JP2014021522A - Touch panel substrate, and display device - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a touch panel substrate and a display device in which even when a mesh electrode, in which an opaque reflective conductive layer such as metal is formed in a mesh state is used as a position-detecting electrode, the mesh electrode is inconspicuous.SOLUTION: A touch panel substrate 10 is configured so that: on one surface of a translucent substrate 1, a position detecting electrode 2 including a reflective conductive layer 3, in which the layer itself is opaque and exhibits visible light reflectance; in a part of a mesh electrode 2M, in which at least a reflective conductive layer 3 is formed in a mesh state, a low reflection layer 5 whose visible light reflection is lower than that of the reflective conductive layer 3, such as a color of black, is provided so that it superimposes on the reflective conductive layer 3 and that it is located nearer to an observer, who is a touch panel operator as well, than to the reflective conductive layer 3 in the thickness direction. An electrode other than the mesh electrode 2M, such as a bridge connection 2B of an intersection part 2C in a bridge structure, may be configured in the same way. A display device uses the touch panel substrate.

Description

本発明は、タッチパネル基板、及び表示装置に関する。特に、位置検知用の電極に金属など不透明な反射性導電性層をメッシュ状に形成したメッシュ電極を用いても、メッシュ電極が目立ち難いタッチパネル基板と、これを備えた表示装置に関する。   The present invention relates to a touch panel substrate and a display device. In particular, the present invention relates to a touch panel substrate in which a mesh electrode is hardly noticeable even when a mesh electrode in which an opaque reflective conductive layer such as metal is formed in a mesh shape is used as a position detection electrode, and a display device including the touch panel substrate.

近年、スマートフォン、タブレットPC(パーソナルコンピュータ)など各種表示装置において、表示パネルと組み合わせて使用される位置入力装置として、タッチパネルが急速に普及してきている。タッチパネルは、以前から、電磁誘導式、抵抗膜式など各種方式のものが知られ、各種用途で使用されてきたが、最近その中でも特に注目されてきているのは、マルチタッチ(多点同時入力)が可能な静電容量式のタッチパネルである。   In recent years, touch panels have been rapidly spread as position input devices used in combination with display panels in various display devices such as smartphones and tablet PCs (personal computers). Various types of touch panels, such as electromagnetic induction type and resistive film type, have been known for a long time, and they have been used for various purposes. Among them, multi-touch (multi-point simultaneous input) has attracted particular attention recently. This is a capacitive touch panel capable of

図16(a)は、従来のタッチパネル基板20を含むタッチパネル30が、液晶表示パネルやELパネル(電解発光パネル)などの画像を表示する表示パネル40と、カバーガラスなどからなる表示装置用前面保護板50との間に配置された構成の、従来の表示装置200の一例を模式的に示す分解平面図である。同図に示すタッチパネル基板20は、位置検知用の電極が、静電容量式の場合である。
図16(b)及び図16(c)の部分拡大平面図は、静電容量方式における電極のパターン形状の一例を模式的に示す図である。図16(d)は、透明電極要素に注目した部分拡大平面図であり、図16(e)は、図16(d)中の透明電極要素間の接続部に注目した部分拡大平面図である。
図17は、図16(e)中、C−C線での接続部周辺の部分拡大断面図である。
16A shows a front panel protection for a display device in which a touch panel 30 including a conventional touch panel substrate 20 includes a display panel 40 for displaying an image such as a liquid crystal display panel or an EL panel (electrolytic light emitting panel), and a cover glass. FIG. 10 is an exploded plan view schematically showing an example of a conventional display device 200 having a configuration arranged between a plate 50 and the plate 50. The touch panel substrate 20 shown in the figure is a case where the position detection electrode is a capacitance type.
The partial enlarged plan views of FIGS. 16B and 16C are diagrams schematically showing an example of the electrode pattern shape in the capacitance method. FIG. 16D is a partially enlarged plan view paying attention to the transparent electrode element, and FIG. 16E is a partially enlarged plan view paying attention to the connection part between the transparent electrode elements in FIG. .
FIG. 17 is a partially enlarged cross-sectional view of the periphery of the connection portion taken along line CC in FIG.

一般に静電容量式タッチパネルでは、図16(b)〜図16(e)に例示するように、位置検知用の電極2として、図面で左右方向であるX方向に延在する複数の第1電極2aと、X方向とは直交し図面で上下方向であるY方向に延在する複数の第2電極2bとを有する。X方向に延在する複数の第1電極2aはY方向に配列し、Y方向に延在する複数の第2電極2bはX方向に配列している。ここでは、X方向に延在する電極を第1電極2aと呼び、Y方向に延在する電極を第2電極2bと呼ぶことにする。
静電容量式タッチパネルとしては、第1電極2a及び第2電極2bは、それぞれが別の透光性基板に形成される形態もあるが、同一基板、それも、同一基板の同一面上に形成される形態とすることで、互いの相対的位置精度を向上できる利点がある。
同図に例示した従来のタッチパネル基板20も、第1電極2a及び第2電極2bを、一つの透光性基板の同一面上に形成した形態である。
In general, in a capacitive touch panel, as illustrated in FIGS. 16B to 16E, a plurality of first electrodes extending in the X direction, which is the left-right direction in the drawing, as the position detection electrode 2. 2a and a plurality of second electrodes 2b which are orthogonal to the X direction and extend in the Y direction which is the vertical direction in the drawing. The plurality of first electrodes 2a extending in the X direction are arranged in the Y direction, and the plurality of second electrodes 2b extending in the Y direction are arranged in the X direction. Here, an electrode extending in the X direction is referred to as a first electrode 2a, and an electrode extending in the Y direction is referred to as a second electrode 2b.
As a capacitive touch panel, the first electrode 2a and the second electrode 2b may be formed on different translucent substrates, but the same substrate is also formed on the same surface of the same substrate. By adopting such a configuration, there is an advantage that the relative positional accuracy of each other can be improved.
The conventional touch panel substrate 20 illustrated in the figure also has a form in which the first electrode 2a and the second electrode 2b are formed on the same surface of one translucent substrate.

第1電極2a及び第2電極2bのパターンとしては、投影型静電容量方式では各種パターンが知られているが、同図に例示するパターンでは、一つの第1電極2aは、図16(b)に示すように、菱形形状の複数の第1透明電極要素2aEと、互いに隣接する第1透明電極要素2aE同士を接続し第1透明電極要素2aEに比べて面積が小さい第1接続部2aCと、不図示の、位置検知領域の外周部まで延びて配線7に第1透明電極要素2aEを電気的に接続する為の取出し部と、から構成される。同様に、一つの第2電極2bも、図16(c)に示すように、菱形形状の複数の第2透明電極要素2bEと、互いに隣接する第2透明電極要素2bE同士を接続し第1透明電極要素2aEに比べて面積が小さい第2接続部2bCと、第2透明電極要素2bEを配線7に電気的に接続する不図示の取出し部と、から構成される。   As the pattern of the first electrode 2a and the second electrode 2b, various patterns are known in the projection capacitive method, but in the pattern illustrated in FIG. ), A plurality of rhombus-shaped first transparent electrode elements 2aE and first transparent electrode elements 2aE adjacent to each other and having a smaller area than the first transparent electrode element 2aE, And an unillustrated take-out portion that extends to the outer periphery of the position detection region and electrically connects the first transparent electrode element 2aE to the wiring 7. Similarly, as shown in FIG. 16 (c), one second electrode 2b also connects a plurality of rhombus-shaped second transparent electrode elements 2bE and the second transparent electrode elements 2bE adjacent to each other to form a first transparent electrode. The second connecting portion 2bC has a smaller area than the electrode element 2aE, and a take-out portion (not shown) that electrically connects the second transparent electrode element 2bE to the wiring 7.

延在方向が互いに交差する第1電極2a及び第2電極2bは、第1接続部2aCと第2接続部2bCとが交差する交差部2Cの部分で、間に絶縁層4を介するブリッジ構造によって、互いに絶縁されて形成されている。   The first electrode 2a and the second electrode 2b whose extending directions intersect each other are portions of the intersecting portion 2C where the first connecting portion 2aC and the second connecting portion 2bC intersect with each other by a bridge structure with the insulating layer 4 interposed therebetween. Are formed insulated from each other.

第1電極2a及び第2電極2bは、通常は、ITO(Indium Tin Oxide;インジウム錫酸化物)などの層自体が透明な透明導電体薄膜でパターン形成されている。
しかし、タッチパネルの面積が広くなる程、透明電極にはより小さい面積抵抗率が求められるが、ITOなどの透明導電体薄膜では面積抵抗率を小さくすると透明性が低下する問題がある。
The first electrode 2a and the second electrode 2b are usually patterned by a transparent conductive thin film whose layer itself such as ITO (Indium Tin Oxide) is transparent.
However, as the area of the touch panel increases, the transparent electrode is required to have a smaller area resistivity. However, a transparent conductor thin film such as ITO has a problem in that the transparency decreases when the area resistivity is reduced.

この問題を解決できる技術として、金属などからなる層自体が不透明な導電性層をメッシュ状に形成することで透明性を確保した透明電極が提案されている(特許文献1)。
こうした金属を用いた導電性層は、金属特有の反射性を示し、可視光を反射する反射性導電性層と言えるものである。
As a technique that can solve this problem, a transparent electrode has been proposed in which transparency is secured by forming a conductive layer made of a metal or the like that is opaque in a mesh shape (Patent Document 1).
Such a conductive layer using a metal exhibits reflectivity specific to the metal and can be said to be a reflective conductive layer that reflects visible light.

図16のタッチパネル基板10では、図16(d)及び図16(e)に示すように、第1透明電極要素2aE及び第2透明電極要素2bEは、金属などからなる層自体が不透明で可視光を反射する反射性導電性層3が、メッシュ状に形成されることで透明性を確保したメッシュ電極2Mから構成されている。   In the touch panel substrate 10 of FIG. 16, as shown in FIG. 16D and FIG. 16E, the first transparent electrode element 2aE and the second transparent electrode element 2bE have a layer made of metal or the like which is opaque and has visible light. The reflective conductive layer 3 that reflects light is formed of a mesh electrode 2M that is formed in a mesh shape to ensure transparency.

特開2010−108878号公報JP 2010-108878 A

しかしながら、図17の断面図で示すように、メッシュ電極2Mが、反射性導電性層3によって形成されていると、ITOなどの透明導電体薄膜とは異なり、光Lが当たると反射するために、目立ってしまうことがある。反射性導電性層3が目立つ現象は、タッチパネルのサイズが小さくなる程、これを透して表示パネルを見る観察者V、乃至はタッチパネルの操作者の目からの距離が近くなる為に、顕著になる傾向がある。   However, as shown in the cross-sectional view of FIG. 17, when the mesh electrode 2M is formed of the reflective conductive layer 3, unlike the transparent conductive thin film such as ITO, the mesh electrode 2M is reflected when irradiated with the light L. , May stand out. The phenomenon in which the reflective conductive layer 3 is conspicuous is conspicuous because the distance from the observer V who sees the display panel through the display panel or the touch panel operator becomes smaller as the size of the touch panel becomes smaller. Tend to be.

本発明の課題は、位置検知用の電極に金属など不透明な反射性導電性層をメッシュ状に形成したメッシュ電極を用いても、メッシュ電極が目立ち難いタッチパネル基板を提供することである。また、これを備えた表示装置を提供することである。   An object of the present invention is to provide a touch panel substrate in which a mesh electrode is not noticeable even when a mesh electrode in which an opaque reflective conductive layer such as a metal is formed in a mesh shape is used as a position detection electrode. Moreover, it is providing a display apparatus provided with this.

本発明では、次の様な構成のタッチパネル基板、及び表示装置とした。
(1)第1面とこの第1面とは反対側の第2面とを有する透光性基板と、
前記透光性基板の前記第1面及び第2面のいずれか一方の面上に形成された位置検知用の電極とを有し、
前記電極は、層自体が不透明で可視光反射性を示す反射性導電性層を含み、
前記反射性導電性層はメッシュ状に形成されたメッシュ電極を含み、
さらに、少なくとも前記メッシュ電極の部分において、前記透光性基板の前記第1面及び第2面の少なくとも1面上であって、厚み方向において、前記反射性導電性層よりも前記透光性基板からの距離が遠い側、又は前記反射性導電性層に対して前記透光性基板側に形成され、前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときの外輪郭形状が、前記反射性導電性層の外輪郭形状と重なり合う部分を有し、前記反射性導電性層よりも可視光反射率が低い低反射層と、
を有する、タッチパネル基板。
(2)前記電極が形成されている位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、加飾部を有し、
前記低反射層が前記加飾部を構成する層と同一材料で形成されている、前記(1)のタッチパネル基板。
(3)前記電極が形成されている位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、配線を有し、
前記反射性導電性層が前記配線と同一材料で形成されている、前記(1)のタッチパネル基板。
(4)表示パネルと、この表示パネルの観察者側に配置された前記(1)〜(3)のいずれかのタッチパネル基板と、を含む、表示装置。
In the present invention, a touch panel substrate and a display device having the following configurations are provided.
(1) a translucent substrate having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
An electrode for position detection formed on one of the first surface and the second surface of the translucent substrate;
The electrode includes a reflective conductive layer that is opaque in itself and exhibits visible light reflectivity,
The reflective conductive layer includes a mesh electrode formed in a mesh shape,
Further, at least in the mesh electrode portion, on the at least one of the first surface and the second surface of the translucent substrate and in the thickness direction, the translucent substrate is more than the reflective conductive layer. Is formed on the side of the transparent substrate with respect to the reflective conductive layer, the outer contour shape when observed from a direction perpendicular to the one surface of the transparent substrate. A low-reflection layer having a portion overlapping the outer contour shape of the reflective conductive layer, and having a lower visible light reflectance than the reflective conductive layer;
A touch panel substrate.
(2) The outer peripheral portion of the position detection region where the electrode is formed, and on the one surface of the translucent substrate, has a decorative portion,
The touch panel substrate according to (1), wherein the low reflective layer is formed of the same material as the layer constituting the decorative portion.
(3) On the one surface of the translucent substrate at the outer periphery of the position detection region where the electrode is formed,
The touch panel substrate according to (1), wherein the reflective conductive layer is formed of the same material as the wiring.
(4) A display device comprising: a display panel; and the touch panel substrate according to any one of (1) to (3) disposed on an observer side of the display panel.

本発明のタッチパネル基板によれば、位置検知用の電極に金属など不透明な反射性導電性層をメッシュ状に形成したメッシュ電極を用いても、メッシュ電極を目立ち難くすることができる。
本発明の表示装置によれば、それが備えるタッチパネル基板が、前記効果を有する。
According to the touch panel substrate of the present invention, even if a mesh electrode in which an opaque reflective conductive layer such as metal is formed in a mesh shape is used for the position detection electrode, the mesh electrode can be made inconspicuous.
According to the display device of the present invention, the touch panel substrate included therein has the above-described effect.

本発明によるタッチパネル基板の一実施形態(低反射層を交差部にも適用)の電極パターンを示す部分拡大平面図(a)及び(b)と、メッシュ電極を模式的に説明する部分拡大平面図(c)と、平面図中C−C線での部分拡大断面図(d)と、交差部周辺で説明する部分拡大平面図(e)。Partial enlarged plan views (a) and (b) showing an electrode pattern of an embodiment of a touch panel substrate according to the present invention (a low reflection layer is also applied to an intersection), and a partially enlarged plan view schematically illustrating a mesh electrode (C), The partial expanded sectional view in the CC line in a top view (d), and the partial enlarged plan view (e) demonstrated in a crossing periphery periphery. 図1のタッチパネル基板に対する各層の積層順序を説明する部分拡大平面図。The partial enlarged plan view explaining the lamination | stacking order of each layer with respect to the touchscreen board | substrate of FIG. 反射性導電性層に対する低反射層の面方向での寸法関係を説明する断面図。Sectional drawing explaining the dimensional relationship in the surface direction of the low reflection layer with respect to a reflective conductive layer. 本発明によるタッチパネル基板の別の実施形態(低反射層を交差部にも適用、ブリッジ逆構造)を交差部周辺で模式的に説明する部分拡大平面図(a)と、部分拡大断面図(b)。A partially enlarged plan view (a) schematically illustrating another embodiment of a touch panel substrate according to the present invention (applying a low reflection layer to an intersecting portion, bridge reverse structure) around the intersecting portion, and a partially enlarged sectional view (b) ). 本発明によるタッチパネル基板の別の実施形態(低反射層を交差部一部にも適用、メッシュ電極に透明導電性層を積層)を交差部周辺で模式的に説明する部分拡大平面図(a)と、部分拡大断面図(b)。Partially enlarged plan view schematically illustrating another embodiment of a touch panel substrate according to the present invention (a low reflection layer is also applied to a part of an intersection and a transparent conductive layer is laminated on a mesh electrode) around the intersection (a) And a partial enlarged sectional view (b). 図5(a)において、低反射層のパターン(a)と、透明導電性層のパターン(b)とを示す部分拡大平面図。FIG. 5A is a partial enlarged plan view showing a pattern (a) of a low reflection layer and a pattern (b) of a transparent conductive layer in FIG. 本発明によるタッチパネル基板の別の実施形態(メッシュ電極とブリッジ接続との導通部は除外した低反射層)を交差部周辺で模式的に説明する部分拡大平面図(a)と、部分拡大断面図(b)。Partial enlarged plan view (a) schematically illustrating another embodiment of the touch panel substrate according to the present invention (low reflection layer excluding the conductive portion between the mesh electrode and the bridge connection) around the intersection, and a partial enlarged cross-sectional view (B). 本発明によるタッチパネル基板の別の実施形態(低反射層を交差部一部にも適用、低反射層が絶縁層を兼用)を交差部周辺で模式的に説明する部分拡大平面図(a)と、部分拡大断面図(b)。Partially enlarged plan view (a) schematically illustrating another embodiment of the touch panel substrate according to the present invention (a low reflection layer is also applied to a part of the intersection, and the low reflection layer also serves as an insulating layer) around the intersection. The partial expanded sectional view (b). 本発明によるタッチパネル基板の別の実施形態(低反射層が加飾部と同一材料;前面保護板一体型タッチパネル基板)の全体を示す平面図(a)と、加飾部及び配線と、メッシュ電極2Mを説明する部分拡大断面図(b)。The top view (a) which shows another embodiment (a low reflective layer is the same material as a decorating part; front surface protection board integrated touch panel board), the decorating part, wiring, and a mesh electrode of another embodiment of the touchscreen board | substrate by this invention The partial expanded sectional view (b) explaining 2M. 本発明によるタッチパネル基板の別の実施形態(低反射層が加飾部構成層と同一材料;前面保護板一体型タッチパネル基板)の全体を示す平面図(a)と、赤外透過窓の部分を示す部分拡大断面図(b)。A plan view (a) showing the whole of another embodiment of the touch panel substrate according to the present invention (the low reflection layer is the same material as the decorative layer constituting layer; the front protective plate integrated touch panel substrate), and the infrared transmission window portion The partial expanded sectional view (b) shown. 変形形態として、反射性導電性層よりも後形成の低反射層を交差部周辺で模式的に説明する部分拡大平面図(a)と、部分拡大断面図(b)。As a modified embodiment, a partially enlarged plan view (a) and a partially enlarged sectional view (b) for schematically explaining a low reflective layer formed later than the reflective conductive layer around the intersection. 変形形態として、反射性導電性層に対する低反射層の厚み方向での位置関係を説明する断面図。Sectional drawing explaining the positional relationship in the thickness direction of the low reflective layer with respect to a reflective conductive layer as a deformation | transformation form. 変形形態として、透光性基板に両面形成の電極で両面形成の低反射層を模式的に説明する部分拡大断面図。The partial expanded sectional view which illustrates typically the low reflection layer of double-sided formation with the electrode of double-sided formation on the translucent board | substrate as a deformation | transformation form. 本発明による表示装置の一実施形態を説明する断面図。Sectional drawing explaining one Embodiment of the display apparatus by this invention. 本発明による表示装置の別の実施形態(前面保護板一体型タッチパネル基板)を説明する断面図。Sectional drawing explaining another embodiment (front surface protective plate integrated touch panel substrate) of the display apparatus by this invention. 従来のタッチパネル基板を用いたタッチパネル、表示パネル、及び表示装置用前面保護板を備える、従来の表示装置の一例を示す分解平面図(a)と、タッチパネルの電極パターンの一例を示す部分拡大平面図(b)及び(c)と、メッシュ電極の一例を示す部分拡大平面図(d)と、交差部周辺の一例を示す部分拡大平面図(e)。An exploded plan view (a) showing an example of a conventional display device including a touch panel using a conventional touch panel substrate, a display panel, and a front protective plate for the display device, and a partially enlarged plan view showing an example of an electrode pattern of the touch panel (B) And (c), The partial enlarged plan view (d) which shows an example of a mesh electrode, The partial enlarged plan view (e) which shows an example of an intersection part periphery. 図16(e)中、C−C線でのメッシュ電極及び交差部の部分拡大断面図。In FIG.16 (e), the mesh electrode in CC line and the partial expanded sectional view of a cross | intersection part.

