JP2015069857A - Organic electroluminescent display device, and method of manufacturing the same - Google Patents

Organic electroluminescent display device, and method of manufacturing the same Download PDF

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an organic electroluminescent display device that has a sealing film of a multilayer structure, and that can improve the reliability of a terminal part.SOLUTION: An organic electroluminescent display device includes: a first substrate in which a plurality of pixel circuits each having a thin-film transistor are arranged in a matrix, and comprising a plurality of connection terminals electrically connected with an external electronic device, at an end part of the insulation substrate; an organic EL layer separated from a region where the plurality of connection terminals are provided, of the first substrate in a plan view, and laminated on a region where the plurality of pixel circuits are arranged; and a sealing film in which, on a surface at an opposite side to a side opposed to the first substrate, of the organic EL layer, a first inorganic sealing film, an organic sealing film, and a second inorganic sealing film are sequentially laminated from a side contacted with the organic EL layer. A convex part formed of an inorganic insulation material is provided between the plurality of connection terminals. A recessed part is formed on a lateral face of the convex part.

Description

本発明は、有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)装置及びその製造方法に関する。   The present invention relates to an organic electroluminescence (organic EL) device and a manufacturing method thereof.

陽極と、陰極と、該陽極及び該陰極に挟持される発光層と、を有する有機EL層が備えられる、有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、近年電子機器への更なる展開が期待されている。   An organic electroluminescence display device including an organic EL layer having an anode, a cathode, and a light emitting layer sandwiched between the anode and the cathode is expected to be further developed in electronic devices in recent years.

有機EL層を構成する発光層は、陽極に供給された電流が、該発光層を経て、陰極へと流れ込み、陰極からの電子及び陽極からの正孔が再結合することにより発光する。そして、発光層は、水分の存在によってその信頼性が著しく低下するため、有機EL層を外部の水分から分離するために、封止膜が備えられることが一般的である。そして、封止膜は水分含有率が小さいという理由から無機材料によって形成されるのが一般的である。   The light emitting layer constituting the organic EL layer emits light when the current supplied to the anode flows into the cathode through the light emitting layer, and electrons from the cathode and holes from the anode are recombined. And since the reliability of a light emitting layer falls remarkably by presence of a water | moisture content, in order to isolate | separate an organic EL layer from an external water | moisture content, it is common to provide the sealing film. The sealing film is generally formed of an inorganic material because the moisture content is small.

特許文献1には、基板上に形成されたボトムバリアメタル/アルミニウム/トップバリアメタルの積層からなる信号線、該信号線上に形成され、第1のコンタクトホールを有する第1の絶縁材料からなる絶縁層、該絶縁層上に設けられ、該第1のコンタクトホールを介して該信号線と接続された接続用金属からなる第1の画素電極層、及び該第1の画素電極層上に形成された反射用金属からなる第2の画素電極層を有する画素部と、該基板上に形成されたボトムバリアメタル/アルミニウム/トップバリアメタルの積層と同様の積層からなる配線、該配線上に設けられ、第2のコンタクトホールを有し、該第1の絶縁材料と同様の材料からなる絶縁層、及び該第2のコンタクトホールを介して該配線上に接続して設けられ、該接続メタルと同様の材料からなる接続パッドを有するパッド部とを具備することを特徴とするアレイ基板について記載がされている。   In Patent Document 1, a signal line made of a laminate of a bottom barrier metal / aluminum / top barrier metal formed on a substrate, an insulation made of a first insulating material formed on the signal line and having a first contact hole. A first pixel electrode layer made of a connecting metal provided on the insulating layer and connected to the signal line through the first contact hole; and formed on the first pixel electrode layer. A pixel portion having a second pixel electrode layer made of a reflective metal and a wiring formed on the substrate, the wiring having the same stacking structure as the bottom barrier metal / aluminum / top barrier metal stack, and provided on the wiring An insulating layer made of the same material as the first insulating material, and connected to the wiring through the second contact hole, the same as the connecting metal. It has been described for the array substrate, characterized by comprising a pad portion having a connection pad of material.

また、特許文献2には、縁部が密封されたバリア薄膜複合体であって、基板と、前記基板に隣接した少なくとも1つの初期バリア・スタックとを備え、前記少なくとも1つの初期バリア・スタックが、少なくとも1つのデカップリング層及び少なくとも1つのバリア層を備え、第1初期バリア・スタックの第1デカップリング層が或る範囲を有し、前記第1初期バリア・スタックの第1バリア層が或る範囲を有し、前記第1バリア層の前記範囲が前記第1デカップリング層の前記範囲よりも大きく、前記第1デカップリング層が前記バリア層の前記範囲内で前記第1バリア層によって密封される、複合体について記載がされている。   Patent Document 2 discloses a barrier thin film composite having a sealed edge, and includes a substrate and at least one initial barrier stack adjacent to the substrate, wherein the at least one initial barrier stack includes: At least one decoupling layer and at least one barrier layer, wherein the first decoupling layer of the first initial barrier stack has a range, and the first barrier layer of the first initial barrier stack is The range of the first barrier layer is larger than the range of the first decoupling layer, and the first decoupling layer is sealed by the first barrier layer within the range of the barrier layer. The complex is described.

特開2011−48027号公報JP 2011-48027 A 特表2005−504652号公報JP 2005-504652 gazette

有機EL層は発光層、各種電極等、さまざまな部材から構成されるものであるため、その表面には該部材に起因する凹凸が生じてしまう。該凹凸は均一な発光を妨げる原因ともなりかねず、該凹凸はできる限り少ないことが好ましい。   Since the organic EL layer is composed of various members such as a light emitting layer and various electrodes, unevenness due to the members occurs on the surface. The unevenness may cause uniform light emission, and the unevenness is preferably as small as possible.

しかしながら、無機材料によって形成される封止膜は、プロセス上その厚さは小さなものとなり、有機EL層の表面凹凸を緩衝する機能を持たせることは難しい。更に、無機材料によって形成される封止膜にはピンホールが形成されることがあり、該ピンホールを介して外部の水分が発光層に到達することもあり、発光層の信頼性が低下する可能性がある。   However, the sealing film formed of an inorganic material has a small thickness in the process, and it is difficult to provide a function of buffering the surface unevenness of the organic EL layer. In addition, pinholes may be formed in the sealing film formed of an inorganic material, and external moisture may reach the light emitting layer through the pinholes, thereby reducing the reliability of the light emitting layer. there is a possibility.

以上の点を鑑みて発明者らは、第一の無機封止膜と、有機封止膜と、第二の無機封止膜と、を有する多層構造の封止膜を有機エレクトロルミネッセンス表示装置に適用できないか鋭意検討を行った。多層構造の封止膜を有機エレクトロルミネッセンス表示装置に適用することによって、封止膜を有機EL層の表面凹凸を緩衝する厚さまで大きくすることができ、また、無機封止膜を多層にすることによって仮に無機封止膜の一つの層にピンホールが形成されたとしても、他の無機封止膜の存在によって発光層が外部の水分に晒されることを低減できると考えられるからである。   In view of the above points, the inventors have applied a multilayer sealing film having a first inorganic sealing film, an organic sealing film, and a second inorganic sealing film to an organic electroluminescence display device. We conducted an intensive study to determine whether it was applicable. By applying the multilayer sealing film to the organic electroluminescence display device, the sealing film can be increased to a thickness that can buffer the surface irregularities of the organic EL layer, and the inorganic sealing film can be multilayered. This is because even if a pinhole is formed in one layer of the inorganic sealing film, it is considered that the light emitting layer can be reduced from being exposed to external moisture due to the presence of another inorganic sealing film.

ここで、第一の無機封止膜と、有機封止膜と、第二の無機封止膜と、を有する多層構造の封止膜を有機エレクトロルミネッセンス表示装置に適用することによって問題が生じる。それは、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造工程において、有機EL層に封止膜を形成する工程が行われた場合、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の端子部分にも一旦封止膜と同様の膜が形成されることとなり、端子部分を露出させるために該膜を除去する必要があるが、該膜が複数の材料で形成されているために、その除去作業は封止膜が一層で形成されているものと比較してわずらわしいものである。   Here, a problem arises when a sealing film having a multilayer structure including the first inorganic sealing film, the organic sealing film, and the second inorganic sealing film is applied to the organic electroluminescence display device. In the manufacturing process of an organic electroluminescence display device, when a step of forming a sealing film on the organic EL layer is performed, a film similar to the sealing film is once formed on the terminal portion of the organic electroluminescence display device. Therefore, it is necessary to remove the film to expose the terminal portion. However, since the film is formed of a plurality of materials, the removal operation is performed with a single layer of the sealing film. It is annoying compared with.

更に、有機封止膜を形成する有機封止膜材料が除去しきれずに端子部分の近傍に残ってしまうと、有機材料が含有する水分によって端子部分の信頼性を低下させるという懸念も生じる。   Furthermore, when the organic sealing film material forming the organic sealing film cannot be completely removed and remains in the vicinity of the terminal portion, there is a concern that the reliability of the terminal portion is lowered by moisture contained in the organic material.

本発明の目的は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の封止膜を多層構造とし、有機EL層の信頼性を向上させるとともに、有機エレクトロルミネッセンス表示装置における端子部分の信頼性を向上させた有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法を提供することを目的とする。   An object of the present invention is to provide an organic electroluminescence display in which a sealing film of an organic electroluminescence display device has a multi-layer structure, improves the reliability of an organic EL layer, and improves the reliability of a terminal portion in the organic electroluminescence display device An object is to provide an apparatus and a method for manufacturing the same.

また、本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面によって明らかにする。   The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of this specification and the accompanying drawings.

上記課題を解決するための本発明にかかる有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、 絶縁基板上に薄膜トランジスタを有する複数の画素回路がマトリクス状に配置され、該絶縁基板の端部に外部の電子機器と電気的に接続される複数の接続端子が備えられた第一の基板と、平面視において、前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域と離間し、かつ前記複数の画素回路が配置される領域の上に積層される有機EL層と、前記有機EL層の前記第一の基板と対向する側とは反対側の面に、第一の無機封止膜と、有機封止膜と、第二の無機封止膜と、が前記有機EL層と接する側から順に積層された封止膜と、を含み、複数の前記接続端子の間には、隣り合う接続端子同士の電気的接続を防止する、無機絶縁材料によって形成される凸部を備え、前記凸部の側面には、前記封止膜を構成する前記有機封止膜を形成する有機封止材料によって形成される有機構造体を収納するための凹部が形成されていることを特徴とする。   In order to solve the above problems, an organic electroluminescence display device according to the present invention includes a plurality of pixel circuits each having a thin film transistor on an insulating substrate arranged in a matrix, and electrically connected to an external electronic device at an end of the insulating substrate. A first substrate provided with a plurality of connection terminals connected to the first substrate, and in a plan view, spaced apart from a region provided with the plurality of connection terminals of the first substrate, and the plurality of pixel circuits are arranged A first inorganic sealing film, an organic sealing film on the surface of the organic EL layer opposite to the side facing the first substrate, A second inorganic sealing film, and a sealing film laminated in order from the side in contact with the organic EL layer, and between the plurality of connection terminals, electrical connection between adjacent connection terminals is provided. Prevent, formed by inorganic insulating material A concave portion for accommodating an organic structure formed by an organic sealing material forming the organic sealing film constituting the sealing film is formed on a side surface of the convex portion. It is characterized by being.

