JP2013200373A - Electrochromic display device and manufacturing method for electrochromic display device - Google Patents

Electrochromic display device and manufacturing method for electrochromic display device Download PDF

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禎久 内城
Toru Yashiro
徹 八代
Shigenobu Hirano
成伸 平野
Yoshitomo Okada
吉智 岡田
Seok-Chan Kim
碩燦 金
Hiroyuki Takahashi
裕幸 高橋
Kazuaki Tsuji
和明 辻
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PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electrochromic display device that facilitates connection with wiring.SOLUTION: An electrochromic display device includes: a first substrate 10 that includes a first display electrode formed on a display substrate; a first electrochromic layer that is formed on the first display electrode; a second substrate 20 that includes a second display electrode formed on a porous film; a second electrochromic layer that is formed on the second display electrode; a counter substrate that includes a counter electrode formed on its surface; and an electrolyte that is put between the display electrode and the counter electrode. The first substrate 10 and the second substrate 20 are laminated, the first substrate 10 includes a first extraction electrode 12a that is extracted to a vicinity of one end of the first substrate 10 connected to the first display electrode, and the second substrate includes a second extraction electrode 22a that is extracted to a vicinity of one end of the second substrate connected to the second display electrode. Both the first extraction electrode 12a and the second extraction electrode 22a are exposed in a state of laminating the first substrate and the second substrate.

Description

本発明は、エレクトロクロミック表示装置及びエレクトロクロミック表示装置の製造方法に関する。   The present invention relates to an electrochromic display device and a method for manufacturing an electrochromic display device.

近年、紙に替わる電子媒体として、電子ペーパーが注目されている。電子ペーパーは、表示装置が紙のように用いることができることを特徴とするものであり、CRT(Cathode Ray Tube)や液晶ディスプレイ等の従来の表示装置とは異なる特性が求められている。具体的には、電子ペーパーでは、反射型表示装置等であって、かつ、高い白反射率・高いコントラスト比を有すること、高精細な表示をすることができること、表示にメモリ効果を有するものであること、低電圧でも駆動できるものであること、薄くて軽いこと、安価であること等の特性が求められている。このうち、特に、表示の品質に関する特性として、紙等と同等な白反射率・高いコントラスト比を有することや、カラー表示に関する要求が高い。   In recent years, electronic paper has attracted attention as an electronic medium that replaces paper. Electronic paper is characterized in that a display device can be used like paper, and characteristics different from those of conventional display devices such as a CRT (Cathode Ray Tube) and a liquid crystal display are required. Specifically, electronic paper is a reflective display device, etc. that has a high white reflectance and a high contrast ratio, can display a high definition, and has a memory effect on display. There are demands for characteristics such as being able to be driven at a low voltage, being thin and light, and being inexpensive. Among these, in particular, as characteristics relating to display quality, there is a high demand for white reflectance equivalent to that of paper and the like and a high contrast ratio, and color display.

これまで、電子ペーパー用途の表示装置としては、例えば、反射型液晶を用いる方法、電気泳動を用いる方法、トナー泳動を用いる方法等が提案されている。しかしながら、これらのいずれの方法においても、白反射率・高いコントラスト比を確保しながら多色表示を行なうことは極めて困難である。一般に多色カラー表示を行なう方法としては、カラーフィルタを設ける方法があるが、カラーフィルタを設けた場合、カラーフィルタが光を吸収するため、光の反射率が低下してしまう。更に、カラーフィルタを用いる場合には、一画素をレッド(R)、グリーン(G)、ブルー(B)に3分割する必要があるため、表示装置全体の反射率が低下し、これに伴いコントラスト比も低下する。このように、白反射率やコントラスト比が大幅に低下した場合には、紙等と比較して視認性が極めて悪くなり、電子ペーパーとして用いることは困難である。   So far, as a display device for electronic paper, for example, a method using a reflective liquid crystal, a method using electrophoresis, a method using toner migration, and the like have been proposed. However, in any of these methods, it is extremely difficult to perform multicolor display while ensuring a white reflectance and a high contrast ratio. In general, as a method of performing multicolor display, there is a method of providing a color filter. However, when a color filter is provided, the color filter absorbs light, so that the light reflectance is lowered. Further, when a color filter is used, since it is necessary to divide one pixel into red (R), green (G), and blue (B), the reflectance of the entire display device is lowered, and the contrast is increased accordingly. The ratio also decreases. As described above, when the white reflectance and the contrast ratio are significantly reduced, the visibility is extremely poor as compared with paper and the like, and it is difficult to use as electronic paper.

一方、上述したようなカラーフィルタを設けることなく、反射型の表示装置を実現するための有望な方法として、エレクトロクロミック現象を用いた方法がある。エレクトロクロミック現象は、エレクトロクロミズムとも呼ばれており、電圧を印加することにより、可逆的に酸化還元反応が起こり、可逆的に色が変化する現象をいう。このエレクトロクロミズムを生じさせるエレクトロクロミック化合物の発色及び消色(以下、「発消色」と記載する)を利用した表示装置が、エレクトロクロミック表示装置である。このエレクトロクロミック表示装置は、反射型の表示装置であること、メモリ効果を有すること、低電圧で駆動することができること等の特徴を有しているため、電子ペーパーとしての用途として用いられる表示装置の技術の有力な候補とされている。   On the other hand, as a promising method for realizing a reflective display device without providing the color filter as described above, there is a method using an electrochromic phenomenon. The electrochromic phenomenon is also called electrochromism, and means a phenomenon in which a redox reaction occurs reversibly and a color changes reversibly by applying a voltage. An electrochromic display device is a display device that utilizes the coloring and decoloring (hereinafter referred to as “decoloring and decoloring”) of an electrochromic compound that causes electrochromism. This electrochromic display device is a reflective display device, has a memory effect, can be driven at a low voltage, and so on, so that it can be used as an electronic paper. It is considered a strong candidate for technology.

尚、エレクトロクロミック表示装置は、酸化還元反応を利用して発消色を行なうものであるため、発消色における応答速度が遅い傾向にある。従って、特許文献1では、エレクトロクロミック化合物を電極近傍に固定させることによって発消色の応答速度の改善を図った構造のものが開示されている。特許文献1には、従来は数十秒程度であった発消色に要する時間は、無色から青色への発色時間、青色から無色への消色時間は、ともに1秒程度まで向上させることができる旨が記載されている。但し、発消色の応答時間に関しては、これで十分というわけではなく、より一層の発消色の応答時間の向上が求められている。   In addition, since the electrochromic display device performs color development / decoloration using an oxidation-reduction reaction, the response speed in color development / decoloration tends to be slow. Therefore, Patent Document 1 discloses a structure in which an electrochromic compound is fixed in the vicinity of an electrode to improve the response speed of color development and decoloration. In Patent Document 1, the time required for color development and decoloration, which was conventionally about several tens of seconds, can be improved to about 1 second for both the color development time from colorless to blue and the color erase time from blue to colorless. It states that it can be done. However, with respect to the response time of color development / decoloration, this is not sufficient, and further improvement in the response time of color development / decoloration is required.

エレクトロクロミック表示装置は、エレクトロクロミック化合物の構造によって、様々な色を発色させることができるものであるため、多色カラー表示が可能であり、特に、無色状態とカラー発色状態とが可逆的に変化するため、積層多色構成を実現することができる。積層構成におけるカラー表示では、従来技術のように、一画素をレッド(R)、グリーン(G)、ブルー(B)に3分割する必要がないため、表示装置の反射率やコントラスト比が低下することはない。   The electrochromic display device can produce various colors depending on the structure of the electrochromic compound, so multicolor display is possible, especially the colorless state and the color development state reversibly change. Therefore, a stacked multicolor configuration can be realized. In the color display in the stacked configuration, it is not necessary to divide one pixel into red (R), green (G), and blue (B) as in the prior art, so that the reflectance and contrast ratio of the display device are reduced. There is nothing.

このようなエレクトロクロミック表示装置を用いた多色表示装置としては、例えば、特許文献2には、複数種のエレクトロクロミック化合物の微粒子を積層したエレクトロクロミック化合物を用いた多色表示装置が開示されている。特許文献2に開示されているものは、発色を示す電圧の異なる複数の機能性官能基を有する高分子化合物であるエレクトロクロミック化合物を複数積層し、多色表示エレクトロクロミック化合物による多色表示装置である。   As a multicolor display device using such an electrochromic display device, for example, Patent Document 2 discloses a multicolor display device using an electrochromic compound in which fine particles of a plurality of types of electrochromic compounds are stacked. Yes. What is disclosed in Patent Document 2 is a multicolor display device using a multicolor display electrochromic compound in which a plurality of electrochromic compounds, which are polymer compounds having a plurality of functional functional groups having different voltages that exhibit color development, are stacked. is there.

また、特許文献3では、電極上に多層にエレクトロクロミック層を形成し、その発色に必要な電圧値や電流値の差を利用して多色を発色させる表示装置が開示されている。特許文献3に開示されているものは、異なる色を発色し、かつ、発色する閾値電圧及び発色に必要な必要電荷量が異なる複数のエレクトロクロミック化合物を積層又は混合して形成した表示層を有する多色表示装置である。   Further, Patent Document 3 discloses a display device in which a plurality of electrochromic layers are formed on an electrode, and multiple colors are developed using a difference in voltage value or current value necessary for the color development. What is disclosed in Patent Document 3 has a display layer formed by laminating or mixing a plurality of electrochromic compounds that develop different colors and have different threshold voltages for developing colors and different amounts of charge necessary for color development. It is a multicolor display device.

更に、特許文献4では、一対の透明電極の間にエレクトロクロミック層及び電解質を形成した構造単位を複数積層した構造の多色表示装置が開示されている。また、特許文献5には、特許文献4に記載されていた構造単位を用いてパッシブマトリックスパネル及びアクティブマトリックスパネルを形成し、RGB3色に対応する多色表示装置が開示されている。   Furthermore, Patent Document 4 discloses a multicolor display device having a structure in which a plurality of structural units in which an electrochromic layer and an electrolyte are formed between a pair of transparent electrodes. Further, Patent Document 5 discloses a multicolor display device corresponding to RGB three colors by forming a passive matrix panel and an active matrix panel using the structural units described in Patent Document 4.

また、特許文献6には、特許文献2〜5に記載されている多色表示装置の課題を解決するものとして、表示基板と対向電極との間に複数の表示電極を互いに隔離して設け、表示電極の各々に対応してエレクトロクロミック層を形成した構造の多色発色エレクトロクロミック表示装置が開示されている。   Further, in Patent Document 6, as a solution to the problems of the multicolor display devices described in Patent Documents 2 to 5, a plurality of display electrodes are provided separately from each other between the display substrate and the counter electrode, A multicolor electrochromic display device having a structure in which an electrochromic layer is formed corresponding to each display electrode is disclosed.

ところで、エレクトロクロミック表示装置は、1991年に発表されたグレッツェルセルを応用した電気化学素子であり、広い面積を有するナノポーラスな粒子層(ナノポーラス層)を形成し、その表面にエレクトロクロイズム反応を示す化合物を結合若しくは吸着させている。このため、ナノポーラス層の表面における化合物の結合若しくは吸着工程が十分に行なわれない場合には、化合物の面内において濃度ムラが発生する。また、この後、湿式プロセスによりナノポーラス層の上に異なる層を形成する場合には、ナノポーラス層の上、または、ナノポーラス層の中において、面内における濃度ムラが発生する。更に、エレクトロクロイズム反応を十分に進行させるためには、このナノポーラス層に電解質を十分に浸透させる必要があるが、ナノポーラス層を用いているために、気相が残留してしまう等の問題点を有していた。   By the way, the electrochromic display device is an electrochemical element using the Gretzel cell announced in 1991, and forms a nanoporous particle layer (nanoporous layer) having a large area and exhibits an electrochromic reaction on the surface thereof. A compound is bound or adsorbed. For this reason, when the compound binding or adsorption process on the surface of the nanoporous layer is not sufficiently performed, density unevenness occurs in the surface of the compound. After that, when a different layer is formed on the nanoporous layer by a wet process, in-plane density unevenness occurs on the nanoporous layer or in the nanoporous layer. Furthermore, in order to sufficiently advance the electrochromic reaction, it is necessary to sufficiently permeate the electrolyte into the nanoporous layer. However, since the nanoporous layer is used, there is a problem that the gas phase remains. Had.

これにより、結果としてエレクトロクロミック表示装置における表示ムラや応答速度ムラ・遅延等を招いてしまう。このことは、素子面積が広くなるほど発生しやすい傾向にあり、また、多色発色素子にするため積層した際には、厚さが厚くなるため電解質の浸透が即時に行なわれず、このような問題点が顕著に現れる場合がある。   As a result, display unevenness, response speed unevenness, delay, and the like in the electrochromic display device are caused. This tends to occur as the device area increases, and when laminated to form a multicolor device, the thickness increases, so that the electrolyte does not penetrate immediately, and this problem Dots may appear prominently.

また、1つの素子で複数の電気化学機能層を積層した多機能電気化学素子においては、各々の層で機能発現させるために素子内に電解質媒体が十分に満たされており、かつ、イオン移動が行なわれなければならない。   In addition, in a multifunctional electrochemical device in which a plurality of electrochemical functional layers are stacked in one device, the electrolyte medium is sufficiently filled in the device and the ion transfer is performed in order to make each layer function. Must be done.

一方、このようなエレクトロクロミック表示装置は、TFT等のアクティブマトリックス基板と張り合わされて使用されるものであるが、エレクトロクロミック層が複数形成されていた場合、アクティブマトリックス基板における配線と接続する際、単純に、そのままでは接続することができない。   On the other hand, such an electrochromic display device is used by being attached to an active matrix substrate such as a TFT, but when a plurality of electrochromic layers are formed, when connecting to wiring in the active matrix substrate, Simply, you cannot connect as it is.

本発明は、上記に鑑みなされたものであり、エレクトロクロミック層が複数形成されているエレクトロクロミック表示装置において、アクティブマトリックス基板等における配線との接続を容易に行なうことのできるエレクトロクロミック表示装置及びエレクトロクロミック表示装置の製造方法を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above, and in an electrochromic display device in which a plurality of electrochromic layers are formed, an electrochromic display device and an electrochromic display device that can be easily connected to wiring in an active matrix substrate or the like. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a chromic display device.

本発明は、表示基板の上に第1の表示電極が形成されている第1の基板と、前記第1の表示電極の上に形成されている第1のエレクトロクロミック層と、多孔質膜の上に第2の表示電極が形成されている第2の基板と、前記第2の表示電極の上に形成されている第2のエレクトロクロミック層と、表面に対向電極が形成されている対向基板と、前記表示電極と前記対向電極との間に入れられている電解質と、を有し、前記第1の基板と前記第2の基板とは積層されているものであって、前記第1の基板には、前記第1の表示電極に接続されている前記第1の基板の一方の端部近傍に引出された第1の引出電極が形成されており、前記第2の基板には、前記第2の表示電極に接続されている前記第2の基板の一方の端部近傍に引出された第2の引出電極が形成されており、前記第1の基板と前記第2の基板とを積層した状態において、前記第1の引出電極と前記第2の引出電極は、ともに露出していることを特徴とする。   The present invention relates to a first substrate in which a first display electrode is formed on a display substrate, a first electrochromic layer formed on the first display electrode, and a porous film. A second substrate on which a second display electrode is formed, a second electrochromic layer formed on the second display electrode, and a counter substrate on which a counter electrode is formed And an electrolyte placed between the display electrode and the counter electrode, wherein the first substrate and the second substrate are laminated, and the first substrate The substrate has a first extraction electrode formed in the vicinity of one end of the first substrate connected to the first display electrode, and the second substrate includes the first extraction electrode. The second drawn out in the vicinity of one end of the second substrate connected to the second display electrode An output electrode is formed, and in the state where the first substrate and the second substrate are stacked, the first extraction electrode and the second extraction electrode are both exposed. To do.

