JP2013163657A - Catalytic amidation reaction between ester and amine - Google Patents
Catalytic amidation reaction between ester and amine Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013163657A JP2013163657A JP2012027008A JP2012027008A JP2013163657A JP 2013163657 A JP2013163657 A JP 2013163657A JP 2012027008 A JP2012027008 A JP 2012027008A JP 2012027008 A JP2012027008 A JP 2012027008A JP 2013163657 A JP2013163657 A JP 2013163657A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- compound
- atom
- represented
- halo
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C231/00—Preparation of carboxylic acid amides
- C07C231/02—Preparation of carboxylic acid amides from carboxylic acids or from esters, anhydrides, or halides thereof by reaction with ammonia or amines
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C253/00—Preparation of carboxylic acid nitriles
- C07C253/30—Preparation of carboxylic acid nitriles by reactions not involving the formation of cyano groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D295/00—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms
- C07D295/16—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms
- C07D295/18—Heterocyclic compounds containing polymethylene-imine rings with at least five ring members, 3-azabicyclo [3.2.2] nonane, piperazine, morpholine or thiomorpholine rings, having only hydrogen atoms directly attached to the ring carbon atoms acylated on ring nitrogen atoms by radicals derived from carboxylic acids, or sulfur or nitrogen analogues thereof
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C2601/00—Systems containing only non-condensed rings
- C07C2601/12—Systems containing only non-condensed rings with a six-membered ring
- C07C2601/14—The ring being saturated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
Description
本発明はアミド化合物の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing an amide compound.
カルボン酸アミド化合物（以下、アミド化合物と表記する）は、多くの機能性有機化合物（高分子化合物、医薬、農薬等）又はその原料として有用である。このアミド化合物の製造方法としてこれまでに多くの報告例があるが、工業的スケールで効率よくアミド化合物を製造し得る方法は必ずしも多くない。 Carboxylic acid amide compounds (hereinafter referred to as amide compounds) are useful as many functional organic compounds (polymer compounds, pharmaceuticals, agricultural chemicals, etc.) or their raw materials. There have been many reported examples of a method for producing this amide compound, but there are not always many methods for efficiently producing an amide compound on an industrial scale.
アミド化合物の製造方法として、カルボン酸エステルと第１級又は第２級アミン化合物の縮合反応を経てアミド化合物を製造する方法が種々報告されている。 As a method for producing an amide compound, various methods for producing an amide compound through a condensation reaction of a carboxylic acid ester and a primary or secondary amine compound have been reported.
例えば、非特許文献１には、カルボン酸エステルと第１級アミンを、ＤＭＦ中、１３５℃でマイクロ波処理することによりアミド化合物を製造する方法が報告されている。しかし、工業的に大スケールで製造するには使用困難なマイクロ波を用いており、その反応収率も低いため、満足いく方法ではない。
For example, Non-Patent
本発明は、カルボン酸エステル化合物と第１級又は第２級モノアミン化合物から、効率的にアミド化合物を製造する方法をを提供することを課題とする。 An object of the present invention is to provide a method for efficiently producing an amide compound from a carboxylic acid ester compound and a primary or secondary monoamine compound.
本発明者等は、上記の課題を解決すべく鋭意検討した結果、金属又は半金属原子に少なくとも１つのアルコキシ基が結合してなる触媒の存在下、カルボン酸エステル化合物及び第１級又は第２級モノアミン化合物を反応させることにより、効率的にアミド化合物を製造できることを見出した。かかる知見に基づき、更に検討を重ねた結果本発明を完成するに至った。 As a result of intensive studies to solve the above-mentioned problems, the present inventors have found that a carboxylic acid ester compound and a primary or second compound in the presence of a catalyst in which at least one alkoxy group is bonded to a metal or metalloid atom. It has been found that an amide compound can be produced efficiently by reacting a secondary monoamine compound. As a result of further studies based on this finding, the present invention has been completed.
即ち、本発明は以下の製造方法を提供する。
［項１］ 金属又は半金属原子に少なくとも１個のアルコキシ基が結合してなる触媒の存在下、カルボン酸エステル化合物及び第１級又は第２級モノアミン化合物を反応させることを特徴とするアミド化合物の製造方法。
［項２］ 前記触媒を構成する金属又は半金属原子がＴｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ又はＭｇである項１に記載の製造方法。
［項３］ 前記触媒が、一般式（１）：
Ｍ（ＯＲ）ｍＸｎ （１）
（式中、ＭはＴｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ又はＭｇであり、Ｒはアルキル基であり、Ｘはハロゲン原子であり、ｍ及びｎはそれぞれ０〜３の整数であり、ＭがＴｉ又はＺｒのとき、ｍ＋ｎ＝４かつｍ≧１であり、ＭがＡｌ又はＢのとき、ｍ＋ｎ＝３かつｍ≧１であり、ＭがＭｇのとき、ｍ＋ｎ＝２かつｍ≧１である。）
で表される化合物である項１又は２に記載の製造方法。
［項４］ さらにモレキュラーシーブの存在下に反応させる項１〜３のいずれか１項に記載の製造方法。
［項５］ 前記触媒が、一般式（１）において、ＭがＴｉ又はＺｒである化合物である項３又は４に記載の製造方法。
［項６］ 前記触媒が、一般式（１）において、ＭがＡｌ又はＢである化合物である項３又は４に記載の製造方法。
［項７］ 前記触媒が、一般式（１）において、ＭがＭｇである化合物である項３又は４に記載の製造方法。
［項８］ 前記第１級又は第２級モノアミン化合物１モルに対し、前記触媒を０．０５〜０．３モル使用する項１〜７のいずれか１項に記載の製造方法。
［項９］ 前記カルボン酸エステル化合物及び第１級又は第２級モノアミン化合物の反応を、芳香族炭化水素系溶媒又はハロゲン置換芳香族炭化水素系溶媒中で行う項１〜８のいずれか１項に記載の製造方法。
［項１０］ 前記カルボン酸エステル化合物が、モノカルボン酸エステル化合物である項１〜９のいずれか１項に記載の製造方法。
［項１１］ 前記カルボン酸エステル化合物が、一般式（２）：
Ｒ１−（Ｖ）ｐ−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ４ （２）
（式中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ハロ低級アルキル基、ハロ低級アルケニル基、ハロ低級アルキニル基、環式炭化水素基又はヘテロ環式基であり、このうち当該環式炭化水素基及びヘテロ環式基はそれぞれ、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ハロ低級アルキル基、ハロ低級アルケニル基、ハロ低級アルキニル基、及び低級アルキレンジオキシ基からなる群より選ばれる少なくとも１個の基で置換されていてもよく、Ｖは、アルキレン基又はアルケニレン基であり、これらの基はそれぞれ、ハロゲン原子、オキソ基、水酸基、シアノ基、ビニル基、エチニル基及びアルコキシ基からなる群より選ばれる少なくとも１個の基で置換されていてもよく、ｐは０又は１であり、Ｒ４は低級アルキル基である。）
で表される化合物であり、前記第１級又は第２級モノアミン化合物が、一般式（３）：
ＨＮＲ２Ｒ３ （３）
（式中、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ、水素原子又は式：−（Ｗ）ｑ−Ｚで表される基であり、Ｗはアルキレン基であり、ｑは０又は１であり、Ｚは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ハロ低級アルキル基、ハロ低級アルケニル基、ハロ低級アルキニル基、環式炭化水素基又はヘテロ環式基であり、このうち当該環式炭化水素基及びヘテロ環式基はそれぞれ置換基を有していてもよく、或いは、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して隣接する窒素原子と共に含窒素ヘテロ環を形成していてもよく、但し、Ｒ２及びＲ３が共に水素原子の場合を除く。）
で表される化合物であり、前記アミド化合物が、一般式（４）：
Ｒ１−（Ｖ）ｐ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２Ｒ３ （４）
（式中、Ｒ１、Ｖ、ｐ、Ｒ２及びＲ３は前記に同じ。）
で表される化合物である項１〜１０のいずれか１項に記載の製造方法。
That is, this invention provides the following manufacturing methods.
