JP2015169396A - 熱処理用の支持部材、熱処理用の支持装置、熱処理装置、および、被処理物の配置方法 - Google Patents

Abstract

【課題】複数の被処理物が配置されている空間における雰囲気の分布をより均一にすることのできる、熱処理用の支持部材、熱処理用の支持装置、熱処理装置、および、被処理物の配置方法を提供する。【解決手段】熱処理装置の支持部材１０２は、加熱された雰囲気下で発生する気流中において熱処理される複数の被処理物１００を支持する。支持部材１０２は、配列方向Ｙ２に並ぶ複数の支持部１０８を有する。各支持部１０８は、対応する被処理物１００を支持可能に構成されている。配列方向Ｙ２に関する複数の支持部１０８の配置ピッチＰは、気流中での支持部１０８の位置に応じて異なるように設定されている。【選択図】図６

Description

本発明は、加熱された雰囲気下で被処理物を処理するための、熱処理用の支持部材、熱処理用の支持装置、熱処理装置、および、被処理物の配置方法に関する。

ガラス基板等の材料に熱処理を行うための、熱処理装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。熱処理装置の一例として、特許文献１に記載の真空炉は、材料が配置される処理室を有している。処理室の外側には、モータが配置されている。このモータの回転軸は、筒状の回転軸とねじ結合している。具体的には、モータの回転軸は、雄ねじ部を有している。また、筒状の回転軸は、雄ねじ部にねじ結合する雌ねじ部を有している。更に、これら雄ねじ部及び雌ねじ部を、雄ねじ部の径方向に貫通するピンが設けられている。このピンが存在することにより、モータの回転軸の雄ねじ部と、筒状の回転軸の雌ねじ部との間で緩みが生じることを防止している。

筒状の回転軸は、処理室を貫通しており、処理室内に延びている。処理室内において、筒状の回転軸には、ファンが固定されている。ファンの回転は、処理室内で加熱されるガスを、撹拌する。これにより、処理室内のガスの温度分布が、より均一となる。

実開平６−８４２９９号公報（[０００８]〜［００１０］）

熱処理装置では、多数の部品が一括して熱処理されることがある。例えば、平板状の基板を多数、熱処理装置内に配置し、これらの基板の表面に熱処理が施されることがある。この場合、熱処理装置の熱処理容器内に多数の部品が配置されている結果、熱処理容器内における気流の通路が部分的に狭くなっている。このため、熱処理容器内の雰囲気は、ファンによって撹拌されるけれども、ファンによって生じた気流に偏りが生じ、多数の部品間に配置されている部品の周囲に十分な気流が生じ難くなる。その結果、熱処理容器内の部品間の周囲で、温度分布、および、ガス濃度分布に偏りが生じる。特に、熱処理容器内の雰囲気を常温から加熱する際において、部品間での温度分布の偏りが大きくなる。部品の均一な熱処理を実現する上で、このような、温度分布の偏り、および、ガス濃度分布の偏りは、より少ないほうが好ましい。

本発明は、上記事情に鑑みることにより、複数の被処理物が配置されている空間における雰囲気の分布をより均一にすることのできる、熱処理用の支持部材、熱処理用の支持装置、熱処理装置、および、被処理物の配置方法を提供することを目的とする。

（１）上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わる熱処理用の支持部材は、加熱された雰囲気下で発生する気流中において熱処理される複数の被処理物を支持するための支持部材であって、前記支持部材は、所定の配列方向に並ぶ複数の支持部を備え、各前記支持部は、対応する前記被処理物を支持可能に構成され、前記配列方向に関する複数の前記支持部の配置ピッチは、前記気流中での前記支持部の位置に応じて異なるように設定されている。

なお、上記の「配置ピッチ」とは、支持部の所定の基準位置間の間隔をいい、一例として、配列方向における支持部の中心部間の間隔を例示することができる。

この構成によると、配列方向に関する複数の支持部の配置ピッチは、気流中での支持部の位置に応じて異なるように設定されている。これにより、複数の被処理物間の周囲において、気流をより偏りなく分布させることができる。その結果、複数の被処理物が配置されている空間における雰囲気の分布をより均一にすることができる。よって、複数の被処理物の熱処理を、より均等に行うことができる。

（２）好ましくは、前記支持部材は、前記被処理物を収容するための収納容器内において、前記収納容器の壁部に向かうように生じた前記気流中に配置されるように構成されており、前記配置ピッチは、第１配置ピッチと、前記第１配置ピッチの値よりも小さい値に設定された第２配置ピッチとを含み、前記第２配置ピッチで隣接して配置された２つの前記支持部は、前記第１配置ピッチで隣接して配置された２つの前記支持部と比べて、前記収納容器の近くに配置可能に構成されている。

この構成によると、収納容器内においては、収納容器の壁部に近い位置では、気流の速度が高く、収容容器の壁部に遠い位置では、気流の速度が低くなる傾向にある。このような気流の分布となる収納容器内において、収納容器の壁部に比較的近い位置に配置された支持部間のピッチは、狭い第２配置ピッチに設定されている。これにより、比較的高い流速の気流に曝される被処理物間への過度の気流の侵入が抑制される。一方、収納容器の壁部から比較的遠い位置に配置された支持部間のピッチは、広い第１配置ピッチに設定されている。これにより、比較的低い流速の気流に曝される被処理物間へ、十分な量の雰囲気を導くことができる。その結果、収納容器内での処理ガス等の雰囲気の分布をより均等にすることができる。

（３）好ましくは、前記支持部材は、前記被処理物を収容するための収納容器内において、前記収納容器の壁部に向かうように生じた前記気流中に配置されるように構成されており、前記配置ピッチは、第１配置ピッチと、前記第１配置ピッチの値よりも小さい値に設定された第２配置ピッチとを含み、前記第１配置ピッチで隣接して配置された２つの前記支持部は、前記配列方向における前記支持部材の中央部寄りに配置され、前記第２配置ピッチで隣接して配置された２つの前記支持部は、前記配列方向における前記支持部材の端部寄りに配置されている。

この構成によると、収納容器内においては、収納容器の壁部に近い位置では、気流の速度が高く、収容容器の壁部に遠い位置では、気流の速度が低くなる傾向にある。このような気流の分布となる収納容器内において、収納容器の壁部に比較的近い位置に配置された支持部間のピッチは、狭い第２配置ピッチに設定されている。これにより、比較的高い流速の気流に曝される被処理物間への過度の気流の侵入が抑制される。一方、収納容器の壁部から比較的遠い位置に配置された支持部間のピッチは、広い第１配置ピッチに設定されている。これにより、比較的低い流速の気流に曝される被処理物間へ、十分な量の雰囲気を導くことができる。その結果、収納容器内での処理ガス等の雰囲気の分布をより均等にすることができる。