また、本発明は、表示基板の上に第1の表示電極が形成されている第1の基板と、前記第1の表示電極の上に形成されている第1のエレクトロクロミック層と、多孔質膜の上に第2の表示電極が形成されている第2の基板と、前記第2の表示電極の上に形成されている第2のエレクトロクロミック層と、表面に対向電極が形成されている対向基板と、前記表示電極と前記対向電極との間に入れられている電解質とを有するエレクトロクロミック表示装置の製造方法において、前記第2の基板における前記第2の表示電極の表面の端部近傍をマスキングにより覆うマスキング工程と、前記マスキング工程の後、前記第1の表示電極の表面に第1のエレクトロクロミック層を形成し、前記第2の表示電極の表面に第2のエレクトロクロミック層を形成するエレクトクロミック層形成工程と、前記エレクトロクロミック層形成工程の後、前記第2の表示電極の表面を覆う前記マスキングを除去するマスキング除去工程と、前記第2の基板において、前記マスキングのされていた領域の一部除去することにより、第2の引出電極を形成する引出電極形成工程と、前記第1の基板において前記第1のエレクトロクロミック層が形成されている面と、前記第2の基板において前記第2のエレクトロクロミック層が形成されている面とは反対側の面とを対向させて、前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合せる貼り合せ工程と、を有することを特徴とする。   The present invention also provides a first substrate on which a first display electrode is formed on a display substrate, a first electrochromic layer formed on the first display electrode, and a porous material. A second substrate having a second display electrode formed on the film; a second electrochromic layer formed on the second display electrode; and a counter electrode formed on the surface. In a method of manufacturing an electrochromic display device having a counter substrate and an electrolyte placed between the display electrode and the counter electrode, in the vicinity of an end portion of the surface of the second display electrode in the second substrate After the masking step of covering the surface by masking and the masking step, a first electrochromic layer is formed on the surface of the first display electrode, and a second electrochromic layer is formed on the surface of the second display electrode. After the electrochromic layer forming step to be formed and the electrochromic layer forming step, the masking removal step for removing the masking covering the surface of the second display electrode, and the second substrate are masked. Removing a part of the region, an extraction electrode forming step of forming a second extraction electrode, a surface of the first substrate on which the first electrochromic layer is formed, and the second substrate A bonding step of bonding the first substrate and the second substrate with the surface opposite to the surface on which the second electrochromic layer is formed facing each other. Features.

また、本発明は、表示基板の上に第1の表示電極が形成されている第1の基板と、前記第1の表示電極の上に形成されている第1のエレクトロクロミック層と、多孔質膜の上に第2の表示電極が形成されている第2の基板と、前記第2の表示電極の上に形成されている第2のエレクトロクロミック層と、表面に対向電極が形成されている対向基板と、前記表示電極と前記対向電極との間に入れられている電解質とを有するエレクトロクロミック表示装置の製造方法において、前記第2の基板の端部近傍を折曲げる折曲げ工程と、前記折曲げ工程の後、前記第1の表示電極の表面に第1のエレクトロクロミック層を形成し、前記第2の表示電極の表面に第2のエレクトロクロミック層を形成するエレクトクロミック層形成工程と、前記エレクトロクロミック層形成工程の後、前記第2の基板の折曲げられている部分を元に戻す折曲げ部分復帰工程と、前記第2の基板において、前記折曲げられていた領域の一部除去することにより、第2の引出電極を形成する引出電極形成工程と、前記第1の基板において前記第1のエレクトロクロミック層が形成されている面と、前記第2の基板において前記第2のエレクトロクロミック層が形成されている面とは反対側の面とを対向させて、前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合せる貼り合せ工程と、を有することを特徴とする。   The present invention also provides a first substrate on which a first display electrode is formed on a display substrate, a first electrochromic layer formed on the first display electrode, and a porous material. A second substrate having a second display electrode formed on the film; a second electrochromic layer formed on the second display electrode; and a counter electrode formed on the surface. In a method for manufacturing an electrochromic display device having a counter substrate and an electrolyte placed between the display electrode and the counter electrode, a bending step of bending the vicinity of an end of the second substrate; An electrochromic layer forming step of forming a first electrochromic layer on the surface of the first display electrode and forming a second electrochromic layer on the surface of the second display electrode after the bending step; The elect After the chromic layer forming step, the bent portion returning step for returning the bent portion of the second substrate, and removing a part of the bent region in the second substrate. The extraction electrode forming step of forming the second extraction electrode, the surface on which the first electrochromic layer is formed on the first substrate, and the second electrochromic layer on the second substrate A bonding step of bonding the first substrate and the second substrate with the surface opposite to the surface on which the surface is formed facing each other.

本発明によれば、エレクトロクロミック層が複数形成されているエレクトロクロミック表示装置において、配線との接続が容易なエレクトロクロミック表示装置及びエレクトロクロミック表示装置の製造方法を提供することができる。   According to the present invention, in an electrochromic display device in which a plurality of electrochromic layers are formed, an electrochromic display device that can be easily connected to a wiring and a method for manufacturing the electrochromic display device can be provided.

本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の構造図Structure diagram of electrochromic display device in this embodiment 本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の引出電極の説明図(1)Explanatory drawing (1) of the extraction electrode of the electrochromic display apparatus in this Embodiment 本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の引出電極の説明図(2)Explanatory drawing (2) of the extraction electrode of the electrochromic display apparatus in this Embodiment 本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の引出電極の説明図(3)Explanatory drawing (3) of the extraction electrode of the electrochromic display apparatus in this Embodiment 本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の引出電極の説明図(4)Explanatory drawing (4) of the extraction electrode of the electrochromic display apparatus in this Embodiment 本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の説明図Explanatory drawing of the electrochromic display device in this embodiment 本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の製造方法の説明図(1)Explanatory drawing (1) of the manufacturing method of the electrochromic display apparatus in this Embodiment 本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の製造方法の説明図(2)Explanatory drawing (2) of the manufacturing method of the electrochromic display apparatus in this Embodiment 本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の他の製造方法の説明図(1)Explanatory drawing (1) of the other manufacturing method of the electrochromic display device in this Embodiment. 本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の他の製造方法の説明図(2)Explanatory drawing (2) of other manufacturing methods of the electrochromic display device in this Embodiment 本実施例におけるエレクトロクロミック表示装置の説明図Explanatory drawing of the electrochromic display apparatus in a present Example

本発明を実施するための形態について、以下に説明する。尚、同じ部材等については、同一の符号を付して説明を省略する。   The form for implementing this invention is demonstrated below. In addition, about the same member etc., the same code | symbol is attached | subjected and description is abbreviate | omitted.

(エレクトロクロミック表示装置)
図1及び図2に基づき本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置について説明する。
(Electrochromic display device)
The electrochromic display device in the present embodiment will be described with reference to FIGS.

本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置は、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30、第4の基板40を有しており、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30は積層して形成されている。第1の基板10は、表示基板11の表面に第1の表示電極12が形成されたものであり、第1の表示電極12の上には、第1のエレクトロクロミック層13が形成されている。また、第2の基板20は、第1の多孔質膜21の表面に第2の表示電極22が形成されたものであり、第2の表示電極22の上には、第2のエレクトロクロミック層23が形成されている。また、第3の基板30は、第3の絶縁膜31の表面に第3の表示電極32が形成されており、第3の表示電極32の上には、第3のエレクトロクロミック層33が形成されている。第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23、第3のエレクトロクロミック層33は、各々酸化還元反応によって発色する部分であるエレクトロクロミック化合物と、このエレクトロクロミック化合物を担持するとともに発消色を高速で行なうための金属酸化物とを有しており、金属酸化物にエレクトロクロミック化合物の単分子が吸着した状態となっている。金属酸化物を有することにより、第1の表示電極12、第2の表示電極22、第3の表示電極32より、金属酸化物を通して電子(又は正孔)をエレクトロクロミック化合物に伝えることができ、より効率的に発消色させることができる。   The electrochromic display device in this embodiment includes a first substrate 10, a second substrate 20, a third substrate 30, and a fourth substrate 40, and the first substrate 10 and the second substrate 40. 20 and the third substrate 30 are laminated. The first substrate 10 is obtained by forming a first display electrode 12 on the surface of a display substrate 11, and a first electrochromic layer 13 is formed on the first display electrode 12. . The second substrate 20 has a second display electrode 22 formed on the surface of the first porous film 21, and a second electrochromic layer is formed on the second display electrode 22. 23 is formed. The third substrate 30 has a third display electrode 32 formed on the surface of the third insulating film 31, and a third electrochromic layer 33 is formed on the third display electrode 32. Has been. The first electrochromic layer 13, the second electrochromic layer 23, and the third electrochromic layer 33 each carry an electrochromic compound that is a portion that develops a color by an oxidation-reduction reaction, and supports and releases the electrochromic compound. And a metal oxide for performing coloration at high speed, and a single molecule of an electrochromic compound is adsorbed on the metal oxide. By having a metal oxide, electrons (or holes) can be transmitted from the first display electrode 12, the second display electrode 22, and the third display electrode 32 to the electrochromic compound through the metal oxide, It is possible to more efficiently develop and decolorize.

第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23及び第3のエレクトロクロミック層33は、それぞれエレクトロクロミック化合物が移動しないよう固定されるとともに、エレクトロクロミック化合物の酸化還元に伴う電子の授受が妨げられないように電気的な接続が確保されているものであれば、エレクトロクロミック化合物と金属酸化物とが混合されて単一層となっていてもよい。   The first electrochromic layer 13, the second electrochromic layer 23, and the third electrochromic layer 33 are fixed so that the electrochromic compound does not move, and electrons are exchanged with the redox of the electrochromic compound. As long as electrical connection is ensured so as not to be hindered, the electrochromic compound and the metal oxide may be mixed to form a single layer.

尚、第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23、第3のエレクトロクロミック層33は、相互に異なる色の発色をするエレクトロクロミック材料により形成されており、例えば、第1のエレクトロクロミック層13はマゼンタ、第2のエレクトロクロミック層23はイエロー、第3のエレクトロクロミック層33はシアンに発色するものである。これにより、本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置は、フルカラー表示が可能である。   The first electrochromic layer 13, the second electrochromic layer 23, and the third electrochromic layer 33 are formed of electrochromic materials that develop colors different from each other. The chromic layer 13 is colored magenta, the second electrochromic layer 23 is colored yellow, and the third electrochromic layer 33 is colored cyan. Accordingly, the electrochromic display device in this embodiment can perform full color display.

また、第4の基板40は、対向基板41の表面に対向電極42が形成されており、対向電極42の上には、白色反射層43が形成されている。本実施の形態におけるフォトクロミック表示装置は、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30が積層されたものと、第4の基板40とが、第3のエレクトロクロミック層33と白色反射層43とを対向させた状態で張り付けられており、この間には、電解質50となる溶液が入れられている。   In the fourth substrate 40, a counter electrode 42 is formed on the surface of the counter substrate 41, and a white reflective layer 43 is formed on the counter electrode 42. In the photochromic display device according to the present embodiment, the first substrate 10, the second substrate 20, and the third substrate 30 are stacked, and the fourth substrate 40 includes the third electrochromic layer 33. The white reflective layer 43 is pasted in a state of being opposed to each other, and a solution to be the electrolyte 50 is put in between.

第1の多孔質膜21及び第2の多孔質膜31は、有機材料により形成されたポーラスな絶縁膜であり、電解質50となる溶液は、第1の多孔質膜21及び第2の多孔質膜31内を透過することができる。また、表示基板11と対向基板41は、本実施の形態におけるフォトクロミック表示装置の外側を形成しているため、ポーラスではない材料により形成されている。   The first porous film 21 and the second porous film 31 are porous insulating films formed of an organic material, and the solution serving as the electrolyte 50 is the first porous film 21 and the second porous film. It can penetrate through the membrane 31. In addition, since the display substrate 11 and the counter substrate 41 form the outside of the photochromic display device in the present embodiment, they are formed of a material that is not porous.

本実施の形態では、第1の多孔質膜21、第2の多孔質膜31、表示基板11、対向基板41は樹脂フィルム等の有機材料により形成されており、自立したものであって、かつ、曲げることのできるものであるが、本願においては、説明等の便宜上、膜又は基板等という言葉を用いている。尚、第1の表示電極12、第2の表示電極22、第3の表示電極32、対向電極42は透明導電膜により形成されている。   In the present embodiment, the first porous film 21, the second porous film 31, the display substrate 11, and the counter substrate 41 are formed of an organic material such as a resin film, are self-supporting, and In this application, the term “film” or “substrate” is used for convenience of explanation. The first display electrode 12, the second display electrode 22, the third display electrode 32, and the counter electrode 42 are formed of a transparent conductive film.

次に、本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置において、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30に設けられている引出電極について説明する。本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置は、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30を積層することにより形成されている。従って、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30に設けられている引出電極は、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30を積層した際に、異なる位置となるように形成されている。   Next, extraction electrodes provided on the first substrate 10, the second substrate 20, and the third substrate 30 in the electrochromic display device according to the present embodiment will be described. The electrochromic display device in this embodiment is formed by stacking a first substrate 10, a second substrate 20, and a third substrate 30. Therefore, the extraction electrodes provided on the first substrate 10, the second substrate 20, and the third substrate 30 are formed when the first substrate 10, the second substrate 20, and the third substrate 30 are stacked. , Are formed to be in different positions.

具体的には、図2に示す場合では、図2(a)に示すように、第1の基板10には第1の表示電極12と接続される第1の引出電極12aが左端下側部分に設けられており、第2の基板20には第2の表示電極22と接続される第2の引出電極22aが左端中央部分に設けられており、第3の基板30には、第3の表示電極32と接続される第3の引出電極32aが左端上側部分に設けられている。このように、第1の引出電極12aが設けられている第1の基板10、第2の引出電極22aが設けられている第2の基板20、第3の引出電極32aが設けられている第3の基板30を積層した場合、図2(b)に示すように、左端側の部分において、第1の引出電極12a、第2の引出電極22a、第3の引出電極32aの各々の表面が露出する。このように、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30を積層した際に、第1の引出電極12a、第2の引出電極22a、第3の引出電極32aが左端側部分の異なる位置で各々露出するように形成することにより、第1の引出電極12a、第2の引出電極22a、第3の引出電極32aと、アクティブマトリックス基板等における不図示の配線との接続を容易に行なうことができる。即ち、第1の引出電極12a、第2の引出電極22a、第3の引出電極32aが並んでいる方向に延びる不図示の配線を容易に接続することができる。   Specifically, in the case shown in FIG. 2, as shown in FIG. 2A, the first substrate 10 has a first extraction electrode 12 a connected to the first display electrode 12 on the lower left portion. The second substrate 20 is provided with a second extraction electrode 22a connected to the second display electrode 22 in the central portion of the left end, and the third substrate 30 includes a third extraction electrode 22a. A third extraction electrode 32a connected to the display electrode 32 is provided in the upper left portion. As described above, the first substrate 10 provided with the first extraction electrode 12a, the second substrate 20 provided with the second extraction electrode 22a, and the first substrate provided with the third extraction electrode 32a. When the three substrates 30 are stacked, as shown in FIG. 2B, the surface of each of the first extraction electrode 12a, the second extraction electrode 22a, and the third extraction electrode 32a is formed at the left end portion. Exposed. Thus, when the 1st board | substrate 10, the 2nd board | substrate 20, and the 3rd board | substrate 30 are laminated | stacked, the 1st extraction electrode 12a, the 2nd extraction electrode 22a, and the 3rd extraction electrode 32a are the left end side. By forming each of the portions so as to be exposed at different positions, the connection between the first extraction electrode 12a, the second extraction electrode 22a, the third extraction electrode 32a, and a wiring (not shown) in the active matrix substrate or the like can be established. It can be done easily. That is, it is possible to easily connect a wiring (not shown) extending in the direction in which the first extraction electrode 12a, the second extraction electrode 22a, and the third extraction electrode 32a are arranged.

