JP2013205407A - 形状計測装置、形状計測方法及び形状計測装置における校正処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明の形状計測装置1は、少なくとも3つの等間隔に配置された点光源又は直線状光源からなる光源アレイ11、一次元格子の格子面を有する格子プレート12、一次元格子が投影される計測対象物体21を撮影するカメラ13及び制御ユニット50を備える。制御ユニット50は、当該少なくとも3つの光源のうち、計測距離の範囲に応じてN倍の光源ピッチと、M倍の格子ピッチの組み合わせのうち、mod(2πM/N,2π)が3個以上の異なる値を取る(N,M)の組み合わせを基に、当該投影する一次元格子の位相シフトを行う光源を決定し、当該決定した各光源を順次点灯してそれぞれ計測対象物体21上に投影される一次元格子の位相から計測対象物体21に関する高さ座標を求める。
【選択図】図1
Description
図1は、本発明による一実施形態の形状計測装置1の構成とその動作原理を示す図である。本実施形態の形状計測装置1は、計測対象物体21の三次元形状を計測する装置であり、等間隔且つ一列に並べられた5つの光源L−2,L−1,L0,L1及びL2からなる光源アレイ11と、一次元格子からなる格子面を有する格子プレート12と、カメラ13と、制御ユニット50とを備える。
まず、格子投影法による形状計測において、格子縞の位相解析を行うことは物体の形状や変形を高精度に解析するために非常に有効である。一般に一点の位相を解析するには、位相シフト法が使われている。最もよく使われている一般の位相シフト法は、1周期2πをN等分(Nは3以上の整数)した2π/Nずつ位相をシフトさせる位相シフト法が使われている。しかし、位相シフトを高精度に行うためにピエゾステージ等の移動ステージを用いた位相シフト装置を用いるとすると、この移動ステージは非常に高価となるだけでなく、位相シフト速度も高速にすることは困難で高速で移動する物体の計測には使えない。
図3(a)に示すように、格子や干渉縞の輝度I(x,y)は一般に空間(x,y)上に余弦波状に分布している。これを式で表すと式(1)のようになる。
式(1)は未知数がa(x,y),b(x,y),φ(x,y)の3つであるので、基本的には3つ以上の独立した実験データがあれば未知数を決定できる。位相シフト法は、格子の位相を一定間隔で変化させながら一周期分位相シフトする間に複数枚の格子画像を撮影し、得られた複数の画像から位相分布を求める技法である。すべての画素において輝度は1周期分変化するため、その輝度変化から各点ごとに独立して、即ち周囲の画素の輝度変化の情報を使わずに位相を求めることができる。そのため、段差や不連続のある物体の形状計測に有効な技法と云える。ここでは、まず、最も一般的に用いられている位相シフト量αをπ/2(90度)ごとに位相シフトされた4つの輝度から位相を求める位相シフト法の原理を説明することにする。その後、位相シフト回数を増加させた解析法について説明する。
図5に、多数の基準面を用いた全空間テーブル化技法による校正処理で形状計測を行う原理を示す。z軸に垂直に設置された基準面をz軸方向に少しずつ平行移動させる。カメラ13とプロジェクタ15は、基準面の上方に固定しておく。プロジェクタ15からは一次元格子が基準面に投影される。投影される格子の位相は位相シフト法によって容易に算出することができる。カメラ13の或る1画素は図5に示す直線L上の点を撮影しているとする。その画素は、基準面R0,R1,R2,・・・,RNに応じて、それぞれ点P0,P1,P2,・・・,PN を撮影することになる。それぞれの点における位相θ0,θ1,θ2,・・・,θNは、プロジェクタ15によって投影される格子の位相をずらして撮影した格子画像より、位相シフト法によって求めることができる。
全空間テーブル化技法は、カメラ13におけるレンズの歪曲収差の影響を受けず、投影格子の輝度むらによる位相誤差の影響がなく、ランダムノイズ以外のほとんどの誤差要因を取り除くことができる。全空間テーブル化技法では、キャリブレーション時に位相と三次元空間座標の対応関係を示す表又は近似式を作成し、形状計測時に当該表又は近似式を参照して三次元空間座標分布を得ることができる。このため、投影する格子が歪んでいたとしても、キャリブレーション時と形状計測時に光学系が変わっていなければ、その歪みなどの影響は打ち消され、正しい三次元空間座標が得られる。また、全空間テーブル化技法を用いることで、三次元形状計測時には、予め作成しておいた位相と空間座標の対応関係を示す表又は近似式を参照するだけでよく、幾何学的関係から座標を求める複雑なマトリックス計算をせずに、高速に三次元空間座標分布を得ることが可能である。尚、形状計測前に上述の校正処理を行うように制御ユニット50を構成することができ、位相と空間座標の対応関係を示す表又は近似式は、制御ユニット50におけるメモリ52の所定の格納領域に記憶しておき、形状計測時に読み出すように制御ユニット50を構成することができる。
