JP2013205636A - Printing method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a printing method for forming a high definition pattern on a flexible substrate such as a glass substrate and a plastic film.SOLUTION: There is provided a printing method comprising the steps of: applying an ink receiving layer 2 on a film substrate 1; obtaining a half-dried receiving layer 2 in a half-dried state; pressing a letterpress 4 in which a convex part is formed corresponding to an image pattern to transfer a part pressed by the convex part of the letterpress 4 of the half-dried receiving layer 2 to the convex part of the letterpress 4; after the transfer step, forming a colored ink layer 7 on the image pattern by the half-dried receiving layer 2 remained on the film substrate 1 using an ink jet device 6; and after the step of forming an ink layer, transferring an image pattern having the half-dried receiving layer present on the film substrate 1 and the colored ink layer 7 on a surface of a substrate 8 to be printed.

Description

本発明は、ガラス基板やプラスチックフィルムなどの可撓性基板上へ、高精細パターンを形成する印刷方法に関する。   The present invention relates to a printing method for forming a high-definition pattern on a flexible substrate such as a glass substrate or a plastic film.

現在、フラットパネルディスプレイは、省エネルギー、省スペース、可搬性等の点から据え置き型、壁掛け型、携帯型の様々な用途の画像表示装置として広く利用されている。   Currently, flat panel displays are widely used as image display devices for various uses such as stationary, wall-mounted, and portable types in terms of energy saving, space saving, portability, and the like.

特に、近年では、表示装置の軽量化、薄型化、耐衝撃性向上等の目的から、プラスチック基板を用いた可撓性を有するディスプレイへの注目が高まっている。   In particular, in recent years, attention has been paid to a flexible display using a plastic substrate for the purpose of reducing the weight, thinning, and improving the impact resistance of the display device.

しかしながら、従来のフラットパネルディスプレイは、何れもガラス基板上に製造された物であり、プラスチック基板上に製造することは難しかった。   However, all of the conventional flat panel displays are manufactured on a glass substrate, and it is difficult to manufacture on a plastic substrate.

その理由は、従来のフラットパネルディスプレイの部材の作製には、高温での加熱工程とフォトリソ工程とが含まれているためである。   The reason for this is that the production of the members of the conventional flat panel display includes a heating process at a high temperature and a photolithography process.

例えば、液晶ディスプレイ用のカラーフィルタの製造に於いては、感光性樹脂のパターニングにあたって、現像、洗浄、ベーキングなどの工程があり、熱や水分によるプラスチック基板の損傷や伸縮が生じる。   For example, in the production of a color filter for a liquid crystal display, there are processes such as development, washing and baking in patterning a photosensitive resin, and the plastic substrate is damaged or stretched by heat or moisture.

又、ディスプレイの駆動電極である薄膜トランジスタの製造工程では、シリコーン半導体や、絶縁膜の形成には300℃以上の高温工程を含み、プラスチック基板の損傷や伸縮を生じる。   Further, in the manufacturing process of the thin film transistor which is a driving electrode of the display, the formation of the silicone semiconductor and the insulating film includes a high temperature process of 300 ° C. or more, and the plastic substrate is damaged or stretched.

又、フォトリソ工程は、製膜、露光、現像、剥離を材料毎に行うので、製造設備も大掛かりとなり、製造のコストが高い。   In addition, since the photolithography process performs film formation, exposure, development, and peeling for each material, the manufacturing equipment becomes large and the manufacturing cost is high.

以上のことから、プラスチック基板上への精密なパターニングが可能な印刷方法が求められていた。   From the above, there has been a demand for a printing method capable of precise patterning on a plastic substrate.

プラスチック基板上への印刷方法の一つとして、インクジェット法が検討されている。インクジェット法は、所定の部分にのみ所定の材料をパターニングできる。そのため、材料の利用効率が高く、版も使用しないことから、最も簡便なパターニング方法として期待されている。   As one of printing methods on a plastic substrate, an ink jet method has been studied. The ink jet method can pattern a predetermined material only in a predetermined portion. For this reason, it is expected to be the simplest patterning method because the material utilization efficiency is high and no plate is used.

しかしながら、現状のインクジェットのインク液滴の直径は数十μmであり、着弾精度も数μm程度ある。そのため、10μm程度のパターニングを形成する方法としては、採用することができない。   However, the diameter of ink droplets of the current inkjet is several tens of μm, and the landing accuracy is about several μm. Therefore, it cannot be adopted as a method for forming patterning of about 10 μm.

インクジェット法以外の方法として、特許文献1に記載された方法では、巻き取りロールから供給されたインキ剥離性のフィルム基材上にインキ液膜を塗工して設けている。そして、インキ液膜を予備乾燥して予備乾燥インキ膜を得た後、必要な画像パターンを凹部とした凸版を該予備乾燥インキ膜に押し当て、非画像部を該凸版の凸部に転移させ、該インキ剥離性のフィルム基材上に残された予備乾燥インキ膜による画像パターンを目的の被印刷基板の表面上へ転写している。   As a method other than the ink jet method, in the method described in Patent Document 1, an ink liquid film is applied and provided on an ink peelable film substrate supplied from a take-up roll. Then, after pre-drying the ink liquid film to obtain a pre-dried ink film, the relief printing plate with the required image pattern as a recess is pressed against the preliminary drying ink film, and the non-image area is transferred to the relief of the relief printing plate. The image pattern of the pre-dried ink film left on the ink-peelable film substrate is transferred onto the surface of the target substrate to be printed.

この方法では、インキ剥離性のフィルム基材の作製にあたり、フィルム基材表面の平滑性を維持したままフィルム基材表面の濡れ性を低くすることが可能であり、該インキ剥離性のフィルム基材を巻き出し装置から順次繰り出して、常に新しいインキ剥離性のフィルム基材を印刷に使用することができる。そのため、安定した連続印刷が可能で、再現性の高い高精細パターンを形成することができる。   In this method, it is possible to reduce the wettability of the film substrate surface while maintaining the smoothness of the film substrate surface in the production of the ink peelable film substrate. Can be successively fed out from the unwinding device, and a new ink-removable film substrate can always be used for printing. Therefore, stable continuous printing is possible, and a high-definition pattern with high reproducibility can be formed.

特開2008−105400号公報JP 2008-105400 A

しかしながら、特許文献1に記載された方法では、一旦インキ液膜を形成した後、非画像部を除去する。そのため、高価なインキ材料の無駄が発生するという問題を有している。また、特に複数の樹脂から成るカラーフィルタを作製する場合、樹脂ごとに塗工、乾燥、非画像部除去、転写、という一連の工程を繰り返す必要がある。そのため、製造タクトが長く、除去版や除去インキの再生の手間が余計にかかるという問題点も有している。つまり、この方法は、製造タクトの長時間化や材料の無駄が生じるという問題を有している。   However, in the method described in Patent Document 1, a non-image portion is removed after an ink liquid film is once formed. Therefore, there is a problem that expensive ink material is wasted. In particular, when producing a color filter made of a plurality of resins, it is necessary to repeat a series of steps of coating, drying, non-image area removal, and transfer for each resin. For this reason, there is a problem in that the manufacturing tact is long, and it takes extra time to regenerate the removed plate and the removed ink. That is, this method has a problem that the manufacturing tact time is prolonged and the material is wasted.

また、上述のように、プラスチック基板上への精密なパターニングを実施する印刷方法として、インクジェット法は、パターニング精度に限界があり、10μm程度のパターニングを実施できないという問題を有している。   Further, as described above, as a printing method for performing precise patterning on a plastic substrate, the inkjet method has a problem that patterning accuracy is limited and patterning of about 10 μm cannot be performed.

本発明の課題は、上記問題点を解決し、ガラス基板やプラスチックフィルム等の可撓性基板上へ、高精細パターンを形成する印刷方法を提供するものである。   The subject of this invention solves the said problem and provides the printing method which forms a high-definition pattern on flexible substrates, such as a glass substrate and a plastic film.

本発明は、上記の課題を解決する為に、以下の構成を採用した。   The present invention employs the following configuration in order to solve the above problems.

