位を含むオリゴ糖を含む。

本明細書で用いるところでは、用語「Ｃ_ｎ糖アルコール」は、一級または二級ヒドロキシル基へのカルボニル基の還元によってＣ_ｎ糖から製造される化合物を意味する。一般式Ｈ（ＨＣＨＯ）_ｘ＋１Ｈを有する糖アルコールは、一般式Ｈ（ＨＣＨＯ）_ｘＨＣＯを有する糖から誘導される。単糖類および二糖類は、二糖類が完全には水素化されないが、糖アルコールを形成するために使用することができる。糖アルコールの３つの例は、キシリトール（Ｃ_５）、ソルビトール（Ｃ_６）、およびマンニトール（Ｃ_６）である。

本明細書で用いるところでは、省略形「１６ＨＤ」は、１，６−ヘキサンジオールを意味する。１，６−ヘキサンジオールの化学構造は、式（Ｉ）で表される。

本明細書で用いるところでは、省略形「１５ＰＤ」は、１，５−ペンタンジオールを意味する。１，５−ペンタンジオールの化学構造は、式（ＩＩ）で表される。

本明細書で用いるところでは、省略形「１２６ＨＴ」は、１，２，６−ヘキサントリオールを意味し、異性体のラセミ混合物を含む。１，２，６−ヘキサントリオールの化学構造は、式（ＩＩＩ）で表される。

本明細書で用いるところでは、省略形「１２５ＰＴ」は、１，２，５−ペンタントリオールを意味し、異性体のラセミ混合物を含む。１，２，５−ペンタントリオールの化学構造は、式（ＩＶ）で表される。

本明細書で用いるところでは、省略形「テトラオール」は、３，４−ジデオキシヘキシトールとしても知られる、１，２，５，６−テトラヒドロキシヘキサンを意味し、立体異性体の混合物を含む。１，２，５，６−テトラヒドロキシヘキサンの化学構造は、式（Ｖ）で表される。

本明細書で用いるところでは、省略形「ペンタオール」は、１，２，３，５，６−ヘキサンペンタオールを意味し、異性体のラセミ混合物を含む。１，２，３，５，６−ヘキサンペンタオールの化学構造は、式（ＶＩ）で表される。

本明細書で用いるところでは、省略形「ＴＨＦｄＭ」は、テトラヒドロ−２，５−フランジメタノール（テトラヒドロフラン−２，５−ジメタノールもしくは２，５−テトラヒドロフランジメタノール、または２，５−ビス［ヒドロキシメチル］テトラヒドロフランとしても知られる）を意味し、立体異性体（シスおよびラセミトランス異性体）の混合物を含む。テトラヒドロ−２，５−フランジメタノールの化学構造は、式（ＶＩＩ）で表される。

２，５−ジヒドロフラン−２，５−ジメタノールの化学構造は、式（ＶＩＩＩ）で表される。

本明細書で用いるところでは、省略形「ＦｄＭ」は、２，５−ビス（ヒドロキシメチル）フランとしても知られる、２，５−フランジメタノールを意味する。２，５−フランジメタノールの化学構造は、式（ＩＸ）で表される。

フラン−２−カルバルデヒドまたは２−フルアルデヒドとしても知られる、フルフラールの化学構造は、式（Ｘ）で表される。

５−（ヒドロキシメチル）−２−フルアルデヒドとしても知られる、ヒドロキシメチルフルフラールの化学構造は、式（ＸＩ）で表される。

２−フランメタノールとしても知られる、フルフリルアルコールの化学構造は、式（ＸＩＩ）で表される。

テトラヒドロ−２−フランメタノールとしても知られる、テトラヒドロフルフリルアルコールの化学構造は、式（ＸＩＩＩ）で表される。

本明細書で用いるところでは、省略形「ＴＨＰＭ」は、２−ヒドロキシメチルテトラヒドロピランとしても知られる、テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−メタノールを意味し、異性体のラセミ混合物を含む。テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−メタノールの化学構造は、式（ＸＩＶ）で表される。

本明細書で用いるところでは、省略形「ＨＯＴＨＰＭ」は、５−ヒドロキシ−２Ｈ−テトラヒドロピラン−２−メタノールまたは１，５−アンヒドロ−３，４−ジデオキシヘキシトールとしても知られる、２−ヒドロキシメチル−５−ヒドロキシテトラヒドロ−２Ｈ−ピランを意味し、立体異性体の混合物を含む。２−ヒドロキシメチル−５−ヒドロキシテトラヒドロ−２Ｈ−ピランの化学構造は、式（ＸＶ）で表される。

３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−カルボキシアルデヒド、２−ホルミル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン、または「アクロレイン二量体」としても知られる、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−カルバルデヒドの化学構造は、式（ＸＶＩ）で表される。

１，６−アンヒドロ−β−グルコピラノースとしても知られる、レボグルコサンの化学構造は、式（ＸＶＩＩ）で表される。

本明細書で用いるところでは、省略形「Ｌｇｏｎｅ」および「ＬＧｏｎｅ」は、１，６−アンヒドロ−３，４−ジデオキシ−β−Ｄ−ピラノセン−２−オンとしても知られる、レボグルコセノンを意味する。レボグルコセノンの化学構造は、式（ＸＶＩＩＩ）で表される。

１，６−アンヒドロ−３，４−ジデオキシ−ｐ−Ｄ−ピラノース−２−オンの化学構造は、式（ＸＩＸ）で表される。

１，６−アンヒドロ−３，４−ジデオキシ−β−エリトロ−ヘキ−３−エノピラノースとしても知られる、レボグルコセノールの化学構造は、式（ＸＸ）で表される。

本明細書で用いるところでは、省略形「Ｌｇｏｌ」および「ＬＧｏｌ」は、１，６−アンヒドロ−３，４−ジデオキシヘキソピラノースとしても知られる、レボグルコサノールを意味し、トレオおよびエリトロ立体異性体の混合物を含む。１，６−アンヒドロ−３，４−ジデオキシヘキソピラノースの化学構造は、式（ＸＸＩ）で表される。

本明細書で用いるところでは、省略形「ＩＳＯＳ」は、１，４：３，６−ジアンヒドロソルビトールまたは１，４−ジアンヒドロソルビトールとしても知られる、イソソルビドを意味する。イソソルビドの化学構造は、式（ＸＸＩＩ）で表される。

ヘキサン−１，２，３，４，５，６−ヘキソールとしても知られる、ソルビトールの化学構造は、式（ＸＸＩＩＩ）で表される。

デキストロースまたは２，３，４，５，６−ペンタヒドロキシヘキサナールとしても知
られる、グルコースの化学構造は、式（ＸＸＩＶ）で表される。

レブロースとしても知られる、フルクトースの化学構造は、式（ＸＸＶ）で表される。

ペンタン−１，２，３，４，５−ペントールとしても知られる、キシリトールの化学構造は、式（ＸＸＶＩ）で表される。

一実施形態では、
（ａ）Ｃ_ｎオキシジェネートを含む原料を提供する工程と；
（ｂ）この原料を、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを含む生成物混合物を形成するのに十分な温度でおよび時間、触媒の存在下で、水素ガスと接触させる工程であって；ｎが５以上であり、
触媒が、ＷＯ_３担体上にＰｔ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、もしくはＦｅを含む工程と
を含む、選択的水素化脱酸素によるα，ω−Ｃ_ｎ−ジオールの製造方法が提供される。

別の実施形態では、
（ａ）Ｃ_ｎオキシジェネートを含む原料を提供する工程と；
（ｂ）この原料を、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを含む生成物混合物を形成するのに十分な温度でおよび時間、触媒の存在下で、水素ガスと接触させる工程であって；ｎが５以上であり、
触媒が、金属Ｍ１および金属Ｍ２またはＭ２の酸化物、ならびに任意選択的に担体を含み、ここで：
Ｍ１が、Ｐｄ、Ｐｔ、もしくはＩｒであり；Ｍ２が、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＣｏであるか；または
Ｍ１がＲｈであり、Ｍ２が、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＺｒであるか；または
Ｍ１が、Ａｇ、ＡｕもしくはＣｏであり；Ｍ２が、Ｒｅ、Ｍｏ、もしくはＷであるか；または
Ｍ１が、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｆｅ、もしくはＮｉであり；Ｍ２が、Ｒｅ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、もしくはＷであるか；または
Ｍ１が、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ、もしくはＡｕであり、Ｍ２が、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｇｅ、もしくはＩｒであるか；または
Ｍ１がＣｏであり、Ｍ２がＦｅであるか；または
Ｍ１がＮｉであり、Ｍ２が、ＣｏもしくはＦｅであるか；または
Ｍ１がＭｎであり、Ｍ２がＣｒである
工程と
を含む、選択的水素化脱酸素によるα，ω−Ｃ_ｎ−ジオールの製造方法が提供される。

一実施形態では、ｎ＝５または６である。一実施形態では、ｎ＝５であり、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールは１，５−ペンタンジオールである。一実施形態では、ｎ＝６であり、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールは１，６−ヘキサンジオールである。一実施形態では、ｎ＝７であり、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールは１，７−ヘプタンジオールである。一実施形態では、ｎ＝８であり、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールは１，８−オクタンジオールである。

本方法での使用に好適であるＣ_ｎオキシジェネートの例には、１，２，６−ヘキサントリオール；１，２，５−ペンタントリオール；２Ｈ−テトラヒドロピラン−２−メタノール；テトラヒドロフラン−２，５−ジメタノール；フラン−２，５−ジメタノール；２，５−ジヒドロフラン−２，５−ジメタノール；レボグルコセノン；レボグルコサン；レボグルコセノール；１，６−アンヒドロ−３，４−ジデオキシ−ｐ−Ｄ−ピラノース−２−オン；イソソルビド；ヒドロキシメチルフルフラール；ソルビトール；グルコース；フルクトース；キシリトール；３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−カルバルデヒド；１，２，５，６−ヘキサンテトラオール；１，２，３，５，６−ヘキサンペンタノール；１，５−アンヒドロ−３，４−ジデオキシ−ヘキシトール；５−ヒドロキシ−２Ｈ−テトラヒドロピラン−２−メタノール；フルフラール；フルフリルアルコール；テトラヒドロフルフリルアルコール；ペントース；ペントースを含有する二量体；ペントースを含有するオリゴマー；ヘキソース；ヘキソースを含有する二量体；ヘキソースを含有するオリゴマー；５−（ヒドロキシメチル）−２−フルフラール（「ＨＭＦ」）とケトンおよび／またはアルデヒドとの反応からの縮合生成物、ならびにフルフラールとケトンおよび／またはアルデヒドとの反応からの縮合生成物が挙げられる。原料は、１つ以上のＣ_ｎオキシジェネートを含んでもよい。