また、前記凸部は、それぞれ異なる種類の無機絶縁材料によって形成される、第一の無機絶縁層と、第二の無機絶縁層と、を含み、前記凸部の側面に形成される前記凹部は、前記第一の無機絶縁層が、前記第二の無機絶縁層よりも前記絶縁基板に近い場所に配置され、平面視において、前記第一の無機絶縁層の外縁が、前記第二の無機絶縁層の外縁の内側に備えられる、ことによって形成されていることとしてもよい。   In addition, the convex portion includes a first inorganic insulating layer and a second inorganic insulating layer, which are formed of different types of inorganic insulating materials, and the concave portion formed on the side surface of the convex portion is The first inorganic insulating layer is disposed at a location closer to the insulating substrate than the second inorganic insulating layer, and the outer edge of the first inorganic insulating layer is the second inorganic insulating in a plan view. It is good also as being formed by being provided inside the outer edge of a layer.

また、前記凸部は、前記第一の無機絶縁層よりも前記絶縁基板に近い場所に配置され、前記第一の無機絶縁層と異なる無機絶縁材料によって形成される、第三の無機絶縁層を、更に含み、前記凸部の側面に形成される前記凹部は、平面視において、前記第一の無機絶縁層の外縁が、前記第二の無機絶縁層の外縁及び前記第三の無機絶縁層の外縁の内側に備えられる、ことによって形成されていることとしてもよい。   Further, the convex portion is disposed at a location closer to the insulating substrate than the first inorganic insulating layer, and is formed of an inorganic insulating material different from the first inorganic insulating layer, and a third inorganic insulating layer is formed. In addition, the concave portion formed on the side surface of the convex portion includes an outer edge of the first inorganic insulating layer and an outer edge of the second inorganic insulating layer and the third inorganic insulating layer in plan view. It is good also as being formed by being provided inside the outer edge.

また、前記第二の無機絶縁層と、前記第三の無機絶縁層と、は同種の無機絶縁材料によって形成されることとしてもよい。   The second inorganic insulating layer and the third inorganic insulating layer may be formed of the same kind of inorganic insulating material.

また、上記課題を解決するための本発明にかかる有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法は、絶縁基板上に薄膜トランジスタを有する複数の画素回路がマトリクス状に配置され、該絶縁基板の端部に外部の電子機器と電気的に接続される複数の接続端子が備えられた第一の基板を形成する、第一の基板形成工程と、平面視において、前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域と離間し、かつ前記複数の画素回路が配置される領域の上に積層される有機EL層を形成する、有機EL層形成工程と、前記有機EL層形成工程によって形成された前記有機EL層の前記第一の基板と対向する側とは反対側の面に、第一の無機封止膜と、有機封止膜と、第二の無機封止膜と、が前記有機EL層と接する側から順に積層された封止膜を形成する、封止膜形成工程と、を含み、前記第一の基板形成工程は、前記複数の該接続端子の間に、隣り合う接続端子同士の電気的接続を防止する、無機絶縁材料によって形成される凸部を形成する凸部形成工程を含み、前記凸部形成工程は、前記凸部の側面に、前記封止膜を構成する前記有機封止膜を形成する有機封止材料によって形成される有機構造体を収納する凹部を形成する、凹部形成工程を含むことを特徴とする。   In addition, in a method for manufacturing an organic electroluminescence display device according to the present invention for solving the above-described problem, a plurality of pixel circuits having thin film transistors are arranged in a matrix on an insulating substrate, and an external portion is provided at an end of the insulating substrate. A first substrate forming step of forming a first substrate provided with a plurality of connection terminals electrically connected to an electronic device; and in plan view, the plurality of connection terminals of the first substrate are provided An organic EL layer forming step of forming an organic EL layer that is separated from a region to be formed and stacked on a region where the plurality of pixel circuits are disposed, and the organic EL layer formed by the organic EL layer forming step The first inorganic sealing film, the organic sealing film, and the second inorganic sealing film are in contact with the organic EL layer on the surface of the layer opposite to the side facing the first substrate. Seals stacked in order from the side Forming a film, and forming a sealing film, wherein the first substrate forming step prevents electrical connection between adjacent connection terminals between the plurality of connection terminals. A convex portion forming step of forming a convex portion formed by the organic sealing material forming the organic sealing film constituting the sealing film on a side surface of the convex portion. It includes a recess forming step of forming a recess for housing the organic structure to be formed.

また、前記封止膜形成工程は、前記第一の無機封止膜の形成とともに、平面視において前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域に、前記第一の無機封止膜の形成に用いられる第一の無機封止膜材料によって、第一の無機膜を、該第一の無機膜の前記第一の基板と対向する側とは反対側の面を前記前記凹部形成工程によって形成された凹部のへこみの部分に位置するように形成する工程と、前記有機封止膜の形成とともに、平面視において前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域に、前記有機封止膜の形成に用いられる有機封止膜材料を塗布し、前記凹部に該有機封止膜材料を凹部に収納した後、有機構造体を形成する工程と、前記第二の無機封止膜の形成とともに、平面視において前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域に、前記第二の無機封止膜の形成に用いられる第二の無機封止膜材料によって、第二の無機膜を該第二の無機膜の前記第一の基板と対向する側の面を、前記前第一の無機膜の前記第一の基板と対向する側とは反対側の面と直接接触させて形成する工程と、平面視において前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域に形成された、記前第一の無機膜と、記前第二の無機膜と、を除去する工程と、を含むこととしてもよい。   The sealing film forming step includes forming the first inorganic sealing film in a region where the plurality of connection terminals of the first substrate are provided in a plan view together with the formation of the first inorganic sealing film. By the first inorganic sealing film material used for forming the first inorganic film, the surface of the first inorganic film opposite to the side facing the first substrate is the recess forming step. In the region where the plurality of connection terminals of the first substrate are provided in a plan view together with the formation of the organic sealing film and the step of forming the organic sealing film so as to be located in the recessed portion of the recess formed by the organic A step of forming an organic structure after applying an organic sealing film material used for forming a sealing film, storing the organic sealing film material in the concave portion in the concave portion, and the second inorganic sealing film And forming a plurality of the first substrate in a plan view. In the region where the connection terminal is provided, the second inorganic film is used as the first substrate of the second inorganic film by the second inorganic sealing film material used for forming the second inorganic sealing film. A step of forming the surface on the opposite side in direct contact with the surface of the front first inorganic film opposite to the side facing the first substrate; and a plurality of the first substrates in plan view The step of removing the first inorganic film and the second inorganic film formed in a region where the connection terminal is provided may be included.

また、前記凸部形成工程は、それぞれ異なる種類の無機絶縁材料によって、第一の無機絶縁層と、第二の無機絶縁層と、を形成する工程を含み、前記凹部形成工程によって形成される該凹部は、前記第一の無機絶縁層を、前記第二の無機絶縁層よりも前記絶縁基板に近い場所に形成し、平面視において、前記第一の無機絶縁層の外縁を、前記第二の無機絶縁層の外縁の内側に形成することによって形成されることとしてもよい。   The convex portion forming step includes a step of forming a first inorganic insulating layer and a second inorganic insulating layer with different types of inorganic insulating materials, and the convex portion forming step includes the step of forming the concave portion. The recess forms the first inorganic insulating layer at a location closer to the insulating substrate than the second inorganic insulating layer, and the outer edge of the first inorganic insulating layer in the plan view It is good also as forming by forming inside the outer edge of an inorganic insulating layer.

また、前記凸部形成工程は、前記第一の無機絶縁層よりも前記絶縁基板に近い場所に配置され、前記第一の無機絶縁層と異なる無機絶縁材料によって形成される、第三の無機絶縁層を形成する工程を更に含み、前記凹部形成工程によって形成される該凹部は、平面視において、前記第一の無機絶縁層の外縁が、前記第二の無機絶縁層の外縁及び前記第三の無機絶縁層の外縁の内側に備えられる、ことによって形成されていることとしてもよい。   Moreover, the said convex part formation process is arrange | positioned in the place near the said insulated substrate rather than the said 1st inorganic insulating layer, and is formed with an inorganic insulating material different from a said 1st inorganic insulating layer, The 3rd inorganic insulation A step of forming a layer, wherein the concave portion formed by the concave portion forming step has an outer edge of the first inorganic insulating layer in plan view, the outer edge of the second inorganic insulating layer, and the third It is good also as being formed by being provided inside the outer edge of an inorganic insulating layer.

また、前記第二の無機絶縁層と、前記第三の無機絶縁層と、は同種の無機絶縁材料によって形成されることとしてもよい。   The second inorganic insulating layer and the third inorganic insulating layer may be formed of the same kind of inorganic insulating material.

本発明によって、有機エレクトロルミネッセンス表示装置の封止膜を多層構造とし、有機EL層の信頼性を向上させるとともに、有機エレクトロルミネッセンス表示装置における端子部分の信頼性を向上させた有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法が提供される。   According to the present invention, an organic electroluminescence display device having a multilayer structure as a sealing film of an organic electroluminescence display device, improving the reliability of an organic EL layer, and improving the reliability of a terminal portion in the organic electroluminescence display device, and A manufacturing method thereof is provided.

本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の斜視図である。1 is a perspective view of an organic electroluminescence display device according to the present invention. 本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置に含まれる、封止膜の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the sealing film contained in the organic electroluminescent display apparatus which concerns on this invention. 本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の接続端子部分の第一実施形態について説明する図であり、図1のIII−III線における断面図である。It is a figure explaining 1st embodiment of the connection terminal part of the organic electroluminescent display apparatus which concerns on this invention, and is sectional drawing in the III-III line of FIG. 本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の接続端子部分の第一実施形態の変形例について説明する図であり、図1のIII−III線における断面図である。It is a figure explaining the modification of 1st embodiment of the connection terminal part of the organic electroluminescent display apparatus which concerns on this invention, and is sectional drawing in the III-III line of FIG. 発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の接続端子部分の第二実施形態について説明する図であり、図1のIII−III線における断面図である。It is a figure explaining 2nd embodiment of the connection terminal part of the organic electroluminescent display apparatus which concerns on invention, and is sectional drawing in the III-III line of FIG. 本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の接続端子部分の第二実施形態の変形例について説明する図であり、図1のIII−III線における断面図である。It is a figure explaining the modification of 2nd embodiment of the connection terminal part of the organic electroluminescent display apparatus which concerns on this invention, and is sectional drawing in the III-III line of FIG. 第一の基板形成工程及び有機EL層形成工程後、封止膜形成工程における第一の無機封止膜が形成された後の端子部分の状態を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the state of the terminal part after the 1st board | substrate formation process and the organic EL layer formation process after the 1st inorganic sealing film in a sealing film formation process was formed. 第一の基板形成工程及び有機EL層形成工程後、封止膜形成工程における第一の無機封止膜及び有機封止膜が形成された後の端子部分の状態を示した断面図である。It is sectional drawing which showed the state of the terminal part after the 1st board | substrate formation process and the organic EL layer formation process after the 1st inorganic sealing film and organic sealing film in a sealing film formation process were formed. 第一の基板形成工程及び有機EL層形成工程後、封止膜形成工程における第一の無機封止膜、有機封止膜、及び第二の無機封止膜が形成された後の端子部分の状態を示した断面図である。After the first substrate forming step and the organic EL layer forming step, the terminal portion after the first inorganic sealing film, the organic sealing film, and the second inorganic sealing film in the sealing film forming step are formed. It is sectional drawing which showed the state. 第一の基板形成工程、有機EL層形成工程、及び封止膜形成工程後、第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域に形成された、第一の無機膜及び第二の無機膜を除去した後の端子部分の状態を示した断面図である。After the first substrate forming step, the organic EL layer forming step, and the sealing film forming step, the first inorganic film and the second inorganic film formed in the region of the first substrate where the plurality of connection terminals are provided. It is sectional drawing which showed the state of the terminal part after removing a film | membrane.

