JP2013519188A - 中空体内での放電発生装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【選択図】図1
Description
しかし従来、常圧下で管の長さにわたって均質なプラズマを発生させるのは、パラメータの変動範囲が大きく管のアスペクト比が大きい場合には非常に難しいことが分かっている。特に、複雑な医療製品、例えば内視鏡などでは、物理的プラズマを点火するために内視鏡の外部から作業チャネルの内部に電場を結合させるのは難しい。また、使用者の側でも、プラズマ用の出力を結合させるために電極を作業チャネル内に挿入することによって、チャネルの表面を損傷するおそれがある、という欠点がある。
・装置が、未加工状態での管でしか機能せず、組み付けられた状態では機能しない。
・装置が、特別な内部電極を必要とする。
・装置が、特別な外部電極を必要とする。
・装置が、常圧では機能しない。
・例えば高いガス流量により、高い装置維持費がかかる。
・装置が処理できる区域が限られている。
・装置が、管の長さにわたる均質な処理を保証することができない。
・装置が、希ガスに限定され、それにより使用範囲が限られる。
・装置が、熱不安定性材料を加工するのには適していない。
・生物学的浄化が反応性の強い媒体で行われ、これは材料の損傷を伴う。
ここで、本発明によれば、電極は、好ましくは直径が10〜2mmの導線として提供することができる。同様に、別の断面幾何形状も使用可能である(例えば、好ましくは、典型的には厚さが10〜500μmであり、幅が0.1〜2mmである長方形の導線断面)。電極の距離と、電極間にある絶縁材料は、高圧を印加するときに電極間で得られる磁場強度が絶縁材料の誘電強度よりも小さいことを保証しなければならない。電極の数は2つ以上であり、好ましくは1つおきの電極が同じ電位にある。隣接する電極は個別に制御され、したがって電極の1つが接地電位になるように制御され、それに隣接する電極は、交番電圧で好ましくはkHz範囲内で制御される。本発明によれば、この構造によって、電極間で電場が発生され、点火電場を超えたときに物理的プラズマが発生する。この場合、電極の距離及び使用される処理ガス、ならびに使用される電極制御法によって、様々な放電モードを発生させることができる。したがって、体積放電及び表面放電は、用途に応じて、フィラメント状放電モード及び拡散放電モードとしても調節可能である。
・管の機能は完全に維持され(可撓性や曲率半径など)、強度は高められることさえある。電極の設計によっては外部座屈保護をなくすことができ、これにより製造サイズを小さくすることができる。
・多くの異なるプロセス媒体を使用可能である。
・装置は、管の内部での物理的プラズマの発生に加えて、洗浄、活性化、コーティング、修飾、及び生物学的浄化(殺菌、消毒、滅菌)のため、ならびに治療用途のために、管のガス出口でジェット状プラズマを発生させることも可能にする。
・物理的プラズマの発生は、管の濡れた内壁、または流体膜で覆われた内壁においても可能である。十分に高いガス流量では、プラズマ乾燥も可能である。
・プロセス媒体への誘電性物体の添加により、管の内部でより大きな表面積が生み出され、したがって例えばプロセス媒体のより高い洗浄性能が達成される。
2 高圧電極
3 外部絶縁体
4 内管
5 プロセス媒体内で点火されたプラズマ
6 高圧源
7 プロセス媒体入口
8 遮蔽材
9 中間絶縁体
10 プラスチック格子
11 誘電性物体(例えば気泡、液滴、球体)
Claims (17)
- 小さい内径を有する長い誘電体管の内部で物理的にプラズマを発生させる装置であって、
少なくとも1つの導電性高圧電極(3)と少なくとも1つの導電性接地電極(2)を、いずれも管壁内に埋め入れられた状態で備えると共に、
高圧供給機構(6)と、プロセス媒体用の供給ユニット(7)とを備える
ことを特徴とするプラズマを発生装置。 - 電極が、
a)誘電体管の軸線に沿ってねじ山状に延びる
b)軸方向に平行に延びる
c)非導電性繊維と共にネットとして埋め入れられる
のいずれかである
請求項1に記載のプラズマを発生装置。 - 誘電体管の壁内に電極が設けられ、チューブの外面の周りにぴったりと導電性格子が設けられる
請求項1または2に記載のプラズマを発生装置。 - 誘電体管内に、誘電性物体及び/または誘電性液滴、好ましくは、ガラス玉及び/または油滴、特に好ましくは、100μmよりも大きく、誘電体管の内径よりも小さい直径を有する球体が、単独またはプロセス媒体と共に提供される
請求項1ないし3のいずれかに記載のプラズマを発生装置。 - 誘電体管端部でジェット状プラズマを発生させる機構を備える
請求項1ないし4のいずれかに記載のプラズマを発生装置。 - 小さな内径を有する長い誘電体管の内部でプラズマを発生させる方法であって、
好ましくは接着剤で内管に電極を固定し、その後、外管を収縮させるステップ、または特殊な腐食またはコーティングプロセスによって電極を塗布するステップ、または誘電体管壁内に電極を直接埋め込むステップと、
プロセス媒体を誘電体管内に入れ、交番する高圧を印加するステップであって、点火磁場強度を超えると、物理的にプラズマをプロセス媒体において発生させるステップと、を有する
ことを特徴とするプラズマを発生方法。 - 高圧を発生させるために、典型的には1kV/nsのエッジ急峻度を有する矩形信号を使用する
請求項6に記載のプラズマ発生方法。 - 高圧がバーストモードで印加される
請求項6または7に記載のプラズマ発生方法。 - プロセス媒体が誘電体管の外面に塗布され、プラズマ作用を誘電体管の外面に加える
請求項6ないし8のいずれかに記載のプラズマ発生方法。 - プラズマ発生ステップが、誘電性物体及び/または誘電性液滴、好ましくは、ガラス玉及び/または油滴、特に好ましくは、100μmよりも大きく、誘電体管の内径よりも小さい直径を有する球体を、単独またはプロセス媒体と共に誘電体管に入れるステップを有する
請求項6ないし9のいずれかに記載のプラズマ発生方法。 - 誘電体管腔内で発生されたプラズマを、ガスストリームまたは仮想接地電位によって誘電体管腔から引き出し、処理用機器または治療用機器に使用可能である
請求項6ないし10のいずれかに記載のプラズマ発生方法。 - プラズマ発生ステップが、誘電体管壁の洗浄またはプロセス媒体の洗浄を含む
請求項6ないし10のいずれかに記載のプラズマ発生方法。 - プラズマ発生ステップが、誘電体管壁の表面修飾またはプロセス媒体に供給された固体の表面修飾を含む
請求項6ないし10のいずれかに記載のプラズマ発生方法。 - プラズマ発生ステップが、誘電体管壁のコーティングまたはプロセス媒体に供給された固体のコーティングを含む