前述したように、特許文献1〜3に開示される格子をピエゾステージなどで動かして位相シフトを行う格子移動による位相シフト法では、格子の位相シフトを行うとすべての点で同じ量の位相シフトが行われる。例えば、図4に示す例のように、位相シフト量はπ/2である。一方、特許文献4に開示される光源切替方式の位相シフト法では、位相シフト量は光源からの距離に比例し、従来の2πの位相を等分する一定の位相シフト量である位相シフト法と異なる。このため、特許文献4では、光源切替方式の位相シフト法において、光源からの距離に依存する誤差を打ち消すべく、前述の全空間テーブル化技法を併用することが有効であることが示されている。
本発明に係る形状計測装置1では、より広いダイナミックレンジの計測距離の範囲を持つ構成とするために、複数種の位相シフト回数に対応する光源の数、光源ピッチ、及び格子プレートの格子ピッチを構成し、制御ユニット50は、計測距離の範囲(計測する高さzの範囲)に応じて位相シフトを行う光源の切り替え点灯を制御し、計測距離の範囲に応じた位相シフト回数とこれによって投影される位相との関係を求め、この位相から計測対象物体21の高さzを求める。
次に、図9を参照して本実施形態の形状計測装置1の校正処理方法及び制御方法について説明する。
まず、形状計測装置1の装置構成を決める計測対象物体に関する計測距離の範囲を決定する(ステップS1)。
実際の計測対象物体21の計測にあたって、制御ユニット50の計測距離範囲設定部511は、計測対象物体21に関する計測距離の範囲(計測する高さzの範囲)を設定し、その計測距離の範囲について光源決定部512に指示する(ステップS5)。
式(5)を用いて位相を求めるには、位相シフト量Ψが2π/Nでなければならない。一方、光源切替方式による位相シフト法では、式(17)の位相φで与えられる高さzにおける厳密な位相シフト量Ψは式(13)で与えられる。この値が2π/Nと一致する位置S(x,y,z)では、式(5)を用いて得られた位相値は正確である。この位置S(x,y,z)におけるzの値は、式(13)の位相シフト量Ψを2π/Nと置くことにより求められる。
・N=3:z=45mm(M=1)、z=90mm(M=2)。
・N=4:z=40mm(M=1)、z=120mm(M=3)、M=2は式(22)にて分母が0となりzの値は不特定。
・N=5:z=37.5mm(M=1)、z=50mm(M=2)、z=75mm(M=3)、z=150mm(M=4)。
・N=6:z=36mm(M=1)、z=180mm(M=5)、M=2は(N=3,M=1)と同じである。M=3は式(22)にて分母が0となりzの値は不特定。M=4は(N=3,M=2)と同じである。
・N=7:z=35mm(M=1)、z=42mm(M=2)、z=52.5mm(M=3)、 z=70mm(M=4)、z=105mm(M=5)、z=210mm(M=6)。
・N=8:z=34.3mm(M=1)、z=48mm(M=3)、z=80mm(M=5)、 z=240mm(M=7)、M=2は(N=4,M=1)と同じである。M=4は式(22)にて分母が0となりzの値は不特定。M=6は(N=4,M=3)と同じである。
・N=9:z=33.8mm(M=1)、z=38.6mm(M=2)、z=54mm(M=4)、z=67.5mm(M=5)、z=135mm(M=7)、z=270mm(M=8)、M=3は(N=3,M=1)と同じである。M=6は(N=3,M=2)と同じである。
11 光源アレイ
12 格子プレート
12a 格子の光遮蔽領域
12b 格子の光透過領域
13 カメラ
21 計測対象物体
50 制御ユニット
51 制御部
52 メモリ
511 計測距離範囲設定部
512 光源決定部
513 カメラ撮影処理部
514 画素別輝度算出部
515 位相算出部
516 三次元空間座標算出部
Claims (5)
- 計測対象物体の形状を非接触で計測する形状計測装置であって、
複数種の位相シフト回数に対応する少なくとも3つの等間隔に配置された点光源あるいは直線状光源からなる光源アレイと、
前記少なくとも3つの等間隔と同じ方向に等間隔に並んだ直線からなる光透過領域を有する格子プレートと、
前記少なくとも3つの光源の順次点灯により前記一次元格子がそれぞれ投影される計測対象物体を撮影するカメラと、
前記少なくとも3つの光源のうち、計測距離の範囲に応じてN(0を除く整数)倍の光源ピッチと、M(0を除く整数)倍の格子ピッチの組み合わせのうち、mod(2πM/N,2π)が3個以上の異なる値を取る(N,M)の組み合わせを基に、当該投影する一次元格子の位相シフトを行う光源を決定し、当該決定した各光源を順次点灯してそれぞれ前記計測対象物体上に投影される一次元格子を撮影するよう前記カメラを制御し、前記決定した各光源による前記計測対象物体上に投影された前記一次元格子の位相を前記カメラの画素ごとにそれぞれ算出し、前記N倍の光源ピッチとM倍の格子ピッチの組み合わせに応じて予め前記画素ごとに用意した前記一次元格子の位相と三次元空間座標とを1対1に対応づける表又は近似式を基に前記計測対象物体に関する三次元空間座標を求める制御ユニットと、
を備えることを特徴とする形状計測装置。 - 前記制御ユニットは、
