JP2014196431A - Epoxy resin, epoxy resin composition and hardened material - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin which has flexibility and excellent low water absorption and strength.SOLUTION: An epoxy resin has chemical structures of formula (1) and (2) in the principal chain: (1) a chemical structure of hexamethylene diol with the terminal hydrogen removed; (2) a chemical structure of bisphenol with the terminal hydrogen removed.

Description

本発明は、可撓性、低吸水性及び強度のバランスに優れたエポキシ樹脂に関する。また、本発明は、このエポキシ樹脂と硬化剤とを含むエポキシ樹脂組成物、及び該エポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物に関する。 The present invention relates to an epoxy resin excellent in balance of flexibility, low water absorption and strength. The present invention also relates to an epoxy resin composition containing this epoxy resin and a curing agent, and a cured product obtained by curing the epoxy resin composition.

エポキシ樹脂は、耐熱性、接着性、耐水性、機械的強度及び電気的特性に優れていることから、接着剤、塗料、土木建築用材料、電気・電子部品の絶縁材料等、様々な分野で使用されている。特に、電気・電子分野では、絶縁注型材料、積層材料、封止材料等において幅広く使用されている。近年、電気・電子部品の小型化、精密化、高性能化が進んでおり、更なる多層化、高密度化、薄型化、軽量化と信頼性及び成形加工性の向上等が要求されている。 Epoxy resins are excellent in heat resistance, adhesiveness, water resistance, mechanical strength, and electrical properties, so they can be used in various fields such as adhesives, paints, civil engineering and building materials, and insulating materials for electrical and electronic parts. It is used. In particular, in the electric / electronic field, it is widely used in insulating casting materials, laminated materials, sealing materials and the like. In recent years, electrical and electronic parts have been miniaturized, refined, and enhanced in performance, and further multilayering, higher density, thinner thickness, lighter weight and improved reliability and molding processability are required. .

特に、モバイル機器などの普及に伴い、半導体パッケージ材料に用いられる液状封止材やフレキシブルプリント配線板においては、エポキシ樹脂硬化物に適度な柔軟性を付与できるような可撓性に優れたエポキシ樹脂が求められており、それに対応した種々の可撓性エポキシ樹脂が開発されている。 In particular, with the widespread use of mobile devices and the like, in the liquid sealing material and flexible printed wiring boards used for semiconductor packaging materials, the epoxy resin excellent in flexibility that can impart appropriate flexibility to the cured epoxy resin Therefore, various flexible epoxy resins corresponding to the demand have been developed.

例えば、特許文献1には、2価アルコールから得られる2官能エポキシ樹脂と2価フェノールとを反応させて得られる、可撓性を有するエポキシ樹脂が開示されている。 For example, Patent Document 1 discloses a flexible epoxy resin obtained by reacting a bifunctional epoxy resin obtained from a dihydric alcohol with a dihydric phenol.

特開2005−320477号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2005-320477

本発明者らの詳細な検討によれば、特許文献1において製造されている、1,6ヘキサンジオールジグリシジルエーテルと、ビスフェノールA型エポキシ樹脂又はビスフェノールF型エポキシ樹脂とを反応させて得られるエポキシ樹脂は、可撓性を有する一方、分子量の小さい脂肪族骨格を主鎖に持つため、従来の汎用エポキシ樹脂と比べても著しく吸水性が悪化(高吸水化)するという問題があることが見出された。また、これらのエポキシ樹脂は、耐クラック性改善のために必要な強度が不十分であるという問題も見出された。   According to detailed examinations by the present inventors, an epoxy produced by reacting 1,6 hexanediol diglycidyl ether and bisphenol A type epoxy resin or bisphenol F type epoxy resin produced in Patent Document 1. While the resin has flexibility, it has an aliphatic skeleton with a small molecular weight in the main chain, so that it has a problem that the water absorption is remarkably deteriorated (high water absorption) compared to conventional general-purpose epoxy resins. It was issued. Further, a problem has been found that these epoxy resins have insufficient strength necessary for improving crack resistance.

本発明は、上記課題を解決すること目的としてなされたものであり、可撓性、低吸水性及び強度のバランスに優れ、高い信頼性の要求される各種分野に適用可能なエポキシ樹脂、該エポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物及び該エポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物を提供するものである。   The present invention has been made for the purpose of solving the above problems, and has an excellent balance of flexibility, low water absorption and strength, and is applicable to various fields that require high reliability, and the epoxy resin. An epoxy resin composition containing a resin and a cured product obtained by curing the epoxy resin composition are provided.

本発明者らが上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、エポキシ樹脂の化学構造中に1,6−ヘキシレン構造と、総炭素数が特定の範囲であるビスフェノール由来の化学構造とを有するエポキシ樹脂が、可撓性、低吸水性、強度のバランスに優れていることを見出したものである。即ち本発明の要旨は以下の[1]〜[17]に存する。   As a result of intensive studies by the present inventors to solve the above problems, an epoxy resin having a 1,6-hexylene structure and a chemical structure derived from bisphenol having a total carbon number within a specific range in the chemical structure of the epoxy resin. Has been found to be excellent in the balance of flexibility, low water absorption and strength. That is, the gist of the present invention resides in the following [1] to [17].

[1] 下記式(1)で表されるエポキシ樹脂。 [1] An epoxy resin represented by the following formula (1).

Figure 2014196431
Figure 2014196431

(上記式(1)中、Aは上記式(2)で表される化学構造及び式(3)で表される化学構造を少なくとも含み、Rは水素原子又は上記式(4)で表される基であり、nは1以上250以下の数である。上記式(3)中、Xは直接結合、炭素数1〜20の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−及び−CO−から選ばれる基であり、R〜Rは互いに異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜12の炭化水素基又はハロゲン元素から選ばれる基であり、式(3)で表される化学構造に含まれる総炭素原子数は16以上50以下である。) (In the above formula (1), A includes at least the chemical structure represented by the above formula (2) and the chemical structure represented by the formula (3), and R is represented by a hydrogen atom or the above formula (4). N is a number from 1 to 250. In the above formula (3), X is a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, -O-, -S-, -SO. 2 and -CO-, and R 1 to R 8 may be different from each other, and are a group selected from a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogen element. The total number of carbon atoms contained in the chemical structure represented by 3) is 16 or more and 50 or less.)

[2] 前記式(1)中、前記式(2)で表される化学構造が、A全体のモル数に対して1〜99モル%含まれる、[1]に記載のエポキシ樹脂。 [2] The epoxy resin according to [1], wherein the chemical structure represented by the formula (2) is included in the formula (1) in an amount of 1 to 99 mol% with respect to the total number of moles of A.

[3] 前記式(1)中のAとして、前記式(2)で表される化学構造と前記式(3)で表される化学構造とのモル比が1/99〜99/1である、[1]又は[2]に記載のエポキシ樹脂。 [3] As A in the formula (1), the molar ratio between the chemical structure represented by the formula (2) and the chemical structure represented by the formula (3) is 1/99 to 99/1. The epoxy resin according to [1] or [2].

[4] 下記式(5)で表される2官能エポキシ樹脂と、下記式(6)で表される二価の水酸基含有化合物とを反応させて得られることを特徴とするエポキシ樹脂。 [4] An epoxy resin obtained by reacting a bifunctional epoxy resin represented by the following formula (5) with a divalent hydroxyl group-containing compound represented by the following formula (6).

Figure 2014196431
Figure 2014196431

(上記式(5)及び(6)中、A’は上記式(2’)で表される化学構造及び上記式(3’)で表される化学構造を少なくとも有し、式(5)中、mは繰り返し数の平均値であり0以上6以下である。上記式(3’)中、X’は直接結合、炭素数1〜20の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−及び−CO−から選ばれる基であり、R’〜R’は互いに異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜12の炭化水素基又はハロゲン元素から選ばれる基であり、式(3’)で表される化学構造に含まれる総炭素原子数は16以上50以下である。) (In the above formulas (5) and (6), A ′ has at least the chemical structure represented by the above formula (2 ′) and the chemical structure represented by the above formula (3 ′). , M is an average value of the number of repetitions and is 0 or more and 6. or less In the above formula (3 ′), X ′ is a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, —O—, —S. —, —SO 2 — and —CO—, R ′ 1 to R ′ 8 may be different from each other, and are selected from a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogen element. And the total number of carbon atoms contained in the chemical structure represented by the formula (3 ′) is 16 or more and 50 or less.)

[5] 前記式(5)及び(6)中、前記式(2’)で表される化学構造が、A’全体のモル数に対して1〜99モル%含まれる、[4]に記載のエポキシ樹脂。 [5] In the above formulas (5) and (6), the chemical structure represented by the formula (2 ′) is included in an amount of 1 to 99 mol% based on the total number of moles of A ′. Epoxy resin.

[6] 前記式(5)及び前記式(6)中のA’として、前記式(2’)で表される化学構造と前記式(3’)で表される化学構造とのモル比が1/99〜99/1である、[4]又は[5]に記載のエポキシ樹脂。 [6] As A ′ in the formula (5) and the formula (6), the molar ratio between the chemical structure represented by the formula (2 ′) and the chemical structure represented by the formula (3 ′) is The epoxy resin according to [4] or [5], which is 1/99 to 99/1.

[7] エポキシ当量が200g/当量以上30,000g/当量以下である、[1]乃至[6]のいずれか1つに記載のエポキシ樹脂。 [7] The epoxy resin according to any one of [1] to [6], wherein an epoxy equivalent is 200 g / equivalent or more and 30,000 g / equivalent or less.

[8] 重量平均分子量が1,000〜100,000である、[1]乃至[7]のいずれか1つに記載のエポキシ樹脂。 [8] The epoxy resin according to any one of [1] to [7], which has a weight average molecular weight of 1,000 to 100,000.

[9] [1]乃至[8]のいずれか1つに記載のエポキシ樹脂と、硬化剤とを含む、エポキシ樹脂組成物。 [9] An epoxy resin composition comprising the epoxy resin according to any one of [1] to [8] and a curing agent.

[10] 前記エポキシ樹脂100重量部に対し、硬化剤を0.01〜100重量部含む
、[9]に記載のエポキシ樹脂組成物。
[10] The epoxy resin composition according to [9], including 0.01 to 100 parts by weight of a curing agent with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin.

[11] 前記硬化剤が、フェノール系硬化剤、アミド系硬化剤、アミン系硬化剤、イミダゾール類、酸無水物系硬化剤、有機ホスフィン類からなる群のうちの少なくとも1つである、[9]又は[10]に記載のエポキシ樹脂組成物。 [11] The curing agent is at least one selected from the group consisting of a phenolic curing agent, an amide curing agent, an amine curing agent, an imidazole, an acid anhydride curing agent, and an organic phosphine. ] Or the epoxy resin composition according to [10].

[12] [9]乃至[11]のいずれか1つに記載のエポキシ樹脂組成物からなる電気・電子回路用封止材。 [12] A sealing material for an electric / electronic circuit comprising the epoxy resin composition according to any one of [9] to [11].

[13] [9]乃至[11]のいずれか1つに記載のエポキシ樹脂組成物からなる電気・電子回路用積層板。 [13] A laminate for an electric / electronic circuit comprising the epoxy resin composition according to any one of [9] to [11].

[14] [9]乃至[11]のいずれか1つに記載のエポキシ樹脂組成物からなる光学部材。 [14] An optical member comprising the epoxy resin composition according to any one of [9] to [11].

[15] [9]乃至[11]のいずれか1つに記載のエポキシ樹脂組成物からなる接着剤。 [15] An adhesive comprising the epoxy resin composition according to any one of [9] to [11].

[16] [9]乃至[11]のいずれか1つに記載のエポキシ樹脂組成物からなる塗料。 [16] A paint comprising the epoxy resin composition according to any one of [9] to [11].

[17] [9]乃至[11]のいずれか1つに記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。 [17] A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to any one of [9] to [11].

本発明のエポキシ樹脂及びそれを含むエポキシ樹脂組成物は、可撓性に優れた硬化物を与える。また、本発明のエポキシ樹脂及びそれを用いて得られた硬化物のガラス転移温度は比較的低く、低温での使用条件下でも高い可撓性を維持することができるため、接着剤、塗料、土木用建築材料、電気・電子部品の絶縁材料等、様々な分野に適用可能であり、特に電気・電子分野における封止材料、積層材料、絶縁注型等として有用である。またこのエポキシ樹脂組成物は、低吸水性及び強度にも優れ、硬化物の耐クラック性が改善されているため、半導体封止材料、アンダーフィル材料、3D−LSI用インターチップフィル、ダイボンディング材、フィルム状接着剤、液状接着剤等の接着剤、多層プリント配線基板、キャパシタ等の電気・電子回路用積層板、絶縁シート、プリプレグ、放熱基板、あるいは電気・電子用途での接着改良剤や可撓性付与材としての用途において好適に用いることができる。   The epoxy resin of this invention and the epoxy resin composition containing the same give the hardened | cured material excellent in flexibility. In addition, since the glass transition temperature of the epoxy resin of the present invention and a cured product obtained using the epoxy resin is relatively low and can maintain high flexibility even under low temperature use conditions, an adhesive, a paint, It can be applied to various fields such as civil engineering building materials and insulating materials for electric / electronic parts, and is particularly useful as a sealing material, laminated material, insulating casting, etc. in the electric / electronic field. In addition, this epoxy resin composition is excellent in low water absorption and strength, and has improved crack resistance of the cured product, so that it is a semiconductor sealing material, underfill material, 3D-LSI interchip fill, die bonding material Adhesives such as film adhesives, liquid adhesives, multilayer printed wiring boards, laminates for electrical and electronic circuits such as capacitors, insulation sheets, prepregs, heat dissipation boards, and adhesion improvers for electrical and electronic applications. It can use suitably in the use as a flexibility provision material.

以下に本発明の実施の形態を詳細に説明するが、以下の説明は、本発明の実施の形態の一例であり、本発明はその要旨を超えない限り、以下の記載内容に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」という表現を用いる場合、その前後の数値又は物性値を含む表現として用いるものとする。   Embodiments of the present invention will be described in detail below, but the following description is an example of the embodiments of the present invention, and the present invention is limited to the following description unless it exceeds the gist. is not. In addition, when using the expression “to” in the present specification, it is used as an expression including numerical values or physical property values before and after the expression.

〔エポキシ樹脂〕
本発明のエポキシ樹脂は、下記式(1)で表される。
〔Epoxy resin〕
The epoxy resin of this invention is represented by following formula (1).

Figure 2014196431
Figure 2014196431

(上記式(1)中、Aは上記式(2)で表される化学構造及び式(3)で表される化学構造を少なくとも含み、Rは水素原子又は上記式(4)で表される基であり、nは1以上250以下の数である。上記式(3)中、Xは直接結合、炭素数1〜20の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−及び−CO−から選ばれる基であり、R〜Rは互いに異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜12の炭化水素基又はハロゲン元素から選ばれる基であり、式(3)で表される化学構造に含まれる総炭素原子数は16以上50以下である。) (In the above formula (1), A includes at least the chemical structure represented by the above formula (2) and the chemical structure represented by the formula (3), and R is represented by a hydrogen atom or the above formula (4). N is a number from 1 to 250. In the above formula (3), X is a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, -O-, -S-, -SO. 2 and -CO-, and R 1 to R 8 may be different from each other, and are a group selected from a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogen element. The total number of carbon atoms contained in the chemical structure represented by 3) is 16 or more and 50 or less.)

本発明のエポキシ樹脂は、可撓性、低吸水性、強度のバランスに優れるという顕著な効果を奏する。本発明のエポキシ樹脂がこのような効果を奏するのは、次の理由であると推定される。可撓性については、前記式(2)で表される化学構造の柔軟性によるものであると推定される。また、強度については、前記式(3)で表される化学構造における総炭素原子数が大きいために嵩高く、強度を有する構造となり、更に、吸水性についても式(3)で表される化学構造における総炭素原子数が大きいために、式(1)で表されるエポキシ樹脂において、吸水性に寄与する二級水酸基が分子構造全体に占める割合が相対的に低くなるためであると推定される。   The epoxy resin of this invention has the remarkable effect that it is excellent in the balance of flexibility, low water absorption, and intensity | strength. It is presumed that the epoxy resin of the present invention has such an effect for the following reason. About flexibility, it is estimated that it is based on the softness | flexibility of the chemical structure represented by said Formula (2). In addition, the strength is bulky due to the large number of total carbon atoms in the chemical structure represented by the formula (3), resulting in a structure having strength, and the water absorption is also represented by the formula represented by the formula (3). Since the total number of carbon atoms in the structure is large, it is estimated that in the epoxy resin represented by the formula (1), the ratio of secondary hydroxyl groups contributing to water absorption to the entire molecular structure is relatively low. The

<化学構造>
前記式(1)中、Aは前記式(3)で表される化学構造を必ず含む。ここで、前記式(3)のR〜Rは、互いに異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜12の炭化水素基又はハロゲン元素から選ばれる基である。これらの中でも炭素数1〜12の炭化水素基としては次のようなものが挙げられる。例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル
基、イソペンチル基、ネオペンチル基、tert−ペンチル基、シクロペンチル基、n−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロヘキシル基、n−ヘプチル基、シクロヘプチル基、メチルシクロヘキシル基、n−オクチル基、シクロオクチル基、n−ノニル基、3,3,5−トリメチルシクロヘキシル基、n−デシル基、シクロデシル基、n−ウンデシル基、n−ドデシル基、シクロドデシル基、フェニル基、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、ナフチルメチル基、フェネチル基、2−フェニルイソプロピル基等である。これらの中でも、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基等の炭素数1〜4のアルキル基が好ましい。また、ハロゲン元素の中ではフッ素、臭素が好ましい。
<Chemical structure>
In the formula (1), A necessarily includes the chemical structure represented by the formula (3). Here, R 1 to R 8 in the formula (3) may be different from each other and are a group selected from a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogen element. Among these, examples of the hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms include the following. For example, methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, tert-pentyl group, cyclopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, cyclohexyl group, n-heptyl group, cycloheptyl group, methylcyclohexyl group, n-octyl group, cyclooctyl group, n-nonyl group, 3,3,5-trimethylcyclohexyl group, n- Decyl group, cyclodecyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, cyclododecyl group, phenyl group, benzyl group, methylbenzyl group, dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group, naphthylmethyl group, phenethyl group, 2-phenylisopropyl group Etc. Among these, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, and an n-butyl group is preferable. Of the halogen elements, fluorine and bromine are preferred.