はじめに図1を参照して、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の基本構成について説明する。図1は、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の斜視図である。   First, a basic configuration of an organic electroluminescence display device according to the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a perspective view of an organic electroluminescence display device according to the present invention.

図1に示されるように、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置10は、絶縁基板上に薄膜トランジスタを有する複数の画素回路がマトリクス状に配置され、該絶縁基板の端部に外部の電子機器と電気的に接続される複数の接続端子が備えられた第一の基板100と、平面視において、前記第一の基板100の複数の前記接続端子が備えられる領域TAと離間し、かつ前記複数の画素回路が配置される領域の上に積層される有機EL層200と、前記有機EL層200の前記第一の基板100と対向する側とは反対側の面に、第一の無機封止膜と、有機封止膜と、第二の無機封止膜と、が前記有機EL層200と接する側から順に積層された封止膜300と、を含むものである。   As shown in FIG. 1, an organic electroluminescence display device 10 according to the present invention includes a plurality of pixel circuits having thin film transistors arranged in a matrix on an insulating substrate, and external electronic devices are connected to end portions of the insulating substrate. The first substrate 100 provided with a plurality of connection terminals to be electrically connected, and in a plan view, separated from a region TA provided with the plurality of connection terminals of the first substrate 100, and the plurality of the plurality of connection terminals On the surface of the organic EL layer 200 opposite to the side facing the first substrate 100, the first inorganic sealing film is laminated on the region where the pixel circuit is disposed. And a sealing film 300 in which an organic sealing film and a second inorganic sealing film are laminated in order from the side in contact with the organic EL layer 200.

また、有機EL層200は、平面視において、前記第一の基板100の複数の前記接続端子が備えられる領域TAと異なる領域であって、前記複数の前記画素回路が配置される領域PAと重ねて、前記第一の基板100上に備えられることとしてもよい。   Further, the organic EL layer 200 is a region different from the region TA provided with the plurality of connection terminals of the first substrate 100 in a plan view, and overlaps the region PA where the plurality of pixel circuits are arranged. It may be provided on the first substrate 100.

はじめに、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置10を構成する第一の基板100について説明する。第一の基板100は、図1においては図示が省略されているが、絶縁基板上で薄膜トランジスタを有する画素がマトリクス状に配置された構造を有するものである。ここで、絶縁基板とは、例えばガラス、プラスチック(ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリアクリレート等)等で構成されることとしてもよい。   First, the 1st board | substrate 100 which comprises the organic electroluminescent display apparatus 10 which concerns on this invention is demonstrated. Although not shown in FIG. 1, the first substrate 100 has a structure in which pixels having thin film transistors are arranged in a matrix on an insulating substrate. Here, the insulating substrate may be made of, for example, glass, plastic (polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyimide, polyacrylate, or the like).

また、第一の基板100の絶縁基板は、例えば光透過性材料により構成されることとしてもよい。より具体的には、第一の基板100の絶縁基板は、ガラス、プラスチック(ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリイミド、ポリアクリレート等)により構成されることとしてもよい。   Further, the insulating substrate of the first substrate 100 may be made of, for example, a light transmissive material. More specifically, the insulating substrate of the first substrate 100 may be made of glass or plastic (polycarbonate, polyethylene terephthalate, polyimide, polyacrylate, or the like).

また、薄膜トランジスタを用いた画素回路が配置される第一の基板100は、TFT(Thin Film Transistor)アレイ基板ともよばれる。ここで、薄膜トランジスタは、ポリシリコンなどの半導体膜と、半導体膜を覆うゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜を介して半導体膜の上方に配置されたゲート電極と、ゲート絶縁膜を貫通して半導体膜に電気的に接続するソース電極及びドレイン電極と、を含むこととしてもよい。   The first substrate 100 on which a pixel circuit using a thin film transistor is arranged is also called a TFT (Thin Film Transistor) array substrate. Here, the thin film transistor includes a semiconductor film such as polysilicon, a gate insulating film covering the semiconductor film, a gate electrode disposed above the semiconductor film via the gate insulating film, and a semiconductor film penetrating the gate insulating film. A source electrode and a drain electrode that are electrically connected to each other.

そして、第一の基板100に配置される複数の画素回路は、薄膜トランジスタに含まれるゲート電極、ソース電極及びドレイン電極のそれぞれと接続されるゲート電極線Vg(走査配線)、信号配線Vsigや、薄膜トランジスタに電源を供給する電源供給線VDDによって構成される配線によってマトリクス状に区画されて配置されていることとしてもよい。なお、これらの配線は、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、モリブデン(Mo)等の金属によって形成されることとしてもよい。   The plurality of pixel circuits arranged on the first substrate 100 include a gate electrode line Vg (scanning wiring), a signal wiring Vsig connected to each of a gate electrode, a source electrode, and a drain electrode included in the thin film transistor, and a thin film transistor. The power supply line VDD for supplying power may be partitioned and arranged in a matrix form. Note that these wirings may be formed of a metal such as aluminum (Al), chromium (Cr), or molybdenum (Mo).

また、図1にて示されるように、第一の基板100に配置される薄膜トランジスタを用いた回路を駆動させるための駆動回路が、第一の基板100上に配置されることとしてもよい。なお、該駆動回路は第一の基板100の複数の前記接続端子が備えられる領域TAの近傍に備えられることとしてもよい。   In addition, as illustrated in FIG. 1, a driving circuit for driving a circuit using a thin film transistor disposed on the first substrate 100 may be disposed on the first substrate 100. Note that the drive circuit may be provided in the vicinity of the region TA where the plurality of connection terminals of the first substrate 100 are provided.

また、第一の基板100の端部の領域である、複数の前記接続端子が備えられる領域TAには、例えばフレキシブルプリント基板(FPC)との接続を介して他の電子機器と電気的に接続される、複数の接続端子(図1においては図示なし)が備えられる。また、複数の接続端子の間には隣り合う接続端子同士の電気的接続を防止する、無機絶縁材料によって形成される凸部(図1においては図示なし)を備えている。接続端子が備えられる領域TAにおける、複数の接続端子と、該接続端子間に備えられる凸部については、後に詳細に説明する。   In addition, an area TA provided with a plurality of the connection terminals, which is an end area of the first substrate 100, is electrically connected to another electronic device through a connection with, for example, a flexible printed circuit board (FPC). A plurality of connection terminals (not shown in FIG. 1) are provided. Further, a projection (not shown in FIG. 1) formed of an inorganic insulating material is provided between the plurality of connection terminals to prevent electrical connection between adjacent connection terminals. The plurality of connection terminals and the protrusions provided between the connection terminals in the area TA where the connection terminals are provided will be described in detail later.

次に、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置10を構成する有機EL層200について説明する。有機EL層200は、少なくとも、陽極と、陰極と、該陽極と該陰極との間に挟持される発光層と、を少なくとも有するものである。   Next, the organic EL layer 200 constituting the organic electroluminescence display device 10 according to the present invention will be described. The organic EL layer 200 has at least an anode, a cathode, and a light emitting layer sandwiched between the anode and the cathode.

ここで、有機EL層200に備えられる陽極(画素電極ともいう)は、平面視においてマトリクス状に配置された複数の画素回路のそれぞれに対応する位置に配置されている。そして、陽極には、第一の基板100に備えられた薄膜トランジスタを介して電流が供給される。そして陽極に供給された電流は、発光層を経て、陰極へと流れ込む。陽極および陰極に挟持される発光層では、陰極からの電子及び陽極からの正孔が再結合することにより発光する。そして、発光した光は外部に照射されることとなる。   Here, the anode (also referred to as pixel electrode) provided in the organic EL layer 200 is disposed at a position corresponding to each of a plurality of pixel circuits arranged in a matrix in a plan view. A current is supplied to the anode via a thin film transistor provided on the first substrate 100. And the electric current supplied to the anode flows into the cathode through the light emitting layer. In the light emitting layer sandwiched between the anode and the cathode, light is emitted by recombination of electrons from the cathode and holes from the anode. And the emitted light will be irradiated outside.

このように、陽極の役割は正孔を発光層に含まれる正孔注入層や正孔輸送層などの有機層へ注入することであるため、仕事関数が大きなことが必要である。例えば、陽極は酸化スズ(SnO)、アルミニウムドープの酸化亜鉛(ZnO:Al)、インジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(In2O3−ZnO(IZO))、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アルミニウム複合酸化物等によって形成されることとしてもよい。また、陽極は、低抵抗であること、耐溶剤性があること、透明性があることなどからITOであることが好ましい。なお、ITOの仕事関数は4.6〜5.0eV程度であり正孔輸送材料のHOMO準位(5.0〜5.5eV)に近いため正孔の注入に適している。ITOは、例えばスパッタ法によって形成されることとしてもよい。 Thus, since the role of the anode is to inject holes into an organic layer such as a hole injection layer or a hole transport layer included in the light emitting layer, it is necessary that the work function is large. For example, the anode is tin oxide (SnO 2 ), aluminum-doped zinc oxide (ZnO: Al), indium tin oxide (ITO), indium zinc oxide (In 2 O 3 —ZnO (IZO)), tin oxide, zinc oxide, oxidation It may be formed of indium, aluminum oxide composite oxide, or the like. The anode is preferably ITO because it has low resistance, has solvent resistance, and has transparency. The work function of ITO is about 4.6 to 5.0 eV, which is close to the HOMO level (5.0 to 5.5 eV) of the hole transport material, and is suitable for hole injection. ITO may be formed by sputtering, for example.

正孔輸送層を形成する正孔輸送材料としては、例えば、銅フタロシアニン、テトラ(t−ブチル)銅フタロシアニン等の金属フタロシアニン類及び無金属フタロシアニン類、キナクリドン化合物、1,1−ビス(4−ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン、N,N’−ジフェニル−N,N’−ビス(3−メチルフェニル)−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン、N,N’−ジ(1−ナフチル)−N,N’−ジフェニル−1,1’−ビフェニル−4,4’−ジアミン等の芳香族アミン系低分子正孔注入輸送材料やポリ(パラ−フェニレンビニレン)、ポリアニリン等の高分子正孔輸送材料、ポリチオフェンオリゴマー材料、その他公知の正孔輸送材料の中から選ぶことができる。   Examples of the hole transport material for forming the hole transport layer include metal phthalocyanines and metal-free phthalocyanines such as copper phthalocyanine and tetra (t-butyl) copper phthalocyanine, quinacridone compounds, 1,1-bis (4-di -P-tolylaminophenyl) cyclohexane, N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl) -1,1'-biphenyl-4,4'-diamine, N, N'-di ( 1-naphthyl) -N, N′-diphenyl-1,1′-biphenyl-4,4′-diamine and other aromatic amine low molecular hole injection transport materials, poly (para-phenylene vinylene), polyaniline, etc. It can be selected from polymer hole transport materials, polythiophene oligomer materials, and other known hole transport materials.