[Item 1] An amide compound comprising reacting a carboxylic acid ester compound and a primary or secondary monoamine compound in the presence of a catalyst in which at least one alkoxy group is bonded to a metal or metalloid atom. Manufacturing method.
[Item 2] The method according to
[Claim 3] The catalyst is represented by the general formula (1):
M (OR) m X n (1)
(In the formula, M is Ti, Zr, Al, B or Mg, R is an alkyl group, X is a halogen atom, m and n are each an integer of 0 to 3, and M is Ti or Zr. M + n = 4 and m ≧ 1, m + n = 3 and m ≧ 1 when M is Al or B, and m + n = 2 and m ≧ 1 when M is Mg.)
[Item 4] The method according to any one of
CLAIM |
CLAIM |
CLAIM | ITEM 7 The manufacturing method of claim |
[Item 8] The production method according to any one of
[Item 9] Any one of
CLAIM | ITEM 10 The manufacturing method of any one of claim | item 1 -9 whose said carboxylic acid ester compound is a monocarboxylic acid ester compound.
[Item 11] The carboxylic acid ester compound is represented by the general formula (2):
R 1 - (V) p -C (= O) -OR 4 (2)
Wherein R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a halo lower alkyl group, a halo lower alkenyl group, a halo lower alkynyl group, or a cyclic hydrocarbon group. Or a heterocyclic group, in which the cyclic hydrocarbon group and the heterocyclic group are each a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a halo-lower alkyl group, a halo-lower group. It may be substituted with at least one group selected from the group consisting of an alkenyl group, a halo lower alkynyl group, and a lower alkylenedioxy group, and V is an alkylene group or an alkenylene group, each of which is Selected from the group consisting of halogen atoms, oxo groups, hydroxyl groups, cyano groups, vinyl groups, ethynyl groups and alkoxy groups And optionally substituted with at least one selected group, p is 0 or 1, and R 4 is a lower alkyl group.)
In which the primary or secondary monoamine compound is represented by the general formula (3):
HNR 2 R 3 (3)
(In the formula, R 2 and R 3 are each a hydrogen atom or a group represented by the formula:-(W) q -Z, W is an alkylene group, q is 0 or 1, and Z is hydrogen. Atom, halogen atom, lower alkyl group, lower alkoxy group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, halo lower alkyl group, halo lower alkenyl group, halo lower alkynyl group, cyclic hydrocarbon group or heterocyclic group, Of these, the cyclic hydrocarbon group and the heterocyclic group may each have a substituent, or R 2 and R 3 are bonded to each other to form a nitrogen-containing heterocycle together with the adjacent nitrogen atom. Except that R 2 and R 3 are both hydrogen atoms.)
The amide compound is represented by the general formula (4):
R 1 - (V) p -C (= O) -NR 2 R 3 (4)
(In the formula, R 1 , V, p, R 2 and R 3 are the same as above.)
The manufacturing method of any one of claim | item 1 -10 which is a compound represented by these.
本発明の製造方法によれば、カルボン酸エステル化合物と第１級又は第２級モノアミン化合物から、効率的にアミド化合物を製造することができる。そのため、工業的スケールにおけるアミド化合物の製造方法として有用である。 According to the production method of the present invention, an amide compound can be efficiently produced from a carboxylic acid ester compound and a primary or secondary monoamine compound. Therefore, it is useful as a method for producing an amide compound on an industrial scale.
本発明のアミド化合物の製造方法は、金属又は半金属原子に少なくとも１個のアルコキシ基が結合してなる触媒の存在下、必要に応じ溶媒の存在下、カルボン酸エステル化合物及び第１級又は第２級モノアミン化合物を反応させることを特徴とする。本発明の製造方法は、多様な原料を用いて効率的にアミド化合物を製造することができる汎用性の高い方法である。
［カルボン酸エステル化合物］
本発明で用いるカルボン酸エステル化合物は、分子内にカルボン酸エステル基（例えば、カルボン酸低級アルキルエステル基）を有する化合物であれば特に限定はない。カルボン酸エステル基は、通常、分子内に少なくとも１個有していればよく、好ましくは１〜３個、より好ましくは１個である。
The method for producing an amide compound of the present invention comprises a carboxylic acid ester compound and a primary or primary compound in the presence of a catalyst in which at least one alkoxy group is bonded to a metal or metalloid atom, and optionally in the presence of a solvent. A secondary monoamine compound is reacted. The production method of the present invention is a highly versatile method capable of efficiently producing an amide compound using various raw materials.
[Carboxylic ester compounds]
The carboxylic acid ester compound used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a carboxylic acid ester group (for example, a carboxylic acid lower alkyl ester group) in the molecule. Usually, it is sufficient that at least one carboxylic acid ester group is present in the molecule, preferably 1 to 3, more preferably 1.