また、図3に示す場合では、図3(a)に示すように、第1の基板10には第1の表示電極12と接続される第1の引出電極12bが左端側全面に設けられており、第2の基板20には第2の表示電極22と接続される第2の引出電極22bが左端中央部分に設けられており、第3の基板30には、第3の表示電極32と接続される第3の引出電極32bが左端上側部分に設けられている。このように、第1の引出電極12bが設けられている第1の基板10、第2の引出電極22bが設けられている第2の基板20、第3の引出電極32bが設けられている第3の基板30を積層した場合、図3(b)に示すように、左端側の部分において、第1の引出電極12b、第2の引出電極22b、第3の引出電極32bの各々の表面が露出する。このように、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30を積層した際に、第1の引出電極12b、第2の引出電極22b、第3の引出電極32bが左端側部分の異なる位置で露出するように形成することにより、第1の引出電極12b、第2の引出電極22b、第3の引出電極32bと、アクティブマトリックス基板等における不図示の配線との接続を容易に行なうことができる。即ち、第1の引出電極12b、第2の引出電極22b、第3の引出電極32bが並んでいる方向に延びる不図示の配線を容易に接続することができる。   In the case shown in FIG. 3, as shown in FIG. 3A, the first substrate 10 is provided with the first extraction electrode 12 b connected to the first display electrode 12 on the entire left end side. The second substrate 20 is provided with a second extraction electrode 22b connected to the second display electrode 22 in the central portion at the left end, and the third substrate 30 has the third display electrode 32 and A third extraction electrode 32b to be connected is provided at the upper left portion. In this way, the first substrate 10 provided with the first extraction electrode 12b, the second substrate 20 provided with the second extraction electrode 22b, and the first substrate provided with the third extraction electrode 32b. When the three substrates 30 are stacked, as shown in FIG. 3B, the surface of each of the first extraction electrode 12b, the second extraction electrode 22b, and the third extraction electrode 32b is formed at the left end portion. Exposed. Thus, when the first substrate 10, the second substrate 20, and the third substrate 30 are stacked, the first extraction electrode 12b, the second extraction electrode 22b, and the third extraction electrode 32b are on the left end side. By forming so as to be exposed at different positions, it is easy to connect the first extraction electrode 12b, the second extraction electrode 22b, the third extraction electrode 32b, and a wiring (not shown) on the active matrix substrate or the like. Can be done. That is, it is possible to easily connect a wiring (not shown) extending in the direction in which the first extraction electrode 12b, the second extraction electrode 22b, and the third extraction electrode 32b are arranged.

また、図4に示す場合では、図4(a)に示すように、第1の基板10には第1の表示電極12と接続される第1の引出電極12c及び12dが左端下側部分及び右端上側部分に設けられており、第2の基板20には第2の表示電極22と接続される第2の引出電極22c及び22dが左端中央部分及び右端中央部分に設けられており、第3の基板30には、第3の表示電極32と接続される第3の引出電極32c及び32dが左端上側部分及び右端下側部分に設けられている。このように、第1の引出電極12c及び12dが設けられている第1の基板10、第2の引出電極22c及び22dが設けられている第2の基板20、第3の引出電極32c及び32dが設けられている第3の基板30を積層した場合、図4(b)に示すように、左端側の部分において、第1の引出電極12c、第2の引出電極22c、第3の引出電極32cの各々の表面が露出し、右端側の部分において、第1の引出電極12d、第2の引出電極22d、第3の引出電極32dの各々の表面が露出する。よって、第1の引出電極12c及び12d、第2の引出電極22c及び22d、第3の引出電極32c及び32dと、アクティブマトリックス基板における不図示の配線との接続を容易に行なうことができる。即ち、第1の引出電極12c、第2の引出電極22c、第3の引出電極32cが並んでいる方向に延びる不図示の配線を容易に接続することができ、また、第1の引出電極12d、第2の引出電極22d、第3の引出電極32dが並んでいる方向に延びる不図示の配線を容易に接続することができる。   In the case shown in FIG. 4, as shown in FIG. 4A, the first substrate 10 has first extraction electrodes 12 c and 12 d connected to the first display electrode 12 on the lower left end portion and The second extraction electrode 22c and 22d connected to the second display electrode 22 are provided in the left end central portion and the right end central portion on the second substrate 20 and provided on the right end upper portion. The substrate 30 is provided with third extraction electrodes 32c and 32d connected to the third display electrode 32 in the upper left portion and the lower right portion. As described above, the first substrate 10 provided with the first extraction electrodes 12c and 12d, the second substrate 20 provided with the second extraction electrodes 22c and 22d, and the third extraction electrodes 32c and 32d. When the third substrate 30 provided with is laminated, as shown in FIG. 4B, the first extraction electrode 12c, the second extraction electrode 22c, and the third extraction electrode are provided at the left end side portion. Each surface of 32c is exposed, and the surface of each of the first extraction electrode 12d, the second extraction electrode 22d, and the third extraction electrode 32d is exposed in the right end portion. Therefore, it is possible to easily connect the first extraction electrodes 12c and 12d, the second extraction electrodes 22c and 22d, the third extraction electrodes 32c and 32d, and a wiring (not shown) on the active matrix substrate. That is, a wiring (not shown) extending in the direction in which the first extraction electrode 12c, the second extraction electrode 22c, and the third extraction electrode 32c are arranged can be easily connected, and the first extraction electrode 12d. Wiring (not shown) extending in the direction in which the second extraction electrode 22d and the third extraction electrode 32d are arranged can be easily connected.

また、図5に示す場合では、図5(a)に示すように、第1の基板10には第1の表示電極12と接続される第1の引出電極12e、12f、12g及び12hが左端側部分及び右端側部分に設けられており、第2の基板20には第2の表示電極22と接続される第2の引出電極22e、22f、22g及び22hが左端側部分及び右端側部分に設けられており、第3の基板30には、第3の表示電極32と接続される第3の引出電極32e、32f、32g及び32hが左端側部分及び右端側部分に設けられている。尚、第1の引出電極12e、12f、12g及び12h、第2の引出電極22e、22f、22g及び22h、第3の引出電極32e、32f、32g及び32hは、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30を積層した際、図5(b)に示すように、左端側の部分において、第1の引出電極12e、12f、第2の引出電極22e、22f、第3の引出電極32e、32fの各々の表面が露出し、右端側の部分において、第1の引出電極12g、12h、第2の引出電極22g、22h、第3の引出電極32g、32hの各々の表面が露出する。よって、第1の引出電極12e、12f、12g及び12h、第2の引出電極22e、22f、22g及び22h、第3の引出電極32e、32f、32g及び32hと、アクティブマトリックス基板における不図示の配線との接続を容易に行なうことができる。即ち、第1の引出電極12e、12f、第2の引出電極22e、22f、第3の引出電極32e、32fが並んでいる方向に延びる不図示の配線を容易に接続することができ、また、第1の引出電極12g、12h、第2の引出電極22g、22h、第3の引出電極32g、32hが並んでいる方向に延びる不図示の配線を容易に接続することができる。   In the case shown in FIG. 5, as shown in FIG. 5A, the first extraction electrodes 12e, 12f, 12g and 12h connected to the first display electrode 12 are provided on the first substrate 10 at the left end. The second extraction electrodes 22e, 22f, 22g, and 22h connected to the second display electrode 22 are provided on the left end portion and the right end portion. The third substrate 30 is provided with third extraction electrodes 32e, 32f, 32g and 32h connected to the third display electrode 32 at the left end portion and the right end portion. The first extraction electrodes 12e, 12f, 12g, and 12h, the second extraction electrodes 22e, 22f, 22g, and 22h, and the third extraction electrodes 32e, 32f, 32g, and 32h are the first substrate 10, When the substrate 20 and the third substrate 30 are stacked, as shown in FIG. 5B, the first extraction electrodes 12e and 12f, the second extraction electrodes 22e and 22f, and the third extraction electrode are formed at the left end portion. The surface of each of the lead electrodes 32e and 32f is exposed, and the surface of each of the first lead electrodes 12g and 12h, the second lead electrodes 22g and 22h, and the third lead electrodes 32g and 32h is exposed at the right end portion. Is exposed. Therefore, the first extraction electrodes 12e, 12f, 12g and 12h, the second extraction electrodes 22e, 22f, 22g and 22h, the third extraction electrodes 32e, 32f, 32g and 32h, and the wiring (not shown) on the active matrix substrate Can be easily connected. That is, it is possible to easily connect a wiring (not shown) extending in the direction in which the first extraction electrodes 12e and 12f, the second extraction electrodes 22e and 22f, and the third extraction electrodes 32e and 32f are arranged, Wiring (not shown) extending in the direction in which the first extraction electrodes 12g and 12h, the second extraction electrodes 22g and 22h, and the third extraction electrodes 32g and 32h are arranged can be easily connected.

次に、図1及び図6に基づき、エレクトロクロミック表示装置について、より詳細に説明する。エレクトロクロミック表示装置では電解質層が、第1の基板10における第1の表示電極12、第2の基板20における第2の表示電極22及び第3の基板における第3の表示電極32と第4の基板40における対向電極42の間に挟まれるように設けられている。電解質層は、電解質50と溶媒または固体電解質を含有し、第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23及び第3のエレクトロクロミック層33が、それぞれ第1の表示電極12、第2の表示電極22及び第3の表示電極32からの電荷の授受により酸化還元反応することにより発消色する。また、第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23及び第3のエレクトロクロミック層33の対向電極43側の各構成要素のいずれかに、白色反射機能をもたせることで、反射型の表示素子とすることも可能である。   Next, the electrochromic display device will be described in more detail based on FIG. 1 and FIG. In the electrochromic display device, the electrolyte layer includes the first display electrode 12 on the first substrate 10, the second display electrode 22 on the second substrate 20, the third display electrode 32 on the third substrate, and the fourth display electrode. It is provided so as to be sandwiched between the counter electrodes 42 in the substrate 40. The electrolyte layer contains an electrolyte 50 and a solvent or a solid electrolyte, and the first electrochromic layer 13, the second electrochromic layer 23, and the third electrochromic layer 33 are the first display electrode 12, the second electrochromic layer 33, respectively. The display electrode 22 and the third display electrode 32 generate and decolorize by an oxidation-reduction reaction by transfer of charges. In addition, each of the components on the counter electrode 43 side of the first electrochromic layer 13, the second electrochromic layer 23, and the third electrochromic layer 33 has a white reflection function so that a reflective type can be obtained. A display element can also be used.

尚、表示基板11の代わりに多孔質膜に透明な封止層を設けてもよい。封止層を設けることにより、電解質層の漏止めの効果が得られる。又、外部からの水分等の浸入を防ぎ、素子特性劣化を防ぐことができる。封止層は、ガスバリア性があるものが好ましく、ガスバリア封止材料等を用いたポリマーコート層が好適である。封止層の材料としては、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、及びそれらの混合物や適当なフィラーが加えられたもの、又、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩化ビニリデン、環状オレフィン・コポリマー等を用いることができる。封止層を設けない場合には、表示基板が、電解質層を封止する透明な封止層としての機能するものである。   A transparent sealing layer may be provided on the porous film instead of the display substrate 11. By providing the sealing layer, the effect of preventing leakage of the electrolyte layer can be obtained. In addition, entry of moisture and the like from the outside can be prevented, and deterioration of element characteristics can be prevented. The sealing layer preferably has a gas barrier property, and a polymer coat layer using a gas barrier sealing material or the like is suitable. As the material of the sealing layer, an acrylic resin, an epoxy resin, a mixture thereof or a material to which an appropriate filler is added, an ethylene-vinyl alcohol copolymer, vinylidene chloride, a cyclic olefin copolymer, or the like is used. be able to. When the sealing layer is not provided, the display substrate functions as a transparent sealing layer that seals the electrolyte layer.

第1の表示電極12、第2の表示電極22及び第3の表示電極32の各々の間における電気抵抗は、第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23及び第3のエレクトロクロミック層33の膜厚等に依存する。第1の表示電極12、第2の表示電極22及び第3の表示電極32の各々の間において絶縁が得られない場合は、第1のエレクトロクロミック層13と第2の表示電極22との間、及び第2のエレクトロクロミック層23と第3の表示電極32との間のいずれか一方又は双方に絶縁層を形成することが好ましい。尚、本実施の形態においては、第1のエレクトロクロミック層13と第2の表示電極22との間には、絶縁膜としての機能を有する第1の多孔質膜21が設けられており、第2のエレクトロクロミック層23と第3の表示電極32との間には、絶縁膜としての機能を有する第2の多孔質膜31が設けられている。   The electric resistance between each of the first display electrode 12, the second display electrode 22, and the third display electrode 32 is determined by the first electrochromic layer 13, the second electrochromic layer 23, and the third electrochromic. It depends on the film thickness of the layer 33 and the like. When insulation cannot be obtained between each of the first display electrode 12, the second display electrode 22, and the third display electrode 32, it is between the first electrochromic layer 13 and the second display electrode 22. It is preferable to form an insulating layer on one or both of the second electrochromic layer 23 and the third display electrode 32. In the present embodiment, a first porous film 21 having a function as an insulating film is provided between the first electrochromic layer 13 and the second display electrode 22. A second porous film 31 having a function as an insulating film is provided between the second electrochromic layer 23 and the third display electrode 32.

更に、第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23及び第3のエレクトロクロミック層33の各々において、表示基板11と反対側の面に接して、有機高分子材料からなる保護層を形成することにより、第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23、及び第3のエレクトロクロミック層33のそれぞれの隣接層との密着性、溶剤に対する耐溶解性、各層の表示電極(第1の表示電極12、第2の表示電極22及び第3の表示電極32)間における絶縁性を向上させ、エレクトロクロミック表示装置の耐久性を向上させることができる。   Furthermore, in each of the first electrochromic layer 13, the second electrochromic layer 23, and the third electrochromic layer 33, a protective layer made of an organic polymer material is in contact with the surface opposite to the display substrate 11. By forming, the adhesiveness with each adjacent layer of the 1st electrochromic layer 13, the 2nd electrochromic layer 23, and the 3rd electrochromic layer 33, the dissolution resistance with respect to a solvent, the display electrode ( The insulation between the first display electrode 12, the second display electrode 22, and the third display electrode 32) can be improved, and the durability of the electrochromic display device can be improved.

エレクトロクロミック表示装置は、上記説明した構造を有することにより、容易に多色表示が可能である。対向電極42に対する第1の表示電極12の電位、対向電極42に対する第2の表示電極22の電位及び対向電極42に対する第3の表示電極32の電位を独立して制御することができる。その結果、第1の表示電極12に接して設けられた第1のエレクトロクロミック層13、第2の表示電極22に接して設けられた第2のエレクトロクロミック層23及び第3の表示電極32に接して設けられた第3のエレクトロクロミック層33を独立して発消色させることができる。   Since the electrochromic display device has the above-described structure, it can easily perform multicolor display. The potential of the first display electrode 12 with respect to the counter electrode 42, the potential of the second display electrode 22 with respect to the counter electrode 42, and the potential of the third display electrode 32 with respect to the counter electrode 42 can be controlled independently. As a result, the first electrochromic layer 13 provided in contact with the first display electrode 12, the second electrochromic layer 23 provided in contact with the second display electrode 22, and the third display electrode 32 are provided. The third electrochromic layer 33 provided in contact therewith can be independently developed and decolored.