一実施形態では、Ｃ_ｎオキシジェネートは、１，２，６−ヘキサントリオール；２Ｈ−テトラヒドロピラン−２−メタノール；テトラヒドロフラン−２，５−ジメタノール；レボグルコセノン；３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−カルバルデヒド、またはそれらの混合物を含む。これらのＣ_ｎオキシジェネートは、本明細書に開示される方法によって１，６−ヘキサンジオールを含む反応混合物の製造のために有用である。一実施形態では、Ｃ_ｎオキシジェネートは１，２，６−ヘキサントリオールを含む。

一実施形態では、Ｃ_ｎオキシジェネートは、１，２，５−ペンタントリオール；フルフラール；フルフリルアルコール；テトラヒドロフルフリルアルコール；キシリトール；またはそれらの混合物を含む。これらのＣ_ｎオキシジェネートは、本明細書に開示される方法によって１，５−ヘキサンジオールを含む生成物混合物の製造のために有用である。

好適なペントースの例には、限定なしにキシロース、アラビノース、リキソース、キシリトール、およびリボースが挙げられる。好適なヘキソースの例には、限定なしにグルコース、マンノース、フルクトース、およびガラクトースが挙げられる。フルフラールまたは５−（ヒドロキシメチル）−２−フルフラールとケトンおよび／またはアルデヒドとの反応からの縮合生成物の例は、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ（２００８），（７），１０２３−１０２８（たとえば、ＣＡＳ登録番号１０４０３７５−９１−４およびＣＡＳ登録番号８８６−７７−１）に；ならびにフルフラールおよび５−（ヒドロキシメチル）−２−フルフラールをアルドール縮合にかけると８〜１５個の炭素原子を有する分子を生成した、ＣｈｅｍＳｕｓＣｈｅｍ（２０１０），３（１０），１１５８−１１６１に記載されている。

好適なＣ_ｎオキシジェネートは、バイオマスなどのバイオ再生可能な資源から誘導することができる。バイオマスは、単一源に由来してもよく、またはバイオマスは、２つ以上の源に由来する混合物を含むことができ；たとえば、バイオマスは、トウモロコシ穂軸とトウモロコシ茎葉との混合物、または草と葉との混合物を含むことができよう。バイオマスには、バイオエネルギー作物、農業残渣、都市固形廃棄物、工業固形廃棄物、製紙からのスラッジ、庭ごみ、木材および林業廃棄物またはそれらの組み合わせが挙げられるが、それらに限定されない。バイオマスの例には、トウモロコシ穀粒、トウモロコシ穂軸、トウモロコシの皮、トウモロコシ茎葉などの作物残渣、草、小麦、小麦わら、大麦、大麦わら、干し草、稲わら、スイッチグラス、古紙、サトウキビの絞りかす、ソルガム、大豆、穀物の製粉から得られる成分、木、枝、根、葉、木片、おがくず、灌木および茂み、野菜、果物、花、ならびに動物肥やしまたはそれらの組み合わせが挙げられるが、それらに限定されない。本発明のために有用であるバイオマスには、比較的高い炭水化物値を有する、比較的濃厚である、および／または集める、輸送する、貯蔵するおよび／または取り扱うのが比較的容易であるバイオマスが挙げられてもよい。一実施形態では、Ｃ_ｎオキシジェネートは究極的には、トウモロコシ穂軸、サトウキビの絞りかす、スイッチグラス、小麦わら、おがくずおよび他の木材廃棄物、ならびにリグノセルロース原料に由来する。

バイオマスなどのバイオ再生可能な資源は、酸触媒の存在下で高温条件下に熱分解して有用な化学中間体を提供することができる。たとえば、木材、デンプン、グルコースまたはセルロースの熱分解は、公知のおよび従来の方法によってレボグルコセノンを生成することができる（たとえば、Ｐｏｎｄｅｒ（Ａｐｐｌｉｅｄ Ｂｉｏｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａｎｄ Ｂｉｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ，Ｖｏｌ ２４／２５，４１−４１（１９９０））またはＳｈａｆｉｚａｄｅｈ（Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ Ｒｅｓｅａｒｃｈ，７１，１６９−１９１（１９７９）を参照されたい）。

グリセロールは、バイオ再生可能な資源から、たとえば植物および動物脂肪および油（すなわち、グリセロールとＣ_１２以上の脂肪酸との組み合わせによって生じるエステル官能基を含むトリアシルグリセリド）の加水分解から得ることができる。１，２，６−ヘキサントリオールは、グルコース、セルロースまたはバイオ再生可能な資源から誘導されるグリセロールなどの材料から得ることができる。たとえば、１，２，６−ヘキサントリオールは、グリセロールを触媒と接触させてアクロレインを生成する工程と、アクロレインを（任意選択的に触媒の存在下で）加熱して２−ホルミル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランを生成する工程と、２−ホルミル−３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランを水と接触させて２−ヒドロキシアジピックアルデヒドを製造する工程と、２−ヒドロキシアジピックアルデヒドを水素および触媒と接触させて１，２，６−ヘキサントリオールを含む生成物混合物を生成する工程とを含む方法によって得ることができる。たとえば、米国特許第２，７６８，２１３号明細書、独国特許第４２３８４９３号明細書、およびＧｒｅｅｎ Ｃｈｅｍ．，２００６，８，２１４−２２０でのＬ．Ｏｔｔらを参照されたい。

本明細書に記載される方法に利用される触媒は、触媒を調製するための任意の従来法、たとえば、含浸または初期湿潤による水溶液または有機溶媒溶液からの金属塩の堆積、Ｍ１成分および／またはＭ２成分の沈澱、または固体状態合成によって合成することができる。調製は、３０〜２５０℃、好ましくは５０〜１５０℃の高められた温度下での触媒材料の乾燥と；２５０〜８００℃、好ましくは３００〜４５０℃の温度で空気の存在下で加熱することによるか焼と；１００〜４００℃、好ましくは２００〜３００℃で水素の存在下での還元、またはヒドラジン、ギ酸もしくはギ酸アンモニウムなどの代わりの還元剤での還元とを含んでもよい。上の技法は、錠剤化、押出または触媒合成のための一般的な他の技法によって調製された、粉状もしくは成形粒子状触媒材料を使って利用されてもよい。粉状触媒材料が利用される場合、触媒担体または生じた触媒材料が所望の粒度に篩い分けされてもよいこと、および粒度が触媒性能を高めるために最適化されてもよいことは十分理解されるであろう。

本発明の一実施形態では、触媒は、ＷＯ_３またはＷＯ_ｘ担体上にＰｔ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、もしくはＦｅを含む。金属は、任意の適切な金属化合物に由来することができ；例には、塩化ロジウム（ＩＩＩ）水和物、硝酸テトラアンミン白金（ＩＩ）、塩化ルテニウム（ＩＩＩ）水和物、硝酸銅（ＩＩ）水和物、硝酸パラジウム、塩化ニッケル（ＩＩ）六水和物、塩化イリジウム（ＩＶ）水和物、および硝酸鉄（ＩＩＩ）九水和物が挙げられるが、それらに限定されない。ＷＯｘ担体は、タングステンのいくらかの酸化状態が（ＶＩ）未満であるが（Ｉ）超である状態で、部分還元三酸化タングステンを含有すると考えられる。

Ｍ１のローディングは、調製触媒（すなわち、ＷＯ_３またはＷＯ_ｘ担体を含めて）の質量を基準として、０．１〜５０質量％、しかし好ましくは０．５〜５質量％であってもよい。Ｍ１／ＷＯ_３触媒は、たとえば、ＷＯ_３支持材を要望に応じてすり潰し、篩い分けし、最小限の水に溶解させたＭ１含有化合物を初期湿潤によって担体中へ含浸させ、引き続き乾燥させ（たとえば、１１０℃で真空下に一晩）、次に数（たとえば、３〜５）時間３００〜５００℃で空気中でか焼することによって調製することができる。Ｍ１／ＷＯ_ｘ触媒は、たとえば、実験の部に記載されるように、Ｍ１含有化合物をタングステン酸アンモニウム水和物の水溶液に加え、引き続き生じた固体を乾燥させ、次にそれを空気中でか焼することによって、調製することができる。

別の実施形態では、触媒は、金属Ｍ１および金属Ｍ２またはＭ２の酸化物、ならびに任意選択的に担体を含み、ここで、
Ｍ１は、Ｐｄ、Ｐｔ、もしくはＩｒであり；Ｍ２は、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＣｏであるか；または
Ｍ１はＲｈであり、Ｍ２は、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＺｒであるか；または
Ｍ１は、Ａｇ、ＡｕもしくはＣｏであり；Ｍ２は、Ｒｅ、Ｍｏ、もしくはＷであり；
Ｍ１は、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｆｅ、もしくはＮｉであり；Ｍ２は、Ｒｅ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、もしくはＷであるか；または
Ｍ１は、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ、もしくはＡｕであり、Ｍ２は、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｇｅ、もしくはＩｒであるか；または
Ｍ１はＣｏであり、Ｍ２はＦｅであるか；または
Ｍ１はＮｉであり、Ｍ２は、ＣｏもしくはＦｅであるか；または
Ｍ１はＭｎであり、Ｍ２はＣｒである。

一実施形態では、触媒は、金属Ｍ１およびＭ２、ならびに任意選択的に担体を含み、ここで、Ｍ１は、Ｐｄ、Ｐｔ、もしくはＩｒであり；Ｍ２は、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＣｏであるか；または
Ｍ１はＲｈであり、Ｍ２は、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＺｒであるか；または
Ｍ１は、Ａｇ、ＡｕもしくはＣｏであり；Ｍ２は、Ｒｅ、Ｍｏ、もしくはＷであるか；または
Ｍ１は、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｆｅ、もしくはＮｉであり；Ｍ２は、Ｒｅ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、もしくはＷであるか；または
Ｍ１は、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ、もしくはＡｕであり、Ｍ２は、Ｎｉ、Ｆｅ、もしくはＩｒである。

一実施形態では、触媒は、金属Ｍ１およびＭ２、ならびに任意選択的に担体を含み、ここで、Ｍ１は、Ｐｄ、Ｐｔ、もしくはＩｒであり；Ｍ２は、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＣｏである。

一実施形態では、触媒は、金属Ｍ１およびＭ２、ならびに任意選択的に担体を含み、ここで、Ｍ１は、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｆｅ、もしくはＮｉであり；Ｍ２は、Ｒｅ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、もしくはＷである。