また、前記式(3)におけるXは、直接結合、炭素数1〜20の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−及び−CO−から選ばれる2価の連結基である。 X in the formula (3) represents a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, a divalent linkage selected from —O—, —S—, —SO 2 — and —CO—. It is a group.

ここで、前記式(3)におけるXの炭素数1〜20の2価の炭化水素基としては、例えば、−CH−、−CH(CH)−、−C(CH−、−C(CF−、−CHPh−(ただし、本発明においてPhはフェニル基である。)、-C(CH)Ph-、−CPh−、9,9−フルオレニレン基、1,1−シクロプロピレン基、1,1−シクロブチレン基、1,1−シクロペンチレン基、1,1−シクロヘキシレン基、3,3,5−トリメチル−1,1−シクロヘキシレン基、1,1−シクロドデシレン基、1,2−エチレン基、1,2−シクロプロピレン基、1,2−シクロブチレン基、1,2−シクロペンチレン基、1,2−シクロヘキシレン基、1,2−フェニレン基、1,3−プロピレン基、1,3−シクロブチレン基、1,3−シクロペンチレン基、1,3−シクロヘキシレン基、1,3−フェニレン基、1,4−ブチレン基、1,4−シクロヘキシレン基、1,4−フェニレン基等が挙げられる。 Here, examples of the divalent hydrocarbon group of the formula (3) X carbon atoms from 1 to 20 in, for example, -CH 2 -, - CH ( CH 3) -, - C (CH 3) 2 -, —C (CF 3 ) 2 —, —CHPh— (in the present invention, Ph is a phenyl group), —C (CH 3 ) Ph—, —CPh 2 —, 9,9-fluorenylene group, 1, 1-cyclopropylene group, 1,1-cyclobutylene group, 1,1-cyclopentylene group, 1,1-cyclohexylene group, 3,3,5-trimethyl-1,1-cyclohexylene group, 1,1 -Cyclododecylene group, 1,2-ethylene group, 1,2-cyclopropylene group, 1,2-cyclobutylene group, 1,2-cyclopentylene group, 1,2-cyclohexylene group, 1,2-phenylene group 1,3-propylene group, 1,3-cyclo Tylene group, 1,3-cyclopentylene group, 1,3-cyclohexylene group, 1,3-phenylene group, 1,4-butylene group, 1,4-cyclohexylene group, 1,4-phenylene group, etc. Can be mentioned.

これらの前記式(3)のXにおける連結基の中でも、9,9−フルオレニレン基、1,1−シクロへキシレン基、3,3,5−トリメチルシクロへキシレン基、1,1−シクロドデシレン基等の、分子量が大きく、立体的に嵩高い置換基を有するものがより好ましい。単位ユニット当たりの分子量が通常のエポキシ樹脂よりも大きくなることで、吸水の原因となる二級水酸基が分子構造全体に占める割合が相対的に低くなるとともに、立体障害によって水分子の接近を阻害できるものと考えられる。   Among these linking groups in X of the formula (3), 9,9-fluorenylene group, 1,1-cyclohexylene group, 3,3,5-trimethylcyclohexylene group, 1,1-cyclododecylene group, etc. Those having a large molecular weight and a sterically bulky substituent are more preferred. Since the molecular weight per unit unit is larger than that of ordinary epoxy resins, the proportion of secondary hydroxyl groups that cause water absorption in the entire molecular structure is relatively low, and the steric hindrance can inhibit the access of water molecules. It is considered a thing.

前記式(1)中、Rは水素原子又は前記式(4)で表される基(エポキシ基)である。即ち、式(1)において、Rは末端構造を示すものであり、両末端が水素原子又は式(4)のエポキシ基であってもよく、片末端のみが水素原子又は式(4)のエポキシ基であってもよい。ただし、前記式(1)は、エポキシ樹脂であることから、式(1)中のRとして少なくともエポキシ基を含むものである。本発明のエポキシ樹脂は、通常、これらの末端を有する分子や、次に説明する繰り返し数nの異なる分子等の混合物である。   In the formula (1), R is a hydrogen atom or a group (epoxy group) represented by the formula (4). That is, in the formula (1), R represents a terminal structure, both ends may be a hydrogen atom or an epoxy group of the formula (4), and only one end is a hydrogen atom or an epoxy of the formula (4) It may be a group. However, since the formula (1) is an epoxy resin, R in the formula (1) includes at least an epoxy group. The epoxy resin of the present invention is usually a mixture of molecules having these ends or molecules having different repeating numbers n described below.

前記式(1)中、nは繰り返し数であり、平均値である。その値の範囲は可撓性の観点から1以上であり、また、エポキシ樹脂の取り扱い性の観点から250以下である。これらをより良好なものとする観点から、好ましくは1.1以上であり、より好ましくは1.3以上であり、一方、好ましくは100以下であり、より好ましくは70以下であり、更に好ましくは50以下である。n数はゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により得られた数平均分子量(Mn)より算出することができる。数平均分子量を求めるGPC法については具体例を後掲実施例において説明する。   In said Formula (1), n is a repeating number and is an average value. The range of the value is 1 or more from the viewpoint of flexibility, and 250 or less from the viewpoint of handleability of the epoxy resin. From the viewpoint of making these better, it is preferably 1.1 or more, more preferably 1.3 or more, on the other hand, preferably 100 or less, more preferably 70 or less, and still more preferably. 50 or less. The n number can be calculated from the number average molecular weight (Mn) obtained by the gel permeation chromatography method (GPC method). Specific examples of the GPC method for determining the number average molecular weight will be described in the examples below.

前記式(3)で表される化学構造に含まれる総炭素原子数は16以上50以下である。前記式(3)で表される化学構造に含まれる総炭素原子数が上記下限値以上であることにより、式(3)で表される化学構造全体はある程度の分子量と立体的に嵩高い構造を有す
ることとなり、その結果として吸水の原因となる二級水酸基のエポキシ樹脂全体に占める割合が相対的に低くなるとともに、立体障害によって水分子の接近を阻害でき、低吸水性を得ることができる。一方、上記上限値以下であることにより、可撓性を維持することができる。低吸水性を得る観点から、総炭素原子数は好ましくは18以上であり、より好ましくは20以上であり、更に好ましくは22以上である。一方、適度な可撓性を維持する観点から、好ましくは40以下であり、好ましくは30以下である。
The total number of carbon atoms contained in the chemical structure represented by the formula (3) is 16 or more and 50 or less. When the total number of carbon atoms contained in the chemical structure represented by the formula (3) is not less than the lower limit, the entire chemical structure represented by the formula (3) has a certain molecular weight and a sterically bulky structure. As a result, the proportion of the secondary hydroxyl group that causes water absorption in the entire epoxy resin is relatively low, and steric hindrance can inhibit the access of water molecules, resulting in low water absorption. . On the other hand, flexibility can be maintained by being below the upper limit. From the viewpoint of obtaining low water absorption, the total number of carbon atoms is preferably 18 or more, more preferably 20 or more, and still more preferably 22 or more. On the other hand, from the viewpoint of maintaining appropriate flexibility, it is preferably 40 or less, and preferably 30 or less.

前記式(1)中、Aは前記式(2)で表される化学構造及び(3)で表される化学構造を少なくとも含み、可撓性と吸水性、強度とのバランスを良好なものとする観点からはAにおける式(2)で表される化学構造の割合がA全体のモル数に対して1〜99モル%、式(3)で表される化学構造の割合が1〜99モル%であることが好ましい。これらの効果をより良好なものとする観点から、Aにおける式(2)で表される化学構造の割合は、好ましくは10モル%以上、より好ましくは20モル%以上、更に好ましくは30モル%以上であり、一方、好ましくは90モル%以下、より好ましくは80モル%以下、特に好ましくは70モル%以下である。Aにおける式(2)の割合が前記の範囲であると可撓性を有しながら、吸水性を低く、かつ強度を高められる傾向にあるために好ましい。   In the formula (1), A includes at least the chemical structure represented by the formula (2) and the chemical structure represented by (3), and has a good balance between flexibility, water absorption, and strength. From the viewpoint of, the proportion of the chemical structure represented by the formula (2) in A is 1 to 99 mol% with respect to the total number of moles of A, and the proportion of the chemical structure represented by the formula (3) is 1 to 99 mol % Is preferred. From the viewpoint of improving these effects, the proportion of the chemical structure represented by formula (2) in A is preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more, and even more preferably 30 mol%. On the other hand, it is preferably 90 mol% or less, more preferably 80 mol% or less, and particularly preferably 70 mol% or less. It is preferable for the ratio of formula (2) in A to be in the above-mentioned range because it tends to have low water absorption and high strength while having flexibility.

本発明のエポキシ樹脂は、前記式(2)で表される化学構造により可撓性の効果を得ており、また、前記式(3)で表される化学構造により低吸水性と強度の効果を得ている。前記式(1)中のAとして、前記式(2)で表される化学構造と前記式(3)で表される化学構造とのモル比([式(2)で表される化学構造のモル数]/[式(3)で表される化学構造のモル数])は可撓性の観点から、1/99以上であることが好ましく、10/90以上であることが好ましく、20/80以上であることが更に好ましく、一方、低吸水性と強度の観点から、99/1以下であることが好ましく、90/10以下であることがより好ましく、80/20以下であることが更に好ましい。   The epoxy resin of the present invention has the effect of flexibility due to the chemical structure represented by the formula (2), and the effect of low water absorption and strength due to the chemical structure represented by the formula (3). Have gained. As A in the formula (1), the molar ratio between the chemical structure represented by the formula (2) and the chemical structure represented by the formula (3) ([the chemical structure represented by the formula (2) The number of moles] / [number of moles of the chemical structure represented by the formula (3)]) is preferably 1/99 or more, and preferably 10/90 or more, from the viewpoint of flexibility. On the other hand, from the viewpoint of low water absorption and strength, it is preferably 99/1 or less, more preferably 90/10 or less, and further preferably 80/20 or less. preferable.

前記式(1)中、Aは前記式(2)で表される化学構造及び前記式(3)で表される化学構造以外のその他の化学構造を含んでいてもよい。その他の化学構造としては特に制限されないが、ハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ジブチルハイドロキノン、ジヒドロアントラハイドロキノン、レゾルシン、メチルレゾルシン等のベンゼンジオール類(ここで、「ベンゼンジオール類とは、1つのベンゼン環を有する化合物であって、当該ベンゼン環に2つの水酸基が直接結合した化合物である。);ジヒドロキシジフェニルエーテル等のジヒドロキシジフェニルエーテル類;チオジフェノール等のチオジフェノール類;ジヒドロキシナフタレン等のジヒドロキシナフタレン類;ジヒドロキシスチルベン等のジヒドロキシスチルベン類;エチレングリコール、トリメチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール等のアルキレングリコール類(ただし、1,6−ヘキシレングリコールを除く。)、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等のポリアルキレングリコール類等の2価の水酸基含有化合物に由来する構造、及びこれらの2価の水酸基含有化合物をエポキシ化して得られる2官能エポキシ樹脂に由来する化学構造等が挙げられる。なお、これらの化学構造は後述する製造方法において、式(5)で表される2官能エポキシ樹脂及び/又は式(6)で表される2価の水酸基含有化合物と共に、上記原料を組み合わせて用いることにより導入することができる。前記式(1)中のAにおけるその他の化学構造の割合は通常、30モル%以下、好ましくは15モル%以下、より好ましくは5モル%以下である。   In the formula (1), A may include other chemical structures other than the chemical structure represented by the formula (2) and the chemical structure represented by the formula (3). Other chemical structures are not particularly limited, but benzenediols such as hydroquinone, methylhydroquinone, dibutylhydroquinone, dihydroanthrahydroquinone, resorcin, and methylresorcin (herein, “benzenediols are compounds having one benzene ring” A compound in which two hydroxyl groups are directly bonded to the benzene ring.); Dihydroxydiphenyl ethers such as dihydroxydiphenyl ether; thiodiphenols such as thiodiphenol; dihydroxynaphthalenes such as dihydroxynaphthalene; dihydroxystilbene Dialkyl stilbenes such as ethylene glycol, trimethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, etc. Obtained by epoxidizing a structure derived from a divalent hydroxyl group-containing compound such as polyalkylene glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene glycol, and these divalent hydroxyl group-containing compounds. The chemical structure derived from the bifunctional epoxy resin obtained, etc. These chemical structures are represented by the bifunctional epoxy resin represented by the formula (5) and / or the formula (6) in the production method described later. In addition to the divalent hydroxyl group-containing compound, the above raw materials can be used in combination, and the proportion of the other chemical structure in A in the formula (1) is usually 30 mol% or less, preferably 15 mol. % Or less, more preferably 5 mol% or less.

なお、本発明のエポキシ樹脂において、前記式(2)で表される化学構造、前記式(3)で表される化学構造及びその他の化学構造の割合は、後述のエポキシ樹脂の製造方法の項目において説明するように、原料の比率によって制御することができる。このため、本発明のエポキシ樹脂においては、原料として用いた2官能エポキシ樹脂と2価の水酸基含有化合物とのそれぞれに含まれる化学構造の割合が、そのまま本発明のエポキシ樹脂に含
まれる化学構造の割合とみなすこととする。
In addition, in the epoxy resin of the present invention, the chemical structure represented by the formula (2), the chemical structure represented by the formula (3), and the ratio of other chemical structures are items of the epoxy resin production method described later. As will be described in FIG. 4, it can be controlled by the ratio of the raw materials. For this reason, in the epoxy resin of this invention, the ratio of the chemical structure contained in each of the bifunctional epoxy resin used as a raw material and the bivalent hydroxyl-containing compound is the chemical structure contained in the epoxy resin of this invention as it is. It shall be regarded as a percentage.

<エポキシ当量>
本発明のエポキシ樹脂のエポキシ当量は、好ましくは200g/当量以上であり、より好ましくは300g/当量以上、更に好ましくは400g/当量以上であり、一方、好ましくは30,000g/当量以下であり、より好ましくは25,000当量以下、更に好ましくは20,000g/当量以下であり、特に好ましくは15,000g/当量以下である。エポキシ当量が上記下限値以上であると可撓性の観点で好ましく、上記上限値以下であるとエポキシ樹脂の取り扱いが良好となる傾向にある。なお、本発明において「エポキシ当量」とは、「1当量のエポキシ基を含むエポキシ樹脂の質量」と定義され、JIS
K7236に準じて測定することができる。
<Epoxy equivalent>
The epoxy equivalent of the epoxy resin of the present invention is preferably not less than 200 g / equivalent, more preferably not less than 300 g / equivalent, still more preferably not less than 400 g / equivalent, while preferably not more than 30,000 g / equivalent, More preferably, it is 25,000 equivalent or less, More preferably, it is 20,000 g / equivalent or less, Most preferably, it is 15,000 g / equivalent or less. When the epoxy equivalent is not less than the above lower limit value, it is preferable from the viewpoint of flexibility, and when it is not more than the above upper limit value, the handling of the epoxy resin tends to be good. In the present invention, “epoxy equivalent” is defined as “mass of an epoxy resin containing one equivalent of an epoxy group” and is defined in JIS.
It can be measured according to K7236.

<重量平均分子量>
本発明のエポキシ樹脂の重量平均分子量(Mw)は、1,000以上が好ましく、1,500以上がより好ましく、一方、100,000以下が好ましく、50,000以下がより好ましい。重量平均分子量が上記下限値以上であると可撓性の観点で好ましく、上記上限値以下であるとエポキシ樹脂の取り扱いが良好となる傾向にある。なお、エポキシ樹脂の重量平均分子量及び数平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー法(GPC法)により測定することができる。より詳細な方法の例について後述の実施例において説明する。なお、本発明においては、重量平均分子量が10,000未満であるものを「低分子量エポキシ樹脂」と称することがあり、重量平均分子量が10,000以上であるものを「高分子量エポキシ樹脂」と称することがある。
<Weight average molecular weight>
The weight average molecular weight (Mw) of the epoxy resin of the present invention is preferably 1,000 or more, more preferably 1,500 or more, on the other hand, preferably 100,000 or less, more preferably 50,000 or less. When the weight average molecular weight is not less than the above lower limit, it is preferable from the viewpoint of flexibility, and when it is not more than the above upper limit, the handling of the epoxy resin tends to be good. In addition, the weight average molecular weight and number average molecular weight of an epoxy resin can be measured by the gel permeation chromatography method (GPC method). An example of a more detailed method will be described in the examples described later. In the present invention, those having a weight average molecular weight of less than 10,000 are sometimes referred to as “low molecular weight epoxy resins”, and those having a weight average molecular weight of 10,000 or more are referred to as “high molecular weight epoxy resins”. Sometimes called.