本発明は、被印刷基板に印刷する印刷方法に関する。そして、この印刷方法は、フィルム基材上に、インキ受容層を塗工する受容層塗工工程と、インキ受容層を乾燥し、半乾燥状態の半乾燥受容層を得る受容層乾燥工程と、画像パターンに対応して凹部が形成された凸版を半乾燥受容層に押し当て、その半乾燥受容層のうち凸版の凸部が押し当てられた部分を凸版の凸部に転移させ、フィルム基材上に、半乾燥受容層による画像パターンを形成する転移工程と、転移工程後にフィルム基材上に残された半乾燥受容層による画像パターン上に、インクジェット装置を用いて着色インキ層を形成するインキ層形成工程と、インキ層形成工程後にフィルム基材上に存在する半乾燥受容層と着色インキ層とを有する画像パターンを、被印刷基板の表面上へ転写する転写工程とを備える。   The present invention relates to a printing method for printing on a substrate to be printed. And this printing method, on the film substrate, a receiving layer coating step of coating the ink receiving layer, a receiving layer drying step of drying the ink receiving layer to obtain a semi-dry receiving layer in a semi-dried state, A film base material is formed by pressing a relief plate having depressions corresponding to the image pattern against the semi-drying receiving layer, and transferring a portion of the semi-drying receiving layer to which the relief portions of the relief plate are pressed to the relief portions of the relief plate. An ink for forming a colored ink layer using an ink jet apparatus on a transfer process for forming an image pattern with a semi-drying receiving layer and an image pattern with a semi-drying receiving layer left on the film substrate after the transfer process. A layer forming step, and a transfer step of transferring an image pattern having a semi-dry receiving layer and a colored ink layer present on the film substrate after the ink layer forming step onto the surface of the substrate to be printed.

ここで、フィルム基材は、半乾燥受容層を剥離させるための剥離層として、支持基板上にシリコーン樹脂が積層しても良い。   Here, a silicone resin may be laminated | stacked on a support substrate as a peeling layer for a film base material to peel a semi-dry receiving layer.

又、受容層塗工工程において、インキ受容層を、ダイコーターを用いてフィルム基材上に塗工しても良い。さらに、受容層乾燥工程後の受容層の厚さは、0.05μm以上50μm以下であっても良い。   In the receiving layer coating step, the ink receiving layer may be coated on the film substrate using a die coater. Furthermore, the thickness of the receiving layer after the receiving layer drying step may be 0.05 μm or more and 50 μm or less.

又、被印刷基板は、予め表面を格子状に区画するブラックマトリクスを形成したものであっても良い。   Further, the substrate to be printed may be a substrate on which a black matrix that partitions the surface in a lattice shape is formed in advance.

本発明によれば、フィルム基材上に形成された半乾燥受容層による画像パターン(以下、「受容層パターン」という。)に、インクジェット装置を用いて着色インキ層を形成することで、インク液滴の大きさに関わらず、受容層パターンの形状に応じて高精細な画像パターンを作製することが可能である。また、フィルム基材上における受容層パターンが存在しない箇所にインキが着液した場合であっても、インキとより親和性の高い受容層に吸収される為、通常のインクジェット法に比べて高精細なパターニングが可能となる。   According to the present invention, an ink liquid is formed by forming a colored ink layer on an image pattern (hereinafter referred to as “receiving layer pattern”) formed on a film substrate using a semi-dry receiving layer using an inkjet device. Regardless of the size of the droplet, it is possible to produce a high-definition image pattern according to the shape of the receiving layer pattern. In addition, even when the ink is deposited on the film substrate where the receiving layer pattern does not exist, it is absorbed by the receiving layer having a higher affinity with the ink, so it has higher definition than the ordinary ink jet method. Patterning becomes possible.

又、インクジェット装置を用いて受容層パターン上に着色インキ層を形成するため、インキ剥離性のフィルム基材上にインキ液膜を塗工する従来の方法のように、インキ毎に複数の工程を繰り返す必要がなく、製造タクトが長時間化することがない。又、必要な画像部のみに着色インキを付加する為、着色インキの無駄が生じない。   In addition, in order to form a colored ink layer on the receiving layer pattern using an ink jet device, a plurality of steps are performed for each ink as in the conventional method of coating an ink liquid film on an ink peelable film substrate. There is no need to repeat the manufacturing tact. Further, since the colored ink is added only to the necessary image portion, the colored ink is not wasted.

又、フィルム基材において、支持基板上にシリコーン樹脂を積層する場合は、支持基板表面の平滑性を維持したまま、支持基板表面の濡れ性を低くすることが可能であり、被印刷基板表面への転写性を高め、平坦性の高い高精細パターンを再現良く形成することができる。   In addition, when the silicone resin is laminated on the support substrate in the film base, it is possible to reduce the wettability of the support substrate surface while maintaining the smoothness of the support substrate surface. Transferability can be improved, and a high-definition pattern with high flatness can be formed with good reproducibility.

又、ダイコーターを用いてフィルム基材上にインキ受容層を塗工する場合は、インキ受容層をより均一に形成することができ、より平坦性の高いパターンを形成することができる。   Moreover, when an ink receiving layer is applied on a film substrate using a die coater, the ink receiving layer can be formed more uniformly, and a pattern with higher flatness can be formed.

又、インキ受容層の乾燥状態の厚さが、0.05μm以上50μm以下である場合は、着色インキ中の溶剤が効率良く吸収され、より再現性の高いパターンを形成することができる。   When the dry thickness of the ink receiving layer is 0.05 μm or more and 50 μm or less, the solvent in the colored ink is efficiently absorbed and a pattern with higher reproducibility can be formed.

以上のことから、本発明の印刷方法によれば、ガラス基板やプラスチックフィルム等の可撓性の被印刷基板上へ、高精細パターンを容易に低コストで製造することが可能である。   From the above, according to the printing method of the present invention, a high-definition pattern can be easily produced at low cost on a flexible substrate to be printed such as a glass substrate or a plastic film.

実施形態における受容層塗工工程を示す断面図Sectional drawing which shows the receiving layer coating process in embodiment 実施形態における受容層塗工工程終了後のインキ剥離性のフィルム基材の断面図Sectional drawing of the film base material of ink peelability after completion | finish of the receiving layer coating process in embodiment 実施形態における転移工程において凸版を半乾燥受容層に押し当てる工程を示す断面図Sectional drawing which shows the process which presses a letterpress to a semi-drying receiving layer in the transfer process in embodiment. 実施形態における転移工程において凸版からインキ剥離性のフィルム基材を剥離する工程を示す断面図Sectional drawing which shows the process of peeling an ink peelable film base material from a letterpress in the transfer process in embodiment. 実施形態におけるインキ層形成工程を示す断面図Sectional drawing which shows the ink layer formation process in embodiment 実施形態におけるインキ層形成工程終了後のインキ剥離性のフィルム基材の断面図Sectional drawing of the film base material of ink peelability after completion | finish of the ink layer formation process in embodiment 実施形態における転写工程において被印刷基板上に半乾燥受容層と着色インキ層とから成る画像パターンを押し当てる工程を示す断面図Sectional drawing which shows the process of pressing the image pattern which consists of a semi-dry receiving layer and a colored ink layer on a to-be-printed board | substrate in the transfer process in embodiment. 実施形態における転写工程において被印刷基板からインキ剥離性のフィルム基材を剥離する工程を示す断面図Sectional drawing which shows the process of peeling an ink peelable film base material from a to-be-printed substrate in the transfer process in embodiment.

以下、図1を参照して、本発明の印刷方法に係る実施形態を説明する。この実施形態は、本発明の一例である。   Hereinafter, an embodiment according to a printing method of the present invention will be described with reference to FIG. This embodiment is an example of the present invention.

