JP2015072898A - Base material particle, conductive particle, conductive material and connection structure - Google Patents

Base material particle, conductive particle, conductive material and connection structure Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a base material particle which can suppress the destruction and scattering of a shell.SOLUTION: A base material particle 11 according to the present invention comprises an organic core 12, and a shell 13 disposed on the surface of the organic core 12. The shell 13 is obtained by the following step: in which a compound having a silanol group or an alkoxy group binding to a silicon atom, and a reactive functional group-containing compound having a reactive functional group which can react with a silanol group or an alkoxy group binding to a silicon atom to form Si-O-C bond are used; and the compound having a silanol group or an alkoxy group binding to a silicon atom is subjected to hydrolysis and polycondensation, and the compound having a silanol group or an alkoxy group binding to a silicon atom and the reactive functional group-containing compound are reacted with each other.

Description

本発明は、コアと、該コアの表面上に配置されたシェルとを備えるコアシェル型の基材粒子に関する。また、本発明は、上記基材粒子を用いた導電性粒子、導電材料及び接続構造体に関する。   The present invention relates to a core-shell type substrate particle comprising a core and a shell disposed on the surface of the core. The present invention also relates to a conductive particle, a conductive material, and a connection structure using the base particle.

異方性導電ペースト及び異方性導電フィルム等の異方性導電材料が広く知られている。上記異方性導電材料では、バインダー樹脂中に導電性粒子が分散されている。   Anisotropic conductive materials such as anisotropic conductive pastes and anisotropic conductive films are widely known. In the anisotropic conductive material, conductive particles are dispersed in a binder resin.

上記異方性導電材料は、フレキシブルプリント基板(FPC)、ガラス基板及び半導体チップなどの様々な接続対象部材の電極間を電気的に接続し、接続構造体を得るために用いられている。また、上記導電性粒子として、基材粒子と、該基材粒子の表面上に配置された導電層とを有する導電性粒子が用いられることがある。   The anisotropic conductive material is used to electrically connect electrodes of various connection target members such as a flexible printed circuit (FPC), a glass substrate, and a semiconductor chip to obtain a connection structure. Moreover, as the conductive particles, conductive particles having base particles and a conductive layer disposed on the surface of the base particles may be used.

上記導電性粒子に用いられる基材粒子の一例として、下記の特許文献1では、シェルが無機化合物(A)であり、コアが有機ポリマー(b)であり、コアがシェルにより被覆されている有機ポリマー粒子(B)(基材粒子)が開示されている。また、特許文献1では、有機ポリマー粒子(B)が導電性金属(C)により被覆されている導電性粒子も開示されている。   As an example of the base particles used for the conductive particles, in Patent Document 1 below, the shell is an inorganic compound (A), the core is an organic polymer (b), and the core is covered with the shell. Polymer particles (B) (substrate particles) are disclosed. Patent Document 1 also discloses conductive particles in which organic polymer particles (B) are coated with a conductive metal (C).

また、液晶表示素子は、2枚のガラス基板間に液晶が配置されて構成されている。該液晶表示素子では、2枚のガラス基板の間隔(ギャップ)を均一かつ一定に保つために、ギャップ制御材としてスペーサが用いられている。該スペーサとして、基材粒子が一般に用いられている。   In addition, the liquid crystal display element is configured by disposing liquid crystal between two glass substrates. In the liquid crystal display element, a spacer is used as a gap control material in order to keep the distance (gap) between two glass substrates uniform and constant. As the spacer, base material particles are generally used.

上記導電性粒子又は上記液晶表示素子用スペーサに用いられる粒子の一例として、下記の特許文献2には、重合性不飽和基を有する多官能性シラン化合物を、界面活性剤の存在下で加水分解及び重縮合させることにより得られる有機質無機質複合体粒子(基材粒子)が開示されている。特許文献2では、上記多官能性シラン化合物が、特定の式(X)で表される化合物及びその誘導体から選ばれた少なくとも1つのラジカル重合性基含有第1シリコン化合物である。   As an example of the conductive particles or the particles used for the liquid crystal display element spacer, the following Patent Document 2 discloses that a polyfunctional silane compound having a polymerizable unsaturated group is hydrolyzed in the presence of a surfactant. And organic-inorganic composite particles (base particles) obtained by polycondensation are disclosed. In Patent Document 2, the polyfunctional silane compound is at least one radical polymerizable group-containing first silicon compound selected from a compound represented by the specific formula (X) and a derivative thereof.

また、下記の特許文献3には、硬質粒子の表面を、軟質な高分子重合体層で被覆したコアシェル粒子が開示されている。上記硬質粒子の好適な例としては、ニッケル等の金属粒子、グラスファイバー、アルミナ、シリカ等の無機物粒子、硬化ベンゾグアナミン等の樹脂硬化物粒子が挙げられている。特許文献3では、軟質な高分子重合体層を設けることによって、接触面積を大きくし、信頼性を高めることができることが記載されている。   Patent Document 3 below discloses core-shell particles in which the surface of hard particles is covered with a soft polymer layer. Preferable examples of the hard particles include metal particles such as nickel, inorganic particles such as glass fiber, alumina and silica, and resin cured particles such as cured benzoguanamine. Patent Document 3 describes that by providing a soft polymer layer, the contact area can be increased and the reliability can be improved.

下記の特許文献4には、コアの外周にシェル層を備えるコアシェル構造を有する絶縁性粒子(基材粒子)が開示されている。特許文献4では、コアがビニル重合体を含み、シェル層がアミノ樹脂を含み、コアの直径をDnm、シェル層の厚みをdnmとしたときに、0.10<d/D<2.0である。   Patent Document 4 below discloses insulating particles (base particles) having a core-shell structure including a shell layer on the outer periphery of the core. In Patent Document 4, when the core contains a vinyl polymer, the shell layer contains an amino resin, the core diameter is Dnm, and the shell layer thickness is dnm, 0.10 <d / D <2.0. is there.

特開2006−156068号公報JP 2006-156068 A 特開2000−204119号公報JP 2000-204119 A 特開平7−140481号公報Japanese Patent Laid-Open No. 7-140481 特開2013−62069号公報JP2013-62069A

近年、導電性粒子により接続される電極の間隔が狭く、かつ電極面積が小さくなる傾向があり、より一層低い抵抗で接続できる導電性粒子が要求されている。   In recent years, the distance between electrodes connected by conductive particles tends to be narrow and the electrode area tends to be small, and there is a demand for conductive particles that can be connected with even lower resistance.

特許文献1〜4に記載のような従来の基材粒子を用いた導電性粒子により、間隔が狭い電極間を電気的に接続した場合に、接続抵抗が高くなることがある。この原因として、電極間の接続時に、基材粒子の表面部分が破壊されたり、飛散したりすることが挙げられる。   When conductive electrodes using conventional base particles as described in Patent Documents 1 to 4 are electrically connected between electrodes having a narrow interval, the connection resistance may be increased. As this cause, the surface part of a base particle is destroyed or scattered at the time of the connection between electrodes.

一方で、特許文献2に記載のような従来の基材粒子を液晶表示素子用スペーサとして用いて基板間に配置して液晶表示素子を得た場合にも、基材粒子の表面部分が破壊されたり、飛散したりすることがある。このため、得られる液晶表示素子において表示品質が低下することがある。また、上記基材粒子が液晶表示素子の周辺シール剤に含まれる場合にも、基材粒子が部分的に破壊されたり、飛散したりすることによって、表示品質が低下することがある。   On the other hand, even when a conventional base material particle as described in Patent Document 2 is used as a spacer for a liquid crystal display element and disposed between substrates to obtain a liquid crystal display element, the surface portion of the base material particle is destroyed. Or may scatter. For this reason, display quality may deteriorate in the obtained liquid crystal display element. In addition, even when the base particles are included in the peripheral sealing agent of the liquid crystal display element, the display quality may be deteriorated due to partial destruction or scattering of the base particles.

本発明の目的は、シェルの破壊及び飛散を抑えることができる基材粒子を提供すること、並びに該基材粒子を用いた導電性粒子、導電材料及び接続構造体を提供することである。   The objective of this invention is providing the base particle which can suppress destruction and scattering of a shell, and providing the electroconductive particle, conductive material, and connection structure using this base material particle.

本発明の限定的な目的は、表面上に導電層を形成した導電性粒子を用いて、電極間を電気的に接続して接続構造体を得た場合に、接続抵抗を低くすることができ、一方で、液晶表示素子においてスペーサとして用いられた場合に、液晶表示素子の表示品質を高めることができる基材粒子を提供すること、並びに該基材粒子を用いた導電性粒子、導電材料及び接続構造体を提供することである。   A limited object of the present invention is to reduce the connection resistance when a conductive structure is obtained by electrically connecting electrodes using conductive particles having a conductive layer formed on the surface. On the other hand, when used as a spacer in a liquid crystal display element, it provides a base particle capable of enhancing the display quality of the liquid crystal display element, and conductive particles, a conductive material using the base particle, and It is to provide a connection structure.

本発明の広い局面によれば、有機コアと、前記有機コアの表面上に配置されたシェルとを備え、前記シェルが、シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基を有する化合物と、シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基と反応してSi−O−C結合を形成可能な反応性官能基を有する反応性官能基含有化合物とを用いて、前記シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基を有する化合物を加水分解及び重縮合させて、かつ前記シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基を有する化合物と前記反応性官能基含有化合物とを反応させることにより得られる、基材粒子が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, an organic core and a shell disposed on the surface of the organic core, wherein the shell has a silanol group or a compound having an alkoxy group bonded to a silicon atom, a silanol group or Using the reactive functional group-containing compound having a reactive functional group capable of reacting with an alkoxy group bonded to a silicon atom to form a Si—O—C bond, the silanol group or the alkoxy group bonded to the silicon atom is Provided is a base particle obtained by hydrolyzing and polycondensing a compound having a reaction and reacting the compound having an alkoxy group bonded to the silanol group or silicon atom with the reactive functional group-containing compound. .

本発明に係る基材粒子のある特定の局面では、前記シェルが、前記シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基を有する化合物が加水分解及び重縮合することにより形成された複数の粒子状物を含み、前記複数の粒子状物が、前記反応性官能基含有化合物に由来して一体化されている。   In a specific aspect of the base particle according to the present invention, the shell includes a plurality of particulate matters formed by hydrolysis and polycondensation of a compound having an alkoxy group bonded to the silanol group or silicon atom. In addition, the plurality of particulate matters are derived and integrated from the reactive functional group-containing compound.

本発明に係る基材粒子のある特定の局面では、前記シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基と反応してSi−O−C結合を形成可能な反応性官能基が、エポキシ基、カルボキシル基、ビニル基又は(メタ)アクリロキシ基である。   In a specific aspect of the base particle according to the present invention, the reactive functional group capable of reacting with the silanol group or the alkoxy group bonded to the silicon atom to form a Si—O—C bond is an epoxy group or a carboxyl group. , Vinyl group or (meth) acryloxy group.

本発明に係る基材粒子は、表面上に導電層が形成され、前記導電層を有する導電性粒子を得るために用いられるか、又は液晶表示素子用スペーサとして用いられることが好ましい。本発明に係る基材粒子は、表面上に導電層が形成され、前記導電層を有する導電性粒子を得るために用いられることが好ましい。   The substrate particles according to the present invention are preferably used for obtaining conductive particles having a conductive layer formed on the surface thereof and having the conductive layer, or used as spacers for liquid crystal display elements. The substrate particles according to the present invention are preferably used for obtaining conductive particles having a conductive layer formed on the surface and having the conductive layer.

本発明の広い局面によれば、上述した基材粒子と、前記基材粒子の表面上に配置された導電層とを有する、導電性粒子が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, there is provided conductive particles having the above-described base material particles and a conductive layer disposed on the surface of the base material particles.

本発明に係る導電性粒子のある特定の局面では、前記導電性粒子は、前記導電層の外表面上に配置された絶縁性物質をさらに備える。   On the specific situation with the electroconductive particle which concerns on this invention, the said electroconductive particle is further equipped with the insulating substance arrange | positioned on the outer surface of the said conductive layer.

本発明に係る導電性粒子のある特定の局面では、前記導電性粒子は、前記導電層の外表面に突起を有する。   On the specific situation with the electroconductive particle which concerns on this invention, the said electroconductive particle has a processus | protrusion on the outer surface of the said conductive layer.

本発明の広い局面によれば、導電性粒子と、バインダー樹脂とを含み、前記導電性粒子が、上述した基材粒子と、前記基材粒子の表面上に配置された導電層とを備える、導電材料が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, the conductive particles include conductive particles and a binder resin, and the conductive particles include the base material particles described above and a conductive layer disposed on the surface of the base material particles. A conductive material is provided.

本発明の広い局面によれば、第1の電極を表面に有する第1の接続対象部材と、第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材と、前記第1の接続対象部材と前記第2の接続対象部材とを接続している接続部とを備え、前記接続部が、導電性粒子により形成されているか、又は前記導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されており、前記導電性粒子が、上述した基材粒子と、前記基材粒子の表面上に配置された導電層とを備え、前記第1の電極と前記第2の電極とが前記導電性粒子により電気的に接続されている、接続構造体が提供される。   According to a wide aspect of the present invention, a first connection target member having a first electrode on the surface, a second connection target member having a second electrode on the surface, the first connection target member, and the A connection portion connecting the second connection target member, and the connection portion is formed of conductive particles or formed of a conductive material including the conductive particles and a binder resin. The conductive particles include the base material particles described above and a conductive layer disposed on the surface of the base material particles, and the first electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive particles. A connection structure is provided which is connected in a connected manner.

本発明に係る基材粒子は、有機コアと、上記有機コアの表面上に配置されたシェルとを備えており、更に上記シェルが、シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基を有する化合物と、シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基と反応してSi−O−C結合を形成可能な反応性官能基を有する反応性官能基含有化合物とを用いて、上記アルコキシ基又はシラノール基を有する化合物を加水分解及び重縮合させて、かつ上記アルコキシ基又はシラノール基を有する化合物と上記反応性官能基含有化合物とを反応させることにより得られるので、シェルの破壊及び飛散を抑えることができる。   The base particle according to the present invention includes an organic core and a shell disposed on the surface of the organic core, and the shell further includes a compound having an alkoxy group bonded to a silanol group or a silicon atom, A compound having an alkoxy group or silanol group using a reactive functional group-containing compound having a reactive functional group capable of reacting with a silanol group or an alkoxy group bonded to a silicon atom to form a Si-O-C bond Can be hydrolyzed and polycondensed, and the compound having an alkoxy group or silanol group can be reacted with the reactive functional group-containing compound, so that the destruction and scattering of the shell can be suppressed.

図1は、本発明の第1の実施形態に係る導電性粒子を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing conductive particles according to the first embodiment of the present invention. 図2は、本発明の第2の実施形態に係る導電性粒子を示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view showing conductive particles according to the second embodiment of the present invention. 図3は、本発明の第3の実施形態に係る導電性粒子を示す断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view showing conductive particles according to the third embodiment of the present invention. 図4は、本発明の第1の実施形態に係る導電性粒子を用いた接続構造体を模式的に示す正面断面図である。FIG. 4 is a front cross-sectional view schematically showing a connection structure using conductive particles according to the first embodiment of the present invention. 図5は、本発明の一実施形態に係る基材粒子を液晶表示素子用スペーサとして用いた液晶表示素子を模式的に示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view schematically showing a liquid crystal display element using base particles according to an embodiment of the present invention as a spacer for a liquid crystal display element.

以下、本発明を詳細に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described in detail.

(基材粒子)
本発明に係る基材粒子は、有機コアと、有機コアの表面上に配置されたシェルとを備える。本発明に係る基材粒子は、コアシェル型の粒子である。本発明に係る基材粒子では、上記シェルが、シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基を有する化合物(以下、化合物Aと記載することがある)と、シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基と反応してSi−O−C結合を形成可能な反応性官能基を有する反応性官能基含有化合物(以下、反応性官能基含有化合物B又は化合物Bと記載することがある)とを用いて、上記シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基を有する化合物Aを加水分解及び重縮合させて、かつ上記シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基を有する化合物Aと上記反応性官能基含有化合物Bとを反応させることにより得られる。上記反応性官能基含有化合物Bは、シラノール基と反応してSi−O−C結合を形成可能な反応性官能基を有するか、又は、珪素原子に結合したアルコキシ基と反応してSi−O−C結合を形成可能な反応性官能基を有する。
(Base particle)
The base particle according to the present invention includes an organic core and a shell disposed on the surface of the organic core. The base particle according to the present invention is a core-shell type particle. In the base particle according to the present invention, the shell has a compound having an alkoxy group bonded to a silanol group or a silicon atom (hereinafter sometimes referred to as compound A), and an alkoxy group bonded to the silanol group or the silicon atom. And a reactive functional group-containing compound having a reactive functional group capable of forming a Si—O—C bond by reaction with the compound (hereinafter sometimes referred to as a reactive functional group-containing compound B or compound B). The compound A having an alkoxy group bonded to the silanol group or silicon atom is hydrolyzed and polycondensed, and the compound A having an alkoxy group bonded to the silanol group or silicon atom is combined with the reactive functional group-containing compound B. It is obtained by reacting. The reactive functional group-containing compound B has a reactive functional group capable of forming a Si—O—C bond by reacting with a silanol group, or reacting with an alkoxy group bonded to a silicon atom to form Si—O. It has a reactive functional group capable of forming a -C bond.