以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、図面は概念図であり、説明上の都合に応じて適宜、構成要素の縮尺関係、縦横比等は誇張されていることがある。     Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings are conceptual diagrams, and the scale relations, aspect ratios, and the like of components may be exaggerated as appropriate for convenience of explanation.

〔A〕用語の定義:
以下に、本発明において用いる主要な用語について、その定義をここで説明しておく。
「表側」とは、タッチパネル基板10或いはその他の構成要素において、タッチパネル基板10を表示パネル40と組み合わせて使用したときに、表示パネル40から表示光が出光する側であり、表示パネル40の表示を観察する観察者の側を意味する。
同時に、「表側」とは、タッチパネル基板10或いはその他の構成要素において、タッチパネル基板10を用いたタッチパネル30を操作する操作者の側を意味する。
「裏側」とは、前記「表側」とは反対側を意味し、タッチパネル基板10或いはその他の構成要素において、表示パネル40の表示光が入光する側を意味する。
「第1面」と「第2面」とは、何れかが前記「表側」となり、何れの面が前記「表側」となるかは任意である。
「第1面」と「第2面」とは、何れかが「一方の面」となり、何れの面が「他方の面」となるかは任意である。
ただし、本明細書においては、位置検知用の電極2を透光性基板1の片面にのみ有する形態においては、位置検知用の電極2を必ず有する側の面を「一方の面」と呼ぶことにしている。「一方の面」が、前記「表側」となるか「裏側」となるかは、タッチパネル基板10の層構成に関係した使われ方に依存する。タッチパネル基板10は、その低反射層5が反射性導電性層3に対して表側になるように使われる。
本明細書においては、位置検知用の電極2を透光性基板1の片面に有する形態であって、前記「一方の面」が「裏側」として使用される形態を主に説明し、「表側」として使われる形態も説明する。
[A] Definition of terms:
Hereinafter, definitions of main terms used in the present invention will be described here.
The “front side” is a side from which display light is emitted from the display panel 40 when the touch panel substrate 10 is used in combination with the display panel 40 in the touch panel substrate 10 or other components. It means the side of the observer to observe.
At the same time, the “front side” means the side of the operator who operates the touch panel 30 using the touch panel substrate 10 in the touch panel substrate 10 or other components.
The “back side” means the side opposite to the “front side”, and means the side on the touch panel substrate 10 or other components where the display light of the display panel 40 enters.
Any one of the “first surface” and the “second surface” is the “front side”, and which surface is the “front side” is arbitrary.
Any of the “first surface” and the “second surface” is “one surface”, and which surface is the “other surface” is arbitrary.
However, in the present specification, in a form in which the position detection electrode 2 is provided only on one side of the translucent substrate 1, the surface on which the position detection electrode 2 is necessarily provided is referred to as “one surface”. I have to. Whether “one side” is the “front side” or the “back side” depends on the usage related to the layer configuration of the touch panel substrate 10. The touch panel substrate 10 is used such that the low reflective layer 5 is on the front side with respect to the reflective conductive layer 3.
In the present specification, an embodiment in which the electrode 2 for position detection is provided on one side of the translucent substrate 1 and the “one side” is used as the “back side” will be mainly described. The form used as “is also explained.

〔B〕タッチパネル基板10:
本発明によるタッチパネル基板10を、実施形態ごとに説明する。
[B] Touch panel substrate 10:
A touch panel substrate 10 according to the present invention will be described for each embodiment.

《第1の実施形態:低反射層を交差部にも適用》
本実施形態は、低反射層5は反射性導電性層3よりも先に形成し、メッシュ電極2Mの部分に加えて、交差部2Cにも適用した形態である。また、交差部2Cのブリッジ構造は、絶縁層4の上側の電極2、及び下側の電極2共に、反射性導電性層3とした形態である。
<< First Embodiment: Applying Low Reflective Layer to Intersections >>
In the present embodiment, the low reflective layer 5 is formed before the reflective conductive layer 3, and is applied to the intersection 2C in addition to the mesh electrode 2M. Further, the bridge structure of the intersecting portion 2 </ b> C is a form in which both the upper electrode 2 and the lower electrode 2 of the insulating layer 4 are formed as the reflective conductive layers 3.

図1(a)及び図1(b)は、本実施形態のタッチパネル基板10における電極2のパターンを示す部分拡大平面図である。
図1(c)は、本実施形態のタッチパネル基板10を、反射性導電性層3、低反射層5などが形成された側の「裏側」から見た模式的な部分拡大平面図である。図1(c)は、従来例として説明した前記図16(e)に対応する部分拡大平面図であり、電極2のうちメッシュ電極2Mから構成されている第1透明電極要素2aEの一部及び第2透明電極要素2bEの一部、第1透明電極要素2aE同士を接続する第1接続部2aC、第2透明電極要素2bE同士を接続する第2接続部2bC、並びに、第1接続部2aCと第2接続部2bCとが互いに絶縁されて、ブリッジ構造によって立体交差する交差部2Cに注目した部分拡大平面図である。
図1(d)は図1(c)中のC−C線での部分拡大断面図であり、図1(e)は交差部2Cの周辺を拡大して示す部分拡大平面図である。
FIG. 1A and FIG. 1B are partially enlarged plan views showing patterns of electrodes 2 in the touch panel substrate 10 of the present embodiment.
FIG. 1C is a schematic partially enlarged plan view of the touch panel substrate 10 of the present embodiment as viewed from the “back side” on the side where the reflective conductive layer 3, the low reflective layer 5, and the like are formed. FIG. 1C is a partially enlarged plan view corresponding to FIG. 16E described as the conventional example, and a part of the first transparent electrode element 2aE composed of the mesh electrode 2M of the electrode 2 and A part of the second transparent electrode element 2bE, a first connection part 2aC that connects the first transparent electrode elements 2aE, a second connection part 2bC that connects the second transparent electrode elements 2bE, and a first connection part 2aC It is the elements on larger scale which paid attention to crossing part 2C which is insulated mutually from the 2nd connection part 2bC, and solid-crosses by a bridge structure.
FIG. 1D is a partially enlarged sectional view taken along the line CC in FIG. 1C, and FIG. 1E is a partially enlarged plan view showing the periphery of the intersecting portion 2C in an enlarged manner.

図1(c)及び図1(e)の部分拡大平面図と、図1(d)の部分拡大断面図との間では、図面で左右方向などの各構成要素間の寸法の大小関係は、維持されていない。
これらの図面表記に関することは、本発明に係る他の実施形態における図面についても同様である。
Between the partially enlarged plan view of FIGS. 1C and 1E and the partially enlarged cross-sectional view of FIG. It is not maintained.
The same applies to the drawings in other embodiments according to the present invention.

図1に示す実施形態のタッチパネル基板10は、
第1面S1とこの第1面S1とは反対側の第2面S2とを有する透光性基板1と、
透光性基板1の第1面S及び第2面S2のいずれか一方の面として、第1面S1の面上に形成された位置検知用の電極2とを有し、
電極2は、層自体が不透明で可視光反射性を示す反射性導電性層3を含み、
反射性導電性層3はメッシュ状に形成されたメッシュ電極2Mを含む。
さらに、このタッチパネル用電極基材10は、メッシュ電極2Mの部分において、透光性基板1の第1面S1の面上であって、厚み方向において、反射性導電性層3に対して透光性基板1側に、反射性導電性層3と透光性基板1との間に位置するように形成され、透光性基板1の一方の面である第1面S1に垂直な方向から観察したときの外輪郭形状が、反射性導電性層3の外輪郭形状を内側に含み、反射性導電性層3よりも可視光反射率が低い低反射層5を有する、構成となっている。
The touch panel substrate 10 of the embodiment shown in FIG.
A translucent substrate 1 having a first surface S1 and a second surface S2 opposite to the first surface S1,
As one of the first surface S and the second surface S2 of the translucent substrate 1, it has a position detecting electrode 2 formed on the surface of the first surface S1,
The electrode 2 includes a reflective conductive layer 3 that is opaque and exhibits visible light reflectivity,
The reflective conductive layer 3 includes a mesh electrode 2M formed in a mesh shape.
Furthermore, this electrode base material 10 for touch panels is light-transmitting with respect to the reflective conductive layer 3 in the thickness direction on the surface of the first surface S1 of the translucent substrate 1 in the mesh electrode 2M. The transparent substrate 1 is formed so as to be positioned between the reflective conductive layer 3 and the translucent substrate 1 and observed from a direction perpendicular to the first surface S1 which is one surface of the translucent substrate 1. The outer contour shape at this time includes the outer contour shape of the reflective conductive layer 3 inside, and has a low reflective layer 5 having a lower visible light reflectance than the reflective conductive layer 3.

本実施形態においては、透光性基板1の一方の面となる第1面S1は、図1(b)の断面図において図面上方の面である。したがって、タッチパネル基板10は、この断面図において、図面下側の第2面S2を、表側として、タッチパネルの操作者でもある表示パネルの観察者Vに向けて、用いられることを想定した形態である。   In the present embodiment, the first surface S1 which is one surface of the translucent substrate 1 is a surface above the drawing in the cross-sectional view of FIG. Therefore, in this cross-sectional view, the touch panel substrate 10 is assumed to be used toward the viewer V of the display panel who is also the operator of the touch panel, with the second surface S2 on the lower side of the drawing as the front side. .

本実施形態においては、位置検知用の電極2は、投影型静電容量方式のパターンの例である。電極2のパターンは、図1(a)に示す、第1方向としてX軸方向に延びる複数の第1電極2aと、図1(b)に示す、第2方向としてY方向に延びる複数の第2電極2bとが、互いに絶縁されて交差するように形成されている。
図1では、XY直交座標系において、第1方向であるX方向が図面左右方向であり、第2方向であるY方向が図面上下方向である。
In the present embodiment, the position detection electrode 2 is an example of a projected capacitive pattern. The pattern of the electrode 2 includes a plurality of first electrodes 2a extending in the X-axis direction as the first direction shown in FIG. 1A and a plurality of first electrodes extending in the Y direction as the second direction shown in FIG. The two electrodes 2b are formed so as to cross each other while being insulated from each other.
In FIG. 1, in the XY orthogonal coordinate system, the X direction that is the first direction is the horizontal direction in the drawing, and the Y direction that is the second direction is the vertical direction in the drawing.

一つの第1電極2aは、図1(a)に示すように、菱形形状の複数の第1透明電極要素2aEと、互いに隣接する第1透明電極要素2aE同士を接続し第1透明電極要素2aEに比べて面積が小さい第1接続部2aCと、不図示の、位置検知領域の外周部まで延びて配線7に第1透明電極要素2aEを電気的に接続する為の取出し部と、から構成される。同様に、一つの第2電極2bも、図1(b)に示すように、菱形形状の複数の第2透明電極要素2bEと、互いに隣接する第2透明電極要素2bE同士を接続し第1透明電極要素2aEに比べて面積が小さい第2接続部2bCと、第2透明電極要素2bEを配線7(後述図9参照)に電気的に接続する不図示の取出し部と、から構成される。   As shown in FIG. 1A, one first electrode 2a connects a plurality of rhombus-shaped first transparent electrode elements 2aE and the first transparent electrode elements 2aE adjacent to each other to form a first transparent electrode element 2aE. The first connection portion 2aC has a smaller area than the first connection portion 2aC and an extraction portion (not shown) that extends to the outer periphery of the position detection region and electrically connects the first transparent electrode element 2aE to the wiring 7. The Similarly, as shown in FIG. 1 (b), one second electrode 2b also connects a plurality of rhombus-shaped second transparent electrode elements 2bE and the second transparent electrode elements 2bE adjacent to each other to form a first transparent electrode. The second connecting portion 2bC has a smaller area than the electrode element 2aE, and an unillustrated extraction portion that electrically connects the second transparent electrode element 2bE to the wiring 7 (see FIG. 9 described later).

そして、図1(c)は、第1接続部2aCと第2接続部2bCが互いに絶縁されて交差する交差部2Cと、その周辺の第1透明電極要素2aE及び第2透明電極要素2bEを示している。図1(d)では、菱形形状をした第1透明電極要素2aEは、交差部2C側の約半分が示され、同様に、菱形形状をした第2透明電極要素2bEも、交差部2C側の約半分が示されている。   FIG. 1C shows an intersecting portion 2C where the first connecting portion 2aC and the second connecting portion 2bC are insulated from each other, and the surrounding first transparent electrode element 2aE and second transparent electrode element 2bE. ing. In FIG. 1 (d), the rhombus-shaped first transparent electrode element 2aE is shown about half of the intersecting portion 2C side. Similarly, the rhombus-shaped second transparent electrode element 2bE is also located on the intersecting portion 2C side. About half are shown.

本実施形態においては、第1電極2aを構成する第1透明電極要素2aE、第1接続部2aC、及び取出し部の全ては、反射性導電性層3から構成され、同様に第2電極2bを構成する、第2透明電極要素2bE、第2接続部2bC、及び取出し部も、全て反射性導電性層3から構成されている。これらのうち、反射性導電性層3は、第1透明電極要素2aE及び第2透明電極要素2bEにおいて、メッシュ電極2Mとなっている。   In the present embodiment, all of the first transparent electrode element 2aE, the first connection portion 2aC, and the extraction portion that constitute the first electrode 2a are constituted by the reflective conductive layer 3, and the second electrode 2b is similarly formed. The second transparent electrode element 2bE, the second connection portion 2bC, and the take-out portion that are configured are all configured from the reflective conductive layer 3. Among these, the reflective conductive layer 3 is the mesh electrode 2M in the first transparent electrode element 2aE and the second transparent electrode element 2bE.