図1Aは、本発明の印刷方法に係る実施形態における、インキ剥離性のフィルム基材上にインキ受容層を塗工する受容層塗工工程を示し、図1Bは、受容層塗工工程終了後のインキ剥離性のフィルム基材を示し、図1Cは、所望の画像パターンを凹部とした凸版を半乾燥受容層に押し当てる工程を示し、図1Dは、所望の画像パターンを凹部とした凸版からインキ剥離性のフィルム基材を剥離し、半乾燥受容層のうち画像パターンに不必要な部分を凸版の凸部に転移させる工程を示し、図1Eは、インキ剥離性のフィルム基材上に残された受容層パターンにインクジェット法により着色インキ層を形成するインキ層形成工程を示し、図1Fは、インキ層形成工程終了後のインキ剥離性のフィルム基材を示し、図1Gは、インキ剥離性のフィルム基材上に残された半乾燥受容層と着色インキ層とから成る画像パターンを目的の被印刷基板へ押し当てる工程を示し、図1Fは、目的の被印刷基板からインキ剥離性のフィルム基材を剥離し、インキ剥離性のフィルム基材から、半乾燥受容層と着色インキ層とから成る画像パターンを目的の被印刷基板に転写する工程を示す。   FIG. 1A shows a receiving layer coating process for coating an ink releasable layer on an ink-peelable film substrate in an embodiment according to the printing method of the present invention, and FIG. FIG. 1C shows a process of pressing a relief plate with a desired image pattern as a recess against a semi-dry receiving layer, and FIG. 1D shows a process from a relief plate with a desired image pattern as a recess. FIG. 1E shows the process of peeling the ink-peeling film substrate and transferring the portion of the semi-drying receiving layer unnecessary for the image pattern to the convex part of the relief plate. 1F shows an ink layer forming process for forming a colored ink layer on the formed receiving layer pattern by an inkjet method, FIG. 1F shows an ink peelable film substrate after completion of the ink layer forming process, and FIG. 1G shows an ink peelability Fill FIG. 1F shows a process of pressing an image pattern composed of a semi-dry receiving layer and a colored ink layer left on a base material onto a target printing substrate. And a process of transferring an image pattern composed of a semi-dry receiving layer and a colored ink layer from a film substrate having an ink peelability to a target substrate to be printed.

(受容層塗工工程)
インキ剥離性のフィルム基材1上にインキ受容層2を塗工する受容層塗工工程が行われる。受容層塗工工程では、図1Aに示すように、支持基板11と、後述する半乾燥受容層2を剥離させるための剥離層12とから成るインキ剥離性のフィルム基材1上に、ダイコーター3を用いてインキ受容層2を塗工する。なお、実施形態では、インキ受容層2を塗工するフィルム基材1として、インキ剥離性のフィルム基材を使用しているが、後述する半乾燥受像層2を剥離できるものであれば、インキ剥離性のフィルム基材以外のフィルム基材を使用してもよい。
(Receptive layer coating process)
A receptive layer coating step of coating the ink receptive layer 2 on the ink-peelable film substrate 1 is performed. In the receiving layer coating step, as shown in FIG. 1A, a die coater is formed on an ink-peeling film substrate 1 comprising a support substrate 11 and a peeling layer 12 for peeling a semi-dry receiving layer 2 described later. 3 is used to coat the ink receiving layer 2. In the embodiment, an ink-releasable film base material is used as the film base material 1 on which the ink receiving layer 2 is applied. However, any ink can be used as long as the semi-dry image receiving layer 2 described later can be peeled off. A film substrate other than the peelable film substrate may be used.

インキ剥離性のフィルム基材1には、プラスチック等の可撓性基板を支持基板として加工したものを使用できる。例えば、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロースなどのフィルム、シートを用いることができる。さらに、光透過性の基板を用いることにより、パターンの重ね合わせ時にアライメントを容易とすることができる。これら可撓性基板は、長尺の巻取りロールで供給され、ブランケットへ加工された後使用される。   As the ink-peelable film substrate 1, a material obtained by processing a flexible substrate such as plastic as a support substrate can be used. For example, films and sheets of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether sulfone, cycloolefin polymer, polyimide, nylon, aramid, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polyvinyl chloride, triacetyl cellulose, and the like can be used. Further, by using a light-transmitting substrate, alignment can be facilitated during pattern superposition. These flexible substrates are supplied by a long winding roll and used after being processed into a blanket.

インキ剥離性のフィルム基材1は、上記支持基板11へシリコーンオイル、シリコーンワニスで代表される離型剤を塗って剥離層12を形成しても良いし、或いはシリコーンゴムの薄膜層を剥離層12として形成してもよい。又、同じ目的でフッ素系樹脂、フッ素系ゴムも利用され得るし、フッ素樹脂微粉末をシリコーンゴム或いは、普通のゴムに混ぜて剥離性を出す等の使い方をしてもよい。これらシリコーン系の塗膜は、通常フィルム基材との密着は低いが、熱硬化性又は紫外線硬化性のアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、最表面に設けるシリコーン層に対して、よりフィルム基材との密着性の高い樹脂層を、アンカー層として予めフィルム基材上に設け、そのアンカー層の上層に設けることもできる。   The ink-peelable film base 1 may be formed by applying a release agent represented by silicone oil or silicone varnish to the support substrate 11 to form the release layer 12, or forming a thin layer of silicone rubber as the release layer 12 may be formed. Further, for the same purpose, fluorine-based resin and fluorine-based rubber can also be used, or the fluororesin fine powder may be mixed with silicone rubber or ordinary rubber so as to give peelability. These silicone-based coatings usually have low adhesion to the film substrate, but the thermosetting or ultraviolet-curing acrylic resin, epoxy resin, and the silicone layer provided on the outermost surface more It is also possible to provide a resin layer having a high adhesiveness as an anchor layer on a film substrate in advance and to provide an upper layer of the anchor layer.

具体的なシリコーンとしては、ジメチルポリシロキサンの各種分子量のもの、その他メチルハイドロジエンポリシロキサン、メチルフェニルシリコーンオイル、メチル塩素化フェニルシリコーンオイル、或いはこれらポリシロキサンと有機化合物との共重合体等、変性したものを用いることができる。   Specific silicones include dimethylpolysiloxanes with various molecular weights, other methylhydropolysiloxanes, methylphenylsilicone oils, methylchlorinated phenylsilicone oils, or copolymers of these polysiloxanes with organic compounds. Can be used.

シリコーンゴムとしては、二液型のジオルガノポリシロキサンと架橋剤としての三官能性以上のシラン、又はシロキサン及び硬化触媒を組み合わせたもの、或いは一液型ではジオルガノポリシロキサンとアセトンオキシム、各種メトキシシラン、メチルトリアセトキシシラン等の組み合わせ等が用いられ、その他にゴム硬度を調節する為のポリシロキサンが適宜用いられる。   Silicone rubber is a combination of two-component diorganopolysiloxane and a trifunctional or higher functional silane as a crosslinking agent, or a combination of siloxane and a curing catalyst, or one-component diorganopolysiloxane, acetone oxime, and various methoxys. Combinations of silane, methyltriacetoxysilane, and the like are used, and in addition, polysiloxane for adjusting rubber hardness is appropriately used.

又、インキ剥離性のフィルム基材1は、上記支持基板11に無機膜を設けた後、シランカップリング剤による表面処理を施したものを用いてもよい。   Moreover, after providing the support substrate 11 with an inorganic film, the ink-peelable film substrate 1 may be subjected to a surface treatment with a silane coupling agent.