一実施形態では、触媒は、金属Ｍ１およびＭ２、ならびに任意選択的に担体を含み、ここで、Ｍ１はＰｔであり、Ｍ２はＷであるか；またはＭ１はＮｉであり、Ｍ２はＷであるか；またはＭ１はＣｕであり、Ｍ２はＷであるか；またはＭ１はＣｕであり、Ｍ２はＦｅである。一実施形態では、Ｍ１はＰｔであり、Ｍ２はＷである。一実施形態では、Ｍ１はＮｉであり、Ｍ２はＷである。一実施形態では、Ｍ１はＣｕであり、Ｍ２はＷである。一実施形態では、Ｍ１はＣｕであり、Ｍ２はＦｅである。

触媒のＭ１およびＭ２成分は、任意の適切な金属化合物に由来してもよい。例には、塩化ロジウム（ＩＩＩ）水和物、硝酸銅（ＩＩ）水和物、塩化ニッケル（ＩＩ）六水和物、塩化イリジウム（ＩＶ）水和物、硝酸鉄（ＩＩＩ）九水和物、硝酸テトラアンミン白金（ＩＩ）、塩化白金、ヘキサクロロ白金酸、テトラクロロ白金酸、塩化パラジウム、硝酸パラジウム、酢酸パラジウム、三塩化イリジウム、過レニウム酸アンモニウム、タングステン酸アンモニウム水和物、モリブデン酸アンモニウム水和物、硝酸マンガン（ＩＩ）水和物、およびバナジン酸アンモニウムが挙げられるが、それらに限定されない。

Ｍ１のローディングは、調製触媒（すなわち、存在する場合触媒担体を含めて）の質量を基準として０．１〜５０質量％、しかし好ましくは０．５〜５質量％であってもよい。Ｍ２のローディングは、０．１〜９９．９％、好ましくは２〜１０％であってもよい。好ましくは、Ｍ１およびＭ２を両方とも含有する触媒中のＭ１対Ｍ２のモル比は、１：０．５〜１：５の範囲にある。任意選択的に、Ｍ２は、触媒担体中へ組み込まれてもよく、触媒担体、たとえば酸化タングステンまたは酸化モリブデンに担持されたＰｔとして機能してもよい。触媒に関して、すべての百分率は、調製触媒の質量に対する質量パーセントと解釈される。

ある実施形態では、安定性および本方法の経済的実現可能性を高めるために担体を含む触媒を利用することが有用である。有用な担体の例には、ＷＯ_３、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、炭素、ＳｉＣ、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３、モンモリロナイトなどの粘土、ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２、タングステン酸ＺｒＯ_２、Ｖ_２Ｏ_５、ＭｏＯ_３、ならびにＨ−Ｙ、ＦＡＵ（Ｈ−ＹまたはＵＳＹ）、ＢＥＡ（Ｈ−Ｂｅｔａ）、ＭＦＩ（Ｈ−ＺＳＭ５）、ＭＥＬ（Ｈ−ＺＳＭ１１）およびＭＯＲ（Ｈ−モルデナイト）などのゼオライトが挙げられる。典型的には、タングステン酸ＺｒＯ_２は、ＺｒＯ_２上に最大で約１９質量％までのＷをＷＯ_３として含むことができ、たとえばＪｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｃａｔａｌｙｓｉｓ ２１６（２００３），ｐ．３５３−３６１のＳ．Ｋｕｂａらを参照されたい。一実施形態では、触媒は、ＷＯ_３、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、炭素、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３、モンモリロナイト、ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２、タングステン酸ＺｒＯ_２、Ｈ−Ｙゼオライト、Ｖ_２Ｏ_５、ＭｏＯ_３、またはそれらの混合物を含む担体をさらに含む。一実施形態では、担体は、ＴｉＯ_２、ゼオライト、またはそれらの混合物を含む。一実施形態では、担体は、ＴｉＯ_２、ゼオライト、またはそれらの混合物を含み、Ｍ１はＰｔであり、Ｍ２はＷである。他の実施形態では、担体を持たないことが望ましいかもしれない。

ある実施形態では、触媒は、ＷＯ_３、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、炭素、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３、モンモリロナイト、ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２、タングステン酸ＺｒＯ_２、Ｈ−Ｙゼオライト、Ｖ_２Ｏ_５、ＭｏＯ_３、またはそれらの混合物を含む添加物と混合される。触媒が担体を含む場合、担体は、添加物と同じものまたは添加物とは異なるものであり得る。本明細書で用いるところでは、用語「担体」は、（任意選択の担体が触媒中に存在する場合には）触媒の成分である材料を意味し、金属Ｍ１およびＭ２を固定するために触媒調製の一部として使用され、それと結びつけるために金属Ｍ１およびＭ２のための表面を提供する。本明細書で用いるところでは、用語「添加物」は、適切な反応条件下で触媒および反応剤と組んでその物理的存在によって触媒活性を高めることができる材料を意味する。添加物対触媒の有用な比は、質量基準で１：１０〜１０：１、たとえば２：１〜１：２、または約１：１であるが、これらの範囲外の比もまた用いることができる。添加物は、触媒と一緒に反応器に加えることができるか、または触媒および添加物は反応器に順次加えられてもよい。添加物、または添加物と触媒との混合物は、０．０１〜１５０μｍ粒度の粉末形状（「流動」形状としても知られる）、成形錠剤、押出物、球形、一様な０．５〜１０ｍｍサイズを有するエンジニアド粒子、または上記の２つ以上の組み合わせを含むがそれらに限定されない、材料に典型的な任意の物理的形状にあることができる。

任意選択の担体が触媒中に存在し、ＷＯ_３、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、炭素、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３、モンモリロナイト、ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２、タングステン酸ＺｒＯ_２、ゼオライト、Ｖ_２Ｏ_５、ＭｏＯ_３、またはそれらの混合物を含む、ある実施形態では、プロセス工程（ｂ）は、ＷＯ_３、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、炭素、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３、モンモリロナイト、ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２、タングステン酸ＺｒＯ_２、ゼオライト、Ｖ_２Ｏ_５、ＭｏＯ_３、またはそれらの混合物を含む添加物の存在をさらに含む。ある実施形態では、任意選択の担体が触媒中に存在し、工程（ｂ）は、ＷＯ_３、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、炭素、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３、モンモリロナイト、ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２、タングステン酸ＺｒＯ_２、ゼオライト、Ｖ_２Ｏ_５、ＭｏＯ_３、またはそれらの混合物を含む添加物を加えることをさらに含む。プロセス工程（ｂ）は、原料を、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを含む生成物混合物を形成するのに十分な温度でおよび時間、触媒の存在下に、水素ガスと接触させる工程であって、ｎが５以上であり、触媒が本明細書に開示される通りである工程を意味する。ある実施形態では、添加物はＴｉＯ_２を含む。ある実施形態では、添加物はＳｉＯ_２を含む。ある実施形態では、添加物はＺｒＯ_２を含む。ある実施形態では、添加物はＡｌ_２Ｏ_３を含む。ある実施形態では、添加物はＭｏＯ_３を含む。ある実施形態では、添加物は炭素を含む。

ある実施形態では、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールの製造方法は、
（ａ）Ｃ_ｎオキシジェネートを含む原料を提供する工程と；
（ｂ）この原料を、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを含む生成物混合物を形成するのに十分な温度でおよび時間、触媒、ならびに任意選択的に添加物の存在下で、水素ガスと接触させる工程であって；ｎが５以上であり；
触媒が、金属Ｍ１および金属Ｍ２またはＭ２の酸化物、ならびに任意選択的に担体を含み、ここで：
Ｍ１が、Ｐｄ、Ｐｔ、もしくはＩｒであり；Ｍ２が、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＣｏであるか；または
Ｍ１がＲｈであり、Ｍ２が、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＺｒであるか；または
Ｍ１が、Ａｇ、ＡｕもしくはＣｏであり；Ｍ２が、Ｒｅ、Ｍｏ、もしくはＷであるか；または
Ｍ１が、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｆｅ、もしくはＮｉであり；Ｍ２が、Ｒｅ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、もしくはＷであるか；または
Ｍ１が、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ、もしくはＡｕであり、Ｍ２が、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｇｅ、もしくはＩｒであるか；または
Ｍ１がＣｏであり、Ｍ２がＦｅであるか；または
Ｍ１がＮｉであり、Ｍ２が、ＣｏもしくはＦｅであるか；または
Ｍ１がＭｎであり、Ｍ２がＣｒであり；
添加物が、ＷＯ_３、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、炭素、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３、モンモリロナイト、ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２、タングステン酸ＺｒＯ_２、ゼオライト、Ｖ_２Ｏ_５、ＭｏＯ_３、またはそれらの混合物を含む
工程と
を含む。

調製触媒は、０．０１〜１５０μｍ粒度の粉末形状（「流動」形状としても知られる）、成形錠剤、押出物、球形、一様な０．５〜１０ｍｍサイズを有するエンジニアド粒子、その表面上に触媒が適用される一体構造物、または上記の２つ以上の組み合わせを含むがそれらに限定されない、不均一触媒に典型的な任意の物理的形状にあることができる。固体担体が、Ｍ１およびＭ２を両方とも含有する触媒に利用されるとき、Ｍ１は、エネルギー分散分光法と共に透過電子顕微鏡法によって測定されるように、Ｍ２成分と深く結びついていることが望ましい。Ｍ１成分の粒度は、同じ技法によって測定されるように１０ｎｍ未満、最も好ましくは３ｎｍ未満であることがさらに好ましい。この場合に、Ｍ１成分の粒度は、Ｍ１成分とＭ２成分との混合物、Ｍ１成分とＭ２成分とのアロイ、Ｍ２成分の粒子に隣接するＭ１成分の粒子、またはＭ２成分を含有する担体上のＭ１成分の粒子の粒度と解釈されてもよい。

触媒は、水素化脱酸素を触媒するのに十分な原料に対する任意の質量比で、一般的にはバッチ反応については０．０００１：１〜１：１、好ましくは０．００１：１〜０．５：１の範囲で存在してもよい。連続反応については、同じ比が、供給物対触媒の質量比が触媒の質量当たり処理されるＣ_ｎオキシジェネート供給物の質量として定義される場合には適切である。

本方法にとって有用な温度は、約３０℃〜約３００℃である。ある実施形態では、温度は、次の値の任意の２つの間であり、任意選択的に任意の２つを含む：３０℃、４０℃、５０℃、６０℃、７０℃、８０℃、９０℃、１００℃、１１０℃、１２０℃、１３０℃、１４０℃、１５０℃、１６０℃、１７０℃、１８０℃、１９０℃、２００℃、２１０℃、２２０℃、２３０℃、２４０℃、２５０℃、２６０℃、２７０℃、２８０℃、２９０℃、および３００℃。ある触媒では、約３００℃よりも上の温度が使用できると予期される。