本発明に係る基材粒子は、上述した構成を備えているので、シェルの破壊及び飛散を抑えることができる。特に、基材粒子が圧縮されても、シェルが破壊され難く、シェルの破片が飛散し難くなる。上記化合物Aを加水分解及び重縮合させることにより得られるシェルは比較的硬く、破壊されやすい。上記化合物Aのみを加水分解及び重縮合させるのではなく、上記化合物Aと上記反応性官能基含有化合物Bとを反応させることで、シェルの破壊及び飛散を抑えることができる。本発明に係る基材粒子では、該基材粒子を強く圧縮したとしても、シェルの破壊及び飛散を抑えることができ、基材粒子又は導電性粒子と接触対象物との接触面積を大きくすることができる。   Since the base particle according to the present invention has the above-described configuration, it is possible to suppress the destruction and scattering of the shell. In particular, even if the base particles are compressed, the shell is difficult to be broken and the shell fragments are not easily scattered. The shell obtained by hydrolyzing and polycondensing the compound A is relatively hard and easily broken. Rather than hydrolyzing and polycondensing only the compound A, the destruction and scattering of the shell can be suppressed by reacting the compound A with the reactive functional group-containing compound B. In the base material particles according to the present invention, even if the base material particles are strongly compressed, the destruction and scattering of the shell can be suppressed, and the contact area between the base material particles or the conductive particles and the contact object is increased. Can do.

また、シェルの破壊及び飛散を抑えることができる結果として、本発明に係る基材粒子を備える導電性粒子を用いて、電極間が接続された接続構造体では、高い荷重下で接続が行われていても、シェルが破壊及び飛散せずに、基材粒子本来の機能を十分に発揮することが可能となる。また、シェルの破壊及び飛散が抑えられるために、上記接続構造体における電極間の接続抵抗を効果的に低くすることができる。   Further, as a result of suppressing the destruction and scattering of the shell, in the connection structure in which the electrodes are connected using the conductive particles including the base particle according to the present invention, the connection is performed under a high load. Even if it does, a shell does not destroy and scatter, but it becomes possible to fully exhibit the original function of substrate particles. Moreover, since the destruction and scattering of the shell are suppressed, the connection resistance between the electrodes in the connection structure can be effectively reduced.

また、本発明に係る基材粒子を液晶表示素子用スペーサとして用いて基板間に配置して液晶表示素子を得た場合に、高い荷重で配置が行われていても、シェルが破壊及び飛散せずに、基材粒子本来の機能を十分に発揮することが可能となる。また、シェルの破壊及び飛散が抑えられるために、上記液晶表示素子における表示品質を高めることができる。また、液晶表示素子用スペーサと基板とを良好に接触させることができ、基板間の間隔にばらつきを生じ難くすることができる。このことによっても、上記液晶表示素子の表示品質を高めることができる。   Further, when the liquid crystal display element is obtained by arranging the substrate particles according to the present invention as a spacer for a liquid crystal display element to obtain a liquid crystal display element, the shell is broken and scattered even if the arrangement is performed with a high load. Therefore, the original function of the base particle can be sufficiently exhibited. Moreover, since the destruction and scattering of the shell are suppressed, the display quality in the liquid crystal display element can be improved. In addition, the spacer for the liquid crystal display element and the substrate can be satisfactorily brought into contact with each other, and variations in the interval between the substrates can be made difficult to occur. Also by this, the display quality of the liquid crystal display element can be improved.

上記基材粒子を10%圧縮したときの圧縮弾性率(10%K値)の上記基材粒子を30%圧縮したときの圧縮弾性率(30%K値)に対する比(10%K値/30%K値)は好ましくは1.5以上、より好ましくは2.0以上である。上記比(10%K値/30%K値)が上記下限以上であると、電極と導電性粒子との接触面積が十分に大きくなり、電極間の接続抵抗が効果的に低くなり、かつ電極間の接続信頼性がより一層高くなる。上記比(10%K値/30%K値)は好ましくは5.0以下である。   Ratio (10% K value / 30) of compressive elastic modulus (10% K value) when the base particle is compressed by 10% to compressive elastic modulus (30% K value) when the base particle is compressed by 30% % K value) is preferably 1.5 or more, more preferably 2.0 or more. When the ratio (10% K value / 30% K value) is not less than the above lower limit, the contact area between the electrode and the conductive particles is sufficiently large, the connection resistance between the electrodes is effectively reduced, and the electrode The connection reliability between them becomes even higher. The ratio (10% K value / 30% K value) is preferably 5.0 or less.

上記基材粒子を10%圧縮したときの圧縮弾性率(10%K値)は好ましくは1500N/mm以上、より好ましくは3000N/mm以上、更に好ましくは5000N/mm以上、好ましくは15000N/mm以下、より好ましくは12000N/mm以下、更に好ましくは10000N/mm以下である。 Compression modulus when the base particle is compressed 10% (10% K value) is preferably 1500 N / mm 2 or more, more preferably 3000N / mm 2 or more, more preferably 5000N / mm 2 or more, preferably 15000N / Mm 2 or less, more preferably 12000 N / mm 2 or less, and even more preferably 10000 N / mm 2 or less.

上記基材粒子を30%圧縮したときの圧縮弾性率(30%K値)は好ましくは300N/mm以上、より好ましくは500N/mm以上、更に好ましくは1000N/mm以上、好ましくは5000N/mm以下、より好ましくは4000N/mm以下、更に好ましくは3000N/mm以下である。 The compression elastic modulus (30% K value) when the substrate particles are compressed by 30% is preferably 300 N / mm 2 or more, more preferably 500 N / mm 2 or more, still more preferably 1000 N / mm 2 or more, preferably 5000 N. / mm 2 or less, more preferably 4000 N / mm 2, more preferably not more than 3000N / mm 2.

上記基材粒子における上記圧縮弾性率(10%K値及び30%K値)は、以下のようにして測定できる。   The compression elastic modulus (10% K value and 30% K value) of the substrate particles can be measured as follows.

微小圧縮試験機を用いて、円柱(直径100μm、ダイヤモンド製)の平滑圧子端面で、25℃、圧縮速度0.3mN/秒、及び最大試験荷重20mNの条件下で基材粒子を圧縮する。このときの荷重値(N)及び圧縮変位(mm)を測定する。得られた測定値から、上記圧縮弾性率を下記式により求めることができる。上記微小圧縮試験機として、例えば、フィッシャー社製「フィッシャースコープH−100」等が用いられる。   Using a micro-compression tester, the substrate particles are compressed under the conditions of a smooth indenter end face of a cylinder (diameter 100 μm, made of diamond) at 25 ° C., a compression rate of 0.3 mN / sec, and a maximum test load of 20 mN. The load value (N) and compression displacement (mm) at this time are measured. From the measured value obtained, the compression elastic modulus can be obtained by the following formula. As the micro compression tester, for example, “Fischer Scope H-100” manufactured by Fischer is used.

10%K値又は30%K値(N/mm)=(3/21/2)・F・S−3/2・R−1/2
F:基材粒子が10%又は30%圧縮変形したときの荷重値(N)
S:基材粒子が10%又は30%圧縮変形したときの圧縮変位(mm)
R:基材粒子の半径(mm)
10% K value or 30% K value (N / mm 2 ) = (3/2 1/2 ) · F · S −3 / 2 · R −1/2
F: Load value (N) when the base particle is 10% or 30% compressively deformed
S: Compression displacement (mm) when the substrate particles are 10% or 30% compressively deformed
R: radius of base particle (mm)

上記圧縮弾性率は、基材粒子の硬さを普遍的かつ定量的に表す。上記圧縮弾性率の使用により、基材粒子の硬さを定量的かつ一義的に表すことができる。   The compression elastic modulus represents the hardness of the base particle universally and quantitatively. By using the compression elastic modulus, the hardness of the base particle can be expressed quantitatively and uniquely.

上記基材粒子の圧縮回復率は好ましくは20%以上、より好ましくは22%以上、更に好ましくは25%以上、特に好ましくは30%以上である。上記圧縮回復率が上記下限以上であると、電極間の間隔の変動に対応して、導電性粒子が十分に追従して変形しやすく、接続信頼性がより一層高くなる。このため、電極間の接続不良が生じ難くなる。上記基材粒子の圧縮回復率は好ましくは100%未満である。   The compression recovery rate of the substrate particles is preferably 20% or more, more preferably 22% or more, still more preferably 25% or more, and particularly preferably 30% or more. When the compression recovery rate is equal to or higher than the lower limit, the conductive particles are sufficiently followed and deformed corresponding to the variation in the distance between the electrodes, and the connection reliability is further improved. For this reason, it becomes difficult to produce the connection failure between electrodes. The compression recovery rate of the substrate particles is preferably less than 100%.

上記圧縮回復率は、以下のようにして測定できる。   The compression recovery rate can be measured as follows.

試料台上に基材粒子を散布する。散布された基材粒子1個について、微小圧縮試験機を用いて、基材粒子の中心方向に、基材粒子が30%圧縮変形するまで負荷(反転荷重値)を与える。その後、原点用荷重値(0.40mN)まで除荷を行う。この間の荷重−圧縮変位を測定し、下記式から圧縮回復率を求めることができる。なお、負荷速度は0.33mN/秒とする。上記微小圧縮試験機として、例えば、フィッシャー社製「フィッシャースコープH−100」等が用いられる。   Spread base particles on the sample stage. About one spread | diffused base material particle, a load (reverse load value) is given to the center direction of a base material particle until a base material particle compresses and deforms 30% using a micro compression tester. Thereafter, unloading is performed up to the origin load value (0.40 mN). The load-compression displacement during this period is measured, and the compression recovery rate can be obtained from the following equation. The load speed is 0.33 mN / sec. As the micro compression tester, for example, “Fischer Scope H-100” manufactured by Fischer is used.

圧縮回復率(%)=[(L1−L2)/L1]×100
L1:負荷を与えるときの原点用荷重値から反転荷重値に至るまでのまでの圧縮変位
L2:負荷を解放するときの反転荷重値から原点用荷重値に至るまでの除荷変位
Compression recovery rate (%) = [(L1-L2) / L1] × 100
L1: Compression displacement from the load value for origin to the reverse load value when applying a load L2: Unloading displacement from the reverse load value to the load value for origin when releasing the load

上記基材粒子の用途は特に限定されない。上記基材粒子は、様々な用途に好適に用いられる。上記基材粒子は、表面上に導電層が形成され、上記導電層を有する導電性粒子を得るために用いられるか、又は液晶表示素子用スペーサとして用いられることが好ましい。本発明に係る基材粒子は、表面上に導電層が形成され、上記導電層を有する導電性粒子を得るために用いられることが好ましい。上記基材粒子は、液晶表示素子用スペーサとして用いられることが好ましく、液晶表示素子用周辺シール剤に用いられることが好ましい。該液晶表示素子用周辺シール剤において、上記基材粒子は、スペーサとして機能することが好ましい。上記基材粒子は、上記有機コア及び特定の上記シェルの存在によって比較的良好な圧縮変形特性を有するので、上記基材粒子を液晶表示素子用スペーサとして用いて基板間に配置したり、表面に導電層を形成して導電性粒子として用いて電極間を電気的に接続したりした場合に、液晶表示素子用スペーサ又は導電性粒子が、基板間又は電極間に効率的に配置される。さらに、上記基材粒子では、シェルの破壊及び飛散が抑えられるので、上記液晶表示素子用スペーサを用いた液晶表示素子及び上記導電性粒子を用いた接続構造体において、表示不良及び接続不良が生じ難くなる。   The use of the substrate particles is not particularly limited. The said base particle is used suitably for various uses. The substrate particles are preferably used for obtaining conductive particles having a conductive layer formed on the surface and having the conductive layer, or used as spacers for liquid crystal display elements. The base particles according to the present invention are preferably used for obtaining conductive particles having a conductive layer formed on the surface and having the conductive layer. The substrate particles are preferably used as spacers for liquid crystal display elements, and are preferably used as peripheral sealing agents for liquid crystal display elements. In the peripheral sealing agent for a liquid crystal display element, the substrate particles preferably function as spacers. Since the base particles have relatively good compressive deformation characteristics due to the presence of the organic core and the specific shell, the base particles can be arranged between substrates using a spacer for a liquid crystal display element, or on the surface. When the conductive layer is formed and used as the conductive particles to electrically connect the electrodes, the spacer for liquid crystal display element or the conductive particles is efficiently arranged between the substrates or between the electrodes. Further, since the base material particles can suppress the destruction and scattering of the shell, in the liquid crystal display element using the liquid crystal display element spacer and the connection structure using the conductive particles, display failure and connection failure occur. It becomes difficult.

さらに、上記基材粒子は、無機充填材、トナーの添加剤、衝撃吸収剤又は振動吸収剤としても好適に用いられる。例えば、ゴム又はバネ等の代替品として、上記基材粒子を用いることができる。   Furthermore, the substrate particles are also suitably used as an inorganic filler, a toner additive, a shock absorber or a vibration absorber. For example, the base material particles can be used as a substitute for rubber or a spring.

また、本発明に係る基材粒子は、表面上に導電層が形成され、上記導電層を有する導電性粒子を得るために好適に用いられるか、又は液晶表示素子用スペーサとして好適に用いられるが、これらと同様又は類似の性質が求められる他の用途にも用いることができる。   Moreover, although the base material particle which concerns on this invention forms a conductive layer on the surface, it is used suitably in order to obtain the electroconductive particle which has the said conductive layer, or it is used suitably as a spacer for liquid crystal display elements. They can also be used in other applications where the same or similar properties are required.

上記有機コアの粒径は、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1μm以上、好ましくは500μm以下、より好ましくは100μm以下、更に好ましくは50μm以下、特に好ましくは20μm以下、最も好ましくは10μm以下である。上記有機コアの粒径が上記下限以上及び上記上限以下であると、上記比(10%K値/30%K値)が好適な値を示すことが容易であり、基材粒子を導電性粒子及び液晶表示素子の用途に好適に使用可能になる。例えば、上記有機コアの粒径が上記下限以上及び上記上限以下であると、上記シェルの破壊及び飛散がより一層抑えられ、更に上記導電性粒子を用いて電極間を接続した場合に、導電性粒子と電極との接触面積が充分に大きくなり、かつ導電層を形成する際に凝集した導電性粒子が形成されにくくなる。また、導電性粒子を介して接続された電極間の間隔が大きくなりすぎず、かつ導電層が基材粒子の表面から剥離し難くなる。   The particle size of the organic core is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, preferably 500 μm or less, more preferably 100 μm or less, still more preferably 50 μm or less, particularly preferably 20 μm or less, and most preferably 10 μm or less. is there. When the particle size of the organic core is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the above ratio (10% K value / 30% K value) is easy to show a suitable value, and the base particles are made conductive particles. In addition, the liquid crystal display device can be suitably used for applications. For example, when the particle size of the organic core is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the destruction and scattering of the shell can be further suppressed, and further when the electrodes are connected using the conductive particles, The contact area between the particles and the electrode is sufficiently large, and aggregated conductive particles are hardly formed when the conductive layer is formed. Further, the distance between the electrodes connected via the conductive particles does not become too large, and the conductive layer is difficult to peel from the surface of the base material particles.

上記有機コアの粒径は、上記有機コアが真球状である場合には直径を意味し、上記有機コアが真球状以外の形状である場合には、その体積相当の真球と仮定した際の直径を意味する。また、有機コアの粒径は、有機コアを任意の粒径測定装置により測定した平均粒径を意味する。例えば、レーザー光散乱、電気抵抗値変化、撮像後の画像解析などの原理を用いた粒度分布測定機が利用できる。   The particle diameter of the organic core means a diameter when the organic core is a true sphere, and when the organic core has a shape other than a true sphere, it is a true sphere corresponding to the volume. Means diameter. The particle size of the organic core means an average particle size obtained by measuring the organic core with an arbitrary particle size measuring device. For example, a particle size distribution measuring machine using principles such as laser light scattering, electrical resistance value change, and image analysis after imaging can be used.

上記シェルの厚みは、好ましくは50nm以上、より好ましくは75nm以上、更に好ましくは125nm以上、好ましくは500nm以下、より好ましくは300nm以下である。上記シェルの厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、シェルの破壊及び飛散がより一層抑えられ、接続抵抗が効果的に低くなり、更に10%K値及び30%K値がより一層好適な値を示し、基材粒子を導電性粒子及び液晶表示素子用スペーサの用途に好適に使用可能になる。上記シェルの厚みは、基材粒子1個あたりの平均厚みである。ゾルゲル法の制御によって、上記シェルの厚みを制御可能である。接続抵抗をより一層効果的に低くする観点からは、上記シェルの厚みが300nm以下であり、かつ上記比(10%K値/30%K値)が2.0以上であることが好ましい。   The thickness of the shell is preferably 50 nm or more, more preferably 75 nm or more, still more preferably 125 nm or more, preferably 500 nm or less, more preferably 300 nm or less. When the thickness of the shell is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the destruction and scattering of the shell are further suppressed, the connection resistance is effectively reduced, and the 10% K value and 30% K value are even more suitable. Thus, the base particles can be suitably used for the use of conductive particles and spacers for liquid crystal display elements. The thickness of the shell is an average thickness per base particle. The thickness of the shell can be controlled by controlling the sol-gel method. From the viewpoint of further effectively reducing the connection resistance, the thickness of the shell is preferably 300 nm or less, and the ratio (10% K value / 30% K value) is preferably 2.0 or more.