カルボン酸エステル化合物としては、例えば、一般式（２）：
Ｒ１−（Ｖ）ｐ−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ４ （２）
（式中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ハロ低級アルキル基、ハロ低級アルケニル基、ハロ低級アルキニル基、環状炭化水素基又はヘテロ環式基であり、このうち当該環状炭化水素基及びヘテロ環式基はそれぞれ、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ハロ低級アルキル基、ハロ低級アルケニル基、ハロ低級アルキニル基、及び低級アルキレンジオキシ基からなる群より選ばれる少なくとも１個の基で置換されていてもよく、Ｖは、アルキレン基又はアルケニレン基であり、これらの基はそれぞれ、ハロゲン原子、オキソ基、水酸基、シアノ基、ビニル基、エチニル基及びアルコキシ基からなる群より選ばれる少なくとも１個の基で置換されていてもよく、ｐは０又は１であり、Ｒ４は低級アルキル基である。）で表される化合物が挙げられる。
Examples of the carboxylic acid ester compound include the general formula (2):
R 1 - (V) p -C (= O) -OR 4 (2)
(Wherein R 1 represents a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a halo lower alkyl group, a halo lower alkenyl group, a halo lower alkynyl group, a cyclic hydrocarbon group or A heterocyclic group, wherein the cyclic hydrocarbon group and the heterocyclic group are a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a halo-lower alkyl group, and a halo-lower alkenyl group, respectively. , A halo lower alkynyl group, and a lower alkylenedioxy group, which may be substituted with at least one group selected from the group consisting of a lower alkylenedioxy group, V is an alkylene group or an alkenylene group, each of which is a halogen atom , Oxo group, hydroxyl group, cyano group, vinyl group, ethynyl group and alkoxy group. And at least one group may be substituted, p is 0 or 1, and R 4 is a lower alkyl group.).
Ｒ１で示されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。 Examples of the halogen atom represented by R 1 include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.
Ｒ１で示される「低級アルキル基」としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等の直鎖又は分岐鎖のＣ１〜６アルキル基が挙げられる。 Examples of the “lower alkyl group” represented by R 1 include linear or branched C 1-6 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group.
Ｒ１で示される「低級アルコキシ基」としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の直鎖又は分岐鎖のＣ１〜６アルキル基が挙げられる。 Examples of the “lower alkoxy group” represented by R 1 include linear or branched C 1-6 alkyl groups such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, and a butoxy group.
Ｒ１で示される「低級アルケニル基」としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基等の直鎖又は分岐鎖のＣ１〜６アルケニル基が挙げられる。 Examples of the “lower alkenyl group” represented by R 1 include linear or branched C 1-6 alkenyl groups such as vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group and the like. Is mentioned.
Ｒ１で示される「低級アルキニル基」としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、１−ペンチニル基、１−ヘキシニル基等の直鎖又は分岐鎖のＣ１〜６アルキニル基が挙げられる。 Examples of the “lower alkynyl group” represented by R 1 include linear or branched C 1-6 alkynyl groups such as ethynyl group, 1-propynyl group, 1-butynyl group, 1-pentynyl group, 1-hexynyl group and the like. Is mentioned.
Ｒ１で示される「ハロ低級アルキル基」としては、上記の低級アルキル基において、少なくとも１個の水素原子がハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）で置換された基であり、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等が挙げられる。 The “halo lower alkyl group” represented by R 1 is a group in which at least one hydrogen atom is substituted with a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) in the above lower alkyl group. Examples thereof include a trifluoromethyl group and a pentafluoroethyl group.
Ｒ１で示される「ハロ低級アルケニル基」としては、上記の低級アルケニル基において、少なくとも１個の水素原子がハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）で置換された基であり、例えば、２−フルオロビニル基、２，２−ジフルオロビニル基、２，２−ジクロロビニル基、２-フルオロ−１−プロペニル基、２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペニル基が挙げられる。 The “halo lower alkenyl group” represented by R 1 is a group in which at least one hydrogen atom in the above lower alkenyl group is substituted with a halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.). For example, a 2-fluorovinyl group, 2,2-difluorovinyl group, 2,2-dichlorovinyl group, 2-fluoro-1-propenyl group, 2,3,3,3-tetrafluoro-1-propenyl group Can be mentioned.
Ｒ１で示される「ハロ低級アルキニル基」としては、上記の低級アルキニル基において、少なくとも１個の水素原子がハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）で置換された基であり、例えば、２−フルオロエチニル基、３，３−ジフルオロ−１−プロピニル基、３，３，３−トリフルオロ−１−プロピニル基、４，４，４−トリフルオロ−１−ブチニル基、３，３，４，４，４−ペンタフルオロ−１−ブチニル基が挙げられる。 The “halo lower alkynyl group” represented by R 1 is a group obtained by substituting at least one hydrogen atom with a halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.) in the above lower alkynyl group. For example, 2-fluoroethynyl group, 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, 3, A 3,4,4,4-pentafluoro-1-butynyl group may be mentioned.
Ｒ１で示される「環式炭化水素基」としては、単環式又は二環式の炭化水素基が挙げられ、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、フェニル基等の３〜７員単環式炭化水素基；ナフチル基、テトラリニル基、インデニル基等の９〜１０員二環式炭化水素基が挙げられる。 Examples of the “cyclic hydrocarbon group” represented by R 1 include monocyclic or bicyclic hydrocarbon groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, phenyl, and the like. 3-7 membered monocyclic hydrocarbon group such as a group; 9-10 membered bicyclic hydrocarbon group such as naphthyl group, tetralinyl group, indenyl group and the like.