〔メッシュ電極2M〕
メッシュ電極2Mは、反射性導電性層3がメッシュ状に形成された電極である。
この結果、メッシュ電極2Mは見かけ上、換言するとメッシュ電極2Mを全体的に見ると、透明に見える電極である。
メッシュ電極2Mのメッシュパターンの形状としては、特に制限はなく、公知のパターンを適宜採用することができる。例えば、正方格子形状など、直線形状の開口部が多数2方向に配列したパターン形状を採用することができる。開口部の形状は、正方形以外に三角形、四角形、五角形、六角形などの多角形でも良く、また開口部の形状は多角形のように直線のみからなる形状以外に、曲線を含む形状でも良い。
メッシュ電極2Mは、開口部の部分で透光性が確保されて、見かけ上透明な、換言すると擬似的な透明電極とすることができる。
適用するタッチパネルの面積が広くなると、透明電極にはより小さい面積抵抗率が求められる。ITOなどの透明導電体薄膜では面積抵抗率を低くすると透明性が低下する問題を、メッシュ電極2Mによって解決できる。
メッシュ電極2Mの線幅及び開口部の寸法は、要求される面積抵抗率及び透明性に応じて、適宜な寸法とすれば良い。例えば、線幅は5〜30μm、好ましくは5〜20μm、開口部の寸法は300〜1500μmとすることができる。線幅が前記範囲を超えるとメッシュの線が目立ち易くなり、線幅が前記範囲未満となると面積抵抗率が大きくなりすぎることがある。開口部の寸法が、前記範囲を超えると面積抵抗率が大きくなりすぎることがあり、前記範囲未満となると透明性が低下しすぎることがある。
[Mesh electrode 2M]
The mesh electrode 2M is an electrode in which the reflective conductive layer 3 is formed in a mesh shape.
As a result, the mesh electrode 2M appears to be transparent, in other words, when the mesh electrode 2M is viewed as a whole.
There is no restriction | limiting in particular as a shape of the mesh pattern of the mesh electrode 2M, A well-known pattern can be employ | adopted suitably. For example, a pattern shape in which a large number of linear openings are arranged in two directions, such as a square lattice shape, can be employed. In addition to the square, the shape of the opening may be a polygon such as a triangle, a quadrangle, a pentagon, or a hexagon, and the shape of the opening may be a shape including a curve other than a shape consisting of only a straight line like a polygon.
The mesh electrode 2M is translucent at the opening and is apparently transparent, in other words, a pseudo transparent electrode.
When the area of the applied touch panel is increased, the transparent electrode is required to have a smaller area resistivity. In the case of a transparent conductive thin film such as ITO, the mesh electrode 2M can solve the problem that the transparency is lowered when the sheet resistivity is lowered.
The line width of the mesh electrode 2M and the size of the opening may be set appropriately according to the required sheet resistivity and transparency. For example, the line width can be 5 to 30 μm, preferably 5 to 20 μm, and the size of the opening can be 300 to 1500 μm. When the line width exceeds the range, mesh lines are likely to be noticeable, and when the line width is less than the range, the sheet resistivity may be too large. If the size of the opening exceeds the above range, the sheet resistivity may be too large, and if it is less than the above range, the transparency may be too low.

メッシュ電極2Mは、第1接続部2aC及び第2接続部2bC、並びに第1電極2aの取出し部及び第2電極2bの取出し部については、必須ではない。これらの部分は幅が第1透明電極要素2aE及び第2透明電極要素2bEに比べて細く、例えば、メッシュ電極2Mの部分のメッシュの線幅と同程度であれば、メッシュにしなくても良いからである。   The mesh electrode 2M is not essential for the first connection portion 2aC and the second connection portion 2bC, and the extraction portion of the first electrode 2a and the extraction portion of the second electrode 2b. These portions are narrower than the first transparent electrode element 2aE and the second transparent electrode element 2bE. For example, as long as the line width is the same as the line width of the mesh electrode 2M, it is not necessary to use a mesh. It is.

〔交差部2Cとブリッジ構造〕
本実施形態においては、互いに異なる方向に延在する第1電極2aと第2電極2bとを、その第1透明電極要素2aEと第2透明電極要素2bEとを同一面に形成する形態例である関係上、第1電極2aと第2電極2bとが交差する交差部2Cは、絶縁層4を層間に介して互いに絶縁されるブリッジ構造を有する。交差部2Cとは、本実施形態の電極2は、図1(a)及び図1(b)に示したパターンであるので、図1(a)及び図1(b)を参照して説明すれば、第1接続部2aC及び第2接続部2bCの部分の電極2が該当する。
本実施形態においては、交差部2Cにも反射性導電性層3を用いてあり、この交差部2Cの部分での反射性導電性層3に対しても低反射層5を適用して、交差部2Cでも反射性導電性層3を目立ち難くしている。
[Intersection 2C and bridge structure]
In the present embodiment, the first electrode 2a and the second electrode 2b extending in different directions are formed, and the first transparent electrode element 2aE and the second transparent electrode element 2bE are formed on the same surface. In relation, the intersection 2C where the first electrode 2a and the second electrode 2b intersect has a bridge structure that is insulated from each other with the insulating layer 4 interposed between the layers. The intersection 2C is the pattern shown in FIGS. 1A and 1B because the electrode 2 of this embodiment is described with reference to FIGS. 1A and 1B. For example, the electrode 2 corresponding to the first connection portion 2aC and the second connection portion 2bC is applicable.
In this embodiment, the reflective conductive layer 3 is used also in the intersection 2C, and the low reflection layer 5 is applied to the reflective conductive layer 3 in the intersection 2C to The part 2C also makes the reflective conductive layer 3 inconspicuous.

[ブリッジ接続2B]
本発明においては、ブリッジ構造を有する交差部2Cにおいて、交差部2C以外の部分と連続層として形成されてなく、互いに離間して形成されている電極部分を接続する部分を「ブリッジ接続2B」と呼ぶことにする。
ブリッジ接続2Bは、ブリッジ構造において、厚み方向で絶縁層4の上を跨ぐ構造となる形態と、絶縁層4の下をくぐりぬける形態がある。絶縁層4の上とは、絶縁層4よりも透光性基板1から遠い位置を意味し、絶縁層4の下とは絶縁層4と透光性基板1との間の位置を意味する。
本実施形態は、ブリッジ接続2Bは、絶縁層4の上を跨ぐ形態例である。
[Bridge connection 2B]
In the present invention, in the intersecting portion 2C having a bridge structure, a portion that is not formed as a continuous layer with a portion other than the intersecting portion 2C but is connected to electrode portions that are formed apart from each other is referred to as a “bridge connection 2B”. I will call it.
The bridge connection 2B has a configuration in which a bridge structure has a structure straddling the insulating layer 4 in the thickness direction and a configuration in which the insulating layer 4 is passed through. Above the insulating layer 4 means a position farther from the translucent substrate 1 than the insulating layer 4, and below the insulating layer 4 means a position between the insulating layer 4 and the translucent substrate 1.
In the present embodiment, the bridge connection 2 </ b> B is a form example straddling the insulating layer 4.

本実施形態においては、交差部2Cのブリッジ構造において、絶縁層4の下を通るブリッジ下側部も、絶縁層4の上を通るブリッジ上側部も、共に、反射性導電性層3を用いてある。ただ、交差部2C以外の部分と連続層として形成されていない方である、絶縁層4の上を通るブリッジ上側部の反射性導電性層3については、前記メッシュ電極2Mを構成する反射性導電性層3と同一材料でも良く、同一材料でない反射性導電性層3でも良い。いずれにしても、本実施形態においては、ブリッジ接続2Bは反射性導電性層3で形成されているため、ブリッジ接続2Bに対しても低反射層5が適用されている。   In the present embodiment, in the bridge structure of the intersection 2C, both the lower bridge portion passing under the insulating layer 4 and the upper bridge portion passing above the insulating layer 4 are both formed using the reflective conductive layer 3. is there. However, for the reflective conductive layer 3 on the upper side of the bridge passing over the insulating layer 4, which is not formed as a continuous layer with the portion other than the intersection 2C, the reflective conductive material constituting the mesh electrode 2M is used. The reflective layer 3 may be the same material as the reflective layer 3 or may not be the same material. In any case, in the present embodiment, since the bridge connection 2B is formed of the reflective conductive layer 3, the low reflection layer 5 is also applied to the bridge connection 2B.

ブリッジ接続2Bの外形形状の寸法は、例えば、図1に示す本実施形態においては、幅5〜20μm、長さ20〜500μmの長方形である。前記幅とは、第1方向(図面X方向)の寸法であり、前記長さとは、第2方向(図面Y方向)の寸法である。   The dimensions of the external shape of the bridge connection 2B are, for example, a rectangle having a width of 5 to 20 μm and a length of 20 to 500 μm in the present embodiment shown in FIG. The width is a dimension in the first direction (X direction in the drawing), and the length is a dimension in the second direction (Y direction in the drawing).

〔反射性導電性層3と低反射層5との面方向での形状関係〕
本実施形態においては、低反射層5のパターン形状は、線幅の太さがゼロの形状で捉えると、第1透明電極要素2aEを含む第1電極2a、及び第2透明電極要素2bEを含む第2電極2bを、透光性基板1の一方の面である第1面S1に垂直な方向から観察したときのパターン形状と、同じパターン形状であるが、線幅が全ての部分において、低反射層5は反射性導電性層3より太い形状となっている。
このため、低反射層5の外輪郭形状は、第1電極2a及び第2電極2bを重ね合わせた外輪郭形状に対して、その全ての部分で太くなっており、その全ての部分で第1電極2a及び第2電極2bの外輪郭形状を内側に含んでいる。
[Shape relationship between the reflective conductive layer 3 and the low reflective layer 5 in the surface direction]
In the present embodiment, the pattern shape of the low reflection layer 5 includes the first electrode 2a including the first transparent electrode element 2aE and the second transparent electrode element 2bE when the line width is regarded as a shape having zero thickness. The second electrode 2b has the same pattern shape as that observed from the direction perpendicular to the first surface S1, which is one surface of the translucent substrate 1, but the line width is low in all portions. The reflective layer 5 is thicker than the reflective conductive layer 3.
For this reason, the outer contour shape of the low reflection layer 5 is thicker in all the portions than the outer contour shape in which the first electrode 2a and the second electrode 2b are overlapped, and the first in all the portions. The outer contour shapes of the electrode 2a and the second electrode 2b are included inside.

本発明においては、低反射層5は、透光性基板1の前記一方の面である第1面S2に垂直な方向から観察したときの外輪郭形状が、前記反射性導電性層の外輪郭形状と重なり合う部分を有していれば良く、同一で完全に重なり合っていても良い。例えば、後述する導通部2Dとする部分のように、一部反射性導電性層3の外輪郭形状が低反射層5の外輪郭形状から、はみ出していても良い。   In the present invention, the low reflection layer 5 has an outer contour shape when observed from a direction perpendicular to the first surface S2 which is the one surface of the translucent substrate 1, and the outer contour of the reflective conductive layer. It suffices to have a portion that overlaps the shape, and it may be the same and completely overlapped. For example, the outer contour shape of the partially reflective conductive layer 3 may protrude from the outer contour shape of the low reflective layer 5 as in a portion to be a conductive portion 2D described later.

図3の断面図は、反射性導電性層3に対する低反射層5の寸法関係を説明する図である。同図は、或る任意の方向に延在するライン状の反射性導電性層3に対して、前記延在する方向に直交する断面における断面図である。この断面図において、低反射層5は反射性導電性層3に対して両側にはみ出している。同図では、両側にほぼ等しくはみ出している場合である。
片側でのはみ出し量dWは、低反射層5の外輪郭形状に、位置合わせ精度に多少の余裕を持たせる意味で、反射性導電性層3の全ての部分で、0.5μm以上、好ましくは1μm以上とするのが好ましい。ただ、はみ出しても、はみ出し量dWは100μm以下、好ましくは50μm以下、より好ましくは10μm以下、とするのが好ましい。はみ出し過ぎると、透過率が低下し、低反射層5の部分で、タッチパネルを透して見る表示パネルの表示をさえぎり、表示品質に悪影響することがあるからである。
逆に、はみ出し量dWが上記値よりも小さすぎると、位置合わせ精度が悪く位置ズレしたときに、低反射層5によって隠しきれない部分の反射性導電性層3が視認されてしまうことがあるからである。
3 is a diagram for explaining the dimensional relationship of the low reflective layer 5 with respect to the reflective conductive layer 3. This figure is a cross-sectional view in a cross section orthogonal to the extending direction with respect to the line-like reflective conductive layer 3 extending in a certain arbitrary direction. In this cross-sectional view, the low reflective layer 5 protrudes on both sides of the reflective conductive layer 3. In the same figure, it is a case where it protrudes substantially equally on both sides.
The amount of protrusion dW on one side is 0.5 μm or more in all parts of the reflective conductive layer 3 in order to give the outer contour shape of the low reflective layer 5 a slight margin in alignment accuracy, preferably The thickness is preferably 1 μm or more. However, even if it protrudes, the protrusion amount dW is preferably 100 μm or less, preferably 50 μm or less, more preferably 10 μm or less. This is because if the protrusion is excessive, the transmittance is lowered, and the display of the display panel viewed through the touch panel is blocked at the low reflection layer 5 portion, which may adversely affect the display quality.
On the contrary, if the protrusion amount dW is too small than the above value, the reflective conductive layer 3 that cannot be concealed by the low reflective layer 5 may be visually recognized when the alignment accuracy is poor and the position is shifted. Because.

反射性導電性層3に対して低反射層5を適用する部分は、反射性導電性層3を目立ち難くする観点からは、少なくとも位置検知領域Ap(後述図9参照)内においては、反射性導電性層3の全ての部分に適用することが好ましい。本実施形態においては、そのようになっている。しかし、本発明においては、反射性導電性層3の全ての部分に低反射層5を適用する必要はない。少なくともメッシュ電極2Mを構成する反射性導電性層3の部分に適用すれば良い。この場合、メッシュ電極2Mを構成する反射性導電性層3の全ての部分に適用することが好ましいが、後述する実施形態のように、一部の部分は適用しないことがあっても良い。つまり、本発明においては、反射性導電性層3はメッシュ電極2Mの部分において、メッシュ電極2Mの部分の全てに適用されている必要はない。これは、例えば、層構成及び製造工程などを勘案して、ブリッジ接続2Bとの接続のために低反射層5から露出させた導通部2Dの部分として残した構成が挙げられる。この構成は、後述する第4の実施形態において示される。   The portion where the low reflective layer 5 is applied to the reflective conductive layer 3 is reflective at least in the position detection region Ap (see FIG. 9 described later) from the viewpoint of making the reflective conductive layer 3 inconspicuous. It is preferable to apply to all parts of the conductive layer 3. In this embodiment, this is the case. However, in the present invention, it is not necessary to apply the low reflection layer 5 to all portions of the reflective conductive layer 3. What is necessary is just to apply to the part of the reflective conductive layer 3 which comprises the mesh electrode 2M at least. In this case, it is preferable to apply to all the portions of the reflective conductive layer 3 constituting the mesh electrode 2M, but some portions may not be applied as in the embodiment described later. That is, in the present invention, the reflective conductive layer 3 does not have to be applied to all of the mesh electrode 2M in the mesh electrode 2M. This includes, for example, a structure left as a portion of the conductive portion 2D exposed from the low reflection layer 5 for connection with the bridge connection 2B in consideration of the layer configuration and the manufacturing process. This configuration is shown in a fourth embodiment described later.

〔製造方法〕
図2は、図1に示す本実施形態のタッチパネル基板10に対する製造方法として、各層の積層順序を説明する部分拡大平面図である。
図2(A)に示すように先ず、透光性基板1に低反射層5を形成し、次に、図2(B)に示すように、低反射層5の上に電極2とする反射性導電性層3を形成する。次に、図2(C)に示すように、交差部2Cに絶縁層4を形成し、次に、図2(D)に示すように、絶縁層4を跨いでブリッジ接続2Bを形成して、本実施形態のタッチパネル基板10が得られる。
〔Production method〕
FIG. 2 is a partially enlarged plan view for explaining the stacking order of each layer as a manufacturing method for the touch panel substrate 10 of the present embodiment shown in FIG.
As shown in FIG. 2A, first, a low reflection layer 5 is formed on a light-transmitting substrate 1, and then, as shown in FIG. The conductive conductive layer 3 is formed. Next, as shown in FIG. 2C, the insulating layer 4 is formed at the intersection 2C, and then, as shown in FIG. 2D, the bridge connection 2B is formed across the insulating layer 4. Thus, the touch panel substrate 10 of the present embodiment is obtained.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることで、本実施形態におけるタッチパネル基板10では、電極2に用いた反射性導電性層3を、低反射層5が隠す構造となっているので、反射性導電性層3を目立ち難くすることができる。
本実施形態では、反射性導電性層3は、メッシュ電極2Mの部分に加えて、メッシュ状ではない交差部2Cにも用いられており、低反射層5もメッシュ電極2Mの部分に加えて交差部2Cにも適用されており、メッシュ電極2Mの部分のみならず、交差部2Cの部分でも反射性導電性層3を目立ち難くすることができる。
[Effect in this embodiment]
With the configuration as described above, in the touch panel substrate 10 according to the present embodiment, the reflective conductive layer 3 used for the electrode 2 is configured to be hidden by the low reflective layer 5. 3 can be made inconspicuous.
In the present embodiment, the reflective conductive layer 3 is used not only for the mesh electrode 2M but also for the non-mesh intersection 2C, and the low reflection layer 5 also intersects with the mesh electrode 2M. The reflective conductive layer 3 can be made inconspicuous not only at the mesh electrode 2M but also at the intersection 2C.

<材料及び形成法>
以下、本実施形態で用いられる各層毎に材料及び形成法を説明する。
<Material and forming method>
Hereinafter, materials and forming methods will be described for each layer used in the present embodiment.

〔透光性基板1〕
前記透光性基板1は、公知の材料を用いることができ、代表的にはガラス板であるが、
ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂などの樹脂材料でも良い。
[Translucent substrate 1]
The translucent substrate 1 can be made of a known material, typically a glass plate,
Resin materials such as polyester resin, acrylic resin, and polycarbonate resin may be used.

〔電極2〕
位置検知用の電極2は、層自体が不透明で可視光反射性を示す反射性導電性層3を含み、反射性導電性層3はメッシュ状に形成されたメッシュ電極2Mを含む。
[Electrode 2]
The electrode 2 for position detection includes a reflective conductive layer 3 which is opaque and has visible light reflectivity, and the reflective conductive layer 3 includes a mesh electrode 2M formed in a mesh shape.

[反射性導電性層3]
反射性導電性層3には、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、反射性導電性層3には、ITOなどの透明導電性材料以外の、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウム、パラジウム、モリブデンなどの金属(含むその合金)などを用いることができる。反射性導電性層3は、例えば、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金(APCとも言う)の金属層としてスパッタ法により製膜後、フォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。
反射性導電性層3には、モリブデン(Mo)/アルミニウム(Al)/モリブデン(Mo)と3層積層構造の導電性層(MAMと呼ばれている)を用いることもできる。
本実施形態においては、反射性導電性層3は、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金(APCとも言う)によって、金属層として形成されている。
反射性導電性層3の形成法としては、特に制限はなく、フォトリソグラフィ法以外に、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法などの印刷法によって形成しても良い。
[Reflective conductive layer 3]
For the reflective conductive layer 3, known materials and formation methods can be employed. For example, the reflective conductive layer 3 can be made of a metal (including alloys thereof) such as silver, gold, copper, chromium, platinum, aluminum, palladium, and molybdenum other than a transparent conductive material such as ITO. . The reflective conductive layer 3 can be formed into a pattern by a photolithography method after being formed as a metal layer of a silver alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium and copper, for example, by a sputtering method.
As the reflective conductive layer 3, a conductive layer (referred to as MAM) having a three-layer structure of molybdenum (Mo) / aluminum (Al) / molybdenum (Mo) can also be used.
In the present embodiment, the reflective conductive layer 3 is formed as a metal layer by a silver alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium, and copper.
There is no restriction | limiting in particular as a formation method of the reflective conductive layer 3, You may form by printing methods, such as a screen printing method and an inkjet printing method, besides the photolithography method.