本発明においてシェルの厚みは、基材粒子の粒径と有機コアの粒径との差から求めることができる。上記基材粒子の粒径は、上記基材粒子が真球状である場合には直径を意味し、上記基材粒子が真球状以外の形状である場合には、その体積相当の真球と仮定した際の直径を意味する。粒子径の測定には例えば、レーザー光散乱、電気抵抗値変化、撮像後の画像解析などの原理を用いた粒度分布測定機が利用できる。   In the present invention, the thickness of the shell can be determined from the difference between the particle size of the base particle and the particle size of the organic core. The particle diameter of the base particle means a diameter when the base particle is a true sphere, and when the base particle is a shape other than a true sphere, it is assumed to be a true sphere corresponding to its volume. This means the diameter when For the measurement of the particle size, for example, a particle size distribution measuring machine using principles such as laser light scattering, electric resistance value change, image analysis after imaging can be used.

上記基材粒子のアスペクト比は、好ましくは2以下、より好ましくは1.5以下、更に好ましくは1.2以下である。上記アスペクト比は、長径/短径を示す。   The aspect ratio of the substrate particles is preferably 2 or less, more preferably 1.5 or less, and still more preferably 1.2 or less. The aspect ratio indicates a major axis / minor axis.

接続構造体における接続抵抗を効果的に低くし、液晶表示素子における表示品質を効果的に高め、接続構造体及び液晶表示素子における耐衝撃性を効果的に高める観点から、上記有機コアは、有機化合物により形成されている。上記有機コアが有機化合物により形成されていることで、シェルの破壊及び飛散が抑えられる。上記有機コアは、有機粒子であることが好ましい。   From the viewpoint of effectively reducing the connection resistance in the connection structure, effectively improving the display quality in the liquid crystal display element, and effectively improving the impact resistance in the connection structure and the liquid crystal display element, the organic core is organic It is formed by a compound. The destruction and scattering of the shell are suppressed by forming the organic core from an organic compound. The organic core is preferably organic particles.

接続構造体における接続抵抗を効果的に低くし、液晶表示素子における表示品質を効果的に高め、接続構造体及び液晶表示素子における耐衝撃性を効果的に高める観点から、上記シェルは、上記化合物Aと、上記反応性官能基含有化合物Bとを用いて、上記化合物Aを加水分解及び重縮合させて、かつ上記化合物Aと上記反応性官能基含有化合物Bとを反応させることにより得られる。上記有機コアとシェルとを備えるコアシェル粒子において、上記シェルが上記のように形成されていることで、シェルの破壊及び飛散がより一層抑えられる。   From the viewpoint of effectively reducing the connection resistance in the connection structure, effectively increasing the display quality in the liquid crystal display element, and effectively increasing the impact resistance in the connection structure and the liquid crystal display element, the shell is composed of the compound It is obtained by hydrolyzing and polycondensing the compound A using A and the reactive functional group-containing compound B, and reacting the compound A with the reactive functional group-containing compound B. In the core-shell particle including the organic core and the shell, the shell is formed as described above, so that the destruction and scattering of the shell are further suppressed.

有機コアは比較的柔軟である。また、上記シェルは、上記のようにして得られることから、得られる上記基材粒子では、上記比(10%K値/30%K値)及び上記圧縮回復率が上述した値を満足することが容易である。   The organic core is relatively flexible. In addition, since the shell is obtained as described above, the ratio (10% K value / 30% K value) and the compression recovery rate satisfy the above-described values in the obtained base particle. Is easy.

上記基材粒子は、コアシェル粒子である。上記シェルは、上記有機コアの表面上に配置されている。上記シェルは上記有機コアの表面を被覆していることが好ましい。   The base particles are core-shell particles. The shell is disposed on the surface of the organic core. The shell preferably covers the surface of the organic core.

シェルの破壊及び飛散をより一層抑え、接続構造体における電極間の接続抵抗をより一層低くし、液晶表示素子における表示品質をより一層良好にする観点からは、上記シェルが、上記化合物Aが加水分解及び重縮合することにより形成された複数の粒子状物を含み、上記複数の粒子状物が、上記反応性官能基含有化合物Bに由来して一体化されていることが好ましい。   From the viewpoint of further suppressing the destruction and scattering of the shell, further lowering the connection resistance between the electrodes in the connection structure, and further improving the display quality in the liquid crystal display element, the above-mentioned shell is capable of hydrolyzing the compound A. It is preferable that a plurality of particulate matters formed by decomposition and polycondensation are included, and the plurality of particulate matters are derived from and integrated with the reactive functional group-containing compound B.

上記有機コアを形成するための材料として、種々の有機物が好適に用いられる。上記有機コアを形成するための材料として、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリイソブチレン、ポリブタジエン等のポリオレフィン樹脂;ポリメチルメタクリレート、ポリメチルアクリレート等のアクリル樹脂;ポリアルキレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリカーボネート、ポリアミド、フェノールホルムアルデヒド樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミンホルムアルデヒド樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、及び、エチレン性不飽和基を有する種々の重合性単量体を1種もしくは2種以上重合させて得られる重合体等が用いられる。エチレン性不飽和基を有する種々の重合性単量体を1種もしくは2種以上重合させることにより、導電材料に適した任意の圧縮時の物性を有する基材粒子を設計及び合成することが容易である。   Various organic materials are suitably used as a material for forming the organic core. Examples of the material for forming the organic core include polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyisobutylene, and polybutadiene; acrylic resins such as polymethyl methacrylate and polymethyl acrylate; Terephthalate, polysulfone, polycarbonate, polyamide, phenol formaldehyde resin, melamine formaldehyde resin, benzoguanamine formaldehyde resin, urea formaldehyde resin, and various polymerizable monomers having an ethylenically unsaturated group are polymerized by one or more kinds. The resulting polymer is used. Easily design and synthesize base particles with any compression properties suitable for conductive materials by polymerizing one or more of various polymerizable monomers having ethylenically unsaturated groups It is.

上記有機コアを、エチレン性不飽和基を有する単量体を重合させて得る場合には、上記エチレン性不飽和基を有する単量体としては、非架橋性の単量体と架橋性の単量体とが挙げられる。   When the organic core is obtained by polymerizing a monomer having an ethylenically unsaturated group, the monomer having an ethylenically unsaturated group may be a non-crosslinkable monomer or a crosslinkable monomer. And a polymer.

上記非架橋性の単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系単量体;(メタ)アクリル酸、マレイン酸、無水マレイン酸等のカルボキシル基含有単量体;メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、セチル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート等のアルキル(メタ)アクリレート類;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリセロール(メタ)アクリレート、ポリオキシエチレン(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート等の酸素原子含有(メタ)アクリレート類;(メタ)アクリロニトリル等のニトリル含有単量体;メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル等のビニルエーテル類;酢酸ビニル、酪酸ビニル、ラウリン酸ビニル、ステアリン酸ビニル等の酸ビニルエステル類;エチレン、プロピレン、イソプレン、ブタジエン等の不飽和炭化水素;トリフルオロメチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロエチル(メタ)アクリレート、塩化ビニル、フッ化ビニル、クロルスチレン等のハロゲン含有単量体等が挙げられる。   Examples of the non-crosslinkable monomer include styrene monomers such as styrene and α-methylstyrene; carboxyl group-containing monomers such as (meth) acrylic acid, maleic acid, and maleic anhydride; (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, cetyl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, cyclohexyl ( Alkyl (meth) acrylates such as meth) acrylate and isobornyl (meth) acrylate; oxygen such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, glycerol (meth) acrylate, polyoxyethylene (meth) acrylate and glycidyl (meth) acrylate (Meth) acrylates; nitrile-containing monomers such as (meth) acrylonitrile; vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether; vinyl acids such as vinyl acetate, vinyl butyrate, vinyl laurate, vinyl stearate Esters; Unsaturated hydrocarbons such as ethylene, propylene, isoprene and butadiene; Halogen-containing monomers such as trifluoromethyl (meth) acrylate, pentafluoroethyl (meth) acrylate, vinyl chloride, vinyl fluoride and chlorostyrene Is mentioned.

上記架橋性の単量体としては、例えば、テトラメチロールメタンテトラ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタントリ(メタ)アクリレート、テトラメチロールメタンジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、グリセロールトリ(メタ)アクリレート、グリセロールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)プロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、(ポリ)テトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート,1,9−ノナンジオールジ(メタ)アクリレート等の多官能(メタ)アクリレート類;トリアリル(イソ)シアヌレート、トリアリルトリメリテート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート、ジアリルアクリルアミド、ジアリルエーテル、γ−(メタ)アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、トリメトキシシリルスチレン、ビニルトリメトキシシラン等のシラン含有単量体等が挙げられる。   Examples of the crosslinkable monomer include tetramethylolmethane tetra (meth) acrylate, tetramethylolmethane tri (meth) acrylate, tetramethylolmethane di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, and dipenta Erythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, glycerol tri (meth) acrylate, glycerol di (meth) acrylate, (poly) ethylene glycol di (meth) acrylate, (poly) propylene glycol di (meth) Acrylate, (poly) tetramethylene glycol di (meth) acrylate, 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, 1,9-nona Polyfunctional (meth) acrylates such as diol di (meth) acrylate; triallyl (iso) cyanurate, triallyl trimellitate, divinylbenzene, diallyl phthalate, diallyl acrylamide, diallyl ether, γ- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane And silane-containing monomers such as trimethoxysilylstyrene and vinyltrimethoxysilane.

上記単量体の中でも、有機コアをより一層柔らかくする観点から、上記有機コアを形成するための材料は、イソボルニル(メタ)アクリレート−ジビニルベンゼンの共重合体であることが好ましい。   Among the monomers, from the viewpoint of further softening the organic core, the material for forming the organic core is preferably an isobornyl (meth) acrylate-divinylbenzene copolymer.

上記エチレン性不飽和基を有する重合性単量体を、公知の方法により重合させることで、上記有機コアを得ることができる。この方法としては、例えば、ラジカル重合開始剤の存在下で懸濁重合する方法、並びに非架橋の種粒子を用いてラジカル重合開始剤とともに単量体を膨潤させて重合する方法等が挙げられる。   The organic core can be obtained by polymerizing the polymerizable monomer having an ethylenically unsaturated group by a known method. Examples of this method include a method of suspension polymerization in the presence of a radical polymerization initiator, and a method of polymerizing by swelling a monomer together with a radical polymerization initiator using non-crosslinked seed particles.

シェルの形成時及び基材粒子の使用時に有機コアの変形を抑制する観点からは、上記有機コアの分解温度は、好ましくは200℃を超え、より好ましくは250℃を超え、より一層好ましくは300℃を超える。上記コアの分解温度は、400℃を超えていてもよく、500℃を超えていてもよく、600℃を超えていてもよく、800℃を超えていてもよい。   From the viewpoint of suppressing the deformation of the organic core during the formation of the shell and the use of the base particles, the decomposition temperature of the organic core is preferably more than 200 ° C, more preferably more than 250 ° C, and still more preferably 300. Over ℃. The decomposition temperature of the core may exceed 400 ° C., may exceed 500 ° C., may exceed 600 ° C., and may exceed 800 ° C.

接続構造体における接続抵抗を効果的に低くし、液晶表示素子における表示品質を効果的に高め、接続構造体における接続不良及び液晶表示素子における表示不良を効果的に抑える観点からは、上記基材粒子は、上記有機コアを分散させた溶媒中で、上記シェルを構成するための一次粒子を吸着させることで上記シェルを形成することにより得られることが好ましい。   From the viewpoint of effectively reducing the connection resistance in the connection structure, effectively improving the display quality in the liquid crystal display element, and effectively suppressing the connection failure in the connection structure and the display defect in the liquid crystal display element, The particles are preferably obtained by forming the shell by adsorbing primary particles for constituting the shell in a solvent in which the organic core is dispersed.

上記化合物Aは、シラノール基を有するか、又は珪素原子に結合したアルコキシ基を有する。該アルコキシ基はケイ素原子と直接結合している。上記化合物Aは、シラノール基及び珪素原子に結合したアルコキシ基の内のいずれか一方を有していればよく、シラノール基と珪素原子に結合したアルコキシ基との双方を有していてもよい。   The compound A has a silanol group or an alkoxy group bonded to a silicon atom. The alkoxy group is directly bonded to the silicon atom. The compound A only needs to have either a silanol group or an alkoxy group bonded to a silicon atom, and may have both a silanol group and an alkoxy group bonded to a silicon atom.

上記シェルの形成方法は特に限定されないが、上記コアの表面上で、上記化合物Aをゾルゲル法によりシェル状物とすることで、シェルを形成することが好ましい。ゾルゲル法では、上記有機コアの表面上にシェル状物を配置することが容易である。上記シェルを形成するために、上記シェル状物を有機コアの分解温度以下で焼成してもよい。   Although the formation method of the said shell is not specifically limited, It is preferable to form a shell by making the said compound A into a shell-like material by the sol-gel method on the surface of the said core. In the sol-gel method, it is easy to dispose a shell-like material on the surface of the organic core. In order to form the shell, the shell-like material may be fired at a temperature below the decomposition temperature of the organic core.

上記ゾルゲル法の具体的な方法としては、有機コア、水やアルコール、ケトン等の溶媒、界面活性剤、及び酸性又は塩基性の触媒を含む分散液に、テトラエトキシシラン等の上記化合物Aを共存させて界面ゾル反応を行う方法、並びに水やアルコール、ケトン等の溶媒、及び酸性又は塩基性触媒と共存させたテトラエトキシシラン等の上記化合物Aによりゾルゲル反応を行った後、有機コアにゾルゲル反応物をヘテロ凝集させる方法等が挙げられる。   As a specific method of the sol-gel method, the compound A such as tetraethoxysilane coexists in a dispersion containing an organic core, a solvent such as water, alcohol, and ketone, a surfactant, and an acidic or basic catalyst. Sol-gel reaction with the above-mentioned compound A such as tetraethoxysilane coexisting with a solvent such as water, alcohol, ketone, and acidic or basic catalyst, and then the sol-gel reaction on the organic core And a method of heteroaggregating the product.

上記ゾルゲル法では、界面活性剤を用いることが好ましい。界面活性剤の存在下で、上記化合物Aをゾルゲル法によりシェル状物にすることが好ましい。上記界面活性剤は特に限定されない。上記界面活性剤は、良好なシェル状物を形成するように適宜選択して用いられる。上記界面活性剤としては、カチオン性界面活性剤、アニオン性界面活性剤及びノニオン性界面活性剤等が挙げられる。なかでも、良好なシェルを形成できることから、カチオン性界面活性剤が好ましい。   In the sol-gel method, it is preferable to use a surfactant. In the presence of a surfactant, the compound A is preferably made into a shell-like material by a sol-gel method. The surfactant is not particularly limited. The surfactant is appropriately selected and used so as to form a good shell. Examples of the surfactant include a cationic surfactant, an anionic surfactant, and a nonionic surfactant. Among these, a cationic surfactant is preferable because a good shell can be formed.

上記カチオン性界面活性剤としては、4級アンモニウム塩及び4級ホスホニウム塩等が挙げられる。上記カチオン性界面活性剤の具体例としては、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド等が挙げられる。   Examples of the cationic surfactant include quaternary ammonium salts and quaternary phosphonium salts. Specific examples of the cationic surfactant include hexadecyltrimethylammonium bromide.

上記有機コアの表面上で、上記シェルを形成するために、上記シェル状物は焼成されていてもよい。焼成条件により、シェルにおける架橋度を調整可能である。また、焼成を行うことで、焼成を行わない場合と比べて、上記基材粒子の10%K値及び30%K値がより一層好適な値を示すようになる。特に架橋度を高めることで、10%K値が十分に高くなる。   In order to form the shell on the surface of the organic core, the shell-like material may be fired. The degree of crosslinking in the shell can be adjusted by the firing conditions. In addition, by performing the firing, the 10% K value and the 30% K value of the base material particles are more suitable as compared with the case where the firing is not performed. In particular, the 10% K value is sufficiently increased by increasing the degree of crosslinking.

良好なシェルを形成する観点からは、上記化合物Aは、シランアルコキシドであることが好ましい。上記化合物は1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   From the viewpoint of forming a good shell, the compound A is preferably a silane alkoxide. As for the said compound, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

良好なシェルを形成する観点からは、上記化合物Aに相当し得る上記シランアルコキシドは、下記式(1A)で表されるシランアルコキシドであることが好ましい。   From the viewpoint of forming a good shell, the silane alkoxide that can correspond to the compound A is preferably a silane alkoxide represented by the following formula (1A).

Si(R1)(OR2)4−n ・・・(1A) Si (R1) n (OR2) 4-n (1A)

上記式(1A)中、R1はフェニル基又は炭素数1〜30のアルキル基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキル基を表し、nは0〜2の整数を表す。nが2であるとき、複数のR1は同一であってもよく、異なっていてもよい。複数のR2は同一であってもよく、異なっていてもよい。   In said formula (1A), R1 represents a phenyl group or a C1-C30 alkyl group, R2 represents a C1-C6 alkyl group, and n represents the integer of 0-2. When n is 2, the plurality of R1s may be the same or different. Several R2 may be the same and may differ.