Ｒ１で示される「ヘテロ環式基」としては、単環式又は二環式のヘテロ環式基が挙げられ、例えば、チエニル基、フリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、ピリジル基、ピリミジニル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ピロリル基、オキセタニル基、テトラヒドロフリル基、１，３−ジオキソラニル基、テトラヒドロピラニル基、ピロリジリル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基等の酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選択される１〜４個のヘテロ原子を含む５〜６員単環式ヘテロ環式基；ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、インドリル基、イソインドリル基、イミダゾピリジル基、キノリル基、イソキノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、テトラヒドロキノリル基、テトラヒドロイソキノリル基、ジヒドロベンゾピラニル基等の酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選択される１〜４個のヘテロ原子を含む９〜１０員二環式ヘテロ環式基が挙げられる。好ましくは、オキセタニル基、テトラヒドロフリル基、１，３−ジオキソラニル基、テトラヒドロピラニル基等の酸素原子を１又は２個含む５〜６員単環式ヘテロ環式基が挙げられる。 Examples of the “heterocyclic group” represented by R 1 include monocyclic or bicyclic heterocyclic groups such as thienyl group, furyl group, pyrazolyl group, imidazolyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, Thiazolyl group, pyridyl group, pyrimidinyl group, triazolyl group, tetrazolyl group, pyrrolyl group, oxetanyl group, tetrahydrofuryl group, 1,3-dioxolanyl group, tetrahydropyranyl group, pyrrolidyl group, piperidyl group, piperazinyl group, morpholinyl group, etc. 5- to 6-membered monocyclic heterocyclic group containing 1 to 4 heteroatoms selected from oxygen atom, nitrogen atom and sulfur atom; benzofuryl group, benzothienyl group, indolyl group, isoindolyl group, imidazopyridyl group, Quinolyl, isoquinolyl, phthalazinyl, naphthyridinyl, quino 9 to 4 containing 1 to 4 heteroatoms selected from oxygen atom, nitrogen atom and sulfur atom such as xalinyl group, quinazolinyl group, cinnolinyl group, tetrahydroquinolyl group, tetrahydroisoquinolyl group and dihydrobenzopyranyl group A 10-membered bicyclic heterocyclic group is mentioned. Preferably, 5- to 6-membered monocyclic heterocyclic groups containing 1 or 2 oxygen atoms such as oxetanyl group, tetrahydrofuryl group, 1,3-dioxolanyl group, tetrahydropyranyl group and the like can be mentioned.
当該環状炭化水素基及びヘテロ環式基はそれぞれ、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ハロ低級アルキル基、ハロ低級アルケニル基、ハロ低級アルキニル基及び低級アルキレンジオキシ基からなる群より選ばれる少なくとも１個（好ましくは１〜３個、より好ましくは１又は２個）の基で置換されていてもよい。 The cyclic hydrocarbon group and the heterocyclic group are respectively a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a halo lower alkyl group, a halo lower alkenyl group, a halo lower alkynyl group and a lower alkylene group. It may be substituted with at least one (preferably 1 to 3, more preferably 1 or 2) group selected from the group consisting of oxy groups.
ここで、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。 Here, as a halogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom etc. are mentioned, for example.
低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等の直鎖又は分岐鎖のＣ１〜６アルキル基が挙げられる。 Examples of the lower alkyl group include linear or branched C1-6 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group.
低級アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の直鎖又は分岐鎖のＣ１〜６アルキル基が挙げられる。 As a lower alkoxy group, linear or branched C1-6 alkyl groups, such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, a butoxy group, are mentioned, for example.
低級アルケニル基としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基等の直鎖又は分岐鎖のＣ１〜６アルケニル基が挙げられる。 As a lower alkenyl group, linear or branched C1-6 alkenyl groups, such as a vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, are mentioned, for example.
低級アルキニル基としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、１−ペンチニル基、１−ヘキシニル基等の直鎖又は分岐鎖のＣ１〜６アルキニル基が挙げられる。 As a lower alkynyl group, linear or branched C1-6 alkynyl groups, such as an ethynyl group, 1-propynyl group, 1-butynyl group, 1-pentynyl group, 1-hexynyl group, are mentioned, for example.
ハロ低級アルキル基としては、上記の低級アルキル基において、少なくとも１個の水素原子がハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）で置換された基であり、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等が挙げられる。 The halo lower alkyl group is a group in which at least one hydrogen atom is substituted with a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) in the above lower alkyl group, for example, a trifluoromethyl group And pentafluoroethyl group.
ハロ低級アルケニル基としては、上記の低級アルケニル基において、少なくとも１個の水素原子がハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）で置換された基であり、例えば、２−フルオロビニル基、２，２−ジフルオロビニル基、２，２−ジクロロビニル基、２-フルオロ−１−プロペニル基、２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペニル基が挙げられる。 The halo-lower alkenyl group is a group in which at least one hydrogen atom in the above-mentioned lower alkenyl group is substituted with a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), for example, 2-fluorovinyl Group, 2,2-difluorovinyl group, 2,2-dichlorovinyl group, 2-fluoro-1-propenyl group, 2,3,3,3-tetrafluoro-1-propenyl group.
ハロ低級アルキニル基としては、上記の低級アルキニル基において、少なくとも１個の水素原子がハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）で置換された基であり、例えば、２−フルオロエチニル基、３，３−ジフルオロ−１−プロピニル基、３，３，３−トリフルオロ−１−プロピニル基、４，４，４−トリフルオロ−１−ブチニル基、３，３，４，４，４−ペンタフルオロ−１−ブチニル基が挙げられる。 The halo-lower alkynyl group is a group in which at least one hydrogen atom in the above-described lower alkynyl group is substituted with a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), for example, 2-fluoroethynyl Group, 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, 3,3,4,4,4 -A pentafluoro-1-butynyl group is mentioned.
低級アルキレンジオキシ基としては、例えば、メチレンジオキシ基、エチレンジオキシ基等のＣ１〜３アルキレンジオキシ基が挙げられる。 Examples of the lower alkylenedioxy group include C1-3 alkylenedioxy groups such as a methylenedioxy group and an ethylenedioxy group.
Ｖで示される「アルキレン基」としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等の直鎖又は分岐鎖のＣ１〜１０のアルキレン基が挙げられる。 Examples of the “alkylene group” represented by V include linear or branched C1-10 alkylene groups such as a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, and a hexamethylene group. .
Ｖで示される「アルケニレン基」としては、例えば、少なくとも１個（好ましくは、１〜３個）の二重結合を有する直鎖又は分岐鎖のＣ２〜２０のアルケニレン基が挙げられる。好ましくは、例えば、一般式（５）： Examples of the “alkenylene group” represented by V include a linear or branched C 2-20 alkenylene group having at least one (preferably 1 to 3) double bond. Preferably, for example, the general formula (5):
（式中、ｓは０〜１０の整数であり、Ｒ５及びＲ６は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原子、又はＣ１〜３アルキル基であり、ｒは１、２又は３（好ましくは１又は２）であり、ｒが２又は３の場合、Ｒ５及びＲ６のそれぞれは同一又は異なっていてもよい。）
で表される二価の基が挙げられる。
(In the formula, s is an integer of 0 to 10, R 5 and R 6 are the same or different, and are a hydrogen atom, a halogen atom, or a C1-3 alkyl group, and r is 1, 2 or 3 (preferably Is 1 or 2), and when r is 2 or 3, each of R 5 and R 6 may be the same or different.)
The bivalent group represented by these is mentioned.