第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23及び第3のエレクトロクロミック層33は、表示基板11側に積層して設けられているため、第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23及び第3のエレクトロクロミック層33の発消色のパターンにより、第1のエレクトロクロミック層13のみの発色、第2のエレクトロクロミック層23のみの発色、第3のエレクトロクロミック層33のみの発色、第1のエレクトロクロミック層13と第2のエレクトロクロミック層23の2層による発色、第1のエレクトロクロミック層13と第3のエレクトロクロミック層33の2層による発色、第2のエレクトロクロミック層23と第3のエレクトロクロミック層33の2層による発色、第1のエレクトロクロミック層13と第2のエレクトロクロミック層23と第3のエレクトロクロミック層33の3層による発色をさせることができ、多色表示が可能である。   Since the first electrochromic layer 13, the second electrochromic layer 23, and the third electrochromic layer 33 are provided on the display substrate 11 side, the first electrochromic layer 13, the second electrochromic layer 13, and the second electrochromic layer 33 are provided. Color development of only the first electrochromic layer 13, color development of only the second electrochromic layer 23, only the third electrochromic layer 33, depending on the color development / decoloration pattern of the electrochromic layer 23 and the third electrochromic layer 33 Color development by two layers of the first electrochromic layer 13 and the second electrochromic layer 23, Color development by two layers of the first electrochromic layer 13 and the third electrochromic layer 33, Second electrochromic Color development by the two layers of the layer 23 and the third electrochromic layer 33, the first It is possible to color development by three layers of the electrochromic layer 13 and the second electrochromic layer 23 and the third electrochromic layer 33, it is possible multicolor display.

また、前述したように、第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23及び第3のエレクトロクロミック層33として、イエロー、マゼンダ、シアンに発色するエレクトロクロミック層を用いて、第1の表示電極12、第2の表示電極2、及び第3の表示電極32の電位を独立に制御することにより、フルカラー表示が可能である。   In addition, as described above, the first electrochromic layer 13, the second electrochromic layer 23, and the third electrochromic layer 33 are electrochromic layers that color yellow, magenta, and cyan. Full-color display is possible by independently controlling the potentials of the display electrode 12, the second display electrode 2, and the third display electrode 32.

(エレクトロクロミック表示装置の製造方法)
次に、本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の製造方法について説明する。図7及び図8は、本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の製造方法を示す模式図である。尚、図8は、第3の基板30の場合について示すものであるが、第1の基板10及び第2の基板20についても同様である。最初に、図7に示すように、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30となるものをあらかじめ作製しておく。尚、基板10は、表示基板11の表面に第1の表示電極12が形成されたものである。また、第2の基板20は、フィルム状の第1の多孔質膜21の表面に第2の表示電極22が形成されたものであり、第3の基板30は、フィルム状の第3の絶縁膜31の表面に第3の表示電極32が形成されたものである。
(Method for manufacturing electrochromic display device)
Next, a method for manufacturing the electrochromic display device in the present embodiment will be described. 7 and 8 are schematic views showing a method for manufacturing the electrochromic display device in the present embodiment. FIG. 8 shows the case of the third substrate 30, but the same applies to the first substrate 10 and the second substrate 20. First, as shown in FIG. 7, the first substrate 10, the second substrate 20, and the third substrate 30 are prepared in advance. The substrate 10 has a display substrate 11 on which a first display electrode 12 is formed. The second substrate 20 is a film-like first porous film 21 on which a second display electrode 22 is formed. The third substrate 30 is a film-like third insulation. A third display electrode 32 is formed on the surface of the film 31.

次に、マスキング部110a、110b、110cにおいてマスキングを行なう。具体的には、マスキング部110aにおいて第1の基板10の側面近傍の表面にマスキングを行ない、マスキング部110bにおいて第2の基板20の側面近傍の表面にマスキングを行ない、マスキング部110cにおいて第3の基板30の側面近傍の表面にマスキングを行なう。尚、これらのマスキングは、例えば、第1の基板10における第1の引出電極12a等が形成される領域、第2の基板20における第2の引出電極22a等が形成される領域、第3の基板30における第3の引出電極32a等が形成される領域において、マスキングテープを張ること等により行なわれる。   Next, masking is performed in the masking units 110a, 110b, and 110c. Specifically, the masking portion 110a masks the surface near the side surface of the first substrate 10, the masking portion 110b masks the surface near the side surface of the second substrate 20, and the masking portion 110c performs third masking. Masking is performed on the surface near the side surface of the substrate 30. The masking may be performed, for example, in a region where the first extraction electrode 12a or the like in the first substrate 10 is formed, a region where the second extraction electrode 22a or the like in the second substrate 20 is formed, This is performed by applying a masking tape in a region where the third extraction electrode 32a and the like are formed on the substrate 30.

次に、多孔質電極材料塗布部111a、111b、111cにおいて、TiO等の金属酸化物からなる多孔質電極材料を塗布する。具体的には、多孔質電極材料塗布部111aにおいて第1の基板10に多孔質電極材料を塗布し、多孔質電極材料塗布部111bにおいて第2の基板20に多孔質電極材料を塗布し、多孔質電極材料塗布部111cにおいて第3の基板30に多孔質電極材料を塗布する。 Next, a porous electrode material made of a metal oxide such as TiO 2 is applied in the porous electrode material application portions 111a, 111b, and 111c. Specifically, a porous electrode material is applied to the first substrate 10 in the porous electrode material application part 111a, and a porous electrode material is applied to the second substrate 20 in the porous electrode material application part 111b. The porous electrode material is applied to the third substrate 30 in the porous electrode material application part 111c.

次に、加熱部112a、112b、112cにおいて、ベーキングを行なうことにより多孔質電極を形成する。具体的には、加熱部112aにおいて第1の基板10のベーキングを行なうことにより多孔質電極を形成し、加熱部112bにおいて第2の基板20のベーキングを行なうことにより多孔質電極を形成し、加熱部112cにおいて第3の基板30のベーキングを行なうことにより多孔質電極を形成する。   Next, in the heating units 112a, 112b, and 112c, a porous electrode is formed by baking. Specifically, a porous electrode is formed by baking the first substrate 10 in the heating unit 112a, and a porous electrode is formed by baking the second substrate 20 in the heating unit 112b. A porous electrode is formed by baking the third substrate 30 in the portion 112c.

次に、エレクトロクロミック材料塗布部113a、113b、113cにおいて、エレクトロクロミック材料を塗布する。具体的には、エレクトロクロミック材料塗布部113aにおいて第1の基板10の表面に第1のエレクトロクロミック層13を形成するためのエレクトロクロミック材料を塗布し、エレクトロクロミック材料塗布部113bにおいて第2の基板20の表面に第2のエレクトロクロミック層23を形成するためのエレクトロクロミック材料を塗布し、エレクトロクロミック材料塗布部113cにおいて第3の基板30の表面に第3のエレクトロクロミック層33を形成するためのエレクトロクロミック材料を塗布する。   Next, an electrochromic material is applied in the electrochromic material application portions 113a, 113b, and 113c. Specifically, an electrochromic material for forming the first electrochromic layer 13 is applied to the surface of the first substrate 10 in the electrochromic material application unit 113a, and the second substrate is formed in the electrochromic material application unit 113b. An electrochromic material for forming the second electrochromic layer 23 is applied to the surface of the substrate 20, and the third electrochromic layer 33 is formed on the surface of the third substrate 30 in the electrochromic material application portion 113c. Apply electrochromic material.

次に、加熱部114a、114b、114cにおいて、ベーキングを行なう。具体的には、加熱部114aにおいて第1の基板10のベーキングを行ない、加熱部114bにおいて第2の基板20のベーキングを行ない、加熱部114cにおいて第3の基板30のベーキングを行なう。   Next, baking is performed in the heating units 114a, 114b, and 114c. Specifically, the first substrate 10 is baked in the heating unit 114a, the second substrate 20 is baked in the heating unit 114b, and the third substrate 30 is baked in the heating unit 114c.

次に、リンス部115a、115b、115cにおいて、リンスを行なう。具体的には、リンス部115aにおいて、第1の基板10におけるリンスを行なうことにより、第1のエレクトロクロミック層13を形成し、リンス部115bにおいて、第2の基板20におけるリンスを行なうことにより、第2のエレクトロクロミック層23を形成し、リンス部115cにおいて、第3の基板30のリンスを行なうことにより、第3のエレクトロクロミック層33を形成する。   Next, rinsing is performed in the rinse portions 115a, 115b, and 115c. Specifically, the first electrochromic layer 13 is formed by rinsing the first substrate 10 in the rinse portion 115a, and the second substrate 20 is rinsed in the rinse portion 115b. The second electrochromic layer 23 is formed, and the third substrate 30 is rinsed in the rinse portion 115c, whereby the third electrochromic layer 33 is formed.

次に、加熱部116a、116b、116cにおいて、ベーキングを行なう。具体的には、加熱部116aにおいて第1の基板10のベーキングを行ない、加熱部116bにおいて第2の基板20のベーキングを行ない、加熱部116cにおいて第3の基板30のベーキングを行なう。   Next, baking is performed in the heating units 116a, 116b, and 116c. Specifically, the first substrate 10 is baked in the heating unit 116a, the second substrate 20 is baked in the heating unit 116b, and the third substrate 30 is baked in the heating unit 116c.

次に、接着層形成部117a、117b、117cにおいて、接着層の形成を行なう。具体的には、接着層形成部117aにおいて、第1の基板10に接着剤を塗布することにより接着層を形成し、接着層形成部117bにおいて、第2の基板20に接着剤を塗布することにより接着層を形成し、接着層形成部117cにおいて、第3の基板30に接着剤を塗布することにより接着層を形成する。各々の基板に形成される接着層は、イオン電導性を有する接着層であり、一般的な固体電解質等を使用することができる。尚、更に、この上に、電気化学機能層を有しない、貫通孔を有する膜を貼り合わせることで、各々のエレクトロクロミック層が直接触れられる危険性を回避することができ取り扱いが容易となる。   Next, an adhesive layer is formed in the adhesive layer forming portions 117a, 117b, and 117c. Specifically, the adhesive layer forming unit 117a forms an adhesive layer by applying an adhesive to the first substrate 10, and the adhesive layer forming unit 117b applies the adhesive to the second substrate 20. Then, the adhesive layer is formed by applying an adhesive to the third substrate 30 in the adhesive layer forming portion 117c. The adhesive layer formed on each substrate is an adhesive layer having ion conductivity, and a general solid electrolyte or the like can be used. Furthermore, by sticking a film having a through hole without an electrochemical function layer thereon, the risk of direct contact with each electrochromic layer can be avoided and the handling becomes easy.

次に、マスクピーラー部118a、118b、118cにおいて、張られているマスキングテープを除去する。具体的には、マスクピーラー部118aにおいて、第1の基板10にマスキング部110aにおいて張られたマスキングテープを除去し、マスクピーラー部118bにおいて、第2の基板20にマスキング部110bにおいて張られたマスキングテープを除去し、マスクピーラー部118cにおいて、第3の基板30にマスキング部110cにおいて張られたマスキングテープを除去する。これにより、第1の基板10では第1の引出電極12aが形成される領域が露出し、第2の基板20では第2の引出電極22aが形成される領域が露出し、第3の基板30では第3の引出電極32aが形成される領域が露出する。   Next, the masking tape stretched at the mask peeler portions 118a, 118b, and 118c is removed. Specifically, in the mask peeler portion 118a, the masking tape stretched on the first substrate 10 in the masking portion 110a is removed, and in the mask peeler portion 118b, the masking stretched on the second substrate 20 in the masking portion 110b. The tape is removed, and the masking tape attached to the third substrate 30 at the masking portion 110c is removed at the mask peeler portion 118c. As a result, a region where the first extraction electrode 12a is formed is exposed in the first substrate 10, and a region where the second extraction electrode 22a is formed is exposed in the second substrate 20, and the third substrate 30 is exposed. Then, the region where the third extraction electrode 32a is formed is exposed.

次に、パターンカッター部119b、119cにおいて、引出電極を所望の形状にカットする。具体的には、パターンカッター部119bにおいて、第2の基板20に所望の形状の第2の引出電極22a等を形成し、パターンカッター部119cにおいて、第3の基板30に所望の形状の第3の引出電極32a等を形成する。   Next, in the pattern cutter portions 119b and 119c, the extraction electrode is cut into a desired shape. Specifically, the second lead electrode 22a having a desired shape is formed on the second substrate 20 in the pattern cutter portion 119b, and the third shape 30 having a desired shape is formed on the third substrate 30 in the pattern cutter portion 119c. The extraction electrode 32a and the like are formed.

次に、貼り合せ部120において、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30、第4の基板40を貼り合せる。   Next, in the bonding unit 120, the first substrate 10, the second substrate 20, the third substrate 30, and the fourth substrate 40 are bonded.

次に、切断部121において、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30、第4の基板40が張り合わされたものを所望の大きさで切断する。   Next, the cutting unit 121 cuts the first substrate 10, the second substrate 20, the third substrate 30, and the fourth substrate 40 bonded to each other with a desired size.

以上により、ロールツーロールにより、図2(b)等に示される構造の本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置を作製することができる。   As described above, the electrochromic display device in this embodiment having the structure shown in FIG. 2B or the like can be manufactured by roll-to-roll.

上記における製造方法は、マスキング部110a、110b、110cにおいてマスキングテープを貼り付け、マスクピーラー部118a、118b、118cにおいて張られているマスキングテープを除去する製造方法である。しかしながら、図9に示されるように、最初に、マスキング部110a、110b、110cに相当する部分において、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30の両側の側面近傍を折曲げ、マスクピーラー部118a、118b、118cに相当する部分において、折曲げられている部分をもとに戻す製造方法であってもよい。この方法であっても、図2(b)等に示される構造の本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置を作製することができる。   The manufacturing method described above is a manufacturing method in which a masking tape is applied to the masking portions 110a, 110b, and 110c, and the masking tape stretched on the mask peeler portions 118a, 118b, and 118c is removed. However, as shown in FIG. 9, first, in the portions corresponding to the masking portions 110a, 110b, 110c, the vicinity of the side surfaces on both sides of the first substrate 10, the second substrate 20, and the third substrate 30 is folded. In the part corresponding to the bent and mask peeler portions 118a, 118b, and 118c, the bent portion may be returned to the original manufacturing method. Even with this method, the electrochromic display device in the present embodiment having the structure shown in FIG.

また、本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の製造方法は、図8及び図9に示されるように、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30が、1次元的に並んでいる状態で製造する方法以外にも、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30が、2次元的に並んでいる状態で製造する方法であってもよい。図10は、第1の基板10、第2の基板20、第3の基板30が、2次元的に並んでいる状態で製造する方法を説明するものであり、図10(a)は、マスキング部110a、110b、110cにおいてマスキングされた状態を示すものであり、図10(b)は、パターンカッター部119b、119cにおいて引出電極を所望の形状にカットされた状態を示すものである。   Further, in the method of manufacturing the electrochromic display device in the present embodiment, as shown in FIGS. 8 and 9, the first substrate 10, the second substrate 20, and the third substrate 30 are one-dimensionally arranged. In addition to the manufacturing method in which the first substrate 10, the second substrate 20, and the third substrate 30 are two-dimensionally aligned, the manufacturing method may be a method of manufacturing the first substrate 10, the second substrate 20, and the third substrate 30. FIG. 10 illustrates a manufacturing method in which the first substrate 10, the second substrate 20, and the third substrate 30 are two-dimensionally arranged. FIG. 10 (a) illustrates masking. FIG. 10B shows a state where the extraction electrodes are cut into a desired shape in the pattern cutter portions 119b and 119c. FIG. 10B shows a state where the portions 110a, 110b and 110c are masked.