本方法は、Ｃ_ｎオキシジェネート供給物を、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを含む生成物混合物を形成するのに十分な時間、触媒の存在下で水素と接触させる工程によって行われる。水素対供給物のモル比は、所望のα，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを生成するのに十分な水素が存在する限り決定的に重要であるわけではない。水素は好ましくは過剰に使用され、窒素またはアルゴンなどの不活性ガスと組み合わせて任意選択的に使用されてもよい。不活性ガスが水素と組み合わせて使用される場合、不活性ガスの量は、それが生成物混合物の形成に悪影響を及ぼさないようなものであるべきである。本方法の圧力は、約３００ｋＰａ〜約２５，０００ｋＰａ、たとえば５０００〜１５０，０００ｋＰａであってもよい。ある実施形態では、本方法の圧力は、次の値の任意の２つの間であり、任意選択的に任意の２つを含む：３００；５００；１０００；１５００；２０００；２５００；３０００；３５００；４０００；４５００；５０００；１０，０００；１５，０００；２０，０００；および２５，０００ｋＰａ。

本方法は典型的には、反応容器中での触媒の流動性を向上させるためにおよび／または反応熱を除去し、本方法の成績を向上させるためにシステムの粘度を低下させるのに役立ち得る、溶媒の存在下で行われる。極性溶媒が好ましい。溶媒は、触媒を除いて、全反応混合物の１質量％から９５質量％の範囲で存在してもよい。

反応生成物は、蒸留、ワイプ薄膜蒸発、クロマトグラフィー、吸着、結晶化、および膜分離を含むがそれらに限定されない当該技術分野で公知の任意の一般的な方法によって単離されても精製されてもよい。

本明細書に開示される方法がまた、プロセスパラメーターの最適化によってα，ω−ジオールの合成で有用な中間体または副生成物を製造するために利用することができることは十分理解されるであろう。１，５−ペンタンジオールおよび／または１，６−ヘキサンジオールの合成中に製造することができる中間体の例には、フランジメタノール：テトラヒドロフランジメタノール；テトラヒドロピラン−２−メタノール；レボグルコサノール；およびフルフリルアルコールが挙げられるが、それらに限定されない。１，５−ペンタンジオールおよび／または１，６−ヘキサンジオールの合成中に得ることができる副生成物の例には、異性体ヘキサノール；異性体ペンタノール；１，５−ヘキサンジオール；１，２−ヘキサンジオール；２−メチルテトラヒドロピラン；２，５−ジメチルテトラヒドロフラン；１，２−シクロヘキサンジオール；１，２−シクロペンタンジオール；シクロヘキサノール、およびそれらの混合物が挙げられるが、それらに限定されない。

本明細書に開示される方法によって得られるα，ω−Ｃ_ｎ−ジオールは、α，ω−Ｃ_ｎ−ジアミノアルカンなどの工業的に有用な材料に変換することができる。たとえば、１，５−ペンタンジオールおよび１，６−ヘキサンジオールは、当該技術分野で公知の方法によって、それぞれ、１，５−ペンタンジアミン（１，５−ジアミノペンタン）および１，６−ヘキサンジアミン（１，６−ジアミノヘキサン）へ還元的にアミノ化することができる。たとえば、米国特許第３，２１５，７４２号明細書；米国特許第３，２６８，５８８号明細書；および米国特許第３，２７０，０５９号明細書を参照されたい。

ある実施形態では、本明細書に開示される方法は、
（ｃ）任意選択的に、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを生成物混合物から単離する工程と；
（ｄ）このα，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを、α，ω−Ｃ_ｎ−ジアミノアルカンを含む第２生成物混合物を形成するのに十分な温度でおよび時間、還元的アミノ化触媒の存在下でアンモニアおよび水素と接触させる工程と；
（ｅ）任意選択的に、α，ω−Ｃ_ｎ−ジアミノアルカンを第２生成物混合物から単離する工程と
をさらに含む。

一実施形態では、α，ω−Ｃ_ｎ−ジアミノアルカンは、１，６−ジアミノヘキサンを含む。一実施形態では、α，ω−Ｃ_ｎ−ジアミノアルカンは、１，５−ジアミノペンタンを含む。

還元的アミノ化触媒は、周期表の族ＩＢ、ＶＩＢ、ＶＩＩＢ、およびＶＩＩＩから選択される少なくとも１つの元素、たとえば鉄、コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、銅、クロム、イリジウム、または白金を含有する。元素は、ゼロの酸化状態にあっても、化合物の形態にあってもよい。還元的アミノ化触媒は、担持されていても、担持されていなくても、ラネー（Ｒａｎｅｙ）型であってもよい。一実施形態では、還元的アミノ化触媒はルテニウムを含有する。一実施形態では、還元的アミノ化触媒はニッケルを含有する。一実施形態では、還元的アミノ化触媒はラネーニッケルである。一実施形態では、還元的アミノ化触媒はラネー銅である。一実施形態では、還元的アミノ化触媒はラネーコバルトである。

還元的アミノ化工程は、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオール、またはα，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを含む生成物混合物を、α，ω−Ｃ_ｎ−ジアミノアルカンを含む第２生成物混合物を形成するのに十分な時間、触媒の存在下でアンモニアおよび水素と接触させることによって行われる。還元的アミノ化工程のための有用な温度は、約４０℃〜３００℃の範囲に、たとえば約７５℃〜１５０℃の範囲にある。典型的には圧力は、約２ＭＰａ〜３５ＭＰａの範囲に、たとえば約４ＭＰａ〜１２ＭＰａの範囲にある。水素対α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールのモル比は典型的には、１：１以上であり、たとえば１：１〜１００：１の範囲に、または１：１〜５０：１の範囲にある。

還元的アミノ化工程は典型的には、液体アンモニア溶媒中で行われる。アンモニアは、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールに関して化学量論過剰で使用される。典型的には、アンモニア対α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールの１：１〜８０：１のモル比、たとえば１０：１〜５０：１の範囲でのモル比を用いることができる。任意選択的に、水、メタノール、エタノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、エステル、炭化水素、テトラヒドロフラン、またはジオキサンなどの追加の溶媒を使用することができる。追加溶媒対α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールの質量比は典型的には、０．１：１〜５：１の範囲にある。

還元的アミノ化工程は、固定床反応器でまたはスラリー反応器、たとえばバッチ、連側攪拌タンク反応器または気泡塔反応器で行うことができる。α，ω−Ｃ_ｎ−ジアミンは、当該技術分野で公知の任意の一般的な方法、たとえば適度な減圧下での分別蒸留によって第２生成物混合物から単離されてもよい。

本明細書に記載される方法は、以下の実施例で例示される。上の考察およびこれらの実施例から、当業者は、本発明の本質的特性を確認することができ、本発明の主旨および範囲から逸脱することなく、それを様々な使用および条件に適合させるために様々な変更および修正を行うことができる。

次の省略形が実施例で用いられる：「℃」は度セ氏を意味し；「ｗｔ％」は質量パーセントを意味し；「ｇ」はグラムを意味し；「ｍｉｎ」は分を意味し；「ｈ」は時間を意味し；「μＬ」はマイクロリットルを意味し；「ｗｔ％」は質量パーセントを意味し；「ＲＶ（ｓ）」は反応容器を意味し；「ｐｓｉ」は１平方インチ当たりのポンドを意味し；「ｍｇ／ｇ」は１グラム当たりのミリグラムを意味し；「μｍ」はマイクロメートルを意味し；「ｍＬ」はミリリットルを意味し；「ｍｍ」はミリメートルを意味し；「ｃｍ」はセンチメートルを意味し；「ｍＬ／ｍｉｎ」は１分当たりのミリリットルを意味し；「ｋＰａ」はキロパスカルを意味し；「ＭＰａ」はメガパスカルを意味し；「ｍ^２／ｇ」は１グラム当たりの平方メートルを意味し；「ＧＣ」はガスクロマトグラフィーを意味し；「ＭＳ」は「質量分析」を意味し；「Ｃｏｎｖ」は転化率を意味し；「ｓｅｌ」は選択率を意味し；「ＬＨＳＶ」は液空間速度を意味し；「ＧＴＯ」はガス対オイル比を意味し；「１２ＨＤ」は１，２−ヘキサンジオールを意味し；「１２ＣＨＤ」は１，２−シクロヘキサンジオールを意味し；「ｃ１２ＣＨＤ」はシス−１，２−シクロヘキサンジオールを意味し；「１Ｈ」は１−ヘキサノールを意味し；「１Ｐ」は１−ペンタノールを意味し；「１５ＨＤ」は１，５−ヘキサンジオールを意味する。

原材料
すべての市販原材料は、特に明記しない限り受け取ったまま使用した。１，２，６−ヘキサントリオール（≧９７ＧＣ面積％純度）は、Ｅｖｏｎｉｋ ＤＥＧＵＳＳＡ ＧｍＢＨ，Ｍａｒｌ，Ｇｅｒｍａｎｙから入手した。テトラヒドロフラン−２，５−ジメタノール（９７％純度）は、Ａｌｄｒｉｃｈから入手した。２−ヒドロキシメチルテトラヒドロピラン（９８％純度）は、Ａｌｄｒｉｃｈから入手した。ｎ−ヘキサノール（９８％純度）は、Ａｌｄｒｉｃｈから入手した。脱イオン水（ＤＩ）（ｐＨ＝５．２）を特に明記しない限り使用した。触媒調製に使用される商業的に入手可能な金属塩を表１にリストする。触媒調製のために使用される触媒担体およびゼオライトは、表２および３に記載される。

ＴｉＯ_２担体を含む触媒については、ＴｉＯ_２は、特に明記しない限りＥｖｏｎｉｋ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ製のＡｅｒｏｌｙｓｔ−７７０８であった。

混合担体ＴｉＯ_２−ＣＢＶ７８０は次の通り調製した：すり潰し、０．０１６５インチの篩目を通した０．４６ｇのＡｅｒｏｌｙｓｔ ７７０８ ＴｉＯ_２（Ｅｖｏｎｉｋ）および０．４６ｇのＺｅｏｌｙｓｔ ＣＢＶ７８０（Ｚｅｏｌｙｓｔ Ｉｎｔ）を乳鉢および乳棒で十分に混ぜ合わせた。