（４）上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わる熱処理用の支持装置は、前記支持部材と、前記支持部材を支持するベース部と、を備え、前記支持部材は、前記ベース部に着脱可能に構成されている。

この構成によると、支持部材は、ベース部に対して着脱可能である。これにより、被処理物の形状、数、レイアウト等に応じて、最適な支持部材をベース部に取り付けることが可能となる。これにより、支持装置の汎用性を、より高くできる。

（５）より好ましくは、前記支持部材は、前記配列方向に延びる長尺形状に形成されており、前記支持部材は、前記配列方向と直交する方向に離隔して複数配置されている。

この構成によると、被処理物が配列方向と直交する方向に長い形状であっても、支持部材は、被処理物を、より確実に安定した姿勢で保持することができる。

（６）上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わる熱処理装置は、被処理物を収容するための収納容器と、前記収納容器内の雰囲気を加熱するための加熱部と、前記収納容器内に気流を発生させる気流発生部材と、前記収納容器内に配置された、前記支持部材と、を備えている。

この構成によると、配列方向に関する複数の支持部の配置ピッチは、気流中での支持部の位置に応じて異なるように設定されている。これにより、複数の被処理物間の周囲において、気流をより偏りなく分布させることができる。その結果、複数の被処理物が配置されている空間における雰囲気の分布をより均一にすることができる。よって、複数の被処理物の熱処理を、より均等に行うことができる。

（７）好ましくは、前記気流発生部材は、前記支持部材と対向するように配置されており、前記配列方向は、前記気流発生部材と前記支持部材とが対向する方向と交差する方向である。

この構成によると、例えば、気流発生部材からの気流が、収納容器内を循環するような流れである場合において、気流発生部材から遠ざかる方向への気流、および、気流発生部材に戻る気流の何れか一方は、配置ピッチの小さい被処理物の周囲に、より多く分布する。また、気流発生部材から遠ざかる方向への気流、および、気流発生部材に戻る気流の他方は、配置ピッチの大きい被処理物の周囲に、より多く分布する。これにより、各被処理物へ、より均等に気流を供給することができる。その結果、各被処理物を、より均等に熱処理できる。

（８）上記課題を解決するために、この発明のある局面に係わる被処理物の配置方法は、加熱された雰囲気下で発生する気流中において熱処理される複数の被処理物の配置方法であって、複数の前記被処理物は、所定の配列方向に並ぶように配置され、前記配列方向に関する複数の前記被処理物の配置ピッチは、前記気流中での前記被処理物の位置に応じて異なるように設定されている。

この構成によると、配列方向に関する複数の被処理部の配置ピッチは、気流中での被処理部の位置に応じて異なるように設定されている。これにより、複数の被処理物間の周囲において、気流をより偏りなく分布させることができる。その結果、複数の被処理物が配置されている空間における雰囲気の分布をより均一にすることができる。よって、複数の被処理物の熱処理を、より均等に行うことができる。

本発明によると、複数の被処理物が配置されている空間における雰囲気の分布をより均一にすることができる。

本発明の実施形態に係る熱処理装置の一部を切断した状態を示す断面図であり、熱処理装置を側方から見た状態を示している。 熱処理装置の一部を切断した状態を示す断面図であり、熱処理装置を斜めから見た状態を示している。 図１の閉塞装置の周辺の拡大図である。 冷却装置の周辺の拡大図である。 図４のＩＶ−ＩＶ線に沿う断面図である。 図１の矢印ＶＩ方向から見た主要部の模式的な図である。 図６の主要部の拡大図である。 支持装置の支持部材の斜視図である。

以下、本発明を実施するための形態について図面を参照しつつ説明する。尚、本発明は、被処理物を熱処理するための熱処理装置として広く適用することができる。

［熱処理装置の概略構成］
図１は、本発明の実施形態に係る熱処理装置１の一部を切断した状態を示す断面図であり、熱処理装置１を側方から見た状態を示している。図２は、熱処理装置１の一部を切断した状態を示す断面図であり、熱処理装置を斜めから見た状態を示している。図２では、熱処理装置１の一部を省略して示している。

図１及び図２を参照して、熱処理装置１は、被処理物１００の表面に熱処理を施すことが可能に構成されている。この熱処理として、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）処理、拡散処理、アニール処理、太陽電池の製造処理、半導体デバイスの製造処理等を例示することができる。本実施形態では、被処理物１００は、ガラス基板である。被処理物１００は、例えば、矩形状に形成されている。熱処理装置１は、被処理物１００を、反応性ガスの雰囲気下で熱処理することにより、被処理物１００の表面に、薄膜を形成する。また、熱処理装置１は、横型熱処理装置である。被処理物１００は、熱処理装置１に対して出し入れされる際に、水平方向に変位される。

熱処理装置１は、チューブ（収納容器）２と、ヒータ３と、閉塞装置４と、遮熱部５と、ファン装置６と、保護筒（保護部材）７と、を備えている。

チューブ２は、被処理物１００を収納するために設けられている。また、チューブ２は、チューブ２内に収納された被処理物１００を、加熱された雰囲気下で熱処理するために設けられている。本実施形態では、チューブ２は、石英を用いて形成されている。チューブ２は、中空に形成されている。チューブ２の厚みは、数十ｍｍ程度に設定されている。

チューブ２は、チューブ本体８と、閉塞部９と、を有している。

チューブ本体８は、円筒状に形成されており、細長く延びている。チューブ本体８の長手方向Ｌ１を、以下、「長手方向Ｌ１」という場合がある。チューブ本体８の下部は、支持台（図示せず）によって、支持されている。チューブ本体８の一端部は、開口部１１を有している。開口部１１は、被処理物１００を通過させることが可能な大きさに形成されている。被処理物１００は、開口部１１を通して、チューブ２に出し入れされる。チューブ本体８の下部上に、被処理物１００が配置される。被処理物１００は、例えば、支持台１２に乗せられた状態で、チューブ本体８の外側から、開口部１１を通して、チューブ本体８内に挿入される。支持台１２において、被処理物１００は、垂直方向に延びた状態で、複数配置されている。チューブ本体８の他端は、閉塞部９と連続している。閉塞部９は、長手方向Ｌ１に沿ってチューブ本体８から遠ざかる方向に向けて、膨らんだ形状に形成されている。閉塞部９は、チューブ本体８の他端を塞いでいる。上記の構成を有するチューブ２は、ヒータ３によって加熱される。

