JP2015204237A5 - - Google Patents

Claims (6)

1. 複数の画素がマトリクス状に配置されたＴＦＴ基板と、
   前記ＴＦＴ基板上に形成された複数の画素電極と、
   前記複数の画素電極上に、隣接する前記画素同士の間を区分するように設けられた、前記画素電極の一部を露出させる画素分離膜と、
   露出した前記画素電極上を覆う発光層と、
   前記発光層上と前記画素分離膜上を覆う対向電極と、
   前記対向電極上において、露出した前記画素電極にそれぞれが対応する領域である複数の凹領域と前記画素分離膜上の領域である凸領域とを覆う封止絶縁膜と、
   前記封止絶縁膜上において、前記複数の凹領域をそれぞれ埋め込むように形成された複数の着色膜と、
   を備え、
   前記着色膜は、平面視で前記画素電極を完全に覆うように設けられ、
   隣接する前記着色膜の間隔は、隣接する前記画素電極の間隔よりも小さいことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
2. 請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
   前記封止絶縁膜が無機材料からなることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
3. 請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置であって、
   前記封止絶縁膜が有機材料からなる膜と無機材料からなる膜の多層構造であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
4. 複数の画素がマトリクス状に配置されたＴＦＴ基板上に複数の画素電極を形成する工程と、
   前記複数の画素電極上に、前記画素電極の一部を露出するように、隣接する前記画素同士の間を区分する画素分離膜を形成する工程と、
   露出した前記画素電極上を覆うように発光層を形成する工程と、
   前記発光層上と前記画素分離膜上を覆うように対向電極を形成する工程と、
   前記対向電極上に、露出した前記画素電極にそれぞれが対応する領域である複数の凹領域と前記画素分離膜上の領域である凸領域とを覆うように封止絶縁膜を形成する工程と、
   前記封止絶縁膜上に、前記複数の凹領域をそれぞれ埋め込むように複数の着色膜を形成する工程と、
   を備え、
   前記着色膜は、平面視で前記画素電極を完全に覆うように形成され、
   隣接する前記着色膜の間隔は、隣接する前記画素電極の間隔よりも小さくなるように形成されることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
5. 請求項４に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、
   前記着色膜を、印刷法により前記凹領域に埋め込むことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
6. 請求項５に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法であって、
   前記印刷法が、フレキソ印刷法であることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。