一般式（５）の構造式の左側の「・」印がＲ１と結合する位置を表し、構造式の右側の「・」印がカルボニル炭素（Ｃ＝Ｏ）と結合する位置を表す。一般式（５）の構造式において二重結合に由来する幾何異性体（Ｅ体又はＺ体）の全てを包含する。 The “•” mark on the left side of the structural formula of the general formula (5) represents the position bonded to R 1, and the “•” mark on the right side of the structural formula represents the position bonded to the carbonyl carbon (C═O). It includes all geometric isomers (E-form or Z-form) derived from double bonds in the structural formula of the general formula (5).
一般式（５）において好ましくは、ｓは０〜６の整数であり、ｒが１又は２である。 In the general formula (5), preferably, s is an integer of 0 to 6, and r is 1 or 2.
Ｖで示される「アルキレン基」又は「アルケニレン基」は、ハロゲン原子、オキソ基、水酸基、シアノ基、ビニル基、エチニル基及びＣ１〜６アルコキシ基からなる群より選ばれる少なくとも１個（好ましくは１〜３個、特に１個）の基で置換されていてもよい。 The “alkylene group” or “alkenylene group” represented by V is at least one selected from the group consisting of a halogen atom, an oxo group, a hydroxyl group, a cyano group, a vinyl group, an ethynyl group, and a C1-6 alkoxy group (preferably 1 May be substituted with ~ 3, especially 1) groups.
ｐは０又は１であり、好ましくは１である。 p is 0 or 1, preferably 1.
Ｒ４で示される低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基等のＣ１〜３アルキル基が挙げられる。
［第１級又は第２級モノアミン化合物］
本発明で用いる第１級又は第２級モノアミン化合物は、分子内に反応性の窒素原子を１個有する第１級又は第２級アミン化合物であり、かかる化合物であれば特に限定はない。
Examples of the lower alkyl group represented by R 4 include C1-3 alkyl groups such as a methyl group and an ethyl group.
[Primary or secondary monoamine compound]
The primary or secondary monoamine compound used in the present invention is a primary or secondary amine compound having one reactive nitrogen atom in the molecule, and there is no particular limitation as long as it is such a compound.
第１級又は第２級モノアミン化合物としては、例えば、一般式（３）：
ＨＮＲ２Ｒ３ （３）
（式中、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ、水素原子又は式：−（Ｗ）ｑ−Ｚで表される基であり、Ｗはアルキレン基であり、ｑは０又は１であり、Ｚは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ハロ低級アルキル基、ハロ低級アルケニル基、ハロ低級アルキニル基、環状炭化水素基又はヘテロ環式基であり、このうち当該環式炭化水素基及びヘテロ環式基はそれぞれ置換基を有していてもよく、或いは、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して隣接する窒素原子と共に含窒素ヘテロ環を形成していてもよく、但し、Ｒ２及びＲ３が共に水素原子の場合を除く。）
で表される化合物が挙げられる。
Examples of the primary or secondary monoamine compound include the general formula (3):
HNR 2 R 3 (3)
(In the formula, R 2 and R 3 are each a hydrogen atom or a group represented by the formula:-(W) q -Z, W is an alkylene group, q is 0 or 1, and Z is hydrogen. An atom, a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a halo lower alkyl group, a halo lower alkenyl group, a halo lower alkynyl group, a cyclic hydrocarbon group, or a heterocyclic group. The cyclic hydrocarbon group and the heterocyclic group may each have a substituent, or R 2 and R 3 are bonded to each other to form a nitrogen-containing heterocycle with an adjacent nitrogen atom. Except that R 2 and R 3 are both hydrogen atoms.)
The compound represented by these is mentioned.
Ｗで示される「アルキレン基」としては、例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等のＣ１〜１０アルキレン基（好ましくはＣ１〜６アルキレン基）が挙げられる。より好ましくはメチレン基である。 Examples of the “alkylene group” represented by W include C1-10 alkylene groups such as methylene group, ethylene group, trimethylene group, methylmethylene group, dimethylmethylene group, tetramethylene group, pentamethylene group and hexamethylene group (preferably Is a C1-6 alkylene group). More preferred is a methylene group.
ｑは０又は１である。 q is 0 or 1.
Ｚで示される「ハロゲン原子」としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。 Examples of the “halogen atom” represented by Z include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom.
Ｚで示される「低級アルキル基」としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基等の直鎖又は分岐鎖のＣ１〜６アルキル基が挙げられる。 Examples of the “lower alkyl group” represented by Z include linear or branched C1-6 alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, and a butyl group.
Ｚで示される「低級アルコキシ基」としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の直鎖又は分岐鎖のＣ１〜６アルキル基が挙げられる。 Examples of the “lower alkoxy group” represented by Z include linear or branched C1-6 alkyl groups such as a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, an isopropoxy group, and a butoxy group.
Ｚで示される「低級アルケニル基」としては、例えば、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル基、１−ペンテニル基、１−ヘキセニル基等の直鎖又は分岐鎖のＣ１〜６アルケニル基が挙げられる。 Examples of the “lower alkenyl group” represented by Z include linear or branched C1-6 alkenyl groups such as vinyl group, 1-propenyl group, 1-butenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group and the like. Can be mentioned.
Ｚで示される「低級アルキニル基」としては、例えば、エチニル基、１−プロピニル基、１−ブチニル基、１−ペンチニル基、１−ヘキシニル基等の直鎖又は分岐鎖のＣ１〜６アルキニル基が挙げられる。 Examples of the “lower alkynyl group” represented by Z include linear or branched C 1-6 alkynyl groups such as ethynyl group, 1-propynyl group, 1-butynyl group, 1-pentynyl group, 1-hexynyl group and the like. Can be mentioned.
Ｚで示される「ハロ低級アルキル基」としては、上記の低級アルキル基において、少なくとも１個の水素原子がハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）で置換された基であり、例えば、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基等が挙げられる。 The “halo lower alkyl group” represented by Z is a group in which at least one hydrogen atom is substituted with a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) in the above lower alkyl group, For example, a trifluoromethyl group, a pentafluoroethyl group, etc. are mentioned.
Ｚで示される「ハロ低級アルケニル基」としては、上記の低級アルケニル基において、少なくとも１個の水素原子がハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）で置換された基であり、例えば、２−フルオロビニル基、２，２−ジフルオロビニル基、２，２−ジクロロビニル基、２-フルオロ−１−プロペニル基、２，３，３，３−テトラフルオロ−１−プロペニル基が挙げられる。 The “halo lower alkenyl group” represented by Z is a group in which at least one hydrogen atom in the above lower alkenyl group is substituted with a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) For example, 2-fluorovinyl group, 2,2-difluorovinyl group, 2,2-dichlorovinyl group, 2-fluoro-1-propenyl group, 2,3,3,3-tetrafluoro-1-propenyl group It is done.