分析方法
反応器供給液および反応生成物液を、標準ＧＣおよびＧＣ／ＭＳ装置：Ａｇｉｌｅｎｔ ５９７５Ｃ，ＨＰ５８９０，Ｓｔａｂｉｌｗａｘ Ｃｏｌｕｍｎ Ｒｅｓｔｅｋ Ｃｏｍｐａｎｙ Ｂｅｌｌｅｆｏｎｔｅ，ＰＡ（３０ｍ×０．２５ｍｍ、０．５ミクロン膜厚）を用いるガスクロマトグラフィーによって分析した。反応生成物混合物の化学成分は、それらの保持時間およびマススペクトルを、標品試料のそれらにマッチさせることによって同定した。

生成物混合物分布、パーセント転化率、パーセント選択率、および％収率は、次の通り定義される。

（式中、面積パーセントは、ガスクロマトグラフ分析から測定された）

（式中、化合物のモルは、検量ＧＣ法から測定された）

Ｍ１／ＷＯ_３触媒への言及で、Ｍ１％は、調製触媒質量を基準としてＭ１の質量パーセントを意味する。たとえば、４％Ｐｔ／ＷＯ_３は、１ｇの触媒中０．０４ｇのＰｔおよび０．９６ｇのＷＯ_３を意味する。

Ｍ１／ＷＯ_ｘ触媒への言及で、Ｍ１：Ｗは、調製触媒Ｍ１／ＷＯ_ｘの質量を基準としてＭ１対Ｗのモル比を意味する。たとえば、１：０５Ｐｔ／ＷＯ_ｘは、任意の所与の質量の触媒においてＰｔ対Ｗの原子モル比が１：０．５であることを意味する。

Ｍ１Ｍ２／担体触媒への言及で、Ｍ１％は、調製触媒質量を基準としてＭ１の質量パーセントを意味し、Ｍ１／Ｍ２は、特に明記しない限りＭ１対Ｍ２のモル比である。たとえば、４％ＰｔＷ／ＴｉＯ_２（Ｐｔ／Ｗ＝１）は、１グラムの触媒が０．０４ｇのＰｔを含有し、１のＰｔ／Ｗモル比を有することを意味する。

ＰｔＷ／ＴｉＯ_２（ｘ％Ｐｔ ｙ％Ｗ）触媒への言及で、ｘ％およびｙ％は、それぞれ、ＰｔおよびＷの質量百分率を表す。たとえばＰｔＷ／ＴｉＯ_２（１％Ｐｔ、４％Ｗ）は、１グラムの触媒が０．０１ｇのＰｔおよび０．０４ｇのＷを含有することを意味する。

触媒合成すべてについて、ただ一つの金属塩を触媒中の各金属の前駆体として使用した；これらの金属塩を表１に示す。

Ｍ１／ＷＯ_３触媒の調製
４質量％Ｐｔを含有するＰｔ／ＷＯ_３触媒は、次の通り合成した。乳鉢および乳棒ですり潰し、４２０ミクロンの篩目を通した０．４８グラムのＷＯ_３担体をガラスバイアルへ入れた。０．５ｍＬの水に溶解させた硝酸テトラアンミン白金（ＩＩ）を次にＷＯ_３に加えてＰｔを初期湿潤によって固体担体上へ含浸させた。混合物を１５分間攪拌し、次に１１０℃で真空下に一晩乾燥させた。室温まで冷却した後、固体を４００℃で４時間空気中でか焼した。

他のＭ１／ＷＯ_３触媒は、表１にリストされる適切量の相当するＭ１含有金属塩を使用して上の手順に従って調製した。Ｍ１／ＷＯ_３触媒を実施例１〜１１に使用した。

実施例１〜１１
バッチモードで（触媒のプレ還元なしに）Ｍ１／ＷＯ_３触媒を使用する１，６−ヘキサンジオールへの１，２，６−ヘキサントリオールの水素化脱酸素
実施例１〜１１のそれぞれにおいて、１，６−ヘキサンジオール（１６ＨＤ）を含む反応混合物への１，２，６−ヘキサントリオール（１２６ＨＴ）の変換は、次の手順に従って行った。おおよそ１ｇの１２６ＨＴの水溶液（５質量パーセント）およびおおよそ５０ｍｇの表１に示されるＭ１／ＷＯ_３触媒を、攪拌子を含有する１．５ｍＬの圧力容器へ入れた。この容器に１０００ｐｓｉｇ Ｈ_２までＨ_２を装入し、容器を表４に示される反応温度に加熱した。反応圧力および温度を４時間維持した。この容器を次に室温まで冷却した。反応混合物を濾過し、反応液を、内部標準で検量されるＧＣ法を用いて分析した。結果を表４に示す。

Ｍ１ＷＯ_ｘ触媒の調製
ＰｔＷＯ_ｘ（Ｐｔ：Ｗ＝０．０４：１）触媒は次の通り合成した。タングステン酸アンモニウム水和物、（ＮＨ_４）_１０Ｗ_１２Ｏ_４１・５Ｈ_２Ｏ、（０．６８０ｇ）を４０．０ｍＬの水に溶解させた。これに、硝酸テトラアンミン白金（ＩＩ）の溶液（０．５ｍＬの水に溶解させた０．０３９６ｇ）を加えた。白色固体が、添加するとすぐに沈澱した。スラリーを３０分間ロータリーエバポレーターで混合し、次に真空オーブン中へ入れ、１１０℃で一晩乾燥させた。室温まで冷却した後、材料をセラミックボートに移し、４００℃で３時間空気中でか焼した。

他のＭ１ＷＯ_ｘ触媒は、所望のＭ１：Ｗモル比を達成するために適切な量のＭ１含有金属塩および（ＮＨ_４）_６Ｈ_２Ｗ_１２Ｏ_４１・５Ｈ_２Ｏを使用して上の手順に従って調製した。Ｍ１／ＷＯ_ｘ触媒を、実施例１２〜１６に使用した。

実施例１２〜１６
Ｍ１／ＷＯ_ｘ触媒を使用する１６ＨＤへの１２６ＨＴの水素化脱酸素
実施例１２〜１６は、表５に示されるＭ１／ＷＯ_ｘ触媒および温度を使用することを除いて実施例１〜１１の手順に従って行った。結果を表５に示す。

Ｍ１Ｍ２／担体触媒の調製−触媒調製法Ａ
４質量％Ｐｔを含有し、１：１のＰｔ：Ｗのモル比を有するＰｔＷ／ＴｉＯ_２触媒は、次の手順に従って調製した。

硝酸テトラアンミン白金（ＩＩ）の水溶液（１．０ｍＬの水に溶解させた０．０７９ｇ）を、乳鉢および乳棒ですり潰し、４００ミクロンの篩目を通した０．９２ｇのＴｉＯ_２（Ａｅｒｏｌｙｓｔ ７７０８）に加え、次に水（１．０ｍＬ）で湿らせた。生じたスラリーを室温で１５分間攪拌し、次に１１０℃で真空オーブン中で一晩乾燥させた。固体材料を室温まで放冷し、次に１．０ｍＬの水で湿らせた。これに、３．０ｍＬの水に溶解させた０．０５３５ｇのタングステン酸アンモニウム水和物を加えた。混合物を室温で１５分間攪拌し、次に１１０℃で真空オーブン中で一晩乾燥させた。室温まで冷却した後、材料をセラミックボートに移し、４００℃で３時間空気中でか焼した。

他のＭ１Ｍ２／担体触媒は、上の手順に従って、しかし適切な量の表１からのＭ１−およびＭ２−含有金属塩ならびに表２または表３からの選択された担体を使用して調製した。この方法に従って調製された触媒を、下に記載されるバッチモード水素化脱酸素実施例に使用した。

実施例１７〜５４
Ｍ１Ｍ２／担体触媒を使用する１６ＨＤへの１２６ＨＴの水素化脱酸素
実施例１７〜５４は、表６に示されるＭ１Ｍ２／担体触媒、温度、および反応圧力を使用することを除いて実施例１〜１１の手順に従って行った。結果を表６に示す。

実施例５６〜６４
Ｍ１Ｍ２／担体触媒を使用する１６ＨＤへのＴＨＰＭの水素化脱酸素
実施例５６〜６４は、基質として５質量％２−ヒドロキシメチルテトラヒドロピラン（ＴＨＰＭ）、表７に示されるＭ１Ｍ２／担体触媒、および温度を使用することを除いて実施例１〜１１の手順に従って行った。結果を表７に示す。

実施例６５〜７０
Ｍ１Ｍ２／担体触媒を使用する１６ＨＤへの１２６ＨＴの水素化脱酸素
実施例６５〜７０は、基質として２．５質量％１２６ＨＴ、表８に示される温度、およびＭ１Ｍ２／担体触媒を使用することを除いて実施例１〜１１の手順に従って行った。結果を表８に示す。

（ｘ％Ｐｔ、ｙ％Ｗ）を含有するＰｔＷ／ＴｉＯ_２触媒の調製−触媒調製法Ｂ
４質量％Ｐｔおよび４質量％Ｗを含有するＰｔＷ／ＴｉＯ_２触媒は、次の通り調製した。９．５ｍＬの水に溶解させたタングステン酸アンモニウム水和物（０．１７０ｇ）を、２．８ｍＬの水で前もって湿らせた２．８８ｇのＴｉＯ_２（Ｅｖｏｎｉｋ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ製のＡｅｒｏｌｙｓｔ−７７０８）に加えた。混合物を１５分間攪拌し、次に過剰の水を、ロータリーエバポレーターおよび８０℃水浴を用いて減圧下に除去した。生じた固体を次に、１１０℃で一晩真空オーブン中で乾燥させた。固体を次に４００℃で３時間空気中でか焼した。

０．４６グラムのか焼固体を、０．５ｍＬの水で湿らせ、次に０．５ｍＬの水中の０．０３９６ｇの硝酸テトラアンミン白金（ＩＩ）を含浸させた。混合物を１５分間攪拌し、次に１１０℃で真空下に一晩乾燥させた。室温まで冷却した後、材料をセラミックボートに移し、４００℃で３時間空気中でか焼した。

４、１０、１５、または２０質量％Ｗと組み合わせて１、２、または４質量％Ｐｔを含有する他のＰｔＷ／ＴｉＯ_２触媒を、適切な量のタングステン酸アンモニウム水和物、ＴｉＯ_２、および硝酸テトラアンミン白金（ＩＩ）を使用して触媒調製法Ｂに従って調製した。方法Ｂによって調製された触媒を実施例７１〜８２で使用した。結果を表９に示す。