また、発光層を形成する有機発光材料は、一般に有機発光材料として用いられているものであれば良く、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、N,N’―ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、N,N’―ジアリール置換ピロロピロール系等、一重項状態から発光可能な公知の蛍光性低分子材料や、希土類金属錯体系の三重項状態から発光可能な公知の燐光性低分子材料が挙げられる。   The organic light-emitting material for forming the light-emitting layer may be any material that is generally used as an organic light-emitting material, and is a coumarin, perylene, pyran, anthrone, porphyrene, quinacridone, N, N′— Known fluorescent low-molecular materials that can emit light from a singlet state, such as dialkyl-substituted quinacridone-based, naphthalimide-based, N, N'-diaryl-substituted pyrrolopyrrole-based materials, and known that can emit light from a rare-earth metal complex-based triplet state And phosphorescent low molecular weight materials.

陰極は、有機EL層200の最上面(有機EL層200の第一の基板100側とは反対側の面)に形成されるベタ電極である。そして、陰極は本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置10に備えられる有機EL層200のほぼ全面にわたって形成されている。   The cathode is a solid electrode formed on the uppermost surface of the organic EL layer 200 (the surface opposite to the first substrate 100 side of the organic EL layer 200). The cathode is formed over almost the entire surface of the organic EL layer 200 provided in the organic electroluminescence display device 10 of the present invention.

陰極は、陽極とは反対に電子を電子注入層や電子輸送層へ注入するために仕事関数が小さいほうが有利である。このため、Al、Mg、MgAg、MgIn等の金属にて形成されることが一般的には好ましい。ここで、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置10がトップエミッション型の有機エレクトロルミネッセンス表示装置10の場合、陰極側から発光した光を取り出すこととなるので、陰極はインジウムスズ酸化物(ITO)、インジウム亜鉛酸化物(In2O3−ZnO(IZO))、酸化錫、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化アルミニウム複合酸化物等のような透明金属から形成される透明電極であることとしてもよい。   It is advantageous that the cathode has a small work function in order to inject electrons into the electron injection layer and the electron transport layer, as opposed to the anode. For this reason, it is generally preferable to form with a metal such as Al, Mg, MgAg, or MgIn. Here, when the organic electroluminescence display device 10 according to the present invention is a top emission type organic electroluminescence display device 10, light emitted from the cathode side is taken out, so that the cathode is indium tin oxide (ITO), It may be a transparent electrode formed of a transparent metal such as indium zinc oxide (In2O3-ZnO (IZO)), tin oxide, zinc oxide, indium oxide, aluminum oxide composite oxide, or the like.

また、陰極の形成方法としてはスパッタ法による形成方法が挙げられる。   Further, as a method for forming the cathode, a forming method by a sputtering method can be mentioned.

電子輸送層を形成する電子輸送材料としては、一般に電子輸送材料として用いられているものであれば良く、例えば、トリアゾール系、オキサゾール系、オキサジアゾール系、シロール系、ボロン系等の低分子系材料が挙げられ、真空蒸着法による成膜形成が可能である。   The electron transport material for forming the electron transport layer may be any material that is generally used as an electron transport material. For example, a low molecular system such as triazole, oxazole, oxadiazole, silole, or boron Examples of the material include film formation by vacuum deposition.

上記説明した、正孔輸送層、発光層、電子輸送層の形成は、蒸着型材料については真空蒸着法を、また、塗布型材料についてはノズルプリンティング法、スピンコート法、スリットコート法、インクジェット法、凸版印刷法等公知の成膜方法を使用して行うこととしてもよい。   The above-described formation of the hole transport layer, the light emitting layer, and the electron transport layer is performed using a vacuum deposition method for the vapor deposition type material, and a nozzle printing method, a spin coating method, a slit coating method, and an ink jet method for the coating type material. Alternatively, a known film forming method such as a relief printing method may be used.

なお、上記説明においては、有機EL層200の一例として、陽極と陰極との間に陽極側から正孔輸送層と有機発光層、電子輸送層を積層したものについて述べたが、陽極と陰極との間において正孔輸送層、有機発光層以外に正孔ブロック層、電子注入層といった層を必要に応じ選択した積層構造をとることとしてもよい。また、これらの層を形成する際には正孔輸送層や発光層、陰極と同様の形成方法を適宜選択して行うこととしてもよい。   In the above description, as an example of the organic EL layer 200, a structure in which a hole transport layer, an organic light emitting layer, and an electron transport layer are stacked from the anode side between the anode and the cathode is described. It is good also as taking the laminated structure which selected layers, such as a hole block layer and an electron injection layer other than a positive hole transport layer and an organic light emitting layer, as needed. Moreover, when forming these layers, it is good also as selecting suitably the formation method similar to a positive hole transport layer, a light emitting layer, and a cathode.

次に、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置10を構成する封止膜300について説明する。封止膜300は、有機EL層200を構成する発光層が水分の存在によってその信頼性を著しく低下させるため、有機EL層200を外部の水分から分離するために備えられるものである。   Next, the sealing film 300 constituting the organic electroluminescence display device 10 according to the present invention will be described. The sealing film 300 is provided to separate the organic EL layer 200 from external moisture, since the reliability of the light emitting layer constituting the organic EL layer 200 is significantly reduced due to the presence of moisture.

封止膜は水分含有率が小さいという理由から無機材料によって形成されるのが一般的である。しかしながら、無機材料によって形成される封止膜は、プロセス上その厚さは小さなものとなる。そして、無機材料によって形成される封止膜には、製造プロセスにおいてピンホールが形成されることがあり、これによって外部の水分の影響を発光層が受ける可能性がある。   The sealing film is generally formed of an inorganic material because the moisture content is small. However, the sealing film formed of an inorganic material has a small thickness in the process. And a pinhole may be formed in a sealing film formed with an inorganic material in a manufacturing process, and this may cause the light emitting layer to be affected by external moisture.

ところで、いわゆるトップエミッション型の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の場合、外部に均一な光を発するためには、有機EL層200の表面凹凸を低減することが効果的である。ここで、前述のように無機材料によって形成される封止膜はプロセス上その厚さは小さいものであるが故、有機EL層200の表面凹凸を緩衝するほどの厚さに形成することが難しい。   By the way, in the case of a so-called top emission type organic electroluminescence display device, it is effective to reduce the surface unevenness of the organic EL layer 200 in order to emit uniform light to the outside. Here, as described above, the sealing film formed of the inorganic material has a small thickness in the process, and thus it is difficult to form the sealing film with a thickness enough to buffer the surface unevenness of the organic EL layer 200. .

以上の点を鑑みて本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置10を構成する封止膜300は、第一の無機封止膜と、有機封止膜と、第二の無機封止膜と、を有する多層構造の封止膜300を適用している。有機封止膜は、無機封止膜と比較して、厚さが大きく形成できるため、有機EL層200の表面凹凸を緩衝できるからである。   In view of the above points, the sealing film 300 constituting the organic electroluminescence display device 10 according to the present invention includes a first inorganic sealing film, an organic sealing film, and a second inorganic sealing film. A sealing film 300 having a multilayer structure is applied. This is because the organic sealing film can be formed thicker than the inorganic sealing film, so that the surface unevenness of the organic EL layer 200 can be buffered.

また、封止膜300を多層構造とすることによって、仮に多層のうちの一つにピンホールが生じたとしても、他の層を重ねて形成することによって該ピンホールの欠陥を補償することができる。   In addition, if the sealing film 300 has a multilayer structure, even if a pinhole is generated in one of the multilayers, defects in the pinhole can be compensated by forming another layer on top of each other. it can.

すなわち、多層構造の封止膜300を有機エレクトロルミネッセンス表示装置10に適用することによって、該封止膜300によって有機EL層200の表面凹凸を緩衝する厚さまで大きくすることができ、また、多層構造を採用することによって仮に無機封止膜の一つの層にピンホールが形成されたとしても、他の無機封止膜の存在によって有機EL層200が外部の水分に晒されることを抑制できる。   That is, by applying the sealing film 300 having a multilayer structure to the organic electroluminescence display device 10, the sealing film 300 can increase the thickness of the organic EL layer 200 so that the surface unevenness is buffered. Even if a pinhole is formed in one layer of the inorganic sealing film, the organic EL layer 200 can be prevented from being exposed to external moisture due to the presence of another inorganic sealing film.

図2は、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置に備えられる、封止膜300の構成を説明する断面図である。図2に示されるように、封止膜300は、有機EL層200の第一の基板100と対向する側とは反対側の面に、第一の無機封止膜311と、有機封止膜312と、第二の無機封止膜313と、が有機EL層200と接する側から順に積層されたものである。   FIG. 2 is a cross-sectional view illustrating the configuration of the sealing film 300 provided in the organic electroluminescence display device according to the present invention. As shown in FIG. 2, the sealing film 300 includes a first inorganic sealing film 311 and an organic sealing film on the surface of the organic EL layer 200 opposite to the side facing the first substrate 100. 312 and the second inorganic sealing film 313 are sequentially laminated from the side in contact with the organic EL layer 200.

第一の無機封止膜311と第二の無機封止膜313とは、外部からの水分、酸素等から有機EL層200を保護する機能を有するものである。したがって、第一の無機封止膜311と第二の無機封止膜313とを形成する材料は、通水性、通気性を考慮して選定されることとなる。   The first inorganic sealing film 311 and the second inorganic sealing film 313 have a function of protecting the organic EL layer 200 from moisture, oxygen, and the like from the outside. Therefore, the material forming the first inorganic sealing film 311 and the second inorganic sealing film 313 is selected in consideration of water permeability and air permeability.

例えば、第一の無機封止膜311と第二の無機封止膜313とは、SiN、SiO、P・SiO(PSG)、Al、PbO・SiO、Si、SiON、及びPbO・B、からなる群で構成される化合物群から選択される化合物によって形成されることとしてもよい。 For example, the first inorganic sealing film 311 and the second inorganic sealing film 313 include SiN, SiO 2 , P 2 O 5 .SiO 2 (PSG), Al 2 O 3 , PbO.SiO 2 , Si 3. It may be formed of a compound selected from the group consisting of N 4 , SiON, and PbO · B 2 O 3 .

また、第一の無機封止膜311と第二の無機封止膜313とは、例えばスパッタリング、蒸着、昇華、CVD(化学蒸着法)、PECVD(プラズマ増強化学蒸着法)、ECR−PECVD(電子サイクロトロン共鳴−プラズマ増強化学蒸着法)及びそれらの組合せなどの、従来方式の真空プロセスを含めて、任意の適切なプロセスによって成膜されることとしてもよい。なお、第一の無機封止膜311及び第二の無機封止膜313の材料、及び形成方法は、上記のものに限られるものではない。   The first inorganic sealing film 311 and the second inorganic sealing film 313 are, for example, sputtering, vapor deposition, sublimation, CVD (chemical vapor deposition), PECVD (plasma enhanced chemical vapor deposition), ECR-PECVD (electron). It may be deposited by any suitable process, including conventional vacuum processes, such as cyclotron resonance-plasma enhanced chemical vapor deposition) and combinations thereof. In addition, the material of the 1st inorganic sealing film 311 and the 2nd inorganic sealing film 313 and the formation method are not restricted to said thing.