<ガラス転移温度(Tg)>
本発明のエポキシ樹脂は可撓性を有するため、可撓性付与材として有用である。可撓性付与材は、ガラス転移温度(Tg)がある程度低い領域であると、低温での使用条件下でも可撓性を維持することができるために好ましい。この観点から、低分子量エポキシ樹脂の場合、ガラス転移温度は、−40℃以上であることが好ましく、−28℃以上であることがより好ましく、一方、5℃以下であることが好ましく、0℃以下であることがより好ましい。また、同様の観点から、高分子量エポキシ樹脂の場合、10℃以上であることが好ましく、20℃以上であることがより好ましく、一方、100℃以下であることが好ましく、95℃以下であることがより好ましい。ガラス転移温度はDSC法(示差走査熱量計)により求めることができる。より詳細には、後掲の実施例に記載の方法により求めることができる。
<Glass transition temperature (Tg)>
Since the epoxy resin of the present invention has flexibility, it is useful as a flexibility imparting material. The flexibility-imparting material is preferably in a region where the glass transition temperature (Tg) is low to some extent, because flexibility can be maintained even under use conditions at low temperatures. From this viewpoint, in the case of a low molecular weight epoxy resin, the glass transition temperature is preferably −40 ° C. or higher, more preferably −28 ° C. or higher, and preferably 5 ° C. or lower, 0 ° C. The following is more preferable. From the same viewpoint, in the case of a high molecular weight epoxy resin, it is preferably 10 ° C. or higher, more preferably 20 ° C. or higher, and preferably 100 ° C. or lower, and 95 ° C. or lower. Is more preferable. The glass transition temperature can be determined by a DSC method (differential scanning calorimeter). More specifically, it can be determined by the method described in the Examples below.

<エポキシ樹脂の製造方法>
本発明のエポキシ樹脂は、2官能エポキシ樹脂と二価の水酸基含有化合物を反応させる、二段法によって得ることができる。また、2種類以上の二価の水酸基含有化合物とエピクロロヒドリンを直接反応させる、一段法によっても得られる。ただし、二段法では低分子量から高分子量まで様々なエポキシ樹脂を一段法よりも容易に得ることができるため、二段法を用いることが好ましい。
<Method for producing epoxy resin>
The epoxy resin of the present invention can be obtained by a two-stage method in which a bifunctional epoxy resin and a divalent hydroxyl group-containing compound are reacted. It can also be obtained by a one-step method in which two or more kinds of divalent hydroxyl group-containing compounds and epichlorohydrin are directly reacted. However, it is preferable to use the two-step method because various epoxy resins from low molecular weight to high molecular weight can be obtained more easily than the one-step method by the two-step method.

[二段法による製造方法]
本発明の他の実施態様にかかるエポキシ樹脂は、少なくとも前記式(5)で表される2官能エポキシ樹脂と前記式(6)で表される二価の水酸基含有化合物とを反応させて得られることを特徴とする。
[Production method by two-stage method]
An epoxy resin according to another embodiment of the present invention is obtained by reacting at least a bifunctional epoxy resin represented by the formula (5) and a divalent hydroxyl group-containing compound represented by the formula (6). It is characterized by that.

Figure 2014196431
Figure 2014196431

(上記式(5)及び(6)中、A’は上記式(2’)で表される化学構造及び上記式(3’)で表される化学構造を少なくとも有し、式(5)中、mは繰り返し数の平均値であり0以上6以下である。上記式(3’)中、X’は直接結合、炭素数1〜20の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−及び−CO−から選ばれる基であり、R’〜R’は互いに異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜12の炭化水素基又はハロゲン元素から選ばれる基であり、式(3’)で表される化学構造に含まれる総炭素原子数は16以上50以下である。) (In the above formulas (5) and (6), A ′ has at least the chemical structure represented by the above formula (2 ′) and the chemical structure represented by the above formula (3 ′). , M is an average value of the number of repetitions and is 0 or more and 6. or less In the above formula (3 ′), X ′ is a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, —O—, —S. —, —SO 2 — and —CO—, R ′ 1 to R ′ 8 may be different from each other, and are selected from a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogen element. And the total number of carbon atoms contained in the chemical structure represented by the formula (3 ′) is 16 or more and 50 or less.)

(2官能エポキシ樹脂)
本発明のエポキシ樹脂の製造に用いられる2官能エポキシ樹脂は、前記式(5)で表されるエポキシ樹脂であり、例えば、前記式(6)で表される二価の水酸基含有化合物を、後述の一段法と同様の方法によりエピハロヒドリンと縮合させて得られるエポキシ樹脂が挙げられる。
(Bifunctional epoxy resin)
The bifunctional epoxy resin used in the production of the epoxy resin of the present invention is an epoxy resin represented by the above formula (5). For example, a divalent hydroxyl group-containing compound represented by the above formula (6) will be described later. An epoxy resin obtained by condensing with epihalohydrin by a method similar to the one-step method.

前記式(5)中、A’は前記式(2’)で表される化学構造を含んでいてもよいし、含まなくともよい。ただし、前記式(5)中のA’が式(2’)で表される化学構造を含まない場合は、前記式(6)中のA’は前記式(2’)で表される化学構造を必ず含むものである。また、前記式(5)中、A’は前記式(3’)で表される化学構造を含んでいてもよいし、含まなくともよい。ただし、前記式(5)中のA’が式(3’)で表される化学構造を含まない場合は、前記式(6)中のA’は前記式(3’)で表される化学構造を必ず含むものである。なお、前記式(5)におけるA’として前記式(2’)で表される化学構造及び式(3’)で表される化学構造を含まない場合には、該A’には公知の任意の化学構造を導入することができる。   In the formula (5), A ′ may or may not contain the chemical structure represented by the formula (2 ′). However, when A ′ in the formula (5) does not include the chemical structure represented by the formula (2 ′), A ′ in the formula (6) is the chemistry represented by the formula (2 ′). It always includes the structure. In the formula (5), A ′ may or may not contain the chemical structure represented by the formula (3 ′). However, when A ′ in the formula (5) does not include the chemical structure represented by the formula (3 ′), A ′ in the formula (6) is the chemistry represented by the formula (3 ′). It always includes the structure. When A ′ in the formula (5) does not include the chemical structure represented by the formula (2 ′) and the chemical structure represented by the formula (3 ′), the A ′ is a known arbitrary one. The chemical structure of can be introduced.

前記式(3’)におけるR’〜R’の定義と好ましいものについては前記式(3)
におけるR〜Rと同様のものである。また、前記式(3’)におけるX’の定義と好ましいものについては前記式(3)におけるXと同様である。
For the definition and preferred R 1 ′ to R 8 ′ in the formula (3 ′), the formula (3)
Are the same as R 1 to R 8 . Further, the definition and preferred ones of X ′ in the formula (3 ′) are the same as X in the formula (3).

前記式(5)におけるmは繰り返し数の平均値であり、0以上6以下である。   M in said Formula (5) is an average value of the number of repetitions, and is 0 or more and 6 or less.

(二価の水酸基含有化合物)
本発明のエポキシ樹脂の製造に用いられる二価の水酸基含有化合物は、前記式(6)で表される二価の水酸基含有化合物である。
(Divalent hydroxyl group-containing compound)
The divalent hydroxyl group-containing compound used for the production of the epoxy resin of the present invention is a divalent hydroxyl group-containing compound represented by the formula (6).

前記式(6)中、A’は前記式(2’)で表される化学構造を含んでいてもよいし、含まなくともよい。ただし、前記式(6)中のA’が式(2’)で表される化学構造を含まない場合は、前記式(5)中のA’は前記式(2’)で表される化学構造を必ず含むものである。また、前記式(6)中、A’は前記式(3’)で表される化学構造を含んでいてもよいし、含まなくともよい。ただし、前記式(6)中のA’が式(3’)で表される化学構造を含まない場合は、前記式(5)中のA’は前記式(3’)で表される化学構造を必ず含むものである。なお、前記式(6)におけるA’として前記式(2’)で表される化学構造及び式(3’)で表される化学構造を含まない場合には、該A’には公知の任意の化学構造を導入することができる。   In the formula (6), A ′ may or may not contain the chemical structure represented by the formula (2 ′). However, when A ′ in the formula (6) does not include a chemical structure represented by the formula (2 ′), A ′ in the formula (5) is a chemistry represented by the formula (2 ′). It always includes the structure. In the formula (6), A ′ may or may not contain the chemical structure represented by the formula (3 ′). However, when A ′ in the formula (6) does not include the chemical structure represented by the formula (3 ′), A ′ in the formula (5) is the chemistry represented by the formula (3 ′). It always includes the structure. When A ′ in the formula (6) does not include the chemical structure represented by the formula (2 ′) and the chemical structure represented by the formula (3 ′), the A ′ is a known arbitrary one. The chemical structure of can be introduced.

つまり、二段法により製造されるエポキシ樹脂には、前記式(2’)で表される化学構造が必ず含まれるものであり、これを満たす限り、前記式(2)の化学構造が、2官能エポキシ樹脂及び二価の水酸基含有化合物のいずれかに含まれるものであってもよく、またその化学構造の割合も制限されるものではない。同様に、二段法により製造されるエポキシ樹脂には、前記式(3’)で表される化学構造が必ず含まれるものであり、これを満たす限り、前記式(3)の化学構造が、2官能エポキシ樹脂及び二価の水酸基含有化合物のいずれに含まれるものであってもよく、またその化学構造の割合も制限されるものではない。   That is, the epoxy resin produced by the two-step method always includes the chemical structure represented by the formula (2 ′). As long as this is satisfied, the chemical structure of the formula (2) is 2 It may be contained in either the functional epoxy resin or the divalent hydroxyl group-containing compound, and the ratio of the chemical structure is not limited. Similarly, the epoxy resin produced by the two-stage method always includes the chemical structure represented by the formula (3 ′), and as long as this is satisfied, the chemical structure of the formula (3) It may be contained in any of a bifunctional epoxy resin and a divalent hydroxyl group-containing compound, and the ratio of its chemical structure is not limited.

本発明のエポキシ樹脂の製造に用いる2官能エポキシ樹脂又は二価の水酸基含有化合物には、可撓性と低吸水性、強度とのバランスの観点から前記式(2’)で表される化学構造が、前記式(5)及び式(6)中のA’全体のモル数に対して1〜99モル%含まれていることが好ましい。この効果をより高める観点からは、式(2)の割合は、好ましくは10モル%以上、より好ましくは20モル%以上、更に好ましくは30モル%以上であり、一方、好ましくは90モル%以下、より好ましくは80モル%以下、特に好ましくは70モル%以下である。   The bifunctional epoxy resin or divalent hydroxyl group-containing compound used for the production of the epoxy resin of the present invention has a chemical structure represented by the formula (2 ′) from the viewpoint of balance between flexibility, low water absorption, and strength. However, it is preferable that 1-99 mol% is contained with respect to the total number of moles of A ′ in the formulas (5) and (6). From the viewpoint of further enhancing this effect, the proportion of the formula (2) is preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more, still more preferably 30 mol% or more, while preferably 90 mol% or less. More preferably, it is 80 mol% or less, Most preferably, it is 70 mol% or less.

前記式(5)及び式(6)中、A’は前記式(2’)で表される化学構造及び(3’)で表される化学構造を少なくとも含み、可撓性と低吸水性、強度とのバランスの観点から前記式(5)及び式(6)のA’全体における式(2’)で表される化学構造の割合がA’全体のモル数に対して1〜99モル%、式(3’)で表されるビスフェノール骨格の割合が1〜99モル%である。この効果をより高める観点から、A’における式(2’)で表される化学構造の割合は、好ましくは10モル%以上、より好ましくは20モル%以上、更に好ましくは30モル%以上であり、一方、好ましくは90モル%以下、より好ましくは80モル%以下、特に好ましくは70モル%以下である。   In the formula (5) and the formula (6), A ′ includes at least the chemical structure represented by the formula (2 ′) and the chemical structure represented by (3 ′), and has flexibility and low water absorption. From the viewpoint of balance with strength, the proportion of the chemical structure represented by the formula (2 ′) in the whole A ′ of the formulas (5) and (6) is 1 to 99 mol% with respect to the number of moles of the whole A ′. The ratio of the bisphenol skeleton represented by the formula (3 ′) is 1 to 99 mol%. From the viewpoint of further enhancing this effect, the proportion of the chemical structure represented by the formula (2 ′) in A ′ is preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more, and further preferably 30 mol% or more. On the other hand, it is preferably 90 mol% or less, more preferably 80 mol% or less, particularly preferably 70 mol% or less.

本発明のエポキシ樹脂は、前記式(2’)で表される化学構造により可撓性の効果を得ており、また、前記式(3’)で表される化学構造により低吸水性と強度の効果を得ている。このため、前記式(5)及び前記式(6)中のA’として、前記式(2’)で表される化学構造と前記式(3’)で表される化学構造とのモル比([式(2’)で表される化学構造のモル数]/[式(3’)で表される化学構造のモル数])は可撓性の観点から、
1/99以上であることが好ましく、10/90以上であることが好ましく、20/80以上であることが更に好ましく、一方、低吸水性と強度の観点から、99/1以下であることが好ましく、90/10以下であることがより好ましく、80/20以下であることが更に好ましい。
The epoxy resin of the present invention has a flexible effect due to the chemical structure represented by the formula (2 ′), and has a low water absorption and strength due to the chemical structure represented by the formula (3 ′). Has the effect of. Therefore, as A ′ in the formula (5) and the formula (6), a molar ratio of the chemical structure represented by the formula (2 ′) and the chemical structure represented by the formula (3 ′) ( [Number of moles of chemical structure represented by formula (2 ′) / [number of moles of chemical structure represented by formula (3 ′)])
It is preferably 1/99 or more, preferably 10/90 or more, more preferably 20/80 or more. On the other hand, from the viewpoint of low water absorption and strength, it is 99/1 or less. Preferably, it is 90/10 or less, more preferably 80/20 or less.

(触媒)
本発明のエポキシ樹脂の合成には触媒を用いてもよく、その触媒としては、エポキシ基とフェノール性水酸基、アルコール性水酸基やカルボキシル基との反応を進めるような触媒能を持つ化合物であればどのようなものでもよい。例えば、アルカリ金属化合物、有機リン化合物、第3級アミン、第4級アンモニウム塩、環状アミン類、イミダゾール類等が挙げられる。
(catalyst)
A catalyst may be used for the synthesis of the epoxy resin of the present invention, and any catalyst may be used as long as it has a catalytic ability to promote a reaction between an epoxy group and a phenolic hydroxyl group, an alcoholic hydroxyl group or a carboxyl group. Something like that. For example, alkali metal compounds, organic phosphorus compounds, tertiary amines, quaternary ammonium salts, cyclic amines, imidazoles and the like can be mentioned.

以上に挙げた触媒の中でも第4級アンモニウム塩が好ましい。また、触媒は1種のみを使用することも、2種以上を組み合わせて使用することもできる。触媒の使用量は反応固形分中、通常0.001〜1重量%である。   Among the catalysts mentioned above, quaternary ammonium salts are preferred. Moreover, a catalyst can use only 1 type and can also be used in combination of 2 or more type. The usage-amount of a catalyst is 0.001-1 weight% normally in reaction solid content.

(溶媒)
本発明のエポキシ樹脂は、その製造時の合成反応の工程において、反応用の溶媒を用いてもよく、その溶媒としては、エポキシ樹脂を溶解するものであればどのようなものでもよい。例えば、芳香族系溶媒、ケトン系溶媒、アミド系溶媒、グリコールエーテル系溶媒等が挙げられる。
(solvent)
The epoxy resin of the present invention may use a reaction solvent in the step of the synthesis reaction at the time of production, and any solvent may be used as long as it dissolves the epoxy resin. Examples include aromatic solvents, ketone solvents, amide solvents, glycol ether solvents, and the like.

芳香族系溶媒の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられる。ケトン系溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン(以下、「MEK」と表記することがある。)、メチルイソブチルケトン(以下、「MIBK」と表記することがある。)、2−ヘプタノン、4−ヘプタノン、2−オクタノン、シクロヘキサノン、アセチルアセトンなどが挙げられる。アミド系溶媒の具体例としては、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、2−ピロリドン、N−メチルピロリドンなどが挙げられる。グリコールエーテル系溶媒の具体例としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジオキサンなどが挙げられる。これらの溶媒は単独で用いてもよく、2種以上を併用することもできる。   Specific examples of the aromatic solvent include benzene, toluene, xylene and the like. Specific examples of the ketone solvent include acetone, methyl ethyl ketone (hereinafter sometimes referred to as “MEK”), methyl isobutyl ketone (hereinafter sometimes referred to as “MIBK”), 2-heptanone, 4 -Heptanone, 2-octanone, cyclohexanone, acetylacetone and the like. Specific examples of the amide solvent include formamide, N-methylformamide, N, N-dimethylformamide, acetamide, N-methylacetamide, N, N-dimethylacetamide, 2-pyrrolidone, N-methylpyrrolidone and the like. Specific examples of the glycol ether solvent include ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol. Examples include mono-n-butyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, and dioxane. These solvents may be used alone or in combination of two or more.