上記式(1A)中の上記R1が炭素数1〜30のアルキル基である場合、R1の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−オクチル基、及びn−デシル基等が挙げられる。このアルキル基の炭素数は好ましくは10以下、より好ましくは6以下である。なお、アルキル基には、シクロアルキル基が含まれる。   When R1 in the above formula (1A) is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, specific examples of R1 include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, isobutyl, n-hexyl, and cyclohexyl. Group, n-octyl group, n-decyl group and the like. This alkyl group preferably has 10 or less carbon atoms, more preferably 6 or less. The alkyl group includes a cycloalkyl group.

上記R2の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、及びイソブチル基等が挙げられる。   Specific examples of R2 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and an isobutyl group.

上記化合物Aに相当し得る上記シランアルコキシドの具体例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−オクチルトリエトキシシラン、n−デシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、及びジイソプロピルジメトキシシラン等が挙げられる。これら以外のシランアルコキシドを用いてもよい。   Specific examples of the silane alkoxide that can correspond to the compound A include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, isopropyltrimethoxysilane, and isobutyl. Examples include trimethoxysilane, cyclohexyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-octyltriethoxysilane, n-decyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, and diisopropyldimethoxysilane. Silane alkoxides other than these may be used.

上記化合物Aである上記シランアルコキシドは、ケイ素原子に4つの−O−Si基が直接結合しておりかつ上記4つの−O−Si基における4つの酸素原子が直接結合している構造を有するシランアルコキシドを含むことが好ましい。上記化合物Aである上記シランアルコキシドは、下記式(1Aa)で表されるシランアルコキシドを含むことが好ましい。   The silane alkoxide which is the compound A is a silane having a structure in which four —O—Si groups are directly bonded to silicon atoms and four oxygen atoms in the four —O—Si groups are directly bonded. It is preferable that an alkoxide is included. The silane alkoxide that is the compound A preferably includes a silane alkoxide represented by the following formula (1Aa).

Si(OR2) ・・・(1Aa) Si (OR2) 4 (1Aa)

上記式(1Aa)中、R2は炭素数1〜6のアルキル基を表す。複数のR2は同一であってもよく、異なっていてもよい。   In said formula (1Aa), R2 represents a C1-C6 alkyl group. Several R2 may be the same and may differ.

10%K値及び30%K値をより一層好適な範囲に制御する観点からは、上記シェルを形成するために用いる、上記化合物Aであるシランアルコキシド100モル%中、上記ケイ素原子に4つの−O−Si基が直接結合しておりかつ上記4つの−O−Si基における4つの酸素原子が直接結合している構造を有するシランアルコキシド、又は上記式(1Aa)で表されるシランアルコキシドの各含有量は、好ましくは20モル%以上、より好ましくは40モル%以上、更に好ましくは50モル%以上、特に好ましくは60モル%以上、100モル%以下である。上記シェルを形成するために用いる上記化合物Aであるシランアルコキシドの全量が、上記ケイ素原子に4つの−O−Si基が直接結合しておりかつ上記4つの−O−Si基における4つの酸素原子が直接結合している構造を有するシランアルコキシド、又は上記式(1Aa)で表されるシランアルコキシドであってもよい。   From the viewpoint of controlling the 10% K value and the 30% K value to a more suitable range, four silicon atoms are added to the silicon atom in 100 mol% of the silane alkoxide, which is the compound A, used to form the shell. Each of a silane alkoxide having a structure in which O-Si groups are directly bonded and four oxygen atoms in the four -O-Si groups are directly bonded, or each of the silane alkoxides represented by the above formula (1Aa) The content is preferably 20 mol% or more, more preferably 40 mol% or more, still more preferably 50 mol% or more, particularly preferably 60 mol% or more and 100 mol% or less. The total amount of the silane alkoxide, which is the compound A used to form the shell, is such that four —O—Si groups are directly bonded to the silicon atom, and four oxygen atoms in the four —O—Si groups. May be a silane alkoxide having a structure in which is directly bonded, or a silane alkoxide represented by the above formula (1Aa).

10%K値及び30%K値をより一層好適な範囲に制御する観点からは、上記シェルに含まれる上記化合物Aであるシランアルコキシドに由来する金属原子の全個数100%中、4つの−O−Si基が直接結合しておりかつ上記4つの−O−Si基における4つの酸素原子が直接結合しているケイ素原子の個数の割合はそれぞれ、好ましくは20%以上、より好ましくは40%以上、更に好ましくは50%以上、特に好ましくは60%以上である。   From the viewpoint of controlling the 10% K value and the 30% K value to a more preferable range, four —O in 100% of the total number of metal atoms derived from the silane alkoxide as the compound A contained in the shell. The ratio of the number of silicon atoms in which —Si groups are directly bonded and in which the four oxygen atoms in the four —O—Si groups are directly bonded is preferably 20% or more, more preferably 40% or more. More preferably, it is 50% or more, particularly preferably 60% or more.

また、10%K値を適度に高くし、かつ上記比(10%K値/30%K値)を適度な範囲に制御する観点からは、上記シェルに含まれている珪素原子の全個数100%中、4つの−O−M基が直接結合しておりかつ上記4つの−O−M基における4つの酸素原子が直接結合している金属原子の個数の割合は、好ましくは20%以上、より好ましくは40%以上、更に好ましくは50%以上、特に好ましくは60%以上である。   From the viewpoint of appropriately increasing the 10% K value and controlling the ratio (10% K value / 30% K value) within an appropriate range, the total number of silicon atoms contained in the shell is 100. %, The ratio of the number of metal atoms in which four —OM groups are directly bonded and in which the four oxygen atoms in the four —OM groups are directly bonded is preferably 20% or more, More preferably, it is 40% or more, further preferably 50% or more, and particularly preferably 60% or more.

なお、4つの−O−Si基が直接結合しておりかつ上記4つの−O−Si基における4つの酸素原子が直接結合しているケイ素原子は、例えば、下記式(11)で表される構造におけるケイ素原子である。具体的には、下記式(11X)で表される構造における矢印Aを付して示す珪素原子である。   Note that a silicon atom in which four —O—Si groups are directly bonded and four oxygen atoms in the four —O—Si groups are directly bonded is represented by, for example, the following formula (11). It is a silicon atom in the structure. Specifically, it is a silicon atom indicated by an arrow A in the structure represented by the following formula (11X).

Figure 2015072898
Figure 2015072898

なお、上記式(11)における酸素原子は、一般に隣接する珪素原子とシロキサン結合を形成している。   The oxygen atom in the above formula (11) generally forms a siloxane bond with the adjacent silicon atom.

Figure 2015072898
Figure 2015072898

良好なシェルを形成する観点からは、上記化合物Bは、シランアルコキシドであることが好ましい。但し、上記化合物Bは、シランアルコキシドでなくてもよい。上記化合物Bは1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。良好なシェルを形成する観点からは、上記化合物Bにおけるシラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基と反応してSi−O−C結合を形成可能な反応性官能基は、エポキシ基、カルボキシル基、ビニル基又は(メタ)アクリロキシ基であることが好ましく、エポキシ基、ビニル基又は(メタ)アクリロキシ基であることがより好ましく、ビニル基又は(メタ)アクリロキシ基であることが更に好ましい。ビニル基には、アクリロキシ基におけるHC=CH基は含まれない。良好なシェルを形成する観点からは、上記化合物Bにおけるシラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基と反応してSi−O−C結合を形成可能な反応性官能基は、シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基と反応してSi−O−C結合を形成可能な反応性官能基であることが好ましい。 From the viewpoint of forming a good shell, the compound B is preferably a silane alkoxide. However, the compound B may not be a silane alkoxide. As for the said compound B, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together. From the viewpoint of forming a good shell, the reactive functional group capable of reacting with the silanol group or the alkoxy group bonded to the silicon atom in the compound B to form a Si—O—C bond is an epoxy group, a carboxyl group, A vinyl group or a (meth) acryloxy group is preferred, an epoxy group, a vinyl group or a (meth) acryloxy group is more preferred, and a vinyl group or a (meth) acryloxy group is still more preferred. The vinyl group does not include the H 2 C═CH group in the acryloxy group. From the viewpoint of forming a good shell, the reactive functional group capable of reacting with a silanol group or an alkoxy group bonded to a silicon atom in the compound B to form a Si—O—C bond is a silanol group or a silicon atom. It is preferably a reactive functional group that can react with a bonded alkoxy group to form a Si—O—C bond.

良好なシェルを形成する観点からは、上記化合物Bにおける上記シランアルコキシドは、下記式(1B)で表されるシランアルコキシドであることが好ましい。   From the viewpoint of forming a good shell, the silane alkoxide in the compound B is preferably a silane alkoxide represented by the following formula (1B).

Si(R1)(OR2)4−n ・・・(1B) Si (R1) n (OR2) 4-n (1B)

上記式(1B)中、R1はフェニル基、炭素数1〜30のアルキル基、重合性二重結合を有する炭素数1〜30の有機基又はエポキシ基を有する炭素数1〜30の有機基を表し、R2は炭素数1〜6のアルキル基を表し、nは0〜2の整数を表す。nが2であるとき、複数のR1は同一であってもよく、異なっていてもよい。複数のR2は同一であってもよく、異なっていてもよい。但し、少なくとも1つのR1は、重合性二重結合を有する炭素数1〜30の有機基又はエポキシ基を有する炭素数1〜30の有機基である。少なくとも1つのR1は、エポキシ基、カルボキシル基、ビニル基又は(メタ)アクリロキシ基であることが好ましく、エポキシ基、ビニル基又は(メタ)アクリロキシ基であることがより好ましく、ビニル基又は(メタ)アクリロキシ基であることが更に好ましい。   In the above formula (1B), R1 represents a phenyl group, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, an organic group having 1 to 30 carbon atoms having a polymerizable double bond, or an organic group having 1 to 30 carbon atoms having an epoxy group. R2 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and n represents an integer of 0 to 2. When n is 2, the plurality of R1s may be the same or different. Several R2 may be the same and may differ. However, at least 1 R1 is a C1-C30 organic group which has a polymerizable double bond, or a C1-C30 organic group which has an epoxy group. At least one R1 is preferably an epoxy group, a carboxyl group, a vinyl group or a (meth) acryloxy group, more preferably an epoxy group, a vinyl group or a (meth) acryloxy group, and a vinyl group or (meth). More preferably, it is an acryloxy group.

上記式(1B)中の上記R1が炭素数1〜30のアルキル基である場合、R1の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基、n−ヘキシル基、シクロヘキシル基、n−オクチル基、及びn−デシル基等が挙げられる。このアルキル基の炭素数は好ましくは10以下、より好ましくは6以下である。なお、アルキル基には、シクロアルキル基が含まれる。   When R1 in the formula (1B) is an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, specific examples of R1 include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, an isobutyl group, an n-hexyl group, and a cyclohexyl group. Group, n-octyl group, n-decyl group and the like. This alkyl group preferably has 10 or less carbon atoms, more preferably 6 or less. The alkyl group includes a cycloalkyl group.

上記重合性二重結合としては、炭素−炭素二重結合が挙げられる。上記R1が重合性二重結合を有する炭素数1〜30の有機基である場合に、R1の具体例としては、ビニル基、アリル基、イソプロペニル基、及び3−(メタ)アクリロキシアルキル基等が挙げられる。上記(メタ)アクリロキシアルキル基としては、(メタ)アクリロキシメチル基、(メタ)アクリロキシエチル基及び(メタ)アクリロキシプロピル基等が挙げられる。上記重合性二重結合を有する炭素数1〜30の有機基の炭素数は好ましくは2以上、好ましくは30以下、より好ましくは10以下である。上記「(メタ)アクリロキシ」は、メタクリロキシ又はアクリロキシを意味する。   Examples of the polymerizable double bond include a carbon-carbon double bond. When R1 is an organic group having 1 to 30 carbon atoms having a polymerizable double bond, specific examples of R1 include a vinyl group, an allyl group, an isopropenyl group, and a 3- (meth) acryloxyalkyl group. Etc. Examples of the (meth) acryloxyalkyl group include a (meth) acryloxymethyl group, a (meth) acryloxyethyl group, and a (meth) acryloxypropyl group. The carbon number of the organic group having 1 to 30 carbon atoms having a polymerizable double bond is preferably 2 or more, preferably 30 or less, more preferably 10 or less. The above “(meth) acryloxy” means methacryloxy or acryloxy.

上記R1がエポキシ基を有する炭素数1〜30の有機基である場合、R1の具体例としては、1,2−エポキシエチル基、1,2−エポキシプロピル基、2,3−エポキシプロピル基、3,4−エポキシブチル基、3−グリシドキシプロピル基、及び2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチル基等が挙げられる。上記エポキシ基を有する炭素数1〜30の有機基の炭素数は好ましくは8以下、より好ましくは6以下である。なお、上記エポキシ基を有する炭素数1〜30の有機基は、炭素原子及び水素原子に加えて、エポキシ基に由来する酸素原子を含む基である。   When R1 is an organic group having 1 to 30 carbon atoms having an epoxy group, specific examples of R1 include 1,2-epoxyethyl group, 1,2-epoxypropyl group, 2,3-epoxypropyl group, Examples include 3,4-epoxybutyl group, 3-glycidoxypropyl group, and 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyl group. The carbon number of the C1-C30 organic group having the epoxy group is preferably 8 or less, more preferably 6 or less. In addition, the C1-C30 organic group which has the said epoxy group is group containing the oxygen atom derived from an epoxy group in addition to a carbon atom and a hydrogen atom.

上記R2の具体例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、及びイソブチル基等が挙げられる。   Specific examples of R2 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, and an isobutyl group.

シランアルコキシド以外の上記化合物Bとしては、エポキシ基、カルボキシル基、ビニル基又は(メタ)アクリロキシ基を含むスチレン系誘導体、(メタ)アクリル系誘導体、並びにアクリロニトリル系誘導体等が挙げられる。   Examples of the compound B other than the silane alkoxide include styrene-based derivatives, (meth) acrylic derivatives, and acrylonitrile-based derivatives containing an epoxy group, a carboxyl group, a vinyl group, or a (meth) acryloxy group.

上記有機コアと上記シェルとの間で共有結合していないことが好ましい。上記有機コアと上記シェルとの間で共有結合していない場合には、シェルが過度に割れにくくなり、更に電極と導電性粒子との接続対象部材に対する接触面積を大きくすることができ、電極間の接続抵抗をより一層低くすることができ、液晶表示素子の表示品質をより一層良好にすることができる。   It is preferable that no covalent bond is formed between the organic core and the shell. When the organic core and the shell are not covalently bonded, the shell is not easily cracked, and the contact area of the electrode and the conductive particles to the connection target member can be increased. The connection resistance can be further reduced, and the display quality of the liquid crystal display element can be further improved.

上記有機コアと上記シェルとの間で共有結合していていないことが好ましいが、共有結合していてもよい。上記有機コアと上記シェルとの間で共有結合させる方法としては、有機コアの表面に、シェルを構成する材料の官能基と反応可能な官能基を導入した後、有機コアの表面上で上記シェルを構成する材料によりシェルを形成する方法等が挙げられる。具体的には、有機コアの表面をカップリング剤により表面処理した後に、上記有機コアの表面上で、上記化合物Aなどを含む成分をゾルゲル法によりシェル状物とする方法等が挙げられる。   The organic core and the shell are preferably not covalently bonded, but may be covalently bonded. As a method of covalently bonding between the organic core and the shell, a functional group capable of reacting with a functional group of a material constituting the shell is introduced on the surface of the organic core, and then the shell is formed on the surface of the organic core. The method of forming a shell with the material which comprises is mentioned. Specifically, the surface of the organic core is surface-treated with a coupling agent, and then the component containing the compound A or the like is formed into a shell-like material by a sol-gel method on the surface of the organic core.

(導電性粒子)
上記導電性粒子は、上述した基材粒子と、該基材粒子の表面上に配置された導電層とを備える。
(Conductive particles)
The said electroconductive particle is equipped with the base material particle mentioned above and the conductive layer arrange | positioned on the surface of this base material particle.

図1に、本発明の第1の実施形態に係る導電性粒子を断面図で示す。   In FIG. 1, the electroconductive particle which concerns on the 1st Embodiment of this invention is shown with sectional drawing.

図1に示す導電性粒子1は、基材粒子11と、基材粒子11の表面上に配置された導電層2とを有する。導電層2は、基材粒子11の表面を被覆している。導電性粒子1は、基材粒子11の表面が導電層2により被覆された被覆粒子である。   The electroconductive particle 1 shown in FIG. 1 has the base material particle 11 and the electroconductive layer 2 arrange | positioned on the surface of the base material particle 11. FIG. The conductive layer 2 covers the surface of the base particle 11. The conductive particle 1 is a coated particle in which the surface of the base particle 11 is coated with the conductive layer 2.