Ｚで示される「ハロ低級アルキニル基」としては、上記の低級アルキニル基において、少なくとも１個の水素原子がハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）で置換された基であり、例えば、２−フルオロエチニル基、３，３−ジフルオロ−１−プロピニル基、３，３，３−トリフルオロ−１−プロピニル基、４，４，４−トリフルオロ−１−ブチニル基、３，３，４，４，４−ペンタフルオロ−１−ブチニル基が挙げられる。 The “halo-lower alkynyl group” represented by Z is a group in which at least one hydrogen atom in the above-mentioned lower alkynyl group is substituted with a halogen atom (for example, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.) For example, 2-fluoroethynyl group, 3,3-difluoro-1-propynyl group, 3,3,3-trifluoro-1-propynyl group, 4,4,4-trifluoro-1-butynyl group, 3,3 , 4,4,4-pentafluoro-1-butynyl group.
Ｚで示される「環式炭化水素基」としては、単環式又は二環式の炭化水素基が挙げられ、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、フェニル基等の３〜７員単環式炭化水素基；ナフチル基、テトラリニル基、インデニル基等の９〜１０員二環式炭化水素基が挙げられる。 Examples of the “cyclic hydrocarbon group” represented by Z include monocyclic or bicyclic hydrocarbon groups such as cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, cycloheptyl group, and phenyl group. 3 to 7-membered monocyclic hydrocarbon groups such as 9 to 10-membered bicyclic hydrocarbon groups such as naphthyl group, tetralinyl group and indenyl group.
Ｚで示される「ヘテロ環式基」としては、単環式又は二環式のヘテロ環式基が挙げられ、例えば、チエニル基、フリル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、ピリジル基、ピリミジニル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、ピロリル基、オキセタニル基、テトラヒドロフリル基、１，３−ジオキソラニル基、ジオキサニル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、ピロリジリル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、モルホリニル基等の酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選択される１〜４個のヘテロ原子を含む５〜６員単環式ヘテロ環式基；ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、インドリル基、イソインドリル基、イミダゾピリジル基、キノリル基、イソキノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、キナゾリニル基、シンノリニル基、テトラヒドロキノリル基、テトラヒドロイソキノリル基、ジヒドロベンゾピラニル基等の酸素原子、窒素原子及び硫黄原子から選択される１〜４個のヘテロ原子を含む９〜１０員二環式ヘテロ環式基が挙げられる。好ましくは、オキセタニル基、テトラヒドロフリル基、１，３−ジオキソラニル基、テトラヒドロピラニル基等の酸素原子を１又は２個含む５〜６員単環式ヘテロ環式基が挙げられる。 Examples of the “heterocyclic group” represented by Z include monocyclic or bicyclic heterocyclic groups such as thienyl group, furyl group, pyrazolyl group, imidazolyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, thiazolyl group. Group, pyridyl group, pyrimidinyl group, triazolyl group, tetrazolyl group, pyrrolyl group, oxetanyl group, tetrahydrofuryl group, 1,3-dioxolanyl group, dioxanyl group, tetrahydropyranyl group, tetrahydrothiopyranyl group, pyrrolidylyl group, piperidyl group 5- to 6-membered monocyclic heterocyclic group containing 1 to 4 heteroatoms selected from oxygen atom, nitrogen atom and sulfur atom such as piperazinyl group and morpholinyl group; benzofuryl group, benzothienyl group and indolyl group , Isoindolyl group, imidazopyridyl group, quinolyl group, isoquinolyl group 1-4 selected from oxygen atom, nitrogen atom and sulfur atom such as phthalazinyl group, naphthyridinyl group, quinoxalinyl group, quinazolinyl group, cinnolinyl group, tetrahydroquinolyl group, tetrahydroisoquinolyl group, dihydrobenzopyranyl group 9-10 membered bicyclic heterocyclic group containing the hetero atom of these. Preferably, 5- to 6-membered monocyclic heterocyclic groups containing 1 or 2 oxygen atoms such as oxetanyl group, tetrahydrofuryl group, 1,3-dioxolanyl group, tetrahydropyranyl group and the like can be mentioned.
Ｚで示される「環式炭化水素基」又は「ヘテロ環式基」は、それぞれ置換基を有していてもよく、例えば、Ｃ１〜３アルキル基（メチル基等）、Ｃ１〜３アルコキシ基（メトキシ基等）、ハロゲン原子等からなる群より選ばれる少なくとも１個（さらに１〜３個、特に１個）の基で置換されていてもよい。 The “cyclic hydrocarbon group” or “heterocyclic group” represented by Z may have a substituent, for example, a C1-3 alkyl group (such as a methyl group), a C1-3 alkoxy group ( A methoxy group or the like), a halogen atom or the like, and may be substituted with at least one (more preferably 1 to 3, particularly 1) group selected from the group consisting of.
Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して隣接する窒素原子と共に含窒素ヘテロ環を形成していてもよく、当該含窒素ヘテロ環としては、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、モルホリン、インドリン、イソインドリン等が挙げられる。
［アミド化合物］
カルボン酸エステル化合物と第１級又は第２級モノアミン化合物から縮合反応を経てアミド化合物を与える。
R 2 and R 3 may be bonded to each other to form a nitrogen-containing heterocycle together with the adjacent nitrogen atom. Examples of the nitrogen-containing heterocycle include pyrrolidine, piperidine, piperazine, morpholine, indoline, isoindoline, and the like. Can be mentioned.
[Amide compound]
An amide compound is obtained from a carboxylic acid ester compound and a primary or secondary monoamine compound through a condensation reaction.
アミド化合物としては、一般式（４）：
Ｒ１−（Ｖ）ｐ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２Ｒ３ （４）
（式中、Ｒ１、Ｖ、ｐ、Ｒ２及びＲ３は前記に同じ。）
で表される化合物が挙げられる。
［触媒］
本発明で使用する金属又は半金属原子に少なくとも１個のアルコキシ基が結合してなる触媒は、カルボン酸エステル化合物及び第１級又は第２級モノアミン化合物との縮合反応を促進する。当該金属又は半金属原子としては、例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ又はＭｇが挙げられる。また、アルコキシ基の数は、金属又は半金属原子の価数に応じて変動するが、当該価数と同数であることが好ましい。
As an amide compound, general formula (4):
R 1 - (V) p -C (= O) -NR 2 R 3 (4)
(In the formula, R 1 , V, p, R 2 and R 3 are the same as above.)