(溶剤)
エポキシ樹脂の製造時の合成反応における固形分濃度は35〜95重量%が好ましい。このため、前述の溶媒において挙げたものと同様の有機化合物を希釈用の溶剤として用いてもよい。例えば、反応途中で高粘性生成物が生じたときに溶剤を追加添加して反応を続けることもできる。反応終了後、溶剤は必要に応じて、除去することもできるし、更に追加することもできる。なお、本発明においては「溶剤」という語と前述の「溶媒」という語をその使用形態により区別して用いるが、同種のものを用いても異なるものを用いてもよい。
(solvent)
The solid concentration in the synthesis reaction during the production of the epoxy resin is preferably 35 to 95% by weight. For this reason, you may use the organic compound similar to what was mentioned in the above-mentioned solvent as a solvent for dilution. For example, when a highly viscous product is produced during the reaction, the reaction can be continued by adding an additional solvent. After completion of the reaction, the solvent can be removed or further added as necessary. In the present invention, the term “solvent” and the term “solvent” are distinguished from each other depending on the form of use, but the same type or different types may be used.

(反応条件)
エポキシ樹脂の製造において、2官能エポキシ樹脂と二価の水酸基含有化合物との重合
反応は使用する触媒が分解しない程度の反応温度で実施される。反応温度が高すぎると生成するエポキシ樹脂が劣化するおそれがある。逆に温度が低すぎると十分に反応が進まないことがある。これらの理由から反応温度は、好ましくは50〜230℃、より好ましくは120〜200℃である。また、反応時間は通常1〜12時間、好ましくは3〜10時間である。アセトンやメチルエチルケトンのような低沸点溶剤を使用する場合には、オートクレーブを使用して高圧下で反応を行うことで反応温度を確保することができる。
(Reaction conditions)
In the production of the epoxy resin, the polymerization reaction between the bifunctional epoxy resin and the divalent hydroxyl group-containing compound is carried out at a reaction temperature at which the catalyst used does not decompose. If the reaction temperature is too high, the produced epoxy resin may be deteriorated. Conversely, if the temperature is too low, the reaction may not proceed sufficiently. For these reasons, the reaction temperature is preferably 50 to 230 ° C, more preferably 120 to 200 ° C. Moreover, reaction time is 1 to 12 hours normally, Preferably it is 3 to 10 hours. When using a low boiling point solvent such as acetone or methyl ethyl ketone, the reaction temperature can be ensured by carrying out the reaction under high pressure using an autoclave.

[一段法による製造]
本発明のエポキシ樹脂は、一段法によっても製造することができる。具体的には、前記式(6)で表される二価の水酸基含有化合物を、エピクロロヒドリンと直接反応させればよい。ただし、前述のように、一段法で製造した本発明のエポキシ樹脂のうち、低分子のものについては、二段法における2官能エポキシ樹脂として用いることができる。
[Manufacturing by one-step method]
The epoxy resin of the present invention can also be produced by a one-step method. Specifically, the divalent hydroxyl group-containing compound represented by the formula (6) may be directly reacted with epichlorohydrin. However, as described above, among the epoxy resins of the present invention produced by the one-step method, those having a low molecular weight can be used as the bifunctional epoxy resin in the two-step method.

一段法により本発明のエポキシ樹脂を製造する場合、原料として用いられる前記式(6)で表される二価の水酸基含有化合物中、A’は式(2)及び(3)で表される化学構造を必ず含む。二段法において説明したものと同様の理由により、A’全体に対する式(2)の割合は、10モル%以上が好ましく、20モル%以上がより好ましく、30モル%以上が更に好ましい。また、90モル%以下が好ましく、80モル%以下がより好ましく、70モル%以下が更に好ましい。   When the epoxy resin of the present invention is produced by a one-step method, A ′ is a chemistry represented by formulas (2) and (3) in the divalent hydroxyl group-containing compound represented by formula (6) used as a raw material. Always include structure. For the same reason as described in the two-stage method, the proportion of the formula (2) with respect to the entire A ′ is preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more, and further preferably 30 mol% or more. Moreover, 90 mol% or less is preferable, 80 mol% or less is more preferable, and 70 mol% or less is still more preferable.

反応に用いるエピハロヒドリンの使用量は、二価の水酸基含有化合物の水酸基1モル当量当たり通常、0.8〜20モル当量、より好ましくは0.9〜15モル当量、更に好ましくは1.0〜10モル当量に相当する量を使用し、二価の水酸基含有化合物をエピハロヒドリンに溶解させて均一な溶液とする。エピハロヒドリンの量が上記下限値以上であると必要以上に高分子量化せず、反応を制御しやすく、また、適切な溶融粘度とすることができるために好ましい。一方、エピハロヒドリンの量が上記上限値以下であると、生産効率が向上する傾向にあるために好ましい。この反応におけるエピハロヒドリンとしては、通常、エピクロルヒドリン及び/又はエピブロモヒドリンが用いられる。   The amount of epihalohydrin used in the reaction is usually 0.8 to 20 molar equivalents, more preferably 0.9 to 15 molar equivalents, and still more preferably 1.0 to 10 molar equivalents per molar equivalent of hydroxyl group of the divalent hydroxyl group-containing compound. An amount corresponding to the molar equivalent is used, and the divalent hydroxyl group-containing compound is dissolved in epihalohydrin to obtain a uniform solution. It is preferable that the amount of the epihalohydrin is not less than the above lower limit value because the molecular weight is not increased more than necessary, the reaction is easily controlled, and an appropriate melt viscosity can be obtained. On the other hand, when the amount of epihalohydrin is not more than the above upper limit value, production efficiency tends to be improved, which is preferable. As epihalohydrin in this reaction, epichlorohydrin and / or epibromohydrin is usually used.

次いで、その溶液を撹拌しながら、これに二価の水酸基含有化合物の水酸基1モル当量当たり通常、0.5〜2.0モル当量、好ましくは0.7〜1.8モル当量、より好ましくは0.9〜1.6モル当量に相当する量のアルカリ金属水酸化物を固体又は水溶液で加えて反応させる。アルカリ金属水酸化物の量が上記下限値以上であると、未反応の水酸基と生成したエポキシ樹脂が反応して必要以上に高分子量化してしまうことを防ぐことができるために好ましい。また、アルカリ金属水酸化物が上記上限値以下であると、副反応による不純物の生成を低減することができるために好ましい。アルカリ金属水酸化物としては通常、水酸化ナトリウム及び/又は水酸化カリウムが用いられる。   Next, while stirring the solution, usually 0.5 to 2.0 molar equivalents, preferably 0.7 to 1.8 molar equivalents, more preferably, per 1 molar equivalent of hydroxyl groups of the divalent hydroxyl group-containing compound. An amount of alkali metal hydroxide corresponding to 0.9 to 1.6 molar equivalents is added as a solid or an aqueous solution and reacted. It is preferable that the amount of the alkali metal hydroxide is not less than the above lower limit value because it is possible to prevent the unreacted hydroxyl group and the generated epoxy resin from reacting to increase the molecular weight more than necessary. Moreover, it is preferable for the alkali metal hydroxide to be not more than the above upper limit value because the generation of impurities due to side reactions can be reduced. As the alkali metal hydroxide, sodium hydroxide and / or potassium hydroxide is usually used.

この反応は、常圧下又は減圧下で行うことができ、反応温度は常圧下の反応の場合、通常、20〜150℃、より好ましくは30〜120℃、更に好ましくは35〜100℃であり、減圧下の反応の場合は20〜100℃、より好ましくは30〜90℃、更に好ましくは35℃〜80℃である。反応温度が上記下限値以上であると反応が進行しやすいために好ましい。反応温度が上記上限値以下であると副反応が進行しにくく、特に、エピハロヒドリンとしてエピクロルヒドリンを用いた場合、塩素不純物を低減しやすいために好ましい。   This reaction can be carried out under normal pressure or reduced pressure, and the reaction temperature is usually 20 to 150 ° C., more preferably 30 to 120 ° C., more preferably 35 to 100 ° C. in the case of reaction under normal pressure, In the case of the reaction under reduced pressure, it is 20 to 100 ° C, more preferably 30 to 90 ° C, still more preferably 35 ° C to 80 ° C. It is preferable that the reaction temperature is equal to or higher than the lower limit because the reaction is likely to proceed. When the reaction temperature is not more than the above upper limit, side reactions are unlikely to proceed. In particular, when epichlorohydrin is used as the epihalohydrin, it is preferable because chlorine impurities can be easily reduced.

反応は必要に応じて所定の温度を保持しながら反応液を共沸させ、揮発する蒸気を冷却して得られた凝縮液を油分と水分とに分離し、水分を除いた油分を反応系へ戻す方法により脱水する。アルカリ金属水酸化物の添加は、急激な反応を抑えるために、好ましくは0.5〜8時間、より好ましくは1〜7時間、更に好ましくは1〜6時間かけて少量ずつを
断続的又は連続的に添加する。添加時間が上記下限値以上であると急激に反応が進行するのを防ぐことができ、反応温度の制御が行ないやすくなるために好ましい。一方、添加時間が上記上限値以下であると、エピハロヒドリンとしてエピクロルヒドリンを用いた場合に塩素不純物が生成しにくくなるために好ましく、また、経済性の観点からも好ましい。全反応時間は通常、1〜15時間である。反応終了後、不溶性の副生塩を濾別して除くか、水洗により除去した後、未反応のエピハロヒドリンを減圧留去して除くと、目的のエポキシ樹脂を得ることができる。
In the reaction, if necessary, the reaction liquid is azeotroped while maintaining a predetermined temperature, the condensate obtained by cooling the vaporized vapor is separated into oil and water, and the oil removed from the water is sent to the reaction system. Dehydrate by returning method. The addition of alkali metal hydroxide is preferably 0.5 to 8 hours, more preferably 1 to 7 hours, and still more preferably 1 to 6 hours, in order to suppress a rapid reaction, intermittently or continuously. Add it. It is preferable for the addition time to be equal to or more than the above lower limit value since the reaction can be prevented from proceeding rapidly and the reaction temperature can be easily controlled. On the other hand, when the addition time is equal to or shorter than the above upper limit value, it is preferable when epichlorohydrin is used as the epihalohydrin because chlorine impurities are not easily generated, and it is also preferable from the viewpoint of economy. The total reaction time is usually 1 to 15 hours. After completion of the reaction, the insoluble by-product salt is removed by filtration or removed by washing with water, and then the unreacted epihalohydrin is removed by distillation under reduced pressure to obtain the desired epoxy resin.

また、この反応においては、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムブロミドなどの第四級アンモニウム塩;ベンジルジメチルアミン、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどの第三級アミン;2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾールなどのイミダゾール類;エチルトリフェニルホスホニウムアイオダイドなどのホスホニウム塩;トリフェニルホスフィンなどのホスフィン類;硫酸、三フッ化ホウ素エチルエーテル、四塩化錫などの酸性触媒等の触媒を用いてもよい。   In this reaction, quaternary ammonium salts such as tetramethylammonium chloride and tetraethylammonium bromide; tertiary amines such as benzyldimethylamine and 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol; 2-ethyl Imidazoles such as -4-methylimidazole and 2-phenylimidazole; phosphonium salts such as ethyltriphenylphosphonium iodide; phosphines such as triphenylphosphine; acidic catalysts such as sulfuric acid, boron trifluoride ethyl ether, and tin tetrachloride A catalyst such as the above may be used.

更に、この反応においては、エタノール、イソプロパノールなどのアルコール類;アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン類;ジオキサン、エチレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類;メトキシプロパノールなどのグリコールエーテル類;ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミドなどの非プロトン性極性溶媒等の不活性な有機溶媒を使用してもよい。   Furthermore, in this reaction, alcohols such as ethanol and isopropanol; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; ethers such as dioxane and ethylene glycol dimethyl ether; glycol ethers such as methoxypropanol; aprotic such as dimethyl sulfoxide and dimethylformamide An inert organic solvent such as a polar solvent may be used.

更に、上記のようにして得られたエポキシ樹脂の可鹸化ハロゲン量が多すぎる場合は、再処理して十分に可鹸化ハロゲン量が低下した精製エポキシ樹脂を得ることができる。つまり、その粗製エポキシ樹脂を、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、ジオキサン、メトキシプロパノール、ジメチルスルホキシドなどの不活性な有機溶媒に再溶解しアルカリ金属水酸化物を固体又は水溶液で加えて好ましくは30〜120℃、より好ましくは40〜110℃、更に好ましくは50〜100℃の温度で、好ましくは0.1〜15時間、より好ましくは0.3〜12時間、更に好ましくは0.5〜10時間再閉環反応を行った後、水洗等の方法で過剰のアルカリ金属水酸化物や副生塩を除去し、更に有機溶媒を減圧留去及び/又は水蒸気蒸留を行うと、加水分解性ハロゲン量が低減されたエポキシ樹脂を得ることができる。反応温度が上記範囲内であると、再閉環反応が進行しやすいために好ましい。また、反応温度が上記範囲内であると、高分子量化反応を制御しやすいために好ましい。   Furthermore, when the amount of saponifiable halogen in the epoxy resin obtained as described above is too large, a purified epoxy resin having a sufficiently reduced amount of saponifiable halogen can be obtained by reprocessing. That is, the crude epoxy resin is redissolved in an inert organic solvent such as isopropyl alcohol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, toluene, xylene, dioxane, methoxypropanol, dimethyl sulfoxide, and the alkali metal hydroxide is added as a solid or aqueous solution. The temperature is preferably 30 to 120 ° C, more preferably 40 to 110 ° C, still more preferably 50 to 100 ° C, preferably 0.1 to 15 hours, more preferably 0.3 to 12 hours, and still more preferably 0. After re-ringing reaction for 5 to 10 hours, excess alkali metal hydroxide or by-product salt is removed by a method such as washing with water, and the organic solvent is distilled off under reduced pressure and / or steam distillation. An epoxy resin with a reduced amount of decomposable halogen can be obtained. It is preferable for the reaction temperature to be within the above-mentioned range since the re-ring closure reaction will easily proceed. Moreover, it is preferable for the reaction temperature to be within the above range because the high molecular weight reaction can be easily controlled.

〔エポキシ樹脂組成物〕
本発明のエポキシ樹脂組成物は、少なくとも前述した本発明のエポキシ樹脂と硬化剤とを含むエポキシ樹脂組成物である。また、本発明のエポキシ樹脂組成物には、必要に応じて、他のエポキシ樹脂、その他の成分などを適宜配合することができる。本発明のエポキシ樹脂組成物は、可撓性、低吸水性及び強度のバランスに優れ、各種用途に要求される諸物性を十分に満たす硬化物を与えるものである。
[Epoxy resin composition]
The epoxy resin composition of the present invention is an epoxy resin composition containing at least the above-described epoxy resin of the present invention and a curing agent. Moreover, the epoxy resin composition of this invention can mix | blend suitably another epoxy resin, another component, etc. as needed. The epoxy resin composition of the present invention is excellent in the balance of flexibility, low water absorption, and strength, and provides a cured product that sufficiently satisfies various physical properties required for various applications.

<硬化剤>
本発明において硬化剤とは、エポキシ樹脂のエポキシ基間の架橋反応及び/又は鎖長延長反応に寄与する物質を意味する。なお、本発明においては通常、「硬化促進剤」と呼ばれるものであってもエポキシ樹脂のエポキシ基間の架橋反応及び/又は鎖長延長反応に寄与する物質であれば、硬化剤とみなすこととする。
<Curing agent>
In the present invention, the curing agent means a substance that contributes to a crosslinking reaction and / or a chain extension reaction between epoxy groups of an epoxy resin. In the present invention, even if what is usually called a “curing accelerator” is a substance that contributes to a crosslinking reaction and / or chain extension reaction between epoxy groups of an epoxy resin, it is regarded as a curing agent. To do.

本発明のエポキシ樹脂組成物中の硬化剤の含有量は、本発明のエポキシ樹脂100重量部に対して好ましくは0.01〜100重量部である。また、より好ましくは80重量部
以下であり、更に好ましくは60重量部以下である。
The content of the curing agent in the epoxy resin composition of the present invention is preferably 0.01 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin of the present invention. Further, it is more preferably 80 parts by weight or less, and still more preferably 60 parts by weight or less.

また、本発明のエポキシ樹脂組成物において、後述する他のエポキシ樹脂が含まれる場合、硬化剤の含有量は、固形分としての全エポキシ樹脂成分100重量部に対して好ましくは0.01〜100重量部である。また、より好ましくは80重量部以下であり、更に好ましくは60重量部以下である。本発明において、「固形分」とは溶媒を除いた成分を意味し、固体のエポキシ樹脂のみならず、半固形や粘稠な液状物をも含むものとする。また、「全エポキシ樹脂成分」とは、本発明のエポキシ樹脂と後述する他のエポキシ樹脂との合計を意味する。   Moreover, in the epoxy resin composition of this invention, when other epoxy resin mentioned later is contained, Preferably content of a hardening | curing agent is 0.01-100 with respect to 100 weight part of all the epoxy resin components as solid content. Parts by weight. Further, it is more preferably 80 parts by weight or less, and still more preferably 60 parts by weight or less. In the present invention, the “solid content” means a component excluding a solvent, and includes not only a solid epoxy resin but also a semi-solid or viscous liquid material. The “total epoxy resin component” means the total of the epoxy resin of the present invention and other epoxy resins described later.