実施例７１〜８２
（ｘ％Ｐｔ、ｙ％Ｗ）を含有するＰｔＷ／ＴｉＯ_２触媒を使用する１６ＨＤへの１２６ＨＴの水素化脱酸素
実施例７１〜８２は、（ｘ％Ｐｔ、ｙ％Ｗ）を含有するＰｔＷ／ＴｉＯ_２触媒および表９に示されるような温度を使用することを除いて実施例１〜１１の手順に従って行った。結果を表９に示す。

実施例８３〜１９０
バッチモードで（触媒のプレ還元ありで）Ｍ１Ｍ２／担体触媒を使用する１，６−ヘキサンジオールへの１，２，６−ヘキサントリオールの水素化脱酸素
実施例８３〜１９０のそれぞれにおいて、１，６−ヘキサンジオール（１６ＨＤ）を含む反応混合物への１，２，６−ヘキサントリオール（１２６ＨＴ）の変換を、次の手順に従って行った。おおよそ１ｇの１２６ＨＴの水溶液（５質量パーセント）およびおおよそ５０ｍｇの表１０に示されるＭ１Ｍ２／担体触媒を、攪拌子を含有する１．５ｍＬの圧力容器に入れた。容器に約１４５〜１５０ｐｓｉのプレ還元圧力までＨ_２を装入し、次に圧力容器を表１０に示される反応温度に加熱した。内容物を、圧力を１０００ｐｓｉｇ Ｈ_２に上げる前に１時間攪拌した。反応圧力および温度を４時間維持した。容器を次に室温まで冷却した。反応混合物を濾過し、反応液を、内部標準で検量されるＧＣ法を用いて分析した。

実施例８３〜１５０に使用された触媒、温度、１２６ＨＴ基質のパーセント転化率、および１６ＨＤへのパーセント選択率を表１０に示す。

実施例１５１〜１９０に使用された触媒、温度、１２６ＨＴ基質のパーセント転化率、１６ＨＤへのパーセント選択率、およびＴＨＰＭへのパーセント選択率を表１１に示す。

実施例１９１〜２２８
Ｍ１Ｍ２／担体触媒を使用する１６ＨＤへのＴＨＰＭの水素化脱酸素
実施例１９１〜２２８は、基質として５質量％ＴＨＰＭの水溶液ならびに表１２に示されるＭ１Ｍ２／担体触媒および温度を使用することを除いて実施例８３〜１５０の手順に従って行った。ＴＨＰＭ基質のパーセント転化率および１６ＨＤへのパーセント選択率結果を表１２に示す。

実施例２２９〜２５５
Ｍ１Ｍ２／担体触媒を使用する１６ＨＤへのテトラヒドロフラン−２，５−ジメタノールの水素化脱酸素
実施例２２９〜２５５は、基質として５質量％テトラヒドロフラン−２，５−ジメタノールの水溶液、表１３に示される温度、およびＭ１Ｍ２／担体触媒を使用することを除いて実施例８３〜１５０の手順に従って行った。これらの触媒は、４質量％Ｍ１を含有し、１のＭ１／Ｍ２モル比を有した。表１３はまた、テトラヒドロフラン−２，５−ジメタノール基質のパーセント転化率および１６ＨＤへのパーセント選択率結果を含む。

実施例２５６
連続トリクルベッド反応器での１，６−ヘキサンジオールを含む反応混合物への１，２，６−ヘキサントリオールの変換
ＴｉＯ_２に担持されたＰｔ／Ｗ（１：１）を含有するＭ１Ｍ２／担体触媒は、次の手順に従って調製した。販売会社から受け取ったままの３２．２グラムの触媒担体（Ａｅｒｏｌｙｓｔ ７７０８ ＴｉＯ_２）を、先ず破砕し、１〜１．２ｍｍの粒度範囲に篩い分けした。担体を次にフラスコに加え、おおよそ３２ｍＬの脱イオン水で湿らせた。湿った担体を次に、２．７７ｇの溶解硝酸テトラアンミン白金（ＩＩ）Ｍ１塩を含有する追加の３５ｍＬの脱イオン水と混合してスラリーを形成した。担体／Ｍ１塩スラリーを次に１５分間攪拌した。フラスコを次に、ロータリーエバポレーターに取り付け、水を、触媒が初期湿潤に達するまで減圧下に８０℃で除去した。触媒を次に、１１０℃に保持される真空オーブン中で一晩（１７ｈ）さらに乾燥させた。乾燥触媒を室温まで放冷し、次に３５ｍＬの脱イオン水で再び湿らせた。湿った担体を次に、１．８７ｇの溶解タングステン酸アンモニウム水和物Ｍ２塩を含有する追加の１０５ｍＬの脱イオン水と混合してスラリーを形成した。スラリーを次に１５分間攪拌した。フラスコを次に、ロータリーエバポレーターに取り付け、水を、触媒が初期湿潤に達するまで減圧下に８０℃で除去した。触媒を次に、１１０℃に保持される真空オーブン中で一晩（１７ｈ）さらに乾燥させた。室温まで冷却した後、材料をセラミックボートに移し、４００℃で３時間空気中でか焼した。この触媒を使用して１２６ＨＴを、次の手順に従って１６ＨＤを含む反応混合物へ水素化脱酸素した。

１６ＨＤを含む反応混合物への１２６ＨＴの変換は、垂直の２１ｍｍ内径３１６ステンレス鋼固定床反応器で行った。反応器に最初に２１．１４ｇのＰｔ／Ｗ（１：１）／Ａｅｒｏｌｙｓｔ ７７０８ ＴｉＯ_２触媒を装填し、その触媒を、触媒床の両側での約２０ｇの１ｍｍ不活性コランダム球によって適所に保持した。

反応器を、１９２ｓｃｃｍの流量を用いて１０００ｐｓｉまで窒素で加圧した。実験を、０．１９２ｍＬ分^−１の流量で反応器のトップでの入口に水中４．０質量％１２６ＨＴ供給物を導入することによってスタートさせた。同時に反応器加熱をスタートさせた。反応器が１４０℃に達するとすぐに、窒素供給を止め、水素供給を同時に１９２ｓｃｃｍの流量でスタートさせた。

実験の間ずっと液体生成物を１Ｌの冷やした生成物受器に集めた。２日オンストリーム後に、反応器温度を１６０℃に上げた。５日オンストリーム後に１時間平均定常状態試料を、生成物受器を先ず流し出し、次にそれを１時間にわたって再び満たすことによって集めた。試料を次に生成物受器から流し出し、秤量し、ガスクロマトグラフィーによって分析した。すべての主要化合物を、分析標準を使用して同定し、定量した。１１．５５ｇ試料液は、０．１４１ｇの１２６ＨＴ（供給１２６ＨＴを基準として６９．７％転化率）および０．２０５ｇの１６ＨＤ（供給１２６ＨＴを基準として５０．０％モル収率）を含有した。

実施例２５７
連続トリクルベッド反応器での１，６−ヘキサンジオールを含む反応混合物への１，２，６−ヘキサントリオール、２−ヒドロキシメチルテトラヒドロピラン、およびテトラヒドロフラン−２，５−ジメタノール原料（別々に）の変換
ＴｉＯ_２に担持されたＮｉ／Ｗ（１：１）を含有するＭ１Ｍ２／担体触媒は、次の手順に従って調製した。販売会社から受け取ったままの２８．８グラムの触媒担体（Ａｅｒｏｌｙｓｔ ７７０８ ＴｉＯ_２）を、先ず破砕し、１〜１．２ｍｍの粒度範囲に篩い分けした。担体を次にフラスコに加え、おおよそ３０ｍＬの脱イオン水で湿らせた。湿った担体を次に、５．９５ｇの溶解硝酸ニッケル（ＩＩ）六水和物Ｍ１塩を含有する追加の１０ｍＬの脱イオン水と混合してスラリーを形成した。担体／Ｍ１塩スラリーを次に１５分間攪拌した。フラスコを次に、ロータリーエバポレーターに取り付け、水を、触媒が初期湿潤に達するまで減圧下に８０℃で除去した。触媒を次に、１１０℃に保持される真空オーブン中で一晩（１７ｈ）さらに乾燥させた。乾燥触媒を室温まで放冷し、次に３０ｍＬの脱イオン水で再び湿らせた。湿った担体を次に、５．３４ｇの溶解タングステン酸アンモニウム水和物Ｍ２塩を含有する追加の３００ｍＬの脱イオン水と混合してスラリーを形成した。スラリーを次に１５分間攪拌した。フラスコを次に、ロータリーエバポレーターに取り付け、水を、触媒が初期湿潤に達するまで減圧下に８０℃で除去した。触媒を次に、１１０℃に保持される真空オーブン中で一晩（１７ｈ）さらに乾燥させた。室温まで冷却した後、材料をセラミックボートに移し、４００℃で３時間空気中でか焼した。この触媒を使用して次の手順に従って１６ＨＤを含む反応混合物へと順々にいくつかの含酸素原料を水素化脱酸素した。

垂直の２１ｍｍ内径３１６ステンレス鋼固定床反応器に最初に２０．０４ｇのＮｉ／Ｗ（１：１）／Ａｅｒｏｌｙｓｔ ７７０８ ＴｉＯ_２触媒を装填し、触媒床の両側での約２０ｇの１ｍｍ不活性コランダム球によって適所に保持した。

反応器を、１５８ｓｃｃｍの流量を用いて１０００ｐｓｉまで窒素で加圧した。実験を、０．１５８ｍｌ分^−１の流量で反応器のトップでの入口に水中４．７質量％１２６ＨＴ供給物を導入することによってスタートさせた。同時に反応器加熱をスタートさせた。反応器が２３５℃に達するとすぐに、窒素供給を止め、水素供給を同時に１５８ｓｃｃｍの流量でスタートさせた。

実験の間ずっと液体生成物を１Ｌの冷やした生成物受器に集めた。９日オンストリーム後に、反応器温度を２５０℃に上げ、反応器圧力を１５００ｐｓｉに上げた。１０日オンストリーム後に１時間平均定常状態試料を、生成物受器を先ず流し出し、次にそれを１時間にわたって再び満たすことによって集めた。試料を次に生成物受器から流し出し、秤量し、ガスクロマトグラフィーによって分析した。すべての主要化合物を、分析標準を使用して同定し、定量した。１８．５４ｇ試料液は、０．０６９ｇの１２６ＨＴ（供給１２６ＨＴを基準として９２．１％転化率）および０．２２９ｇの１６ＨＤ（供給１２６ＨＴを基準として２９．５％モル収率）を含有した。