反射性導電性層3の反射性とは、反射率が可視光域(380〜780nm)の平均で50%以上示すこととする。例えば、一般に、銀は90%以上、アルミニウムは80%以上、金は短波長域で50%近くまで低下するが、平均では50%以上を示す。   The reflectivity of the reflective conductive layer 3 indicates that the reflectance is 50% or more on average in the visible light region (380 to 780 nm). For example, in general, silver falls to 90% or more, aluminum falls to 80% or more, and gold falls to nearly 50% in the short wavelength region, but on average shows 50% or more.

反射性導電性層3は、金属材料に限らず、例えば、反射性を示すなら導電性高分子でも良い。   The reflective conductive layer 3 is not limited to a metal material, and may be, for example, a conductive polymer as long as it exhibits reflectivity.

反射性導電性層3をメッシュ状に形成してメッシュ電極2Mとするためのパターン形成法としては、特に制限はなく、フォトリソグラフィ法以外に、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法などの印刷法によって形成しても良い。   The pattern forming method for forming the reflective conductive layer 3 in a mesh shape to form the mesh electrode 2M is not particularly limited, and is formed by a printing method such as a screen printing method or an ink jet printing method in addition to the photolithography method. You may do it.

〔絶縁層4〕
絶縁層4は、電気絶縁性の層であり、公知の材料及び形成法を採用することができる。
絶縁層4は、例えば、樹脂層として、紫外線硬化型アクリル系樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。
なお、本明細書において、「絶縁」及び「接続する」とは、いずれも電気的な意味での用語として用いる。
絶縁層4は、透明、不透明いずれでも良いが、透明であることが好ましい。タッチパネル基板10の透明性を低下させないためである。本実施形態においては、絶縁層4は透明な層として形成されている。
[Insulating layer 4]
The insulating layer 4 is an electrically insulating layer, and known materials and forming methods can be employed.
The insulating layer 4 can be patterned by, for example, a photolithography method using an ultraviolet curable acrylic resin as a resin layer.
Note that in this specification, “insulation” and “connect” are both used in terms of electrical meaning.
The insulating layer 4 may be either transparent or opaque, but is preferably transparent. This is because the transparency of the touch panel substrate 10 is not lowered. In the present embodiment, the insulating layer 4 is formed as a transparent layer.

〔低反射層5〕
低反射層5は、反射性導電性層3の可視光反射率よりも小さい可視光反射率を示す。ここで、可視光反射率としては、可視光域(380〜780nm)の光反射率の平均値とすることができる。或いは、より人間の目の感度に近い視感反射率として、国際照明委員会CIEによる、標準光源Cを用いたYxy表色系でのY値を用いることもできる。このY値で言えば、低反射層5は、Y値が10%以下となる低反射性を示すことが好ましい。
なお、可視光反射率の測定は、もちろん、低反射層5の層面2面のうち反射性導電性層3から遠い方の面が観察される表側から、低反射層5の層面(本実施形態においては、低反射層5と透光性基板1との界面が該当する)での反射率について行う。したがって、表側から透光性基板1の表面での反射は除いて行う。
低反射層5は、同時に遮光性(不透明性)も示す。これは、反射性導電性層3からの反射光を減らすことができるからである。したがって、低反射層5は、低反射性及び遮光性を示し反射性導電性層3を隠蔽する「隠蔽層」ということもできる。
前記遮光性は、反射性導電性層3を目立たなくさせる観点から、透過率で言えば大きくても10%以下(光学濃度ODにて1以上)、より好ましくは透過率で1%以下(光学濃度OD2.0以上)、さらに好ましくは透過率で0.01%以下(光学濃度OD4.0以上)が望ましい。
[Low reflective layer 5]
The low reflective layer 5 exhibits a visible light reflectance that is smaller than the visible light reflectance of the reflective conductive layer 3. Here, the visible light reflectance can be an average value of the light reflectance in the visible light region (380 to 780 nm). Alternatively, the Y value in the Yxy color system using the standard light source C by the International Lighting Commission CIE can be used as the luminous reflectance closer to the human eye sensitivity. In terms of this Y value, the low reflective layer 5 preferably exhibits low reflectivity with a Y value of 10% or less.
Of course, the visible light reflectivity is measured from the front side where the surface far from the reflective conductive layer 3 is observed among the two layer surfaces of the low reflective layer 5 (the present embodiment). In this case, the reflectivity at the interface between the low reflective layer 5 and the translucent substrate 1 corresponds). Therefore, the reflection on the surface of the translucent substrate 1 is excluded from the front side.
The low reflection layer 5 also exhibits light shielding (opacity) at the same time. This is because the reflected light from the reflective conductive layer 3 can be reduced. Therefore, the low reflective layer 5 can also be referred to as a “hidden layer” that exhibits low reflectivity and light shielding properties and conceals the reflective conductive layer 3.
From the viewpoint of making the reflective conductive layer 3 inconspicuous, the light shielding property is 10% or less (1 or more at the optical density OD) in terms of transmittance, more preferably 1% or less (optical). Density OD2.0 or more), and more preferably 0.01% or less (optical density OD4.0 or more) in terms of transmittance.

低反射層5は、カーボンブラックなどの黒色顔料を硬化性樹脂の硬化物からなる樹脂バインダ中に含む黒色など暗色を呈する層として、フォトリソグラフィ法によりパターン形成することができる。硬化性樹脂には紫外線硬化型アクリル系樹脂などの感光性樹脂を用いることができる。本実施形態においては、低反射層5、カーボンブラックを含む紫外線硬化型アクリル系樹脂を用いてフォトリソグラフィ法によりパターン形成されている。
低反射層5を、黒色など暗色とするには、カーボンブラック以外の、赤、黄、青、緑などの有彩色顔料を複数種類用い黒色を呈する層としても良い。例えば、赤、黄、青の3色の着色顔料を用いて黒色としても良い。暗色とは、黒色以外に、紺色、深緑色などの有彩色で明度が低く、前記Yが10%以下を示す色のことを意味する。
したがって、低反射層5に用いる着色顔料としては、黒色顔料、白色顔料、赤色顔料、黄色顔料、青色顔料、緑色顔料、紫色顔料など1種又は2種以上用いることができる。
低反射層5は、酸窒化クロムなどのそれ自体が暗色を示す無機材料で形成しても良い。
The low reflection layer 5 can be patterned by a photolithography method as a layer exhibiting a dark color such as black containing a black pigment such as carbon black in a resin binder made of a cured curable resin. As the curable resin, a photosensitive resin such as an ultraviolet curable acrylic resin can be used. In the present embodiment, the pattern is formed by a photolithography method using an ultraviolet curable acrylic resin containing the low reflection layer 5 and carbon black.
In order to make the low reflection layer 5 dark, such as black, a plurality of chromatic pigments such as red, yellow, blue, and green other than carbon black may be used to form a black color. For example, black may be formed using three color pigments of red, yellow, and blue. The dark color means a color other than black, such as dark blue or dark green, which has a low lightness and the Y is 10% or less.
Therefore, as the color pigment used for the low reflection layer 5, one or more kinds such as a black pigment, a white pigment, a red pigment, a yellow pigment, a blue pigment, a green pigment, and a purple pigment can be used.
The low reflective layer 5 may be formed of an inorganic material that itself exhibits a dark color, such as chromium oxynitride.

本発明においては、低反射層5は、基本的には、絶縁性でも導電性でもいずれでも良い。ただし、絶縁性が必要となる構成もあるので、このときは絶縁性の低反射層5を用いる。しかし、絶縁性の低反射層5は、導電性を積極的に利用するのでなければ、導電性であっても良い構成においても用いることができる利点を有する。   In the present invention, the low reflection layer 5 may basically be either insulating or conductive. However, since there is a configuration that requires insulation, the insulating low reflective layer 5 is used at this time. However, the insulating low-reflection layer 5 has an advantage that it can be used even in a configuration that may be conductive unless the conductivity is positively utilized.

本実施形態においては、低反射層5は絶縁層として設けられている。本実施形態においては、低反射層5は絶縁層として設けられる必要がある。その理由は、低反射層5のパターンは図2(A)によって良く判るように、互いに絶縁されて設けられるべき、X方向の第1電極2aに対するメッシュ電極2Mの部分と、Y方向の第2電極2bに対するメッシュ電極2Mの部分に加えて、交差部2Cも含めて連続層として形成されている。このため、低反射層5が導電性であると、第1電極2aと第2電極2bとが交差部2Cの部分の低反射層5によって、導通してしまうからである。
一方、例えば、後述する図5〜図6で例示する第3の実施形態では、低反射層5として導電性を示す層を用いることができる。
In the present embodiment, the low reflection layer 5 is provided as an insulating layer. In the present embodiment, the low reflection layer 5 needs to be provided as an insulating layer. The reason for this is that the pattern of the low reflection layer 5 should be provided so as to be insulated from each other as shown in FIG. 2A, and the portion of the mesh electrode 2M relative to the first electrode 2a in the X direction and the second in the Y direction. In addition to the portion of the mesh electrode 2M with respect to the electrode 2b, the crossing portion 2C is also formed as a continuous layer. For this reason, when the low reflection layer 5 is conductive, the first electrode 2a and the second electrode 2b are electrically connected by the low reflection layer 5 at the intersection 2C.
On the other hand, for example, in the third embodiment exemplified in FIGS. 5 to 6 described later, a layer exhibiting conductivity can be used as the low reflection layer 5.

《第2の実施形態:低反射層を交差部にも適用、ブリッジ逆構造》
図4に示す本実施形態は、交差部5Cおけるブリッジ構造のブリッジ接続2Bの上下関係を、前記図1に示した第1の実施形態に対して、逆構造とした形態である。
図4(a)は、本実施形態によるタッチパネル基板10を交差部周辺で模式的に説明する部分拡大平面図であり、図4(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図である。
<< Second Embodiment: Applying Low Reflective Layer to Crossing, Bridge Reverse Structure >>
In the present embodiment shown in FIG. 4, the vertical relationship of the bridge connection 2 </ b> B of the bridge structure at the intersection 5 </ b> C is an inverse structure with respect to the first embodiment shown in FIG. 1.
FIG. 4A is a partially enlarged plan view schematically illustrating the touch panel substrate 10 according to the present embodiment around the intersection, and FIG. 4B is a partially enlarged cross section taken along the line CC in the plan view. FIG.

本実施形態は、前記図1に示した第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
a)交差部2Cにおけるブリッジ構造が、絶縁層4の上下で逆構造となっている点。この結果、ブリッジ接続2Bは、絶縁層4よりも先に形成される点。但し、ブリッジ接続2Bは低反射層5よりは後に形成される。
This embodiment is the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.
a) The bridge structure at the intersection 2C has an inverted structure above and below the insulating layer 4. As a result, the bridge connection 2B is formed prior to the insulating layer 4. However, the bridge connection 2 </ b> B is formed after the low reflection layer 5.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル基板10は、次のようにして製造することができる。
先ず、透光性基板1に低反射層5を形成する。次に、電極2の一部として、交差部2Cのブリッジ接続2Bを反射性導電性層3で形成する。次に、交差部2Cに絶縁層4を形成する。次に、低反射層5の上に、メッシュ電極2Mも含めて電極2とする反射性導電性層3を形成して、本実施形態のタッチパネル基板10が得られる。
〔Production method〕
The touch panel substrate 10 as described above can be manufactured as follows.
First, the low reflection layer 5 is formed on the translucent substrate 1. Next, as a part of the electrode 2, the bridge connection 2 </ b> B at the intersection 2 </ b> C is formed with the reflective conductive layer 3. Next, the insulating layer 4 is formed at the intersection 2C. Next, the reflective conductive layer 3 to be used as the electrode 2 including the mesh electrode 2M is formed on the low reflective layer 5, and the touch panel substrate 10 of this embodiment is obtained.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることでも、本実施形態におけるタッチパネル基板10でも、電極2に用いた反射性導電性層3を、低反射層5が隠す構造となっているので、反射性導電性層3を目立ち難くすることができる。
本実施形態では、反射性導電性層3は、メッシュ電極2Mの部分に加えて、メッシュ状ではない交差部2Cにも用いられており、低反射層5もメッシュ電極2Mの部分に加えて交差部2Cにも適用されており、メッシュ電極2Mの部分のみならず、交差部2Cの部分でも反射性導電性層3を目立ち難くすることができる。
[Effect in this embodiment]
Even in the configuration as described above, the touch panel substrate 10 according to the present embodiment has a structure in which the reflective conductive layer 3 used for the electrode 2 is hidden by the low reflective layer 5. 3 can be made inconspicuous.
In the present embodiment, the reflective conductive layer 3 is used not only for the mesh electrode 2M but also for the non-mesh intersection 2C, and the low reflection layer 5 also intersects with the mesh electrode 2M. The reflective conductive layer 3 can be made inconspicuous not only at the mesh electrode 2M but also at the intersection 2C.

《第3の実施形態:低反射層を交差部一部にも適用、メッシュ電極に透明導電性層積層》
図5に示す本実施形態は、交差部5Cおけるブリッジ接続2Bに透明導電性層6を用いることで、ブリッジ接続2Bに対する低反射層5は形成しない結果、第1電極2aと第2電極2bの各々に連続層ではない独立の低反射層5を適用した形態である。
図5(a)は、本実施形態によるタッチパネル基板10を交差部周辺で模式的に説明する部分拡大平面図であり、図5(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図である。
図6(a)は、図5(a)中の反射性導電性層3のみを示す部分拡大平面図であり、図6(b)は、図5(a)中の透明導電性層6のみを示す部分拡大平面図である。
<< Third embodiment: Applying a low reflective layer to a part of the intersection, laminating a transparent conductive layer on the mesh electrode >>
The present embodiment shown in FIG. 5 uses the transparent conductive layer 6 for the bridge connection 2B at the intersection 5C, so that the low reflection layer 5 for the bridge connection 2B is not formed. As a result, the first electrode 2a and the second electrode 2b It is a form in which independent low reflective layers 5 that are not continuous layers are applied to each.
FIG. 5A is a partially enlarged plan view schematically illustrating the touch panel substrate 10 according to the present embodiment around the intersection, and FIG. 5B is a partially enlarged cross section taken along the line CC in the plan view. FIG.
6A is a partially enlarged plan view showing only the reflective conductive layer 3 in FIG. 5A, and FIG. 6B is only the transparent conductive layer 6 in FIG. 5A. FIG.

本実施形態は、前記図1に示した第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
a)交差部2Cにおけるブリッジ接続2Bが透明導電性層6によって形成されている点。
b)上記透明導電性層6と同一材料で、メッシュ電極2Mの部分にはメッシュ電極2Mのメッシュ開口部も含めたベタパターンで、反射性導電性層3に接して同時形成されている点。
c)交差部2Cのブリッジ接続2Bを形成する透明導電性層6に対しては、低反射層5を非形成として適用せず、交差部2Cの一方の電極2には反射性導電性層3を適用した点。
This embodiment is the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.
a) The bridge connection 2B at the intersection 2C is formed by the transparent conductive layer 6.
b) The same material as that of the transparent conductive layer 6 and a solid pattern including the mesh opening of the mesh electrode 2M in the portion of the mesh electrode 2M is formed in contact with the reflective conductive layer 3 at the same time.
c) For the transparent conductive layer 6 forming the bridge connection 2B of the intersection 2C, the low reflective layer 5 is not applied as a non-formation, and the reflective conductive layer 3 is applied to one electrode 2 of the intersection 2C. The point where is applied.

〔反射性導電性層3〕
本発明においては、交差部2Cの電極2は、その一部又は全部が反射性導電性層3でなくても良い。本実施形態においては、交差部2Cを構成しX方向に延びる一方の電極2には、反射性導電性層3が用いられ、交差部2Cを構成しY方向に延びる他方の電極2には、透明導電性層6が用いられている。
[Reflective conductive layer 3]
In the present invention, part or all of the electrodes 2 at the intersection 2C may not be the reflective conductive layer 3. In the present embodiment, the reflective conductive layer 3 is used for one electrode 2 that constitutes the intersection 2C and extends in the X direction, and the other electrode 2 that constitutes the intersection 2C and extends in the Y direction includes A transparent conductive layer 6 is used.

〔低反射層5〕
本発明においては、低反射層5は、反射性導電性層3のうち、少なくともメッシュ電極2Mの部分の反射性導電性層3に適用される。
本実施形態においては、図6(a)に示すように、第1電極2aと第2電極2bに対する各々の低反射層5が、互いに不連続の独立層である。互いに絶縁されて設けられる第1電極2aと第2電極2bに対して接して形成される低反射層5が、このように、第1電極2aと第2電極2bに対して独立層として形成されるときは、低反射層5には導電性層を用いることも可能となる。
[Low reflective layer 5]
In the present invention, the low reflective layer 5 is applied to the reflective conductive layer 3 of at least the mesh electrode 2 </ b> M of the reflective conductive layer 3.
In the present embodiment, as shown in FIG. 6A, the low reflection layers 5 for the first electrode 2a and the second electrode 2b are independent layers that are discontinuous with each other. The low reflection layer 5 formed in contact with the first electrode 2a and the second electrode 2b provided so as to be insulated from each other is thus formed as an independent layer with respect to the first electrode 2a and the second electrode 2b. In this case, a conductive layer can be used for the low reflective layer 5.