また、第一の無機封止膜311及び第二の無機封止膜313の厚さは、それぞれ50nm以上150nm未満であることとしてもよい。第一の無機封止膜311及び第二の無機封止膜313の厚さが50nm以上150nm未満であることによって、有機EL層200に対する保護効果が高まり好ましい。   The thicknesses of the first inorganic sealing film 311 and the second inorganic sealing film 313 may be 50 nm or more and less than 150 nm, respectively. When the thickness of the first inorganic sealing film 311 and the second inorganic sealing film 313 is 50 nm or more and less than 150 nm, the protective effect on the organic EL layer 200 is preferably increased.

第一の無機封止膜311及び第二の無機封止膜313の成膜の具体例としては、例えば、プラズマCVD法によってSiNを成膜することとしてもよい。より具体的には、SiN成膜時において、SiH、NH、Nを混合ガスとし、プラズマを発生させてSiNの膜を成膜することとしてもよい。また、SiN膜厚は100nmとし、基板温度は100℃以下で成膜することとしてもよい。 As a specific example of the film formation of the first inorganic sealing film 311 and the second inorganic sealing film 313, for example, SiN may be formed by a plasma CVD method. More specifically, when forming a SiN film, SiH 4 , NH 3 , and N 2 may be used as a mixed gas, and plasma may be generated to form a SiN film. The SiN film thickness may be 100 nm and the substrate temperature may be 100 ° C. or lower.

また、第一の無機封止膜311と第二の無機封止膜313とは、同種の化合物によって形成されることが好ましい。これは、第一の無機封止膜311と第二の無機封止膜313との間には、図2にて示されるように有機封止膜312が挟持されるが、有機封止膜312は、第一の無機封止膜311−有機封止膜312間、および第二の無機封止膜313−有機封止膜312間のそれぞれで層間剥離が起こらないよう、第一の無機封止膜311及び第二の無機封止膜313それぞれの膜を形成する材料との密着性を鑑みて選定された、有機封止材料によって形成されることとなる。そして、第一の無機封止膜311と第二の無機封止膜313とが同種の化合物によって形成されることによって、有機封止膜312を形成する有機封止材料の選定を簡便なものとすることができるからである。   Moreover, it is preferable that the 1st inorganic sealing film 311 and the 2nd inorganic sealing film 313 are formed with the same kind of compound. This is because the organic sealing film 312 is sandwiched between the first inorganic sealing film 311 and the second inorganic sealing film 313 as shown in FIG. In order to prevent delamination between the first inorganic sealing film 311 and the organic sealing film 312, and between the second inorganic sealing film 313 and the organic sealing film 312, the first inorganic sealing film 311 It will be formed of an organic sealing material selected in view of the adhesion to the material forming the film 311 and the second inorganic sealing film 313. Then, the first inorganic sealing film 311 and the second inorganic sealing film 313 are formed of the same kind of compound, so that the organic sealing material for forming the organic sealing film 312 can be easily selected. Because it can be done.

また、第一の無機封止膜311と第二の無機封止膜313とが、同種の化合物によって形成されることによって、有機エレクトロルミネッセンス表示装置10の端子部分に、該化合物によって形成された膜を除去しやすいという利点を有する。この点は、後の有機エレクトロルミネッセンス表示装置10の製造方法についての説明にて、詳細に説明する。   Further, the first inorganic sealing film 311 and the second inorganic sealing film 313 are formed of the same kind of compound, so that the film formed of the compound on the terminal portion of the organic electroluminescence display device 10 Has the advantage of being easy to remove. This point will be described in detail in the description of the manufacturing method of the organic electroluminescence display device 10 later.

有機封止膜312を形成する有機封止材料は、例えばポリイミド樹脂及び/又はその誘導体、アクリル樹脂及び/又はその誘導体によって形成されることとしてもよい。なかでも有機封止膜312は、アクリル樹脂及び/又はその誘導体によって形成されることは好適である。ポリイミド樹脂及び/又はその誘導体によって形成される有機封止膜312は、封止膜の機能という観点においては何ら問題を有しないが、成膜プロセスにおいてイミド化等が必要となりプロセス上のデメリットを有するからである。   The organic sealing material for forming the organic sealing film 312 may be formed of, for example, a polyimide resin and / or a derivative thereof, an acrylic resin and / or a derivative thereof. In particular, the organic sealing film 312 is preferably formed of an acrylic resin and / or a derivative thereof. The organic sealing film 312 formed by the polyimide resin and / or its derivative has no problem in terms of the function of the sealing film, but has a disadvantage in process because imidization or the like is required in the film forming process. Because.

有機封止膜312は、例えば有機封止材料である有機樹脂のワニス(有機封止材料である有機樹脂を溶媒に溶かした液状物)を塗布した後、乾燥させることによって形成することとしてもよいし、有機封止膜312を形成する有機樹脂モノマーを塗布した後、加熱及び/又は光照射することによって、該有機樹脂モノマーを重合することによって形成することとしてもよい。また、該ワニス、若しくは該有機樹脂モノマーは、従来方式の真空プロセス及びノズルプリンティング法、スピンコート法、スリットコート法、インクジェット法や凸版印刷法、凹版オフセット印刷法、凸版反転オフセット印刷法等の方法を用いて塗布することとしてもよい。なお、有機封止膜312の形成は、上記説明した方法に限定されることはない。   The organic sealing film 312 may be formed, for example, by applying an organic resin varnish (a liquid material obtained by dissolving an organic resin, which is an organic sealing material, in a solvent), followed by drying. Then, after the organic resin monomer for forming the organic sealing film 312 is applied, the organic resin monomer may be polymerized by heating and / or light irradiation. Further, the varnish or the organic resin monomer may be prepared by a conventional vacuum process and nozzle printing method, spin coating method, slit coating method, ink jet method, letterpress printing method, intaglio offset printing method, letterpress reverse printing method, etc. It is good also as applying using. The formation of the organic sealing film 312 is not limited to the method described above.

また、有機封止膜312の厚さは、150nm以上500nm以下であることとしてもよい。有機封止膜312の厚さが150nm以上150nm以下であることによって、有機EL層200の表面凹凸を低減する効果が高まり好ましい。   In addition, the thickness of the organic sealing film 312 may be 150 nm or more and 500 nm or less. When the thickness of the organic sealing film 312 is 150 nm or more and 150 nm or less, the effect of reducing the surface unevenness of the organic EL layer 200 is preferably increased.

また、封止膜300は、例えば、SiN/アクリル樹脂/SiNで構成されることとしてもよい。   Further, the sealing film 300 may be composed of, for example, SiN / acrylic resin / SiN.

また、図には記載されていないが、例えば本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置が、トップエミッション型の有機エレクトロルミネッセンス表示装置である場合、封止膜300の上方に、有機EL層200から発せられた光のうち、所定の波長領域を有する光を透過させるカラーフィルターを有する第二の基板(カラーフィルター基板ともいう)を更に備えることとしてもよい。また、第二の基板であるカラーフィルター基板は、RGBによって区画された3つの領域を含むこととしてもよい。   Although not shown in the drawing, for example, when the organic electroluminescence display device according to the present invention is a top emission type organic electroluminescence display device, the organic EL layer 200 is emitted above the sealing film 300. A second substrate (also referred to as a color filter substrate) having a color filter that transmits light having a predetermined wavelength region out of the emitted light may be further provided. Further, the color filter substrate as the second substrate may include three regions partitioned by RGB.

次に、図3Aを参照して、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の接続端子構造について説明する。図3Aは、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の接続端子部分の第一実施形態について説明する図であり、図1のIII−III線における断面図である。   Next, the connection terminal structure of the organic electroluminescence display device according to the present invention will be described with reference to FIG. 3A. FIG. 3A is a diagram illustrating a first embodiment of a connection terminal portion of the organic electroluminescence display device according to the present invention, and is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG. 1.

図3Aに示されるように、複数の接続端子110の間には、隣り合う接続端子同士の電気的接続を防止する、無機絶縁材料によって形成される凸部120を備え、凸部120の側面には、封止膜300を構成する有機封止膜312を形成する有機封止材料によって形成される有機構造体を収納するための凹部124が形成されている。   As shown in FIG. 3A, between the plurality of connection terminals 110, a protrusion 120 formed of an inorganic insulating material that prevents electrical connection between adjacent connection terminals is provided on the side surface of the protrusion 120. Is formed with a recess 124 for accommodating an organic structure formed of an organic sealing material for forming the organic sealing film 312 constituting the sealing film 300.

すなわち、複数の接続端子110の間には、隣り合う接続端子同士の電気的接続を防止する、無機絶縁材料によって形成される凸部120を備え、該凸部の側面は横穴構造を有し、所謂、オーバーハングが形成されている。   That is, between the plurality of connection terminals 110, provided with a convex portion 120 formed of an inorganic insulating material that prevents electrical connection between adjacent connection terminals, the side surface of the convex portion has a horizontal hole structure, A so-called overhang is formed.

そして、凸部120の側面に形成された凹部124は、封止膜300を構成する有機封止膜312を形成する有機封止材料によって形成される有機構造体が収容されることとなる。   The recess 124 formed on the side surface of the protrusion 120 accommodates an organic structure formed of an organic sealing material that forms the organic sealing film 312 that forms the sealing film 300.

また、上記第一実施形態の変形例について説明する。図3Bは、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の接続端子部分の第一実施形態の変形例について説明する図であり、図1のIII−III線における断面図である。   A modification of the first embodiment will be described. FIG. 3B is a diagram for explaining a modification of the first embodiment of the connection terminal portion of the organic electroluminescence display device according to the present invention, and is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG. 1.

図3Bにて示される第一実施形態の変形例における凸部120は、それぞれ異なる種類の無機絶縁材料によって形成される、第一の無機絶縁層121と、第二の無機絶縁層122と、を含み、凸部120の側面に形成される凹部124は、第一の無機絶縁層121が、第二の無機絶縁層122よりも第一の基板100を構成する絶縁基板に近い場所に配置され、平面視において、第一の無機絶縁層121の外縁が、第二の無機絶縁層122の外縁の内側に備えられる、ことによって形成されている。   The convex portion 120 in the modification of the first embodiment shown in FIG. 3B includes a first inorganic insulating layer 121 and a second inorganic insulating layer 122, which are formed of different types of inorganic insulating materials. Including the concave portion 124 formed on the side surface of the convex portion 120, the first inorganic insulating layer 121 is disposed closer to the insulating substrate constituting the first substrate 100 than the second inorganic insulating layer 122, In plan view, the outer edge of the first inorganic insulating layer 121 is provided inside the outer edge of the second inorganic insulating layer 122.