前記計測距離の範囲として、前記少なくとも3つの光源を配列した直線上の1点を原点として、前記格子プレートのそれぞれの光透過領域の配列方向をX軸、前記光透過領域の直線をY軸、及び前記格子プレートの格子面の法線方向をZ軸とし、前記光源アレイの原点から前記計測対象物体の表面までの前記Z軸方向の距離をz、前記光源アレイの各光源の間隔をl、前記光源アレイの原点から前記格子面までのZ軸方向の距離をd、前記一次元格子の間隔をpとしたとき、
- 前記制御ユニットは、
前記N(0を除く整数)倍の光源ピッチと、M(0を除く整数)倍の格子ピッチの組み合わせのうち、mod(2πM/N,2π)が3個以上の異なる値を取る(N,M)の組み合わせを基に決定した計測距離の範囲について、前記一次元格子の位相と前記三次元空間座標とを1対1に対応づける表又は近似式を基に前記計測対象物体に関する高さ座標を当該計測対象物体の形状の計測前に予め記憶保持する手段を更に備えることを特徴とする、請求項1又は2に記載の形状計測装置。 - 複数種の位相シフト回数に対応する少なくとも3つの等間隔に配置された点光源あるいは直線状光源からなる光源アレイと、前記少なくとも3つの等間隔と同じ方向に等間隔に並んだ直線からなる光透過領域を有する格子プレートと、前記少なくとも3つの光源の順次点灯により前記一次元格子がそれぞれ投影される計測対象物体を撮影するカメラと、制御ユニットとを備える形状計測装置によって、計測対象物体の形状を非接触で計測する形状計測方法であって、
前記制御ユニットは、
前記少なくとも3つの光源のうち、計測距離の範囲に応じてN(0を除く整数)倍の光源ピッチと、M(0を除く整数)倍の格子ピッチの組み合わせのうち、mod(2πM/N,2π)が3個以上の異なる値を取る(N,M)の組み合わせを基に、当該投影する一次元格子の位相シフトを行う光源を決定するステップと、
当該決定した各光源を順次点灯してそれぞれ前記計測対象物体上に投影される一次元格子を撮影するよう前記カメラを制御するステップと、
前記決定した各光源による前記計測対象物体上に投影された前記一次元格子の位相をそれぞれ算出し、前記N倍の光源ピッチとM倍の格子ピッチの組み合わせに応じて予め前記画素ごとに用意した前記一次元格子の位相と三次元空間座標とを1対1に対応づける表又は近似式を基に前記計測対象物体に関する三次元空間座標を求めるステップと、
を含むことを特徴とする形状計測方法。 - 複数種の位相シフト回数に対応する少なくとも3つの等間隔に配置された点光源あるいは直線状光源からなる光源アレイと、前記少なくとも3つの等間隔と同じ方向に等間隔に並んだ直線からなる光透過領域を有する格子プレートと、前記少なくとも3つの光源の順次点灯により前記一次元格子がそれぞれ投影される計測対象物体を撮影するカメラと、制御ユニットとを備える形状計測装置における校正処理方法であって、
(A)計測対象物体に関する計測距離の範囲を決定するステップと、
(B)当該計測距離の範囲における格子ピッチ、光源ピッチ及びN(0を除く整数)倍の光源ピッチと、M(0を除く整数)倍の格子ピッチの組み合わせのうち、mod(2πM/N,2π)が3個以上の異なる値を取る(N,M)の組み合わせを決定するステップと、
(C)前記決定した格子ピッチ及び光源ピッチを基に、前記光源アレイ及び前記格子プレートを配置するステップと、
(D)前記格子ピッチ、前記光源ピッチ及び前記(N,M)の組み合わせを基に決定される複数の高さ座標zのうちの1つ高さ座標zの位置に、二次元平面座標x,yを有する所定の基準面を配置するステップと、
(E)前記制御ユニットにより、前記格子ピッチ、前記光源ピッチ及び前記(N,M)の組み合わせを基に決定される複数の光源のうちの1つの光源を点灯し、前記基準面上に一次元格子の像を投影するステップと、
(F)前記カメラにより、前記基準面上に投影した一次元格子の像を撮影するステップと、
(G)前記制御ユニットにより、前記格子ピッチ、前記光源ピッチ及び前記(N,M)の組み合わせを基に決定される複数の高さ座標zのすべてについて、前記ステップ(D),(E),(F)を繰り返し、当該撮影した前記一次元格子の像から算出する位相のうち前記基準面の高さ座標zに対して1:1の対応関係がある位相の値を前記カメラの画素ごとに算出するステップと、
(H)前記制御ユニットにより、前記カメラの画素ごとに前記基準面における二次元平面座標x,yを算出し、前記カメラの画素ごとに該位相の値に対応する当該高さ座標z及び二次元平面座標x,yからなる三次元空間座標の表又は近似式をそれぞれ作成し、記憶保持するステップと、
を含むことを特徴とする形状計測装置における校正処理方法。
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Cited By (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104019734A (zh) * | 2014-06-19 | 2014-09-03 | 重庆理工大学 | 一种平面二维时栅位移传感器 |