ヒータ３は、チューブ２内の雰囲気を加熱するために設けられている。ヒータ３は、例えば、電熱ヒータである。ヒータ３は、全体として、中空の箱形形状に形成されており、チューブ２の大部分を収納している。ヒータ３は、支持台（図示せず）によって支持されている。ヒータ３は、チューブ２内の雰囲気を、数百度程度に加熱することが可能である。

ヒータ３は、上部ヒータ１３と、下部ヒータ１４と、端部ヒータ１５と、側部ヒータ１６と、を有している。

上部ヒータ１３は、チューブ本体８の上方に配置されており、水平に延びている。平面視において、上部ヒータ１３は、矩形に形成されている。平面視において、上部ヒータ１３は、チューブ２のうち、開口部１１の周辺部分以外の部分を、覆っている。上部ヒータ１３の下方に、下部ヒータ１４が配置されている。

下部ヒータ１４は、チューブ本体８の下方に配置されており、水平に延びている。底面視において、下部ヒータ１４は、矩形に形成されている。底面視において、下部ヒータ１４は、チューブ２のうち、開口部１１の周辺部分以外の部分を、覆っている。下部ヒータ１４に隣接するように、端部ヒータ１５が配置されている。

端部ヒータ１５は、チューブ２の閉塞部９と長手方向Ｌ１に並んで配置されており、垂直に延びている。端部ヒータ１５は、略矩形に形成されている。端部ヒータ１５は、チューブ２の閉塞部９を、チューブ２の後方から覆っている。端部ヒータ１５に隣接するように、側部ヒータ１６が配置されている。

側部ヒータ１６は、チューブ２のチューブ本体８及び閉塞部９に隣接して配置されており、垂直に延びている。側部ヒータ１６は、略矩形に形成されており、長手方向Ｌ１と平行な方向に延びている。図示していないけれども、側部ヒータ１６と同様の側部ヒータが、チューブ２に隣接して配置されている。これら一対の側部ヒータの間に、チューブ２が配置されている。前述したように、上記の構成を有するヒータ３によって、チューブ２内の雰囲気が、加熱される。チューブ２内の雰囲気が加熱されている間、チューブ２の開口部１１は、閉塞装置４によって閉塞されている。

図３は、図１の閉塞装置４の周辺の拡大図である。図３を参照して、閉塞装置４は、冷却部材１９と、ドア装置２０と、第１シール部材２１と、第２シール部材２２を有するシール装置２３と、を含んでいる。

図４は、冷却部材１９の周辺の拡大図である。図４を参照して、冷却部材１９は、第１シール部材２１、及び第２シール部材２２を冷却するために設けられている。冷却部材１９が設けられていることにより、第１シール部材２１、及び第２シール部材２２は、ヒータ３からの熱による過熱を抑制される。その結果、第１シール部材２１、及び第２シール部材２２の劣化を抑制できる。冷却部材１９は、チューブ２の開口部１１に隣接して配置されている。冷却部材１９は、長手方向Ｌ１において、チューブ２と、ドア装置２０との間に配置されている。冷却部材１９は、２つの円筒部材を組み合わせた形状を有しており、チューブ２とは、略同軸に配置されている。冷却部材１９は、金属材料を用いて形成されている。この金属材料は、例えば、ステンレス材である。

冷却部材１９は、内筒２４と、外筒２５と、第１フランジ２６と、第２フランジ２７と、冷却水路２８と、を有している。

内筒２４は、円筒状に形成されている。本実施形態では、内筒２４の内径、即ち、内筒２４の内周面の直径は、チューブ本体８の内径よりも小さく設定されている。内筒２４を取り囲むようにして、外筒２５が配置されている。

外筒２５は、円筒状に形成されており、内筒２４と、同軸に配置されている。長手方向Ｌ１において、外筒２５の位置と、内筒２４の位置とは、揃えられている。外筒２５は、支持部材２９（図１参照）に固定されている。これにより、冷却部材１９は、支持部材２９によって、支持されている。外筒２５の一端部２５ａ、及び内筒２４の一端部２４ａは、第１フランジ２６に固定されている。

第１フランジ２６は、ドア装置２０の後述するドア３６と接触する部分として設けられている。第１フランジ２６は、環状に形成されており、内筒２４及び外筒２５と同軸に配置されている。第１フランジ２６は、溶接等によって、内筒２４及び外筒２５に固定されている。これにより、第１フランジ２６は、内筒２４の一端部２４ａと、外筒２５の一端部２５ａとの間の空間を、長手方向Ｌ１の一方側から塞いでいる。第１フランジ２６のうち、ドア装置２０に対向する部分には、環状の溝２６ａが形成されている。この溝２６ａは、第１フランジ２６の外周面に開放されている。この溝２６ａには、環状のプレート３０が収容されている。プレート３０は、固定部材としてのねじ部材３１を用いて、第１フランジ２６に固定されている。プレート３０に隣接して、第１シール部材２１が配置されている。

第１シール部材２１は、ドア装置２０のドア３６と、冷却部材１９との間を、気密的にシールするために設けられている。本実施形態では、第１シール部材２１は、合成ゴム等を用いて形成されたＯリングであり、弾性及び可撓性を有している。第１シール部材２１は、環状に形成されている。第１シール部材２１は、第１フランジ２６の溝２６ａに嵌められており、当該第１フランジ２６と、プレート３０との間に位置している。これにより、第１シール部材２１は、第１フランジ２６に保持されている。第１フランジ２６と長手方向Ｌ１に離隔した位置に、第２フランジ２７が配置されている。

第２フランジ２７は、チューブ２に隣接する部分として設けられている。第２フランジ２７は、環状に形成されており、内筒２４及び外筒２５と同軸に配置されている。第２フランジ２７は、一端面２７ａと、他端面２７ｂと、溝部２７ｃと、を有している。

