JP2013214402A - 電子ビーム装置の調整方法とそのように調整された電子ビーム装置 - Google Patents
電子ビーム装置の調整方法とそのように調整された電子ビーム装置 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】電子ビームを発生させる電子源と、電子ビームの照射方向に対して上流側から順に配置された第1レンズ、第2レンズ及び第3レンズからなり電子ビームの特性を制御するための3つのレンズと、第2レンズに配置されたビーム定義アパーチャとを備えた電子ビーム装置を対象とする。そして、最大ビーム電流時に得られる総合レンズ倍率が電子光学特性から規定される理想的なレンズ倍率にほぼ一致するように第2レンズの位置を調整する。
【選択図】図5
Description
EPMA(電子線マイクロアナライザー:electron probe microanalyzer)、マイクロフォーカスX線管、SEM(走査電子顕微鏡:scanning electron microscope)、TEM(透過型電子顕微鏡:transmission electron microscope)、電子ビームリソグラフィなどの電子ビーム応用装置に用いることができる。
電流値に合わせて試料上のビーム開き角を(2)式で与えられる値に調整することが望ましい。
M=(a2/a1)(b2/b1) (6)
となる。上式はこのときの総合倍率Mはレンズの配置のみよって決まることを示している。動作曲線からMasympが与えられるので、M≒Masymp(MがほぼMasympに等しい)が実現されるようレンズ配置(a2,b1)を調整する。MがほぼMasympに等しいというのは、MがMasympに等しい場合だけでなく、幾らか外れていてもよいことを意味している。
2 X線検出器
11 エミッター
12 引き出し電極
13 加速電極
14 集束レンズ
15 絞りレンズ
15a アパーチャ
16 対物レンズ
Claims (2)
- 電子ビームを発生させる電子源と、電子ビームの照射方向に対して上流側から順に配置された第1レンズ、第2レンズ及び第3レンズからなり電子ビームの特性を制御するための3つのレンズと、前記第2レンズに配置されたビーム定義アパーチャとを備えた電子ビーム装置の調整方法において、
最大ビーム電流時に得られる総合レンズ倍率が電子光学特性から規定される理想的なレンズ倍率にほぼ一致するように第2レンズの位置を調整することを特徴とする調整方法。 - 電子ビームを発生させる電子源と、電子ビームの照射方向に対して上流側から順に配置された第1レンズ、第2レンズ及び第3レンズからなり電子ビームの特性を制御するための3つのレンズと、前記第2レンズに配置されたビーム定義アパーチャとを備えた電子ビーム装置において、
前記第2レンズは、その位置が最大ビーム電流時に得られる総合レンズ倍率が電子光学特性から規定される理想的なレンズ倍率にほぼ一致するように調整されていることを特徴とする電子ビーム装置。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018147653A (ja) * | 2017-03-03 | 2018-09-20 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置 |
KR20190117371A (ko) | 2018-04-06 | 2019-10-16 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 하전 입자선 장치 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02100252A (ja) * | 1988-10-07 | 1990-04-12 | Jeol Ltd | 電子線装置における開き角制御装置 |
JPH08138600A (ja) * | 1994-11-04 | 1996-05-31 | Shimadzu Corp | 荷電粒子光学系 |
JP2001074437A (ja) * | 1999-09-01 | 2001-03-23 | Hitachi Ltd | 回路パターン検査装置及び回路パターン検査方法 |
JP2006339006A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Shimadzu Corp | 電子ビーム制御方法およびその装置 |
JP2007109431A (ja) * | 2005-10-11 | 2007-04-26 | Shimadzu Corp | 電子ビーム制御装置 |
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH02100252A (ja) * | 1988-10-07 | 1990-04-12 | Jeol Ltd | 電子線装置における開き角制御装置 |
JPH08138600A (ja) * | 1994-11-04 | 1996-05-31 | Shimadzu Corp | 荷電粒子光学系 |
JP2001074437A (ja) * | 1999-09-01 | 2001-03-23 | Hitachi Ltd | 回路パターン検査装置及び回路パターン検査方法 |
JP2006339006A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Shimadzu Corp | 電子ビーム制御方法およびその装置 |
JP2007109431A (ja) * | 2005-10-11 | 2007-04-26 | Shimadzu Corp | 電子ビーム制御装置 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2018147653A (ja) * | 2017-03-03 | 2018-09-20 | 日本電子株式会社 | 荷電粒子線装置 |
KR20190117371A (ko) | 2018-04-06 | 2019-10-16 | 가부시키가이샤 히다치 하이테크놀로지즈 | 하전 입자선 장치 |
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