導電性層となり得る低反射層5は、反射性導電性層3に接して形成されることで、メッシュ電極2Mの面積抵抗率など、反射性導電性層3単独での導電性に比べて、導電性をより大きくして面積抵抗率はより小さくすることが可能となる。このように、導電性の向上も図る場合には、低反射層5の厚みを厚くする程、その効果を増大させることができる。   The low reflective layer 5 that can be a conductive layer is formed in contact with the reflective conductive layer 3, so that the area resistivity of the mesh electrode 2M and the like, compared to the conductivity of the reflective conductive layer 3 alone, It is possible to increase the conductivity and reduce the sheet resistivity. As described above, when the conductivity is also improved, the effect can be increased as the thickness of the low reflection layer 5 is increased.

導電性層となり得る低反射層5としては、例えば、酸窒化クロム系膜を用いることができる。上記酸窒化クロム系膜は、例えば、カラーフィルタのブラックマトリクス等として使用され得る、具体的には、透光性基板1側から、1)クロムの原子百分率が30〜50%の酸化クロムからなる第1反射防止膜、2)クロムの原子百分率が第1反射防止膜より大きく45〜60%の窒化クロムからなる第2反射防止膜、3)クロム100%で厚み80nmのクロム膜、からなる3層構造の酸窒化クロム系膜である。
各反射防止膜によって、透光性基板1とクロム膜との屈折率差を段階的に変化させることができ、可視光反射率を減らすことができる。単に、上記クロム膜単独では、可視光反射率は大きくなるが、それでも、黒色の低反射層5として用いることができる。上記クロム膜は、導電性であることから、クロム膜側の面が導電性で良い形態の場合に用いることができる。なお、クロム膜側の表面にも、前記第1反射防止層、第2反射防止層のいずれか1以上を積層した層構造とすれば、絶縁性の層として用いることもできる。
なお、各反射防止膜は、クロムの原子百分率が透光性基板1から遠くなるほど大きくなれば、酸化物、窒化物以外に、酸窒化物、炭化物など、酸素、窒素、炭素のいずれか1以上の組みとの化合物で良い。
As the low reflection layer 5 that can be a conductive layer, for example, a chromium oxynitride film can be used. The chromium oxynitride film can be used, for example, as a black matrix of a color filter. Specifically, from the light-transmitting substrate 1 side, 1) the chromium oxynitride film is made of chromium oxide with an atomic percentage of chromium of 30 to 50%. A first antireflective film, 2) a second antireflective film made of chromium nitride having an atomic percentage of chromium larger than that of the first antireflective film and 45 to 60%, and 3) a chromium film having 100% chromium and a thickness of 80 nm. It is a chromium oxynitride film having a layer structure.
With each antireflection film, the difference in refractive index between the translucent substrate 1 and the chromium film can be changed stepwise, and the visible light reflectance can be reduced. Simply, the chromium film alone has a high visible light reflectance, but can still be used as the black low-reflection layer 5. Since the chromium film is conductive, it can be used when the surface on the chromium film side may be conductive. Note that if the layer structure is formed by laminating one or more of the first antireflection layer and the second antireflection layer on the chromium film side surface, it can be used as an insulating layer.
In addition, each antireflection film has one or more of oxygen, nitrogen, and carbon, such as oxynitride and carbide, in addition to oxide and nitride, as the atomic percentage of chromium increases as the distance from the translucent substrate 1 increases. A compound with a combination of

〔透明導電性層6〕
透明導電性層6としては、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、ITO(Indium Tin Oxide;インジウム錫酸化物)、IZO(登録商標;出光興産株式会社)(Indium Zinc Oxide;インジウム亜鉛化物)、AZO(Aluminum Zinc Oxide;アルミニウム亜鉛酸化物)、IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide、インジウムガリウム亜鉛酸化物)、等の透明導電体薄膜を用いることができる。
[Transparent conductive layer 6]
As the transparent conductive layer 6, a known material and a forming method can be employed. For example, ITO (Indium Tin Oxide), IZO (registered trademark; Idemitsu Kosan Co., Ltd.) (Indium Zinc Oxide), AZO (Aluminum Zinc Oxide), IGZO (Indium Gallium) A transparent conductor thin film such as Zinc Oxide or indium gallium zinc oxide) can be used.

本実施形態においては、図6(b)に示すように、ブリッジ接続2Bの透明導電性層6は、メッシュ電極2Mの全域まで連続層として反射性導電性層3に接して形成されている。一方、前記ブリッジ接続2Bによって接続しない他方のメッシュ電極2Mの全域の反射性導電性層3に接して、前記透明導電性層6とは独立層で同一材料からなる透明導電層が、同時形成されている。
本発明においては、透明導電性層6を反射性導電性層3に接して、同じくメッシュ状に形成しても良く、この場合でも、メッシュ電極2Mの部分(本実施形態では具体的には第1透明電極要素2aE及び第2透明電極要素2bE)の面積抵抗率を、反射性導電性層3単独のメッシュ電極2Mに比べて、小さくすることができる。しかし、本実施形態のように、さらに、透明導電性層6の透明性を積極的に活かして、透明導電性層6を、メッシュ電極2Mの部分で反射性導電性層3の非形成部である開口部も含めて全面に形成することで、つまりベタパターンで形成することで、さらに、メッシュ電極2Mの部分の面積抵抗率を小さくすることができる。
しかも、この透明導電性層6は、ブリッジ接続2Bの透明導電性層6と、同時形成可能な面に形成されている為、同一材料で同時形成できるので、製造コストの増加なしに形成できる。
In the present embodiment, as shown in FIG. 6B, the transparent conductive layer 6 of the bridge connection 2B is formed in contact with the reflective conductive layer 3 as a continuous layer up to the entire area of the mesh electrode 2M. On the other hand, a transparent conductive layer made of the same material as an independent layer from the transparent conductive layer 6 is simultaneously formed in contact with the reflective conductive layer 3 in the entire area of the other mesh electrode 2M not connected by the bridge connection 2B. ing.
In the present invention, the transparent conductive layer 6 may be in contact with the reflective conductive layer 3 and may also be formed in a mesh shape. In this case as well, the mesh electrode 2M portion (specifically, in this embodiment, the first The area resistivity of the first transparent electrode element 2aE and the second transparent electrode element 2bE) can be made smaller than that of the mesh electrode 2M of the reflective conductive layer 3 alone. However, as in the present embodiment, the transparent conductive layer 6 is positively utilized in the non-formation portion of the reflective conductive layer 3 at the mesh electrode 2M portion by actively utilizing the transparency of the transparent conductive layer 6. By forming the entire surface including a certain opening, that is, by forming it with a solid pattern, the area resistivity of the mesh electrode 2M can be further reduced.
In addition, since the transparent conductive layer 6 is formed on a surface that can be formed simultaneously with the transparent conductive layer 6 of the bridge connection 2B, it can be formed simultaneously with the same material, so that it can be formed without an increase in manufacturing cost.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル基板10は、次のようにして製造することができる。
先ず、透光性基板1に低反射層5を形成する。次に、ブリッジ接続2Bの部分を残して電極2の一部として反射性導電性層3を形成する。次に、交差部2Cに絶縁層4を形成する。次に、交差部2Cのブリッジ接続2Bを透明導電性層6で形成すると同時に、メッシュ電極2Mの部分の全面にも同じ透明導電性層6を形成して、本実施形態のタッチパネル基板10が得られる。
〔Production method〕
The touch panel substrate 10 as described above can be manufactured as follows.
First, the low reflection layer 5 is formed on the translucent substrate 1. Next, the reflective conductive layer 3 is formed as a part of the electrode 2 leaving the bridge connection 2B. Next, the insulating layer 4 is formed at the intersection 2C. Next, the bridge connection 2B of the intersection 2C is formed by the transparent conductive layer 6, and at the same time, the same transparent conductive layer 6 is formed on the entire surface of the mesh electrode 2M, thereby obtaining the touch panel substrate 10 of the present embodiment. It is done.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることでも、本実施形態におけるタッチパネル基板10では、電極2に用いた反射性導電性層3を、低反射層5が隠す構造となっているので、反射性導電性層3を目立ち難くすることができる。
本実施形態では、反射性導電性層3は、メッシュ電極2Mの部分に加えて、メッシュ状ではない交差部2Cの一部、具体的には図5(a)でX方向に延びる電極部分にも用いられ、低反射層5もメッシュ電極2Mの部分に加えて交差部2Cの前記部分にも適用されており、メッシュ電極2Mの部分のみならず、交差部2Cの部分でも反射性導電性層3を目立ち難くすることができる。
さらに、交差部2CでY方向に延びるブリッジ接続2Bは透明導電性層6で形成されているため、この部分に対しては、低反射層5は必要ないため形成されていない。この点で、低反射層5には導電性層を用いることも可能となる。
さらに、交差部2Cの透明導電性層6は、メッシュ電極2Mの部分にもメッシュの開口部も含めてベタ状に形成されているため、メッシュ電極2Mの面積抵抗率を下げることができ、その分、メッシュ電極2Mの線幅を細くして透明性を上げることも可能となる。
また、反射性導電性層3は透明導電性層6で被覆されているため、反射性導電性層3が、大気に触れて変質したり、外力によって傷付いたりすることに対する保護層として機能させることもできる。この結果、透明導電性層6はオーバーコート層を兼用させることもできる。
[Effect in this embodiment]
Even in the configuration described above, the touch panel substrate 10 according to the present embodiment has a structure in which the reflective conductive layer 3 used for the electrode 2 is hidden by the low reflective layer 5. 3 can be made inconspicuous.
In this embodiment, in addition to the mesh electrode 2M, the reflective conductive layer 3 is formed on a part of the intersecting portion 2C that is not mesh-shaped, specifically on an electrode portion extending in the X direction in FIG. The low reflection layer 5 is also applied to the portion of the intersection 2C in addition to the mesh electrode 2M, and the reflective conductive layer is applied not only to the mesh electrode 2M but also to the intersection 2C. 3 can be made inconspicuous.
Furthermore, since the bridge connection 2B extending in the Y direction at the intersection 2C is formed of the transparent conductive layer 6, the low reflection layer 5 is not formed for this portion because it is not necessary. In this respect, a conductive layer can be used for the low reflection layer 5.
Further, since the transparent conductive layer 6 at the intersection 2C is formed in a solid shape including both the mesh electrode 2M and the mesh opening, the area resistivity of the mesh electrode 2M can be lowered. Accordingly, the line width of the mesh electrode 2M can be narrowed to increase transparency.
In addition, since the reflective conductive layer 3 is covered with the transparent conductive layer 6, the reflective conductive layer 3 functions as a protective layer against being altered by being exposed to the atmosphere or being damaged by an external force. You can also As a result, the transparent conductive layer 6 can also serve as an overcoat layer.

《第4の実施形態:メッシュ電極とブリッジ接続との導通部は除外した低反射層》
図7に示す本実施形態は、交差部5Cおけるブリッジ接続2Bについて、ブリッジ接続2Bを低反射層5よりも先に形成した結果、ブリッジ接続2Bとメッシュ電極2Mとを導
通させるために、両者を接続する導通部2Dにする部分の反射性導電性層3の部分は、低反射層5の形成は除外した形態である。換言すると、メッシュ電極2Mの部分において、低反射層5の外輪郭形状に対して、反射性導電性層3の外輪郭形状の一部が外側に存在する結果、低反射層5の外輪郭形状は反射性導電性層3の外輪郭形状を内側に含んでいない形態である。
また、本実施形態は、交差部5Cおけるブリッジ接続2Bに、透明導電性層6を用いることで、ブリッジ接続2Bに対する低反射層5は形成しない結果、第1電極2aと第2電極2bの各々に独立した低反射層5を形成した形態である。
図7(a)は、本実施形態によるタッチパネル基板10を交差部周辺で模式的に説明する部分拡大平面図であり、図7(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図である。
<< 4th Embodiment: The low reflection layer which excluded the conduction | electrical_connection part of a mesh electrode and bridge | bridging connection >>
In the present embodiment shown in FIG. 7, with respect to the bridge connection 2B at the intersection 5C, as a result of forming the bridge connection 2B before the low reflection layer 5, in order to make the bridge connection 2B and the mesh electrode 2M conductive, The portion of the reflective conductive layer 3 that is the conductive portion 2D to be connected is in a form excluding the formation of the low reflective layer 5. In other words, in the portion of the mesh electrode 2M, a part of the outer contour shape of the reflective conductive layer 3 is present outside the outer contour shape of the low reflective layer 5, so that the outer contour shape of the low reflective layer 5 is present. Is a form that does not include the outer contour shape of the reflective conductive layer 3 inside.
Further, in the present embodiment, as a result of using the transparent conductive layer 6 for the bridge connection 2B at the intersection 5C, the low reflection layer 5 for the bridge connection 2B is not formed. As a result, each of the first electrode 2a and the second electrode 2b In this embodiment, the low reflective layer 5 is formed independently.
FIG. 7A is a partially enlarged plan view schematically illustrating the touch panel substrate 10 according to the present embodiment around the intersection, and FIG. 7B is a partially enlarged cross section taken along the line CC in the plan view. FIG.

本実施形態は、前記図1に示した第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
a)ブリッジ接続2Bで接続するメッシュ電極2Mの反射性導電性層3に対しては、その接続の為の導通部2Dは除外して、低反射層5を形成する点。
b)交差部2Cにおけるブリッジ接続2Bが透明導電性層6によって形成されている点。
c)交差部2Cのブリッジ接続2Bを形成する透明導電性層6に対しては、低反射層5を非形成とし適用せず、交差部2Cの一方の電極2には反射性導電性層3を適用した点。
This embodiment is the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.
a) For the reflective conductive layer 3 of the mesh electrode 2M connected by the bridge connection 2B, the conductive portion 2D for the connection is excluded and the low reflective layer 5 is formed.
b) The bridge connection 2B at the intersection 2C is formed by the transparent conductive layer 6.
c) The low-reflection layer 5 is not applied to the transparent conductive layer 6 forming the bridge connection 2B of the intersection 2C, and the reflective conductive layer 3 is not applied to one electrode 2 of the intersection 2C. The point where is applied.

〔低反射層5〕
本実施形態のように、メッシュ電極2Mの部分において、反射性導電性層3に対して、低反射層5はその外輪郭形状が前記反射性導電性層3の外輪郭形状を内側に含んでいない部分があっても良い。反射性導電性層3の外輪郭形状が、低反射層5の外輪郭形状からはみ出した部分では、反射性導電性層3が視認され得ることになるが、本実施形態のように、メッシュ電極2Mの全面積に対して小さければ、反射性導電性層3はあまり目立たない。
[Low reflective layer 5]
As in the present embodiment, in the portion of the mesh electrode 2M, with respect to the reflective conductive layer 3, the low-reflection layer 5 includes the outer contour shape of the reflective conductive layer 3 on the inner side. There may be missing parts. In the portion where the outer contour shape of the reflective conductive layer 3 protrudes from the outer contour shape of the low reflective layer 5, the reflective conductive layer 3 can be visually recognized. However, as in this embodiment, the mesh electrode If it is small with respect to the total area of 2M, the reflective conductive layer 3 is not so conspicuous.

本実施形態では、低反射層5は、第1電極2aと第2電極2bに対して、互いに独立した独立層だが、この低反射層5には導電性層は適用できない。その理由は、ブリッジ構造が前記した第3の実施形態と異なり、図7(b)から判るように、低反射層5は、ブリッジ接続2Bに接して形成される部分と共に、絶縁層4の上を跨いで形成される反射性導電性層3にも接して形成される部分とを有するからである。   In the present embodiment, the low reflection layer 5 is an independent layer independent of the first electrode 2a and the second electrode 2b, but a conductive layer cannot be applied to the low reflection layer 5. The reason is that the bridge structure is different from the third embodiment described above, and as can be seen from FIG. 7B, the low reflection layer 5 is formed on the insulating layer 4 together with the portion formed in contact with the bridge connection 2B. It is because it has the part formed in contact also with the reflective conductive layer 3 formed ranging over.

〔透明導電性層6〕
透明導電性層6は、前記第3の実施形態の透明導電性層6の欄で説明した、公知の材料及び形成法を採用することができる。よって、さらなる説明は省略する。
ただ、本発明においては、このような反射性導電性層3と低反射層5との面方向での形状関係の形態において、ブリッジ接続2Bは透明導電性層6以外に、例えば、反射性導電性層3のような導電性層でも良い。ブリッジ接続2Bを反射性導電性層3で形成した場合、ブリッジ接続2Bに対しては低反射層5が適用されていない形態であるが、ブリッジ接続2Bは、いずれにしろ、メッシュ電極2Mなど、全体の全面積に対して小さいので、全体としては低反射層5を設けた効果が得られるからである。
[Transparent conductive layer 6]
The transparent conductive layer 6 can employ known materials and forming methods described in the section of the transparent conductive layer 6 of the third embodiment. Therefore, further explanation is omitted.
However, in the present invention, in the form of the shape relationship in the surface direction between the reflective conductive layer 3 and the low reflective layer 5, the bridge connection 2 </ b> B includes, for example, the reflective conductive layer in addition to the transparent conductive layer 6. A conductive layer such as the conductive layer 3 may be used. When the bridge connection 2B is formed of the reflective conductive layer 3, the low reflection layer 5 is not applied to the bridge connection 2B, but the bridge connection 2B is in any case a mesh electrode 2M, etc. This is because the total area is small, so that the effect of providing the low reflection layer 5 is obtained as a whole.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル基板10は、次のようにして製造することができる。
先ず、透光性基板1に、電極2の一部として、交差部2Cのブリッジ接続2Bを透明導電性層6で形成する。次に、ブリッジ接続2B及びその導通部2Dは除外して、低反射層5を形成する。次に、交差部2Cに絶縁層4を形成する。次に、電極2の一部として、ブリッジ接続2Bの部分を残して反射性導電性層3を形成して、本実施形態のタッチパネル基板10が得られる。
〔Production method〕
The touch panel substrate 10 as described above can be manufactured as follows.
First, a bridge connection 2 </ b> B of the intersection 2 </ b> C is formed with a transparent conductive layer 6 as a part of the electrode 2 on the translucent substrate 1. Next, the low reflection layer 5 is formed by excluding the bridge connection 2B and the conduction portion 2D. Next, the insulating layer 4 is formed at the intersection 2C. Next, the reflective conductive layer 3 is formed as a part of the electrode 2 while leaving the bridge connection 2B, and the touch panel substrate 10 of the present embodiment is obtained.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることでも、本実施形態におけるタッチパネル基板10では、電極2に用いた反射性導電性層3を、低反射層5が隠す構造となっているので、反射性導電性層3を目立ち難くすることができる。
本実施形態では、反射性導電性層3は、メッシュ電極2Mの部分に加えて、メッシュ状ではない交差部2Cの一部、具体的には図7(a)でX方向に延びる電極部分にも用いられ、低反射層5も、導通部2Dを除くメッシュ電極2Mの部分に加えて、交差部2Cの前記部分にも適用されており、メッシュ電極2Mの導通部2Dを除くほぼ全域のみならず、交差部2Cの部分でも反射性導電性層3を目立ち難くすることができる。
さらに、交差部2CでY方向に延びるブリッジ接続2Bは透明導電性層6で形成されているため、この部分に対しては低反射層5は不要にできる。
[Effect in this embodiment]
Even in the configuration described above, the touch panel substrate 10 according to the present embodiment has a structure in which the reflective conductive layer 3 used for the electrode 2 is hidden by the low reflective layer 5. 3 can be made inconspicuous.
In this embodiment, in addition to the mesh electrode 2M, the reflective conductive layer 3 is formed on a part of the intersecting portion 2C that is not mesh-like, specifically on an electrode portion extending in the X direction in FIG. The low reflection layer 5 is also applied to the portion of the intersecting portion 2C in addition to the portion of the mesh electrode 2M excluding the conductive portion 2D. In addition, the reflective conductive layer 3 can be made inconspicuous even at the intersection 2C.
Furthermore, since the bridge connection 2B extending in the Y direction at the intersection 2C is formed of the transparent conductive layer 6, the low reflection layer 5 can be omitted for this portion.