シランカップリング剤としては、トリメトキシシラン類、トリエトキシシラン類等を用いることができる。このシランカップリング剤の一部位は、ビニル基、エポキシ基、アミノ基、メタクリル基、メルカプト基等の有機化合物との反応性基を有するものから選ぶことができるし、或いは、アルキル基やその一部にフッ素原子が置換されたものや、シロキサンが結合して、表面自由エネルギーの小さな表面を形成できる置換基が結合したものを用いることができる。前者の反応性基を有するシランカップリング剤を用いる場合には、シランカップリング剤で基板表面を処理した後、所定の表面自由エネルギーになるよう他のモノマー成分を塗工して、結合させることができる。反応性基を有するシランカップリング剤としては、ビニルメトキシシラン、ビニルエトキシシラン、p−スチリルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2−(3、4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等を用いることができ、モノマーとして、スチレン、エチレングリコールジグリシジルエーテル、トリメチルプロパントリグリシジルエーテル、ラウリルアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を用いることができる。又、反応性基を有さないシランカップリング剤としては、メチルトリメトキシシラン、n−ヘキシルトリメトキシシラン、n−オクチルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン等を用いることができる。但し、アルキル基に限定されるものではない。   As the silane coupling agent, trimethoxysilanes, triethoxysilanes, and the like can be used. One part of this silane coupling agent can be selected from those having a reactive group with an organic compound such as a vinyl group, an epoxy group, an amino group, a methacryl group, a mercapto group, or an alkyl group or one of them. Those having a fluorine atom substituted at the part, or those having a substituent bonded to siloxane bonded to form a surface with a small surface free energy can be used. When the former silane coupling agent having a reactive group is used, after the substrate surface is treated with the silane coupling agent, another monomer component is applied and bonded so as to have a predetermined surface free energy. Can do. Examples of the silane coupling agent having a reactive group include vinyl methoxy silane, vinyl ethoxy silane, p-styryl trimethoxy silane, 3-glycidoxy propyl trimethoxy silane, 2- (3,4 epoxy cyclohexyl) ethyl trimethoxy silane. , 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, etc., and styrene, ethylene glycol diglycidyl ether, trimethylpropane triglycidyl ether, lauryl acrylate, dipentaerythritol hexa An acrylate etc. can be used. As the silane coupling agent having no reactive group, methyltrimethoxysilane, n-hexyltrimethoxysilane, n-octyltrimethoxysilane, dodecyltrimethoxysilane and the like can be used. However, it is not limited to an alkyl group.

上記シランカップリング剤を上記支持基板11に固定化する方法としては、シランカップリング剤を使用した公知の表面処理方法を用いることができる。例えば、シランカップリング剤を、水、酢酸水溶液、水−アルコール混合液、或いはアルコール溶液に希釈させた溶液を調製する。この溶液を公知の塗工方法であるグラビアコーター、ロールコーター、ダイコーター等を用いて基板表面に塗工し、次いで、乾燥させることでシランカップリング剤を固定化できる。又、反応性基を有するシランカップリング剤を用いた場合は、次いで、他のモノマー成分を同様に塗工して結合させることができる。   As a method for immobilizing the silane coupling agent on the support substrate 11, a known surface treatment method using a silane coupling agent can be used. For example, a solution obtained by diluting a silane coupling agent in water, an acetic acid aqueous solution, a water-alcohol mixed solution, or an alcohol solution is prepared. The silane coupling agent can be fixed by coating this solution on the surface of the substrate using a known coating method such as a gravure coater, roll coater, die coater or the like and then drying. When a silane coupling agent having a reactive group is used, other monomer components can then be applied and bonded in the same manner.

上記シランカップリング剤を基板上に固定化する為には、予め基板上に、SiO2やTiO2、ZrO2若しくはこれらの複合膜が設けられていることが好ましい。これら無機酸化膜は、既知の蒸着法やスパッタ法を用いて設けたものを用いることができる。 In order to immobilize the silane coupling agent on the substrate, it is preferable that SiO 2 , TiO 2 , ZrO 2 or a composite film thereof is provided on the substrate in advance. As these inorganic oxide films, those provided by using a known vapor deposition method or sputtering method can be used.

又、上記無機酸化膜を設ける方法として、一般式M(OR)nで表される金属アルコシキド(MがSi、Ti、Al、Zr等の金属を表し、RがCH3、C25等のアルキル基を表す。)を、水、アルコールの共存下で加水分解反応及び縮重反応させてゲル溶液を得て、得られたゲル溶液を表面にコーティング後、加熱することで無機酸化物膜を設ける、いわゆるゾル−ゲル法を用いることができる。 Further, as a method of providing the inorganic oxide film, a metal alkoxide represented by the general formula M (OR) n (M represents a metal such as Si, Ti, Al, Zr, etc., and R represents CH 3 , C 2 H 5, etc. In the presence of water and alcohol, a hydrolytic reaction and a degenerative reaction are performed to obtain a gel solution, and the resulting gel solution is coated on the surface and then heated to be an inorganic oxide film. A so-called sol-gel method can be used.

さらに、上記ゾル−ゲル法で用いる金属アルコキシド溶液中に、予め上記シランカップリング剤を添加しておくこともできる。この場合、表面性改質に特に効果が得られる。   Furthermore, the silane coupling agent may be added in advance to the metal alkoxide solution used in the sol-gel method. In this case, an effect is particularly obtained for surface property modification.

このようにして得られるインキ剥離性のフィルム基材1は、処理面へ滴下したインキ液滴の接触角が、10°以上90°以下となることが好ましく、20°以上70°以下となることがさらに好ましい。この接触角が小さすぎると、後工程での半乾燥受容層2の剥離性が低下して、パターンの欠陥(再現性不良等)が発生しやすくなる。一方、この接触角が大きすぎると、インキ受容層2を塗工する際にハジキが生じて、均一なインキ受容層2を形成することが困難になる。   The ink peelable film substrate 1 thus obtained preferably has a contact angle of ink droplets dropped on the treated surface of 10 ° or more and 90 ° or less, and 20 ° or more and 70 ° or less. Is more preferable. If this contact angle is too small, the peelability of the semi-dry receiving layer 2 in the subsequent process is lowered, and pattern defects (such as poor reproducibility) are likely to occur. On the other hand, if the contact angle is too large, repelling occurs when the ink receiving layer 2 is applied, making it difficult to form a uniform ink receiving layer 2.

インキ受容層2には、いわゆる受像層(被印刷基板上に設けられた場合に、画像パターンを受ける層である。実施形態では、被印刷基板上び受像層は必須ではない。)に使用する公知の材料を用いることができるが、透明であること、インクの変色や褪色がないこと、諸耐性があることなどの性能が要求される。インキ受容層2には、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタール等のビニル樹脂やアクリル共重合体樹脂、ポリエステル、ポリウレタン等の樹脂から1つ以上を適宜選択して用いる。   The ink receiving layer 2 is used as a so-called image receiving layer (a layer that receives an image pattern when provided on a substrate to be printed. In the embodiment, the image receiving layer on the substrate to be printed is not essential). Known materials can be used, but performances such as transparency, no discoloration or discoloration of the ink, and various resistances are required. For the ink receiving layer 2, at least one selected from vinyl resins such as polyvinyl alcohol, polyvinyl butyral, and polyvinyl acetal, and resins such as acrylic copolymer resins, polyesters, and polyurethanes is appropriately used.

又、インキ受容層2の密着性を高める為に、この樹脂に微粒子(フィラー)を含有させることも有効である。フィラーとしては、無機微粒子では微粉末珪酸、有機微粒子ではアクリル樹脂、スチレン樹脂、尿素ホルムアルデヒド樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂等から適宜選択して用いる。又、フィラーの添加量は、インキ受容層100重量部に対し1〜10部が好ましく、透明性を損なわない程度が好ましい。   It is also effective to contain fine particles (filler) in this resin in order to improve the adhesion of the ink receiving layer 2. As the filler, fine inorganic silicic acid is used for inorganic fine particles, and acrylic resin, styrene resin, urea formaldehyde resin, benzoguanamine resin, silicone resin, fluororesin and the like are appropriately selected for organic fine particles. Further, the amount of filler added is preferably 1 to 10 parts with respect to 100 parts by weight of the ink receiving layer, and is preferably such an extent that the transparency is not impaired.