基材粒子11は、有機コア12と、有機コア12の表面上に配置されたシェル13とを備える。シェル13は、有機コア12の表面を被覆している。導電層2は、シェル13の外表面上に配置されている。導電層2は、シェル13の外表面を被覆している。   The base particle 11 includes an organic core 12 and a shell 13 disposed on the surface of the organic core 12. The shell 13 covers the surface of the organic core 12. The conductive layer 2 is disposed on the outer surface of the shell 13. The conductive layer 2 covers the outer surface of the shell 13.

図2に、本発明の第2の実施形態に係る導電性粒子を断面図で示す。   In FIG. 2, the electroconductive particle which concerns on the 2nd Embodiment of this invention is shown with sectional drawing.

図2に示す導電性粒子21は、基材粒子11と、基材粒子11の表面上に配置された導電層22とを有する。導電層22は、内層である第1の導電層22Aと外層である第2の導電層22Bとを有する。基材粒子11の表面上に、第1の導電層22Aが配置されている。シェル13の外表面上に、第1の導電層22Aが配置されている。第1の導電層22Aの表面上に、第2の導電層22Bが配置されている。   The conductive particle 21 shown in FIG. 2 has the base particle 11 and the conductive layer 22 arranged on the surface of the base particle 11. The conductive layer 22 includes a first conductive layer 22A that is an inner layer and a second conductive layer 22B that is an outer layer. The first conductive layer 22 </ b> A is disposed on the surface of the base particle 11. A first conductive layer 22 </ b> A is disposed on the outer surface of the shell 13. A second conductive layer 22B is disposed on the surface of the first conductive layer 22A.

図3に、本発明の第3の実施形態に係る導電性粒子を断面図で示す。   In FIG. 3, the electroconductive particle which concerns on the 3rd Embodiment of this invention is shown with sectional drawing.

図3に示す導電性粒子31は、基材粒子11と、導電層32と、複数の芯物質33と、複数の絶縁性物質34とを有する。   The conductive particles 31 shown in FIG. 3 include base material particles 11, a conductive layer 32, a plurality of core substances 33, and a plurality of insulating substances 34.

導電層32は、基材粒子11の表面上に配置されている。シェル13の外表面上に導電層32が配置されている。   The conductive layer 32 is disposed on the surface of the base particle 11. A conductive layer 32 is disposed on the outer surface of the shell 13.

導電性粒子31は表面に、複数の突起31aを有する。導電層32は外表面に、複数の突起32aを有する。このように、上記導電性粒子は、導電性粒子の表面に突起を有していてもよく、導電層の外表面に突起を有していてもよい。複数の芯物質33が、基材粒子11の表面上に配置されている。シェル13の表面上に、複数の芯物質33が配置されている。複数の芯物質33は導電層32内に埋め込まれている。芯物質33は、突起31a,32aの内側に配置されている。導電層32は、複数の芯物質33を被覆している。複数の芯物質33により導電層32の外表面が隆起されており、突起31a,32aが形成されている。   The conductive particles 31 have a plurality of protrusions 31a on the surface. The conductive layer 32 has a plurality of protrusions 32a on the outer surface. As described above, the conductive particles may have protrusions on the surface of the conductive particles, or may have protrusions on the outer surface of the conductive layer. A plurality of core substances 33 are arranged on the surface of the base particle 11. A plurality of core materials 33 are arranged on the surface of the shell 13. The plurality of core materials 33 are embedded in the conductive layer 32. The core substance 33 is disposed inside the protrusions 31a and 32a. The conductive layer 32 covers a plurality of core materials 33. The outer surface of the conductive layer 32 is raised by the plurality of core materials 33, and protrusions 31a and 32a are formed.

導電性粒子31は、導電層32の外表面上に配置された絶縁性物質34を有する。導電層32の外表面の少なくとも一部の領域が、絶縁性物質34により被覆されている。絶縁性物質34は絶縁性を有する材料により形成されており、絶縁性粒子である。このように、上記導電性粒子は、導電層の外表面上に配置された絶縁性物質を有していてもよい。   The conductive particles 31 have an insulating material 34 disposed on the outer surface of the conductive layer 32. At least a part of the outer surface of the conductive layer 32 is covered with an insulating material 34. The insulating substance 34 is made of an insulating material and is an insulating particle. Thus, the said electroconductive particle may have the insulating substance arrange | positioned on the outer surface of a conductive layer.

上記導電層を形成するための金属は特に限定されない。該金属としては、例えば、金、銀、パラジウム、銅、白金、亜鉛、鉄、錫、鉛、アルミニウム、コバルト、インジウム、ニッケル、クロム、チタン、アンチモン、ビスマス、タリウム、ゲルマニウム、カドミウム、タングステン、モリブデン、ケイ素及びこれらの合金等が挙げられる。また、上記金属としては、錫ドープ酸化インジウム(ITO)及びはんだ等が挙げられる。なかでも、電極間の接続抵抗をより一層低くすることができるので、錫を含む合金、ニッケル、パラジウム、銅又は金が好ましく、ニッケル又はパラジウムが好ましい。   The metal for forming the conductive layer is not particularly limited. Examples of the metal include gold, silver, palladium, copper, platinum, zinc, iron, tin, lead, aluminum, cobalt, indium, nickel, chromium, titanium, antimony, bismuth, thallium, germanium, cadmium, tungsten, and molybdenum. , Silicon and alloys thereof. Examples of the metal include tin-doped indium oxide (ITO) and solder. Especially, since the connection resistance between electrodes can be made still lower, an alloy containing tin, nickel, palladium, copper or gold is preferable, and nickel or palladium is preferable.

導電性粒子1,31のように、上記導電層は、1つの層により形成されていてもよい。導電性粒子21のように、導電層は、複数の層により形成されていてもよい。すなわち、導電層は、2層以上の積層構造を有していてもよい。導電層が複数の層により形成されている場合には、最外層は、金層、ニッケル層、パラジウム層、銅層又は錫と銀とを含む合金層であることが好ましく、金層であることがより好ましい。最外層がこれらの好ましい導電層である場合には、電極間の接続抵抗がより一層低くなる。また、最外層が金層である場合には、耐腐食性がより一層高くなる。   Like the conductive particles 1 and 31, the conductive layer may be formed of a single layer. Like the conductive particles 21, the conductive layer may be formed of a plurality of layers. That is, the conductive layer may have a stacked structure of two or more layers. When the conductive layer is formed of a plurality of layers, the outermost layer is preferably a gold layer, a nickel layer, a palladium layer, a copper layer, or an alloy layer containing tin and silver, and is a gold layer. Is more preferable. When the outermost layer is these preferred conductive layers, the connection resistance between the electrodes is further reduced. Moreover, when the outermost layer is a gold layer, the corrosion resistance is further enhanced.

上記基材粒子の表面に導電層を形成する方法は特に限定されない。導電層を形成する方法としては、例えば、無電解めっきによる方法、電気めっきによる方法、物理的蒸着による方法、並びに金属粉末もしくは金属粉末とバインダーとを含むペーストを基材粒子の表面にコーティングする方法等が挙げられる。なかでも、導電層の形成が簡便であるので、無電解めっきによる方法が好ましい。上記物理的蒸着による方法としては、真空蒸着、イオンプレーティング及びイオンスパッタリング等の方法が挙げられる。   The method for forming the conductive layer on the surface of the substrate particles is not particularly limited. As a method for forming the conductive layer, for example, a method by electroless plating, a method by electroplating, a method by physical vapor deposition, and a method of coating the surface of base particles with metal powder or a paste containing metal powder and a binder Etc. Especially, since formation of a conductive layer is simple, the method by electroless plating is preferable. Examples of the method by physical vapor deposition include methods such as vacuum vapor deposition, ion plating, and ion sputtering.

上記導電性粒子の粒径は、好ましくは0.5μm以上、より好ましくは1μm以上、好ましくは520μm以下、より好ましくは500μm以下、より一層好ましくは100μm以下、更に好ましくは50μm以下、特に好ましくは20μm以下である。導電性粒子の粒径が上記下限以上及び上記上限以下であると、導電性粒子を用いて電極間を接続した場合に、導電性粒子と電極との接触面積が十分に大きくなり、かつ導電層を形成する際に凝集した導電性粒子が形成されにくくなる。また、導電性粒子を介して接続された電極間の間隔が大きくなりすぎず、かつ導電層が基材粒子の表面から剥離し難くなる。また、導電性粒子の粒径が上記下限以上及び上記上限以下であると、導電性粒子を導電材料の用途に好適に使用可能である。   The particle diameter of the conductive particles is preferably 0.5 μm or more, more preferably 1 μm or more, preferably 520 μm or less, more preferably 500 μm or less, still more preferably 100 μm or less, still more preferably 50 μm or less, and particularly preferably 20 μm. It is as follows. When the particle size of the conductive particles is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the contact area between the conductive particles and the electrode is sufficiently large when the electrodes are connected using the conductive particles, and the conductive layer When forming the conductive particles, it becomes difficult to form aggregated conductive particles. Further, the distance between the electrodes connected via the conductive particles does not become too large, and the conductive layer is difficult to peel from the surface of the base material particles. Further, when the particle size of the conductive particles is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conductive particles can be suitably used for the use of the conductive material.

上記導電性粒子の粒径は、導電性粒子が真球状である場合には直径を意味し、導電性粒子が真球状以外の形状である場合には、その体積相当の真球と仮定した際の直径を意味する。   The particle diameter of the conductive particles means a diameter when the conductive particles are spherical, and when the conductive particles have a shape other than a true spherical shape, it is assumed that the conductive particles have a true sphere corresponding to the volume. Means the diameter.

上記導電層の厚み(導電層が多層である場合には導電層全体の厚み)は、好ましくは0.005μm以上、より好ましくは0.01μm以上、好ましくは10μm以下、より好ましくは1μm以下、更に好ましくは0.3μm以下である。導電層の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、十分な導電性が得られ、かつ導電性粒子が硬くなりすぎずに、電極間の接続の際に導電性粒子が十分に変形する。   The thickness of the conductive layer (when the conductive layer is a multilayer, the total thickness of the conductive layer) is preferably 0.005 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, preferably 10 μm or less, more preferably 1 μm or less, Preferably it is 0.3 micrometer or less. When the thickness of the conductive layer is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, sufficient conductivity is obtained, and the conductive particles do not become too hard, and the conductive particles are sufficiently deformed when connecting the electrodes. .

上記導電層が複数の層により形成されている場合に、最外層の導電層の厚みは、好ましくは0.001μm以上、より好ましくは0.01μm以上、好ましくは0.5μm以下、より好ましくは0.1μm以下である。上記最外層の導電層の厚みが上記下限以上及び上記上限以下であると、最外層の導電層による被覆が均一になり、耐腐食性が十分に高くなり、かつ電極間の接続抵抗がより一層低くなる。また、上記最外層が金層である場合の金層の厚みが薄いほど、コストが低くなる。   When the conductive layer is formed of a plurality of layers, the thickness of the outermost conductive layer is preferably 0.001 μm or more, more preferably 0.01 μm or more, preferably 0.5 μm or less, more preferably 0. .1 μm or less. When the thickness of the outermost conductive layer is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the coating with the outermost conductive layer becomes uniform, the corrosion resistance becomes sufficiently high, and the connection resistance between the electrodes is further increased. Lower. Further, the thinner the gold layer when the outermost layer is a gold layer, the lower the cost.

上記導電層の厚みは、例えば透過型電子顕微鏡(TEM)を用いて、導電性粒子の断面を観察することにより測定できる。   The thickness of the conductive layer can be measured by observing the cross section of the conductive particles using, for example, a transmission electron microscope (TEM).

上記導電性粒子は、上記導電層の外表面に突起を有していてもよい。該突起は複数であることが好ましい。導電層の表面並びに導電性粒子により接続される電極の表面には、酸化被膜が形成されていることが多い。突起を有する導電性粒子を用いた場合には、電極間に導電性粒子を配置して圧着させることにより、突起により上記酸化被膜が効果的に排除される。このため、電極と導電性粒子の導電層とをより一層確実に接触させることができ、電極間の接続抵抗を低くすることができる。さらに、導電性粒子が表面に絶縁性物質を備える場合に、又は導電性粒子がバインダー樹脂中に分散されて導電材料として用いられる場合に、導電性粒子の突起によって、導電性粒子と電極との間の絶縁性物質又はバインダー樹脂を効果的に排除できる。このため、電極間の導通信頼性を高めることができる。   The conductive particles may have protrusions on the outer surface of the conductive layer. It is preferable that there are a plurality of the protrusions. An oxide film is often formed on the surface of the conductive layer and the surface of the electrode connected by the conductive particles. When conductive particles having protrusions are used, the oxide film is effectively eliminated by the protrusions by placing the conductive particles between the electrodes and pressing them. For this reason, an electrode and the conductive layer of electroconductive particle can be contacted still more reliably, and the connection resistance between electrodes can be made low. Furthermore, when the conductive particles are provided with an insulating material on the surface, or when the conductive particles are dispersed in a binder resin and used as a conductive material, the conductive particles and the electrodes are separated by protrusions of the conductive particles. Insulating substances or binder resins in between can be effectively eliminated. For this reason, the conduction | electrical_connection reliability between electrodes can be improved.

上記導電性粒子の表面に突起を形成する方法としては、基材粒子の表面に芯物質を付着させた後、無電解めっきにより導電層を形成する方法、並びに基材粒子の表面に無電解めっきにより導電層を形成した後、芯物質を付着させ、更に無電解めっきにより導電層を形成する方法等が挙げられる。また、突起を形成するために、上記芯物質を用いずに、基材粒子に無電解めっきにより導電層を形成した後、導電層の表面上に突起状にめっきを析出させ、更に無電解めっきにより導電層を形成する方法等を用いてもよい。   As a method of forming protrusions on the surface of the conductive particles, a method of forming a conductive layer by electroless plating after attaching a core substance to the surface of the base particles, and electroless plating on the surface of the base particles Examples include a method of forming a conductive layer by, attaching a core substance, and further forming a conductive layer by electroless plating. Further, in order to form protrusions, a conductive layer is formed on the base particles by electroless plating without using the core substance, and then plating is deposited on the surface of the conductive layer in the form of protrusions. For example, a method of forming a conductive layer may be used.

上記導電性粒子は、上記導電層の外表面上に配置された絶縁性物質を備えていてもよい。この場合には、導電性粒子を電極間の接続に用いると、隣接する電極間の短絡を防止できる。具体的には、複数の導電性粒子が接触したときに、複数の電極間に絶縁性物質が存在するので、上下の電極間ではなく横方向に隣り合う電極間の短絡を防止できる。なお、電極間の接続の際に、2つの電極で導電性粒子を加圧することにより、導電性粒子の導電層と電極との間の絶縁性物質を容易に排除できる。導電性粒子が上記導電層の表面に突起を有する場合には、導電性粒子の導電層と電極との間の絶縁性物質をより一層容易に排除できる。上記絶縁性物質は、絶縁性樹脂層又は絶縁性粒子であることが好ましく、絶縁性粒子であることがより好ましい。上記絶縁性粒子は、絶縁性樹脂粒子であることが好ましい。   The conductive particles may include an insulating substance disposed on the outer surface of the conductive layer. In this case, when the conductive particles are used for connection between the electrodes, a short circuit between adjacent electrodes can be prevented. Specifically, when a plurality of conductive particles are in contact with each other, an insulating material is present between the plurality of electrodes, so that it is possible to prevent a short circuit between electrodes adjacent in the lateral direction instead of between the upper and lower electrodes. In addition, the insulating substance between the conductive layer of an electroconductive particle and an electrode can be easily excluded by pressurizing electroconductive particle with two electrodes in the case of the connection between electrodes. When the conductive particles have protrusions on the surface of the conductive layer, the insulating substance between the conductive layer of the conductive particles and the electrode can be more easily eliminated. The insulating substance is preferably an insulating resin layer or insulating particles, and more preferably insulating particles. The insulating particles are preferably insulating resin particles.

(導電材料)
上記導電材料は、上述した導電性粒子と、バインダー樹脂とを含む。上記導電性粒子は、バインダー樹脂中に分散され、導電材料として用いられることが好ましい。上記導電材料は、異方性導電材料であることが好ましい。上記導電材料は、電極の電気的な接続に好適に用いられる。上記導電材料は、回路接続材料であることが好ましい。
(Conductive material)
The conductive material includes the conductive particles described above and a binder resin. The conductive particles are preferably dispersed in a binder resin and used as a conductive material. The conductive material is preferably an anisotropic conductive material. The conductive material is preferably used for electrical connection of electrodes. The conductive material is preferably a circuit connection material.

上記バインダー樹脂は特に限定されない。上記バインダー樹脂として、公知の絶縁性の樹脂が用いられる。上記バインダー樹脂としては、例えば、ビニル樹脂、熱可塑性樹脂、硬化性樹脂、熱可塑性ブロック共重合体及びエラストマー等が挙げられる。上記バインダー樹脂は、1種のみが用いられてもよく、2種以上が併用されてもよい。   The binder resin is not particularly limited. As the binder resin, a known insulating resin is used. Examples of the binder resin include vinyl resins, thermoplastic resins, curable resins, thermoplastic block copolymers, and elastomers. As for the said binder resin, only 1 type may be used and 2 or more types may be used together.