本発明のエポキシ樹脂組成物に用いる硬化剤としては、特に制限はなく一般的にエポキシ樹脂硬化剤として知られているものはすべて使用することができる。その中でもフェノール系硬化剤、アミド系硬化剤、アミン系硬化剤(ただし、3級アミンを除く。)、イミダゾール類、酸無水物系硬化剤、有機ホスフィン類等が挙げられる。以下、フェノール系硬化剤、アミド系硬化剤、アミン系硬化剤(ただし、3級アミンを除く。)、イミダゾール類、酸無水物系硬化剤、有機ホスフィン類及びその他の使用可能な硬化剤の例を挙げる。   There is no restriction | limiting in particular as a hardening | curing agent used for the epoxy resin composition of this invention, What is generally known as an epoxy resin hardening | curing agent can be used. Among these, phenol-based curing agents, amide-based curing agents, amine-based curing agents (excluding tertiary amines), imidazoles, acid anhydride-based curing agents, and organic phosphines are exemplified. Examples of phenolic curing agents, amide curing agents, amine curing agents (excluding tertiary amines), imidazoles, acid anhydride curing agents, organic phosphines, and other usable curing agents Give up.

[フェノール系硬化剤]
硬化剤としてフェノール系硬化剤を用いることが、得られるエポキシ樹脂組成物の取り扱い性と、硬化後の耐熱性を向上させる観点から好ましい。フェノール系硬化剤の具体例としては、ビスフェノールA、ビスフェノールF、4,4’−ジヒドロキシジフェニルメタン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルエーテル、1,4−ビス(4−ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、1,3−ビス(4−ヒドロキシフェノキシ)ベンゼン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、4,4’−ジヒドロキシジフェニルケトン、4,4’−ジヒドロキシジフェニルスルホン、4,4’−ジヒドロキシビフェニル、2,2’−ジヒドロキシビフェニル、10−(2,5−ジヒドロキシフェニル)−10H−9−オキサ−10−ホスファフェナンスレン−10−オキサイド、フェノールノボラック、ビスフェノールAノボラック、o−クレゾールノボラック、m−クレゾールノボラック、p−クレゾールノボラック、キシレノールノボラック、ポリ−p−ヒドロキシスチレン、ハイドロキノン、レゾルシン、カテコール、t−ブチルカテコール、t−ブチルハイドロキノン、フルオログリシノール、ピロガロール、t−ブチルピロガロール、アリル化ピロガロール、ポリアリル化ピロガロール、1,2,4−ベンゼントリオール、2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン、1,2−ジヒドロキシナフタレン、1,3−ジヒドロキシナフタレン、1,4−ジヒドロキシナフタレン、1,5−ジヒドロキシナフタレン、1,6−ジヒドロキシナフタレン、1,7−ジヒドロキシナフタレン、1,8−ジヒドロキシナフタレン、2,3−ジヒドロキシナフタレン、2,4−ジヒドロキシナフタレン、2,5−ジヒドロキシナフタレン、2,6−ジヒドロキシナフタレン、2,7−ジヒドロキシナフタレン、2,8−ジヒドロキシナフタレン、上記ジヒドロキシナフタレンのアリル化物又はポリアリル化物、アリル化ビスフェノールA、アリル化ビスフェノールF、アリル化フェノールノボラック、アリル化ピロガロール等が例示される。
[Phenolic curing agent]
It is preferable to use a phenol-based curing agent as the curing agent from the viewpoint of improving the handleability of the resulting epoxy resin composition and the heat resistance after curing. Specific examples of the phenolic curing agent include bisphenol A, bisphenol F, 4,4′-dihydroxydiphenylmethane, 4,4′-dihydroxydiphenyl ether, 1,4-bis (4-hydroxyphenoxy) benzene, 1,3-bis. (4-hydroxyphenoxy) benzene, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfide, 4,4'-dihydroxydiphenyl ketone, 4,4'-dihydroxydiphenyl sulfone, 4,4'-dihydroxybiphenyl, 2,2'-dihydroxybiphenyl 10- (2,5-dihydroxyphenyl) -10H-9-oxa-10-phosphaphenanthrene-10-oxide, phenol novolak, bisphenol A novolak, o-cresol novolak, m-cresol novolak, p-cresol Novo Lac, xylenol novolak, poly-p-hydroxystyrene, hydroquinone, resorcin, catechol, t-butylcatechol, t-butylhydroquinone, fluoroglycinol, pyrogallol, t-butyl pyrogallol, allylated pyrogallol, polyallylated pyrogallol, 1,2 , 4-Benzenetriol, 2,3,4-trihydroxybenzophenone, 1,2-dihydroxynaphthalene, 1,3-dihydroxynaphthalene, 1,4-dihydroxynaphthalene, 1,5-dihydroxynaphthalene, 1,6-dihydroxynaphthalene 1,7-dihydroxynaphthalene, 1,8-dihydroxynaphthalene, 2,3-dihydroxynaphthalene, 2,4-dihydroxynaphthalene, 2,5-dihydroxynaphthalene, 2,6-dihydride Examples include xinaphthalene, 2,7-dihydroxynaphthalene, 2,8-dihydroxynaphthalene, allylated or polyallylated dihydroxynaphthalene, allylated bisphenol A, allylated bisphenol F, allylated phenol novolak, allylated pyrogallol, etc. .

以上で挙げたフェノール系硬化剤は1種のみで用いても、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いてもよい。また、硬化剤がフェノール系硬化剤の場合は、エポキシ樹脂中のエポキシ基に対する硬化剤中の官能基の当量比で0.8〜1.5の範囲となるように用いることが好ましい。この範囲内であると未反応のエポキシ基や硬化剤の官能基が残留しにくくなるために好ましい。   The phenolic curing agents mentioned above may be used alone or in a combination of two or more in any combination and ratio. Moreover, when a hardening | curing agent is a phenol type hardening | curing agent, it is preferable to use so that it may become the range of 0.8-1.5 by the equivalent ratio of the functional group in a hardening | curing agent with respect to the epoxy group in an epoxy resin. Within this range, unreacted epoxy groups and functional groups of the curing agent are unlikely to remain, which is preferable.

[アミド系硬化剤]
硬化剤としてアミド系硬化剤を用いることが、耐熱性等の向上の観点から好ましい。ア
ミド系硬化剤としてはジシアンジアミド及びその誘導体、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
[Amide-based curing agent]
It is preferable to use an amide-based curing agent as the curing agent from the viewpoint of improving heat resistance and the like. Examples of the amide-based curing agent include dicyandiamide and derivatives thereof, and polyamide resins.

以上に挙げたアミド系硬化剤は1種のみで用いても、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いてもよい。また、アミド系硬化剤は、エポキシ樹脂組成物中の固形分としての全エポキシ樹脂成分とアミド系硬化剤との合計に対して0.1〜20重量%の範囲で用いることが好ましい。   The amide type curing agents listed above may be used alone or in a combination of two or more in any combination and ratio. Moreover, it is preferable to use an amide type hardening | curing agent in 0.1-20 weight% with respect to the sum total of all the epoxy resin components and amide type hardening | curing agents as solid content in an epoxy resin composition.

[アミン系硬化剤]
硬化剤としてアミン系硬化剤(ただし、第3級アミンを除く。)を用いることが、耐熱性等の向上の観点から好ましい。アミン系硬化剤の例としては、脂肪族アミン類、ポリエーテルアミン類、脂環式アミン類、芳香族アミン類などが挙げられる。脂肪族アミン類としては、エチレンジアミン、1,3−ジアミノプロパン、1,4−ジアミノプロパン、ヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、ジエチレントリアミン、イミノビスプロピルアミン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキサミン、N−ヒドロキシエチルエチレンジアミン、テトラ(ヒドロキシエチル)エチレンジアミン等が例示される。ポリエーテルアミン類としては、トリエチレングリコールジアミン、テトラエチレングリコールジアミン、ジエチレングリコールビス(プロピルアミン)、ポリオキシプロピレンジアミン、ポリオキシプロピレントリアミン類等が例示される。脂環式アミン類としては、イソホロンジアミン、メタセンジアミン、N−アミノエチルピペラジン、ビス(4−アミノ−3−メチルジシクロヘキシル)メタン、ビス(アミノメチル)シクロヘキサン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン、ノルボルネンジアミン等が例示される。芳香族アミン類としては、テトラクロロ−p−キシレンジアミン、m−キシレンジアミン、p−キシレンジアミン、m−フェニレンジアミン、o−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、2,4−ジアミノアニソール、2,4−トルエンジアミン、2,4−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノ−1,2−ジフェニルエタン、2,4−ジアミノジフェニルスルホン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホン、m−アミノフェノール、m−アミノベンジルアミン、ベンジルジメチルアミン、2−ジメチルアミノメチル)フェノール、トリエタノールアミン、メチルベンジルアミン、α−(m−アミノフェニル)エチルアミン、α−(p−アミノフェニル)エチルアミン、ジアミノジエチルジメチルジフェニルメタン、α,α’−ビス(4−アミノフェニル)−p−ジイソプロピルベンゼン等が例示される。
[Amine curing agent]
It is preferable to use an amine-based curing agent (excluding tertiary amine) as the curing agent from the viewpoint of improving heat resistance and the like. Examples of amine-based curing agents include aliphatic amines, polyether amines, alicyclic amines, aromatic amines and the like. Aliphatic amines include ethylenediamine, 1,3-diaminopropane, 1,4-diaminopropane, hexamethylenediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, trimethylhexamethylenediamine, diethylenetriamine, iminobispropylamine, bis ( Hexamethylene) triamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, pentaethylenehexamine, N-hydroxyethylethylenediamine, tetra (hydroxyethyl) ethylenediamine and the like are exemplified. Examples of polyether amines include triethylene glycol diamine, tetraethylene glycol diamine, diethylene glycol bis (propylamine), polyoxypropylene diamine, polyoxypropylene triamines, and the like. Cycloaliphatic amines include isophorone diamine, metacene diamine, N-aminoethylpiperazine, bis (4-amino-3-methyldicyclohexyl) methane, bis (aminomethyl) cyclohexane, 3,9-bis (3-amino). Propyl) -2,4,8,10-tetraoxaspiro (5,5) undecane, norbornenediamine and the like. Aromatic amines include tetrachloro-p-xylenediamine, m-xylenediamine, p-xylenediamine, m-phenylenediamine, o-phenylenediamine, p-phenylenediamine, 2,4-diaminoanisole, 2,4 -Toluenediamine, 2,4-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-diamino-1,2-diphenylethane, 2,4-diaminodiphenylsulfone, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, m-aminophenol, m-aminobenzylamine, benzyldimethylamine, 2-dimethylaminomethyl) phenol, triethanolamine, methylbenzylamine, α- (m-aminophenyl) ethylamine, α- (p-aminophenyl) ethylamine Diaminodiethyldi Examples thereof include methyldiphenylmethane and α, α′-bis (4-aminophenyl) -p-diisopropylbenzene.

以上で挙げたアミン系硬化剤は1種のみで用いても2種以上を任意の組み合わせ及び配合比率で用いてもよい。また、アミン系硬化剤は、エポキシ樹脂中のエポキシ基に対する硬化剤中の官能基の当量比で0.8〜1.5の範囲となるように用いることが好ましい。この範囲内であると未反応のエポキシ基や硬化剤の官能基が残留しにくくなるために好ましい。   The amine curing agents mentioned above may be used alone or in any combination and blending ratio. Moreover, it is preferable to use an amine hardening | curing agent so that it may become the range of 0.8-1.5 by the equivalent ratio of the functional group in a hardening | curing agent with respect to the epoxy group in an epoxy resin. Within this range, unreacted epoxy groups and functional groups of the curing agent are unlikely to remain, which is preferable.

[イミダゾール類]
硬化剤としてイミダゾール類を用いることが、硬化反応を十分に進行させ、耐熱性を向上させる観点から好ましい。イミダゾール類としては、2−フェニルイミダゾール、2−エチル−4(5)−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノ−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾールトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル
−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加体、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加体、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、及びエポキシ樹脂と上記イミダゾール類との付加体等が例示される。なお、イミダゾール類は触媒能を有するため、一般的には後述する硬化促進剤にも分類されうるが、本発明においては硬化剤として分類するものとする。
[Imidazoles]
It is preferable to use imidazoles as the curing agent from the viewpoint of sufficiently proceeding the curing reaction and improving the heat resistance. Examples of imidazoles include 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4 (5) -methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1 -Cyanoethyl-2-undecylimidazole, 1-cyano-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecylimidazole trimellitate, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimellitate, 2,4-diamino- 6- [2′-Methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2′-ethyl-4′-methylimidazolyl- (1 ′)]-ethyl-s -Triazine, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1 ')]-ethyl-s-tri Azine isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, and an epoxy resin and the above imidazoles Examples include adducts. In addition, since imidazoles have catalytic ability, they can generally be classified as curing accelerators described later, but in the present invention, they are classified as curing agents.

以上に挙げたイミダゾール類は1種のみでも、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いてもよい。また、イミダゾール類は、エポキシ樹脂組成物中の固形分としての全エポキシ樹脂成分とイミダゾール類との合計に対して0.01〜20重量%の範囲で用いることが好ましい。   The imidazoles listed above may be used alone or in combination of two or more in any combination and ratio. Moreover, it is preferable to use imidazoles in 0.01 to 20 weight% with respect to the sum total of all the epoxy resin components and imidazoles as solid content in an epoxy resin composition.

[酸無水物系硬化剤]
硬化剤として酸無水物系硬化剤を用いることが、耐熱性の観点から好ましい。酸無水物系硬化剤としては、酸無水物、酸無水物の変性物等が挙げられる。
[Acid anhydride curing agent]
It is preferable to use an acid anhydride curing agent as the curing agent from the viewpoint of heat resistance. Examples of the acid anhydride curing agent include acid anhydrides and modified acid anhydrides.

酸無水物としては、例えば、フタル酸無水物、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物、ドデセニルコハク酸無水物、ポリアジピン酸無水物、ポリアゼライン酸無水物、ポリセバシン酸無水物、ポリ(エチルオクタデカン二酸)無水物、ポリ(フェニルヘキサデカン二酸)無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルハイミック酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、トリアルキルテトラヒドロフタル酸無水物、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物、メチルシクロヘキセンテトラカルボン酸無水物、エチレングリコールビストリメリテート二無水物、ヘット酸無水物、ナジック酸無水物、メチルナジック酸無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロ−3−フラニル)−3−メチル−3−シクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物、3,4−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸二無水物、1−メチル−ジカルボキシ−1,2,3,4−テトラヒドロ−1−ナフタレンコハク酸二無水物等が挙げられる。   Examples of acid anhydrides include phthalic acid anhydride, trimellitic acid anhydride, pyromellitic acid anhydride, benzophenone tetracarboxylic acid anhydride, dodecenyl succinic acid anhydride, polyadipic acid anhydride, polyazelinic acid anhydride, polysebacic acid Anhydride, poly (ethyloctadecanedioic acid) anhydride, poly (phenylhexadecanedioic acid) anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride , Methyl hymic acid anhydride, tetrahydrophthalic acid anhydride, trialkyltetrahydrophthalic acid anhydride, methylcyclohexene dicarboxylic acid anhydride, methylcyclohexene tetracarboxylic acid anhydride, ethylene glycol bis trimellitate dianhydride, het acid anhydride , Najit Acid anhydride, methyl nadic acid anhydride, 5- (2,5-dioxotetrahydro-3-furanyl) -3-methyl-3-cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid anhydride, 3,4-dicarboxy- Examples include 1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalene succinic dianhydride, 1-methyl-dicarboxy-1,2,3,4-tetrahydro-1-naphthalene succinic dianhydride, and the like.

酸無水物の変性物としては、例えば、上述した酸無水物をグリコールで変性したもの等が挙げられる。ここで、変性に用いることのできるグリコールの例としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール等のアルキレングリコール類;ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレンエーテルグリコール等のポリエーテルグリコール類等が挙げられる。更には、これらのうちの2種類以上のグリコール及び/又はポリエーテルグリコールの共重合ポリエーテルグリコールを用いることもできる。なお、酸無水物の変性物においては、酸無水物1モルに対してグリコール0.4モル以下で変性させることが好ましい。変性量が上記上限値以下であると、エポキシ樹脂組成物の粘度が高くなり過ぎず、作業性が良好となる傾向にあり、また、エポキシ樹脂との硬化反応の速度も良好となる傾向にある。   Examples of modified acid anhydrides include those obtained by modifying the above acid anhydride with glycol. Examples of glycols that can be used for modification include alkylene glycols such as ethylene glycol, propylene glycol, and neopentyl glycol; polyether glycols such as polyethylene glycol, polypropylene glycol, and polytetramethylene ether glycol. It is done. Furthermore, a copolymer polyether glycol of two or more kinds of these and / or polyether glycol can also be used. In addition, in the modified product of acid anhydride, it is preferable to modify with 0.4 mol or less of glycol with respect to 1 mol of acid anhydride. When the modification amount is not more than the above upper limit, the viscosity of the epoxy resin composition does not become too high, the workability tends to be good, and the rate of the curing reaction with the epoxy resin also tends to be good. .