請求項6ないし10のいずれかに記載のプラズマ発生方法。 - プラズマ発生ステップが、誘電体管壁またはプロセス媒体の生物学的浄化(殺菌、消毒、滅菌)を含む
請求項6ないし10のいずれかに記載のプラズマ発生方法。 - プラズマ発生ステップが、誘電体管端部でのジェット状プラズマの発生を含む
請求項6ないし10のいずれかに記載のプラズマ発生方法。 - プラズマ発生ステップが、誘電体管端部でのジェット状プラズマの治療的使用を含む
請求項6ないし10のいずれかに記載のプラズマ発生方法。
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EPPCT/EP2010/050865 | 2010-01-26 | ||
PCT/EP2010/050865 WO2011091842A1 (de) | 2010-01-26 | 2010-01-26 | Vorrichtung und verfahren zur trockenen reinigung, aktivierung, beschichtung, modifikation und biologischen dekontamination der innenwände von schläuchen, rohren und anderen hohlkörpern |
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013225421A (ja) * | 2012-04-20 | 2013-10-31 | Tokyo Institute Of Technology | マルチガスプラズマジェット装置 |
JP2019503562A (ja) * | 2016-01-13 | 2019-02-07 | エムケイエス インストゥルメンツ, インコーポレイテッド | ポンピング・ラインでの堆積クリーニングのための方法及び装置 |
JP2019191081A (ja) * | 2018-04-27 | 2019-10-31 | 株式会社島津製作所 | 分析装置 |
US11664197B2 (en) | 2021-08-02 | 2023-05-30 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for plasma generation |
US11745229B2 (en) | 2020-08-11 | 2023-09-05 | Mks Instruments, Inc. | Endpoint detection of deposition cleaning in a pumping line and a processing chamber |
WO2023199604A1 (ja) * | 2022-04-13 | 2023-10-19 | 日本未来科学研究所合同会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE202009011521U1 (de) * | 2009-08-25 | 2010-12-30 | INP Greifswald Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e. V. | Plasma-Manschette |
US20130064726A1 (en) * | 2010-05-19 | 2013-03-14 | Adtec Europe Ltd. | Appliance for at least partially sterilizing a contaminated surface |
US9220162B2 (en) * | 2011-03-09 | 2015-12-22 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Plasma generating apparatus and plasma generating method |
CN103766000B (zh) * | 2011-06-03 | 2018-04-10 | 株式会社和广武 | Cvd装置以及cvd膜的制造方法 |
JP2014002936A (ja) * | 2012-06-19 | 2014-01-09 | Air Water Inc | 大気圧プラズマ処理装置および大気圧プラズマ処理方法 |
DE102012218734A1 (de) * | 2012-10-15 | 2014-04-17 | Robert Bosch Gmbh | Lüftungsleitung für ein Lüftungssystem zur Luftförderung, Lüftungssystem zur Luftförderung und Verfahren zum Reinigen einer Lüftungsleitung |
GB2509063A (en) * | 2012-12-18 | 2014-06-25 | Linde Ag | Plasma device with earth electrode |
JP6249469B2 (ja) * | 2013-03-15 | 2017-12-20 | ユーヴィックス株式会社 | 内表面処理装置及び内表面処理方法 |
WO2015181945A1 (ja) * | 2014-05-30 | 2015-12-03 | 富士機械製造株式会社 | プラズマ照射方法、およびプラズマ照射装置 |
DE102015108884A1 (de) * | 2015-06-04 | 2016-12-08 | Hochschule für Angewandte Wissenschaft und Kunst - Hildesheim/Holzminden/Göttingen | Vorrichtung zur Plasmabehandlung von insbesondere bandförmigen Objekten |
US10535506B2 (en) | 2016-01-13 | 2020-01-14 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for deposition cleaning in a pumping line |
WO2018005715A1 (en) | 2016-06-30 | 2018-01-04 | 3M Innovative Properties Company | Plasma sterilization system and methods |