一端面２７ａは、溶接等によって、内筒２４及び外筒２５に固定されている。これにより、第２フランジ２７は、内筒２４の他端部２４ｂと、外筒２５の他端部２５ｂとの間の空間を、長手方向Ｌ１の他方側から塞いでいる。第２フランジ２７の一部は、チューブ２に対して、冷却部材１９の径方向の外方に突出するように配置されている。即ち、第２フランジ２７の外径は、チューブ本体８の外径よりも大きい。第２フランジ２７のうち、チューブ２に対向する他端面２７ｂには、環状の溝２７ｃが形成されている。この溝２７ｃは、第２フランジ２７の内周部に形成されている。この溝２７ｃには、受け部材３２が配置されている。

図５は、図４のＶ−Ｖ線に沿う断面図である。図４及び図５を参照して、受け部材３２は、第２フランジ２７と、チューブ２との間に介在する部材として設けられている。これにより、第２フランジ２７と、チューブ２とが直接接触することを防止している。受け部材３２は、複数設けられている。複数の受け部材３２は、第２フランジ２７の周方向に等間隔に配置されている。隣り合う受け部材３２，３２間には、隙間ＣＬ１が形成されている。各受け部材３２の表面は、摩擦抵抗を低減するための材料によって形成されている。このような材料として、ＰＴＦＥ（PolyTetraFluoroEthylene）等のフッ素樹脂材料を例示することができる。

各受け部材３２は、厚みが数ｍｍ程度の板部材を用いて形成された、円弧状の部材である。尚、図５では、複数の受け部材３２のうちの、一部の受け部材３２を図示している。各受け部材３２は、固定部材としてのねじ部材３３を用いて、溝２７ｃに固定されている。各受け部材３２は、第２フランジ２７からチューブ２に向かって突出しており、チューブ本体８の一端面８ａに接触している。図４を参照して、第２フランジ２７、第１フランジ２６、内筒２４及び外筒２５によって、冷却水路２８が形成されている。

冷却水路２８は、円筒状の水路として設けられている。冷却水路２８は、図示しない熱交換器と接続されている。冷却水路２８は、この熱交換機で冷却された冷却水が通過するように構成されている。これにより、冷却水路２８に隣接して配置された第１シール部材２１、及び第２シール部材２２が、冷却される。

第２シール部材２２を有するシール装置２３は、チューブ２と、冷却部材１９との間をシールするために設けられている。シール装置２３は、チューブ２の開口部１１を取り囲むように配置されている。シール装置２３は、第２シール部材２２と、シール保持部材３５と、を有している。

第２シール部材２２は、冷却部材１９と、チューブ２との間を、気密的にシールするために設けられている。本実施形態では、第２シール部材２２は、第１シール部材２１と同様の構成を有している。即ち、第２シール部材２２は、合成ゴム等を用いて形成されたＯリングであり、弾性及び可撓性を有している。第２シール部材２２は、環状に形成されている。第２シール部材２２は、チューブ本体８の開口部１１の外周面に嵌められている。第２シール部材２２は、チューブ本体８の一端面８ａに隣接して配置されている。また、第２シール部材２２は、第２フランジ２７の他端面２７ｂに接触している。これにより、第２シール部材２２は、チューブ本体８の開口部１１と、第２フランジ２７との間の空間を、チューブ本体８の外側から塞いでいる。第２シール部材２２は、シール保持部材３５によって、保持されている。

シール保持部材３５は、円環状に形成されており、第２フランジ２７に固定されている。シール保持部材３５の内周部は、第２シール部材２２を、チューブ本体８側へ加圧している。上記の構成を有するシール装置２３とは長手方向Ｌ１に離隔した位置に、ドア装置２０が配置されている。

図１及び図３を参照して、ドア装置２０は、ドア３６と、ドア支持装置３７と、を有している。

ドア３６は、冷却部材１９の第１フランジ２６の内側空間を長手方向Ｌ１の一方側から塞ぐために設けられている。換言すれば、ドア３６は、チューブ２の開口部１１を、長手方向Ｌ１の一方側から塞ぐために設けられている。ドア３６は、例えば、金属板を用いて形成されている。本実施形態では、ドア３６は、円板状に形成されている。ドア３６の外周部３６ａは、冷却部材１９の第１フランジ２６に接触可能に構成されている。ドア３６の外周部３６ａが第１フランジ２６に接触した場合、ドア３６と、第１フランジ２６との間は、第１シール部材２１によって、気密的にシールされる。このドア３６は、ドア支持装置３７によって支持されている。ドア支持装置３７は、ドア３６を変位可能に支持するために設けられている。

ドア支持装置３７は、支柱３８と、駆動装置３９と、を有している。

支柱３８は、上下方向Ｚ１（鉛直方向）に延びる部材として設けられている。支柱３８は、ドア３６に固定されている。支柱３８は、駆動装置３９に接続されている。

駆動装置３９は、支柱３８及びドア３６を変位させるために設けられている。駆動装置３９は、支柱３８を、長手方向Ｌ１に変位可能に構成されている。また、駆動装置３９は、支柱３８を、長手方向Ｌ１と直交する方向に変位可能に構成されている。これにより、駆動装置３９は、第１フランジ２６で囲まれた空間を開放するように、ドア３６を変位させることができる。即ち、駆動装置３９は、ドア３６を、開閉することができる。ドア３６が開いた状態で、被処理物１００を、チューブ２に対して出し入れすることができる。ドア３６は、遮熱部５を保持している。

遮熱部５は、ヒータ３からの熱が、第２シール部材２２、冷却部材１９、第１シール部材２１、及びドア３６等に伝わることを抑制するために設けられている。遮熱部５は、チューブ２の開口部１１の周辺に配置されている。

図３を参照して、遮熱部５は、ステー４１，４２と、遮熱部材４３と、を有している。

ステー４１，４２は、遮熱部材４３を支持するために設けられている。各ステー４１，４２は、ドア３６に固定されており、ドア３６から、長手方向Ｌ１に沿って、チューブ２側に延びている。各ステー４１，４２は、長手方向Ｌ１に並ぶ複数の凹部４４を有している。凹部４４は、上方に向けて開放されており、遮熱部材４３を嵌めることが可能である。