このように、凸部120をそれぞれ異なる種類の無機絶縁材料によって形成される、第一の無機絶縁層121と、第二の無機絶縁層122と、で構成することにより、例えば、第一の無機絶縁層121と、第二の無機絶縁層122と、が同一幅の凸部を一旦形成した後、第一の無機絶縁層121のみを腐食するエッチング液を用いることによって、容易に凸部の側面に凹部を形成し、横穴構造を実現できる。   Thus, by forming the convex portion 120 with the first inorganic insulating layer 121 and the second inorganic insulating layer 122, which are formed of different types of inorganic insulating materials, for example, the first inorganic insulating layer 122 can be used. After the insulating layer 121 and the second inorganic insulating layer 122 once form a convex portion having the same width, the side surface of the convex portion can be easily formed by using an etching solution that corrodes only the first inorganic insulating layer 121. A recess can be formed in the surface to achieve a horizontal hole structure.

例えば、第一の無機絶縁層121は、SFとOとを用いてプラズマを発生させ、ドライエッチングによりエッチングすることとしてもよい。 For example, the first inorganic insulating layer 121 may be etched by dry etching using SF 6 and O 2 to generate plasma.

また、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の接続端子構造の他の一例について説明する。図3Cは、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の接続端子部分の第二実施形態について説明する図であり、図1のIII−III線における断面図である。   Another example of the connection terminal structure of the organic electroluminescence display device according to the present invention will be described. 3C is a view for explaining a second embodiment of the connection terminal portion of the organic electroluminescence display device according to the present invention, and is a cross-sectional view taken along the line III-III of FIG. 1.

有機エレクトロルミネッセンス表示装置の接続端子部分の第二実施形態は、第一実施形態同様、図3Cに示されるように、複数の接続端子110の間には、隣り合う接続端子同士の電気的接続を防止する、無機絶縁材料によって形成される凸部120を備え、凸部120の側面には、封止膜300を構成する有機封止膜312を形成する有機封止材料によって形成される有機構造体を収納するための凹部124が形成されている。   In the second embodiment of the connection terminal portion of the organic electroluminescence display device, as shown in FIG. 3C, electrical connection between adjacent connection terminals is made between the plurality of connection terminals 110 as in the first embodiment. An organic structure formed of an organic sealing material for forming an organic sealing film 312 that forms the sealing film 300 on the side surface of the convex part 120 is provided with a convex part 120 formed of an inorganic insulating material to prevent. A recess 124 is formed for storing the.

前述の第一実施形態。及び第一実施形態の変形例において、複数の接続端子110の間に形成される、隣り合う接続端子同士の電気的接続を防止する凸部120の断面形状は、T字形状を有している。これに対し、第二実施形態における凸部120は、凸部の中央部分のみに窪みがある断面形状を有している。   The first embodiment described above. And in the modification of 1st embodiment, the cross-sectional shape of the convex part 120 which prevents the electrical connection of the adjacent connection terminals formed between the some connection terminals 110 has T shape. . On the other hand, the convex part 120 in 2nd embodiment has a cross-sectional shape with a hollow only in the center part of a convex part.

また、上記第二実施形態の変形例について説明する。図3Dは、本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の接続端子部分の第二実施形態の変形例について説明する図であり、図1のIII−III線における断面図である。   A modification of the second embodiment will be described. FIG. 3D is a diagram illustrating a modification of the second embodiment of the connection terminal portion of the organic electroluminescence display device according to the present invention, and is a cross-sectional view taken along line III-III in FIG. 1.

図3Dにて示される第二実施形態の変形例における凸部120は、前述の第一実施形態の変形例の構成に加え、第一の無機絶縁層121よりも絶縁基板に近い場所に配置され、第一の無機絶縁層121と異なる無機絶縁材料によって形成される、第三の無機絶縁層123を、更に含むものである。   In addition to the configuration of the modified example of the first embodiment described above, the convex portion 120 in the modified example of the second embodiment shown in FIG. 3D is disposed at a location closer to the insulating substrate than the first inorganic insulating layer 121. And a third inorganic insulating layer 123 formed of an inorganic insulating material different from that of the first inorganic insulating layer 121.

そして、凸部120の側面に形成される凹部124は、平面視において、第一の無機絶縁層121の外縁が、第二の無機絶縁層122の外縁及び第三の無機絶縁層123の外縁の内側に備えられる、ことによって形成されている。   The concave portion 124 formed on the side surface of the convex portion 120 is such that the outer edge of the first inorganic insulating layer 121 is the outer edge of the second inorganic insulating layer 122 and the outer edge of the third inorganic insulating layer 123 in plan view. It is formed by being provided inside.

ここで、第二実施形態の変形例の第二の無機絶縁層122と、第三の無機絶縁層123と、は同種の無機絶縁材料によって形成されることとしてもよい。   Here, the 2nd inorganic insulating layer 122 and the 3rd inorganic insulating layer 123 of the modification of 2nd embodiment are good also as being formed with the same kind of inorganic insulating material.

このように、凸部120を構成する3つの層のうち、第二の無機絶縁層122と、第三の無機絶縁層123と、は同種の無機絶縁材料によって形成され、第一の無機絶縁層121と他の層とが異なる種類の無機絶縁材料によって形成されることにより、例えば、第一の無機絶縁層121と、第二の無機絶縁層122と、第三の無機絶縁層123とが同一幅の凸部を一旦形成した後、第一の無機絶縁層121のみを腐食するエッチング液を用いることによって、容易に凸部の側面に凹部を形成し、横穴構造を実現できる。   Thus, among the three layers constituting the convex portion 120, the second inorganic insulating layer 122 and the third inorganic insulating layer 123 are formed of the same kind of inorganic insulating material, and the first inorganic insulating layer For example, the first inorganic insulating layer 121, the second inorganic insulating layer 122, and the third inorganic insulating layer 123 are the same because the 121 and other layers are formed of different types of inorganic insulating materials. After forming the convex part of width once, by using the etching solution which corrodes only the 1st inorganic insulating layer 121, a concave part is easily formed in the side of a convex part and a side hole structure is realizable.

第一実施形態及び第二実施形態にて備えられる、隣り合う接続端子同士の電気的接続を防止する、無機絶縁材料によって形成される凸部120の側面の凹部124は、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造工程の封止膜の形成時、有機封止膜を形成する有機封止材料を収納するためのものである。凹部124に収納された有機封止材料は、その後有機構造体を形成し、結果、凹部124には該有機構造体が形成されることとなる。   The concave portion 124 on the side surface of the convex portion 120 formed of an inorganic insulating material that prevents electrical connection between adjacent connection terminals provided in the first embodiment and the second embodiment is the organic electroluminescence of the present invention. When forming the sealing film in the manufacturing process of the display device, the organic sealing material for forming the organic sealing film is accommodated. The organic sealing material accommodated in the recess 124 then forms an organic structure, and as a result, the organic structure is formed in the recess 124.

このように、有機構造体は。凸部120の側面に形成された凹部124に収容されることによって、端子部分と分離した位置に存在することとなるので、有機構造体が仮に外部の水分を吸湿し水分を含有するものとなった場合であっても、該有機構造体の位置が端子部分から物理的に離れているため、端子部分を錆びさせることはなく端子部分の信頼性を高めることとなる。   Thus, the organic structure is. By being accommodated in the concave portion 124 formed on the side surface of the convex portion 120, the organic structure is present at a position separated from the terminal portion, so that the organic structure temporarily absorbs external moisture and contains moisture. Even in this case, since the position of the organic structure is physically separated from the terminal portion, the terminal portion is not rusted and the reliability of the terminal portion is improved.

以下に、上記説明した第二実施形態の端子部分の構造を例に、有機構造体が凹部124に収容される様子を、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法とともに説明する。   In the following, taking the structure of the terminal portion of the second embodiment described above as an example, the manner in which the organic structure is accommodated in the recess 124 will be described together with the method for manufacturing the organic electroluminescence display device of the present invention.

本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法は、絶縁基板上に薄膜トランジスタを有する複数の画素回路がマトリクス状に配置され、該絶縁基板の端部に外部の電子機器と電気的に接続される複数の接続端子が備えられた第一の基板を形成する、第一の基板形成工程と、平面視において、前記第一の基板の複数の前記画素回路が配置される領域と重ねて、前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域以外の領域に、前記第一の基板上に積層して備えられる有機EL層を形成する、有機EL層形成工程と、前記有機EL層形成工程によって形成された前記有機EL層の前記第一の基板と対向する側とは反対側の面に、第一の無機封止膜と、有機封止膜と、第二の無機封止膜と、が前記有機EL層と接する側から順に積層された封止膜を形成する、封止膜形成工程と、を含むものである。   In the method for manufacturing an organic electroluminescence display device of the present invention, a plurality of pixel circuits having thin film transistors are arranged in a matrix on an insulating substrate, and a plurality of pixels are electrically connected to an external electronic device at an end of the insulating substrate. A first substrate forming step of forming a first substrate provided with a connection terminal of the first substrate, and in a plan view, the first substrate is overlapped with a region where the plurality of pixel circuits are arranged on the first substrate. An organic EL layer forming step of forming an organic EL layer provided on the first substrate in a region other than the region where the plurality of connection terminals of the substrate are provided, and the organic EL layer forming step. A first inorganic sealing film, an organic sealing film, and a second inorganic sealing film are formed on the surface of the formed organic EL layer opposite to the side facing the first substrate. Product from the side in contact with the organic EL layer Forming a sealing film that is, those containing a sealing film forming step.

そして、前記第一の基板形成工程は、前記複数の該接続端子の間に、隣り合う接続端子同士の電気的接続を防止する、無機絶縁材料によって形成される凸部を形成する凸部形成工程を含み、前記凸部形成工程は、前記凸部の側面に、前記封止膜を構成する前記有機封止膜を形成する有機封止材料によって形成される有機構造体を収納する凹部を形成する、凹部形成工程を含むものである。   In the first substrate forming step, a convex portion forming step of forming a convex portion formed of an inorganic insulating material that prevents electrical connection between adjacent connection terminals between the plurality of connection terminals. And the convex portion forming step forms, on the side surface of the convex portion, a concave portion that houses an organic structure formed by an organic sealing material that forms the organic sealing film constituting the sealing film. , Including a recess forming step.

ここで、凹部は、例えば前述のように凸部120を複数の層で構成し、所定の層のみを腐食させて形成することとしてもよい。すなわち、凸部形成工程は、それぞれ異なる種類の機絶縁材料によって、第一の無機絶縁層と、第二の無機絶縁層と、を形成する工程を含み、前記凹部形成工程によって形成される該凹部は、前記第一の無機絶縁層を、前記第二の無機絶縁層よりも前記絶縁基板に近い場所に形成し、平面視において、前記第一の無機絶縁層の外縁を、前記第二の無機絶縁層の外縁の内側に形成することによって形成されることとしてもよい。   Here, the concave portion may be formed by, for example, forming the convex portion 120 with a plurality of layers as described above and corroding only a predetermined layer. That is, the convex portion forming step includes a step of forming the first inorganic insulating layer and the second inorganic insulating layer with different types of machine insulating materials, and the concave portion formed by the concave portion forming step. Forming the first inorganic insulating layer at a location closer to the insulating substrate than the second inorganic insulating layer, and in plan view, the outer edge of the first inorganic insulating layer is the second inorganic insulating layer It is good also as forming by forming inside the outer edge of an insulating layer.