CN104457544A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-03-25 | 重庆理工大学 | 时栅直线位移传感器 |
WO2015078301A1 (zh) * | 2013-11-29 | 2015-06-04 | 重庆理工大学 | 一种基于交变光场的时栅直线位移传感器 |
JP5854544B1 (ja) * | 2015-04-07 | 2016-02-09 | 藤垣 元治 | 形状計測装置および形状計測方法 |
JP5854540B1 (ja) * | 2015-01-09 | 2016-02-09 | 藤垣 元治 | 形状計測装置および形状計測方法 |
CN106052562A (zh) * | 2016-05-27 | 2016-10-26 | 重庆理工大学 | 一种自适应动态比相的时栅位移测量方法及信号处理系统 |
CN108027416A (zh) * | 2016-08-23 | 2018-05-11 | 索尼半导体解决方案公司 | 距离测量设备、电子设备以及距离测量设备的控制方法 |
JP2018084504A (ja) * | 2016-11-24 | 2018-05-31 | 株式会社新川 | ボンディング装置およびボンディング対象物の高さ検出方法 |
CN108267072A (zh) * | 2018-01-31 | 2018-07-10 | 重庆理工大学 | 一种时栅直线位移传感器 |
US10359299B2 (en) | 2014-05-09 | 2019-07-23 | Chongqing University Of Technology | Electric field type time-grating angular displacement sensors |
CN110148171A (zh) * | 2019-04-18 | 2019-08-20 | 北京森焱精创科技有限公司 | 动态投影方法、系统、计算机设备和存储介质 |
EP3537103A1 (en) * | 2018-03-07 | 2019-09-11 | Ricoh Company, Ltd. | Calibration reference point acquisition system and calibration reference point acquisition method |
JP2019168285A (ja) * | 2018-03-22 | 2019-10-03 | 株式会社キーエンス | 画像処理装置 |
US10495488B2 (en) | 2014-03-19 | 2019-12-03 | Chongqing University Of Technology | Electric field time-grating linear displacement sensors based on single row multilayer structure |
CN110672037A (zh) * | 2019-09-02 | 2020-01-10 | 南京理工大学 | 基于相移法的线性光源光栅投影三维测量系统及方法 |
JP2020508443A (ja) * | 2017-02-13 | 2020-03-19 | ホイールライト・リミテッドWheelright Limited | トレッド線スキャナ |
JP2020134252A (ja) * | 2019-02-15 | 2020-08-31 | 株式会社キーエンス | 画像処理装置 |
JP2020134248A (ja) * | 2019-02-15 | 2020-08-31 | 株式会社キーエンス | 画像処理装置 |
CN112105888A (zh) * | 2018-06-11 | 2020-12-18 | 欧姆龙株式会社 | 测量系统以及测量方法 |
CN113310722A (zh) * | 2021-05-26 | 2021-08-27 | 中南大学 | 一种对粉料进行网格分区自动随机取样的设备和方法 |
CN114234847A (zh) * | 2021-12-08 | 2022-03-25 | 苏州恒视智能科技有限公司 | 光栅投影系统及光栅相移高度测量自动校正补偿方法 |
CN114923409A (zh) * | 2020-01-02 | 2022-08-19 | 浙江大学台州研究院 | 一种基于不同高度零件尺寸测量的激光辅助标定装置 |
CN116145239A (zh) * | 2023-04-24 | 2023-05-23 | 苏州晨晖智能设备有限公司 | 单晶硅加料监测方法和单晶硅连续加料装置及其生长装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003050112A (ja) * | 2001-08-07 | 2003-02-21 | Minolta Co Ltd | 三次元形状入力装置及び投影装置 |
JP2008281491A (ja) * | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Wakayama Univ | 多数の基準面を用いた形状計測方法および形状計測装置 |