上記ビニル樹脂としては、例えば、酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂及びスチレン樹脂等が挙げられる。上記熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリオレフィン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体及びポリアミド樹脂等が挙げられる。上記硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリイミド樹脂及び不飽和ポリエステル樹脂等が挙げられる。なお、上記硬化性樹脂は、常温硬化型樹脂、熱硬化型樹脂、光硬化型樹脂又は湿気硬化型樹脂であってもよい。上記硬化性樹脂は、硬化剤と併用されてもよい。上記熱可塑性ブロック共重合体としては、例えば、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体の水素添加物、及びスチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体の水素添加物等が挙げられる。上記エラストマーとしては、例えば、スチレン−ブタジエン共重合ゴム、及びアクリロニトリル−スチレンブロック共重合ゴム等が挙げられる。   Examples of the vinyl resin include vinyl acetate resin, acrylic resin, and styrene resin. Examples of the thermoplastic resin include polyolefin resins, ethylene-vinyl acetate copolymers, and polyamide resins. Examples of the curable resin include an epoxy resin, a urethane resin, a polyimide resin, and an unsaturated polyester resin. The curable resin may be a room temperature curable resin, a thermosetting resin, a photocurable resin, or a moisture curable resin. The curable resin may be used in combination with a curing agent. Examples of the thermoplastic block copolymer include a styrene-butadiene-styrene block copolymer, a styrene-isoprene-styrene block copolymer, a hydrogenated product of a styrene-butadiene-styrene block copolymer, and a styrene-isoprene. -Hydrogenated product of a styrene block copolymer. Examples of the elastomer include styrene-butadiene copolymer rubber and acrylonitrile-styrene block copolymer rubber.

上記導電材料は、上記導電性粒子及び上記バインダー樹脂の他に、例えば、充填剤、増量剤、軟化剤、可塑剤、重合触媒、硬化触媒、着色剤、酸化防止剤、熱安定剤、光安定剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤及び難燃剤等の各種添加剤を含んでいてもよい。   In addition to the conductive particles and the binder resin, the conductive material includes, for example, a filler, an extender, a softener, a plasticizer, a polymerization catalyst, a curing catalyst, a colorant, an antioxidant, a heat stabilizer, and a light stabilizer. Various additives such as an agent, an ultraviolet absorber, a lubricant, an antistatic agent and a flame retardant may be contained.

上記バインダー樹脂中に上記導電性粒子を分散させる方法は、従来公知の分散方法を用いることができ特に限定されない。上記バインダー樹脂中に上記導電性粒子を分散させる方法としては、例えば、上記バインダー樹脂中に上記導電性粒子を添加した後、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法、上記導電性粒子を水又は有機溶剤中にホモジナイザー等を用いて均一に分散させた後、上記バインダー樹脂中に添加し、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法、並びに上記バインダー樹脂を水又は有機溶剤等で希釈した後、上記導電性粒子を添加し、プラネタリーミキサー等で混練して分散させる方法等が挙げられる。   The method for dispersing the conductive particles in the binder resin is not particularly limited, and a conventionally known dispersion method can be used. Examples of a method for dispersing the conductive particles in the binder resin include a method in which the conductive particles are added to the binder resin and then kneaded and dispersed with a planetary mixer or the like. The conductive particles are dispersed in water. Alternatively, after uniformly dispersing in an organic solvent using a homogenizer or the like, it is added to the binder resin and kneaded with a planetary mixer or the like, and the binder resin is diluted with water or an organic solvent. Then, the method of adding the said electroconductive particle, kneading with a planetary mixer etc. and disperse | distributing is mentioned.

上記導電材料は、導電ペースト及び導電フィルム等として使用され得る。本発明に係る導電材料が、導電フィルムである場合には、導電性粒子を含む導電フィルムに、導電性粒子を含まないフィルムが積層されていてもよい。上記導電ペーストは異方性導電ペーストであることが好ましい。上記導電フィルムは異方性導電フィルムであることが好ましい。   The conductive material can be used as a conductive paste and a conductive film. When the conductive material according to the present invention is a conductive film, a film that does not include conductive particles may be laminated on a conductive film that includes conductive particles. The conductive paste is preferably an anisotropic conductive paste. The conductive film is preferably an anisotropic conductive film.

上記導電材料100重量%中、上記バインダー樹脂の含有量は好ましくは10重量%以上、より好ましくは30重量%以上、更に好ましくは50重量%以上、特に好ましくは70重量%以上、好ましくは99.99重量%以下、より好ましくは99.9重量%以下である。上記バインダー樹脂の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間に導電性粒子が効率的に配置され、導電材料により接続された接続対象部材の接続信頼性がより一層高くなる。   In 100% by weight of the conductive material, the content of the binder resin is preferably 10% by weight or more, more preferably 30% by weight or more, still more preferably 50% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, preferably 99.% or more. It is 99 weight% or less, More preferably, it is 99.9 weight% or less. When the content of the binder resin is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conductive particles are efficiently arranged between the electrodes, and the connection reliability of the connection target member connected by the conductive material is further increased.

上記導電材料100重量%中、上記導電性粒子の含有量は好ましくは0.01重量%以上、より好ましくは0.1重量%以上、好ましくは40重量%以下、より好ましくは20重量%以下、更に好ましくは10重量%以下である。上記導電性粒子の含有量が上記下限以上及び上記上限以下であると、電極間の導通信頼性がより一層高くなる。   In 100% by weight of the conductive material, the content of the conductive particles is preferably 0.01% by weight or more, more preferably 0.1% by weight or more, preferably 40% by weight or less, more preferably 20% by weight or less, More preferably, it is 10 weight% or less. When the content of the conductive particles is not less than the above lower limit and not more than the above upper limit, the conduction reliability between the electrodes is further enhanced.

(接続構造体及び液晶表示素子)
上述した導電性粒子を用いて、又は上述した導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料を用いて、接続対象部材を接続することにより、接続構造体を得ることができる。
(Connection structure and liquid crystal display element)
A connection structure can be obtained by connecting the connection target members using the conductive particles described above or using a conductive material including the conductive particles described above and a binder resin.

上記接続構造体は、第1の接続対象部材と、第2の接続対象部材と、第1の接続対象部材と第2の接続対象部材とを接続している接続部とを備え、該接続部が上述した導電性粒子により形成されているか、又は上述した導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されている接続構造体であることが好ましい。導電性粒子が単独で用いられた場合には、接続部自体が導電性粒子である。すなわち、第1,第2の接続対象部材が導電性粒子により接続される。上記接続構造体を得るために用いられる上記導電材料は、異方性導電材料であることが好ましい。   The connection structure includes a first connection target member, a second connection target member, and a connection portion connecting the first connection target member and the second connection target member, and the connection portion. Is preferably formed of the above-described conductive particles, or a connection structure formed of a conductive material containing the above-described conductive particles and a binder resin. When the conductive particles are used alone, the connection part itself is the conductive particles. That is, the first and second connection target members are connected by the conductive particles. The conductive material used for obtaining the connection structure is preferably an anisotropic conductive material.

上記第1の接続対象部材は、第1の電極を表面に有することが好ましい。上記第2の接続対象部材は、第2の電極を表面に有することが好ましい。上記第1の電極と上記第2の電極とが、上記導電性粒子により電気的に接続されていることが好ましい。   The first connection target member preferably has a first electrode on the surface. The second connection target member preferably has a second electrode on the surface. It is preferable that the first electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive particles.

図4は、図1に示す導電性粒子1を用いた接続構造体を模式的に示す正面断面図である。   FIG. 4 is a front sectional view schematically showing a connection structure using the conductive particles 1 shown in FIG.

図4に示す接続構造体51は、第1の接続対象部材52と、第2の接続対象部材53と、第1の接続対象部材52と第2の接続対象部材53とを接続している接続部54とを備える。接続部54は、導電性粒子1とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されている。図4では、図示の便宜上、導電性粒子1は略図的に示されている。導電性粒子1にかえて、導電性粒子21,31などの他の導電性粒子を用いてもよい。   The connection structure 51 shown in FIG. 4 is a connection that connects the first connection target member 52, the second connection target member 53, and the first connection target member 52 and the second connection target member 53. Part 54. The connection part 54 is formed of a conductive material containing the conductive particles 1 and a binder resin. In FIG. 4, the conductive particles 1 are schematically shown for convenience of illustration. Instead of the conductive particles 1, other conductive particles such as the conductive particles 21 and 31 may be used.

第1の接続対象部材52は表面(上面)に、複数の第1の電極52aを有する。第2の接続対象部材53は表面(下面)に、複数の第2の電極53aを有する。第1の電極52aと第2の電極53aとが、1つ又は複数の導電性粒子1により電気的に接続されている。従って、第1,第2の接続対象部材52,53が導電性粒子1により電気的に接続されている。   The first connection target member 52 has a plurality of first electrodes 52a on the surface (upper surface). The second connection target member 53 has a plurality of second electrodes 53a on the surface (lower surface). The first electrode 52 a and the second electrode 53 a are electrically connected by one or a plurality of conductive particles 1. Therefore, the first and second connection target members 52 and 53 are electrically connected by the conductive particles 1.

上記接続構造体の製造方法は特に限定されない。接続構造体の製造方法の一例として、第1の接続対象部材と第2の接続対象部材との間に上記導電材料を配置し、積層体を得た後、該積層体を加熱及び加圧する方法等が挙げられる。上記加圧の圧力は9.8×10〜4.9×10Pa程度である。上記加熱の温度は、120〜220℃程度である。フレキシブルプリント基板の電極、樹脂フィルム上に配置された電極及びタッチパネルの電極を接続するための上記加圧の圧力は9.8×10〜1.0×10Pa程度である。 The manufacturing method of the connection structure is not particularly limited. As an example of a method of manufacturing a connection structure, a method of placing the conductive material between a first connection target member and a second connection target member to obtain a laminate, and then heating and pressurizing the laminate Etc. The pressure of the pressurization is about 9.8 × 10 4 to 4.9 × 10 6 Pa. The temperature of the said heating is about 120-220 degreeC. The pressure of the pressurization for connecting the electrode of the flexible printed board, the electrode arranged on the resin film, and the electrode of the touch panel is about 9.8 × 10 4 to 1.0 × 10 6 Pa.

上記接続対象部材としては、具体的には、半導体チップ、コンデンサ及びダイオード等の電子部品、並びにプリント基板、フレキシブルプリント基板、ガラスエポキシ基板及びガラス基板等の回路基板などの電子部品等が挙げられる。上記導電材料は、電子部品を接続するための導電材料であることが好ましい。上記導電ペーストはペースト状の導電材料であり、ペースト状の状態で接続対象部材上に塗工されることが好ましい。   Specific examples of the connection target member include electronic components such as semiconductor chips, capacitors, and diodes, and electronic components such as printed boards, flexible printed boards, glass epoxy boards, and glass boards. The conductive material is preferably a conductive material for connecting electronic components. The conductive paste is a paste-like conductive material, and is preferably applied on the connection target member in a paste-like state.

上記導電性粒子及び上記導電材料は、タッチパネルにも好適に用いられる。従って、上記接続対象部材は、フレキシブル基板であるか、又は樹脂フィルムの表面上に電極が配置された接続対象部材であることも好ましい。上記接続対象部材は、フレキシブル基板であることが好ましく、樹脂フィルムの表面上に電極が配置された接続対象部材であることが好ましい。上記フレキシブル基板がフレキシブルプリント基板等である場合に、フレキシブル基板は一般に電極を表面に有する。   The conductive particles and the conductive material are also suitably used for touch panels. Therefore, the connection target member is preferably a flexible substrate or a connection target member in which electrodes are arranged on the surface of the resin film. The connection target member is preferably a flexible substrate, and is preferably a connection target member in which an electrode is disposed on the surface of the resin film. When the flexible substrate is a flexible printed substrate or the like, the flexible substrate generally has electrodes on the surface.

上記接続対象部材に設けられている電極としては、金電極、ニッケル電極、錫電極、アルミニウム電極、銅電極、銀電極、モリブデン電極及びタングステン電極等の金属電極が挙げられる。上記接続対象部材がフレキシブル基板である場合には、上記電極は金電極、ニッケル電極、錫電極又は銅電極であることが好ましい。上記接続対象部材がガラス基板である場合には、上記電極はアルミニウム電極、銅電極、モリブデン電極又はタングステン電極であることが好ましい。なお、上記電極がアルミニウム電極である場合には、アルミニウムのみで形成された電極であってもよく、金属酸化物層の表面にアルミニウム層が積層された電極であってもよい。上記金属酸化物層の材料としては、3価の金属元素がドープされた酸化インジウム及び3価の金属元素がドープされた酸化亜鉛等が挙げられる。上記3価の金属元素としては、Sn、Al及びGa等が挙げられる。   Examples of the electrode provided on the connection target member include metal electrodes such as a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, an aluminum electrode, a copper electrode, a silver electrode, a molybdenum electrode, and a tungsten electrode. When the connection object member is a flexible substrate, the electrode is preferably a gold electrode, a nickel electrode, a tin electrode, or a copper electrode. When the connection target member is a glass substrate, the electrode is preferably an aluminum electrode, a copper electrode, a molybdenum electrode, or a tungsten electrode. In addition, when the said electrode is an aluminum electrode, the electrode formed only with aluminum may be sufficient and the electrode by which the aluminum layer was laminated | stacked on the surface of the metal oxide layer may be sufficient. Examples of the material for the metal oxide layer include indium oxide doped with a trivalent metal element and zinc oxide doped with a trivalent metal element. Examples of the trivalent metal element include Sn, Al, and Ga.

また、上記基材粒子は、液晶表示素子用スペーサとして好適に用いられる。すなわち、上記基材粒子は、液晶セルを構成する一対の基板と、該一対の基板間に封入された液晶と、上記一対の基板間に配置された液晶表示素子用スペーサとを備える液晶表示素子を得るために好適に用いられる。上記液晶表示素子用スペーサは、周辺シール剤に含まれていてもよい。   Moreover, the said base particle is used suitably as a spacer for liquid crystal display elements. That is, the base particle includes a pair of substrates constituting a liquid crystal cell, a liquid crystal sealed between the pair of substrates, and a liquid crystal display element spacer disposed between the pair of substrates. It is suitably used to obtain The spacer for a liquid crystal display element may be contained in a peripheral sealant.

図5に、本発明の一実施形態に係る基材粒子を液晶表示素子用スペーサとして用いた液晶表示素子を断面図で示す。   FIG. 5 is a cross-sectional view of a liquid crystal display element using substrate particles according to an embodiment of the present invention as a spacer for a liquid crystal display element.

図5に示す液晶表示素子81は、一対の透明ガラス基板82を有する。透明ガラス基板82は、対向する面に絶縁膜(図示せず)を有する。絶縁膜の材料としては、例えば、SiO等が挙げられる。透明ガラス基板82における絶縁膜上に透明電極83が形成されている。透明電極83の材料としては、ITO等が挙げられる。透明電極83は、例えば、フォトリソグラフィーによりパターニングして形成可能である。透明ガラス基板82の表面上の透明電極83上に、配向膜84が形成されている。配向膜84の材料としては、ポリイミド等が挙げられている。 A liquid crystal display element 81 shown in FIG. 5 has a pair of transparent glass substrates 82. The transparent glass substrate 82 has an insulating film (not shown) on the opposing surface. Examples of the material for the insulating film include SiO 2 . A transparent electrode 83 is formed on the insulating film in the transparent glass substrate 82. Examples of the material of the transparent electrode 83 include ITO. The transparent electrode 83 can be formed by patterning, for example, by photolithography. An alignment film 84 is formed on the transparent electrode 83 on the surface of the transparent glass substrate 82. Examples of the material of the alignment film 84 include polyimide.

一対の透明ガラス基板82間には、液晶85が封入されている。一対の透明ガラス基板82間には、複数の基材粒子11が配置されている。基材粒子11は、液晶表示素子用スペーサとして用いられている。複数の基材粒子11により、一対の透明ガラス基板82の間隔が規制されている。一対の透明ガラス基板82の縁部間には、シール剤86が配置されている。シール剤86によって、液晶85の外部への流出が防がれている。シール剤86には、基材粒子11と粒径のみが異なる基材粒子11Aが含まれている。   A liquid crystal 85 is sealed between the pair of transparent glass substrates 82. A plurality of base material particles 11 are arranged between the pair of transparent glass substrates 82. The base particle 11 is used as a spacer for a liquid crystal display element. The space between the pair of transparent glass substrates 82 is regulated by the plurality of base material particles 11. A sealing agent 86 is disposed between the edges of the pair of transparent glass substrates 82. Outflow of the liquid crystal 85 to the outside is prevented by the sealing agent 86. The sealing agent 86 includes base material particles 11 </ b> A that differ from the base material particles 11 only in particle size.

上記液晶表示素子において1mmあたりの液晶表示素子用スペーサの配置密度は、好ましくは10個/mm以上、好ましくは1000個/mm以下である。上記配置密度が10個/mm以上であると、セルギャップがより一層均一になる。上記配置密度が1000個/mm以下であると、液晶表示素子のコントラストがより一層良好になる。 In the liquid crystal display element, the arrangement density of spacers for liquid crystal display elements per 1 mm 2 is preferably 10 pieces / mm 2 or more, and preferably 1000 pieces / mm 2 or less. When the arrangement density is 10 pieces / mm 2 or more, the cell gap becomes even more uniform. When the arrangement density is 1000 / mm 2 or less, the contrast of the liquid crystal display element is further improved.

