JP2015133460A - ウェーハの分割方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウェーハ(11)にプラズマエッチングを実施し、ウェーハの表面(11a)側に分割予定ライン(17)に沿って断面形状がV字状の表面V溝(53)を形成する表面V溝形成ステップと、プラズマエッチングを実施し、ウェーハの裏面(11b)の分割予定ラインに対応した領域に断面形状がV字状の裏面V溝(55)を形成する裏面V溝形成ステップと、表面V溝形成ステップ及び裏面V溝形成ステップを実施した後に、表面V溝の溝底又は裏面V溝の溝底にプラズマエッチングを実施して、表面V溝の溝底と裏面V溝の溝底とを連通させる表面V溝及び裏面V溝の最大幅より狭い細溝(59)を形成する細溝形成ステップと、を備える構成とした。
【選択図】図4
Description
11a 表面
11b 裏面
11c 外周
13 デバイス領域
15 外周余剰領域
17 分割予定ライン(ストリート)
19 デバイス
21 保護部材
21a 表面
21b 裏面
31 マスク
31a 表面
31b 裏面
33 開口
43 レジスト膜
45 レジスト膜
51 プラズマ
53 表面V溝
55 裏面V溝
57 保護膜
59 細溝
6 プラズマエッチング装置
8 処理空間
10 真空チャンバ
10a 底壁
10b 上壁
10c 第1側壁
10d 第2側壁
10e 第3側壁
12 開口
14 ゲート
16 開閉機構
18 エアシリンダ
20 ピストンロッド
22 ブラケット
24 排気口
26 排気機構
28 下部電極
30 上部電極
32 保持部
34 支持部
36 開口
38 絶縁部材
40 高周波電源
42 テーブル
44 流路
46 吸引源
48 冷却流路
50 冷媒導入路
52 冷媒循環機構
54 冷媒排出路
56 ガス噴出部
58 支持部
60 開口
62 絶縁部材
64 高周波電源
66 昇降機構
68 支持アーム
70 噴出口
72 流路
74 流路
76 SF6供給源
78 C4F8供給源
80 制御装置
Claims (3)
- 格子状の分割予定ラインで区画された表面側の複数の領域にデバイスが形成されたウェーハを個々のデバイスチップに分割するウェーハの分割方法であって、
ウェーハの裏面側に保護部材を配設する保護部材配設ステップと、
ウェーハの表面側の該分割予定ラインを除く全部又は一部の領域にレジスト膜を被覆する表面側被覆ステップと、
該表面側被覆ステップが実施されたウェーハにプラズマエッチングを実施し、ウェーハの表面側に該分割予定ラインに沿って断面形状がV字状の表面V溝を形成する表面V溝形成ステップと、
ウェーハの表面側に保護部材を配設する表面保護ステップと、
ウェーハの裏面側の保護部材を剥離する保護部材剥離ステップと、
ウェーハの裏面側の該分割予定ラインに対応する領域を除く全部又は一部の領域にレジスト膜を被覆する裏面側被覆ステップと、
該裏面側被覆ステップが実施されたウェーハにプラズマエッチングを実施し、ウェーハの裏面の該分割予定ラインに対応した領域に断面形状がV字状の裏面V溝を形成する裏面V溝形成ステップと、
該表面V溝形成ステップ及び該裏面V溝形成ステップを実施した後に、形成された該表面V溝の溝底又は該裏面V溝の溝底にプラズマエッチングを実施して、該表面V溝の溝底と該裏面V溝の溝底とを連通させる該表面V溝及び該裏面V溝の最大幅より狭い細溝を形成する細溝形成ステップと、を備えることを特徴とするウェーハの分割方法。 - 前記V溝形成ステップ及び前記裏面V溝形成ステップでは、SF6を用いるプラズマエッチングを実施し、
前記細溝形成ステップでは、C4F8を用いる保護膜の形成と、SF6を用いるプラズマエッチングとを繰り返し実施して前記細溝を形成することを特徴とする請求項1記載のウェーハの分割方法。 - 前記ウェーハの表面の面方位は、(100)であることを特徴とする請求項1又は請求項2記載のウェーハの分割方法。
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