The compound represented by these is mentioned.
[catalyst]
The catalyst formed by bonding at least one alkoxy group to the metal or metalloid atom used in the present invention promotes the condensation reaction between the carboxylic acid ester compound and the primary or secondary monoamine compound. Examples of the metal or metalloid atom include Ti, Zr, Al, B, and Mg. The number of alkoxy groups varies depending on the valence of the metal or metalloid atom, but is preferably the same as the valence.
当該触媒として具体的には、一般式（１）：
Ｍ（ＯＲ）ｍＸｎ （１）
（式中、ＭはＴｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ又はＭｇであり、Ｒはアルキル基であり、Ｘはハロゲン原子であり、ｍ及びｎはそれぞれ０〜３の整数であり、ＭがＴｉ又はＺｒのとき、ｍ＋ｎ＝４かつｍ≧１であり、ＭがＡｌ又はＢのとき、ｍ＋ｎ＝３かつｍ≧１であり、ＭがＭｇのとき、ｍ＋ｎ＝２かつｍ≧１である。）
で表される化合物が挙げられる。
Specifically, the catalyst is represented by the general formula (1):
M (OR) m X n (1)
(In the formula, M is Ti, Zr, Al, B or Mg, R is an alkyl group, X is a halogen atom, m and n are each an integer of 0 to 3, and M is Ti or Zr. M + n = 4 and m ≧ 1, m + n = 3 and m ≧ 1 when M is Al or B, and m + n = 2 and m ≧ 1 when M is Mg.)
The compound represented by these is mentioned.
Ｒで示されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の直鎖又は分岐のＣ１〜６アルキル基が挙げられる。好ましくは、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基等である。 Examples of the alkyl group represented by R include linear or branched C1-6 alkyl groups such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, butyl group, isobutyl group, sec-butyl group, and tert-butyl group. Is mentioned. Preferred are methyl group, ethyl group, isopropyl group, butyl group and the like.
Ｘで示されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、好ましくは塩素原子である。 Examples of the halogen atom represented by X include a fluorine atom, a chlorine atom, and a bromine atom, and a chlorine atom is preferable.
ＭがＴｉ又はＺｒのとき、ｍ＋ｎ＝４かつｍ≧２が好ましく、ｍ＋ｎ＝４かつｍ≧３がより好ましく、ｍ＝４かつｎ＝０が特に好ましい。 When M is Ti or Zr, m + n = 4 and m ≧ 2 are preferable, m + n = 4 and m ≧ 3 are more preferable, and m = 4 and n = 0 are particularly preferable.
ＭがＡｌ又はＢのとき、ｍ＋ｎ＝３かつｍ≧２が好ましく、ｍ＝３かつｎ＝０がより好ましい。 When M is Al or B, m + n = 3 and m ≧ 2 are preferable, and m = 3 and n = 0 are more preferable.
ＭがＭｇのとき、ｍ＝２かつｎ＝０が好ましい。 When M is Mg, m = 2 and n = 0 are preferable.
一般式（１）の触媒の具体例としては、例えば、ＭがＴｉのとき、チタニウムテトラメトキシド、チタニウムテトラエトキシド、チタニウムテトラプロポキシド、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラブトキシド等のチタニウムテトラアルコキシド；クロロチタニウムトリメトキシド、クロロチタニウムトリエトキシド、クロロチタニウムトリプロポキシド、クロロチタニウムトリイソプロポキシド、クロロチタニウムトリブトキシド等のハロチタニウムトリアルコキシド；ジクロロチタニウムジメトキシド、ジクロロチタニウムジエトキシド、ジクロロチタニウムジプロポキシド、ジクロロチタニウムジイソプロポキシド、ジクロロチタニウムジブトキシド等のジハロチタニウムアルコキシド等が挙げられる。好ましくは、チタニウムテトラメトキシド、チタニウムテトラエトキシド、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラブトキシドである。 As specific examples of the catalyst of the general formula (1), for example, when M is Ti, titanium tetraalkoxide such as titanium tetramethoxide, titanium tetraethoxide, titanium tetrapropoxide, titanium tetraisopropoxide, titanium tetrabutoxide, etc. Halotitanium trialkoxides such as chlorotitanium trimethoxide, chlorotitanium triethoxide, chlorotitanium tripropoxide, chlorotitanium triisopropoxide, chlorotitanium tributoxide; dichlorotitanium dimethoxide, dichlorotitanium diethoxide, dichlorotitanium And dihalotitanium alkoxides such as dipropoxide, dichlorotitanium diisopropoxide, and dichlorotitanium dibutoxide. Titanium tetramethoxide, titanium tetraethoxide, titanium tetraisopropoxide, and titanium tetrabutoxide are preferable.
ＭがＺｒのとき、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトラプロポキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラブトキシド等のジルコニウムテトラアルコキシド；クロロジルコニウムトリメトキシド、クロロジルコニウムトリエトキシド、クロロジルコニウムトリプロポキシド、クロロジルコニウムトリイソプロポキシド、クロロジルコニウムトリブトキシド等のハロジルコニウムトリアルコキシド；ジクロロジルコニウムジメトキシド、ジクロロジルコニウムジエトキシド、ジクロロジルコニウムジプロポキシド、ジクロロジルコニウムジイソプロポキシド、ジクロロジルコニウムジブトキシド等のジハロジルコニウムアルコキシド等が挙げられる。好ましくは、ジルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエトキシド、ジルコニウムテトライソプロポキシド、ジルコニウムテトラブトキシドである。 When M is Zr, zirconium tetraalkoxide such as zirconium tetramethoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetrapropoxide, zirconium tetraisopropoxide, zirconium tetrabutoxide; chlorozirconium trimethoxide, chlorozirconium triethoxide, chlorozirconium Halozirconium trialkoxides such as tripropoxide, chlorozirconium triisopropoxide, chlorozirconium tributoxide; dichlorozirconium dimethoxide, dichlorozirconium diethoxide, dichlorozirconium dipropoxide, dichlorozirconium diisopropoxide, dichlorozirconium dibutoxide And dihalozirconium alkoxides. Zirconium tetramethoxide, zirconium tetraethoxide, zirconium tetraisopropoxide, and zirconium tetrabutoxide are preferable.