５７日オンストリーム後に、液体供給物を、０．１５８ｍＬ分^−１の流量での水中４．７質量％２−ヒドロキシメチルテトラヒドロピラン溶液に切り替えた。５８日オンストリーム後に１時間平均定常状態試料を集めた。１４．６７ｇの試料液は、０．５９５ｇの２−ヒドロキシメチルテトラヒドロピラン（供給２−ヒドロキシメチルテトラヒドロピランを基準として１４．７％転化率）および０．４３９ｇの１６ＨＤ（供給２−ヒドロキシメチルテトラヒドロピランを基準として６．２％モル収率）を含有した。

６５日オンストリーム後に、液体供給物を、０．１５８ｍＬ分^−１の流量での水中４．７質量％テトラヒドロフラン−２，５−ジメタノール溶液に切り替え、同時に反応温度を２４０℃に下げた。６６日オンストリーム後に１時間平均定常状態試料を集めた。１２．９５ｇの試料液は、０．３９２ｇのテトラヒドロフラン−２，５−ジメタノール（供給テトラヒドロフラン−２，５−ジメタノールを基準として３７．３％転化率）および０．０１９ｇの１６ＨＤ（供給テトラヒドロフラン−２，５−ジメタノールを基準として３．５％モル収率）を含有した。

実施例２５８
連続トリクルベッド反応器での１，６−ヘキサンジオールを含む反応混合物への１，２，６−ヘキサントリオールの変換
本実施例は、次の手順を用いてステンレス鋼（ＳＳ３１６）連続トリクルベッド反応器（ＩＤ＝０．４ｃｍ）で実施した。

反応器に、おおよそ１ｍＬの触媒を詰め込んだ。触媒をプレ還元しない場合には、次の手順をその場還元のために用いた：反応器を所望の還元温度（実施例を参照されたい）までフォーミング・ガス（Ｎ_２中の５％Ｈ_２）下に１℃／分の速度で加熱し、その温度でそれを所望のホールドアップ時間、典型的には２〜３時間保持した。プレ還元またはその場還元触媒を、種々の反応条件（温度、圧力、供給物濃度）下に多数の反応を行うために使用した。反応器温度をターゲット第１反応条件温度に調節し、フォーミング・ガスおよび水か水性基質溶液かのどちらかの下に一晩保持した。その後、第１反応条件が、ガス供給物を１００％Ｈ_２に、および液体供給物を所望の水性基質濃度に変更することによってスタートした。液容積供給量を、ｍＬ液供給物／ｍＬ触媒／ｈの単位で測定される、ターゲット液空間速度（ＬＨＳＶ）に相当するように調節した。特に明記しない限り、周囲条件で測定されるようなガス容積流量対液容積流量の比（ガス対オイル比、ＧＴＯ）は、４，０００の値に調節した。各反応条件での液体流出物試料は、最低限２４時間の連続運転後に採取した。液体試料を定量的ＧＣ分析によって分析した。

実施例２５８については、連続反応器に、Ｐｔ／ＴｉＯ_２のローディングが４質量％であり、ＷのローディングがＰｔ／Ｗの金属モル比＝１．０であるようなものであるようにＭ１＝ＰｔおよびＭ２＝Ｗを有するＰｔＷ／ＴｉＯ_２触媒を装入した。この触媒は、触媒調製法Ａに従って製造した。２．５質量％１，２，６−ヘキサントリオールの水溶液を液体供給物として使用した。液容積供給量は、０．５ｍＬ液体供給物／ｍＬ触媒／ｈに等しい液空間速度（ＬＨＳＶ）に相当した。２００℃での結果を表１４に示す。

実施例２５９
リサイクル条件下でＰｔＷ／ＴｉＯ_２触媒を使用する１６ＨＤを含む反応混合物への１２６ＨＴの変換
３０部１２６ＨＴ、５部脱イオン水、および６５部ｎ−ヘキサノールを含む供給液を目盛り付き容器へ入れた。

実施例２５９の第１パスについては、５．８４ｇの正味量の１２６ＨＴ（６．００ｇの９７％純度原材料）を含有する２０．０ｍＬのアリコートを、目盛り付き容器から、フリット試料ラインおよび磁気攪拌子を備えたステンレス鋼（ＳＳ３１６）圧力反応器へ移した。その後、約２．００ｇの４％ＰｔＷ／ＴｉＯ_２触媒（１：１Ｐｔ：Ｗ／Ａｅｒｏｌｙｓｔ ７７０８ ＴｉＯ_２）を圧力容器に加え、それを次に密封し、高圧ガス多岐管に連結し、窒素ガス（１０００ｐｓｉ）で３回パージした。約８００ｐｓｉの水素を次に加え、反応器を１６０℃に加熱し、次に圧力を水素で約１０００ｐｓｉに調節した。反応の進行は、２つの０．１００ｍＬ試料を採取することによって監視した。１０ｈ後に、反応器を２時間以内で室温まで放冷し、圧抜きした。反応生成物液をｎ−プロパノールおよび内部標準としての既知量のジエチレングリコールジエチルエーテルで希釈し、標準５ミクロン使い捨てフィルターを通して濾過した。残った触媒を、ｎ−ヘキサノールで洗浄し、反応器に戻した。約１００ｍｇのフレッシュ触媒を物理的損失を補うために追加した。濾液の試料をＧＣおよびＧＣ／ＭＳによって分析した；結果を表１５に示す。

本実施例の第２パスについては、反応器にフレッシュ供給液を再装入し、第２パスを第１パスについて上に記載されたように行った。

本実施例の第３パスについては、反応器にフレッシュ供給液を再装入し、第３パスを第１パスについて上に記載されたように行った。

本実施例の第４パスについては、反応器にフレッシュ供給液を再装入し、第４パスを第１パスについて上に記載されたようにスタートさせた。１０ｈの実験時間後に採取された試料のＧＣ分析は、前のパスの平均と比較するとき、より低い転化率を明らかにした。反応時間を１６０℃で２４ｈ、引き続き１８０℃で２４ｈに延ばし、その後反応器を室温まで放冷し、第１パスについて記載された濾過および分析手順に従った。

各パスからの濾過反応生成物についての結果を表１５に示す。

実施例２６０
連続トリクルベッド反応器での１，６−ヘキサンジオールを含む反応混合物へのテトラヒドロ−２，５−フランジメタノールの変換
本実施例は、次の手順を用いてステンレス鋼（ＳＳ３１６）連続トリクルベッド反応器（ＩＤ＝０．４ｃｍ）で実施した。

反応器に、触媒合成法Ａを用いて調製されたおおよそ１ｍＬの触媒を詰め込んだ。触媒を、その場還元のための次の手順を用いてプレ還元した：反応器を１５０℃までフォーミング・ガス（Ｎ_２中の５％Ｈ_２）下に１℃／分の速度で加熱し、その温度でそれを３時間保持した。その場還元触媒を、種々の反応条件（温度、圧力、供給物濃度）下に複数の反応を行うために使用した。反応器温度をターゲット第１反応条件温度に調節し、フォーミング・ガスおよび水か水性基質溶液かのどちらかの下に一晩保持した。その後、第１反応条件が、ガス供給物を１００％Ｈ_２に、および液体供給物を所望の水性基質濃度に変更することによってスタートした。液容積供給量を、ｍＬ液供給物／ｍＬ触媒／ｈの単位で測定される、ターゲット液空間速度（ＬＨＳＶ）に相当するように調節した。特に明記しない限り、周囲条件で測定されるようなガス容積流量対液容積流量の比（ガス対オイル比、ＧＴＯ）は、１，０００の値に調節した。各反応条件での液体流出物試料は、最低限２４時間の連続運転後に採取した。液体試料を定量的ＧＣ分析によって分析した。

実施例２６０については、連続反応器に、Ｐｔ／ＺｒＯ_２（Ｓａｉｎｔ−Ｇｏｂａｉｎ−ＮｏｒＰｒｏ ＳＺ３１１０７）のローディングが４質量％であり、Ｗのローディングが、Ｐｔ／Ｗの金属モル比＝１．０であるようなものであるようにＭ１＝ＰｔおよびＭ２＝Ｗを有する触媒を装入し；触媒は触媒調製法Ａに従って調製した。２．５質量％ＴＨＦｄＭの水溶液を液体供給物として使用した。液容積供給量は、０．５ｍＬ液体供給物／ｍＬ触媒／ｈに等しい液空間速度（ＬＨＳＶ）に相当した。一条件では、触媒は、１００バールおよび１４０℃で運転された。この条件で、観察された転化率は、５９％の１６ＨＤへのモル収率で９９モル％であった。

実施例２６１
連続トリクルベッド反応器での１，６−ヘキサンジオールを含む反応混合物への１，２，６−ＨＴの変換
実施例２６１は、５質量％Ｈ_２Ｏ、および残りが１−ヘキサノールの２．５質量％１２６ＨＴの溶液を液体供給物として使用し、温度が１２０℃であることを除いて実施例２８１について記載されるように実施した。この条件で、観察された転化率は、７１％の１６ＨＤへのモル収率で１００モル％であった。

実施例２６２〜２６９
Ｍ１Ｍ２／担体触媒と添加物との物理的混合物を使用する１６ＨＤへのＴＨＰＭの水素化脱酸素
これらの実施例は、表１６に示されるような５０ｍｇの添加物を添加すること、および１４０℃の温度、基質として５質量％２−ヒドロキシメチルテトラヒドロピラン（ＴＨＰＭ）の水溶液、および４質量％Ｐｔを含有する、およびＰｔ／Ｗ＝１を有するＰｔＷ／ＳｉＯ_２触媒を使用することを除いて実施例１〜１１の手順に従って行った。添加物は金属を含浸していなかった。結果を表１６に示す。

上の表は、所与のＭ１Ｍ２／担体触媒について、所与の温度での１６ＨＤへの収率が、添加物が触媒との物理的混合物として存在するときに増加したことを示す。ＰｔＷ／ＳｉＯ_２単独でのおよび追加の非含浸ＳｉＯ_２ありの実施例と比べて、ＰｔＷ／ＳｉＯ_２は、１４０℃でＴｉＯ_２の添加で１，６−ＨＤへの収率を増加させた（実施例２６７〜２６９）ことを示す。他の組み合わせが可能であり、ＴｉＯ_２に限定されない。

実施例２７０〜２７３
Ｍ１Ｍ２／担体触媒を使用する１，５−ペンタンジオールへのＴＨＦ−２−ＭｅＯＨの水素化脱酸素
実施例２７０〜２７３は、Ｍ１Ｍ２／担体触媒、１４０℃の温度、および１２６ＨＴの代わりにテトラヒドロフルフリルアルコールを使用することを除いて実施例１〜１１の手順に従って行った。結果を表１７に示す。