以上で挙げた酸無水物硬化剤は1種のみでも2種以上を任意の組み合わせ及び配合量、配合比率で用いてもよい。酸無水物系硬化剤を用いる場合には、エポキシ樹脂中のエポキシ基に対する硬化剤中の官能基の当量比で0.8〜1.5の範囲となるように用いることが好ましい。この範囲内であると未反応のエポキシ基や硬化剤の官能基が残留しにくくなるために好ましい。   The acid anhydride curing agents mentioned above may be used alone or in combination of two or more in any combination, blending amount and blending ratio. When an acid anhydride curing agent is used, it is preferably used so that the equivalent ratio of the functional group in the curing agent to the epoxy group in the epoxy resin is in the range of 0.8 to 1.5. Within this range, unreacted epoxy groups and functional groups of the curing agent are unlikely to remain, which is preferable.

[有機ホスフィン類]
硬化剤として有機ホスフィン類を用いることが、硬化性に優れ、電気的信頼性の高い硬
化物を与えるという観点から好ましい。有機ホスフィン類としては、トリブチルホスフィン、メチルジフェニルホスフイン、トリフェニルホスフィン、ジフェニルホスフィン、フェニルホスフィン等が例示され、ホスホニウム塩としては、テトラフェニルホスホニウム・テトラフェニルボレート、テトラフェニルホスホニウム・エチルトリフェニルボレート、テトラブチルホスホニウム・テトラブチルボレート等が例示され、テトラフェニルボロン塩としては、2−エチル−4−メチルイミダゾール・テトラフェニルボレート、N−メチルモルホリン・テトラフェニルボレート等が例示される。
[Organic phosphines]
Use of organic phosphines as the curing agent is preferable from the viewpoint of providing a cured product having excellent curability and high electrical reliability. Examples of organic phosphines include tributylphosphine, methyldiphenylphosphine, triphenylphosphine, diphenylphosphine, phenylphosphine and the like, and phosphonium salts include tetraphenylphosphonium / tetraphenylborate, tetraphenylphosphonium / ethyltriphenylborate, Examples include tetrabutylphosphonium / tetrabutylborate, and examples of the tetraphenylboron salt include 2-ethyl-4-methylimidazole / tetraphenylborate, N-methylmorpholine / tetraphenylborate, and the like.

以上に挙げた有機ホスフィン類は1種のみで用いても、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いてもよい。また、有機ホスフィン類は、エポキシ樹脂組成物中の固形分としての全エポキシ樹脂成分と有機ホスフィン類との合計に対して0.1〜20重量%の範囲で用いることが好ましい。   The organic phosphines listed above may be used alone or in a combination of two or more in any combination and ratio. Moreover, it is preferable to use organic phosphines in the range of 0.1-20 weight% with respect to the sum total of all the epoxy resin components and organic phosphines as solid content in an epoxy resin composition.

[その他の硬化剤]
本発明のエポキシ樹脂組成物に用いることのできる硬化剤として、フェノール系硬化剤、アミド系硬化剤、アミン系硬化剤、イミダゾール類、酸無水物系硬化剤、有機ホスフィン類以外のものとしては、例えば、メルカプタン系硬化剤、第3級アミン、ホスホニウム塩、テトラフェニルボロン塩、有機酸ジヒドラジド、ハロゲン化ホウ素アミン錯体、イソシアネート系硬化剤、ブロックイソシアネート系硬化剤等が挙げられる。以上に挙げたその他の硬化剤は、1種のみで用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いてもよい。
[Other curing agents]
As a curing agent that can be used in the epoxy resin composition of the present invention, other than phenolic curing agents, amide curing agents, amine curing agents, imidazoles, acid anhydride curing agents, and organic phosphines, Examples include mercaptan curing agents, tertiary amines, phosphonium salts, tetraphenyl boron salts, organic acid dihydrazides, boron halide amine complexes, isocyanate curing agents, block isocyanate curing agents, and the like. The other hardening | curing agents mentioned above may be used only by 1 type, and 2 or more types may be mixed and used for them in arbitrary combinations and ratios.

<他のエポキシ樹脂>
本発明のエポキシ樹脂組成物は、本発明のエポキシ樹脂に加え、他のエポキシ樹脂を含むことができる。他のエポキシ樹脂を用いることで、不足する物性を補ったり、種々の物性を向上させたりすることができる。
<Other epoxy resins>
The epoxy resin composition of the present invention can contain other epoxy resins in addition to the epoxy resin of the present invention. By using other epoxy resins, the insufficient physical properties can be compensated or various physical properties can be improved.

他のエポキシ樹脂としては、分子内に2個以上のエポキシ基を有するものであることが好ましく、例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールアラルキル型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、トリフェニルメタン型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン型エポキシ樹脂等の、各種エポキシ樹脂を使用することができる。これらは1種のみでも2種以上の混合体としても使用することができる。   The other epoxy resin preferably has two or more epoxy groups in the molecule. For example, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F type epoxy resin, naphthalene type epoxy resin, phenol novolac type epoxy resin, Various epoxy resins such as a cresol novolac type epoxy resin, a phenol aralkyl type epoxy resin, a biphenyl type epoxy resin, a triphenylmethane type epoxy resin, and a dicyclopentadiene type epoxy resin can be used. These can be used alone or as a mixture of two or more.

本発明のエポキシ樹脂組成物において、本発明のエポキシ樹脂と他のエポキシ樹脂とを用いる場合、全エポキシ樹脂成分中の本発明のエポキシ樹脂の配合量は、好ましくは1重量%以上であり、より好ましくは5重量%以上であり、一方、好ましくは99重量%以下であり、より好ましくは95重量%以下である。他のエポキシ樹脂の割合が上記下限値以上であることにより、他のエポキシ樹脂を配合することによる物性向上効果を十分に得ることができ、特に本発明のエポキシ樹脂そのものよりも更に耐熱性に優れた材料を得ることができる。一方、他のエポキシ樹脂の割合が前記上限値以下であることにより、本発明のエポキシ樹脂の効果が十分に発揮され、可撓性、低吸水性及び強度を得ることができる傾向があるために好ましい。   In the epoxy resin composition of the present invention, when the epoxy resin of the present invention and another epoxy resin are used, the blending amount of the epoxy resin of the present invention in all the epoxy resin components is preferably 1% by weight or more, and more Preferably, it is 5% by weight or more, while it is preferably 99% by weight or less, more preferably 95% by weight or less. When the ratio of the other epoxy resin is not less than the above lower limit value, the effect of improving the physical properties by blending the other epoxy resin can be sufficiently obtained, and in particular, it is more excellent in heat resistance than the epoxy resin itself of the present invention. Material can be obtained. On the other hand, because the ratio of the other epoxy resin is less than or equal to the above upper limit value, the effect of the epoxy resin of the present invention is sufficiently exerted, and there is a tendency that flexibility, low water absorption and strength can be obtained. preferable.

<溶剤>
本発明のエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物には、塗膜形成時の取り扱い時に、エポキシ樹脂組成物の粘度を適度に調整するために溶剤を配合し、希釈してもよい。本発明のエポキシ樹脂組成物において、溶剤は、エポキシ樹脂組成物の成形における取り扱い性、作業性を確保するために用いられ、その使用量には特に制限がない。
<Solvent>
The epoxy resin composition containing the epoxy resin of the present invention may be diluted by blending a solvent in order to appropriately adjust the viscosity of the epoxy resin composition at the time of handling during coating film formation. In the epoxy resin composition of the present invention, the solvent is used in order to ensure the handleability and workability in the molding of the epoxy resin composition, and the amount used is not particularly limited.

本発明のエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物が含み得る溶剤としては、例えばアセトン、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、酢酸エチル等のエステル類、エチレングリコールモノメチルエーテル等のエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、メタノール、エタノール等のアルコール類、ヘキサン、シクロヘキサン等のアルカン類、トルエン、キシレン等の芳香族類などが挙げられる。以上に挙げた溶剤は、1種のみで用いてもよく、2種以上を任意の組み合わせ及び比率で混合して用いてもよい。   Examples of the solvent that can be contained in the epoxy resin composition containing the epoxy resin of the present invention include ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate, and ethers such as ethylene glycol monomethyl ether. Amides such as N, N-dimethylformamide and N, N-dimethylacetamide, alcohols such as methanol and ethanol, alkanes such as hexane and cyclohexane, and aromatics such as toluene and xylene. The solvent mentioned above may be used only by 1 type, and may mix and use 2 or more types by arbitrary combinations and a ratio.

<その他の成分>
本発明のエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂組成物には、その機能性の更なる向上を目的として、以上に挙げた以外の成分(本発明において、「その他の成分」と称することがある。)を含んでいてもよい。その他の成分としては、無機フィラー、シランカップリング剤等のカップリング剤、紫外線防止剤、酸化防止剤、可塑剤、フラックス、難燃剤、着色剤、分散剤、乳化剤、低弾性化剤、希釈剤、消泡剤、イオントラップ剤等が挙げられる。
<Other ingredients>
In the epoxy resin composition containing the epoxy resin of the present invention, components other than those listed above (sometimes referred to as “other components” in the present invention) for the purpose of further improving the functionality. May be included. Other ingredients include inorganic fillers, coupling agents such as silane coupling agents, UV inhibitors, antioxidants, plasticizers, fluxes, flame retardants, colorants, dispersants, emulsifiers, low elasticity agents, diluents. , Antifoaming agents, ion trapping agents and the like.

〔硬化物〕
本発明のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物は、可撓性、低吸水性、強度のバランスに優れ、良好な硬化物性を示すものである。なお、ここでいう「硬化」とは熱及び/又は光等によりエポキシ樹脂組成物を意図的に硬化させることを意味するものであり、その硬化の程度は所望の物性、用途により制御すればよい。進行の程度は完全硬化であっても、半硬化の状態であってもよく、特に制限されないが、エポキシ基と硬化剤の硬化反応の反応率として通常5〜95%である。
[Cured product]
A cured product obtained by curing the epoxy resin composition of the present invention is excellent in balance of flexibility, low water absorption, and strength, and exhibits excellent cured properties. The term “curing” as used herein means that the epoxy resin composition is intentionally cured by heat and / or light, and the degree of curing may be controlled by desired physical properties and applications. . The degree of progression may be completely cured or semi-cured, and is not particularly limited. However, the reaction rate of the curing reaction between the epoxy group and the curing agent is usually 5 to 95%.

本発明のエポキシ樹脂組成物を硬化又は半硬化させて硬化物又は半硬化物とする際のエポキシ樹脂組成物の硬化方法は、エポキシ樹脂組成物中の配合成分や配合量によっても異なるが、通常、80〜200℃で60〜180分の加熱条件が挙げられる。この加熱は80〜160℃で10〜30分の一次加熱と、一次加熱温度よりも40〜120℃高い120〜200℃で60〜150分の二次加熱との二段処理で行うことが、硬化不良を少なくするという点で好ましい。   The curing method of the epoxy resin composition when the epoxy resin composition of the present invention is cured or semi-cured to obtain a cured product or semi-cured product varies depending on the blending component and blending amount in the epoxy resin composition, but usually And heating conditions of 60 to 180 minutes at 80 to 200 ° C. This heating may be performed in a two-stage process of primary heating at 80 to 160 ° C. for 10 to 30 minutes and secondary heating at 120 to 200 ° C. that is 40 to 120 ° C. higher than the primary heating temperature for 60 to 150 minutes, This is preferable from the viewpoint of reducing curing failure.

樹脂半硬化物を作製する際には、加熱等により形状が保てる程度にエポキシ樹脂組成物の硬化反応を進行させる。エポキシ樹脂組成物が溶剤を含んでいる場合には、加熱、減圧、風乾等の手法で大部分の溶剤を除去するが、樹脂半硬化物中に5質量%以下の溶剤が残留することもある。   When producing the resin semi-cured product, the curing reaction of the epoxy resin composition is advanced to such an extent that the shape can be maintained by heating or the like. When the epoxy resin composition contains a solvent, most of the solvent is removed by techniques such as heating, decompression, and air drying, but a solvent of 5% by mass or less may remain in the resin semi-cured product. .

〔用途〕
本発明のエポキシ樹脂及びそれを含むエポキシ樹脂組成物は、注形、フィルム成形・塗布等のプロセスに適用するのに十分な可撓性を有し、かつ低吸水性と強度とのバランスに優れるものであり、接着剤、塗料、光学部材、土木建築用材料、電気・電子部品の絶縁材料等、様々な分野に適用可能である。特に、電気・電子分野における絶縁注型材料、積層材料、封止材料等として有用であり、例えば、電気・電子回路用積層板、電気・電子回路用封止材等が挙げられる。本発明のエポキシ樹脂及びそれを含むエポキシ樹脂組成物の用途の一例としては、半導体封止材料、アンダーフィル材料、3D−LSI用インターチップフィル、ダイボンディング材、フィルム状接着剤、液状接着剤等の接着剤、多層プリント配線基板、キャパシタ等の電気・電子回路用積層板、絶縁シート、プリプレグ、放熱基板、あるいは電気・電子用途での接着改良剤や可撓性付与材などが挙げられるが、何らこれらに限定されるものではない。
[Use]
The epoxy resin of the present invention and the epoxy resin composition containing the epoxy resin have sufficient flexibility to be applied to processes such as casting and film forming / coating, and have an excellent balance between low water absorption and strength. It can be applied to various fields such as adhesives, paints, optical members, civil engineering materials, and insulating materials for electrical and electronic parts. In particular, it is useful as an insulating casting material, a laminate material, a sealing material, etc. in the electric / electronic field, and examples thereof include a laminate for an electric / electronic circuit and a sealing material for an electric / electronic circuit. Examples of the use of the epoxy resin of the present invention and the epoxy resin composition containing the epoxy resin include semiconductor sealing materials, underfill materials, 3D-LSI interchip fills, die bonding materials, film adhesives, liquid adhesives, etc. Adhesives, multilayer printed wiring boards, laminates for electrical and electronic circuits such as capacitors, insulating sheets, prepregs, heat dissipation boards, or adhesion improvers and flexibility imparting materials for electrical and electronic applications, etc. It is not limited to these at all.

なお、本発明において「電気・電子回路用積層板」とは、本発明のエポキシ樹脂組成物
を含む層と銅、アルミニウムやこれらの合金等がからなる導電性金属層とを積層したものであり、本発明のエポキシ樹脂組成物を含む層と導電性金属層とを積層したものであれば、電気・電子回路ではなくとも、例えばキャパシタも含む概念として用いられる。なお、電気・電子回路用積層板中には2種以上のエポキシ樹脂組成物からなる層が形成されていてもよく、少なくとも1つの層において本発明のエポキシ樹脂組成物が用いられていればよい。また、2種以上の導電性金属層が形成されていてもよい。
In the present invention, the “laminate for electric / electronic circuit” is a laminate of a layer containing the epoxy resin composition of the present invention and a conductive metal layer made of copper, aluminum, an alloy thereof or the like. As long as the layer containing the epoxy resin composition of the present invention and the conductive metal layer are laminated, it can be used as a concept including, for example, a capacitor instead of an electric / electronic circuit. In addition, the layer which consists of 2 or more types of epoxy resin compositions may be formed in the laminated board for electric / electronic circuits, and the epoxy resin composition of this invention should just be used in at least 1 layer. . Two or more kinds of conductive metal layers may be formed.

以下、本発明を実施例に基づいてより具体的に説明するが、本発明は以下の実施例により何ら限定されるものではない。なお、以下の実施例における各種の製造条件や評価結果の値は、本発明の実施態様における上限又は下限の好ましい値としての意味をもつものであり、好ましい範囲は前記した上限又は下限の値と、下記実施例の値又は実施例同士の値との組み合わせで規定される範囲であってもよい。以下において、「部」は全て「重量部」を示す。また、以下における各種物性ないし特性の測定方法は次の通りである。   EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated more concretely based on an Example, this invention is not limited at all by the following example. In addition, the value of various manufacturing conditions and evaluation results in the following examples has a meaning as a preferable value of the upper limit or the lower limit in the embodiment of the present invention, and the preferable range is the above-described upper limit or lower limit value. A range defined by a combination of values of the following examples or values of the examples may be used. In the following, all “parts” indicate “parts by weight”. In addition, the following measurement methods for various physical properties and characteristics are as follows.