遮熱部材４３は、熱バリアを形成するために設けられている。遮熱部材４３は、１又は複数設けられている。本実施形態では、遮熱部材４３は、７つ設けられている。各遮熱部材４３は、円板状に形成されている。複数の遮熱部材４３が、長手方向Ｌ１に離隔して配置されている。各遮熱部材４３には、複数の貫通孔が形成されている。これらの貫通孔に、対応するステー４１，４２が挿入されている。また、これらの貫通孔の周縁部は、凹部４４に嵌められている。これにより、各遮熱部材４３は、長手方向Ｌ１に位置決めされている。各遮熱部材４３は、凹部４４に取り外し可能に嵌合されている。これにより、長手方向Ｌ１における各遮熱部材４３の位置を、容易に変更できる。また、ステー４１，４２に取り付けられる遮熱部材４３の数を、容易に変更することができる。その結果、遮熱部５が熱を遮断する度合いを、容易に調整できる。遮熱部５には、サブヒータ４５が配置されている。サブヒータ４５は、発熱体を有しており、チューブ２内の雰囲気を加熱可能に構成されている。

サブヒータ４５は、一対の第１部分４５ａ，４５ａと、第２部分４５ｂと、を有している。

各第１部分４５ａ，４５ａは、長手方向Ｌ１に沿って延びる部分として設けられている。各第１部分４５ａ，４５ａは、ドア３６に形成された貫通孔を貫通し、且つ、各遮熱部材４３に形成された貫通孔を貫通している。各第１部分４５ａ，４５ａの先端部に、第２部分４５ｂが接続されている。第２部分４５ｂは、上下方向Ｚ１に延びている。第２部分４５ｂは、各遮熱部材４３に対して、チューブ２の奥側（長手方向Ｌ１の一方側）に配置されている。第２部分４５ｂは、発熱体を有している。第２部分４５ｂの発熱体は、例えば、ファン装置６の周辺の温度が所定値未満である場合に、発熱するように構成されている。上記の構成を有するサブヒータ４５、及び遮熱部５に隣接した位置に、ファン装置６が配置されている。

ファン装置６は、ドア３６に支持されており、ドア３６とともに変位可能である。ファン装置６は、チューブ２内に気流Ａ１を生じさせるために設けられている。

ファン装置６は、電動モータ（動力源）４６と、伝動装置４７と、シャフトユニット４８と、ファン４９と、軸受ユニット５０と、を有している。

電動モータ４６は、例えば、支柱３８に支持されている。電動モータ４６の出力は、伝動装置４７を介して、シャフトユニット４８に伝達される。

伝動装置４７は、例えば、プーリ機構である。伝動装置４７は、第１プーリ５１と、第２プーリ５２と、ベルト５３と、を有している。第１プーリ５１は、電動モータ４６の出力軸に一体回転可能に連結されている。第２プーリ５２は、シャフトユニット４８に一体回転可能に連結されている。ベルト５３は、第１プーリ５１と、第２プーリ５２と、に巻き掛けられている。

シャフトユニット４８は、ファン４９の回転軸として設けられており、回転軸線Ｓ１を有している。回転軸線Ｓ１は、シャフトユニット４８の中心軸線でもある。シャフトユニット４８は、ファン４９に連結されており、電動モータ４６からの出力を、ファン４９に伝達する。シャフトユニット４８は、ドア３６に形成された貫通孔３６ｂを貫通しており、ドア３６の外側から、チューブ２内に向けて延びている。シャフトユニット４８の一端部４８ａに、第２プーリ５２が固定されている。シャフトユニット４８は、各遮熱部材４３に形成された貫通孔４３ａを貫通している。シャフトユニット４８の他端部４８ｂには、ファン４９が同軸に連結されている。

ファン４９は、気流Ａ１を発生することにより、チューブ２内のガスを撹拌するように構成されている。これにより、チューブ２内の各種ガスの濃度分布が、より均等になり、且つ、チューブ２内の温度が、より均等になる。ファン４９は、チューブ２内に配置されており、回転軸線Ｓ１を中心として、回転可能である。ファン４９とドア３６との間に各遮熱部材４３が配置されるように、ファン４９は配置されている。

ファン４９は、ボス部５４と、複数の羽根５５と、を有している。

ボス部５４は、筒状に形成されており、シャフトユニット４８の他端部４８ｂに嵌合している。複数の羽根５５は、ボス部５４の外周部に固定されており、ボス部５４から放射状に延びている。上記の構成により、ファン４９が回転すると、当該ファン４９から当該ファン４９の径方向外方に向かう気流Ａ１が、発生する。ファン４９を回転させるためのシャフトユニット４８は、軸受ユニット５０によって、回転可能に支持されている。軸受ユニット５０は、ドア３６の外側に配置されている。即ち、軸受ユニット５０は、ドア３６の一端面３６ｃ側に配置されている。

軸受ユニット５０は、ケーシング５６と、フランジ部５７と、を有している。

ケーシング５６は、円筒状に形成されている。ケーシング５６は、シャフトユニット４８によって貫通されている。ケーシング５６内には、軸受（図示せず）が配置されている。この軸受は、シャフトユニット４８を回転可能に支持している。ケーシング５６の一端部には、フランジ部５７が固定されている。

フランジ部５７は、固定部材としてのねじ部材５８によって、座部５９に固定されている。座部５９は、ドア３６の一端面３６ｃに固定された、筒状の部材である。座部５９は、シャフトユニット４８によって、貫通されている。

図３及び図４を参照して、上記の構成を有するファン装置６において、ファン４９は、ファン４９の径方向外方に向かう気流Ａ１を発生する。この気流Ａ１における気体は、ヒータ３によって加熱されており、高温である。このため、気流Ａ１からの熱は、第２シール部材２２にできるだけ伝わらないことが好ましい。また、気流Ａ１における気体中には、チューブ２内での化学反応等で生じた微粉末が存在している。この微粉末が、気流Ａ１に乗って、チューブ２に強い勢いで衝突することは、抑制されていることが好ましい。そこで、熱処理装置１には、保護筒７が設置されている。

保護筒７は、ファン４９で生じた気流Ａ１からの熱が、第２シール部材２２に伝わることを抑制するために設けられている。また、保護筒７は、気流Ａ１が、チューブ２に勢いよく当てられることを抑制するために設けられている。

保護筒７は、全体として、円筒状に形成されている。保護筒７は、数ｍｍの厚みを有する、薄板部材である。保護筒７は、チューブ２の開口部１１の周辺に配置されており、チューブ２の長手方向Ｌ１と平行に延びている。保護筒７の一端部７ａは、冷却部材１９の第１フランジ２６の内周部に、固定部材としてのねじ部材６３を用いて固定されている。保護筒７の中間部７ｂは、冷却部材１９の第２フランジ２７の内周部に、固定部材としてのねじ部材６４を用いて固定されている。保護筒７の他端部７ｃは、チューブ２内に配置されており、且つ、チューブ本体８とは離隔して配置されている。