又、インキ受容層2を紫外線照射により硬化する場合に用いる光重合開始剤としては、例えば、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタン−1−オン等のアセトフェノン系化合物、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンジルジメチルケタール等のベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド等のベンゾフェノン系化合物、チオキサントン、2−クロルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物、2,4,6−トリクロロ−s−トリアジン、2−(p−トリル)4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−スチリル−s−トリアジン等のトリアジン系化合物、1,2−オクタンジオン、1−〔4−(フェニルチオ)−2−(O−ベンゾイルオキシム)〕、O−(アセチル)−N−〔1−フェニル−2−オキソ−2−(4’−メトキシ−ナフチル)エチリデン〕ヒドロキシルアミン等のオキシムエステル系化合物、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルホスフィンオキサイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィンオキサイド等のホスフィン系化合物、9,10−フェナンスレンキノン、カンファーキノン等のキノン系化合物、ボレート系化合物、カルバゾール系化合物、イミダゾール系化合物、チタノセン系化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは単独で用いることもできるし、2種類以上を混合して用いることもできる。   Examples of the photopolymerization initiator used when the ink receiving layer 2 is cured by ultraviolet irradiation include 4-phenoxydichloroacetophenone and 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-1- Acetophenone compounds such as ON, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, benzoin compounds such as benzoin, benzoin methyl ether, benzyldimethyl ketal, benzophenone, benzoyl Benzoic acid, benzophenone compounds such as 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, thioxanthone compounds such as thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4,6-trichloro-s-triazine, 2- (p- Lyl) 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-styryl-s-triazine, and other triazine compounds, 1,2-octanedione, 1- [4 -(Phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)], O- (acetyl) -N- [1-phenyl-2-oxo-2- (4′-methoxy-naphthyl) ethylidene] hydroxylamine and other oxime esters Compounds, phosphine compounds such as bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoylphenylphosphine oxide, quinones such as 9,10-phenanthrenequinone and camphorquinone Compounds, borate compounds, carbazole compounds, imidazole compounds, titanocene Compounds, and the like, but not limited thereto. These can also be used independently and can also be used in mixture of 2 or more types.

上記のような材料を用いてインキ受容層2を塗工する際には、公知の塗工方法を用いることができる。例えば、ダイコート、ディッピング法、ロールコート、グラビアコート、リバースコート、エアナイフコート、コンマコート、スクリーン印刷法、スプレーコート、グラビアオフセット法、インクジェット法等が挙げられる。中でも、ダイコート、インクジェット法は、均一なインキ受容層2を形成することができるため好適な形成方法である。   When coating the ink receiving layer 2 using the above materials, a known coating method can be used. Examples include die coating, dipping method, roll coating, gravure coating, reverse coating, air knife coating, comma coating, screen printing method, spray coating, gravure offset method, and ink jet method. Among these, the die coating and ink jet methods are preferable forming methods because the uniform ink receiving layer 2 can be formed.

上記のようにして形成されたインキ受容層2の乾燥状態の膜厚(受容層乾燥工程後の厚さ)は、0.05μm以上10μm以下であることが好ましく、0.05μm以上5μm以下であることがさらに好ましい。インキ受容層2の膜厚が0.05μm未満であると、着色インキを受像することができなくなる。一方、インキ受容層2の膜厚が10μmを超えると、膜厚が厚すぎて、塗工膜厚精度が低下する為好ましくない。   The dry thickness of the ink receiving layer 2 formed as described above (thickness after the receiving layer drying step) is preferably 0.05 μm or more and 10 μm or less, and 0.05 μm or more and 5 μm or less. More preferably. When the film thickness of the ink receiving layer 2 is less than 0.05 μm, the colored ink cannot be received. On the other hand, when the film thickness of the ink receiving layer 2 exceeds 10 μm, the film thickness is too thick and the coating film thickness accuracy is lowered, which is not preferable.

(受容層乾燥工程)
次に、インキ受容層2を予備乾燥し半乾燥受容層2を得る受容層乾燥工程が行われる。受容層乾燥工程では、図1Bに示すように、前記方法によりインキ剥離性のフィルム基材1上へ塗工されたインキ受容層2を予備乾燥する。
(Receptive layer drying process)
Next, a receiving layer drying step is performed in which the ink receiving layer 2 is pre-dried to obtain a semi-dry receiving layer 2. In the receiving layer drying step, as shown in FIG. 1B, the ink receiving layer 2 coated on the ink-peelable film substrate 1 by the above method is pre-dried.

予備乾燥には、自然乾燥、冷風・温風乾燥、マイクロ波、減圧乾燥等を用いることができ、又、紫外線、電子線等の放射線を用いることもできる。   For the preliminary drying, natural drying, cold air / warm air drying, microwave, vacuum drying, or the like can be used, and radiation such as ultraviolet rays or electron beams can also be used.

この予備乾燥は、インキ受容層2の粘度又はチキソトロピー性、脆性を上げることを目的とするもので、完全乾燥はさせないで、いわゆる半乾燥状態を作り出すものである。つまり、半乾燥受容層2は、半乾燥状態である。乾燥が不十分な場合は、後工程で凸版6を押し当て剥離する際に、半乾燥受容層2が断裂し不良が発生する。一方、乾燥が行き過ぎた場合は、半乾燥受容層2表面のタック性が無くなり、凸版6に半乾燥受容層2が転写されない。そのため、使用するインキ受容層2の組成によって乾燥状態を調節する。   This preliminary drying is intended to increase the viscosity, thixotropy and brittleness of the ink receiving layer 2, and does not completely dry, but creates a so-called semi-dry state. That is, the semi-dry receiving layer 2 is in a semi-dry state. When drying is insufficient, when the relief plate 6 is pressed and peeled in a later step, the semi-dry receiving layer 2 is torn and a defect occurs. On the other hand, when the drying is excessive, the tackiness of the surface of the semi-dry receiving layer 2 is lost, and the semi-dry receiving layer 2 is not transferred to the relief 6. Therefore, the dry state is adjusted according to the composition of the ink receiving layer 2 to be used.

(転移工程)
次に、凸版4を半乾燥受容層2に押し当て、半乾燥受容層2のうち画像パターンに不要な部分を凸版4の凸部に転移させる転移工程が行われる。転移工程では、図1Cに示すように、所望の画像パターンに対応して凹部が形成された凸版4に半乾燥受容層2を押し当てる。つまり、インキ剥離性のフィルム基材1の半乾燥受容層2側が、凸版6の凹凸面に押し当てられる。そして、図1Dに示すように、凸版4からインキ剥離性のフィルム基材1を剥離し、半乾燥受容層2のうち画像パターンに不必要な部分(半乾燥受容層2のうち凸版6の凸部が押し当てられた部分)を凸版4の凸部に転移させる。インキ剥離性のフィルム基材1の表面には、半乾燥受容層2による画像パターン(受容層パターン)が残る。
(Transition process)
Next, a transfer step is performed in which the relief plate 4 is pressed against the semi-drying receiving layer 2 and a portion of the semi-drying receiving layer 2 that is not necessary for the image pattern is transferred to the protrusions of the relief plate 4. In the transfer step, as shown in FIG. 1C, the semi-dry receiving layer 2 is pressed against the relief plate 4 in which the concave portions are formed corresponding to the desired image pattern. That is, the semi-dry receiving layer 2 side of the ink peelable film substrate 1 is pressed against the uneven surface of the relief plate 6. Then, as shown in FIG. 1D, the ink-peelable film substrate 1 is peeled from the relief plate 4, and an unnecessary part of the image pattern in the semi-drying receiving layer 2 (the relief of the relief plate 6 in the semi-drying receiving layer 2 is The portion where the portion is pressed is transferred to the convex portion of the relief plate 4. An image pattern (receiving layer pattern) by the semi-dry receiving layer 2 remains on the surface of the ink peelable film substrate 1.

凸版4としては、無アルカリガラス等の低膨張ガラス表面に感光性樹脂を用いてマスクパターンを形成した後、既存のドライエッチング処理やウェットエッチング処理、若しくはサンドブラスト処理を用いて、2μmから30μmの版深を設けたものを用いることができる。   As the relief plate 4, a mask pattern is formed on a surface of a low expansion glass such as an alkali-free glass using a photosensitive resin, and then a plate of 2 to 30 μm is formed using an existing dry etching process, wet etching process, or sand blasting process. What provided the depth can be used.