JP2010281665A (ja) * | 2009-06-04 | 2010-12-16 | Yamaha Motor Co Ltd | 位相シフト画像撮像装置、部品移載装置および位相シフト画像撮像方法 |
JP2011242178A (ja) * | 2010-05-14 | 2011-12-01 | Moire Institute Inc | 形状計測装置及び形状計測方法 |
-
2012
- 2012-03-29 JP JP2012078443A patent/JP5956218B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003050112A (ja) * | 2001-08-07 | 2003-02-21 | Minolta Co Ltd | 三次元形状入力装置及び投影装置 |
JP2008281491A (ja) * | 2007-05-11 | 2008-11-20 | Wakayama Univ | 多数の基準面を用いた形状計測方法および形状計測装置 |
JP2010281665A (ja) * | 2009-06-04 | 2010-12-16 | Yamaha Motor Co Ltd | 位相シフト画像撮像装置、部品移載装置および位相シフト画像撮像方法 |
JP2011242178A (ja) * | 2010-05-14 | 2011-12-01 | Moire Institute Inc | 形状計測装置及び形状計測方法 |
Cited By (40)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2015078301A1 (zh) * | 2013-11-29 | 2015-06-04 | 重庆理工大学 | 一种基于交变光场的时栅直线位移传感器 |
US9995602B2 (en) | 2013-11-29 | 2018-06-12 | Chongqing University Of Technology | Time grating linear displacement sensor based on alternating light field |
US10495488B2 (en) | 2014-03-19 | 2019-12-03 | Chongqing University Of Technology | Electric field time-grating linear displacement sensors based on single row multilayer structure |
US10359299B2 (en) | 2014-05-09 | 2019-07-23 | Chongqing University Of Technology | Electric field type time-grating angular displacement sensors |
CN104019734B (zh) * | 2014-06-19 | 2016-07-06 | 重庆理工大学 | 一种平面二维时栅位移传感器 |
CN104019734A (zh) * | 2014-06-19 | 2014-09-03 | 重庆理工大学 | 一种平面二维时栅位移传感器 |
CN104457544A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-03-25 | 重庆理工大学 | 时栅直线位移传感器 |
CN104457544B (zh) * | 2014-12-31 | 2016-11-02 | 重庆理工大学 | 时栅直线位移传感器 |
JP5854540B1 (ja) * | 2015-01-09 | 2016-02-09 | 藤垣 元治 | 形状計測装置および形状計測方法 |
JP5854544B1 (ja) * | 2015-04-07 | 2016-02-09 | 藤垣 元治 | 形状計測装置および形状計測方法 |
CN106052562A (zh) * | 2016-05-27 | 2016-10-26 | 重庆理工大学 | 一种自适应动态比相的时栅位移测量方法及信号处理系统 |
CN108027416A (zh) * | 2016-08-23 | 2018-05-11 | 索尼半导体解决方案公司 | 距离测量设备、电子设备以及距离测量设备的控制方法 |
CN110249199A (zh) * | 2016-11-24 | 2019-09-17 | 株式会社新川 | 接合装置以及被摄体的高度检测方法 |
TWI655406B (zh) * | 2016-11-24 | 2019-04-01 | 日商新川股份有限公司 | 接合裝置以及被攝體的高度檢測方法 |
KR20190086738A (ko) * | 2016-11-24 | 2019-07-23 | 가부시키가이샤 신가와 | 본딩 장치 및 본딩 대상물의 높이 검출 방법 |