《第5の実施形態:低反射層を交差部一部にも適用、低反射層が絶縁層を兼用》
図8に示す本実施形態は、交差部2Cの絶縁層4を、低反射層5で兼用した形態である。また、同時に、前記第4の実施形態と同様に、交差部5Cおけるブリッジ接続2Bについて、ブリッジ接続2Bを低反射層5よりも先に形成した結果、ブリッジ接続2Bとメッシュ電極2Mとを導通させるために、両者を接続する導通部2Dにする部分の反射性導電性層3の部分は、低反射層5の形成は除外した形態である。換言すると、メッシュ電極2Mの部分において、低反射層5の外輪郭形状に対して、反射性導電性層3の外輪郭形状の一部が外側に存在する結果、低反射層5の外輪郭形状は反射性導電性層3の外輪郭形状を内側に含んでいない形態である。
また、本実施形態は、交差部5Cおけるブリッジ接続2Bに、透明導電性層6を用いることで、ブリッジ接続2Bに対する低反射層5は形成しない結果、第1電極2aと第2電極2bの各々に独立した低反射層5を形成した形態である。
図8(a)は、本実施形態によるタッチパネル基板10を交差部周辺で模式的に説明する部分拡大平面図であり、図8(b)は、平面図中C−C線での部分拡大断面図である。
<< Fifth embodiment: Low reflection layer is also applied to a part of the intersection, and the low reflection layer also serves as an insulating layer >>
In the present embodiment shown in FIG. 8, the insulating layer 4 at the intersection 2 </ b> C is also used as the low reflection layer 5. At the same time, as in the fourth embodiment, as a result of forming the bridge connection 2B before the low reflection layer 5 for the bridge connection 2B at the intersection 5C, the bridge connection 2B and the mesh electrode 2M are made conductive. For this reason, the portion of the reflective conductive layer 3 that is the conductive portion 2D that connects the two is a form in which the formation of the low reflective layer 5 is excluded. In other words, in the portion of the mesh electrode 2M, a part of the outer contour shape of the reflective conductive layer 3 is present outside the outer contour shape of the low reflective layer 5, so that the outer contour shape of the low reflective layer 5 is present. Is a form that does not include the outer contour shape of the reflective conductive layer 3 inside.
Further, in the present embodiment, as a result of using the transparent conductive layer 6 for the bridge connection 2B at the intersection 5C, the low reflection layer 5 for the bridge connection 2B is not formed. As a result, each of the first electrode 2a and the second electrode 2b In this embodiment, the low reflective layer 5 is formed independently.
FIG. 8A is a partially enlarged plan view schematically illustrating the touch panel substrate 10 according to the present embodiment around the intersection, and FIG. 8B is a partially enlarged cross section taken along the line CC in the plan view. FIG.

本実施形態は、前記図1に示した第1の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。また、以下のb)、c)及びd)は、前記第4の実施形態と同じである。
よって、第1の実施形態或いは第4の実施形態と、同じ部分の説明は省略する。
a)絶縁層4を低反射層5が兼用している点。
b)ブリッジ接続2Bで接続するメッシュ電極2Mの反射性導電性層3に対しては、その接続の為の導通部2Dは除外して、低反射層5を形成する点。
c)交差部2Cにおけるブリッジ接続2Bが透明導電性層によって形成されている点。
d)交差部2Cのブリッジ接続2Bを形成する透明導電性層6に対しては、低反射層5を非形成とし適用せず、交差部2Cの一方の電極2には反射性導電性層3を適用した点。
This embodiment is the same as the first embodiment shown in FIG. 1 except for the following points. The following b), c) and d) are the same as those in the fourth embodiment.
Therefore, the description of the same part as the first embodiment or the fourth embodiment is omitted.
a) The low reflection layer 5 is also used as the insulating layer 4.
b) For the reflective conductive layer 3 of the mesh electrode 2M connected by the bridge connection 2B, the conductive portion 2D for the connection is excluded and the low reflective layer 5 is formed.
c) The bridge connection 2B at the intersection 2C is formed by a transparent conductive layer.
d) The low-reflection layer 5 is not applied to the transparent conductive layer 6 forming the bridge connection 2B of the intersection 2C, and the reflective conductive layer 3 is not applied to one electrode 2 of the intersection 2C. The point where is applied.

〔絶縁層4を兼用する低反射層5〕
低反射層5は絶縁層4を兼用させるため、低反射層5には、前記各実施形態で説明したもののうち、絶縁性のあるものを用いることができる。
[Low reflective layer 5 also used as insulating layer 4]
Since the low reflective layer 5 also serves as the insulating layer 4, the low reflective layer 5 may be an insulating material among those described in the above embodiments.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル基板10は、次のようにして製造することができる。
先ず、透光性基板1に、電極2の一部として、交差部2Cのブリッジ接続2Bを透明導電性層6で形成する。次に、ブリッジ接続2B及びその導通部2Dは除外して、低反射層5を形成する。この、低反射層5は交差部2Cの絶縁層4を兼用する。次に、電極2の一部として、ブリッジ接続2Bの部分を残して反射性導電性層3を形成して、本実施形態のタッチパネル基板10が得られる。
〔Production method〕
The touch panel substrate 10 as described above can be manufactured as follows.
First, a bridge connection 2 </ b> B of the intersection 2 </ b> C is formed with a transparent conductive layer 6 as a part of the electrode 2 on the translucent substrate 1. Next, the low reflection layer 5 is formed by excluding the bridge connection 2B and the conduction portion 2D. The low reflection layer 5 also serves as the insulating layer 4 at the intersection 2C. Next, the reflective conductive layer 3 is formed as a part of the electrode 2 while leaving the bridge connection 2B, and the touch panel substrate 10 of the present embodiment is obtained.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることでも、本実施形態におけるタッチパネル基板10では、電極2に用いた反射性導電性層3を、低反射層5が隠す構造となっているので、反射性導電性層3を目立ち難くすることができる。
本実施形態では、反射性導電性層3は、メッシュ電極2Mの部分に加えて、メッシュ状ではない交差部2Cの一部、具体的には図8(a)でX方向に延びる電極部分にも用いられ、低反射層5も、導通部2Dを除くメッシュ電極2Mの部分に加えて、交差部2Cの前記部分にも適用されており、メッシュ電極2Mの導通部2Dを除くほぼ全域のみならず、交差部2Cの部分でも反射性導電性層3を目立ち難くすることができる。
さらに、低反射層5が交差部2Cの絶縁層4を兼用しているので、絶縁層4単独としての形成工程を省略できる。
さらに、交差部2CでY方向に延びるブリッジ接続2Bは透明導電性層6で形成されているため、この部分に対しては、低反射層5は不要にできる。
[Effect in this embodiment]
Even in the configuration described above, the touch panel substrate 10 according to the present embodiment has a structure in which the reflective conductive layer 3 used for the electrode 2 is hidden by the low reflective layer 5. 3 can be made inconspicuous.
In the present embodiment, the reflective conductive layer 3 is not only a part of the mesh electrode 2M but also a part of the intersecting part 2C that is not mesh-shaped, specifically, an electrode part extending in the X direction in FIG. The low reflection layer 5 is also applied to the portion of the intersecting portion 2C in addition to the portion of the mesh electrode 2M excluding the conductive portion 2D. In addition, the reflective conductive layer 3 can be made inconspicuous even at the intersection 2C.
Furthermore, since the low reflective layer 5 also serves as the insulating layer 4 at the intersection 2C, the step of forming the insulating layer 4 alone can be omitted.
Furthermore, since the bridge connection 2B extending in the Y direction at the intersection 2C is formed of the transparent conductive layer 6, the low reflection layer 5 can be omitted for this portion.

《第6の実施形態:低反射層が加飾部構成層兼用;前面保護板一体型タッチパネル基板》
図9に示す本実施形態は、タッチパネル基板10が、表示装置用前面保護板も兼用する形態であり、位置検知領域Apの外周部に加飾部8を有し、低反射層5はこの加飾部8の構成層と同一材料で同時形成されている形態である。
本実施形態では、前記図5で説明した第3の実施形態に対する変形形態として、低反射層5が加飾部8を兼用する形態例を説明する。よって、適宜、図5も参照されたい。ここでは、第3の実施形態で説明したことは同じとなるので省略して、異なる点について説明する。
図9(a)は、本実施形態によるタッチパネル基板10の全体を裏側から見た平面図であり、図9(b)は、図9(a)中、C−C線での、加飾部及び配線と、メッシュ電極2Mを模式的に説明する部分拡大断面図である。
<< Sixth embodiment: Low reflection layer is also used as a decorative layer constituent layer; touch panel substrate with integrated front protective plate >>
In the present embodiment shown in FIG. 9, the touch panel substrate 10 is also used as a front protective plate for a display device. The touch panel substrate 10 has a decorative portion 8 on the outer periphery of the position detection region Ap, and the low reflection layer 5 It is the form simultaneously formed with the same material as the constituent layer of the decoration part 8.
In the present embodiment, as a modification of the third embodiment described with reference to FIG. 5, an example in which the low reflection layer 5 also serves as the decoration portion 8 will be described. Therefore, please refer also to FIG. Here, since what has been described in the third embodiment is the same, a description thereof will be omitted, and different points will be described.
Fig.9 (a) is the top view which looked at the whole touch panel board | substrate 10 by this embodiment from the back side, FIG.9 (b) is a decorating part in CC line in Fig.9 (a). FIG. 5 is a partially enlarged cross-sectional view schematically illustrating a wiring and a mesh electrode 2M.

本実施形態は、前記図5に示した第3の実施形態に対して、次の点が異なる以外は、同じである。よって、同じ部分の説明は省略する。
a)低反射層5が、加飾部8の構成層の一つである遮光層8aと、同一材料で同時形成されている点。
b)反射性導電性層3が、加飾部8に形成されている配線7と、同一材料で同時形成されている点。
c)絶縁層4が、加飾部8の構成層の一つであるオーバーコート層9と、同一材料で同時形成されている点。
This embodiment is the same as the third embodiment shown in FIG. 5 except for the following points. Therefore, the description of the same part is omitted.
a) The low reflective layer 5 is simultaneously formed of the same material as the light shielding layer 8a which is one of the constituent layers of the decorative portion 8.
b) The point that the reflective conductive layer 3 is simultaneously formed with the same material as the wiring 7 formed in the decorative portion 8.
c) The insulating layer 4 is simultaneously formed with the same material as the overcoat layer 9 which is one of the constituent layers of the decorative portion 8.

〔加飾部8の付加と、表示装置用前面保護板との兼用〕
本実施形態で例示するように、本発明において、タッチパネル基板10は、位置検知領域Apの外周部に加飾部8を有することができる。
加飾部8は、タッチパネル基板10を含むタッチパネル、このタッチパネルを用いた表示装置において、位置検知領域Apの外周部に位置する配線7や制御回路などを、表示装置の観察者V乃至はタッチパネルの操作者から、見えないように隠して、外観が損なわれないようにすると共に、任意の意匠を表現する部分である。
タッチパネル基板10は、位置検知領域Apの外周部に加飾部8を有することで、図16(a)で例示した従来の表示装置200における、カバーガラスなど表示装置用前面保護板50としての機能を担うことができ、表示装置用前面保護板50と兼用させることができる。
表示装置用前面保護板50を兼用した構成のタッチパネル基板10は、「前面保護板一体型タッチパネル基板」ということもできる。
タッチパネル基板10は、表示装置用前面保護板50を兼用し一体化することで、さらに、部品点数の低減、薄型化の効果が得られる。
[Combination of addition of decoration part 8 and front protective plate for display device]
As exemplified in the present embodiment, in the present invention, the touch panel substrate 10 can have a decorative portion 8 on the outer peripheral portion of the position detection region Ap.
The decoration unit 8 includes a touch panel including the touch panel substrate 10, a display device using the touch panel, the wiring 7 and the control circuit positioned on the outer periphery of the position detection area Ap, and the observer V or the touch panel of the display device. It is a portion that is hidden from the operator so as not to be visible so that the appearance is not impaired and an arbitrary design is expressed.
The touch panel substrate 10 has the decoration portion 8 on the outer periphery of the position detection area Ap, so that the function as the front protective plate 50 for a display device such as a cover glass in the conventional display device 200 illustrated in FIG. And can also be used as the front protective plate 50 for a display device.
The touch panel substrate 10 configured to also serve as the display device front protective plate 50 can be referred to as a “front protective plate integrated touch panel substrate”.
The touch panel substrate 10 is combined with the front protective plate 50 for the display device and integrated, thereby further reducing the number of parts and reducing the thickness.

〔低反射層5と、加飾部8との材料同一化〕
タッチパネル基板10が加飾部8も有する形態では、その加飾部8に低反射層5と同様の低反射性及び遮光性を有する構成要素があるときは、低反射層5は、加飾部8と同一材料で形成することができる。また、低反射層5は加飾部8と同一材料で形成することが好ましい。低反射層5を加飾部8と同一材料で形成することで、低反射層5は、加飾部8と同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層3を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができるからである。もちろん、この場合、低反射層5と加飾部8とは透光性基板1の同一面上に形成されていることで、同一工程で同時形成可能となる。
[Material identification of the low reflection layer 5 and the decorative portion 8]
In the form in which the touch panel substrate 10 also has the decorative portion 8, when the decorative portion 8 has a component having low reflection and light shielding properties similar to the low reflective layer 5, the low reflective layer 5 is used as the decorative portion. 8 and the same material. The low reflective layer 5 is preferably formed of the same material as the decorative portion 8. By forming the low reflective layer 5 with the same material as the decorative portion 8, the low reflective layer 5 can be provided in the same process as the decorative portion 8 without increasing the number of steps, and thus the reflective conductive layer 3. This is because it is possible to realize a structure that does not stand out without cost. Of course, in this case, since the low reflection layer 5 and the decorative portion 8 are formed on the same surface of the translucent substrate 1, they can be simultaneously formed in the same process.

さらに、同時形成可能について、詳しく説明すれば、「同時形成可能な面」に接して設けられる構造の低反射層5と加飾部8とすることで、同一工程で同時形成可能となる。これは、逆説的であるが、逆の「同時形成不可能な面」の構造で判り易く言えば、例えば、後述するオーバーコート層9の面に対して、オーバーコート層9の透明基材1側など一方の面に接して加飾部8が形成され、他方の面に接して低反射層5が形成されている構造であると、加飾部8と低反射層5とは「同時形成可能な面」に接して設けられていない構造となる。したがって、互いに同時形成した層は、「同時形成可能な面」に接して形成された層と言うこともできる。
なお、「同時形成可能な面」に接してとは、反射性導電性層3と配線7との関係、絶縁層4と加飾部8の関係でも同様である。なお、上記では単に「加飾部8」として説明したが、加飾部8とは、具体的には加飾部8を構成する層の意味である。
Furthermore, if it explains in detail about simultaneous formation, it can be formed simultaneously in the same process by setting it as the low reflection layer 5 and the decoration part 8 of the structure provided in contact with the "surface which can be formed simultaneously." This is paradoxical, but if it can be easily understood by the reverse “surface that cannot be formed simultaneously”, for example, the transparent substrate 1 of the overcoat layer 9 with respect to the surface of the overcoat layer 9 described later. The decorative portion 8 is formed in contact with one surface such as the side, and the low reflective layer 5 is formed in contact with the other surface. The decorative portion 8 and the low reflective layer 5 are “simultaneously formed”. The structure is not provided in contact with the “possible surface”. Therefore, the layers formed simultaneously with each other can also be referred to as layers formed in contact with “surfaces that can be formed simultaneously”.
Note that “in contact with the surface that can be formed simultaneously” is the same for the relationship between the reflective conductive layer 3 and the wiring 7 and the relationship between the insulating layer 4 and the decorative portion 8. In addition, although it demonstrated as the "decoration part 8" above, the decoration part 8 is the meaning of the layer which specifically comprises the decoration part 8. FIG.