上記における説明は、本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置の構造または、エレクトロクロミック表示装置の製造方法の一例を示すものであり、上記における構造又は方法に限定されるものではない。例えば、エレクトロクロミック表示装置の構造としては、多孔質膜の光散乱による光損失の抑制や、製造工程の簡便性などの観点から自由に構成を変更することができる。また、電気化学機能層であるエレクトロクロミック層は、発現したい機能の数により層の数を変えることもできる。   The above description shows an example of the structure of the electrochromic display device or the method of manufacturing the electrochromic display device in the present embodiment, and is not limited to the above structure or method. For example, the structure of the electrochromic display device can be freely changed from the viewpoint of suppressing light loss due to light scattering of the porous film and the simplicity of the manufacturing process. Moreover, the number of layers of the electrochromic layer which is an electrochemical functional layer can be changed depending on the number of functions desired to be expressed.

(エレクトロクロミック表示装置の要素部材)
次に、本実施の形態におけるエレクトロクロミック表示装置を形成している要素部材等について詳細に説明する。
(Element member of electrochromic display device)
Next, element members and the like forming the electrochromic display device in the present embodiment will be described in detail.

表示基板11は、例えば、ガラス基板やプラスチック基板等の透明な材料からなる基板が用いられる。プラスチック基板としては、例えば、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリスチレン等や、ポリエステルであるポリエチレンテレフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート等を用いることができる。尚、表示基板11としてプラスチックフィルムを用いると、軽量でフレキシブルなエレクトロクロミック表示装置を作製することができる。   As the display substrate 11, for example, a substrate made of a transparent material such as a glass substrate or a plastic substrate is used. As the plastic substrate, for example, polycarbonate, polyethylene, polystyrene, or the like, or polyethylene terephthalate, polytrimethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polybutylene naphthalate, or the like that is polyester can be used. In addition, when a plastic film is used as the display substrate 11, a lightweight and flexible electrochromic display device can be manufactured.

第1の表示電極12、第2の表示電極22及び第3の表示電極32を形成する材料としては、導電性を有する材料であれば特に限定されるものではないが、光の透過性を確保する必要があるため、透明かつ導電性に優れた透明導電性材料が用いられる。これにより、発色させる色の視認性をより高めることができる。   The material for forming the first display electrode 12, the second display electrode 22, and the third display electrode 32 is not particularly limited as long as it is a conductive material, but ensures light transmission. Therefore, a transparent conductive material that is transparent and excellent in conductivity is used. Thereby, the visibility of the color to develop can be improved more.

透明導電性材料としては、スズをドープした酸化インジウム(以下、ITOという)、フッ素をドープした酸化スズ(以下、FTOという)、アンチモンをドープした酸化スズ(以下、ATOという)等の無機材料を用いることができるが、特に、真空成膜により形成されたインジウム酸化物(以下、In酸化物という)、スズ酸化物(以下、Sn酸化物という)又は亜鉛酸化物(以下、Zn酸化物という)のいずれか1つを含む無機材料であることが好ましい。In酸化物、Sn酸化物及びZn酸化物は、スパッタリングにより、容易に成膜が可能な材料であるとともに、良好な透明性と電気伝導度が得られる材料である。尚、これらのうち、特に好ましい材料は、InSnO、GaZnO、SnO、In、ZnO等である。 Transparent conductive materials include inorganic materials such as tin-doped indium oxide (hereinafter referred to as ITO), fluorine-doped tin oxide (hereinafter referred to as FTO), and antimony-doped tin oxide (hereinafter referred to as ATO). In particular, indium oxide (hereinafter referred to as In oxide), tin oxide (hereinafter referred to as Sn oxide) or zinc oxide (hereinafter referred to as Zn oxide) formed by vacuum film formation can be used. It is preferable that it is an inorganic material containing any one of these. In oxides, Sn oxides, and Zn oxides are materials that can be easily formed by sputtering, and can provide good transparency and electrical conductivity. Of these, particularly preferred materials are InSnO, GaZnO, SnO, In 2 O 3 , ZnO and the like.

対向基板41を形成する材料は、特に限定されるものではなく、また、対向電極42を材料は、導電性を有する材料であれば、特に限定されるものではない。対向基板41として、ガラス基板、プラスチックフィルムが用いられる場合、対向電極の材料として、ITO、FTO、酸化亜鉛等の透明導電膜、あるいは亜鉛、白金等の導電性金属膜、更にはカーボン等が用いられる。これらの透明導電膜又は導電性金属からなる対向電極は、対向基板42にコーティングされ用いられる。一方、対向電極42として、亜鉛等の金属板が用いられる場合、対向基板41が対向電極42を兼ねる。   The material for forming the counter substrate 41 is not particularly limited, and the material for the counter electrode 42 is not particularly limited as long as it is a conductive material. When a glass substrate or a plastic film is used as the counter substrate 41, a transparent conductive film such as ITO, FTO, or zinc oxide, or a conductive metal film such as zinc or platinum, or carbon is used as a material for the counter electrode. It is done. The counter electrode made of these transparent conductive film or conductive metal is used by being coated on the counter substrate 42. On the other hand, when a metal plate such as zinc is used as the counter electrode 42, the counter substrate 41 also serves as the counter electrode 42.

また、対向電極42の材料が、第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23及び第3のエレクトロクロミック層33の起こす酸化還元反応と逆の逆反応を起こす材料である場合、安定した発消色が可能である。即ち、第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23及び第3のエレクトロクロミック層33が酸化により発色する場合は還元反応を起こし、第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23及び第3のエレクトロクロミック層33が還元により発色する場合は酸化反応を起こす材料を対向電極42として用いると、第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23及び第3のエレクトロクロミック層33における発消色の反応は、より安定となる。   In addition, when the material of the counter electrode 42 is a material that causes a reverse reaction opposite to the oxidation-reduction reaction caused by the first electrochromic layer 13, the second electrochromic layer 23, and the third electrochromic layer 33, It is possible to perform color erasing. That is, when the first electrochromic layer 13, the second electrochromic layer 23, and the third electrochromic layer 33 are colored by oxidation, a reduction reaction occurs, and the first electrochromic layer 13 and the second electrochromic layer 13 are generated. When the layer 23 and the third electrochromic layer 33 are colored by reduction, if a material that causes an oxidation reaction is used as the counter electrode 42, the first electrochromic layer 13, the second electrochromic layer 23, and the third electrochromic layer 33 are used. The reaction of color development / decoloration in the chromic layer 33 becomes more stable.

第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23及び第3のエレクトロクロミック層33には、酸化還元により色の変化を起こす材料が用いられる。このような材料として、ポリマー系、色素系、金属錯体、金属酸化物等の公知のエレクトロクロミック化合物が用いられる。   For the first electrochromic layer 13, the second electrochromic layer 23, and the third electrochromic layer 33, a material that causes a color change by oxidation and reduction is used. As such a material, a known electrochromic compound such as a polymer, a dye, a metal complex, or a metal oxide is used.

具体的に、ポリマー系、色素系のエレクトロクロミック化合物として、アゾベンゼン系、アントラキノン系、ジアリールエテン系、ジヒドロプレン系、スチリル系、スチリルスピロピラン系、スピロオキサジン系、スピロチオピラン系、チオインジゴ系、テトラチアフルバレン系、テレフタル酸系、トリフェニルメタン系、トリフェニルアミン系、ナフトピラン系、ビオロゲン系、ピラゾリン系、フェナジン系、フェニレンジアミン系、フェノキサジン系、フェノチアジン系、フタロシアニン系、フルオラン系、フルギド系、ベンゾピラン系、メタロセン系、等の低分子系有機エレクトロクロミック化合物、ポリアニリン、ポリチオフェン等の導電性高分子化合物が用いられる。   Specifically, polymer-based and dye-based electrochromic compounds include azobenzene, anthraquinone, diarylethene, dihydroprene, styryl, styryl spiropyran, spirooxazine, spirothiopyran, thioindigo, tetrathiafulvalene, Terephthalic acid, triphenylmethane, triphenylamine, naphthopyran, viologen, pyrazoline, phenazine, phenylenediamine, phenoxazine, phenothiazine, phthalocyanine, fluoran, fulgide, benzopyran, metallocene Low molecular organic electrochromic compounds such as polyaniline, and conductive polymer compounds such as polyaniline and polythiophene are used.

上記に記載されたもののうち、特に、好ましくは、下記の化1(一般式)に示されるジピリジン系化合物を含むことがよい。これらの材料は発消色電位が低いため、複数の表示電極を有するエレクトロクロミック表示装置を構成した場合においても、還元電位により良好な発色の色値を示す。
Among those described above, it is particularly preferable to include a dipyridine-based compound represented by the following chemical formula 1 (general formula). Since these materials have a low color development / discoloration potential, even when an electrochromic display device having a plurality of display electrodes is configured, a good color value is exhibited by the reduction potential.

尚、化1に示される一般式において、R1及びR2は、それぞれ独立に置換基を有してもよい炭素数1から8のアルキル基、又はアリール基を表し、R1又はR2の少なくとも一方は、COOH、PO(OH)、Si(OC2k+1から選ばれる置換基を有する。Xは1価のアニオンを表す。nは0、1又は2を表す。kは0、1又は2を表す。Aは置換基を有しても良い炭素数1から20のアルキル基、アリール基、複素環基を表す。 In the general formula shown in Chemical Formula 1, R1 and R2 each independently represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms or an aryl group which may have a substituent, and at least one of R1 and R2 is: It has a substituent selected from COOH, PO (OH) 2 , and Si (OC k H 2k + 1 ) 3 . X represents a monovalent anion. n represents 0, 1 or 2. k represents 0, 1 or 2. A represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, or a heterocyclic group which may have a substituent.

これらの化合物は電極に接して形成されるが、特に好ましくは、ナノ構造半導体材料にエレクトロクロミック化合物が吸着又は結合して電極に接していることがよい。エレクトロクロミック化合物は、エレクトロクロミック化合物が移動しないよう固定されると共に、エレクトロクロミック化合物の酸化還元に伴う電子の授受が妨げられなければように電気的な接続が確保されていればよく、エレクトロクロミック化合物とナノ構造半導体材料とは混合されて単一層となっていてもよい。   These compounds are formed in contact with the electrode. Particularly preferably, the electrochromic compound is adsorbed or bonded to the nanostructured semiconductor material and is in contact with the electrode. The electrochromic compound is fixed so that the electrochromic compound does not move, and it is sufficient that electrical connection is ensured so as not to prevent the transfer of electrons accompanying the oxidation and reduction of the electrochromic compound. And the nanostructured semiconductor material may be mixed into a single layer.

ナノ構造半導体材料の材料としては、特に限定されるものではないが、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化アルミニウム(以下アルミナ)、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化ケイ素(以下シリカ)、酸化イットリウム、酸素ホウ素、酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カリウム、チタン酸バリウム、チタン酸カルシウム、酸化カルシウム、フェライト、酸化ハフニウム、酸化タングステン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル、酸化コバルト、酸化バリウム、酸化ストロンチウム、酸化バナジウム、アルミノケイ酸、リン酸カルシウム、アルミノシリケート等を主成分とする金属酸化物が用いられる。   The material of the nanostructure semiconductor material is not particularly limited, but titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, aluminum oxide (hereinafter referred to as alumina), zirconium oxide, cerium oxide, silicon oxide (hereinafter referred to as silica), yttrium oxide, Oxygen boron, magnesium oxide, strontium titanate, potassium titanate, barium titanate, calcium titanate, calcium oxide, ferrite, hafnium oxide, tungsten oxide, iron oxide, copper oxide, nickel oxide, cobalt oxide, barium oxide, strontium oxide Metal oxides mainly composed of vanadium oxide, aluminosilicate, calcium phosphate, aluminosilicate and the like are used.

また、これらの金属酸化物は、単独で用いられてもよく、2種以上が混合され用いられてもよい。電気伝導性等の電気的特性や光学的性質等の物理的特性を鑑みるに、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化スズ、アルミナ、酸化ジルコニウム、酸化鉄、酸化マグネシウム、酸化インジウム、酸化タングステン、から選ばれる一種、若しくはそれらの混合物が用いられたとき、発消色の応答速度に優れた多色表示が可能である。又、ナノ構造半導体材料の形状は、特に限定されるものではないが、エレクトロクロミック化合物を効率よく担持するために、単位体積当たりの表面積(以下、比表面積と記載する)が大きい形状が用いられる。大きな比表面積を有することにより効率的にエレクトロクロミック化合物が担持され、発消色の表示コントラスト比に優れた表示が可能である。   Moreover, these metal oxides may be used independently and 2 or more types may be mixed and used. In view of electrical properties such as electrical conductivity and physical properties such as optical properties, it is selected from titanium oxide, zinc oxide, tin oxide, alumina, zirconium oxide, iron oxide, magnesium oxide, indium oxide, and tungsten oxide. When one kind or a mixture thereof is used, multicolor display excellent in response speed of color development and decoloration is possible. The shape of the nanostructured semiconductor material is not particularly limited, but a shape having a large surface area per unit volume (hereinafter referred to as a specific surface area) is used in order to efficiently carry the electrochromic compound. . By having a large specific surface area, the electrochromic compound is efficiently supported, and a display excellent in display contrast ratio of color development and decoloration is possible.

第1のエレクトロクロミック層13、第2のエレクトロクロミック層23及び第3のエレクトロクロミック層33のそれぞれの好ましい膜厚範囲は、0.2〜5.0μmである。この範囲よりも膜厚が薄い場合、発色濃度を得にくくなる。又、この範囲よりも膜厚が厚い場合、製造コストが増大すると共に、着色によって視認性が低下しやすい。   A preferable film thickness range of each of the first electrochromic layer 13, the second electrochromic layer 23, and the third electrochromic layer 33 is 0.2 to 5.0 μm. When the film thickness is thinner than this range, it is difficult to obtain the color density. Moreover, when the film thickness is thicker than this range, the manufacturing cost increases, and the visibility is likely to deteriorate due to coloring.

第1の表示電極12、第2の表示電極22及び第3の表示電極32のそれぞれの間の電極間抵抗は、対向電極42に対する一方の表示電極の電位を、対向電極42に対する他方の表示電極の電位と独立に制御することができる程度に大きな抵抗でなくてはならないが、少なくとも第1の表示電極12、第2の表示電極22及び第3の表示電極32のいずれかの各表示電極のシート抵抗よりも大きくなるように形成されなくてはならない。   The interelectrode resistance between each of the first display electrode 12, the second display electrode 22, and the third display electrode 32 is the potential of one display electrode with respect to the counter electrode 42 and the other display electrode with respect to the counter electrode 42. The resistance of the display electrode must be large enough to be controlled independently of the potential of the first display electrode 12, at least one of the first display electrode 12, the second display electrode 22, and the third display electrode 32. It must be formed to be greater than the sheet resistance.

第1の表示電極12、第2の表示電極22及び第3の表示電極32のそれぞれの間の電極間抵抗が、第1の表示電極12、第2の表示電極22及び第3の表示電極32のいずれかの表示電極のシート抵抗よりも小さい場合、第1の表示電極12、第2の表示電極22及び第3の表示電極32の何れかの表示電極に電圧印加をすると、同程度の電圧が他方の表示電極にも印加されてしまい、各表示電極に対応するエレクトロクロミック層を独立に消色することができない。第1の表示電極12、第2の表示電極22及び第3の表示電極32のそれぞれの間の電極間抵抗は、第1の表示電極12、第2の表示電極22及び第3の表示電極32のそれぞれのシート抵抗の500倍以上あることが好ましい。抵抗値を確保するためには絶縁層を形成することが好ましい。   The interelectrode resistance between each of the first display electrode 12, the second display electrode 22 and the third display electrode 32 is such that the first display electrode 12, the second display electrode 22 and the third display electrode 32. When the voltage is lower than the sheet resistance of any one of the display electrodes, when a voltage is applied to any one of the first display electrode 12, the second display electrode 22, and the third display electrode 32, the same voltage is applied. Is also applied to the other display electrode, and the electrochromic layer corresponding to each display electrode cannot be erased independently. The interelectrode resistance between each of the first display electrode 12, the second display electrode 22, and the third display electrode 32 is the first display electrode 12, the second display electrode 22, and the third display electrode 32. The sheet resistance is preferably 500 times or more. In order to ensure the resistance value, it is preferable to form an insulating layer.