又、凸版4には、ナイロン、アクリル、シリコーン樹脂、スチレン−ジエン共重合体等から成るものを用いることもできる。また、エチレン−プロピレン系、ブチル系、ウレタン系ゴム等のゴム製の版を用いることもできる。このような樹脂製の凸版4は、既に凸版印刷やフレキソ印刷用に用いられており、予め作製した型に所定の樹脂を流し込んで版とする、或いは彫刻によっても作製することができるが、感光性樹脂を用いる方法がより高精度のものを作製できる。   The relief plate 4 may be made of nylon, acrylic, silicone resin, styrene-diene copolymer or the like. Also, rubber plates such as ethylene-propylene, butyl, and urethane rubbers can be used. Such a resin relief plate 4 has already been used for relief printing and flexographic printing, and can be produced by pouring a predetermined resin into a previously produced mold or by engraving. It is possible to manufacture a method using a functional resin with higher accuracy.

(インキ層形成工程)
次に、インキ剥離性のフィルム基材1上に残された半乾燥受容層2による画像パターン(受容層パターン)に、インクジェット法により着色インキ層7を形成するインキ層形成工程が行われる。インキ層形成工程では、図1E及び図1Fに示すように、インキ剥離性のフィルム基材1上に残された半乾燥受容層2による画像パターン上に、インクジェット装置6を用いて着色インキ層7を形成する。このインキ層形成工程では、様々な色の着色インキ層7を形成することが可能である。
(Ink layer formation process)
Next, an ink layer forming step of forming a colored ink layer 7 by an ink jet method is performed on the image pattern (receiving layer pattern) formed by the semi-dry receiving layer 2 left on the ink peelable film substrate 1. In the ink layer forming step, as shown in FIGS. 1E and 1F, a colored ink layer 7 is formed on the image pattern of the semi-drying receiving layer 2 left on the ink-peelable film substrate 1 using an ink jet device 6. Form. In this ink layer forming step, it is possible to form colored ink layers 7 of various colors.

着色インキ層7の材料は、着色顔料、溶媒、樹脂、分散剤などで構成される。   The material of the colored ink layer 7 is composed of a color pigment, a solvent, a resin, a dispersant, and the like.

着色インキ層7に使用する着色顔料としては、Pigment Red9、19、38、43、97、122、123、144、149、166、168、177、179、180、192、215、216、208、216、217、220、223、224、226、227、228、240、Pigment Blue15、15:6、16、22、29、60、64、Pigment Green7、36、Pigment Red20、24、86、81、83、93、108、109、110、117、125、137、138、139、147、148、153、154、166、168、185、Pigment Orange36、Pigment Violet23等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。又、これらの有機顔料は、要望の色相を得る為に、2種類以上を混合して用いても構わない。   Pigment Red 9, 19, 38, 43, 97, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 177, 179, 180, 192, 215, 216, 208, 216 are used as the color pigment used in the colored ink layer 7. 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, Pigment Blue 15, 15: 6, 16, 22, 29, 60, 64, Pigment Green 7, 36, Pigment Red 20, 24, 86, 81, 83, 93, 108, 109, 110, 117, 125, 137, 138, 139, 147, 148, 153, 154, 166, 168, 185, Pigment Orange 36, Pigment Violet 23, etc., but are not limited thereto. Absent. These organic pigments may be used in combination of two or more in order to obtain a desired hue.

又、上記顔料と組み合わせて、彩度と明度のバランスを取りつつ良好な塗布性、感度、現像性等を確保する為に、無機顔料を組み合わせて用いることもできる。無機顔料としては、黄色鉛、亜鉛黄、べんがら、カドミウム等、群青、紺青、酸化クロム緑、コバルト緑等の金属酸化物粉、金属硫化物粉、金属粉等が挙げられる。さらに、調色の為、耐熱性を低下させない範囲内で染料を含有させることができる。   In combination with the above pigments, inorganic pigments can also be used in combination in order to ensure good coatability, sensitivity, developability and the like while balancing saturation and lightness. Examples of inorganic pigments include yellow lead, zinc yellow, red pepper, cadmium and the like, ultramarine, bitumen, chromium oxide green, cobalt green and other metal oxide powders, metal sulfide powders, metal powders and the like. Furthermore, for color matching, a dye can be contained within a range that does not lower the heat resistance.

着色インキ層7に使用する溶媒としては、インクジェット方式における適性の表面張力範囲40mN/m以下で、且つ、沸点が130°C以上のものが好ましい。表面張力が40mN/m以上であると、インクジェット吐出時のドット形状の安定性に、著しい悪影響を及ぼす。一方、着色インキ層7に使用する溶媒の沸点が130°C以下であると、ノズル近傍での乾燥性が著しく高くなり、その結果、ノズル詰まり等の不良発生を招くので好ましくない。具体的には、2−メトキシエタノール、2−エトキシエタノール、2−ブトキシエタノール、2−エトキシエチルアセテート、2−ブトキシエチルアセテート、2−メトキシエチルアセテート、2−エトキシエチルエーテル、2−(2−エトキシエトキシ)エタノール、2−(2−ブトキシエトキシ)エタノール、2−(2−エトキシエトキシ)エチルアセテート、2−(2−ブトキシエトキシ) エチルアセテート、2−フェノキシエタノール、ジエチレングリコールジメチルエーテル等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらは、単独で用いることもできるし、又は2種類以上を混合して用いることもできる。   The solvent used for the colored ink layer 7 is preferably a solvent having an appropriate surface tension range of 40 mN / m or less in an ink jet system and a boiling point of 130 ° C. or more. When the surface tension is 40 mN / m or more, the dot shape stability at the time of inkjet discharge is significantly adversely affected. On the other hand, when the boiling point of the solvent used for the colored ink layer 7 is 130 ° C. or lower, the drying property in the vicinity of the nozzle is remarkably increased, and as a result, the occurrence of defects such as nozzle clogging is caused. Specifically, 2-methoxyethanol, 2-ethoxyethanol, 2-butoxyethanol, 2-ethoxyethyl acetate, 2-butoxyethyl acetate, 2-methoxyethyl acetate, 2-ethoxyethyl ether, 2- (2-ethoxy Ethoxy) ethanol, 2- (2-butoxyethoxy) ethanol, 2- (2-ethoxyethoxy) ethyl acetate, 2- (2-butoxyethoxy) ethyl acetate, 2-phenoxyethanol, diethylene glycol dimethyl ether, and the like. It is not limited. These can be used alone or in combination of two or more.

着色インキ層7に使用する樹脂としては、カゼイン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルアセタール、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂及びこれらを変性したもの等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。耐熱性や耐光性が要求される際には、アクリル樹脂が好ましい。   Examples of the resin used for the colored ink layer 7 include, but are not limited to, casein, gelatin, polyvinyl alcohol, carboxymethyl acetal, polyimide resin, acrylic resin, epoxy resin, melamine resin, and modified ones thereof. It is not a thing. When heat resistance and light resistance are required, an acrylic resin is preferable.

樹脂への色素の分散を向上させるために、着色インキ層7の材料に分散剤を用いても良い。分散剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル等の非イオン性界面活性剤、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム、ポリ脂肪酸塩、脂肪酸塩アルキルリン酸塩、テトラアルキルアンモニウム塩等のイオン性界面活性剤、その他に、有機顔料誘導体、ポリエステル等が挙げられる。これらは単独で用いることもできるし、又は2種類以上を混合して用いることもできる。   In order to improve the dispersion of the pigment in the resin, a dispersant may be used for the material of the colored ink layer 7. As the dispersant, nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ether, ionic surfactants such as sodium alkylbenzene sulfonate, poly fatty acid salt, fatty acid salt alkyl phosphate, tetraalkyl ammonium salt, Examples thereof include organic pigment derivatives and polyester. These can be used alone or in combination of two or more.