加飾部8は、配線7などを隠すために、携帯電話などでは、遮光性を有する遮光層8aを少なくも有するが、この他、図10に明示されるように、赤外透過窓8bなども通常は有する。赤外透過窓8bは、通話時に携帯電話を耳にあてがったときに、タッチパネルの誤作動を防ぐ必要から、また、表示パネルの表示を消して電池寿命を長くする観点などから、人肌の接近を感知する人感センサとして設ける赤外線センサの部分に設けられる。
低反射層5と同一材料で形成する加飾部8の構成層としては、例えば、遮光層8aと、図10を参照して後述する赤外透過窓8bの部分に形成する赤外透過層8bLとがある。
In order to conceal the wiring 7 and the like, the decoration unit 8 has at least a light-shielding layer 8a having a light-shielding property in a mobile phone or the like. In addition to this, as clearly shown in FIG. Usually also have. The infrared transmission window 8b is necessary to prevent malfunction of the touch panel when the mobile phone is put on the ear during a call, and from the viewpoint of extinguishing the display panel and extending the battery life. It is provided in the part of the infrared sensor provided as a human sensor that senses.
As a constituent layer of the decorative portion 8 formed of the same material as the low reflective layer 5, for example, a light shielding layer 8a and an infrared transmission layer 8bL formed in a portion of an infrared transmission window 8b described later with reference to FIG. There is.

[遮光層8a]
遮光層8aそれ自体としての遮光性は、要求仕様、表現色にもよるが、透過率で言えば大きくても3%以下(光学濃度ODにて1.5以上)、より好ましくは透過率で1%以下(光学濃度OD2.0以上)、さらに好ましくは透過率で0.01%以下(光学濃度OD4.0以上)が望ましい。透過率が上記を超えると、隠すべき部品などが見えてしまうことがあるからである。
[Light shielding layer 8a]
The light shielding property as the light shielding layer 8a itself depends on the required specifications and expression color, but in terms of transmittance, it is 3% or less (1.5 or more at the optical density OD), more preferably transmittance. 1% or less (optical density OD2.0 or more), more preferably 0.01% or less (optical density OD4.0 or more) in terms of transmittance is desirable. This is because if the transmittance exceeds the above, parts to be hidden may be seen.

遮光層8aは、公知の材料及び形成法で形成することができる。例えば、遮光層8aは、着色顔料を硬化性樹脂の硬化物からなる樹脂バインダ中に含む層から形成することができる。硬化性樹脂としては紫外線硬化型アクリル系樹脂などの感光性樹脂を用いることができる。   The light shielding layer 8a can be formed by a known material and a forming method. For example, the light shielding layer 8a can be formed from a layer containing a color pigment in a resin binder made of a cured product of a curable resin. As the curable resin, a photosensitive resin such as an ultraviolet curable acrylic resin can be used.

遮光層8aに用いる着色顔料としては、遮光層8aで表現する色に応じたものを用いれば良く、特に制限はない。例えば、着色顔料としては、黒色顔料、白色顔料、赤色顔料、黄色顔料、青色顔料、緑色顔料、紫色顔料などを用いることができる。着色顔料は、1種単独で用いても良いし、同種類の色、或いは異なる色の着色顔料を複数種類用いても良い。   The color pigment used for the light shielding layer 8a may be any color pigment corresponding to the color expressed by the light shielding layer 8a, and is not particularly limited. For example, as a colored pigment, a black pigment, a white pigment, a red pigment, a yellow pigment, a blue pigment, a green pigment, a purple pigment, or the like can be used. The color pigments may be used alone, or a plurality of types of color pigments of the same type or different colors may be used.

低反射層5と同一材料で形成する場合の遮光層8aが呈する色は、白のような反射性の色ではなく、黒のような暗色の色が好ましい。また、黒色は、加飾部8で表現する意匠色としても、好ましい色の一種である。   When the light-shielding layer 8a is formed of the same material as the low-reflection layer 5, a dark color such as black is preferable instead of a reflective color such as white. Moreover, black is also a kind of preferable color as a design color expressed by the decorative portion 8.

[赤外透過窓8b]
図10(a)及び図10(b)に例示するように、加飾部8には、可視光に対しては遮光性を示すと共に赤外光に対しては透過性を示す赤外透過窓8bとする部分に、赤外透過層8bLを有することがある。遮光層8aが黒色の場合、黒色顔料としてカーボンブラックを用いると、可視光のみならず赤外光に対しても遮光性となってしまうために、遮光層8aとは材料が異なる層として赤外透過層8bLが必要になることがあるからである。
[Infrared transmission window 8b]
As illustrated in FIG. 10A and FIG. 10B, the decorative portion 8 has an infrared transmission window that has a light shielding property for visible light and a light transmittance for infrared light. An infrared transmission layer 8bL may be provided in the portion 8b. When the light shielding layer 8a is black, if carbon black is used as a black pigment, it becomes light shielding not only for visible light but also for infrared light. This is because the transmissive layer 8bL may be required.

赤外透過窓8bの赤外光に対する透過性は、要求仕様、表現色、赤外透過窓8bに適用する赤外線センサなどの赤外利用部品にもよるが、一例を示せば、赤外領域での透過率70%以上にする。前記透過率70%以上とする赤外領域は、必ずしも780nm以上の領域でなくてもよく、例えば850nm以上の領域であれば、充分に対応可能である。なお、透過率70%以上とする赤外領域の上限は、近赤外域、それも通常、1300nmまでを満たせば、対応できる。
赤外透過窓8bの可視光に対する遮光性は、要求仕様、表現色にもよるが、赤外透過窓8bの部分は、通常、スポット的に小さいため、必ずしも、赤外透過窓8bと遮光層8aの遮光性のレベルに合わせる必要はない。このため、赤外透過窓8bの可視光に対する遮光性は、一例を示せば、透過率で言えば大きくても50%以下(光学濃度ODにて0.2以上)、より好ましくは透過率で25%以下(光学濃度OD0.6以上)、さらに好ましくは透過率で10%以下(光学濃度OD1.0以上)が望ましい。
こうして、赤外透過窓8bは、例えば、赤外光領域に対しては、波長850nm以上1300nm以下で70%以上、可視光領域に対しては10%以下で設ける。なお、この透過率とは、平均値ではなく、各波長毎の値である。
The transmittance of the infrared transmission window 8b with respect to infrared light depends on the required specifications, expression color, and infrared components such as an infrared sensor applied to the infrared transmission window 8b. The transmittance is 70% or more. The infrared region having a transmittance of 70% or more is not necessarily a region of 780 nm or more. For example, an infrared region of 850 nm or more can be sufficiently handled. Note that the upper limit of the infrared region where the transmittance is 70% or more can be dealt with if the near-infrared region is satisfied, usually up to 1300 nm.
The light shielding property of the infrared transmission window 8b with respect to visible light depends on the required specifications and the expression color. However, since the infrared transmission window 8b is usually small in spot, the infrared transmission window 8b and the light shielding layer are not necessarily used. It is not necessary to match the light shielding level of 8a. For this reason, as an example, the light shielding property with respect to visible light of the infrared transmission window 8b is 50% or less (0.2 or more in optical density OD) in terms of transmittance, more preferably transmittance. It is desirably 25% or less (optical density OD 0.6 or more), more preferably 10% or less (optical density OD 1.0 or more) in terms of transmittance.
Thus, for example, the infrared transmission window 8b is provided at a wavelength of 850 nm to 1300 nm for the infrared light region and 70% or more for the visible light region, and 10% or less for the visible light region. The transmittance is not an average value but a value for each wavelength.

(赤外透過層8bL)
赤外透過層8bLは、赤外透過窓8bの存在を目立たなくさせるために、通常、遮光層8aと類似色で形成される。そして、赤外透過層8bLは、可視光に対しては遮光性を示すと共に赤外光に対しては透過性を示す。
低反射層5と同一材料で形成する場合の赤外透過層8bLが呈する色は、白のような反射性の色ではなく、黒のような暗色の色である。また、黒色は、加飾部8で表現する意匠色としても、好ましい色の一種である。
赤外透過層8bLは、カーボンブラックのような黒色顔料は含有させずに、互いに色が異なる有彩色の着色顔料の複数種類、例えば、赤色、黄色、青色を含有させることで、黒色など暗色を表現した層として形成することができる。
(Infrared transmission layer 8bL)
The infrared transmission layer 8bL is usually formed in a similar color to the light shielding layer 8a in order to make the presence of the infrared transmission window 8b inconspicuous. The infrared transmission layer 8bL exhibits a light shielding property with respect to visible light and a transparency with respect to infrared light.
The color that the infrared transmission layer 8bL exhibits when formed of the same material as the low reflection layer 5 is not a reflective color such as white but a dark color such as black. Moreover, black is also a kind of preferable color as a design color expressed by the decorative portion 8.
The infrared transmission layer 8bL does not contain a black pigment such as carbon black, but contains a plurality of types of chromatic color pigments having different colors, for example, red, yellow, and blue, thereby providing a dark color such as black. It can be formed as an expressed layer.

低反射層5を赤外透過層8bLと同一材料で形成することで、低反射層5は、加飾部8の赤外透過層8bLと同一工程で工程数を増やさずに設けることもできるため、反射性導電性層3を目立たなくした構造を、コストをかけずに実現することができる。   By forming the low reflection layer 5 with the same material as the infrared transmission layer 8bL, the low reflection layer 5 can be provided without increasing the number of steps in the same process as the infrared transmission layer 8bL of the decorative portion 8. The structure in which the reflective conductive layer 3 is not conspicuous can be realized without cost.

〔配線7〕
配線7は、前記反射性導電性層3と同一材料で形成されている。つまり、本実施形態においては、配線7は、銀、パラジウム及び銅からなる銀合金(APCとも言う)によって、金属層として形成されている。
但し、反射性導電性層3と低反射層5とを、同時形成しないのであれば、本発明においては、配線7には、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、配線7には、銀、金、銅、クロム、プラチナ、アルミニウム、パラジウム、モリブデンなどの金属(含むその合金)などを用いることができる。例えば、銀、パラジウム及び銅からなる合金(APCとも言う)の金属層としてスパッタ法により製膜後、フォトリソグラフィ法によりパターン形成したものを用いることができる。
配線7には、モリブデン(Mo)/アルミニウム(Al)/モリブデン(Mo)と3層積層構造の導電性層(MAMと呼ばれている)を用いることもできる。
配線7の形成法としては、特に制限はなく、フォトリソグラフィ法以外に、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法などの印刷法によって形成しても良い。
[Wiring 7]
The wiring 7 is made of the same material as the reflective conductive layer 3. That is, in this embodiment, the wiring 7 is formed as a metal layer by a silver alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium, and copper.
However, if the reflective conductive layer 3 and the low reflective layer 5 are not formed simultaneously, a known material and a forming method can be used for the wiring 7 in the present invention. For example, the wiring 7 can be made of metal (including alloys thereof) such as silver, gold, copper, chromium, platinum, aluminum, palladium, and molybdenum. For example, a metal layer of an alloy (also referred to as APC) made of silver, palladium, and copper, which is formed by sputtering and then patterned by photolithography, can be used.
For the wiring 7, molybdenum (Mo) / aluminum (Al) / molybdenum (Mo) and a three-layered conductive layer (called MAM) can be used.
The method for forming the wiring 7 is not particularly limited, and it may be formed by a printing method such as a screen printing method or an ink jet printing method in addition to the photolithography method.

〔オーバーコート層9〕
タッチパネル基板10は、本実施形態のように、透明なオーバーコート層9を含むことができる。図9(b)は、オーバーコート層9を、加飾部8における遮光層8aの面上に形成される配線7に対する保護膜として形成した例である。
本発明においては、オーバーコート層9は、その他の層を全て形成後、これらを保護する等の為にタッチパネル基板10の全面に形成することもできる。また、層間にも適宜設けることができる。オーバーコート層9を設ける領域及び厚み方向位置は、適宜設定することができる。従って、他の実施形態に対して、オーバーコート層9を適用しても良い。
オーバーコート層9によって、信頼性を向上させることができる。
[Overcoat layer 9]
The touch panel substrate 10 can include a transparent overcoat layer 9 as in the present embodiment. FIG. 9B shows an example in which the overcoat layer 9 is formed as a protective film for the wiring 7 formed on the surface of the light shielding layer 8 a in the decorative portion 8.
In the present invention, the overcoat layer 9 can also be formed on the entire surface of the touch panel substrate 10 in order to protect them after all other layers are formed. Moreover, it can also provide suitably also between layers. The area | region and thickness direction position which provide the overcoat layer 9 can be set suitably. Accordingly, the overcoat layer 9 may be applied to other embodiments.
Reliability can be improved by the overcoat layer 9.

オーバーコート層9には、公知の材料及び形成法を採用することができる。例えば、オーバーコート層9は、透明な樹脂、それも耐熱性の点で硬化性樹脂が好ましく、熱硬化型エポキシ樹脂、紫外線硬化型アクリル系樹脂などを用いることができる。パターン形成する場合は、フォトリソグラフィ法で形成することができる。   For the overcoat layer 9, known materials and forming methods can be employed. For example, the overcoat layer 9 is preferably a transparent resin, preferably a curable resin in terms of heat resistance, and a thermosetting epoxy resin, an ultraviolet curable acrylic resin, or the like can be used. When forming a pattern, it can be formed by photolithography.

〔製造方法〕
以上のようなタッチパネル基板10は、次のようにして製造することができる。
先ず、透光性基板1に低反射層5と加飾部8の遮光層8aとを同一材料で同時形成する。
次に、ブリッジ接続2Bの部分を残して電極2の一部として反射性導電性層3と、加飾部8の遮光層8a上の配線7とを同一材料で同時形成する。
次に、交差部2Cの絶縁層4と、加飾部8のオーバーコート層9とを、同一材料で同時形成する。
次に、交差部2Cのブリッジ接続2Bを透明導電性層6で形成すると同時に、メッシュ電極2Mの部分の全面にも同じ透明導電性層6を形成して、本実施形態のタッチパネル基板10が得られる。
〔Production method〕
The touch panel substrate 10 as described above can be manufactured as follows.
First, the low reflection layer 5 and the light shielding layer 8a of the decorative portion 8 are simultaneously formed on the translucent substrate 1 using the same material.
Next, the reflective conductive layer 3 and the wiring 7 on the light shielding layer 8a of the decorative portion 8 are simultaneously formed of the same material as a part of the electrode 2 leaving the bridge connection 2B.
Next, the insulating layer 4 at the intersection 2C and the overcoat layer 9 at the decoration 8 are simultaneously formed of the same material.
Next, the bridge connection 2B of the intersection 2C is formed by the transparent conductive layer 6, and at the same time, the same transparent conductive layer 6 is formed on the entire surface of the mesh electrode 2M, thereby obtaining the touch panel substrate 10 of the present embodiment. It is done.

〔本実施形態における効果〕
以上のような構成とすることでも、本実施形態におけるタッチパネル基板10では、電極2に用いた反射性導電性層3を、低反射層5が隠す構造となっているので、反射性導電性層3を目立ち難くすることができる。
しかも、前記第3の実施形態で説明した効果に加えて、加飾部8を設けて表示装置用前面保護板を兼用するタッチパネル基板10としているにも拘らず、そのための、加飾部8の遮光層8a、配線7、オーバーコート層9について、遮光層8aは低反射層5と兼用させ、配線7は反射性導電性層3と兼用させ、オーバーコート層9は絶縁層4と兼用させ、これらの兼用する層同士は、全て同一材料で同時形成されている為に、コストをかけずに、前面保護板一体型タッチパネル基板とすることができる。
[Effect in this embodiment]
Even in the configuration described above, the touch panel substrate 10 according to the present embodiment has a structure in which the reflective conductive layer 3 used for the electrode 2 is hidden by the low reflective layer 5. 3 can be made inconspicuous.
Moreover, in addition to the effects described in the third embodiment, the decoration unit 8 is provided, and the touch panel substrate 10 that also serves as the front protective plate for the display device is provided, but the decoration unit 8 for that purpose is provided. Regarding the light shielding layer 8a, the wiring 7 and the overcoat layer 9, the light shielding layer 8a is also used as the low reflection layer 5, the wiring 7 is also used as the reflective conductive layer 3, and the overcoat layer 9 is also used as the insulating layer 4. Since all these layers are simultaneously formed of the same material, the front protective plate-integrated touch panel substrate can be obtained without cost.

《変形形態》
本発明のタッチパネル基板10は、上記した形態以外のその他の形態をとり得る。以下、その一部を説明する。
<Deformation>
The touch panel substrate 10 of the present invention may take other forms other than the above-described forms. Some of these will be described below.

〔反射性導電性層3と低反射層5との厚み方向での位置関係〕
前記した各実施形態の全てにおいて、低反射層5は、透光性基板1に対して、反射性導電性層3よりも先に形成する、先形成の低反射層5であった。しかし、本発明においては、低反射層5は、反射性導電性層3よりも後に形成する後形成の低反射層5であっても良い。例えば、図11(a)及び図11(b)は、前記第2の実施形態の図4(a)及び図4(b)に対して、先形成の低反射層5を、後形成の低反射層5にした形態例である。
図11に示す形態は、電極2を有する側の一方の面である第1面S1を「裏側」ではなく、「表側」とする形態である。
[Positional relationship between the reflective conductive layer 3 and the low reflective layer 5 in the thickness direction]
In all of the above-described embodiments, the low reflective layer 5 is the pre-formed low reflective layer 5 formed before the reflective conductive layer 3 with respect to the translucent substrate 1. However, in the present invention, the low reflection layer 5 may be a post-formation low reflection layer 5 formed after the reflective conductive layer 3. For example, FIG. 11A and FIG. 11B are different from FIGS. 4A and 4B of the second embodiment in that the pre-formed low reflection layer 5 is formed in a post-formed low layer. This is an example in which the reflective layer 5 is used.
The form shown in FIG. 11 is a form in which the first surface S1, which is one surface on the side having the electrode 2, is not the “back side” but the “front side”.