以下、実施例及び比較例を挙げて、本発明を具体的に説明する。本発明は、以下の実施例のみに限定されない。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples. The present invention is not limited only to the following examples.

(実施例1)
(1)基材粒子の作製
コアの作製)
ジビニルベンゼン(純度96%)600重量部と、イソボルニルアクリレート400重量部とを混合し、混合液を得た。得られた混合液に過酸化ベンゾイル20重量部を加えて、均一に溶解するまで攪拌し、モノマー混合液を得た。分子量約1700のポリビニルアルコールを純水に溶解させた2重量%水溶液4000重量部を、反応釜に入れた。この中に、得られたモノマー混合液を入れ、4時間攪拌することで、モノマーの液滴が所定の粒径になるように、粒径を調整した。この後、85℃の窒素雰囲気下で9時間反応を行い、モノマー液滴の重合反応を行って、粒子を得た。得られた粒子を熱水にて数回洗浄した後、分級操作を行って、数種類の粒径の異なる重合体粒子(有機コア)を回収した。
(Example 1)
(1) Production of base particles Production of core)
600 parts by weight of divinylbenzene (purity 96%) and 400 parts by weight of isobornyl acrylate were mixed to obtain a mixed solution. 20 parts by weight of benzoyl peroxide was added to the obtained mixed solution and stirred until it was uniformly dissolved to obtain a monomer mixed solution. 4000 parts by weight of a 2 wt% aqueous solution in which polyvinyl alcohol having a molecular weight of about 1700 was dissolved in pure water was placed in a reaction kettle. Into this, the obtained monomer mixture was put and stirred for 4 hours to adjust the particle size so that the monomer droplets had a predetermined particle size. Thereafter, the reaction was performed in a nitrogen atmosphere at 85 ° C. for 9 hours, and the polymerization reaction of monomer droplets was performed to obtain particles. The obtained particles were washed several times with hot water, and then classified to recover polymer particles (organic cores) having several different particle sizes.

実施例1では、分級操作で回収した重合体粒子のうち、粒径が2.48μmである重合体粒子(有機コア)を用意した。   In Example 1, among the polymer particles recovered by the classification operation, polymer particles (organic core) having a particle size of 2.48 μm were prepared.

シェルの形成)
得られた重合体粒子(有機コア)60重量部と、界面活性剤であるヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド12重量部と、40重量%のメチルアミン水溶液54.7重量部とを、アセトニトリル1080重量部及び純水40重量部中に入れ、混合し、重合体粒子の分散液を得た。この分散液に、上記化合物Aに相当するテトラエトキシシラン400重量部と、アセトニトリル720重量部と、上記化合物Bに相当するエポキシ基を有するスチレン系誘導体(日油社製「マープルーフG−0130SP」)15重量部とを添加して、ゾルゲル反応による縮合反応を行った。テトラエトキシシランとエポキシ基を有するスチレン系誘導体の縮合反応物を重合体粒子の表面に析出させて、シェルを形成し、粒子を得た。得られた粒子を熱水で2回、メタノールで2回洗浄し、乾燥することでコアシェル粒子(基材粒子)を得た。得られたコアシェル粒子の粒径は3.02μmであった。コアの粒径とコアシェル粒子の粒径とから、シェルの厚みは0.27μmと算出された。
Shell formation)
60 parts by weight of the obtained polymer particles (organic core), 12 parts by weight of hexadecyltrimethylammonium bromide as a surfactant, 54.7 parts by weight of a 40% by weight aqueous methylamine solution, 1080 parts by weight of acetonitrile and It put in 40 weight part of pure waters, and mixed, and the dispersion liquid of the polymer particle was obtained. In this dispersion, 400 parts by weight of tetraethoxysilane corresponding to the above compound A, 720 parts by weight of acetonitrile, and a styrene derivative having an epoxy group corresponding to the above compound B (“Marproof G-0130SP” manufactured by NOF Corporation) ) 15 parts by weight were added to conduct a condensation reaction by a sol-gel reaction. A condensation reaction product of tetraethoxysilane and a styrene derivative having an epoxy group was deposited on the surface of the polymer particles to form shells, thereby obtaining particles. The obtained particles were washed twice with hot water, twice with methanol, and dried to obtain core-shell particles (base material particles). The obtained core-shell particles had a particle size of 3.02 μm. From the core particle size and the core-shell particle size, the shell thickness was calculated to be 0.27 μm.

(2)導電性粒子の作製
得られた基材粒子を洗浄し、乾燥した。その後、無電解めっき法により、得られた基材粒子の表面に、ニッケル層を形成し、導電性粒子を作製した。なお、ニッケル層の厚さは0.1μmであった。
(2) Production of conductive particles The obtained base particles were washed and dried. Then, the nickel layer was formed in the surface of the obtained base material particle | grains by the electroless-plating method, and the electroconductive particle was produced. The nickel layer had a thickness of 0.1 μm.

(実施例2)
有機コアの粒径を2.25μm、シェルの厚みを0.37μmに設定したこと以外は、実施例1と同様にして、コアシェル粒子(基材粒子)及び導電性粒子を得た。
(Example 2)
Core-shell particles (base material particles) and conductive particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the particle size of the organic core was set to 2.25 μm and the thickness of the shell was set to 0.37 μm.

(実施例3)
上記化合物Aに相当するテトラエトキシシラン400重量部をテトラエトキシシラン370重量部と3−アミノプロピルトリエトキシシラン30重量部とに変更したこと、並びにシェルの厚みを0.25μmに設定したこと以外は、実施例1と同様にして、コアシェル粒子(基材粒子)及び導電性粒子を得た。
(Example 3)
Except for changing 400 parts by weight of tetraethoxysilane corresponding to compound A to 370 parts by weight of tetraethoxysilane and 30 parts by weight of 3-aminopropyltriethoxysilane, and setting the thickness of the shell to 0.25 μm. In the same manner as in Example 1, core-shell particles (base material particles) and conductive particles were obtained.

(実施例4)
上記化合物Bに相当するエポキシ基を有するスチレン系誘導体(日油社製「マープルーフG−0130SP」)の種類をエポキシ基を有するアクリル系誘導体(日油社製「G−0150M」)に変更したこと、並びにシェルの厚みを0.28μmに設定したこと以外は実施例1と同様にして、コアシェル粒子(基材粒子)及び導電性粒子を得た。
Example 4
The type of the styrene derivative having an epoxy group corresponding to the above compound B (“Marproof G-0130SP” manufactured by NOF Corporation) was changed to an acrylic derivative having an epoxy group (“G-0150M” manufactured by NOF Corporation). In addition, core-shell particles (base material particles) and conductive particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the shell was set to 0.28 μm.

(実施例5)
上記化合物Bに相当するエポキシ基を有するスチレン系誘導体(日油社製「マープルーフG−0130SP」)の種類を、メタクリロキシ基を有するポリアクリル酸(分子量約5000)に変更したこと以外は実施例1と同様にして、コアシェル粒子(基材粒子)及び導電性粒子を得た。
(Example 5)
Except that the styrene derivative having an epoxy group corresponding to the compound B (“Marproof G-0130SP” manufactured by NOF Corporation) was changed to polyacrylic acid having a methacryloxy group (molecular weight of about 5000). In the same manner as in Example 1, core-shell particles (base material particles) and conductive particles were obtained.

(実施例6)
(1)パラジウム付着工程
実施例1で得られた基材粒子を用意した。得られた基材粒子をエッチングし、水洗した。次に、パラジウム触媒を8重量%含むパラジウム触媒化液100mL中に樹脂粒子を添加し、攪拌した。その後、ろ過し、洗浄した。pH6の0.5重量%ジメチルアミンボラン液に基材粒子を添加し、パラジウムが付着された基材粒子を得た。
(Example 6)
(1) Palladium adhesion process The base material particle obtained in Example 1 was prepared. The obtained substrate particles were etched and washed with water. Next, resin particles were added to 100 mL of a palladium-catalyzed solution containing 8% by weight of a palladium catalyst and stirred. Then, it filtered and wash | cleaned. Substrate particles were added to a 0.5 wt% dimethylamine borane solution at pH 6 to obtain substrate particles to which palladium was attached.

(2)芯物質付着工程
パラジウムが付着された基材粒子をイオン交換水300mL中で3分間攪拌し、分散させ、分散液を得た。次に、金属ニッケル粒子スラリー(平均粒径100nm)1gを3分間かけて上記分散液に添加し、芯物質が付着された基材粒子を得た。
(2) Core substance adhesion process The base material particle | grains to which palladium was adhered were stirred and dispersed for 3 minutes in 300 mL of ion-exchange water, and the dispersion liquid was obtained. Next, 1 g of metallic nickel particle slurry (average particle size 100 nm) was added to the dispersion over 3 minutes to obtain base particles to which the core material was adhered.

(3)無電解ニッケルめっき工程
実施例1と同様にして、基材粒子の表面上に、ニッケル層を形成し、導電性粒子を作製した。なお、ニッケル層の厚さは0.1μmであった。
(3) Electroless nickel plating step In the same manner as in Example 1, a nickel layer was formed on the surface of the substrate particles to produce conductive particles. The nickel layer had a thickness of 0.1 μm.

(実施例7)
(1)絶縁性粒子の作製
4ツ口セパラブルカバー、攪拌翼、三方コック、冷却管及び温度プローブが取り付けられた1000mLのセパラブルフラスコに、メタクリル酸メチル100mmolと、N,N,N−トリメチル−N−2−メタクリロイルオキシエチルアンモニウムクロライド1mmolと、2,2’−アゾビス(2−アミジノプロパン)二塩酸塩1mmolとを含むモノマー組成物を固形分率が5重量%となるようにイオン交換水に秤取した後、200rpmで攪拌し、窒素雰囲気下70℃で24時間重合を行った。反応終了後、凍結乾燥して、表面にアンモニウム基を有し、平均粒径220nm及びCV値10%の絶縁性粒子を得た。
(Example 7)
(1) Production of insulating particles A 1000 mL separable flask equipped with a four-neck separable cover, a stirring blade, a three-way cock, a condenser tube and a temperature probe was charged with 100 mmol methyl methacrylate and N, N, N-trimethyl. Ion-exchanged water containing a monomer composition containing 1 mmol of -N-2-methacryloyloxyethylammonium chloride and 1 mmol of 2,2'-azobis (2-amidinopropane) dihydrochloride so that the solid content is 5% by weight. Then, the mixture was stirred at 200 rpm and polymerized at 70 ° C. for 24 hours under a nitrogen atmosphere. After completion of the reaction, it was freeze-dried to obtain insulating particles having an ammonium group on the surface, an average particle size of 220 nm, and a CV value of 10%.

絶縁性粒子を超音波照射下でイオン交換水に分散させ、絶縁性粒子の10重量%水分散液を得た。   The insulating particles were dispersed in ion exchange water under ultrasonic irradiation to obtain a 10 wt% aqueous dispersion of insulating particles.

実施例1で得られた導電性粒子10gをイオン交換水500mLに分散させ、絶縁性粒子の水分散液4gを添加し、室温で6時間攪拌した。3μmのメッシュフィルターでろ過した後、更にメタノールで洗浄し、乾燥し、絶縁性粒子が付着した導電性粒子を得た。   10 g of the conductive particles obtained in Example 1 were dispersed in 500 mL of ion exchange water, 4 g of an aqueous dispersion of insulating particles was added, and the mixture was stirred at room temperature for 6 hours. After filtration through a 3 μm mesh filter, the particles were further washed with methanol and dried to obtain conductive particles having insulating particles attached thereto.

走査型電子顕微鏡(SEM)により観察したところ、導電性粒子の表面に絶縁性粒子による被覆層が1層のみ形成されていた。画像解析により導電性粒子の中心より2.5μmの面積に対する絶縁性粒子の被覆面積(即ち絶縁性粒子の粒径の投影面積)を算出したところ、被覆率は30%であった。   When observed with a scanning electron microscope (SEM), only one coating layer of insulating particles was formed on the surface of the conductive particles. The coverage of the insulating particles with respect to the area of 2.5 μm from the center of the conductive particles by image analysis (that is, the projected area of the particle diameter of the insulating particles) was calculated to be 30%.

(実施例8)
有機コアの粒径を2.25μm、シェルの厚みを0.123μmに設定したこと以外は、実施例1と同様にして、コアシェル粒子(基材粒子)及び導電性粒子を得た。
(Example 8)
Core-shell particles (base material particles) and conductive particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the particle size of the organic core was set to 2.25 μm and the thickness of the shell was set to 0.123 μm.

(実施例9)
有機コアの粒径を9.46μm、シェル厚みを0.25μmに設定したこと以外は、実施例1と同様にして、コアシェル粒子(基材粒子)及び導電性粒子を得た。
Example 9
Core-shell particles (base material particles) and conductive particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the particle size of the organic core was set to 9.46 μm and the shell thickness was set to 0.25 μm.

(実施例10)
有機コアの粒径を2.03μm、シェル厚みを0.50μmに設定したこと以外は、実施例1と同様にして、コアシェル粒子(基材粒子)及び導電性粒子を得た。
(Example 10)
Core-shell particles (base material particles) and conductive particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that the particle size of the organic core was set to 2.03 μm and the shell thickness was set to 0.50 μm.

(実施例11)
シェル形成時にヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミドを使用しなかったこと以外は、実施例1と同様にして、コアシェル粒子(基材粒子)及び導電性粒子を得た。
(Example 11)
Core-shell particles (base material particles) and conductive particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that hexadecyltrimethylammonium bromide was not used during shell formation.

(実施例12)
上記化合物Aに相当するテトラエトキシシランをメチルトリメトキシシランに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、コアシェル粒子(基材粒子)及び導電性粒子を得た。
(Example 12)
Core-shell particles (base material particles) and conductive particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that tetraethoxysilane corresponding to Compound A was changed to methyltrimethoxysilane.

(実施例13)
上記化合物Bに相当するエポキシ基を有するスチレン系誘導体(日油社製「マープルーフG−0130SP」)の種類を、エポキシ置換されたシリコーンアルコキシオリゴマー(信越化学社製「X−41−1053」)に変更したこと以外は、実施例1と同様にして、コアシェル粒子(基材粒子)及び導電性粒子を得た。
(Example 13)
Epoxy-substituted silicone alkoxy oligomer (“X-41-1053” manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), which is an epoxy-substituted type of styrene derivative having an epoxy group corresponding to the above compound B (“Marproof G-0130SP” manufactured by NOF Corporation) Except that it was changed to, in the same manner as in Example 1, core-shell particles (base material particles) and conductive particles were obtained.

(実施例14)
上記化合物Bに相当するエポキシ基を有するスチレン系誘導体(日油社製「マープルーフG−0130SP」)の種類を、メタクリロキシ基を有するシリコーンオリゴマーに変更したこと以外は、実施例1と同様にして、コアシェル粒子(基材粒子)及び導電性粒子を得た。
(Example 14)
Except having changed into the silicone oligomer which has a methacryloxy group, the kind of the styrene-type derivative (The NOF Corporation "MAPROOF G-0130SP") which has the epoxy group corresponded to the said compound B was carried out similarly to Example 1. Core-shell particles (base material particles) and conductive particles were obtained.

(比較例1)
化合物Bに相当するエポキシ基を有するスチレン系誘導体(日油社製「マープルーフG−0130SP」)を用いなかったこと以外は実施例1と同様にして、基材粒子及び導電性粒子を得た。すなわち、実施例1における有機シェルを形成する前のコアシェル粒子を基材粒子として用いた。
(Comparative Example 1)
Substrate particles and conductive particles were obtained in the same manner as in Example 1 except that a styrene derivative having an epoxy group corresponding to Compound B (“Marproof G-0130SP” manufactured by NOF Corporation) was not used. . That is, the core-shell particles before forming the organic shell in Example 1 were used as the base particles.

(比較例2)
化合物Bに相当するエポキシ基を有するスチレン系誘導体(日油社製「マープルーフG−0130SP」)を用いなかったこと以外は実施例2と同様にして、基材粒子及び導電性粒子を得た。すなわち、実施例2における有機シェルを形成する前のコアシェル粒子を基材粒子として用いた。
(Comparative Example 2)
Substrate particles and conductive particles were obtained in the same manner as in Example 2 except that a styrene derivative having an epoxy group corresponding to Compound B ("Marproof G-0130SP" manufactured by NOF Corporation) was not used. . That is, the core shell particles before forming the organic shell in Example 2 were used as the base particles.

(評価)
(1)基材粒子の粒径、有機コアの粒径及びシェルの厚み
得られた基材粒子について、粒度分布測定装置(ベックマンコールター社製「Multisizer4」)を用いて、約100000個の粒径を測定し、平均粒径及び標準偏差等を測定した。基材粒子を作製する際に用いた有機コアについても、同様の方法により粒径を測定した。基材粒子の粒径と有機コアの粒径との差から、シェルの厚みを求めた。
(Evaluation)
(1) Particle size of base material particle, organic core particle size and shell thickness About the obtained base material particle, a particle size distribution measuring device (“Multizer 4” manufactured by Beckman Coulter, Inc.) was used to obtain about 100,000 particle sizes. And the average particle size and standard deviation were measured. The particle size of the organic core used for preparing the base particles was also measured by the same method. From the difference between the particle size of the base particle and the particle size of the organic core, the thickness of the shell was determined.