多孔質膜である絶縁層の材料としては、多孔質であれば特に好ましいが、これに限定されるものではなく、絶縁性、耐久性及び成膜性に優れた材料を用いることができ、特に、少なくともZnSを含む材料を用いることができる。ZnSは、スパッタリングによって、エレクトロクロミック層にダメージを与えることなく高速に成膜できるという特徴を有する。更に、ZnSを主な成分として含む材料として、ZnO−SiO、ZnS−SiC、ZnS−Si、ZnS−Ge等を用いることができる。 As the material for the insulating layer which is a porous film, it is particularly preferable if it is porous, but it is not limited to this, and a material excellent in insulation, durability and film formability can be used. A material containing at least ZnS can be used. ZnS has a feature that it can be deposited at high speed by sputtering without damaging the electrochromic layer. Furthermore, ZnO—SiO 2 , ZnS—SiC, ZnS—Si, ZnS—Ge, or the like can be used as a material containing ZnS as a main component.

ここで、ZnSの含有率は、絶縁層を形成した際の結晶性を良好に保つために、約50〜90mol%とすることが好ましい。従って、特に好ましい材料は、ZnS−SiO(8/2)、ZnS−SiO(7/3)、ZnS、ZnS−ZnO−In2O−Ga(60/23/10/7)である。このような絶縁層の材料を用いることにより、薄膜で良好な絶縁効果が得られ、多層化による膜強度低下(即ち、膜のはがれ)を防止することができる。 Here, the ZnS content is preferably about 50 to 90 mol% in order to maintain good crystallinity when the insulating layer is formed. Thus, particularly preferred materials, ZnS-SiO 2 (8/2) , ZnS-SiO 2 (7/3), ZnS, ZnS-ZnO-In2O 3 -Ga 2 O 3 in (60/23/10/7) is there. By using such an insulating layer material, a good insulating effect can be obtained with a thin film, and a decrease in film strength (that is, peeling of the film) due to multilayering can be prevented.

一方、絶縁層を多孔質膜にすることは、絶縁層を粒子膜として形成することによって行うことができる。特にZnS等をスパッタリングで形成する場合、予め下引き層として粒子膜を形成することによって、ZnS等の多孔質膜を形成することができる。この場合、ナノ構造半導体材料を粒子膜として形成することもできるが、絶縁層の一部としてシリカ、アルミナ等を含む多孔質粒子膜を形成することもできる。このような手法を用いて絶縁層を多孔質膜にすることにより、電解質層が絶縁層に浸透することが可能となるため、酸化還元反応に伴う電解質層中のイオンとしての電荷の移動が容易となり、発消色の応答速度に優れた多色表示が可能である。さらに絶縁層は薄膜ポリマー層と積層、及びまたは混合することもできる。   On the other hand, forming the insulating layer into a porous film can be performed by forming the insulating layer as a particle film. In particular, when ZnS or the like is formed by sputtering, a porous film such as ZnS can be formed by previously forming a particle film as an undercoat layer. In this case, the nanostructured semiconductor material can be formed as a particle film, but a porous particle film containing silica, alumina, or the like can be formed as a part of the insulating layer. By making the insulating layer porous by using such a method, the electrolyte layer can penetrate into the insulating layer, so that the movement of charges as ions in the electrolyte layer accompanying the oxidation-reduction reaction is easy. Thus, multicolor display with excellent response speed of color development / erasure is possible. Furthermore, the insulating layer can be laminated and / or mixed with the thin film polymer layer.

尚、多孔質膜である絶縁層の膜厚は20〜500nmとすることができ、更に好ましくは20〜150nmの範囲とすることができる。この範囲よりも膜厚が薄い場合、絶縁性を得にくくなる。また、この範囲よりも膜厚が厚い場合、製造コストが増大するとともに、着色によって視認性が低下する。   In addition, the film thickness of the insulating layer which is a porous film can be 20-500 nm, More preferably, it can be set as the range of 20-150 nm. When the film thickness is thinner than this range, it is difficult to obtain insulation. Moreover, when a film thickness is thicker than this range, while manufacturing cost increases, visibility will fall by coloring.

電解質層としては、支持塩を溶媒に溶解させた層が用いられる。このため、イオン伝導度が高い。電解質層の材料としては、支持塩として、例えば、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等の無機イオン塩、4級アンモニウム塩や酸類、アルカリ類の支持塩を用いることができる。具体的に、LiClO、LiBF、LiAsF、LiPF、LiCFSO、LiCFCOO、KCl、NaClO、NaCl、NaBF、NaSCN、KBF、Mg(ClO、Mg(BF、過塩素酸テトラブチルアンモニウム等を用いることができる。 As the electrolyte layer, a layer in which a supporting salt is dissolved in a solvent is used. For this reason, ionic conductivity is high. As a material of the electrolyte layer, for example, an inorganic ion salt such as an alkali metal salt or an alkaline earth metal salt, a quaternary ammonium salt, an acid, or an alkali support salt can be used as the support salt. Specifically, LiClO 4 , LiBF 4 , LiAsF 6 , LiPF 6 , LiCF 3 SO 3 , LiCF 3 COO, KCl, NaClO 3 , NaCl, NaBF 4 , NaSCN, KBF 4 , Mg (ClO 4 ) 2 , Mg (BF 4 ) 2 , tetrabutylammonium perchlorate, etc. can be used.

また、溶媒として、例えば、プロピレンカーボネート、アセトニトリル、γ―ブチロラクトン、エチレンカーボネート、スルホラン、ジオキソラン、テトラヒドロフラン、2−メチルテトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、1、2−ジメトキシエタン、1、2−エトキシメトキシエタン、ポリエチレングリコール、アルコール類、が用いられる。その他、支持塩を溶媒に溶解させた液体状の電解質に特に限定されるものではないため、ゲル状の電解質や、ポリマー電解質等の固体電解質も用いられる。   Examples of the solvent include propylene carbonate, acetonitrile, γ-butyrolactone, ethylene carbonate, sulfolane, dioxolane, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, dimethyl sulfoxide, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-ethoxymethoxyethane, and polyethylene glycol. , Alcohols are used. In addition, since it is not particularly limited to a liquid electrolyte in which a supporting salt is dissolved in a solvent, a gel electrolyte or a solid electrolyte such as a polymer electrolyte is also used.

電解質層はゲル状、固体状に形成することが、素子強度向上、信頼性向上、発色拡散の防止から好ましい。固体化手法としては、電解質と溶媒をポリマー樹脂中に保持することが良い。高いイオン伝導度と固体強度が得られるためである。更に、ポリマー樹脂は光硬化可能な樹脂が良い。熱重合や、溶剤を蒸発させることにより薄膜化する方法に比べて、低温かつ短時間で素子を製造できるためである。   The electrolyte layer is preferably formed in a gel or solid form in order to improve element strength, improve reliability, and prevent color diffusion. As a solidification method, it is preferable to hold the electrolyte and the solvent in the polymer resin. This is because high ionic conductivity and solid strength can be obtained. Further, the polymer resin is preferably a photocurable resin. This is because the device can be manufactured at a low temperature and in a short time compared to thermal polymerization or a method of thinning the film by evaporating the solvent.

樹脂としては、特に限定されないが、ウレタン、エチレングリコール、プレングリコール、ビニルアルコール、アクリル、エポキシなどのポリマーを挙げることができる。又、電解質層中に白色顔料粒子を分散させることで、白色反射層の機能をもたせることもできる。白色の顔料粒子としては、特に限定されないが、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化ケイ素、酸化セシウム、酸化イットリウム等の金属酸化物が挙げられる。光硬化樹脂により電解質層を硬化する場合は白色顔料を増量すると光を遮蔽するため硬化不良となりやすい。電解質層の厚さにも依存するが、好ましい含有量は10〜50wt%である。又、電解質層の膜厚は0.1〜200μmの範囲とすることができる。好ましくは1〜50μmである。電解質層16がこれよりも厚いと電荷が拡散しやすい、また、これよりも薄いと電解質の保持が困難になるためである。   Examples of the resin include, but are not limited to, polymers such as urethane, ethylene glycol, prene glycol, vinyl alcohol, acrylic, and epoxy. Moreover, the function of a white reflective layer can also be given by disperse | distributing white pigment particle | grains in an electrolyte layer. Although it does not specifically limit as a white pigment particle, Metal oxides, such as a titanium oxide, an aluminum oxide, a zinc oxide, a silicon oxide, a cesium oxide, an yttrium oxide, are mentioned. When the electrolyte layer is cured with a photo-curing resin, if the amount of the white pigment is increased, light is shielded, which tends to cause poor curing. Although depending on the thickness of the electrolyte layer, the preferred content is 10 to 50 wt%. The thickness of the electrolyte layer can be in the range of 0.1 to 200 μm. Preferably it is 1-50 micrometers. This is because if the electrolyte layer 16 is thicker than this, electric charges are easily diffused, and if it is thinner than this, it is difficult to hold the electrolyte.

第1の多孔質膜21、第2の多孔質膜31等は、それぞれ電解質に対して不活性であり、かつ、透明な材質であればよく、機械的強度等も特に制約されないが、例えばポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリメタクリレート、ポリアセタール、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリウレタン等が挙げられる。この中で、化学的安定性及び電気絶縁性の点から、ポリオレフィン、ポリフッ化ビニリデン及びポリテトラフルオロエチレン等を用いることが好ましい。   The first porous film 21, the second porous film 31 and the like may be any materials that are inert to the electrolyte and transparent, and are not particularly limited in mechanical strength. , Polycarbonate, polyester, polymethacrylate, polyacetal, polyvinylidene chloride, polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, polyurethane and the like. Among these, it is preferable to use polyolefin, polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, or the like from the viewpoint of chemical stability and electrical insulation.

第1の多孔質膜21、第2の多孔質膜31等は、多数の貫通孔を有する膜である。第1の多孔質膜21、第2の多孔質膜31等としては、例えば、一般的な不織布や、プラスチック基板などに重イオンビームなどで多数の貫通孔を形成した自立膜などが使用できる。本実施の形態における多孔質膜の貫通孔は、一般的な多孔質膜のように膜の厚み方向や面方向や斜め方向等の様々な方向に形成されるよりも、主に膜の厚み方向に形成されることが好ましい。以下に説明する役割や効果を実現するためである。即ち、多孔質膜の貫通孔(細孔部)は、ナノポーラス層であるエレクトロクロミック層に電解質を浸透させる際に気相を逃がす役割を果たす。多孔質膜の貫通孔(細孔部)を通して気相を逃がすことにより、気相の残留に起因するエレクトロクロミック表示装置の表示ムラや応答速度ムラ・遅延等の発生を防止することができる。又、貫通孔(細孔部)により電解質イオンを容易に透過するので、複数の多孔質膜を重ね合わせても電気化学反応を起こすことが可能となる。また、自立膜を使用することで、1つの素子で複数の電気化学機能層を積層した多機能電気化学素子の作製において、順次積層するプロセスが不要となるため容易に多機能電気化学素子を作製することができる。   The first porous film 21, the second porous film 31, and the like are films having a large number of through holes. As the first porous film 21, the second porous film 31, and the like, for example, a general nonwoven fabric or a self-supporting film in which a large number of through holes are formed in a plastic substrate or the like with a heavy ion beam can be used. The through-holes of the porous film in the present embodiment are mainly formed in the thickness direction of the film rather than being formed in various directions such as the thickness direction, the surface direction, and the diagonal direction of the film as in a general porous film. It is preferable to be formed. This is to realize the roles and effects described below. That is, the through-hole (pore part) of the porous membrane plays a role of releasing the gas phase when the electrolyte is infiltrated into the electrochromic layer that is the nanoporous layer. By allowing the gas phase to escape through the through-holes (pores) of the porous film, it is possible to prevent the occurrence of display unevenness, response speed unevenness, delay, etc. of the electrochromic display device due to the residual gas phase. In addition, since electrolyte ions are easily transmitted through the through-holes (pores), it is possible to cause an electrochemical reaction even when a plurality of porous films are stacked. In addition, by using a self-supporting film, a multi-functional electrochemical device can be easily manufactured because a process of sequentially stacking is not required in the production of a multi-functional electrochemical device in which a plurality of electrochemical functional layers are stacked with one device. can do.

不織布については必ずしも限定されるものではないが、厚さは5〜500μm、より好ましくは10〜150μmの範囲、繊維径は0.2〜15μm、より好ましくは0.5〜5μm、空孔率は40〜90%、より好ましくは60〜80%である極細の繊維からなる微多孔質の均質な不織布であることが好ましい。厚みが500μmを超えるとエレクトロクロミック素子の応答性が低下し、5μm以下になると強度が弱く、取扱い、加工性が困難になる。繊維径が15μmを超えると空孔率を低下させ、0.2μm以下になると強度の低下の原因になる。空孔率90%以上では強度低下の原因になり、空孔率40%以下では電解質層のイオン導電性を低下させる。   The nonwoven fabric is not necessarily limited, but the thickness is 5 to 500 μm, more preferably 10 to 150 μm, the fiber diameter is 0.2 to 15 μm, more preferably 0.5 to 5 μm, and the porosity is It is preferably a microporous homogeneous non-woven fabric composed of ultrafine fibers of 40 to 90%, more preferably 60 to 80%. When the thickness exceeds 500 μm, the responsiveness of the electrochromic element is lowered, and when it is 5 μm or less, the strength is weak and handling and workability become difficult. When the fiber diameter exceeds 15 μm, the porosity is lowered, and when the fiber diameter is 0.2 μm or less, the strength is lowered. When the porosity is 90% or more, the strength is reduced, and when the porosity is 40% or less, the ionic conductivity of the electrolyte layer is lowered.

プラスチック基板などに形成する貫通孔の径は、例えば、0.01〜100μm程度とすると好適である。貫通孔の径が0.01μm以下だと、貫通孔が多孔質膜を完全に貫けない場合や、表示電極を形成する際に貫通孔をITO等のイオン透過性の悪い透明導電膜で塞いでしまう場合がある。又、貫通孔の径が100μm以上だと、目視できるレベル(通常のディスプレイでは1画素電極レベルの大きさ)であり、貫通孔直上に表示電極が形成できなくなるので、表示性能に不具合が生じる場合がある。このような問題を完全に回避するために、貫通孔の径を0.1〜5μm程度とすると更に好適である。また、このような多孔質膜上に表示電極を形成した場合、表面の平坦性が良いため良好な導電性を有した表示電極を形成しやすく、表示性能の良いエレクトロクロミック表示装置を製造することができる。   The diameter of the through hole formed in the plastic substrate or the like is preferably about 0.01 to 100 μm, for example. If the diameter of the through hole is 0.01 μm or less, the through hole may not completely penetrate the porous film, or when the display electrode is formed, the through hole is blocked with a transparent conductive film having poor ion permeability such as ITO. May end up. In addition, when the diameter of the through hole is 100 μm or more, it is a level that can be visually observed (the size of one pixel electrode in a normal display), and a display electrode cannot be formed immediately above the through hole. There is. In order to completely avoid such a problem, it is more preferable that the diameter of the through hole is about 0.1 to 5 μm. In addition, when a display electrode is formed on such a porous film, it is easy to form a display electrode with good conductivity because the surface flatness is good, and an electrochromic display device with good display performance is manufactured. Can do.