CN106231771A (zh) * | 2016-08-31 | 2016-12-14 | 大连民族大学 | 一种等离子体喉镜杀菌装置的保护机构 |
EP3289993A1 (en) * | 2016-09-02 | 2018-03-07 | Leibniz-Institut für Plasmaforschung und Technologie e.V. | Device and method for generating a plasma jet |
US20190175772A1 (en) * | 2017-12-08 | 2019-06-13 | Pyriscence LLC | System and method for in situ sterilization |
IL258200A (en) * | 2018-03-18 | 2018-04-30 | Nova Plasma Ltd | Method and device for catheter pretreatment |
EP3685779A1 (en) | 2019-01-24 | 2020-07-29 | Universite Libre De Bruxelles | Device for cold plasma treatment, cold plasma endoscopic system, and method for generating and transporting a cold plasma |
CN113041386A (zh) * | 2019-12-10 | 2021-06-29 | 清华大学 | 基于多孔介质放电等离子体杀菌装置 |
CN114504668A (zh) * | 2022-03-13 | 2022-05-17 | 赵益 | 一种用于耳鼻喉道的等离子体消毒杀菌装置 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05202481A (ja) * | 1990-12-28 | 1993-08-10 | Res Dev Corp Of Japan | 管内大気圧グロープラズマ反応方法 |
JPH0857038A (ja) * | 1993-06-07 | 1996-03-05 | Agency Of Ind Science & Technol | プラスチックチュ−ブ、抗血栓性医用材料及び医療用具並びにこれらの製造方法、製造装置及びプラズマ処理装置 |
JP2005087939A (ja) * | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Toyo Electric Mfg Co Ltd | プラズマ式ガス処理装置 |
WO2007032172A1 (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-22 | Tohoku University | プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 |
JP2008007798A (ja) * | 2006-06-27 | 2008-01-17 | Dialight Japan Co Ltd | プラズマ発生装置 |
WO2009050240A1 (en) * | 2007-10-16 | 2009-04-23 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Transient plasma ball generation system at long distance |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3081250A (en) | 1958-02-24 | 1963-03-12 | Cons Electrodynamics Corp | Electrode structure |
US3070132A (en) * | 1960-04-06 | 1962-12-25 | David S Sheridan | Non-sparking medico-surgical tubes |
DE2325517C3 (de) | 1973-05-19 | 1980-03-06 | Proektno-Konstruktorskoe Bjuro Elektrogidravliki Akademii Nauk Ukrainskoj Ssr, Nikolaew (Sowjetunion) | Vorrichtung zur Reinigung von Rohren |
JPH0625271B2 (ja) | 1986-02-20 | 1994-04-06 | 住友電気工業株式会社 | チユ−ブの内面プラズマ処理方法 |
US4846101A (en) | 1988-07-01 | 1989-07-11 | Becton, Dickinson And Company | Apparatus for plasma treatment of small diameter tubes |
DE59401323D1 (de) | 1993-09-29 | 1997-01-30 | Sulzer Metco Ag | Brennerkopf für Plasmaspritzgeräte |
DE4440813C2 (de) | 1993-11-15 | 1999-12-09 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Behandlung von Flüssigkeiten sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
US6022602A (en) | 1994-01-26 | 2000-02-08 | Neomecs Incorporated | Plasma modification of lumen surface of tubing |
WO2001081246A2 (en) | 2000-04-27 | 2001-11-01 | Ledoux Denis Michel | Treatment of fluids |
JP4570277B2 (ja) | 2001-05-21 | 2010-10-27 | 大倉工業株式会社 | 内表面処理プラスチックチューブ製造装置、及び該装置を用いた内表面処理プラスチックチューブの製造方法 |
WO2004072445A1 (ja) * | 2003-02-12 | 2004-08-26 | Ngk Insulators, Ltd. | プラズマ反応器及びその製造方法 |