保護筒７は、ガス供給口６１と、排気口６２と、を有している。ガス供給口６１は、ガス供給管（図示せず）に接続されており、被処理物１００の熱処理に用いられるガスをチューブ２内へ供給することが可能である。ガス供給管は、冷却部材１９を貫通するように延びている。排気口６２は、排気管（図示せず）に接続されており、チューブ２内の気体を吸引するように構成されている。尚、排気管は、冷却部材１９を貫通するように延びており、真空ポンプ等の吸引装置に接続されている。

保護筒７は、遮熱部５と、サブヒータ４５と、を取り囲んでいる。また、保護筒７は、シャフトユニット４８の一部と、ファン４９と、を取り囲んでいる。また、保護筒７は、第２シール部材２２とは、保護筒７の径方向に並んで配置されている。上記の構成により、ファン４９からの気流Ａ１は、保護筒７に当たった後、チューブ２の長手方向Ｌ１と平行な方向に向きを変え、チューブ２の奥側（閉塞部９側）へ進む。

［熱処理装置の主な動作］
図１を参照して、以上の構成により、熱処理装置１が、被処理物１００を熱処理する際には、まず、駆動装置３９の動作によって、ドア３６が開かれる。この状態で、被処理物１００は、チューブ２内に収納される。次に、駆動装置３９の動作によって、ドア３６が閉じられる。即ち、ドア３６は、冷却部材１９の開口を閉じることにより、チューブ２内の空間を、熱処理装置１の外部の空間から遮断する。

次に、チューブ２内の空気が、排気口６２を通して吸引されることにより、チューブ２内の圧力は、負圧となる。また、反応性ガスが、ガス供給口６１を通して、チューブ２内に供給される。この状態で、ヒータ３からの熱により、チューブ２内の雰囲気が、加熱される。そして、電動モータ４６の出力によって、ファン４９が回転する。これにより、チューブ２内に気流Ａ１が生じ、チューブ２内の雰囲気は、撹拌される。この状態で、被処理物１００の表面に、元素が付着し、拡散される。この際、冷却水路２８には、冷却水が通過している。これにより、第１シール部材２１、及び第２シール部材２２（図４参照）の過熱が抑制される。また、ヒータ３からの熱は遮熱部５によって、各シール部材２１，２２、及びドア３６等に伝わることを、抑制される。

被処理物１００に薄膜が形成された後、ヒータ３による加熱が停止される。その後、駆動装置３９の動作によって、ドア３６が開かれる。この状態で、チューブ２内の被処理物１００は、チューブ２内から取り出される。

［被処理物の支持装置の詳細な構成］
次に、被処理物１００を支持する支持装置１０１について、より詳細な構成を説明する。図６は、図１の矢印ＶＩ方向から見た主要部の模式的な図である。図７は、図６の主要部の拡大図である。図８は、支持装置１０１の支持部材１０２の斜視図である。

図１、および、図６〜図８を参照して、支持装置１０１は、複数の被処理物１００を垂直に立てた姿勢で支持するために設けられている。支持装置１０１は、複数の被処理物１００を、互いに平行な姿勢となるように支持している。被処理物１００は、配列方向Ｙ２と直交するように配置されている。支持装置１０１は、チューブ２内の位置と、チューブ２外の位置との間を変位可能である。

支持装置１０１は、支持台１２（ボート）と、複数の支持部材１０２と、を有している。

支持台１２は、支持装置１０１のベース部として設けられている。支持台１２は、支持台本体１０３と、前柱１０５と、後柱１０６と、を有している。

支持台本体１０３は、例えば、略矩形の枠状に形成されたフレーム部材である。支持台本体１０３は、鋼材等を用いて形成されている。支持台本体１０３は、チューブ本体８の下部寄りの部分に、受けられており、チューブ本体８の下端部からは浮いた状態に配置されている。熱処理装置１の左右方向Ｙ１における支持台本体１０３の両端部の下端は、面取り部１０７を有しており、チューブ本体８の内周面と面接触している。

なお、図示していないけれども、支持台本体１０３に、アーム部が設けられていてもよい。図示しないロボットアームは、このアーム部を把持することで、支持装置１０１を長手方向Ｌ１に搬送可能である。

支持台本体１０３の前端部は、前柱１０５に連結されている。前柱１０５は、支持台本体１０３から上方に突出する左右一対の柱部分であり、支持台１２の前端部において、１つの支持部材１０２を支持している。支持台本体１０３の後端部は、後柱１０６に連結されている。後柱１０６は、支持台本体１０３から上方に突出する左右一対の柱部分であり、支持台１２の後端部において、１つの支持部材１０２を支持している。上記の構成を有する支持台１２によって支持部材１０２が保持されている。

支持部材１０２は、チューブ２内の加熱された雰囲気下で発生する気流Ａ１中において熱処理される複数の被処理物１００を支持するために設けられている。支持部材１０２は、１または複数（本実施形態では、４個）設けられている。複数の支持部材１０２は、配列方向Ｙ２と直交する長手方向Ｌ１に離隔して配置されており、長手方向Ｌ１における複数箇所で、各被処理物１００を支持している。具体的には、支持部材１０２は、支持台本体１０３に２つ取り付けられており、長手方向Ｌ１に離隔して並んでいる。

これら２つの支持部材１０２は、何れも、各被処理物１００を各被処理物１００の下方から支持している。また、別の１つの支持部材１０２は、前柱１０５に両端支持されており、各被処理物１００を各被処理物１００の前方から支持している。また、別の１つの支持部材１０２は、後柱１０６に両端支持されており、各被処理物１００を各被処理物１００の後方から支持している。

各支持部材１０２は、支持台１２の対応する支持台本体１０３、前柱１０５、および、後柱１０６に、ねじ等の締結部材（図示せず）を用いて取り外し可能に取り付けられている。すなわち、各支持部材１０２は、支持台１２に対して着脱可能である。

各支持部材１０２は、所定の配列方向Ｙ２に細長く延びる、長尺形状の板状部材である。本実施形態では、配列方向Ｙ２は、左右方向Ｙ１と一致している。各支持部材１０２は、例えば、矩形の板状の金属素材に、プレス加工等が施されることで形成されている。各支持部材１０２は、チューブ２内の全ての被処理物１００を支持している。