着色インキ層7を供給するインクジェット装置6としては、インク吐出方法の相違によりピエゾ変換方式と熱変換方式があり、特にピエゾ変換方式が好適である。インクの粒子化周波数は5〜100KHz程度、ノズル径としては5〜80μm程度、ヘッドを3個配置し、1ヘッドにノズルを60〜500個組み込んだ装置が好適である。   As the ink jet device 6 for supplying the colored ink layer 7, there are a piezo conversion method and a heat conversion method depending on the ink discharge method, and the piezo conversion method is particularly preferable. A device in which the ink particleization frequency is about 5 to 100 KHz, the nozzle diameter is about 5 to 80 μm, three heads are arranged, and 60 to 500 nozzles are incorporated in one head is suitable.

(転写工程)
次に、インキ剥離性のフィルム基材1上の半乾燥受容層2と着色インキ層7とから成る画像パターンを、目的の被印刷基板8の表面上へ転写する転写工程が行われる。転写工程では、図1Gに示すように、目的の被印刷基板8上に、半乾燥受容層2と着色インキ層7とから成る画像パターンを押し当てる。つまり、インキ剥離性のフィルム基材1の画像パターン側が被印刷基板8の表面に押し当てられる。そして、図1Hに示すように、被印刷基板8からインキ剥離性のフィルム基材1を剥離し、半乾燥受容層2と着色インキ層7とから成る画像パターンを被印刷基板8に転移させる。
(Transfer process)
Next, a transfer process for transferring the image pattern composed of the semi-drying receiving layer 2 and the colored ink layer 7 on the ink-peelable film substrate 1 onto the surface of the target printing substrate 8 is performed. In the transfer process, as shown in FIG. 1G, an image pattern composed of the semi-dry receiving layer 2 and the colored ink layer 7 is pressed onto the target substrate 8 to be printed. That is, the image pattern side of the ink-peelable film substrate 1 is pressed against the surface of the substrate 8 to be printed. Then, as shown in FIG. 1H, the ink-peelable film substrate 1 is peeled from the substrate 8 to be printed, and the image pattern composed of the semi-dry receiving layer 2 and the colored ink layer 7 is transferred to the substrate 8 to be printed.

被印刷基板8には、ガラスやプラスチック板等を使用できるが、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド、ナイロン、アラミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリ塩化ビニル、トリアセチルセルロース等のフィルムやシートも使用できる。耐熱性のものとしては、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー、ポリイミド等が好適である。又、無機フィラーを樹脂に添加して耐熱性を向上させた材料から成る基板でもよい。フィルム及びシートは、延伸フィルムでもよく、未延伸フィルムでもよい。又、可撓性基板の被印刷基板8には、必要に応じて、ガスバリア層や平滑化層、受像層が、印刷面又は他の面に積層されていてもよい。また、被印刷基板8は、予め表面を格子状に区画するブラックマトリクスを形成したものであってもよい。その場合は、転写工程により各格子にRGBのインキが着色される。   For the substrate 8 to be printed, glass or plastic plate can be used. For example, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (PEN), polyethersulfone, cycloolefin polymer, polyimide, nylon, aramid, polycarbonate, poly Films and sheets such as methyl methacrylate, polyvinyl chloride, and triacetyl cellulose can also be used. As the heat resistant material, polyethylene naphthalate, polyethersulfone, cycloolefin polymer, polyimide and the like are suitable. Moreover, the board | substrate consisting of the material which added the inorganic filler to resin and improved heat resistance may be sufficient. The film and sheet may be a stretched film or an unstretched film. In addition, a gas barrier layer, a smoothing layer, and an image receiving layer may be laminated on the printing surface or other surface as necessary on the substrate 8 to be printed which is a flexible substrate. Further, the substrate to be printed 8 may be a substrate on which a black matrix that partitions the surface in a lattice shape is formed in advance. In that case, RGB ink is colored on each lattice by the transfer process.

(乾燥工程)
次に、被印刷基板8に転写された半乾燥受容層2と着色インキ層7を乾燥する乾燥工程が行われる。
(Drying process)
Next, a drying process for drying the semi-dry receiving layer 2 and the colored ink layer 7 transferred to the substrate 8 to be printed is performed.

乾燥には、自然乾燥、冷風・温風乾燥、マイクロ波、減圧乾燥等を用いることができ、又、紫外線、電子線等の放射線を用いることもできる。   For drying, natural drying, cold air / hot air drying, microwave, vacuum drying, or the like can be used, and radiation such as ultraviolet rays or electron beams can also be used.

以下に、本発明の一実施例として、カラーフィルタ基板を作製する場合を示すが、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、これに限定されるものではない。   In the following, as an example of the present invention, a case of producing a color filter substrate is shown, but the present invention is not limited to this without departing from the spirit of the present invention.

インキ剥離性のフィルム基材には、基板厚約100μmのシリコーン系離型ポリエステルフィルム:K1504(東洋紡績(株)製)を300mm□(縦300mm×横300mm)に切り出したものを用いた。   As the ink-peeling film base material, a silicone release polyester film having a substrate thickness of about 100 μm: K1504 (manufactured by Toyobo Co., Ltd.) cut into 300 mm □ (length 300 mm × width 300 mm) was used.

凸版には、200mm幅(パターン有効幅は150mm)のドライエッチングを用いて作製した版深25μmのガラス版を用いた。画像パターンは、凸部20μm幅、凹部80μm幅の連続したストライプパターンとした。   As the relief plate, a glass plate having a plate depth of 25 μm prepared by dry etching with a width of 200 mm (pattern effective width is 150 mm) was used. The image pattern was a continuous stripe pattern having a convex portion width of 20 μm and a concave portion width of 80 μm.

被印刷基板には、フィルム厚100μm、300mm□(縦300mm×横300mm)の光透過性PET基板上に、受像層を形成したものを用いた。   As the substrate to be printed, a substrate having an image receiving layer formed on a light-transmitting PET substrate having a film thickness of 100 μm and 300 mm □ (length 300 mm × width 300 mm) was used.

受像層溶液およびインキ受容層溶液としては、下記組成にて調製した溶液を用いた。   As the image receiving layer solution and the ink receiving layer solution, solutions prepared with the following compositions were used.

[受像層溶液およびインキ受容層溶液の組成]
・シリカ 2重量部
・アクリルポリマー 18重量部
・トルエン 80重量部
[Composition of image-receiving layer solution and ink-receiving layer solution]
Silica 2 parts ・ Acrylic polymer 18 parts ・ Toluene 80 parts

着色インキは、下記要領にて作製した。   The colored ink was prepared as follows.

まず、下記の組成の混合物を3本ロールにて混錬し、各顔料分散体を作製した。   First, a mixture having the following composition was kneaded with three rolls to prepare each pigment dispersion.

[顔料分散体の組成]
・アクリルワニス(固形分10%) 80重量部
・顔料 19重量部
・分散剤 1重量部
[Composition of pigment dispersion]
・ Acrylic varnish (solid content 10%) 80 parts by weight ・ Pigment 19 parts by weight ・ Dispersant 1 part by weight

次に、上記各顔料分散体を、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで、顔料濃度が12〜15%、粘度が15cpsになるように調製し、R、G、B着色インキを得た。   Next, each pigment dispersion was prepared with propylene glycol monomethyl ether acetate so that the pigment concentration was 12 to 15% and the viscosity was 15 cps, and R, G, and B colored inks were obtained.

また、受容層塗工工程の前に、受像層付のPET基材(被印刷基板)を作製する被印刷基板の準備工程を行った。このPET基材上に、200mm幅のヘッドを用いたダイコーターにより、塗工長さ200mm、乾燥状態の受像層単独での膜厚が0.5μmになるように、上記受像層溶液をコーティングした。そして、PET基材上の受像層を、80℃ホットプレート上で3分乾燥し、受像層付き被印刷基板を作製した。   Moreover, the preparatory process of the to-be-printed substrate which produces PET base material (printed substrate) with an image receiving layer was performed before the receiving layer coating process. On the PET substrate, the image receiving layer solution was coated by a die coater using a 200 mm wide head so that the coating length was 200 mm and the thickness of the dried image receiving layer alone was 0.5 μm. . And the image receiving layer on PET base material was dried for 3 minutes on an 80 degreeC hotplate, and the to-be-printed substrate with an image receiving layer was produced.