US10816322B2 (en) | 2016-11-24 | 2020-10-27 | Shinkawa Ltd. | Bonding apparatus and method for detecting height of bonding target |
WO2018096728A1 (ja) * | 2016-11-24 | 2018-05-31 | 株式会社新川 | ボンディング装置および被写体の高さ検出方法 |
JP2018084504A (ja) * | 2016-11-24 | 2018-05-31 | 株式会社新川 | ボンディング装置およびボンディング対象物の高さ検出方法 |
KR102255607B1 (ko) * | 2016-11-24 | 2021-05-25 | 가부시키가이샤 신가와 | 본딩 장치 및 본딩 대상물의 높이 검출 방법 |
US11709048B2 (en) | 2017-02-13 | 2023-07-25 | Wheelright Limited | Tread line scanner |
JP2020508443A (ja) * | 2017-02-13 | 2020-03-19 | ホイールライト・リミテッドWheelright Limited | トレッド線スキャナ |
CN108267072A (zh) * | 2018-01-31 | 2018-07-10 | 重庆理工大学 | 一种时栅直线位移传感器 |
EP3537103A1 (en) * | 2018-03-07 | 2019-09-11 | Ricoh Company, Ltd. | Calibration reference point acquisition system and calibration reference point acquisition method |
JP2019161278A (ja) * | 2018-03-07 | 2019-09-19 | 株式会社リコー | 校正基準点取得システム、及び校正基準点取得方法 |
JP2019168285A (ja) * | 2018-03-22 | 2019-10-03 | 株式会社キーエンス | 画像処理装置 |
JP7090446B2 (ja) | 2018-03-22 | 2022-06-24 | 株式会社キーエンス | 画像処理装置 |
CN112105888A (zh) * | 2018-06-11 | 2020-12-18 | 欧姆龙株式会社 | 测量系统以及测量方法 |
JP2020134252A (ja) * | 2019-02-15 | 2020-08-31 | 株式会社キーエンス | 画像処理装置 |
JP2020134248A (ja) * | 2019-02-15 | 2020-08-31 | 株式会社キーエンス | 画像処理装置 |
JP7231432B2 (ja) | 2019-02-15 | 2023-03-01 | 株式会社キーエンス | 画像処理装置 |
JP7164461B2 (ja) | 2019-02-15 | 2022-11-01 | 株式会社キーエンス | 画像処理装置 |
CN110148171B (zh) * | 2019-04-18 | 2021-03-23 | 北京森焱精创科技有限公司 | 动态投影方法、系统、计算机设备和存储介质 |
CN110148171A (zh) * | 2019-04-18 | 2019-08-20 | 北京森焱精创科技有限公司 | 动态投影方法、系统、计算机设备和存储介质 |
CN110672037A (zh) * | 2019-09-02 | 2020-01-10 | 南京理工大学 | 基于相移法的线性光源光栅投影三维测量系统及方法 |
CN114923409A (zh) * | 2020-01-02 | 2022-08-19 | 浙江大学台州研究院 | 一种基于不同高度零件尺寸测量的激光辅助标定装置 |
CN114923409B (zh) * | 2020-01-02 | 2023-06-23 | 浙江大学台州研究院 | 一种基于不同高度零件尺寸测量的激光辅助标定装置 |
CN113310722A (zh) * | 2021-05-26 | 2021-08-27 | 中南大学 | 一种对粉料进行网格分区自动随机取样的设备和方法 |
CN114234847A (zh) * | 2021-12-08 | 2022-03-25 | 苏州恒视智能科技有限公司 | 光栅投影系统及光栅相移高度测量自动校正补偿方法 |
CN114234847B (zh) * | 2021-12-08 | 2024-01-30 | 苏州恒视智能科技有限公司 | 一种光栅投影系统及光栅相移高度测量自动校正补偿方法 |
CN116145239A (zh) * | 2023-04-24 | 2023-05-23 | 苏州晨晖智能设备有限公司 | 单晶硅加料监测方法和单晶硅连续加料装置及其生长装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JP5956218B2 (ja) | 2016-07-27 |
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