各支持部材１０２は、配列方向Ｙ２に並ぶ複数の支持部１０８を有している。

支持部１０８は、対応する被処理物１００を受けるために設けられている。すなわち、１つの支持部１０８は、１つの被処理物１００の縁部を受けるように構成されている。各支持部材１０２において、支持部１０８の数は、チューブ２内に収容される被処理物１００の数以上（本実施形態では、被処理物１００の数と同じ）に設定されている。

各支持部１０８は、支持部材１０２を当該支持部材１０２の厚み方向に貫通するように形成されており、略Ｖ字状の溝部分として設けられている。各支持部１０８は、このＶ字状の部分に、被処理物１００の縁部を受け容れる。各支持部１０８の形状は、同じに設定されている。

支持部１０８は、配列方向Ｙ２に一定の規則性をもって配置されているけれども、等間隔には配置されていない。本実施形態では、各支持部材１０２において、配列方向Ｙ２に関する支持部１０８の配置ピッチＰは、気流Ａ１中での支持部１０８の位置に応じて異なるように設定されている。即ち、配列方向Ｙ２に並ぶ複数の被処理物１００の配置ピッチＰは、気流Ａ１中での被処理物１００の位置に応じて異なるように設定されている。

なお、配置ピッチＰとは、配列方向Ｙ２において隣り合う支持部１０８（被処理物１００）の所定の基準位置間の間隔をいい、本実施形態では、配列方向Ｙ２における支持部１０８（被処理物１００）の中心部（底部）間の間隔をいう。

前述したように、支持部材１０２は、被処理物１００を収容するための収納容器としてのチューブ２内において、チューブ２の壁部（チューブ本体８）に向かうように生じた気流Ａ１中に配置されている。この気流Ａ１は、ファン４９の回転により、まず、ファン４９から当該ファン４９の径方向外方を向く。そして、この気流Ａ１は、チューブ本体８の内周面に沿って、チューブ本体８の中心軸線回りを旋回しながら、チューブ２の閉塞部９に向かって進む。そして、チューブ２の閉塞部９に到達した気流Ａ１は、長手方向Ｌ１の向きを変え、チューブ２の径方向における当該チューブ２の中央部分を、チューブ２の開口部１１（ファン４９）に向けて進む。そして、気流Ａ１は、ファン４９に戻る。

各支持部材１０２は、ファン４９と長手方向Ｌ１に対向している。配列方向Ｙ２は、ファン４９と支持部材１０２（支持部１０８）とが対向する長手方向Ｌ１と交差する方向（本実施形態では、直交する方向）である。

支持部１０８の配置ピッチＰとして、第１配置ピッチＰ１と、第２配置ピッチＰ２とが設定されている。第２配置ピッチＰ２の値は、第１配置ピッチＰ１の値よりも小さく設定されている（Ｐ２＜Ｐ１）。第１配置ピッチＰ１、および、第２配置ピッチＰ２のそれぞれの値は、配列方向Ｙ２における被処理物１００の厚み、数、形状等に応じて、適宜設定される。

本実施形態では、配列方向Ｙ２における支持部材１０２の端部１０２ａ，１０２ａ寄りにおける複数の支持部１０８は、第２配置ピッチＰ２で配置されている。第２配置ピッチＰ２で配置された複数の支持部１０８は、第２支持部ユニット１１２を構成している。第２支持部ユニット１１２は、支持部１０８に一対配置されており、これら一対の第２支持部ユニット１１２は、配列方向Ｙ２に対称に配置されている。即ち、第２配置ピッチＰ２で配置された複数の支持部１０８は、配列方向Ｙ２における支持部材１０２の両端部１０２ａ，１０２ａ寄りに配置されている。各支持部材１０２において、一対の第２支持部ユニット１１２間に、第１支持部ユニット１１１が配置されている。

第１支持部ユニット１１１は、複数の支持部１０８を有しており、これらの支持部１０８が、第１配置ピッチＰ１で配置された構成を有している。第１配置ピッチＰ１で配置された複数の支持部１０８は、配列方向Ｙ２における支持部材１０２の中央部寄りに配置されている。

また、第２支持部ユニット１１２とチューブ本体８の内周面との距離は、第１支持部ユニット１１１とチューブ本体８の内周面との距離よりも小さく設定されている。換言すれば、第２配置ピッチＰ２で配置された複数の支持部１０８は、第１配置ピッチＰ１で配置された複数の支持部１０８と比べて、チューブ２の近くに配置されている。

以上の構成により、熱処理装置１は、チューブ２内の雰囲気を加熱するためのヒータ３と、チューブ２内に気流Ａ１を発生させるためのファン４９と、チューブ２内に配置された支持装置１０１と、を有している。

また第２支持部ユニット１１２に保持された被処理物１００は、主に、チューブ本体８の内周面の近傍の気流Ａ１を受けて熱処理を施される。また、第１支持部ユニット１１１に保持された被処理物１００は、主に、チューブ２の閉塞部９からファン４９へ向かう気流Ａ１を受けて熱処理を施される。

以上説明したように、本実施形態の熱処理装置１によると、配列方向Ｙ２に関する複数の支持部１０８の配置ピッチＰは、気流Ａ１中での支持部１０８の位置に応じて異なるように設定されている。これにより、複数の被処理物１００間の周囲において、気流Ａ１をより偏りなく分布させることができる。その結果、複数の被処理物１００が配置されているチューブ２内の空間における雰囲気の分布（温度分布、ガス濃度分布）をより均一にすることができる。よって、複数の被処理物１００の熱処理を、より均等に行うことができる。

また、熱処理装置１によると、チューブ２内においては、チューブ本体８に近い位置では、気流Ａ１の速度が高く、チューブ本体８に遠い位置では、気流Ａ１の速度が低くなる傾向にある。このような気流Ａ１の分布となるチューブ２内において、チューブ本体８に比較的近い位置に配置された第２支持部ユニット１１２の配置ピッチＰは、狭い第２配置ピッチＰ２に設定されている。これにより、比較的高い流速の気流Ａ１に曝される被処理物１００間への過度の気流Ａ１の侵入が抑制される。一方、チューブ本体８から比較的遠い位置に配置された第１支持部ユニット１１１の配置ピッチＰは、広い第１配置ピッチＰ１に設定されている。これにより、比較的低い流速の気流Ａ１に曝される被処理物１００間へ、十分な量の雰囲気を導くことができる。その結果、チューブ２器内での雰囲気の分布をより均等にすることができる。