第1の多孔質膜21、第2の多孔質膜31等の全体の面積に対する貫通孔の面積の比は、適宜設定することができるが、例えば0.01〜30%程度とすることができる。多孔質膜15等の全体の面積に対する貫通孔の面積の比が大きすぎると表示電極がない面積が広くなるので発色応答(電流のながれ)に不具合が出て発消色表示に問題が生じる虞がある。又、多孔質膜15等の全体の面積に対する貫通孔の面積の比が小さすぎると電解質イオンの浸透性が悪くなるので、同様に発消色表示に問題が生じる虞がある。   The ratio of the area of the through holes to the total area of the first porous film 21 and the second porous film 31 can be set as appropriate, and can be set to about 0.01 to 30%, for example. . If the ratio of the area of the through-holes to the entire area of the porous film 15 or the like is too large, the area without the display electrode is widened, so that a problem occurs in the color development response (current flow) and a problem may occur in the color development / decoloration display. There is. Further, if the ratio of the area of the through hole to the entire area of the porous film 15 or the like is too small, the permeability of the electrolyte ions is deteriorated, so that there is a possibility that a problem occurs in the color development / decoloration display.

第1の多孔質膜21、第2の多孔質膜31等は、エレクトロクロミック層(エレクトロクロミック化合物と前記エレクトロクロミック化合物を担持した金属酸化物)を構成する材料の一部を含んでいる。例えば、第1の多孔質膜21、第2の多孔質膜31等の上にエレクトロクロミック層を構成する酸化チタン微粒子の膜を成膜しようとした場合に、第1の多孔質膜21、第2の多孔質膜31等の貫通孔(細孔部)の中に酸化チタン微粒子が入り込み、第1の多孔質膜21、第2の多孔質膜31等がエレクトロクロミック層を構成する材料の一部を含んだ状態となる。電解質が保持されている第1の多孔質膜21、第2の多孔質膜31等の貫通孔(細孔部)にエレクトロクロミック層の少なくとも一部を含むことにより、効率的に発消色させることができる。   The first porous film 21, the second porous film 31, and the like include a part of the material constituting the electrochromic layer (electrochromic compound and metal oxide carrying the electrochromic compound). For example, when a film of titanium oxide fine particles constituting an electrochromic layer is to be formed on the first porous film 21, the second porous film 31, etc., the first porous film 21, the second porous film 21, One of the materials in which the titanium oxide fine particles enter into the through-holes (pores) of the two porous membranes 31 and the like, and the first porous membrane 21 and the second porous membrane 31 constitute the electrochromic layer. The part is included. By including at least a part of the electrochromic layer in the through-holes (pores) of the first porous film 21 and the second porous film 31 in which the electrolyte is held, the color is efficiently developed and decolored. be able to.

このように、本実施の形態によれば、表示電極とエレクトロクロミック層との積層体の表示電極側又はエレクトロクロミック層側のいずれか一方側に多孔質膜(多数の貫通孔を有する膜)を設けることにより、ナノポーラス層であるエレクトロクロミック層に電解質を浸透させる際に気相の逃げをつくっておくことが可能となり、エレクトロクロミック層に十分に電解質を浸透させることができる。その結果、エレクトロクロミック表示装置の表示ムラや応答速度ムラ・遅延等の発生を防止することができる。   Thus, according to the present embodiment, the porous film (film having a large number of through holes) is formed on either the display electrode side or the electrochromic layer side of the laminate of the display electrode and the electrochromic layer. By providing it, it is possible to create a gas phase escape when the electrolyte is infiltrated into the electrochromic layer, which is a nanoporous layer, and the electrolyte can be sufficiently infiltrated into the electrochromic layer. As a result, it is possible to prevent occurrence of display unevenness, response speed unevenness, delay, and the like of the electrochromic display device.

また、エレクトロクロミック層への電解質の浸透が即時に行われるため、特に、多色発色素子とするために複数のエレクトロクロミック層を積層したエレクトロクロミック表示装置において、顕著な効果を奏する。   In addition, since the electrolyte permeates immediately into the electrochromic layer, a remarkable effect is exerted particularly in an electrochromic display device in which a plurality of electrochromic layers are stacked to form a multicolor coloring element.

(表示電極及びエレクトロクロミック層の形成)
まず、40mm×40mmのガラス基板を準備し、準備したガラス基板上にテープを用いて表示基板11である40mm×40mmのポリカーボネート基板を固定し、その上面の全面に、ITO膜をスパッタリングにより約100nmの厚さになるように成膜することによって、第1の表示電極12を形成した。この第1の表示電極12の電極端部間のシート抵抗を測定したところ、約200Ωであった。
(Formation of display electrode and electrochromic layer)
First, a 40 mm × 40 mm glass substrate is prepared, a 40 mm × 40 mm polycarbonate substrate as the display substrate 11 is fixed on the prepared glass substrate using a tape, and an ITO film is sputtered on the entire upper surface by sputtering to a thickness of about 100 nm. The first display electrode 12 was formed by forming a film so as to have a thickness of 1 mm. When the sheet resistance between the electrode end portions of the first display electrode 12 was measured, it was about 200Ω.

次に、第1の表示電極12の側面側の一部にマスキングテープ等のテープを張った後、第1の表示電極12が形成されたガラス基板上に、酸化チタンナノ粒子分散液としてSP210(商品名:昭和タイタニウム社製)をスピンコート法により塗布し、120℃で15分間アニール処理を行うことによって、酸化チタン粒子膜を形成し、引続いて、4,4'-(1-phenyl-1H-pyrrole-2,5-diyl)bis(1-(4-(phosphonomethyl)benzyl)pyridinium) bromideで表されるビオロゲン化合物の1wt%2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール溶液を塗布液としてスピンコートし、120℃で10分間アニール処理を行い、さらに2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールにてリンスし、120℃で5分間アニール処理を行うことによって、酸化チタン粒子とエレクトロクロミック化合物からなる第1のエレクトロクロミック層13を形成した。その後、第1の表示電極12及び第1のエレクトロクロミック層13が形成された表示基板11を、ガラス基板から剥離した。尚、第1のエレクトロクロミック層13は、電圧等を印加することによりマゼンタの発色を呈するものである。   Next, after a tape such as a masking tape is applied to a part of the side surface of the first display electrode 12, SP210 (commercial product) is formed as a titanium oxide nanoparticle dispersion on the glass substrate on which the first display electrode 12 is formed. (Name: Showa Titanium Co., Ltd.) was applied by spin coating and annealed at 120 ° C. for 15 minutes to form a titanium oxide particle film, followed by 4,4 ′-(1-phenyl-1H -pyrrole-2,5-diyl) bis (1- (4- (phosphonomethyl) benzyl) pyridinium) Spinning with 1 wt% 2,2,3,3-tetrafluoropropanol solution of viologen compound represented by bromide as coating solution Coat, anneal at 120 ° C. for 10 minutes, rinse with 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, and anneal at 120 ° C. for 5 minutes to form titanium oxide particles and electrochromic To form a first electrochromic layer 13 composed of compound. Thereafter, the display substrate 11 on which the first display electrode 12 and the first electrochromic layer 13 were formed was peeled from the glass substrate. The first electrochromic layer 13 exhibits magenta color by applying a voltage or the like.

次に、別に40mm×40mmのガラス基板を準備し、準備したガラス基板上にテープを用いて、第1の多孔質膜21として、第1の多孔質膜である40mm×40mmのポリエチレン多孔質膜(サンマップLCシリーズ、日東電工株式会社)を固定し、その上面の全面に、ITO膜をスパッタリングにより約100nmの厚さになるように成膜することによって、第2の表示電極22を形成した。この第2の表示電極22の電極端部間のシート抵抗を測定したところ、約200Ωであった。   Next, a 40 mm × 40 mm glass substrate is prepared separately, and a tape is used on the prepared glass substrate, and the first porous film 21 is a polyethylene porous film of 40 mm × 40 mm which is the first porous film. (Sunmap LC series, Nitto Denko Corporation) was fixed, and the second display electrode 22 was formed by depositing an ITO film to a thickness of about 100 nm on the entire upper surface by sputtering. . When the sheet resistance between the electrode ends of the second display electrode 22 was measured, it was about 200Ω.

次に、第2の表示電極22の側面側の一部にマスキングテープ等のテープを張った後、第2の表示電極22が形成されたガラス基板上に、酸化チタンナノ粒子分散液としてSP210(商品名:昭和タイタニウム社製)をスピンコート法により塗布し、120℃で15分間アニール処理を行うことによって、酸化チタン粒子膜を形成し、引続いて、4,4'-(4,4'-(1,3,4-oxadiazole-2,5-diyl)bis(4,1-phenylene))bis(1-(8-phosphonooctyl)pyridinium) bromideで表されるビオロゲン化合物の1wt%2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール溶液を塗布液としてスピンコートし、120℃で10分間アニール処理を行い、さらに2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールにてリンスし、120℃で5分間アニール処理を行うことによって、酸化チタン粒子とエレクトロクロミック化合物からなる第2のエレクトロクロミック層23を形成した。その後、第2の表示電極22及び第2のエレクトロクロミック層23が形成された第1の多孔質膜21を、ガラス基板から剥離した。尚、第2のエレクトロクロミック層23は、電圧等を印加することによりイエローの発色を呈するものである。   Next, after a tape such as a masking tape is applied to a part of the side surface of the second display electrode 22, SP210 (commercial product) as a titanium oxide nanoparticle dispersion is formed on the glass substrate on which the second display electrode 22 is formed. (Name: Showa Titanium Co., Ltd.) was applied by spin coating and annealed at 120 ° C for 15 minutes to form a titanium oxide particle film, followed by 4,4 '-(4,4'- 1 wt% of a viologen compound represented by (1,3,4-oxadiazole-2,5-diyl) bis (4,1-phenylene)) bis (1- (8-phosphonooctyl) pyridinium) bromide 2,2,3 , 3-tetrafluoropropanol solution is spin-coated as a coating solution, annealed at 120 ° C. for 10 minutes, rinsed with 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, and annealed at 120 ° C. for 5 minutes. By performing titanium oxide particles and A second electrochromic layer 23 made of a romic compound was formed. Then, the 1st porous film 21 in which the 2nd display electrode 22 and the 2nd electrochromic layer 23 were formed was peeled from the glass substrate. The second electrochromic layer 23 exhibits yellow color by applying a voltage or the like.

次に、更に別に40mm×40mmのガラス基板を準備し、準備したガラス基板上にテープを用いて、第2の多孔質膜31として、第2の多孔質膜である40mm×40mmのポリエチレン多孔質膜(サンマップLCシリーズ、日東電工株式会社)を固定し、その上面の全面に、ITO膜をスパッタリングにより約100nmの厚さになるように成膜することによって、第3の表示電極32を形成した。この第3の表示電極32の電極端部間のシート抵抗を測定したところ、約200Ωであった。   Next, another 40 mm × 40 mm glass substrate is prepared, and a tape is used on the prepared glass substrate, and the second porous film 31 is a polyethylene porous film of 40 mm × 40 mm which is the second porous film. A third display electrode 32 is formed by fixing a film (Sunmap LC series, Nitto Denko Corporation) and depositing an ITO film to a thickness of about 100 nm on the entire upper surface by sputtering. did. When the sheet resistance between the electrode ends of the third display electrode 32 was measured, it was about 200Ω.

次に、第3の表示電極32の側面側の一部にマスキングテープ等のテープを張った後、第3の表示電極32が形成されたガラス基板上に、酸化チタンナノ粒子分散液としてSP210(商品名:昭和タイタニウム社製)をスピンコート法により塗布し、120℃で15分間アニール処理を行うことによって、酸化チタン粒子膜を形成し、引続いて、4,4'-(isoxazole-3,5-diyl)bis(1-(2-phosphonoethyl)pyridinium) bromideで表されるビオロゲン化合物の1wt%2,2,3,3−テトラフルオロプロパノール溶液を塗布液としてスピンコートし、120℃で10分間アニール処理を行い、さらに2,2,3,3−テトラフルオロプロパノールにてリンスし、120℃で5分間アニール処理を行うことによって、酸化チタン粒子とエレクトロクロミック化合物からなる第3のエレクトロクロミック層33を形成した。その後、第3の表示電極32及び第3のエレクトロクロミック層33が形成された第2の多孔質膜31を、ガラス基板から剥離した。尚、第3のエレクトロクロミック層33は、電圧等を印加することによりシアンの発色を呈するものである。   Next, after a tape such as a masking tape is applied to a part of the side surface of the third display electrode 32, SP210 (commercial product) as a titanium oxide nanoparticle dispersion is formed on the glass substrate on which the third display electrode 32 is formed. Name: Showa Titanium Co., Ltd.) was applied by spin coating and annealed at 120 ° C. for 15 minutes to form a titanium oxide particle film, followed by 4,4 ′-(isoxazole-3,5 -diyl) bis (1- (2-phosphonoethyl) pyridinium) bromide 1 wt% 2,2,3,3-tetrafluoropropanol solution of viologen compound is spin coated as coating solution and annealed at 120 ° C for 10 minutes Treatment, rinsing with 2,2,3,3-tetrafluoropropanol, and annealing at 120 ° C. for 5 minutes, so that the titanium oxide particles and the electrochromic compound are made. To form a third electrochromic layer 33. Then, the 2nd porous film 31 in which the 3rd display electrode 32 and the 3rd electrochromic layer 33 were formed was peeled from the glass substrate. The third electrochromic layer 33 exhibits cyan color by applying a voltage or the like.

(表示電極取り出し部の形成)
第1の表示電極12、第2の表示電極22、第3の表示電極32に張られていたマスキングテープ等のテープを剥離して表示電極を露出させた後、第1の多孔質膜21及び第2の多孔質膜31を図3に示す形状にカットすることにより、第1の基板10に第1の引出電極12b、第2の基板20に第2の引出電極22b、第3の基板30に第3の引出電極32bを形成した。
(Formation of display electrode extraction part)
After peeling the tape such as masking tape stretched on the first display electrode 12, the second display electrode 22, and the third display electrode 32 to expose the display electrode, the first porous film 21 and By cutting the second porous film 31 into the shape shown in FIG. 3, the first extraction electrode 12 b is formed on the first substrate 10, the second extraction electrode 22 b is formed on the second substrate 20, and the third substrate 30 is formed. A third extraction electrode 32b was formed.

(対向電極の形成)
第1〜第3の表示電極12、22、32等を形成した際に用いたガラス基板とは別に、40mm×40mmのガラス基板を準備し、準備したガラス基板上にテープを用いて対向基板41である40mm×40mmのポリカーボネート基板を固定し、その上面の3カ所に30mm×8mmの領域に、ITO膜をスパッタリングにより約100nmの厚さになるように成膜することによって、対向電極42を形成した。この対向電極42における電極端部間のシート抵抗を測定したところ、約200Ωであった。
(Formation of counter electrode)
Apart from the glass substrate used when the first to third display electrodes 12, 22, 32, etc. are formed, a 40 mm × 40 mm glass substrate is prepared, and a counter substrate 41 using a tape on the prepared glass substrate. A 40 mm × 40 mm polycarbonate substrate is fixed, and an ITO film is formed in a region of 30 mm × 8 mm at three locations on the upper surface by sputtering so as to have a thickness of about 100 nm, thereby forming a counter electrode 42. did. When the sheet resistance between the electrode ends of the counter electrode 42 was measured, it was about 200Ω.

(エレクトロクロミック表示装置の作製)
第4の基板41の対向電極42が形成されている面の側の上に、第3のエレクトロクロミック層33と第3の表示電極32と第2の多孔質膜31との積層体、第2のエレクトロクロミック層23と第2の表示電極22と第1の多孔質膜21との積層体を重ねて置き、次に過塩素酸テトラブチルアンモニウムをジメチルスルホキシドに0.1Mで溶解して調製した電解質溶液を上から滴下した後、第1のエレクトロクロミック層13と第1の表示電極12と表示基板11との積層体とで貼り合わせ封入することによりエレクトロクロミック表示装置を作製した。
(Production of electrochromic display device)
On the side of the surface on which the counter electrode 42 of the fourth substrate 41 is formed, a laminated body of the third electrochromic layer 33, the third display electrode 32, and the second porous film 31, A laminate of the electrochromic layer 23, the second display electrode 22 and the first porous film 21 was placed on top of each other, and then tetrabutylammonium perchlorate was dissolved in dimethyl sulfoxide at 0.1 M to prepare. After the electrolyte solution was dropped from above, an electrochromic display device was fabricated by bonding and encapsulating the first electrochromic layer 13, the first display electrode 12, and the display substrate 11.