次に、受容層塗工工程を行った。この受容層塗工工程では、上記インキ剥離性のフィルム基材上に、200mm幅のヘッドを有するダイコーターにより、塗工長さ200mm、乾燥状態におけるインキ受容層単独での膜厚が3.0μmになるように、上記インキ受容層溶液をコーティングした。インキ剥離性のフィルム基材のインキ受容層は、被印刷基板の受像層よりも厚くなっている。   Next, the receiving layer coating process was performed. In this receiving layer coating step, a coating length of 200 mm and the thickness of the ink receiving layer alone in a dry state is 3.0 μm by a die coater having a 200 mm wide head on the above-described ink peelable film substrate. The ink receiving layer solution was coated so that The ink receiving layer of the ink-peeling film base is thicker than the image receiving layer of the substrate to be printed.

次に、受容層乾燥工程を行った。この受容層乾燥工程では、受容層塗工工程後のインキ剥離性のフィルム基材上のインキ受容層を、40℃ホットプレート上で30秒乾燥し、半乾燥受容層を得た。   Next, the receiving layer drying process was performed. In this receiving layer drying step, the ink receiving layer on the ink-peelable film substrate after the receiving layer coating step was dried for 30 seconds on a 40 ° C. hot plate to obtain a semi-dry receiving layer.

次に、転移工程を行った。この転移工程では、インキ剥離性のフィルム基材上の半乾燥受容層を上記凸版に押し当て、その後剥離し、インキ剥離性のフィルム基材上の半乾燥受容層のうち、非画像パターン部のみ、すなわち、凸版上の凸部に存在する半乾燥受容層のみを凸版へ転移させた。そして、インキ剥離性のフィルム基材上に半乾燥受容層による画像パターン(受容層パターン)を得た。   Next, a transfer process was performed. In this transfer step, the semi-drying receiving layer on the ink-peeling film substrate is pressed against the relief plate, and then peeled off. Of the semi-drying receiving layer on the ink-peeling film substrate, only the non-image pattern portion That is, only the semi-dry receiving layer present on the convex portions on the relief printing plate was transferred to the relief printing plate. And the image pattern (receiving layer pattern) by a semi-dry receiving layer was obtained on the ink peelable film base material.

次に、インキ層形成工程を行った。このインキ層形成工程では、インキ剥離性のフィルム基材上に残された半乾燥受容層による画像パターンに、12pl、180dpiヘッドを搭載したインクジェット印刷装置により、赤(R)、緑(G)、青(B)各々の着色インキ層を形成した。   Next, an ink layer forming step was performed. In this ink layer forming step, red (R), green (G), an image pattern by a semi-dry receiving layer left on an ink-peelable film substrate is printed by an inkjet printing apparatus equipped with a 12 pl, 180 dpi head. Blue (B) colored ink layers were formed.

次に、転写工程を行った。転写工程では、インキ層形成工程後のインキ剥離性のフィルム基材上の半乾燥受容層と着色インキ層とから成る画像パターンを上記被印刷基板に押し当て、その後剥離し、インキ剥離性のフィルム基材上の半乾燥受容層と着色インキ層とから成る画像パターンを、被印刷基板へ転移させた。   Next, a transfer process was performed. In the transfer process, the image pattern comprising the semi-drying receiving layer and the colored ink layer on the ink-peeling film substrate after the ink layer forming process is pressed against the substrate to be printed, and then peeled off to form an ink-peeling film. The image pattern consisting of the semi-dry receiving layer and the colored ink layer on the substrate was transferred to the substrate to be printed.

以上の工程を以って、80μm幅の高精細パターンから成るカラーフィルタ基板を作製した。   Through the above steps, a color filter substrate composed of a high-definition pattern having a width of 80 μm was produced.

本発明の印刷方法は、ガラス基板や、プラスチックフィルム等の可撓性基板へ高精細パターンの薄膜印刷を安定して行うことができるので、カラーパターン、ブラックマトリクス、ホワイトマトリクス、スペーサー等のカラーフィルタ部材、ゲート電極、ソース電極、ドレイン電極、ゲート絶縁膜、有機半導体材料等のトランジスタ部材、有機発光層等の有機EL素子の製造に利用できる。   Since the printing method of the present invention can stably perform thin film printing of high-definition patterns on a flexible substrate such as a glass substrate or a plastic film, a color filter such as a color pattern, a black matrix, a white matrix, or a spacer. It can be used for manufacturing organic EL elements such as members, gate electrodes, source electrodes, drain electrodes, gate insulating films, transistor members such as organic semiconductor materials, and organic light emitting layers.

1 フィルム基材
2 インキ受容層、半乾燥受容層
3 ダイコーター
4 凸版
5 ローラー
6 インクジェット装置
7 着色インキ層
8 被印刷基板
11 支持基板
12 剥離層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Film base material 2 Ink receiving layer, semi-dry receiving layer 3 Die coater 4 Letterpress 5 Roller 6 Inkjet device 7 Colored ink layer 8 Printed substrate 11 Support substrate 12 Release layer

Claims (5)

被印刷基板に印刷する印刷方法であって、
フィルム基材上に、インキ受容層を塗工する受容層塗工工程と、
前記インキ受容層を乾燥し、半乾燥状態の半乾燥受容層を得る受容層乾燥工程と、
画像パターンに対応して凹部が形成された凸版を前記半乾燥受容層に押し当て、該半乾燥受容層のうち前記凸版の凸部が押し当てられた部分を前記凸版の凸部に転移させ、前記フィルム基材上に、前記半乾燥受容層による画像パターンを形成する転移工程と、
前記転移工程後に前記フィルム基材上に残された前記半乾燥受容層による画像パターン上に、インクジェット装置を用いて着色インキ層を形成するインキ層形成工程と、
前記インキ層形成工程後に前記フィルム基材上に存在する前記半乾燥受容層と前記着色インキ層とを有する画像パターンを、被印刷基板の表面上へ転写する転写工程とを備えることを特徴とする印刷方法。
A printing method for printing on a substrate to be printed,
A receiving layer coating process for coating an ink receiving layer on a film substrate;
A receiving layer drying step of drying the ink receiving layer to obtain a semi-dried receiving layer in a semi-dried state;
Pressing the relief plate formed with a recess corresponding to the image pattern against the semi-dry receiving layer, transferring the portion of the semi-dry receiving layer where the relief portion of the relief plate is pressed to the relief portion of the relief plate, A transfer step of forming an image pattern with the semi-dry receiving layer on the film substrate;
An ink layer forming step of forming a colored ink layer using an inkjet device on the image pattern by the semi-drying receiving layer left on the film substrate after the transfer step;
And a transfer step of transferring an image pattern having the semi-dry receiving layer and the colored ink layer present on the film base material after the ink layer forming step onto the surface of the substrate to be printed. Printing method.
前記フィルム基材は、前記半乾燥受容層を剥離させるための剥離層として、支持基板上にシリコーン樹脂が積層されていることを特徴とする請求項1に記載の印刷方法。   The printing method according to claim 1, wherein the film base material has a silicone resin laminated on a support substrate as a release layer for releasing the semi-dry receiving layer. 前記受容層塗工工程では、前記インキ受容層が、ダイコーターを用いて前記フィルム基材上に塗工されることを特徴とする請求項1又は2に記載の印刷方法。   3. The printing method according to claim 1, wherein in the receiving layer coating step, the ink receiving layer is coated on the film substrate using a die coater. 前記受容層乾燥工程後の受容層の厚さは、0.05μm以上50μm以下であることを特徴とする請求項1乃至3何れかに記載の印刷方法。   The printing method according to claim 1, wherein a thickness of the receiving layer after the receiving layer drying step is 0.05 μm or more and 50 μm or less. 前記被印刷基板は、予め表面を格子状に区画するブラックマトリクスを形成したものであることを特徴とする請求項1乃至4何れかに記載の印刷方法。   The printing method according to any one of claims 1 to 4, wherein the substrate to be printed is a substrate in which a black matrix that partitions a surface in a lattice shape is formed in advance.
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