また、凸部形成工程は、第一の無機絶縁層よりも前記絶縁基板に近い場所に配置され、第一の無機絶縁層と異なる無機絶縁材料によって形成される、第三の無機絶縁層を形成する工程を更に含み、凹部形成工程によって形成される該凹部は、平面視において、第一の無機絶縁層の外縁が、第二の無機絶縁層の外縁及び第三の無機絶縁層の外縁の内側に備えられる、ことによって形成されていることとしてもよい。   In addition, the projecting portion forming step forms a third inorganic insulating layer that is disposed closer to the insulating substrate than the first inorganic insulating layer and is formed of an inorganic insulating material different from the first inorganic insulating layer. The concave portion formed by the concave portion forming step is configured such that the outer edge of the first inorganic insulating layer is in an inner side of the outer edge of the second inorganic insulating layer and the outer edge of the third inorganic insulating layer in plan view. It is good also as having been formed by.

また、第一の基板形成工程は、薄膜トランジスタの半導体膜(ポリシリコンからなる)を形成する工程、第三の無機絶縁層とゲート絶縁膜とをまとめて形成する工程、薄膜トランジスタのゲート電極を形成する工程、第二の無機絶縁層を形成する工程、配線や端子の電極を形成する工程、第一の絶縁層を形成する工程、を含むこととしてもよい。   The first substrate forming step includes a step of forming a thin film transistor semiconductor film (made of polysilicon), a step of forming a third inorganic insulating layer and a gate insulating film together, and a gate electrode of the thin film transistor. It is good also as including the process, the process of forming a 2nd inorganic insulating layer, the process of forming the electrode of wiring and a terminal, and the process of forming a 1st insulating layer.

図4Aは、第一の基板形成工程及び有機EL層形成工程後、封止膜形成工程における第一の無機封止膜が形成された後の端子部分の状態を示した断面図である。   FIG. 4A is a cross-sectional view illustrating a state of the terminal portion after the first inorganic sealing film is formed in the sealing film forming process after the first substrate forming process and the organic EL layer forming process.

図4Aに示されるように、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、封止膜形成工程は、第一の無機封止膜の形成とともに、平面視において第一の基板100の複数の接続端子が備えられる領域に、第一の無機封止膜の形成に用いられる第一の無機封止膜材料によって、第一の無機膜501を、該第一の無機膜の第一の基板と対向する側とは反対側の面を凹部形成工程によって形成された凹部124のへこみの部分に位置するように形成する工程を含むものである。   As shown in FIG. 4A, in the method of manufacturing an organic electroluminescence display device of the present invention, the sealing film forming step includes the formation of the first inorganic sealing film and the plurality of first substrates 100 in plan view. The first inorganic film 501 and the first substrate of the first inorganic film are formed by the first inorganic sealing film material used for forming the first inorganic sealing film in the region where the connection terminal is provided. It includes a step of forming the surface opposite to the opposite side so as to be positioned in the indented portion of the concave portion 124 formed by the concave portion forming step.

ここで、第一の無機封止膜は、例えば既知のCVD法等を用いて形成されることとなるが、この場合、凸部120の側面の凹部124には第一の無機封止膜の形成に用いられる第一の無機封止膜材料は入り込まず形成されることとなる。結果、第一の無機膜501と凹部124の間には、隙間が生じることとなる。   Here, the first inorganic sealing film is formed by using, for example, a known CVD method. In this case, the first inorganic sealing film is formed in the concave portion 124 on the side surface of the convex portion 120. The first inorganic sealing film material used for formation is formed without entering. As a result, a gap is generated between the first inorganic film 501 and the recess 124.

図4Bは、第一の基板形成工程及び有機EL層形成工程後、封止膜形成工程における第一の無機封止膜及び有機封止膜が形成された後の端子部分の状態を示した断面図である。   FIG. 4B is a cross-sectional view illustrating a state of the terminal portion after the first inorganic sealing film and the organic sealing film are formed in the sealing film forming process after the first substrate forming process and the organic EL layer forming process. FIG.

図4Bに示されるように、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、封止膜形成工程は、有機封止膜の形成とともに、平面視において第一の基板の複数の接続端子が備えられる領域に、有機封止膜の形成に用いられる有機封止膜材料を塗布し、凹部124に該有機封止膜材料を凹部124に収納した後、有機構造体502を形成する工程を含むものである。   As shown in FIG. 4B, in the method for manufacturing an organic electroluminescence display device of the present invention, the sealing film forming step includes a plurality of connection terminals of the first substrate in plan view together with the formation of the organic sealing film. A step of forming an organic structure 502 after applying an organic sealing film material used for forming an organic sealing film to the region, storing the organic sealing film material in the concave portion 124, and then forming the organic structure 502. .

すなわち、有機封止膜の形成に用いられる、液体(例えば、ワニスや樹脂モノマー)である有機封止膜材料が塗布された場合、有機封止膜材料は、凹部124と第一の無機膜501との隙間から、凹部124に流れ込み収納される。その後、凹部124に収納された有機封止膜材料は、有機封止膜の形成とともに、有機構造体502を形成することとなる。結果として、凹部124には、有機構造体502が収納されることとなる。   That is, when an organic sealing film material that is a liquid (for example, varnish or resin monomer) used for forming the organic sealing film is applied, the organic sealing film material includes the recess 124 and the first inorganic film 501. And flows into the recess 124 from the gap. Thereafter, the organic sealing film material accommodated in the recess 124 forms the organic structure 502 together with the formation of the organic sealing film. As a result, the organic structure 502 is accommodated in the recess 124.

なお、有機封止膜の形成に用いられる、液体(例えば、ワニスや樹脂モノマー)である有機封止膜材料を塗布する際、有機封止膜材料が、凹部124と第一の無機膜501との隙間から、凹部124に流れ込み収納されやすくするために、該液体の流動性が得られる温度条件下に周囲温度を調節し塗布を行うことが好ましい。   Note that when applying an organic sealing film material that is a liquid (for example, varnish or resin monomer) used for forming the organic sealing film, the organic sealing film material includes the concave portion 124 and the first inorganic film 501. In order to make it easy to flow into the recess 124 from the gap, the coating is preferably performed by adjusting the ambient temperature under a temperature condition in which the fluidity of the liquid is obtained.

図4Cは、第一の基板形成工程及び有機EL層形成工程後、封止膜形成工程における第一の無機封止膜、有機封止膜、及び第二の無機封止膜が形成された後の端子部分の状態を示した断面図である。   FIG. 4C shows the first substrate forming step and the organic EL layer forming step, after the first inorganic sealing film, the organic sealing film, and the second inorganic sealing film in the sealing film forming step are formed. It is sectional drawing which showed the state of the terminal part.

図4Cに示されるように、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、封止膜形成工程は、第二の無機封止膜の形成とともに、平面視において第一の基板の複数の接続端子が備えられる領域に、第二の無機封止膜の形成に用いられる第二の無機封止膜材料によって、第二の無機膜を該第二の無機膜の第一の基板と対向する側の面を、前第一の無機膜の第一の基板と対向する側とは反対側の面と直接接触させて形成する工程を含むものである。   As shown in FIG. 4C, in the manufacturing method of the organic electroluminescence display device of the present invention, the sealing film forming step includes a plurality of connections of the first substrate in plan view together with the formation of the second inorganic sealing film. The side of the second inorganic film facing the first substrate of the second inorganic film by the second inorganic sealing film material used for forming the second inorganic sealing film in the region where the terminal is provided And a step of directly contacting the surface of the front first inorganic film with the surface opposite to the side facing the first substrate.

ここで第二の無機封止膜は、第一の無機封止膜と同様、例えば既知のCVD法等を用いて形成されることとなる。したがって、凸部120の側面の凹部124には第二の無機封止膜の形成に用いられる第二の無機封止膜材料は入り込まず形成されることとなる。   Here, the second inorganic sealing film is formed by using, for example, a known CVD method as in the case of the first inorganic sealing film. Therefore, the second inorganic sealing film material used for forming the second inorganic sealing film is formed in the concave part 124 on the side surface of the convex part 120 without entering.

図4Dは、第一の基板形成工程、有機EL層形成工程、及び封止膜形成工程後、第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域に形成された、第一の無機膜及び第二の無機膜を除去した後の端子部分の状態を示した断面図である。   FIG. 4D shows a first inorganic film formed in a region where the plurality of connection terminals of the first substrate are provided after the first substrate forming process, the organic EL layer forming process, and the sealing film forming process. It is sectional drawing which showed the state of the terminal part after removing the 2nd inorganic film.

図4Dに示されるように、本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法において、封止膜形成工程は、平面視において第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域に形成された、第一の無機膜と、第二の無機膜と、を除去する工程と、を含む。   As shown in FIG. 4D, in the manufacturing method of the organic electroluminescence display device of the present invention, the sealing film forming step is formed in a region provided with the plurality of connection terminals of the first substrate in a plan view. Removing the first inorganic film and the second inorganic film.

ここで、第二の無機絶縁層と、第三の無機絶縁層と、が同種の無機絶縁材料によって形成されることは、第一の無機膜と、第二の無機膜と、を同種の無機絶縁材料によって形成されることとなるため、結果、第一の無機膜と、第二の無機膜と、を同時に除去することが可能となるため好ましい。   Here, when the second inorganic insulating layer and the third inorganic insulating layer are formed of the same kind of inorganic insulating material, the first inorganic film and the second inorganic film are made of the same kind of inorganic material. Since it will be formed of an insulating material, the first inorganic film and the second inorganic film can be removed simultaneously, which is preferable.

上記のように製造された本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置は、封止膜が多層構造であるため、有機EL層の信頼性を向上させ、加えて、端子部分を錆びさせて信頼性を低下させるという懸念も生じさせる有機構造体を、凹部に隔離して収納できるため、結果有機エレクトロルミネッセンス表示装置における端子部分の信頼性を向上させる。   In the organic electroluminescence display device according to the present invention manufactured as described above, since the sealing film has a multilayer structure, the reliability of the organic EL layer is improved, and in addition, the terminal portion is rusted to increase the reliability. Since the organic structure that causes the concern of lowering can be isolated and stored in the recess, the reliability of the terminal portion in the organic electroluminescence display device is improved as a result.

また、上記説明した本発明に係る有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法によれば、端子部分を露出させるために該端子部分に形成される膜を除去する工程も、封止膜が一層で形成されているものと比較してもわずらわしいものではないものである。   In addition, according to the method for manufacturing the organic electroluminescence display device according to the present invention described above, the step of removing the film formed on the terminal portion to expose the terminal portion also includes a single sealing film. It is not annoying even when compared to what it is.

10 有機エレクトロルミネッセンス表示装置、100 第一の基板、110 接続端子、120 凸部、121 第一の絶縁層、122 第二の絶縁層、123 第三の絶縁層、124 凹部、130 ポリシリコン、PA 画素回路が配置される領域、TA 接続端子が備えられる領域、200 有機EL膜、300 封止膜、311 第一の無機封止膜、312 有機封止膜、313 第二の無機封止膜、501 第一の無機膜、502 有機構造体、503 第二の無機膜。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Organic electroluminescent display device, 100 1st board | substrate, 110 connection terminal, 120 convex part, 121 1st insulating layer, 122 2nd insulating layer, 123 3rd insulating layer, 124 recessed part, 130 Polysilicon, PA Region where pixel circuit is arranged, region where TA connection terminal is provided, 200 organic EL film, 300 sealing film, 311 first inorganic sealing film, 312 organic sealing film, 313 second inorganic sealing film, 501 First inorganic film, 502 organic structure, 503 second inorganic film.