比較例Ａ〜Ｒ
比較例Ａ〜Ｒは、表１８に示される触媒および温度を使用することを除いて実施例１〜１１の手順に従って行った。Ｍ１Ｍ２／担体触媒は、触媒調製法Ａに従って調製した。Ｍ１／担体触媒はまた、第２金属の添加がまったくないこと除いて触媒調製法Ａに従って調製した。結果は、１６ＨＤが反応液中にまったく観察されなかったことを示す。

比較例Ｓ、Ｔ、およびＶ
比較例Ｓ、Ｔ、およびＶは、１８０℃、表１９に示される触媒、および１２６ＨＴの代わりに基質として２−ヒドロキシメチルテトラヒドロピランを使用することを除いて実施例８３〜１９０の手順に従って行った。これらの比較例で使用される触媒は、４質量パーセントＰｔを含有し、第２金属の添加がまったくないことを除いて触媒調製法Ａに従って調製した。結果は、比較例ＳおよびＴについては反応液中に１６ＨＤがまったく観察されず、比較例Ｖについては１６ＨＤへの選択性が非常に低かったことを示す。

Claims (20)

1. （ａ）Ｃ_ｎオキシジェネートを含む原料を提供する工程と；
   （ｂ）前記原料を、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを含む生成物混合物を形成するのに十分な温度でおよび時間、触媒の存在下で、水素ガスと接触させる工程であって；ｎが５以上であり；
   前記触媒が、金属Ｍ１および金属Ｍ２またはＭ２の酸化物、ならびに任意選択的に担体を含み、ここで：
   Ｍ１が、Ｐｄ、Ｐｔ、もしくはＩｒであり；Ｍ２が、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＣｏであるか；または
   Ｍ１がＲｈであり、Ｍ２が、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＺｒであるか；または
   Ｍ１が、Ａｇ、ＡｕもしくはＣｏであり；Ｍ２が、Ｒｅ、Ｍｏ、もしくはＷであるか；または
   Ｍ１が、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｆｅ、もしくはＮｉであり；Ｍ２が、Ｒｅ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、もしくはＷであるか；または
   Ｍ１が、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ、もしくはＡｕであり、Ｍ２が、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｓｎ、Ｇｅ、もしくはＩｒであるか；または
   Ｍ１がＣｏであり、Ｍ２がＦｅであるか；または
   Ｍ１がＮｉであり、Ｍ２が、ＣｏもしくはＦｅであるか；または
   Ｍ１がＭｎであり、Ｍ２がＣｒである
   工程と
   を含む、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールの製造方法。
2. ｎ＝５または６である、請求項１に記載の方法。
3. 前記任意選択の担体が、前記触媒中に存在し、ＷＯ_３、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、炭素、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３、モンモリロナイト、ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２、タングステン酸ＺｒＯ_２、ゼオライト、Ｖ_２Ｏ_５、ＭｏＯ_３、またはそれらの混合物を含む請求項１に記載の方法。
4. 前記Ｃ_ｎオキシジェネートが、１，２，６−ヘキサントリオール；１，２，５−ペンタントリオール；２Ｈ−テトラヒドロピラン−２−メタノール；テトラヒドロフラン−２，５−ジメタノール；フラン−２，５−ジメタノール；２，５−ジヒドロフラン−２，５−ジメタノール；レボグルコセノン；レボグルコサン；レボグルコセノール；１，６−アンヒドロ−３，４−ジデオキシ−ｐ−Ｄ−ピラノース−２−オン；イソソルビド；ヒドロキシメチルフルフラール；ソルビトール；グルコース；フルクトース；キシリトール；３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−カルバルデヒド；１，２，５，６−ヘキサンテトラオール；１，２，３，５，６−ヘキサンペントール；１，５−アンヒドロ−３，４−ジデオキシ−ヘキシトール；５−ヒドロキシ−２Ｈ−テトラヒドロピラン−２−メタノール；フルフラール；フルフリルアルコール；テトラヒドロフルフリルアルコール；ペントース；ペントースを含有する二量体；ペントースを含有するオリゴマー；ヘキソース；ヘキソースを含有する二量体；ヘキソースを含有するオリゴマー；５−（ヒドロキシメチル）−２−フルフラール（「ＨＭＦ」）とケトンおよび／またはアルデヒドとの反応からの縮合生成物、ならびにフルフラールとケトンおよび／またはアルデヒドとの反応からの縮合生成物を含む請求項１に記載の方法。
5. 前記Ｃ_ｎオキシジェネートが、１，２，６−ヘキサントリオール；２Ｈ−テトラヒドロピラン−２−メタノール；テトラヒドロフラン−２，５−ジメタノール；レボグルコセノン；３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−カルバルデヒド、またはそれらの混合物を含む、請求項４に記載の方法。
6. 前記Ｃ_ｎオキシジェネートが１，２，６−ヘキサントリオールを含む、請求項５に記載の方法。
7. 前記Ｃ_ｎオキシジェネートが、１，２，５−ペンタントリオール；フルフラール；フルフリルアルコール；テトラヒドロフルフリルアルコール；キシリトール；またはそれらの混合物を含む、請求項４に記載の方法。
8. Ｍ１が、Ｐｄ、Ｐｔ、もしくはＩｒであり；Ｍ２が、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＣｏであるか；または
   Ｍ１がＲｈであり、Ｍ２が、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＺｒであるか；または
   Ｍ１が、Ａｇ、ＡｕもしくはＣｏであり；Ｍ２が、Ｒｅ、Ｍｏ、もしくはＷであるか；または
   Ｍ１が、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｆｅ、もしくはＮｉであり；Ｍ２が、Ｒｅ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、もしくはＷであるか；または
   Ｍ１が、Ａｇ、Ｐｔ、Ｃｕ、もしくはＡｕであり、Ｍ２が、Ｎｉ、Ｆｅ、もしくはＩｒである、
   請求項１に記載の方法。
9. Ｍ１が、Ｐｄ、Ｐｔ、もしくはＩｒであり；Ｍ２が、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｚｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ａｕ、もしくはＣｏである、請求項１に記載の方法。
10. Ｍ１が、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｆｅ、もしくはＮｉであり；Ｍ２が、Ｒｅ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｒ、Ｇｅ、Ｓｎ、もしくはＷである、請求項１に記載の方法。
11. Ｍ１がＰｔであり、Ｍ２がＷであるか；またはＭ１がＮｉであり、Ｍ２がＷであるか；またはＭ１がＣｕであり、Ｍ２がＷであるか；またはＭ１がＣｕであり、Ｍ２がＦｅである、請求項１に記載の方法。
12. 前記担体が、ＴｉＯ_２、ゼオライト、またはそれらの混合物を含み、Ｍ１がＰｔであり、Ｍ２がＷである、請求項３に記載の方法。
13. 工程（ｂ）が、ＷＯ_３、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、炭素、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３、モンモリロナイト、ＳｉＯ_２−ＴｉＯ_２、タングステン酸ＺｒＯ_２、ゼオライト、Ｖ_２Ｏ_５、ＭｏＯ_３、またはそれらの混合物を含む添加物を加えることをさらに含む、請求項３に記載の方法。
14. （ｃ）任意選択的に、前記α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを前記生成物混合物から単離する工程と；
    （ｄ）前記α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを、α，ω−Ｃ_ｎ−ジアミノアルカンを含む第２生成物混合物を形成するのに十分な温度でおよび時間、還元的アミノ化触媒の存在下でアンモニアおよび水素と接触させる工程と；
    （ｅ）任意選択的に、前記α，ω−Ｃ_ｎ−ジアミノアルカンを前記第２生成物混合物から単離する工程と
    をさらに含む、請求項１に記載の方法。
15. 前記α，ω−Ｃ_ｎ−ジアミノアルカンが１，６−ジアミノヘキサンを含む、請求項１４に記載の方法。
16. （ａ）Ｃ_ｎオキシジェネートを含む原料を提供する工程と；
    （ｂ）前記原料を、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを含む生成物混合物を形成するのに十分な温度でおよび時間、触媒の存在下で、水素ガスと接触させる工程であって；ｎが５以上であり；前記触媒が、ＷＯ_３もしくはＷＯ_ｘ担体上にＰｔ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｕ、もしくはＦｅを含む工程と
    を含む、α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールの製造方法。
17. ｎ＝５または６である、請求項１６に記載の方法。
18. 前記Ｃ_ｎオキシジェネートが、１，２，６−ヘキサントリオール；１，２，５−ペンタントリオール；２Ｈ−テトラヒドロピラン−２−メタノール；テトラヒドロフラン−２，５−ジメタノール；フラン−２，５−ジメタノール；２，５−ジヒドロフラン−２，５−ジメタノール；レボグルコセノン；レボグルコサン；レボグルコセノール；１，６−アンヒドロ−３，４−ジデオキシ−ｐ−Ｄ−ピラノース−２−オン；イソソルビド；ヒドロキシメチルフルフラール；ソルビトール；グルコース；フルクトース；キシリトール；３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−カルバルデヒド；１，２，５，６−ヘキサンテトラオール；１，２，３，５，６−ヘキサンペントール；１，５−アンヒドロ−３，４−ジデオキシ−ヘキシトール；５−ヒドロキシ−２Ｈ−テトラヒドロピラン−２−メタノール；フルフラール；フルフリルアルコール；テトラヒドロフルフリルアルコール；ペントース；ペントースを含有する二量体；ペントースを含有するオリゴマー；ヘキソース；ヘキソースを含有する二量体；ヘキソースを含有するオリゴマー；５−（ヒドロキシメチル）−２−フルフラール（「ＨＭＦ」）とケトンおよび／またはアルデヒドとの反応からの縮合生成物、ならびにフルフラールとケトンおよび／またはアルデヒドとの反応からの縮合生成物を含む請求項１５に記載の方法。
19. （ｃ）任意選択的に、前記α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを前記生成物混合物から単離する工程と；
    （ｄ）前記α，ω−Ｃ_ｎ−ジオールを、α，ω−Ｃ_ｎ−ジアミノアルカンを含む第２生成物混合物を形成するのに十分な温度でおよび時間、還元的アミノ化触媒の存在下でアンモニアおよび水素と接触させる工程と；
    （ｅ）任意選択的に、前記α，ω−Ｃ_ｎ−ジアミノアルカンを前記第２生成物混合物から単離する工程と
    をさらに含む、請求項１６に記載の方法。
20. 前記α，ω−Ｃ_ｎ−ジアミノアルカンが１，６−ジアミノヘキサンを含む、請求項１９に記載の方法。