(2)基材粒子の圧縮弾性率(10%K値及び30%K値)
得られた基材粒子の上記圧縮弾性率(10%K値及び30%K値)を、23℃の条件で、上述した方法により、微小圧縮試験機(フィッシャー社製「フィッシャースコープH−100」)を用いて測定した。10%K値/30%K値を求めた。
(2) Compressive elastic modulus of base particles (10% K value and 30% K value)
The above-mentioned compression elastic modulus (10% K value and 30% K value) of the obtained base particle was measured under the condition of 23 ° C. by the above-described method using a micro compression tester (“Fischer Scope H-100” manufactured by Fisher) ). The 10% K value / 30% K value was determined.

(3)基材粒子の圧縮回復率
基材粒子の上記圧縮回復率を、上述した方法により、微小圧縮試験機(フィッシャー社製「フィッシャースコープH−100」)を用いて測定した。
(3) Compression recovery rate of substrate particles The compression recovery rate of the substrate particles was measured by the above-described method using a micro compression tester (Fischer Scope H-100 manufactured by Fischer).

(4)接続抵抗
接続構造体の作製:
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(三菱化学社製「エピコート1009」)10重量部と、アクリルゴム(重量平均分子量約80万)40重量部と、メチルエチルケトン200重量部と、マイクロカプセル型硬化剤(旭化成イーマテリアルズ社製「HX3941HP」)50重量部と、シランカップリング剤(東レダウコーニングシリコーン社製「SH6040」)2重量部とを混合し、導電性粒子を含有量が3重量%となるように添加し、分散させ、樹脂組成物を得た。
(4) Connection resistance Fabrication of connection structure:
10 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (“Epicoat 1009” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), 40 parts by weight of acrylic rubber (weight average molecular weight of about 800,000), 200 parts by weight of methyl ethyl ketone, and a microcapsule type curing agent (Asahi Kasei E-material) 50 parts by weight of “HX3941HP” manufactured by S. Co., Ltd. and 2 parts by weight of silane coupling agent (“SH6040” manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.) are added, and conductive particles are added to a content of 3% by weight. And dispersed to obtain a resin composition.

得られた樹脂組成物を、片面が離型処理された厚さ50μmのPET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムに塗布し、70℃の熱風で5分間乾燥し、異方性導電フィルムを作製した。得られた異方性導電フィルムの厚さは12μmであった。   The obtained resin composition was applied to a 50 μm-thick PET (polyethylene terephthalate) film whose one surface was released from the mold, and dried with hot air at 70 ° C. for 5 minutes to produce an anisotropic conductive film. The thickness of the obtained anisotropic conductive film was 12 μm.

得られた異方性導電フィルムを5mm×5mmの大きさに切断した。切断された異方性導電フィルムを、一方に抵抗測定用の引き回し線を有するアルミニウム電極(高さ0.2μm、L/S=20μm/20μm)が設けられたガラス基板(幅3cm、長さ3cm)のアルミニウム電極のほぼ中央部へ貼り付けた。次いで同じアルミニウム電極が設けられた2層フレキシブルプリント基板(幅2cm、長さ1cm)を電極同士が重なるように、位置合わせをしてから貼り合わせた。このガラス基板と2層フレキシブルプリント基板との積層体を、30N、180℃、及び20秒間の圧着条件で熱圧着し、接続構造体を得た。   The obtained anisotropic conductive film was cut into a size of 5 mm × 5 mm. A glass substrate (width 3 cm, length 3 cm) provided with an aluminum electrode (height 0.2 μm, L / S = 20 μm / 20 μm) having a lead wire for resistance measurement on one side of the cut anisotropic conductive film. The aluminum electrode was affixed almost to the center of the aluminum electrode. Next, a two-layer flexible printed board (width 2 cm, length 1 cm) provided with the same aluminum electrode was aligned and pasted together so that the electrodes overlap each other. The laminated body of the glass substrate and the two-layer flexible printed circuit board was thermocompression bonded under pressure bonding conditions of 30 N, 180 ° C., and 20 seconds to obtain a connection structure.

接続抵抗の測定:
得られた接続構造体の対向する電極間の接続抵抗を4端子法により測定した。
Connection resistance measurement:
The connection resistance between the opposing electrodes of the obtained connection structure was measured by the 4-terminal method.

[接続抵抗の評価基準]
○○:接続抵抗が3.0Ω以下
○:接続抵抗が3.0Ωを超え、4.0Ω以下
△:接続抵抗が4.0Ωを超え、5.0Ω以下
×:接続抵抗が5.0Ωを超える
[Evaluation criteria for connection resistance]
◯: Connection resistance is 3.0Ω or less ○: Connection resistance exceeds 3.0Ω, 4.0Ω or less △: Connection resistance exceeds 4.0Ω, 5.0Ω or less ×: Connection resistance exceeds 5.0Ω

(5)接続信頼性の評価
上記(4)接続抵抗の評価で得られた接続構造体を85℃及び85%(高温高湿下)で100時間放置した。放置後に、接続抵抗の上昇を評価した。放置後の接続構造体の対向する電極間の接続抵抗を4端子法により測定した。放置後の接続構造体の接続抵抗から、接続構造体の接続信頼性を下記の基準で判定した。なお、接続抵抗が上昇している場合に、信頼性が悪化していることを確認した。
(5) Evaluation of connection reliability The connection structure obtained by the evaluation of (4) connection resistance was left at 85 ° C. and 85% (under high temperature and high humidity) for 100 hours. After standing, the increase in connection resistance was evaluated. The connection resistance between the opposing electrodes of the connection structure after standing was measured by the four-terminal method. From the connection resistance of the connection structure after being left, the connection reliability of the connection structure was determined according to the following criteria. It was confirmed that the reliability deteriorated when the connection resistance was increased.

[接続構造体の接続信頼性の評価基準]
○○:放置前の接続抵抗に対して、放置後の接続抵抗の上昇率が15%未満
○:放置前の接続抵抗に対して、放置後の接続抵抗の上昇率が15%以上、30%未満
△:放置前の接続抵抗に対して、放置後の接続抵抗の上昇率が30%以上、50%未満
×:放置前の接続抵抗に対して、放置後の接続抵抗の上昇率が50%以上
[Evaluation criteria for connection reliability of connection structures]
○○: Less than 15% increase in connection resistance after leaving with respect to connection resistance before leaving ○: 15% or more, 30% increase in connection resistance after leaving with respect to connection resistance before leaving Less than △: The increase rate of the connection resistance after leaving untreated is 30% or more and less than 50% X: The increase rate of the connection resistance after leaving untreated is 50% that's all

結果を下記の表1に示す。なお、上記(4)接続抵抗の評価において、評価結果が悪いほど、シェルの破損及び飛散が多く見られることを確認した。   The results are shown in Table 1 below. In the evaluation of the connection resistance (4), it was confirmed that the worse the evaluation result, the more shell damage and scattering were observed.

Figure 2015072898
Figure 2015072898

(6)液晶表示素子用スペーサとしての使用例
STN型液晶表示素子の作製:
イソプロピルアルコール70重量部と水30重量部とを含む分散媒に、得られるスペーサ分散液100重量%中で実施例1〜5,8〜14の加熱前の液晶表示素子用スペーサ(基材粒子)を固形分濃度が2重量%となるように添加し、撹拌し、液晶表示素子用スペーサ分散液を得た。
(6) Example of use as spacer for liquid crystal display element Production of STN type liquid crystal display element:
In a dispersion medium containing 70 parts by weight of isopropyl alcohol and 30 parts by weight of water, spacers for liquid crystal display elements (base material particles) before heating in Examples 1 to 5 and 8 to 14 in 100% by weight of the obtained spacer dispersion liquid Was added so as to have a solid content concentration of 2% by weight and stirred to obtain a spacer dispersion liquid crystal display element.

一対の透明ガラス板(縦50mm、横50mm、厚さ0.4mm)の一面に、CVD法によりSiO膜を蒸着した後、SiO膜の表面全体にスパッタリングによりITO膜を形成した。得られたITO膜付きガラス基板に、スピンコート法によりポリイミド配向膜組成物(日産化学社製、SE3510)を塗工し、280℃で90分間焼成することによりポリイミド配向膜を形成した。配向膜にラビング処理を施した後、一方の基板の配向膜側に、液晶表示素子用スペーサを1mm当たり100個となるように湿式散布した。他方の基板の周辺にシール剤を形成した後、この基板とスペーサを散布した基板とをラビング方向が90°になるように対向配置させ、両者を貼り合わせた。その後、160℃で90分間処理してシール剤を硬化させて、空セル(液晶の入ってない画面)を得た。得られた空セルに、カイラル剤入りのSTN型液晶(DIC社製)を注入し、次に注入口を封止剤で塞いだ後、120℃で30分間熱処理してSTN型液晶表示素子を得た。 An SiO 2 film was deposited on one surface of a pair of transparent glass plates (length 50 mm, width 50 mm, thickness 0.4 mm) by a CVD method, and then an ITO film was formed on the entire surface of the SiO 2 film by sputtering. A polyimide alignment film composition (SE3510, manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.) was applied to the obtained glass substrate with an ITO film by spin coating, and baked at 280 ° C. for 90 minutes to form a polyimide alignment film. After the alignment film was rubbed, wet alignment was performed on the alignment film side of one substrate so that the number of spacers for liquid crystal display elements was 100 per 1 mm 2 . After forming a sealant around the other substrate, this substrate and the substrate on which the spacers were spread were placed opposite to each other so that the rubbing direction was 90 °, and both were bonded together. Then, it processed at 160 degreeC for 90 minute (s), the sealing agent was hardened, and the empty cell (screen which does not contain a liquid crystal) was obtained. An STN type liquid crystal containing a chiral agent (made by DIC) was injected into the obtained empty cell, and then the injection port was closed with a sealant, followed by heat treatment at 120 ° C. for 30 minutes to produce an STN type liquid crystal display element. Obtained.

得られた液晶表示素子では、実施例1〜5,8〜14の加熱前の液晶表示素子用スペーサにより基板間の間隔が良好に規制されていた。また、液晶表示素子は、良好な表示品質を示した。また、実施例1〜7の液晶表示素子用スペーサを用いた液晶表示素子を75℃で168時間放置した結果、ギャップが抑えられており、液晶表示素子の表示品質は良好に維持されていた。なお、液晶表示素子の周辺シール剤に、実施例1〜5,8〜14の基材粒子を液晶表示素子用スペーサとして用いた場合でも、得られた液晶表示素子の表示品質は良好であった。なお、この液晶表示素子の評価において、表示品質が良好であるのは、シェルの破損及び飛散が抑えられているためであることを確認した。   In the obtained liquid crystal display element, the space | interval between board | substrates was favorably controlled by the spacer for liquid crystal display elements before the heating of Examples 1-5, 8-14. Moreover, the liquid crystal display element showed favorable display quality. Moreover, as a result of leaving the liquid crystal display element using the spacer for liquid crystal display elements of Examples 1-7 for 168 hours at 75 degreeC, the gap was suppressed and the display quality of the liquid crystal display element was maintained favorable. Even when the substrate particles of Examples 1 to 5 and 8 to 14 were used as the liquid crystal display element spacers in the peripheral sealant for the liquid crystal display elements, the display quality of the obtained liquid crystal display elements was good. . In the evaluation of this liquid crystal display element, it was confirmed that the display quality was good because the damage and scattering of the shell were suppressed.

1…導電性粒子
2…導電層
11…基材粒子
11A…基材粒子
12…有機コア
13…シェル
21…導電性粒子
22…導電層
22A…第1の導電層
22B…第2の導電層
31…導電性粒子
31a…突起
32…導電層
32a…突起
33…芯物質
34…絶縁性物質
51…接続構造体
52…第1の接続対象部材
52a…第1の電極
53…第2の接続対象部材
53a…第2の電極
54…接続部
81…液晶表示素子
82…透明ガラス基板
83…透明電極
84…配向膜
85…液晶
86…シール剤
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Conductive particle 2 ... Conductive layer 11 ... Base particle 11A ... Base particle 12 ... Organic core 13 ... Shell 21 ... Conductive particle 22 ... Conductive layer 22A ... 1st conductive layer 22B ... 2nd conductive layer 31 ... conductive particles 31a ... projections 32 ... conductive layers 32a ... projections 33 ... core material 34 ... insulating material 51 ... connection structure 52 ... first connection target member 52a ... first electrode 53 ... second connection target member 53a ... Second electrode 54 ... Connection part 81 ... Liquid crystal display element 82 ... Transparent glass substrate 83 ... Transparent electrode 84 ... Alignment film 85 ... Liquid crystal 86 ... Sealing agent

Claims (10)

有機コアと、前記有機コアの表面上に配置されたシェルとを備え、
前記シェルが、シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基を有する化合物と、シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基と反応してSi−O−C結合を形成可能な反応性官能基を有する反応性官能基含有化合物とを用いて、
前記シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基を有する化合物を加水分解及び重縮合させて、かつ前記シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基を有する化合物と前記反応性官能基含有化合物とを反応させることにより得られる、基材粒子。
An organic core and a shell disposed on the surface of the organic core;
Reaction in which the shell has a reactive functional group capable of reacting with a silanol group or an alkoxy group bonded to a silicon atom and an alkoxy group bonded to a silanol group or a silicon atom to form a Si—O—C bond With a functional functional group-containing compound,
The compound having an alkoxy group bonded to the silanol group or silicon atom is hydrolyzed and polycondensed, and the compound having the alkoxy group bonded to the silanol group or silicon atom is reacted with the reactive functional group-containing compound. The base particle obtained by this.
前記シェルが、前記シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基を有する化合物が加水分解及び重縮合することにより形成された複数の粒子状物を含み、
前記複数の粒子状物が、前記反応性官能基含有化合物に由来して一体化されている、請求項1に記載の基材粒子。
The shell includes a plurality of particulates formed by hydrolysis and polycondensation of a compound having an alkoxy group bonded to the silanol group or silicon atom,
The base particle according to claim 1, wherein the plurality of particulate materials are integrated from the reactive functional group-containing compound.
前記シラノール基又は珪素原子に結合したアルコキシ基と反応してSi−O−C結合を形成可能な反応性官能基が、エポキシ基、カルボキシル基、ビニル基又は(メタ)アクリロキシ基である、請求項1又は2に記載の基材粒子。   The reactive functional group capable of reacting with the silanol group or an alkoxy group bonded to a silicon atom to form a Si-O-C bond is an epoxy group, a carboxyl group, a vinyl group, or a (meth) acryloxy group. The base material particle according to 1 or 2. 表面上に導電層が形成され、前記導電層を有する導電性粒子を得るために用いられるか、又は液晶表示素子用スペーサとして用いられる、請求項1〜3のいずれか1項に記載の基材粒子。   The base material according to any one of claims 1 to 3, wherein a conductive layer is formed on a surface and used to obtain conductive particles having the conductive layer, or used as a spacer for a liquid crystal display element. particle. 表面上に導電層が形成され、前記導電層を有する導電性粒子を得るために用いられる、請求項4に記載の基材粒子。   The base material particle according to claim 4, wherein a conductive layer is formed on a surface and used to obtain conductive particles having the conductive layer. 請求項1〜5のいずれか1項に記載の基材粒子と、
前記基材粒子の表面上に配置された導電層とを備える、導電性粒子。
Base material particles according to any one of claims 1 to 5,
Electroconductive particle provided with the conductive layer arrange | positioned on the surface of the said base material particle.
前記導電層の外表面上に配置された絶縁性物質をさらに備える、請求項6に記載の導電性粒子。   The conductive particle according to claim 6, further comprising an insulating material disposed on an outer surface of the conductive layer. 前記導電層の外表面に突起を有する、請求項6又は7に記載の導電性粒子。   The electroconductive particle of Claim 6 or 7 which has a processus | protrusion on the outer surface of the said conductive layer. 導電性粒子と、バインダー樹脂とを含み、
前記導電性粒子が、請求項1〜5のいずれか1項に記載の基材粒子と、前記基材粒子
の表面上に配置された導電層とを備える、導電材料。
Containing conductive particles and a binder resin,
A conductive material, wherein the conductive particles include the base particles according to claim 1 and a conductive layer disposed on a surface of the base particles.
第1の電極を表面に有する第1の接続対象部材と、
第2の電極を表面に有する第2の接続対象部材と、
前記第1の接続対象部材と前記第2の接続対象部材とを接続している接続部とを備え、
前記接続部が、導電性粒子により形成されているか、又は前記導電性粒子とバインダー樹脂とを含む導電材料により形成されており、
前記導電性粒子が、請求項1〜5のいずれか1項に記載の基材粒子と、前記基材粒子の表面上に配置された導電層とを備え、
前記第1の電極と前記第2の電極とが前記導電性粒子により電気的に接続されている、接続構造体。
A first connection object member having a first electrode on its surface;
A second connection target member having a second electrode on its surface;
A connection portion connecting the first connection target member and the second connection target member;
The connecting portion is formed of conductive particles or formed of a conductive material containing the conductive particles and a binder resin;
The conductive particle comprises the base material particle according to any one of claims 1 to 5 and a conductive layer disposed on a surface of the base material particle,
A connection structure in which the first electrode and the second electrode are electrically connected by the conductive particles.
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