本実施例にて作製したエレクトロクロミック表示装置は、表示基板11、第1の表示電極12、第1のエレクトロクロミック層13、第1の多孔質膜21、第2の表示電極22、第2のエレクトロクロミック層23、第2の多孔質膜31、第3の表示電極32、第3のエレクトロクロミック層33が積層された構造を有する。各々の引出電極の形状等は、図3に示す場合と同様である。   The electrochromic display device manufactured in this example includes a display substrate 11, a first display electrode 12, a first electrochromic layer 13, a first porous film 21, a second display electrode 22, and a second display electrode. The electrochromic layer 23, the second porous film 31, the third display electrode 32, and the third electrochromic layer 33 are stacked. The shape and the like of each extraction electrode are the same as those shown in FIG.

(発消色試験)
本実施例で作製されたエレクトロクロミック表示装置に電圧を印加し、発色の評価を実施した。印加電圧は3.0Vとし、印加時間は2秒とした。尚、表示電極12は負極に接続し、対向電極41は正極に接続した。
(Color development test)
A voltage was applied to the electrochromic display device manufactured in this example, and color development was evaluated. The applied voltage was 3.0 V and the application time was 2 seconds. The display electrode 12 was connected to the negative electrode, and the counter electrode 41 was connected to the positive electrode.

図11に示されるように、第1の表示電極12と対向電極42との間に電圧を印加することによってマゼンタを発色し、第2の表示電極22と対向電極42との間に電圧を印加することによってイエローを発色し、第3の表示電極32と対向電極42との間に電圧を印加することによってシアンを発色させることができる。尚、本実施例におけるエレクトロクロミック表示装置は、マゼンタ、イエロー、シアンを独立して発色させることができ、また、独立して一旦発色された発色を安定に保持することができた。   As shown in FIG. 11, magenta is developed by applying a voltage between the first display electrode 12 and the counter electrode 42, and a voltage is applied between the second display electrode 22 and the counter electrode 42. Thus, yellow can be developed, and cyan can be developed by applying a voltage between the third display electrode 32 and the counter electrode 42. The electrochromic display device in this example was able to independently develop magenta, yellow, and cyan, and could stably maintain the color once independently developed.

以上、本発明の実施に係る形態について説明したが、上記内容は、発明の内容を限定するものではない。   As mentioned above, although the form which concerns on implementation of this invention was demonstrated, the said content does not limit the content of invention.

10 第1の基板
11 表示基板
12 第1の表示電極
12a〜12g 第1の引出電極
13 第1のエレクトロクロミック層
20 第2の基板
21 第1の多孔質膜
22 第2の表示電極
22a〜22g 第2の引出電極
23 第2のエレクトロクロミック層
30 第3の基板
31 第2の多孔質膜
32 第3の表示電極
32a〜32g 第3の引出電極
33 第3のエレクトロクロミック層
40 第4の基板
41 対向基板
42 対向電極
43 白色反射層
50 電解質
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 1st board | substrate 11 Display board | substrate 12 1st display electrode 12a-12g 1st extraction electrode 13 1st electrochromic layer 20 2nd board | substrate 21 1st porous film 22 2nd display electrode 22a-22g Second extraction electrode 23 Second electrochromic layer 30 Third substrate 31 Second porous film 32 Third display electrodes 32a to 32g Third extraction electrode 33 Third electrochromic layer 40 Fourth substrate 41 counter substrate 42 counter electrode 43 white reflective layer 50 electrolyte

特表2001−510590号公報Special table 2001-510590 gazette 特開2003−121883号公報JP 2003-121883 A 特開2006−106669号公報JP 2006-106669 A 特開2003−270671号公報JP 2003-270671 A 特開2004−151265号公報JP 2004-151265 A 特開2009−163005号公報JP 2009-163005 A

Claims (10)

表示基板の上に第1の表示電極が形成されている第1の基板と、
前記第1の表示電極の上に形成されている第1のエレクトロクロミック層と、
多孔質膜の上に第2の表示電極が形成されている第2の基板と、
前記第2の表示電極の上に形成されている第2のエレクトロクロミック層と、
表面に対向電極が形成されている対向基板と、
前記表示電極と前記対向電極との間に入れられている電解質と、
を有し、
前記第1の基板と前記第2の基板とは積層されているものであって、
前記第1の基板には、前記第1の表示電極に接続されている前記第1の基板の一方の端部近傍に引出された第1の引出電極が形成されており、
前記第2の基板には、前記第2の表示電極に接続されている前記第2の基板の一方の端部近傍に引出された第2の引出電極が形成されており、
前記第1の基板と前記第2の基板とを積層した状態において、前記第1の引出電極と前記第2の引出電極は、ともに露出していることを特徴とするエレクトロクロミック表示装置。
A first substrate having a first display electrode formed on the display substrate;
A first electrochromic layer formed on the first display electrode;
A second substrate on which a second display electrode is formed on the porous film;
A second electrochromic layer formed on the second display electrode;
A counter substrate having a counter electrode formed on the surface;
An electrolyte placed between the display electrode and the counter electrode;
Have
The first substrate and the second substrate are laminated,
The first substrate is formed with a first extraction electrode that is extracted in the vicinity of one end of the first substrate that is connected to the first display electrode,
The second substrate is formed with a second extraction electrode that is extracted in the vicinity of one end of the second substrate connected to the second display electrode,
The electrochromic display device, wherein the first extraction electrode and the second extraction electrode are both exposed in a state where the first substrate and the second substrate are stacked.
前記第1の引出電極及び前記第2の引出電極は、前記第1の基板及び前記第2の基板の他方の端部近傍にも各々形成されているものであることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロクロミック表示装置。   2. The first extraction electrode and the second extraction electrode are also formed in the vicinity of the other end of the first substrate and the second substrate, respectively. The electrochromic display device described in 1. 前記多孔質膜は第1の多孔質膜であって、
第2の多孔質膜の上に第3の表示電極が形成されている第3の基板と、
前記第3の表示電極の上に形成されている第3のエレクトロクロミック層と、
を有し、
前記第1の基板、前記第2の基板及び前記第3の基板は積層されているものであって、
前記第3の基板には、前記第3の表示電極に接続されている前記第3の基板の一方の端部近傍に引出された第3の引出電極が形成されており、
前記第1の基板、前記第2の基板及び前記第3の基板を積層した状態において、前記第1の引出電極、前記第2の引出電極及び第3の引出電極は、すべて露出していることを特徴とする請求項1または2に記載のエレクトロクロミック表示装置。
The porous membrane is a first porous membrane,
A third substrate on which a third display electrode is formed on the second porous film;
A third electrochromic layer formed on the third display electrode;
Have
The first substrate, the second substrate, and the third substrate are laminated,
A third extraction electrode is formed on the third substrate and is extracted near one end of the third substrate connected to the third display electrode.
In the state where the first substrate, the second substrate, and the third substrate are laminated, the first extraction electrode, the second extraction electrode, and the third extraction electrode are all exposed. The electrochromic display device according to claim 1 or 2.
前記第1の引出電極、前記第2の引出電極及び前記第3の引出電極は、前記第1の基板、前記第2の基板及び前記第3の基板の他方の端部近傍にも各々形成されているものであることを特徴とする請求項3に記載のエレクトロクロミック表示装置。   The first extraction electrode, the second extraction electrode, and the third extraction electrode are also formed in the vicinity of the other end of the first substrate, the second substrate, and the third substrate, respectively. The electrochromic display device according to claim 3, wherein the electrochromic display device is provided. 前記第1の引出電極は複数形成されており、
前記第2の引出電極は複数形成されていることを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載のエレクトロクロミック表示装置。
A plurality of the first extraction electrodes are formed,
The electrochromic display device according to any one of claims 1 to 4, wherein a plurality of the second extraction electrodes are formed.
前記対向電極の上には白色反射膜が形成されており、
前記第1のエレクトロクロミック層又は前記第2のエレクトロクロミック層が形成されている面と前記白色反射膜が形成されている面とが対向しているものであることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のエレクトロクロミック表示装置。
A white reflective film is formed on the counter electrode,
The surface on which the first electrochromic layer or the second electrochromic layer is formed and the surface on which the white reflective film is formed are opposed to each other. The electrochromic display device according to any one of 5.
表示基板の上に第1の表示電極が形成されている第1の基板と、前記第1の表示電極の上に形成されている第1のエレクトロクロミック層と、多孔質膜の上に第2の表示電極が形成されている第2の基板と、前記第2の表示電極の上に形成されている第2のエレクトロクロミック層と、表面に対向電極が形成されている対向基板と、前記表示電極と前記対向電極との間に入れられている電解質とを有するエレクトロクロミック表示装置の製造方法において、
前記第2の基板における前記第2の表示電極の表面の端部近傍をマスキングにより覆うマスキング工程と、
前記マスキング工程の後、前記第1の表示電極の表面に第1のエレクトロクロミック層を形成し、前記第2の表示電極の表面に第2のエレクトロクロミック層を形成するエレクトクロミック層形成工程と、
前記エレクトロクロミック層形成工程の後、前記第2の表示電極の表面を覆う前記マスキングを除去するマスキング除去工程と、
前記第2の基板において、前記マスキングのされていた領域の一部除去することにより、第2の引出電極を形成する引出電極形成工程と、
前記第1の基板において前記第1のエレクトロクロミック層が形成されている面と、前記第2の基板において前記第2のエレクトロクロミック層が形成されている面とは反対側の面とを対向させて、前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合せる貼り合せ工程と、
を有することを特徴とするエレクトロクロミック表示装置の製造方法。
A first substrate on which a first display electrode is formed on a display substrate, a first electrochromic layer formed on the first display electrode, and a second on a porous film A second substrate on which the display electrode is formed, a second electrochromic layer formed on the second display electrode, a counter substrate on which a counter electrode is formed, and the display In a method of manufacturing an electrochromic display device having an electrode and an electrolyte placed between the counter electrode,
A masking step of covering the vicinity of the edge of the surface of the second display electrode on the second substrate by masking;
After the masking step, an electrochromic layer forming step of forming a first electrochromic layer on the surface of the first display electrode and forming a second electrochromic layer on the surface of the second display electrode;
After the electrochromic layer forming step, a masking removing step for removing the masking covering the surface of the second display electrode;
An extraction electrode forming step of forming a second extraction electrode by removing a part of the masked region in the second substrate;
The surface of the first substrate on which the first electrochromic layer is formed is opposed to the surface of the second substrate opposite to the surface on which the second electrochromic layer is formed. A bonding step of bonding the first substrate and the second substrate;
A method of manufacturing an electrochromic display device, comprising:
前記多孔質膜は第1の多孔質膜であって、
第2の多孔質膜の上に第3の表示電極が形成されている第3の基板と、前記第3の表示電極の上に形成されている第3のエレクトロクロミック層を有しており、
前記マスキング工程において、前記第3の基板における前記第3の表示電極の表面の端部近傍をマスキングにより覆い、
前記エレクトクロミック層形成工程において、前記第3の表示電極の表面に第3のエレクトロクロミック層を形成し、
前記マスキング除去工程において、前記第3の表示電極の表面を覆う前記マスキングを除去し、
前記引出電極形成工程において、前記第3の基板において、前記マスキングのされていた領域の一部除去するものであることを特徴とする請求項7に記載のエレクトロクロミック表示装置の製造方法。
The porous membrane is a first porous membrane,
A third substrate on which a third display electrode is formed on the second porous film, and a third electrochromic layer formed on the third display electrode,
In the masking step, the vicinity of the edge of the surface of the third display electrode on the third substrate is covered by masking,
In the electrochromic layer forming step, a third electrochromic layer is formed on the surface of the third display electrode,
In the masking removal step, the masking covering the surface of the third display electrode is removed,
8. The method of manufacturing an electrochromic display device according to claim 7, wherein in the extraction electrode forming step, a part of the masked region is removed from the third substrate.
表示基板の上に第1の表示電極が形成されている第1の基板と、前記第1の表示電極の上に形成されている第1のエレクトロクロミック層と、多孔質膜の上に第2の表示電極が形成されている第2の基板と、前記第2の表示電極の上に形成されている第2のエレクトロクロミック層と、表面に対向電極が形成されている対向基板と、前記表示電極と前記対向電極との間に入れられている電解質とを有するエレクトロクロミック表示装置の製造方法において、
前記第2の基板の端部近傍を折曲げる折曲げ工程と、
前記折曲げ工程の後、前記第1の表示電極の表面に第1のエレクトロクロミック層を形成し、前記第2の表示電極の表面に第2のエレクトロクロミック層を形成するエレクトクロミック層形成工程と、
前記エレクトロクロミック層形成工程の後、前記第2の基板の折曲げられている部分を元に戻す折曲げ部分復帰工程と、
前記第2の基板において、前記折曲げられていた領域の一部除去することにより、第2の引出電極を形成する引出電極形成工程と、
前記第1の基板において前記第1のエレクトロクロミック層が形成されている面と、前記第2の基板において前記第2のエレクトロクロミック層が形成されている面とは反対側の面とを対向させて、前記第1の基板と前記第2の基板とを貼り合せる貼り合せ工程と、
を有することを特徴とするエレクトロクロミック表示装置の製造方法。
A first substrate on which a first display electrode is formed on a display substrate, a first electrochromic layer formed on the first display electrode, and a second on a porous film A second substrate on which the display electrode is formed, a second electrochromic layer formed on the second display electrode, a counter substrate on which a counter electrode is formed, and the display In a method of manufacturing an electrochromic display device having an electrode and an electrolyte placed between the counter electrode,
A bending step of bending the vicinity of the end of the second substrate;
An electrochromic layer forming step of forming a first electrochromic layer on the surface of the first display electrode and forming a second electrochromic layer on the surface of the second display electrode after the bending step; ,
After the electrochromic layer forming step, a bent portion return step for returning the bent portion of the second substrate,
An extraction electrode forming step of forming a second extraction electrode by removing a part of the bent region in the second substrate;
The surface of the first substrate on which the first electrochromic layer is formed is opposed to the surface of the second substrate opposite to the surface on which the second electrochromic layer is formed. A bonding step of bonding the first substrate and the second substrate;
A method of manufacturing an electrochromic display device, comprising:
前記多孔質膜は第1の多孔質膜であって、
第2の多孔質膜の上に第3の表示電極が形成されている第3の基板と、前記第3の表示電極の上に形成されている第3のエレクトロクロミック層を有しており、
前記折曲げ工程において、前記第3の基板の端部近傍を折曲げ、
前記エレクトクロミック層形成工程において、前記第3の表示電極の表面に第3のエレクトロクロミック層を形成し、
前記折曲げ部分復帰工程において、前記第2の基板の折曲げられている部分を元に戻し、
前記引出電極形成工程において、前記第3の基板において、前記折曲げられていた領域の一部除去することにより、第3の引出電極を形成するものであることを特徴とする請求項9に記載のエレクトロクロミック表示装置の製造方法。
The porous membrane is a first porous membrane,
A third substrate on which a third display electrode is formed on the second porous film, and a third electrochromic layer formed on the third display electrode,
In the bending step, the vicinity of the end of the third substrate is bent,
In the electrochromic layer forming step, a third electrochromic layer is formed on the surface of the third display electrode,
In the bent part return step, the bent part of the second substrate is restored,
The third extraction electrode is formed by removing a part of the bent region in the third substrate in the extraction electrode forming step. Manufacturing method of electrochromic display device.
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