本発明において、低反射層5が「反射性導電性層3に対して透光性基板1側」に形成される、と言う意味は、低反射層5が透光性基板1の一方の面として第1面S1に形成された反射性導電性層3に対して、透光性基板1の他方の面、つまり第2面S2上に低反射層5が形成される形態も含む。例えば、図12の断面図は、前記第1の実施形態の図1(d)に対応した例である。
要は、本発明のタッチパネル基板10においては、タッチパネル基板10を用いたタッチパネルを操作する操作者、これはタッチパネル基板10が適用される表示パネル40を観察する観察者Vでもあるが、この観察者Vに、反射性導電性層3よりも近い側に低反射層5を有する構成とする。
以上のような、反射性導電性層3と低反射層5との厚み方向での各種位置関係によって、タッチパネル基板10が適用される用途に応じて、製品設計の自由度を向上さることができる。
In the present invention, the meaning that the low reflective layer 5 is formed on the “translucent substrate 1 side with respect to the reflective conductive layer 3” means that the low reflective layer 5 is on one surface of the translucent substrate 1. For example, the low reflective layer 5 may be formed on the other surface of the translucent substrate 1, that is, the second surface S2, with respect to the reflective conductive layer 3 formed on the first surface S1. For example, the cross-sectional view of FIG. 12 is an example corresponding to FIG. 1D of the first embodiment.
In short, in the touch panel substrate 10 of the present invention, an operator who operates the touch panel using the touch panel substrate 10, which is also an observer V who observes the display panel 40 to which the touch panel substrate 10 is applied. The low reflection layer 5 is provided on the side closer to the reflective conductive layer 3 than V.
The various positional relationships in the thickness direction between the reflective conductive layer 3 and the low reflective layer 5 as described above can improve the degree of freedom in product design according to the application to which the touch panel substrate 10 is applied. .

〔透光性基板1に両面形成の電極2及び低反射層5〕
前記した各実施形態の全てにおいて、電極2は透光性基板1の片面に形成された形態であった。しかし、本発明においては、電極2は透光性基板1の両面に形成されていても良い。図13は、その一形態例を模式的に示す部分拡大断面図である。例えば、図1で例示した第1の実施形態において、図1(a)で示した第1電極2aと、図1(b)で示した第2電極2bとが、透光性基板1の両面に分かれて形成されることで、透光性基板1によって互いに絶縁されて形成された形態である。
低反射層5も、図13に例示の形態では、透光性基板1の両面に分かれて形成され、透光性基板1に低反射層5と同一面側に形成された反射性導電性層3に適用されている。
図13の形態は、ブリッジ構造による両電極2間の絶縁を透光性基板1が基板機能と共に兼用するので、単独の絶縁層4の形成を不要にできる利点がある。
[Electrode 2 and Low Reflective Layer 5 Formed on Both Sides of Translucent Substrate 1]
In all the embodiments described above, the electrode 2 was formed on one side of the translucent substrate 1. However, in the present invention, the electrodes 2 may be formed on both surfaces of the translucent substrate 1. FIG. 13 is a partial enlarged cross-sectional view schematically showing an example of the embodiment. For example, in the first embodiment illustrated in FIG. 1, the first electrode 2 a illustrated in FIG. 1A and the second electrode 2 b illustrated in FIG. By being formed separately, the light-transmitting substrate 1 is formed so as to be insulated from each other.
In the form illustrated in FIG. 13, the low reflective layer 5 is also formed separately on both surfaces of the translucent substrate 1, and the reflective conductive layer formed on the same surface side as the low reflective layer 5 on the translucent substrate 1. 3 is applied.
The form of FIG. 13 has an advantage that it is not necessary to form a single insulating layer 4 because the translucent substrate 1 also serves as a substrate function for the insulation between both electrodes 2 by the bridge structure.

〔交差部2Cにおける、電極2の構成材料及び低反射層5の適用有無〕
本発明においては、電極2の構成材料としてメッシュ電極2Mの部分は反射性導電性層3を用いるが、交差部2Cにおける電極2の構成材料としては、特に限定はなく、反射性導電性層3を用いても良いし、透明導電性層6など、反射性導電性層3以外の材料を用いても良い。
本発明においては、交差部2Cの電極2に反射性導電性層3を用いる場合でも、この部分の反射性導電性層3に対しては、低反射層5を適用しても良く、適用しなくても良い。交差部2Cおいては、低反射層5を反射性導電性層3に適用しなくても、反射性導電性層3は面積的に他の部分に比べて小さいので、反射性導電性層3自体が目立ち難いからである。ただ、こうした反射性導電性層3に対しても、低反射層5を適用した方が、反射性導電性層3がより目立ち難くなる点では好ましい。
[Constituting material of electrode 2 and presence / absence of application of low reflection layer 5 at intersection 2C]
In the present invention, the reflective conductive layer 3 is used for the mesh electrode 2M as the constituent material of the electrode 2. However, the constituent material of the electrode 2 at the intersection 2C is not particularly limited, and the reflective conductive layer 3 is used. Alternatively, materials other than the reflective conductive layer 3 such as the transparent conductive layer 6 may be used.
In the present invention, even when the reflective conductive layer 3 is used for the electrode 2 at the intersection 2C, the low reflective layer 5 may be applied to the reflective conductive layer 3 in this portion. It is not necessary. Even if the low reflective layer 5 is not applied to the reflective conductive layer 3 at the intersection 2C, the reflective conductive layer 3 is smaller in area than the other portions. This is because it is inconspicuous. However, it is preferable to apply the low reflective layer 5 to such a reflective conductive layer 3 in that the reflective conductive layer 3 is less noticeable.

〔電極2の複層化〕
電極2は、少なくともメッシュ電極2Mの部分では反射性導電性層3という導電性層で構成されるが、本発明においては、電極2は、異なる材料の導電性層を積層した構成としても良い。例えば、前記第3の実施形態では、メッシュ電極2Mの部分(具体的には第1透明電極要素2aE及び第2透明電極要素2bE)において反射性導電性層3と透明導電性層6を積層した構成であった。さらに、第3の実施形態は、低反射層5が反射性導電性層3に接して形成される形態であるため、低反射層5に、反射性導電性層3側がクロム単独膜からなる3層構造の前記酸窒化クロム系膜を用いれば、クロム単独膜も導電性層として積層した3層構成の電極2となる。
このように、電極2を2層以上の複層構成とすることで、電極2の面積抵抗率を下げることかできる。
[Multi-layered electrode 2]
The electrode 2 is composed of a conductive layer called the reflective conductive layer 3 at least in the mesh electrode 2M. However, in the present invention, the electrode 2 may have a configuration in which conductive layers of different materials are laminated. For example, in the third embodiment, the reflective conductive layer 3 and the transparent conductive layer 6 are laminated in the mesh electrode 2M (specifically, the first transparent electrode element 2aE and the second transparent electrode element 2bE). It was a configuration. Furthermore, since the low reflective layer 5 is formed in contact with the reflective conductive layer 3 in the third embodiment, the reflective conductive layer 3 side of the low reflective layer 5 is made of a single chromium film 3. When the chromium oxynitride film having a layer structure is used, the electrode 2 having a three-layer structure in which a chromium single film is also laminated as a conductive layer.
Thus, the area resistivity of the electrode 2 can be lowered by making the electrode 2 have a multilayer structure of two or more layers.

〔C〕表示装置:
本発明による表示装置は、表示パネルと、この表示パネルの観察者側に配置された上記したタッチパネル基板10と、を少なくとも含む表示装置である。以下、代表的な2形態を例に説明する。
[C] Display device:
The display device according to the present invention is a display device including at least the display panel and the above-described touch panel substrate 10 disposed on the viewer side of the display panel. Hereinafter, two typical modes will be described as examples.

《第1の実施形態》
図14に例示する本発明による表示装置100は、表示パネル40と、この表示パネル40の観察者V側に、前記したタッチパネル基板10を含むタッチパネル30と、カバーガラスなど表示装置用前面保護板50とを少なくとも、この順に備える構成例である。
表示パネル40は、液晶表示パネル、電界発光(EL)パネルが代表的であるが、この他、電子ペーパーパネル、ブラウン管によるディスプレイ装置でもよく、公知の各種表示パネルで良い。
タッチパネル30は、タッチパネル基板10を含み、さらに、タッチパネル機能を実現する為の制御回路、コネクタなどの公知の必要な部品を含む。
<< First Embodiment >>
A display device 100 according to the present invention illustrated in FIG. 14 includes a display panel 40, a touch panel 30 including the touch panel substrate 10 on the viewer V side of the display panel 40, and a front protective plate 50 for a display device such as a cover glass. Are at least a configuration example provided in this order.
The display panel 40 is typically a liquid crystal display panel or an electroluminescent (EL) panel, but in addition to this, an electronic paper panel, a display device using a cathode ray tube or various known display panels may be used.
The touch panel 30 includes the touch panel substrate 10 and further includes known necessary components such as a control circuit and a connector for realizing a touch panel function.

この構成では、タッチパネル30とは別体の表示装置用前面保護板50を有する形態である為に、タッチパネル基板10は、その反射性導電性層3に対して低反射層5が観察者Vに近くなる向きであれば良く、反射性導電性層3と低反射層5とのどちらが、透光性基板1からの厚み方向で遠い位置にあるかは、いずれでもよく、透光性基板1の一方の面である第1面S1は、裏側とする向きの他、表側とする向きで配置することも可能となる。   In this configuration, since the front protective plate 50 for a display device is provided separately from the touch panel 30, the touch panel substrate 10 has the low reflective layer 5 for the observer V with respect to the reflective conductive layer 3. Any of the reflective conductive layer 3 and the low reflective layer 5 may be located at a position far from the translucent substrate 1 in the thickness direction. The first surface S1, which is one surface, can be arranged in the direction of the front side in addition to the direction of the back side.

表示装置用前面保護板50には、公知のものを採用することができ、例えば、化学強化ガラスなどのガラス板、アクリル樹脂などの樹脂板を透明な基材として用い、この基材の中央部は表示用領域として、この表示用領域の外周部に不透明な加飾部8を黒色など任意の色及び模様で加飾したものを採用することができる。
表示装置用前面保護板50としては、タッチパネル基板10を含むタッチパネル30が、位置検知領域Apの外周部に加飾部8を含む場合には、加飾部8は省略する構成もあり得る。
A well-known thing can be employ | adopted for the front-surface protective plate 50 for display apparatuses, for example, uses glass plates, such as chemically strengthened glass, and resin plates, such as an acrylic resin, as a transparent base material, The center part of this base material As the display area, it is possible to adopt an opaque decoration portion 8 decorated with an arbitrary color and pattern such as black on the outer periphery of the display area.
As the front protective plate 50 for a display device, when the touch panel 30 including the touch panel substrate 10 includes the decoration portion 8 on the outer peripheral portion of the position detection region Ap, the decoration portion 8 may be omitted.

このような構成とすることで、タッチパネル30が備えるタッチパネル基板10における電極2に用いた反射性導電性層3が、目立ち難い表示装置とすることができる。   By setting it as such a structure, the reflective conductive layer 3 used for the electrode 2 in the touch panel board | substrate 10 with which the touch panel 30 is provided can be set as a display device which is not conspicuous.

《第2の実施形態》
図15に例示する本発明による表示装置100は、表示パネル40と、この表示パネル40の観察者側に、カバーガラスなど表示装置用前面保護板50を兼用する形態の前記したタッチパネル基板10を含むタッチパネル30を少なくとも備える構成例である。
このような構成とすることで、前記表示装置としての第1の実施形態による効果に加えて、部品点数の低減、薄型化の効果が得られる。
また、加飾部8に形成される配線7と、反射性導電性層3とを同一材料としたり、低反射層5を加飾部8と同一材料としたりした形態では、同一材料で形成する層同士を、同一工程で工程数を増やさずに設けることができるため、反射性導電性層3を目立ち難くした構造を、コストをかけずに実現することができる。
<< Second Embodiment >>
The display device 100 according to the present invention illustrated in FIG. 15 includes the display panel 40 and the touch panel substrate 10 in the form of using the front protective plate 50 for a display device such as a cover glass on the viewer side of the display panel 40. 2 is a configuration example including at least a touch panel 30.
With such a configuration, in addition to the effects of the first embodiment as the display device, the effects of reducing the number of parts and reducing the thickness can be obtained.
Moreover, in the form which made the wiring 7 formed in the decoration part 8 and the reflective conductive layer 3 into the same material, or made the low reflection layer 5 into the same material as the decoration part 8, it forms with the same material. Since the layers can be provided in the same step without increasing the number of steps, a structure in which the reflective conductive layer 3 is less noticeable can be realized without cost.

《粘着シートなどの樹脂層の介在》
例えば、図14で例示した実施形態による表示装置100では、タッチパネル基板10を含むタッチパネル30と表示パネル40との間、及び前記タッチパネル30と表示装置用前面保護板50との間は、空隙を有し空気層が存在する構造となっているが、本発明の表示装置100においては、各構成部材の間は、粘着剤層など公知の樹脂層で埋め尽くしても良い。樹脂層によって部材表面での光反射が減ることで、表示をより見易くすることができる。
《Interposition of resin layer such as adhesive sheet》
For example, in the display device 100 according to the embodiment illustrated in FIG. 14, there is a gap between the touch panel 30 including the touch panel substrate 10 and the display panel 40 and between the touch panel 30 and the display device front protective plate 50. However, in the display device 100 of the present invention, the constituent members may be filled with a known resin layer such as an adhesive layer. Since the light reflection on the surface of the member is reduced by the resin layer, the display can be more easily seen.

〔D〕用途:
本発明によるタッチパネル基板10、及び表示装置100の用途は、特に限定されない。例えば、スマートフォンなどの携帯電話、タブレットPCなどの携帯情報端末、パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション、デジタルカメラ、電子手帳、電子書籍端末、電子看板、電子黒板、ゲーム機器、自動券売機、ATM端末、POS端末、自販機、などである。
[D] Application:
Applications of the touch panel substrate 10 and the display device 100 according to the present invention are not particularly limited. For example, mobile phones such as smartphones, portable information terminals such as tablet PCs, personal computers, car navigation systems, digital cameras, electronic notebooks, electronic book terminals, electronic signboards, electronic blackboards, game machines, automatic ticket machines, ATM terminals, POS terminals , Vending machines, etc.

1 透光性基板
2 (位置検知用の)電極
2a 第1電極
2aC 第1接続部
2aE 第1透明電極要素
2b 第2電極
2bC 第2接続部
2bE 第2透明電極要素
2B ブリッジ接続
2C 交差部
2D 導通部
2M メッシュ電極
3 反射性導電性層
4 絶縁層
5 低反射層
6 透明導電性層
7 配線
8 加飾部
8a 遮光層
8b 赤外透過窓
8bL 赤外透過層
9 オーバーコート層
10 タッチパネル基板
20 従来のタッチパネル基板
30 タッチパネル
40 表示パネル
50 表示装置用前面保護板
100 表示装置
200 従来の表示装置
Ap 位置検知領域
dW はみ出し量
L 光
S1 第1面
S2 第2面
V 観察者

DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Translucent board | substrate 2 Electrode for position detection 2a 1st electrode 2aC 1st connection part 2aE 1st transparent electrode element 2b 2nd electrode 2bC 2nd connection part 2bE 2nd transparent electrode element 2B Bridge connection 2C Crossing part 2D Conductive part 2M Mesh electrode 3 Reflective conductive layer 4 Insulating layer 5 Low reflective layer 6 Transparent conductive layer 7 Wiring 8 Decorating part 8a Light shielding layer 8b Infrared transmission window 8bL Infrared transmission layer 9 Overcoat layer 10 Touch panel substrate 20 Conventional touch panel substrate 30 Touch panel 40 Display panel 50 Front protective plate for display device 100 Display device 200 Conventional display device Ap Position detection area dW Extrusion amount L Light S1 First surface S2 Second surface V Observer

Claims (4)

第1面とこの第1面とは反対側の第2面とを有する透光性基板と、
前記透光性基板の前記第1面及び第2面のいずれか一方の面上に形成された位置検知用の電極とを有し、
前記電極は、層自体が不透明で可視光反射性を示す反射性導電性層を含み、
前記反射性導電性層はメッシュ状に形成されたメッシュ電極を含み、
さらに、少なくとも前記メッシュ電極の部分において、前記透光性基板の前記第1面及び第2面の少なくとも1面上であって、厚み方向において、前記反射性導電性層よりも前記透光性基板からの距離が遠い側、又は前記反射性導電性層に対して前記透光性基板側に形成され、前記透光性基板の前記一方の面に垂直な方向から観察したときの外輪郭形状が、前記反射性導電性層の外輪郭形状と重なり合う部分を有し、前記反射性導電性層よりも可視光反射率が低い低反射層と、
を有する、タッチパネル基板。
A translucent substrate having a first surface and a second surface opposite to the first surface;
An electrode for position detection formed on one of the first surface and the second surface of the translucent substrate;
The electrode includes a reflective conductive layer that is opaque in itself and exhibits visible light reflectivity,
The reflective conductive layer includes a mesh electrode formed in a mesh shape,
Further, at least in the mesh electrode portion, on the at least one of the first surface and the second surface of the translucent substrate and in the thickness direction, the translucent substrate is more than the reflective conductive layer. Is formed on the side of the transparent substrate with respect to the reflective conductive layer, the outer contour shape when observed from a direction perpendicular to the one surface of the transparent substrate. A low-reflection layer having a portion overlapping the outer contour shape of the reflective conductive layer, and having a lower visible light reflectance than the reflective conductive layer;
A touch panel substrate.
前記電極が形成されている位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、加飾部を有し、
前記低反射層が前記加飾部を構成する層と同一材料で形成されている、請求項1に記載のタッチパネル基板。
On the one surface of the translucent substrate at the outer periphery of the position detection region where the electrodes are formed, have a decorative portion,
The touch panel substrate according to claim 1, wherein the low reflective layer is formed of the same material as that of the layer constituting the decorative portion.
前記電極が形成されている位置検知領域の外周部であって前記透光性基板の前記一方の面上に、配線を有し、
前記反射性導電性層が前記配線と同一材料で形成されている、請求項1に記載のタッチパネル基板。
On the one surface of the translucent substrate at the outer periphery of the position detection region where the electrode is formed,
The touch panel substrate according to claim 1, wherein the reflective conductive layer is formed of the same material as the wiring.
表示パネルと、この表示パネルの観察者側に配置された請求項1〜3のいずれかに記載のタッチパネル基板と、を含む、表示装置。   The display apparatus containing a display panel and the touchscreen substrate in any one of Claims 1-3 arrange | positioned at the observer side of this display panel.
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