Claims (9)

絶縁基板上に薄膜トランジスタを有する複数の画素回路がマトリクス状に配置され、該絶縁基板の端部に外部の電子機器と電気的に接続される複数の接続端子が備えられた第一の基板と、
平面視において、前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域と離間し、かつ前記複数の画素回路が配置される領域の上に積層される有機EL層と、
前記有機EL層の前記第一の基板と対向する側とは反対側の面に、第一の無機封止膜と、有機封止膜と、第二の無機封止膜と、が前記有機EL層と接する側から順に積層された封止膜と、を含み、
複数の前記接続端子の間には、隣り合う接続端子同士の電気的接続を防止する、無機絶縁材料によって形成される凸部を備え、
前記凸部の側面には、前記封止膜を構成する前記有機封止膜を形成する有機封止材料によって形成される有機構造体を収納するための凹部が形成されている、
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
A plurality of pixel circuits having thin film transistors on an insulating substrate, arranged in a matrix, and a first substrate provided with a plurality of connection terminals electrically connected to an external electronic device at an end of the insulating substrate;
In plan view, an organic EL layer that is separated from a region where the plurality of connection terminals of the first substrate are provided and is stacked on a region where the plurality of pixel circuits are disposed;
On the surface of the organic EL layer opposite to the side facing the first substrate, a first inorganic sealing film, an organic sealing film, and a second inorganic sealing film are provided on the organic EL layer. A sealing film laminated in order from the side in contact with the layer,
Between the plurality of connection terminals, provided with a convex portion formed of an inorganic insulating material, preventing electrical connection between adjacent connection terminals,
On the side surface of the convex portion, a concave portion for accommodating an organic structure formed by an organic sealing material that forms the organic sealing film constituting the sealing film is formed.
An organic electroluminescence display device.
前記凸部は、それぞれ異なる種類の無機絶縁材料によって形成される、第一の無機絶縁層と、第二の無機絶縁層と、を含み、
前記凸部の側面に形成される前記凹部は、前記第一の無機絶縁層が、前記第二の無機絶縁層よりも前記絶縁基板に近い場所に配置され、平面視において、前記第一の無機絶縁層の外縁が、前記第二の無機絶縁層の外縁の内側に備えられる、ことによって形成されている、
ことを特徴とする請求項1に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
The convex portion includes a first inorganic insulating layer and a second inorganic insulating layer, each formed of a different type of inorganic insulating material,
The concave portion formed on the side surface of the convex portion has the first inorganic insulating layer disposed closer to the insulating substrate than the second inorganic insulating layer, and the first inorganic insulating layer in a plan view The outer edge of the insulating layer is provided inside the outer edge of the second inorganic insulating layer.
The organic electroluminescence display device according to claim 1.
前記凸部は、前記第一の無機絶縁層よりも前記絶縁基板に近い場所に配置され、前記第一の無機絶縁層と異なる無機絶縁材料によって形成される、第三の無機絶縁層を、更に含み、
前記凸部の側面に形成される前記凹部は、平面視において、前記第一の無機絶縁層の外縁が、前記第二の無機絶縁層の外縁及び前記第三の無機絶縁層の外縁の内側に備えられる、ことによって形成されている、
ことを特徴とする請求項2に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
The convex portion is disposed at a location closer to the insulating substrate than the first inorganic insulating layer, and is formed of an inorganic insulating material different from the first inorganic insulating layer, and a third inorganic insulating layer, Including
The concave portion formed on the side surface of the convex portion has an outer edge of the first inorganic insulating layer on an inner side of an outer edge of the second inorganic insulating layer and an outer edge of the third inorganic insulating layer in a plan view. Provided, formed by,
The organic electroluminescence display device according to claim 2.
前記第二の無機絶縁層と、前記第三の無機絶縁層と、は同種の無機絶縁材料によって形成される、
ことを特徴とする請求項3に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
The second inorganic insulating layer and the third inorganic insulating layer are formed of the same kind of inorganic insulating material.
The organic electroluminescence display device according to claim 3.
絶縁基板上に薄膜トランジスタを有する複数の画素回路がマトリクス状に配置され、該絶縁基板の端部に外部の電子機器と電気的に接続される複数の接続端子が備えられた第一の基板を形成する、第一の基板形成工程と、
平面視において、前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域と離間し、かつ前記複数の画素回路が配置される領域の上に積層される有機EL層を形成する、有機EL層形成工程と、
前記有機EL層形成工程によって形成された前記有機EL層の前記第一の基板と対向する側とは反対側の面に、第一の無機封止膜と、有機封止膜と、第二の無機封止膜と、が前記有機EL層と接する側から順に積層された封止膜を形成する、封止膜形成工程と、
を含み、
前記第一の基板形成工程は、前記複数の該接続端子の間に、隣り合う接続端子同士の電気的接続を防止する、無機絶縁材料によって形成される凸部を形成する凸部形成工程を含み、
前記凸部形成工程は、前記凸部の側面に、前記封止膜を構成する前記有機封止膜を形成する有機封止材料によって形成される有機構造体を収納する凹部を形成する、凹部形成工程を含む、
ことを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
A plurality of pixel circuits having thin film transistors are arranged in a matrix on an insulating substrate, and a first substrate having a plurality of connection terminals electrically connected to an external electronic device is formed at an end of the insulating substrate. A first substrate forming step;
An organic EL layer that forms an organic EL layer that is separated from a region in which the plurality of connection terminals are provided on the first substrate and is stacked on a region in which the plurality of pixel circuits are disposed in a plan view. Forming process;
A surface of the organic EL layer formed by the organic EL layer forming step opposite to the side facing the first substrate is provided with a first inorganic sealing film, an organic sealing film, and a second A sealing film forming step of forming an inorganic sealing film and a sealing film laminated in order from the side in contact with the organic EL layer;
Including
The first substrate forming step includes a protruding portion forming step of forming a protruding portion formed of an inorganic insulating material that prevents electrical connection between adjacent connecting terminals between the plurality of connecting terminals. ,
In the convex portion forming step, a concave portion for forming an organic structure formed by an organic sealing material forming the organic sealing film constituting the sealing film is formed on a side surface of the convex portion. Including steps,
A method for producing an organic electroluminescence display device.
前記封止膜形成工程は、
前記第一の無機封止膜の形成とともに、平面視において前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域に、前記第一の無機封止膜の形成に用いられる第一の無機封止膜材料によって、第一の無機膜を、該第一の無機膜の前記第一の基板と対向する側とは反対側の面を前記前記凹部形成工程によって形成された凹部のへこみの部分に位置するように形成する工程と、
前記有機封止膜の形成とともに、平面視において前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域に、前記有機封止膜の形成に用いられる有機封止膜材料を塗布し、前記凹部に該有機封止膜材料を凹部に収納した後、有機構造体を形成する工程と、
前記第二の無機封止膜の形成とともに、平面視において前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域に、前記第二の無機封止膜の形成に用いられる第二の無機封止膜材料によって、第二の無機膜を該第二の無機膜の前記第一の基板と対向する側の面を、前記前第一の無機膜の前記第一の基板と対向する側とは反対側の面と直接接触させて形成する工程と、
平面視において前記第一の基板の複数の前記接続端子が備えられる領域に形成された、記前第一の無機膜と、記前第二の無機膜と、を除去する工程と、を含む
ことを特徴とする請求項5に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
The sealing film forming step includes
Along with the formation of the first inorganic sealing film, a first inorganic sealing film used for forming the first inorganic sealing film in a region provided with the plurality of connection terminals of the first substrate in a plan view. The surface of the first inorganic film on the opposite side of the first inorganic film from the side facing the first substrate is formed into a recessed portion formed in the concave portion by the concave portion forming step. Forming to be positioned;
Along with the formation of the organic sealing film, an organic sealing film material used for forming the organic sealing film is applied to a region where the plurality of connection terminals of the first substrate are provided in plan view, and the concave portion A step of forming an organic structure after storing the organic sealing film material in the recess;
Along with the formation of the second inorganic sealing film, a second inorganic sealing film used for forming the second inorganic sealing film in a region provided with the plurality of connection terminals of the first substrate in a plan view. The surface of the second inorganic film that faces the first substrate of the second inorganic film is defined as the side of the front first inorganic film that faces the first substrate. Forming it in direct contact with the opposite surface;
Removing the first inorganic film and the second inorganic film formed in a region where the plurality of connection terminals of the first substrate are provided in a plan view. The manufacturing method of the organic electroluminescent display apparatus of Claim 5 characterized by these.
前記凸部形成工程は、それぞれ異なる種類の無機絶縁材料によって、第一の無機絶縁層と、第二の無機絶縁層と、を形成する工程を含み、
前記凹部形成工程によって形成される該凹部は、前記第一の無機絶縁層を、前記第二の無機絶縁層よりも前記絶縁基板に近い場所に形成し、平面視において、前記第一の無機絶縁層の外縁を、前記第二の無機絶縁層の外縁の内側に形成することによって形成される、
ことを特徴とする請求項5又は6に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
The convex portion forming step includes a step of forming a first inorganic insulating layer and a second inorganic insulating layer with different types of inorganic insulating materials,
The recess formed by the recess forming step forms the first inorganic insulating layer in a place closer to the insulating substrate than the second inorganic insulating layer, and the first inorganic insulating in a plan view. Formed by forming the outer edge of the layer inside the outer edge of the second inorganic insulating layer;
The manufacturing method of the organic electroluminescent display apparatus of Claim 5 or 6 characterized by the above-mentioned.
前記凸部形成工程は、前記第一の無機絶縁層よりも前記絶縁基板に近い場所に配置され、前記第一の無機絶縁層と異なる無機絶縁材料によって形成される、第三の無機絶縁層を形成する工程を更に含み、
前記凹部形成工程によって形成される該凹部は、平面視において、前記第一の無機絶縁層の外縁が、前記第二の無機絶縁層の外縁及び前記第三の無機絶縁層の外縁の内側に備えられる、ことによって形成されている、
ことを特徴とする請求項7に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置の製造方法。
The convex portion forming step includes a third inorganic insulating layer that is disposed in a place closer to the insulating substrate than the first inorganic insulating layer and is formed of an inorganic insulating material different from the first inorganic insulating layer. Further comprising forming,
The concave portion formed by the concave portion forming step includes an outer edge of the first inorganic insulating layer on an inner side of an outer edge of the second inorganic insulating layer and an outer edge of the third inorganic insulating layer in plan view. Formed by,
The manufacturing method of the organic electroluminescent display apparatus of Claim 7 characterized by the above-mentioned.
前記第二の無機絶縁層と、前記第三の無機絶縁層と、は同種の無機絶縁材料によって形成される、
ことを特徴とする請求項8に記載の有機エレクトロルミネッセンス表示装置。
The second inorganic insulating layer and the third inorganic insulating layer are formed of the same kind of inorganic insulating material.
The organic electroluminescence display device according to claim 8.
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