また、熱処理装置１によると、支持部材１０２は、支持台１２に対して着脱可能である。これにより、被処理物１００の形状、数、レイアウト等に応じて、最適な支持部材１０２を支持台１２に取り付けることが可能となる。これにより、支持装置１０１の汎用性を、より高くできる。

また、熱処理装置１によると、支持部材１０２は、配列方向Ｙ２に延びる長尺形状に形成されており、支持部材１０２は、配列方向Ｙ２と直交する長手方向Ｌ１に離隔して複数配置されている。この構成によると、被処理物１００が配列方向Ｙ２と直交する方向に長い形状であっても、支持部材１０２は、被処理物１００を、より確実に安定した姿勢で保持することができる。

また、熱処理装置１によると、各支持部材１０２における配列方向Ｙ２は、ファン４９と支持部材１０２とが対向する長手方向Ｌ１と交差する方向（左右方向Ｙ１）である。この構成によると、ファン４９からの気流Ａ１が、チューブ２内を循環するような流れである場合において、ファン４９から遠ざかる方向の気流Ａ１は、配置ピッチＰの小さい被処理物１００（第２支持部ユニット１１２の被処理物１００）の周囲に、より多く分布する。また、ファン４９に戻る方向への気流Ａ１は、配置ピッチＰの大きい被処理物１００（第１支持部ユニット１１１の被処理物１００）の周囲に、より多く分布する。これにより、各被処理物１００へ、より均等に気流Ａ１を供給することができる。その結果、各被処理物１００を、より均等に熱処理できる。

以上、本発明の実施形態について説明したけれども、本発明は上述の実施の形態に限られない。本発明は、特許請求の範囲に記載した限りにおいて様々な変更が可能である。

（１）上記実施形態では、配置ピッチＰとして、２種類の配置ピッチＰ（第１配置ピッチＰ１、および、第２配置ピッチＰ２）が設定される形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。配置ピッチＰとして、３種類以上の配置ピッチが設定されてもよい。この場合、配列方向Ｙ２に隣り合う配置ピッチＰは、等比級数的に変化してもよい。

（２）また、上述の実施形態では、配列方向Ｙ２の外側の支持部１０８の配置ピッチＰを小さくし、配列方向Ｙ２の中央側の支持部１０８の配置ピッチＰを大きくする形態を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。チューブ２内の気流Ａ１の態様等に応じて、配列方向Ｙ２の外側の支持部１０８の配置ピッチＰを大きくし、配列方向Ｙ２の中央側の支持部１０８の配置ピッチＰを小さくしてもよい。

（３）また、上述の実施形態では、横型炉の熱処理装置を例に説明した。しかしながら、この通りでなくてもよい。例えば、縦型炉の熱処理装置に本発明が適用されてもよい。

本発明は、熱処理用の支持部材、熱処理用の支持装置、熱処理装置、および、被処理物の配置方法として、広く適用することができる。

１ 熱処理装置
２ チューブ（収納容器）
３ ヒータ（加熱部）
１２ 支持台（ベース部）
４９ ファン（気流発生部材）
１００ 被処理物
１０２ 支持部材
１０２ａ 支持部材の端部
１０８ 支持部
Ａ１ 気流
Ｐ 配置ピッチ
Ｐ１ 第１配置ピッチ
Ｐ２ 第２配置ピッチ
Ｙ２ 配列方向

Claims (8)

1. 加熱された雰囲気下で発生する気流中において熱処理される複数の被処理物を支持するための支持部材であって、
   前記支持部材は、所定の配列方向に並ぶ複数の支持部を備え、
   各前記支持部は、対応する前記被処理物を支持可能に構成され、
   前記配列方向に関する複数の前記支持部の配置ピッチは、前記気流中での前記支持部の位置に応じて異なるように設定されていることを特徴とする、熱処理用の支持部材。
2. 請求項１に記載の熱処理用の支持部材であって、
   前記支持部材は、前記被処理物を収容するための収納容器内において、前記収納容器の壁部に向かうように生じた前記気流中に配置されるように構成されており、
   前記配置ピッチは、第１配置ピッチと、前記第１配置ピッチの値よりも小さい値に設定された第２配置ピッチとを含み、
   前記第２配置ピッチで隣接して配置された２つの前記支持部は、前記第１配置ピッチで隣接して配置された２つの前記支持部と比べて、前記収納容器の近くに配置可能に構成されていることを特徴とする、熱処理用の支持部材。
3. 請求項１または請求項２に記載の熱処理用の支持部材であって、
   前記支持部材は、前記被処理物を収容するための収納容器内において、前記収納容器の壁部に向かうように生じた前記気流中に配置されるように構成されており、
   前記配置ピッチは、第１配置ピッチと、前記第１配置ピッチの値よりも小さい値に設定された第２配置ピッチとを含み、
   前記第１配置ピッチで隣接して配置された２つの前記支持部は、前記配列方向における前記支持部材の中央部寄りに配置され、
   前記第２配置ピッチで隣接して配置された２つの前記支持部は、前記配列方向における前記支持部材の端部寄りに配置されていることを特徴とする、熱処理用の支持部材。
4. 請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の熱処理用の支持部材と、
   前記支持部材を支持するベース部と、を備え、
   前記支持部材は、前記ベース部に着脱可能に構成されていることを特徴とする、熱処理用の支持装置。
5. 請求項４に記載の熱処理用の支持装置であって、
   前記支持部材は、前記配列方向に延びる長尺形状に形成されており、
   前記支持部材は、前記配列方向と直交する方向に離隔して複数配置されていることを特徴とする、熱処理用の支持装置。
6. 被処理物を収容するための収納容器と、
   前記収納容器内の雰囲気を加熱するための加熱部と、
   前記収納容器内に気流を発生させる気流発生部材と、
   前記収納容器内に配置された、請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の支持部材と、
   を備えていることを特徴とする、熱処理装置。
7. 請求項６に記載の熱処理装置であって、
   前記気流発生部材は、前記支持部材と対向するように配置されており、
   前記配列方向は、前記気流発生部材と前記支持部材とが対向する方向と交差する方向であることを特徴とする、熱処理装置。
8. 加熱された雰囲気下で発生する気流中において熱処理される複数の被処理物の配置方法であって、
   複数の前記被処理物は、所定の配列方向に並ぶように配置され、
   前記配列方向に関する複数の前記被処理物の配置ピッチは、前記気流中での前記被処理物の位置に応じて異なるように設定されていることを特徴とする、被処理物の配置方法。

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