1)重量平均分子量及び数平均分子量
東ソー(株)製「HLC−8320GPC EcoSEC(登録商標)」を使用し、以下の測定条件で、標準ポリスチレンとして、TSK Standard Polystyrene:F−128(Mw1,090,000、Mn1,030,000)、F−10(Mw106,000、Mn103,000)、F−4(Mw43,000、Mn42,700)、F−2(Mw17,200、Mn16,900)、A−5000(Mw6,400、Mn6,100)、A−2500(Mw2,800、Mn2,700)、A−300(Mw453、Mn387)を使用した検量線を作成し、重量平均分子量及び数平均分子量をポリスチレン換算値として測定した。
カラム:東ソー(株)製「TSKGEL SuperHM−H+H5000+H4000+H3000+H2000」
溶離液:テトラヒドロフラン
流速:0.5ml/min
検出:UV(波長254nm)
温度:40℃
試料濃度:0.1重量%
インジェクション量:10μl
1) Weight average molecular weight and number average molecular weight Using "HLC-8320GPC EcoSEC (registered trademark)" manufactured by Tosoh Corporation, and under the following measurement conditions, as standard polystyrene, TSK Standard Polystyrene: F-128 (Mw1,090, 000, Mn 1,030,000), F-10 (Mw 106,000, Mn 103,000), F-4 (Mw 43,000, Mn 42,700), F-2 (Mw 17,200, Mn 16,900), A- A calibration curve using 5000 (Mw 6,400, Mn 6,100), A-2500 (Mw 2,800, Mn 2,700), A-300 (Mw 453, Mn 387) is prepared, and the weight average molecular weight and number average molecular weight are polystyrene. It was measured as a converted value.
Column: “TSKGEL SuperHM-H + H5000 + H4000 + H3000 + H2000” manufactured by Tosoh Corporation
Eluent: Tetrahydrofuran Flow rate: 0.5 ml / min
Detection: UV (wavelength 254 nm)
Temperature: 40 ° C
Sample concentration: 0.1% by weight
Injection volume: 10 μl

2)nの値
前記式(1)におけるnの値及びその平均値は、上記で求められた数平均分子量より算出した。
2) Value of n The value of n and the average value in the formula (1) were calculated from the number average molecular weight determined above.

3)エポキシ当量
JIS K7236に準じて測定し、固形分換算値として表記した。
3) Epoxy equivalent Measured according to JIS K7236 and expressed as a solid content converted value.

4)ガラス転移温度(Tg)
エポキシ樹脂及びエポキシ樹脂硬化物について、SIIナノテクノロジー(株)製 示差走査熱量計「DSC7020」を使用し、30〜200℃まで10℃/minで昇温してガラス転移温度を測定した。なお、ここでいうガラス転移温度は、JIS K7121「プラスチックの転移温度測定法」に記載されているうちの「中点ガラス転移温度:Tmg」に基づいて測定した。
4) Glass transition temperature (Tg)
About the epoxy resin and epoxy resin hardened | cured material, SII nanotechnology Co., Ltd. product differential scanning calorimeter "DSC7020" was used, and it heated up at 30 degreeC to 200 degreeC at 10 degree-C / min, and measured the glass transition temperature. The glass transition temperature mentioned here was measured based on “midpoint glass transition temperature: Tmg” described in JIS K7121 “Method for measuring plastic transition temperature”.

5)吸水率
(試験片の作成)
低分子量エポキシ樹脂:エポキシ樹脂組成物を減圧下で脱泡させた後、直径50mm、高
さ3mmの金型に流し込み、150℃で1時間加熱し、更にその後180℃で1時間硬化させて、試験片を得た。
高分子量エポキシ樹脂:アプリケーターを用いて、エポキシ樹脂組成物をセパレータ(シリコーン処理したポリエチレンテレフタレートフィルム)上に塗膜し、150℃で1時間加熱し、更にその後180℃で1時間硬化させた。このエポキシ樹脂硬化フィルムを40mm×40mmに切り出し、試験片を得た。
(試験条件)
エポキシ樹脂組成物の硬化物を105℃で2時間乾燥した後、エスペック社 HASTチャンバー EHS−211MDを用いて、以下の条件下に放置した後の吸水率を下記式で算出した。
低分子量エポキシ樹脂:121℃、100%RH条件下に24時間放置した。低吸水性は吸水率が3.5以下であるものを合格、それ以外のものを不合格と評価した。
高分子量エポキシ樹脂:85℃、85%RH条件下に168時間放置した。低吸水性は吸水率が0.9以下であるものを合格、それ以外のものを不合格と評価した。
(吸水率)=[{(放置後の試験片の質量)−(放置前の試験片の質量)}/(放置前の試験片の質量)]×100
5) Water absorption rate (preparation of test piece)
Low molecular weight epoxy resin: After defoaming the epoxy resin composition under reduced pressure, it is poured into a mold having a diameter of 50 mm and a height of 3 mm, heated at 150 ° C. for 1 hour, and then cured at 180 ° C. for 1 hour. A specimen was obtained.
High molecular weight epoxy resin: Using an applicator, the epoxy resin composition was coated on a separator (silicone-treated polyethylene terephthalate film), heated at 150 ° C. for 1 hour, and then cured at 180 ° C. for 1 hour. This cured epoxy resin film was cut out to 40 mm × 40 mm to obtain a test piece.
(Test conditions)
The cured product of the epoxy resin composition was dried at 105 ° C. for 2 hours, and the water absorption rate after being left under the following conditions was calculated by the following formula using Espec HAST chamber EHS-211MD.
Low molecular weight epoxy resin: left at 121 ° C. and 100% RH for 24 hours. The low water absorption was evaluated as acceptable if the water absorption was 3.5 or less, and rejected otherwise.
High molecular weight epoxy resin: left for 168 hours at 85 ° C. and 85% RH. The low water absorption was evaluated as acceptable if the water absorption was 0.9 or less, and rejected otherwise.
(Water absorption) = [{(Mass of test piece after being left) − (Mass of test piece before being left)} / (Mass of test piece before being left)] × 100

6)曲げ試験(曲げ弾性率・曲げ強度)
(試験片の作成)
200mm×200mm×8mmのガラス板の片面に離型ポリエチレンテレフテレートフィルムを貼り付けたものを2枚用意し、その内の1枚をフィルムを貼り付けた側が上に来るように置いた。この上に内径4mmのシリコーン製チューブをU字型にセットし、またガラス板の四隅に厚さ4mmの金属製スペーサーを置いた上で、もう1枚のフィルム付ガラス板をフィルム側が向かい合うようにして重ね合わせ、小型万力で2枚のガラス板を固定して硬化物作成用の型を準備した。エポキシ樹脂組成物を減圧下で脱泡した後、準備した型の中に流し入れ、150℃で1時間加熱し、更にその後180℃で1時間硬化させた。このエポキシ樹脂硬化物を10mm×100mmに切り出し、試験片を得た。
(試験条件)
インストロン社製 精密万能試験機「INSTRON 5582型」を使用し、JIS
K7171に準じて試験を行った。エポキシ樹脂組成物の硬化物試験片が折れるかどうかを評価し、また、曲げ弾性率及び曲げ強度を測定した。
6) Bending test (flexural modulus / bending strength)
(Creation of specimen)
Two sheets of a 200 mm × 200 mm × 8 mm glass plate with a release polyethylene terephthalate film attached thereto were prepared, and one of them was placed so that the side to which the film was attached was up. Set a silicone tube with an inner diameter of 4 mm in this shape in a U-shape, and place a metal spacer with a thickness of 4 mm at the four corners of the glass plate, and then place the other glass plate with film facing the film side. Then, two glass plates were fixed with a small vise to prepare a mold for producing a cured product. The epoxy resin composition was degassed under reduced pressure, poured into a prepared mold, heated at 150 ° C. for 1 hour, and then cured at 180 ° C. for 1 hour. This epoxy resin cured product was cut out to 10 mm × 100 mm to obtain a test piece.
(Test conditions)
INSTRON 5582 type precision universal testing machine made by Instron is used and JIS
The test was conducted according to K7171. It was evaluated whether the cured specimen of the epoxy resin composition was broken, and the flexural modulus and flexural strength were measured.

7)引張試験(引張伸び・引張強度)
(試験片の作成)
低分子量エポキシ樹脂: 200mm×200mm×8mmのガラス板の片面に離型P
ETフィルムを貼り付けたものを2枚用意し、その内の1枚をフィルムを貼り付けた側が上に来るように置いた。この上に内径3mmのシリコン製チューブをU字型にセットし、またガラス板の四隅に厚さ3mmの金属製スペーサーを置いた上で、もう1枚のフィルム付ガラス板をフィルム側が向かい合うようにして重ね合わせ、小型万力で2枚のガラス板を固定して硬化物作成用の型を準備した。エポキシ樹脂組成物を減圧下で脱泡した後、準備した型の中に流し入れ、150℃で1時間加熱し、更にその後180℃で1時間硬化させた。このエポキシ樹脂硬化物をダンベル型に打ち抜き、試験片を得た。
高分子量エポキシ樹脂:アプリケーターを用いて、エポキシ樹脂組成物をセパレータ(シリコーン処理したポリエチレンテレフタレートフィルム)上に塗膜し、150℃で1時間加熱し、更にその後180℃で1時間硬化させた。このエポキシ樹脂硬化フィルムをダンベル型に打ち抜き、試験片を得た。
(試験条件)
インストロン社製 精密万能試験機「INSTRON 5582型」を使用して、JIS K7161に準じて引張伸び及び引張強度を測定した。
7) Tensile test (tensile elongation / tensile strength)
(Creation of specimen)
Low molecular weight epoxy resin: mold release P on one side of a glass plate of 200 mm x 200 mm x 8 mm
Two pieces of ET film were prepared, and one of them was placed so that the side on which the film was attached was up. Set a silicon tube with an inner diameter of 3 mm in a U-shape on top of this, and place a metal spacer with a thickness of 3 mm at the four corners of the glass plate, and make the other glass plate with film face the film side. Then, two glass plates were fixed with a small vise to prepare a mold for producing a cured product. The epoxy resin composition was degassed under reduced pressure, poured into a prepared mold, heated at 150 ° C. for 1 hour, and then cured at 180 ° C. for 1 hour. This cured epoxy resin was punched out into a dumbbell shape to obtain a test piece.
High molecular weight epoxy resin: Using an applicator, the epoxy resin composition was coated on a separator (silicone-treated polyethylene terephthalate film), heated at 150 ° C. for 1 hour, and then cured at 180 ° C. for 1 hour. This cured epoxy resin film was punched into a dumbbell shape to obtain a test piece.
(Test conditions)
Tensile elongation and tensile strength were measured according to JIS K7161 using an Instron precision universal testing machine “INSTRON 5582 type”.

8)強度
低分子量エポキシ樹脂:6)の曲げ試験において、曲げ弾性率が2000MPa以上であり、かつ曲げ強度が70MPa以上であるものを合格とし、これに該当しないものを不合格とした。
高分子量エポキシ樹脂:7)の引張試験において、引張強度が40MPa以上であるものを合格とし、引張強度が40MPa未満であるものを不合格とした。
8) Strength Low molecular weight epoxy resin: In the bending test of 6), those having a flexural modulus of 2000 MPa or more and a bending strength of 70 MPa or more were accepted, and those not corresponding thereto were rejected.
In the tensile test of high molecular weight epoxy resin: 7), those having a tensile strength of 40 MPa or more were accepted, and those having a tensile strength of less than 40 MPa were rejected.

9)可撓性
低分子量エポキシ樹脂:6)の曲げ試験において、試験片が折れなかったものを合格、折れたものを不合格とした。
高分子量エポキシ樹脂:7)の引張試験において、試験片の引張伸びが6%以上であり、かつ引張強度が30MPa以上となったものを合格とし、これに該当しないものを不合格とした。
9) Flexibility Low molecular weight epoxy resin: In the bending test of 6), the test piece was not broken, and the broken one was rejected.
In a tensile test of high molecular weight epoxy resin: 7), a test piece having a tensile elongation of 6% or more and a tensile strength of 30 MPa or more was regarded as acceptable, and a material not corresponding to this was regarded as unacceptable.

[原料]
以下の実施例、比較例において用いた原料、触媒、溶媒及び溶剤は以下の通りである。
[material]
The raw materials, catalysts, solvents and solvents used in the following examples and comparative examples are as follows.

<2官能エポキシ樹脂>
(A−1):1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル(三菱化学(株)製 商品名「YED216D」、エポキシ当量116g/当量、m≒0.01)
<Bifunctional epoxy resin>
(A-1): 1,6-hexanediol diglycidyl ether (trade name “YED216D” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent 116 g / equivalent, m≈0.01)

<二価の水酸基含有化合物>
(B−1):1,1−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)シクロドデカン(水酸基当量190g/当量)
(B−2):1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)シクロドデカン(水酸基当量176g/当量)
(B−3):9,9−ビス(2−メチル−4−ヒドロキシフェニル)フルオレン(本州化学工業(株)製 商品名「BisOC−FL」、水酸基当量189g/当量)
(B−4):4,4’−(3,3,5−トリメチルシクロヘキシリデン)ビスフェノール(本州化学工業(株)製 商品名「BisP−TMC」、水酸基当量155g/当量)
(B−5):(4,4’−シクロヘキシリデンビスフェノール(本州化学工業(株)製 商品名「Bis−Z」、水酸基当量134g/当量)
(B−6):4,4’−(1−α−メチル−ベンジリデン)ビスフェノール(本州化学工業(株)製 商品名「BisP−AP」、水酸基当量145g/当量)
(B−7):ビスフェノールF(水酸基当量100g/当量)
(B−8):ビスフェノールA(水酸基当量114g/当量)
<Divalent hydroxyl group-containing compound>
(B-1): 1,1-bis- (4-hydroxy-3-methylphenyl) cyclododecane (hydroxyl equivalent: 190 g / equivalent)
(B-2): 1,1-bis (4-hydroxyphenyl) cyclododecane (hydroxyl equivalent: 176 g / equivalent)
(B-3): 9,9-bis (2-methyl-4-hydroxyphenyl) fluorene (trade name “BisOC-FL” manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd., hydroxyl equivalent 189 g / equivalent)
(B-4): 4,4 ′-(3,3,5-trimethylcyclohexylidene) bisphenol (trade name “BisP-TMC” manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd., hydroxyl equivalent 155 g / equivalent)
(B-5): (4,4′-cyclohexylidenebisphenol (trade name “Bis-Z” manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd., hydroxyl group equivalent 134 g / equivalent)
(B-6): 4,4 ′-(1-α-methyl-benzylidene) bisphenol (trade name “BisP-AP” manufactured by Honshu Chemical Industry Co., Ltd., hydroxyl equivalent 145 g / equivalent)
(B-7): Bisphenol F (hydroxyl equivalent 100 g / equivalent)
(B-8): Bisphenol A (hydroxyl group equivalent 114 g / equivalent)

Figure 2014196431
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<触媒>
(C−1):エチルトリフェニルホスフォニウムアイオダイド 30重量%メチルセロソルブ溶液
(C−2):トリフェニルホスフィン 20重量%MEK溶液
(C−3):テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド 27重量%水溶液
<Catalyst>
(C-1): Ethyltriphenylphosphonium iodide 30 wt% methyl cellosolve solution (C-2): Triphenylphosphine 20 wt% MEK solution (C-3): Tetramethylammonium hydroxide 27 wt% aqueous solution

<溶媒(反応用)及び溶剤(希釈用)>
(S−1):シクロヘキサノン
(S−2):メチルエチルケトン
<Solvent (for reaction) and solvent (for dilution)>
(S-1): Cyclohexanone (S-2): Methyl ethyl ketone

<その他のエポキシ樹脂>
(D−1):ビスフェノールAノボラック型多官能エポキシ樹脂(三菱化学(株)製 商品名「157S70」)
(D−2):ビスフェノールアセトフェノンと3,3’,5,5’−テトラメチルビフェノールジグリシジルエーテルとを反応させて得られたエポキシ樹脂 (エポキシ当量12,000g/当量、重量平均分子量36,000) 30重量%MEK・シクロヘキサノン混合溶液(MEKとシクロヘキサノンの重量比1:1)
(D−3):ビスフェノールAノボラック型多官能エポキシ樹脂 80重量%MEK溶液(三菱化学(株)製 商品名「157S65B80」)
<Other epoxy resins>
(D-1): Bisphenol A novolak type polyfunctional epoxy resin (trade name “157S70” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
(D-2): Epoxy resin obtained by reacting bisphenol acetophenone and 3,3 ′, 5,5′-tetramethylbiphenol diglycidyl ether (epoxy equivalent 12,000 g / equivalent, weight average molecular weight 36,000 ) 30% by weight MEK / cyclohexanone mixed solution (weight ratio of MEK to cyclohexanone 1: 1)
(D-3): Bisphenol A novolac type polyfunctional epoxy resin 80 wt% MEK solution (trade name “157S65B80” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)

<硬化剤>
(E−1):ビスフェノールAノボラック樹脂(三菱化学(株)製 商品名「YLH129」)
(E−2):2−エチル−4(5)−メチルイミダゾール(三菱化学(株)製 商品名「EMI−24」) 20重量%MEK溶液
<Curing agent>
(E-1): Bisphenol A novolak resin (trade name “YLH129” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
(E-2): 2-ethyl-4 (5) -methylimidazole (trade name “EMI-24” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 20% by weight MEK solution

[低分子量エポキシ樹脂の製造・評価]
<実施例1−1〜1−6及び比較例1−1、1−2>
表−1に示した配合で2官能エポキシ樹脂、二価の水酸基含有化合物、触媒及び溶媒(予め触媒の溶液として使用)を撹拌機付き耐圧反応容器に入れ、窒素ガス雰囲気下、16
0℃で5時間反応を行った後、得られた樹脂について分析を行った。結果を表−1に示す。
[Production and evaluation of low molecular weight epoxy resins]
<Examples 1-1 to 1-6 and Comparative Examples 1-1 and 1-2>
A bifunctional epoxy resin, a divalent hydroxyl group-containing compound, a catalyst and a solvent (preliminarily used as a catalyst solution) were placed in a pressure-resistant reaction vessel equipped with a stirrer with the composition shown in Table 1,
After reacting at 0 ° C. for 5 hours, the obtained resin was analyzed. The results are shown in Table-1.