US20050118079A1 (en) * | 2003-10-24 | 2005-06-02 | Kunimasa Muroi | Method and apparatus for gas treatment using non-equilibrium plasma |
WO2008005829A2 (en) | 2006-06-30 | 2008-01-10 | Cooper Standard Automotive, Inc. | Flexible heatable plastic tube |
DE102007037406A1 (de) | 2007-08-08 | 2009-06-04 | Neoplas Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur plasmagestützten Oberflächenbehandlung |
EP2052743A1 (en) | 2007-10-25 | 2009-04-29 | Carlsberg Breweries A/S | A beverage sterilisation device |
-
2011
- 2011-01-26 ES ES11705829.7T patent/ES2528724T3/es active Active
- 2011-01-26 WO PCT/EP2011/051035 patent/WO2011092186A1/de active Application Filing
- 2011-01-26 US US13/574,837 patent/US9192040B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-01-26 JP JP2012549383A patent/JP2013519188A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05202481A (ja) * | 1990-12-28 | 1993-08-10 | Res Dev Corp Of Japan | 管内大気圧グロープラズマ反応方法 |
JPH0857038A (ja) * | 1993-06-07 | 1996-03-05 | Agency Of Ind Science & Technol | プラスチックチュ−ブ、抗血栓性医用材料及び医療用具並びにこれらの製造方法、製造装置及びプラズマ処理装置 |
JP2005087939A (ja) * | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Toyo Electric Mfg Co Ltd | プラズマ式ガス処理装置 |
WO2007032172A1 (ja) * | 2005-09-16 | 2007-03-22 | Tohoku University | プラズマ発生装置およびプラズマ発生方法 |
JP2008007798A (ja) * | 2006-06-27 | 2008-01-17 | Dialight Japan Co Ltd | プラズマ発生装置 |
WO2009050240A1 (en) * | 2007-10-16 | 2009-04-23 | Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) | Transient plasma ball generation system at long distance |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013225421A (ja) * | 2012-04-20 | 2013-10-31 | Tokyo Institute Of Technology | マルチガスプラズマジェット装置 |
JP2019503562A (ja) * | 2016-01-13 | 2019-02-07 | エムケイエス インストゥルメンツ, インコーポレイテッド | ポンピング・ラインでの堆積クリーニングのための方法及び装置 |
JP2021132038A (ja) * | 2016-01-13 | 2021-09-09 | エムケイエス インストゥルメンツ, インコーポレイテッド | ポンピング・ラインでの堆積クリーニングのための方法及び装置 |
JP7239633B2 (ja) | 2016-01-13 | 2023-03-14 | エムケイエス インストゥルメンツ, インコーポレイテッド | ポンピング・ラインでの堆積クリーニングのための方法及び装置 |
JP7448625B2 (ja) | 2016-01-13 | 2024-03-12 | エムケイエス インストゥルメンツ, インコーポレイテッド | ポンピング・ラインでの堆積クリーニングのための方法及び装置 |
JP2019191081A (ja) * | 2018-04-27 | 2019-10-31 | 株式会社島津製作所 | 分析装置 |
JP7036380B2 (ja) | 2018-04-27 | 2022-03-15 | 株式会社島津製作所 | 分析装置 |
US11745229B2 (en) | 2020-08-11 | 2023-09-05 | Mks Instruments, Inc. | Endpoint detection of deposition cleaning in a pumping line and a processing chamber |
US11664197B2 (en) | 2021-08-02 | 2023-05-30 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for plasma generation |
WO2023199604A1 (ja) * | 2022-04-13 | 2023-10-19 | 日本未来科学研究所合同会社 | 液体処理装置及び液体処理方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2011092186A1 (de) | 2011-08-04 |
US9192040B2 (en) | 2015-11-17 |
US20130053760A1 (en) | 2013-02-28 |
ES2528724T3 (es) | 2015-02-12 |
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