JP2014235886A - プラズマ光源 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の第1実施形態について説明する。図1は、本実施形態に係るプラズマ光源の概略構成図(断面図)であり、図2は当該プラズマ光源の電気系統を示す図である。これらの図に示すように、本実施形態のプラズマ光源は、一対の同軸状電極10、10と、各同軸状電極10に対して個別に設けられるリザーバ20と、電圧印加装置30と、レーザー装置40と、位置調整装置としてのミラー46とを備える。なお、図1において右側の同軸状電極10は、左側の同軸状電極10と同一の構成であるため、詳細な図示を省略する。
本発明の第2実施形態について説明する。図5は、本実施形態に係るプラズマ光源の概略構成図(断面図)、図6は本実施形態における標的位置42aと照射位置18aのシフト操作を示す図であり、(a)は中心電極12を中心軸Zに沿って並進操作したときの図、(b)は中心電極12を中心軸Zの周りで回転させたときの図である。本実施形態のプラズマ光源は、上述のシフトを行う位置調整装置として、支持機構24と周知の駆動機構を有する制御部(図示せず)とを備える。支持機構24は、例えば周知の回転導入器や直線回転導入器によって構成され、中心電極12をその中心軸Z周りで回転可能に支持する。この回転は、制御部(図示せず)によって自動制御される。なお、支持機構24は、中心電極12を中心軸Zに沿って移動可能に支持してもよく、これらの組み合わせで中心電極12を支持してもよい。前者の場合、支持機構24は周知の直線導入器によって構成され、後者の場合、支持機構24は周知の直線回転導入器によって構成される。また、プラズマ光源が稼働しているとき、ミラー46の角度は固定されている。その他の構成は第1実施形態と同一であるので、その説明については省略する。
2 面状放電(プラズマシート)
3 プラズマ
6 プラズマ媒体
8 プラズマ光
10 同軸状電極
12 中心電極
14 外部電極
16 絶縁体
18 媒体保持部
18a 照射位置
20 リザーバ
24 支持機構
30 電圧印加装置
40 レーザー装置
42 レーザー光
42a 標的位置
46 ミラー(可動式)
Claims (6)
- 単一の軸線上に延びる棒状の中心電極と、前記中心電極の外周を囲むように設けられた外部電極と、前記中心電極及び前記外部電極の間を絶縁する絶縁体とを有し、対称面を挟んで互いに対向配置され、極端紫外光を放射するプラズマを発生すると共に前記プラズマを閉じ込める一対の同軸状電極と、
前記中心電極の側面に設けられ、前記プラズマのプラズマ媒体を保持する媒体保持部と、
各前記同軸状電極に対して放電電圧を印加する電圧印加装置と、
前記媒体保持部においてアブレーションを行うと共に前記放電電圧によるプラズマシートを発生させるためのレーザー光を照射するレーザー装置と、
前記媒体保持部上の前記レーザー光の標的位置と前記標的位置に基づいて前記レーザー光が照射された前記媒体保持部の照射位置とを相対的に且つ自動的にシフトさせて、前記媒体保持部の熱的損傷を防止する位置調整装置と
を備えることを特徴とするプラズマ光源。 - 前記位置調整装置は、前記中心電極の中心軸の周方向および前記中心電極の前記中心軸に沿った方向のうちの少なくとも一方の方向に相対的なシフトを行う装置であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ光源。
- 前記位置調整装置は、前記標的位置の前記シフトを行う光学素子を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ光源。
- 前記レーザー装置は、各前記同軸状電極の前記中心電極の中心軸に対して対称な位置に前記レーザー光を照射することを特徴とする請求項1乃至3の何れか一項に記載のプラズマ光源。
- 前記位置調整装置は、前記照射位置の前記シフトを行うため、前記中心電極を、回転又は移動可能に、或いは、回転及び移動可能に支持する支持機構を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のプラズマ光源。
- 単一の軸線上に延びる棒状の中心電極と、前記中心電極の外周を囲むように設けられた外部電極と、前記中心電極及び前記外部電極の間を絶縁する絶縁体とを有し、対称面を挟んで互いに対向配置され、極端紫外光を放射するプラズマを発生すると共に前記プラズマを閉じ込める一対の同軸状電極を用いた極端紫外光の発生方法において、
各前記同軸状電極に対して放電電圧を印加し、
前記中心電極の側面に設けられ、前記プラズマのプラズマ媒体を含む媒体保持部にレーザー光を照射して前記プラズマ媒体のアブレーションを行うと共に前記放電電圧によるプラズマシートを発生させ、
前記レーザー光の前記媒体保持部上の標的位置と前記標的位置に基づいて前記レーザー光が照射された前記媒体保持部の照射位置とを相対的に且つ自動的にシフトさせて、前記媒体保持部の熱的損傷を防止することを特徴とする極端紫外光発生方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104528638A (zh) * | 2014-12-02 | 2015-04-22 | 中山大学 | 一种等离子体重整醇类制氢发生器 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11202098A (ja) * | 1998-01-16 | 1999-07-30 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | X線発生装置 |
JP2009544165A (ja) * | 2006-07-19 | 2009-12-10 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | レーザビームステアリングによるeuv放射源の空間不安定性の補正 |
JP2013089634A (ja) * | 2011-10-13 | 2013-05-13 | Ihi Corp | プラズマ光源 |
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2013
- 2013-06-03 JP JP2013116727A patent/JP6111145B2/ja active Active
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---|---|---|---|---|
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JP2009544165A (ja) * | 2006-07-19 | 2009-12-10 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | レーザビームステアリングによるeuv放射源の空間不安定性の補正 |
JP2013089634A (ja) * | 2011-10-13 | 2013-05-13 | Ihi Corp | プラズマ光源 |
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---|---|---|---|---|
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