Figure 2014196431
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<実施例2−1〜2−6及び比較例2−1〜2−3>
表−2に示した配合で実施例1−1〜1−6及び比較例1−1、1−2のそれぞれで得られたエポキシ樹脂、その他のエポキシ樹脂、硬化剤を配合し、よく撹拌してエポキシ樹
脂組成物を得た。これらのエポキシ樹脂組成物について、150℃で1時間加熱し、更にその後180℃で1時間加熱することにより硬化させ、エポキシ樹脂硬化物を得た。これらのエポキシ樹脂硬化物について、前述の方法によりガラス転移温度(Tg)測定、吸水率測定及び曲げ試験を行った。結果を表−2に示す。
<Examples 2-1 to 2-6 and Comparative Examples 2-1 to 2-3>
The epoxy resin obtained in each of Examples 1-1 to 1-6 and Comparative Examples 1-1 and 1-2, the other epoxy resin, and the curing agent were blended with the formulation shown in Table 2, and stirred well. Thus, an epoxy resin composition was obtained. These epoxy resin compositions were cured by heating at 150 ° C. for 1 hour and then by heating at 180 ° C. for 1 hour to obtain a cured epoxy resin. About these epoxy resin hardened | cured materials, the glass transition temperature (Tg) measurement, the water absorption rate measurement, and the bending test were done by the above-mentioned method. The results are shown in Table-2.

Figure 2014196431
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[評価結果(低分子量エポキシ樹脂)]
表−2の結果より、本発明のエポキシ樹脂を用いて得られた実施例2−1〜2−6の硬化物は、比較例2−1〜2−3のものと比較して、可撓性、低吸水性及び強度のバランスに優れたものであることがわかる。
[Evaluation results (low molecular weight epoxy resin)]
From the results of Table 2, the cured products of Examples 2-1 to 2-6 obtained using the epoxy resin of the present invention are more flexible than those of Comparative Examples 2-1 to 2-3. It can be seen that it has an excellent balance of properties, low water absorption and strength.

[高分子量エポキシ樹脂及びエポキシ樹脂組成物の製造・評価]
<実施例3−1、3−2及び比較例3−1>
表−3に示した配合で2官能エポキシ樹脂、二価の水酸基含有化合物、触媒及び溶媒を撹拌機付き耐圧反応容器に入れ、窒素ガス雰囲気下、160℃で5時間反応を行った後、溶剤を加えて固形分濃度を調整した。反応生成物から定法により溶剤を除去した後、得られたエポキシ樹脂について分析を行った。結果を表−3に示す。
[Production and evaluation of high molecular weight epoxy resins and epoxy resin compositions]
<Examples 3-1, 3-2 and Comparative Example 3-1>
A bifunctional epoxy resin, a divalent hydroxyl group-containing compound, a catalyst and a solvent having the composition shown in Table 3 were placed in a pressure-resistant reaction vessel equipped with a stirrer and reacted at 160 ° C. for 5 hours in a nitrogen gas atmosphere. Was added to adjust the solid content concentration. After removing the solvent from the reaction product by a conventional method, the obtained epoxy resin was analyzed. The results are shown in Table-3.

Figure 2014196431
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<実施例4−1、4−2及び比較例4−1、4−2>
表−4に示した配合で実施例3−1、3−2及び比較例3−1のそれぞれで得られたエポキシ樹脂、その他のエポキシ樹脂、硬化剤を配合し、よく撹拌してエポキシ樹脂組成物を得た。これらのエポキシ樹脂組成物について、セパレータ(シリコーン処理したポリエチレンテレフタレートフィルム)にアプリケーターで塗布し、150℃で1時間加熱し、更にその後180℃で1時間加熱することにより、硬化させ、エポキシ樹脂硬化物のフィルムを得た。これらのエポキシ樹脂硬化物のフィルムについて、前述の方法によりガラス転移温度(Tg)測定、吸水率測定及び引張試験を行なった。結果を表−4に示す。
<Examples 4-1, 4-2 and Comparative Examples 4-1, 4-2>
The epoxy resin obtained in each of Examples 3-1 and 3-2 and Comparative Example 3-1 with the formulation shown in Table 4 was blended, and the epoxy resin composition was mixed well and stirred. I got a thing. These epoxy resin compositions are applied to a separator (silicone-treated polyethylene terephthalate film) with an applicator, heated at 150 ° C. for 1 hour, and further heated at 180 ° C. for 1 hour to be cured, and cured epoxy resin. Film was obtained. About the film of these epoxy resin hardened | cured materials, the glass transition temperature (Tg) measurement, the water absorption rate measurement, and the tension test were done by the above-mentioned method. The results are shown in Table-4.

Figure 2014196431
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[評価結果(高分子量エポキシ樹脂)]
表−4の結果より、本発明のエポキシ樹脂を用いて得られた実施例4−1及び4−2の硬化物は、比較例4−1及び4−2のものと比較して可撓性、低吸水性及び強度のバランスに優れたものであることがわかる。
[Evaluation results (high molecular weight epoxy resin)]
From the results in Table 4, the cured products of Examples 4-1 and 4-2 obtained using the epoxy resin of the present invention are more flexible than those of Comparative Examples 4-1 and 4-2. It can be seen that it has an excellent balance between low water absorption and strength.

本発明のエポキシ樹脂及びそれを含むエポキシ樹脂組成物は、注形、フィルム成形・塗布等のプロセスに適用するのに十分な可撓性を有し、かつ低吸水性と強度とのバランスに優れるものであり、接着剤、塗料、光学部材、土木建築用材料、電気・電子部品の絶縁材料等、様々な分野に適用可能である。特に、電気・電子分野における絶縁注型材料、積層材料、封止材料等として有用である。本発明のエポキシ樹脂及びそれを含むエポキシ樹脂組成物の用途の一例としては、半導体封止材料、アンダーフィル材料、3D−LSI用インターチップフィル、ダイボンディング材、フィルム状接着剤、液状接着剤等の接着剤、多層プリント配線基板、キャパシタ等の電気・電子回路用積層板、絶縁シート、プリプレグ、放熱基板、あるいは電気・電子用途での接着改良剤や可撓性付与材などが挙げられるが、何らこれらに限定されるものではない。   The epoxy resin of the present invention and the epoxy resin composition containing the epoxy resin have sufficient flexibility to be applied to processes such as casting and film forming / coating, and have an excellent balance between low water absorption and strength. It can be applied to various fields such as adhesives, paints, optical members, civil engineering materials, and insulating materials for electrical and electronic parts. In particular, it is useful as an insulating casting material, laminated material, sealing material, etc. in the electric / electronic field. Examples of the use of the epoxy resin of the present invention and the epoxy resin composition containing the epoxy resin include semiconductor sealing materials, underfill materials, 3D-LSI interchip fills, die bonding materials, film adhesives, liquid adhesives, etc. Adhesives, multilayer printed wiring boards, laminates for electrical and electronic circuits such as capacitors, insulating sheets, prepregs, heat dissipation boards, or adhesion improvers and flexibility imparting materials for electrical and electronic applications, etc. It is not limited to these at all.

Claims (17)

下記式(1)で表されるエポキシ樹脂。
Figure 2014196431
(上記式(1)中、Aは上記式(2)で表される化学構造及び式(3)で表される化学構造を少なくとも含み、Rは水素原子又は上記式(4)で表される基であり、nは1以上250以下の数である。上記式(3)中、Xは直接結合、炭素数1〜20の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−及び−CO−から選ばれる基であり、R〜Rは互いに異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜12の炭化水素基又はハロゲン元素から選ばれる基であり、式(3)で表される化学構造に含まれる総炭素原子数は16以上50以下である。)
An epoxy resin represented by the following formula (1).
Figure 2014196431
(In the above formula (1), A includes at least the chemical structure represented by the above formula (2) and the chemical structure represented by the formula (3), and R is represented by a hydrogen atom or the above formula (4). N is a number from 1 to 250. In the above formula (3), X is a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, -O-, -S-, -SO. 2 and -CO-, and R 1 to R 8 may be different from each other, and are a group selected from a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogen element. The total number of carbon atoms contained in the chemical structure represented by 3) is 16 or more and 50 or less.)
前記式(1)中、前記式(2)で表される化学構造が、A全体のモル数に対して1〜99モル%含まれる、請求項1に記載のエポキシ樹脂。   2. The epoxy resin according to claim 1, wherein the chemical structure represented by the formula (2) is contained in the formula (1) in an amount of 1 to 99 mol% based on the total number of moles of A. 前記式(1)中のAとして、前記式(2)で表される化学構造と前記式(3)で表される化学構造とのモル比が1/99〜99/1である、請求項1又は2に記載のエポキシ樹脂。   The molar ratio between the chemical structure represented by the formula (2) and the chemical structure represented by the formula (3) is 1/99 to 99/1 as A in the formula (1). The epoxy resin according to 1 or 2. 下記式(5)で表される2官能エポキシ樹脂と、下記式(6)で表される二価の水酸基含有化合物とを反応させて得られることを特徴とするエポキシ樹脂。
Figure 2014196431
(上記式(5)及び(6)中、A’は上記式(2’)で表される化学構造及び上記式(3’)で表される化学構造を少なくとも有し、式(5)中、mは繰り返し数の平均値であり0以上6以下である。上記式(3’)中、X’は直接結合、炭素数1〜20の2価の炭化水素基、−O−、−S−、−SO−及び−CO−から選ばれる基であり、R’〜R’は互いに異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜12の炭化水素基又はハロゲン元素から選ばれる基であり、式(3’)で表される化学構造に含まれる総炭素原子数は16以上50以下である。)
An epoxy resin obtained by reacting a bifunctional epoxy resin represented by the following formula (5) with a divalent hydroxyl group-containing compound represented by the following formula (6).
Figure 2014196431
(In the above formulas (5) and (6), A ′ has at least the chemical structure represented by the above formula (2 ′) and the chemical structure represented by the above formula (3 ′). , M is an average value of the number of repetitions and is 0 or more and 6. or less In the above formula (3 ′), X ′ is a direct bond, a divalent hydrocarbon group having 1 to 20 carbon atoms, —O—, —S. —, —SO 2 — and —CO—, R ′ 1 to R ′ 8 may be different from each other, and are selected from a hydrogen atom, a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, or a halogen element. And the total number of carbon atoms contained in the chemical structure represented by the formula (3 ′) is 16 or more and 50 or less.)
前記式(5)及び(6)中、前記式(2’)で表される化学構造が、A’全体のモル数に対して1〜99モル%含まれる、請求項4に記載のエポキシ樹脂。   5. The epoxy resin according to claim 4, wherein in the formulas (5) and (6), the chemical structure represented by the formula (2 ′) is contained in an amount of 1 to 99 mol% based on the total number of moles of A ′. . 前記式(5)及び前記式(6)中のA’として、前記式(2’)で表される化学構造と前記式(3’)で表される化学構造とのモル比が1/99〜99/1である、請求項4又は5に記載のエポキシ樹脂。   As A ′ in the formula (5) and the formula (6), the molar ratio between the chemical structure represented by the formula (2 ′) and the chemical structure represented by the formula (3 ′) is 1/99. The epoxy resin of Claim 4 or 5 which is -99/1. エポキシ当量が200g/当量以上30,000g/当量以下である、請求項1乃至6のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂。   The epoxy resin according to any one of claims 1 to 6, wherein an epoxy equivalent is 200 g / equivalent or more and 30,000 g / equivalent or less. 重量平均分子量が1,000〜100,000である、請求項1乃至7のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂。   The epoxy resin according to any one of claims 1 to 7, wherein the weight average molecular weight is 1,000 to 100,000. 請求項1乃至8のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂と、硬化剤とを含む、エポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition containing the epoxy resin of any one of Claims 1 thru | or 8, and a hardening | curing agent. 前記エポキシ樹脂100重量部に対し、硬化剤を0.01〜100重量部含む、請求項9に記載のエポキシ樹脂組成物。   The epoxy resin composition of Claim 9 which contains 0.01-100 weight part of hardening | curing agents with respect to 100 weight part of said epoxy resins. 前記硬化剤が、フェノール系硬化剤、アミド系硬化剤、アミン系硬化剤、イミダゾール類、酸無水物系硬化剤、有機ホスフィン類からなる群のうちの少なくとも1つである、請求項9又は10に記載のエポキシ樹脂組成物。   The curing agent is at least one selected from the group consisting of a phenolic curing agent, an amide curing agent, an amine curing agent, an imidazole, an acid anhydride curing agent, and an organic phosphine. The epoxy resin composition described in 1. 請求項9乃至11のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物からなる電気・電子回路用封止材。   The sealing material for electric / electronic circuits which consists of an epoxy resin composition of any one of Claims 9 thru | or 11. 請求項9乃至11のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物からなる電気・電子回路用積層板。   The laminated board for electric / electronic circuits which consists of an epoxy resin composition of any one of Claims 9 thru | or 11. 請求項9乃至11のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物からなる光学部材。 The optical member which consists of an epoxy resin composition of any one of Claims 9 thru | or 11. 請求項9乃至11のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物からなる接着剤。   An adhesive comprising the epoxy resin composition according to any one of claims 9 to 11. 請求項9乃至11のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物からなる塗料。   The coating material which consists of an epoxy resin composition of any one of Claims 9 thru | or 11. 請求項9乃至11のいずれか1項に記載のエポキシ樹脂組成物を硬化してなる硬化物。   Hardened | cured material formed by hardening | curing the epoxy resin composition of any one of Claims 9 thru | or 11.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2016125007A (en) * 2015-01-06 2016-07-11 三菱化学株式会社 Epoxy resin composition, cured product, electrical component and electronic component
JP2017214529A (en) * 2016-06-02 2017-12-07 三菱ケミカル株式会社 Epoxy resin, epoxy resin composition, and cured product
JP2018502753A (en) * 2014-11-03 2018-02-01 サイテック インダストリーズ インコーポレイテッド Bonding composite materials
JP2018016786A (en) * 2016-07-13 2018-02-01 Jnc株式会社 Thermosetting composition

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001100224A (en) * 1999-09-28 2001-04-13 Mitsui Chemicals Inc Sealing material composition for liquid crystal display cell
JP2001310927A (en) * 2000-04-28 2001-11-06 Nippon Shokubai Co Ltd Carboxylic acid having unsaturated group
JP2005320477A (en) * 2004-05-11 2005-11-17 Japan Epoxy Resin Kk Highly flexible resin and curable resin composition
JP2007023134A (en) * 2005-07-14 2007-02-01 Sakamoto Yakuhin Kogyo Co Ltd Epoxy resin composition
JP2007284578A (en) * 2006-04-17 2007-11-01 Adeka Corp Epoxy resin, alkali-developable resin composition, and alkali developable photosensitive resin composition
JP2011148878A (en) * 2010-01-20 2011-08-04 Daikin Industries Ltd Light-resistant sealing resin composition
JP2012077257A (en) * 2010-10-06 2012-04-19 Daicel Corp Method for producing cured product, and cured product
JP2013033207A (en) * 2011-06-29 2013-02-14 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Photosensitive resin composition and cured product of the same, and production method of photosensitive resin
JP2014208814A (en) * 2013-03-28 2014-11-06 三菱化学株式会社 Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001100224A (en) * 1999-09-28 2001-04-13 Mitsui Chemicals Inc Sealing material composition for liquid crystal display cell
JP2001310927A (en) * 2000-04-28 2001-11-06 Nippon Shokubai Co Ltd Carboxylic acid having unsaturated group
JP2005320477A (en) * 2004-05-11 2005-11-17 Japan Epoxy Resin Kk Highly flexible resin and curable resin composition
JP2007023134A (en) * 2005-07-14 2007-02-01 Sakamoto Yakuhin Kogyo Co Ltd Epoxy resin composition
JP2007284578A (en) * 2006-04-17 2007-11-01 Adeka Corp Epoxy resin, alkali-developable resin composition, and alkali developable photosensitive resin composition
JP2011148878A (en) * 2010-01-20 2011-08-04 Daikin Industries Ltd Light-resistant sealing resin composition
JP2012077257A (en) * 2010-10-06 2012-04-19 Daicel Corp Method for producing cured product, and cured product
JP2013033207A (en) * 2011-06-29 2013-02-14 Toyo Ink Sc Holdings Co Ltd Photosensitive resin composition and cured product of the same, and production method of photosensitive resin
JP2014208814A (en) * 2013-03-28 2014-11-06 三菱化学株式会社 Epoxy resin, epoxy resin composition and cured product

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2018502753A (en) * 2014-11-03 2018-02-01 サイテック インダストリーズ インコーポレイテッド Bonding composite materials
JP2016125007A (en) * 2015-01-06 2016-07-11 三菱化学株式会社 Epoxy resin composition, cured product, electrical component and electronic component
JP2017214529A (en) * 2016-06-02 2017-12-07 三菱ケミカル株式会社 Epoxy resin, epoxy resin composition, and cured product
JP2018016786A (en) * 2016-07-13 2018-02-01 Jnc株式会社 Thermosetting composition

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