ＭがＡｌのとき、アルミニウムトリメトキシド、アルミニウムトリエトキシド、アルミニウムトリプロポキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムトリブトキシド等のアルミニウムトリアルコキシド；クロロアルミニウムジメトキシド、クロロアルミニウムジエトキシド、クロロアルミニウムジプロポキシド、クロロアルミニウムジイソプロポキシド、クロロアルミニウムジブトキシド等のハロアルミニウムジアルコキシド等が挙げられる。好ましくは、アルミニウムトリイソプロポキシドである。 When M is Al, aluminum trialkoxides such as aluminum trimethoxide, aluminum triethoxide, aluminum tripropoxide, aluminum triisopropoxide, aluminum tributoxide; chloroaluminum dimethoxide, chloroaluminum diethoxide, chloroaluminum dioxide And haloaluminum dialkoxides such as propoxide, chloroaluminum diisopropoxide, and chloroaluminum dibutoxide. Aluminum triisopropoxide is preferred.
ＭがＢのとき、トリメトキシボラン、トリエトキシボラン、トリプロポキシボラン、トリイソプロポキシボラン、トリブトキシボラン等のトリアルコキシボラン；クロロジメトキシボラン、クロロジエトキシボラン、クロロジプロポキシボラン、クロロジイソプロポキシボラン、クロロジブトキシボラン等のハロジアルコキシボラン等が挙げられる。好ましくは、トリイソプロポキシボランである。 When M is B, trialkoxyboranes such as trimethoxyborane, triethoxyborane, tripropoxyborane, triisopropoxyborane, tributoxyborane; chlorodimethoxyborane, chlorodiethoxyborane, chlorodipropoxyborane, chlorodiisopropoxy Examples thereof include halodialkoxyboranes such as borane and chlorodibutoxyborane. Triisopropoxyborane is preferable.
ＭがＭｇのとき、マグネシウムジメトキシド、マグネシウムジエトキシド、マグネシウムジプロポキシド、マグネシウムジイソプロポキシド、マグネシウムジブトキシド等のマグネシウムジアルコキシド等が挙げられる。好ましくは、マグネシウムジエトキシドである。 When M is Mg, magnesium dialkoxides such as magnesium dimethoxide, magnesium diethoxide, magnesium dipropoxide, magnesium diisopropoxide, magnesium dibutoxide and the like can be mentioned. Preferably, it is magnesium diethoxide.
本発明には、これら触媒の１種類又は２種類以上を任意の割合で用いることができる。
［製造方法］
本発明の製造方法は、別途又は反応系中で調製した、金属又は半金属原子に少なくとも１個のアルコキシ基が結合してなる触媒（特に、一般式（１）で表される触媒）の存在下、必要に応じ溶媒の存在下、カルボン酸エステル化合物（特に、一般式（２）で表される触媒）及び第１級又は第２級モノアミン化合物（特に、一般式（３）で表される触媒）を反応させることにより実施できる。
In the present invention, one kind or two or more kinds of these catalysts can be used in an arbitrary ratio.
[Production method]
The production method of the present invention comprises the presence of a catalyst (in particular, a catalyst represented by the general formula (1)) prepared separately or in a reaction system and having at least one alkoxy group bonded to a metal or metalloid atom. The carboxylic acid ester compound (particularly the catalyst represented by the general formula (2)) and the primary or secondary monoamine compound (particularly represented by the general formula (3)) in the presence of a solvent as necessary. (Catalyst) can be reacted.
用いる溶媒としては、非プロトン性有機溶媒が好ましい。非プロトン性有機溶媒としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；クロロベンゼン、（o−、ｍ−又はｐ−）ジクロロベンゼン等のハロゲン置換芳香族炭化水素系溶媒；１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン、パークロロエチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒等が挙げられる。 The solvent used is preferably an aprotic organic solvent. Examples of the aprotic organic solvent include aromatic hydrocarbon solvents such as benzene, toluene and xylene; halogen-substituted aromatic hydrocarbon solvents such as chlorobenzene and (o-, m- or p-) dichlorobenzene; 1 , 1,1-trichloroethane, trichloroethylene, perchlorethylene, and the like.
原料のカルボン酸エステル化合物又は第１級又は第２級モノアミン化合物の使用量は、通常、第１級又は第２級モノアミン化合物のモル数に対し、カルボン酸エステル化合物に含まれるエステル基のモル数が約０．５〜５倍モル、好ましくは約０．８〜２倍モル、より好ましくは約０．９〜１．２倍モル、さらに好ましくは約０．９５〜１．０５倍モル、特に好ましくは同モルとすることができる。本発明の製造方法では、原料の反応効率が良好であるため、エステル基と第１級又は第２級モノアミン化合物のモル数をほぼ同等にできるというメリットがある。即ち、工業的な大規模なスケールの反応において原料ロスが少ないという利点を有する。 The amount of the starting carboxylic acid ester compound or primary or secondary monoamine compound used is usually the number of moles of ester groups contained in the carboxylic acid ester compound relative to the number of moles of the primary or secondary monoamine compound. Is about 0.5 to 5 times mol, preferably about 0.8 to 2 times mol, more preferably about 0.9 to 1.2 times mol, still more preferably about 0.95 to 1.05 times mol, especially Preferably it can be made the same mole. In the production method of the present invention, since the reaction efficiency of the raw material is good, there is an advantage that the number of moles of the ester group and the primary or secondary monoamine compound can be made almost equal. That is, there is an advantage that raw material loss is small in an industrial large-scale reaction.
触媒の使用量は、通常、原料である第１級又は第２級モノアミン化合物のモル数に対し、通常、約０．０１〜０．８倍モル、好ましくは約０．０２〜０．５倍モル、より好ましくは約０．０５〜０．３倍モルである。 The amount of the catalyst used is usually about 0.01 to 0.8 times mol, preferably about 0.02 to 0.5 times the number of moles of the primary or secondary monoamine compound as a raw material. Mole, more preferably about 0.05 to 0.3 times mole.
本発明の製造方法では、さらにモレキュラーシーブを添加して、モレキュラーシーブの存在下に反応させることができる。これにより、上記のアミド化反応を飛躍的に促進できるため、アミド化合物をより効率的に製造することができる。用いるモレキュラーシーブは、アミド化反応によりエステルから脱離するアルコール（例えば、一般式（２）ではＲ４ＯＨ）や水等の反応に影響与える物質を吸着し得る空孔サイズを有するものが好ましい。例えば、モレキュラーシーブ３Ａ、４Ａ等が好ましい。モレキュラーシーブは、その効果を有効に発揮するために、通常、粉末状、粒子状等のものが好ましい。 In the production method of the present invention, a molecular sieve can be further added and reacted in the presence of the molecular sieve. Thereby, since said amidation reaction can be accelerated | stimulated dramatically, an amide compound can be manufactured more efficiently. The molecular sieve to be used preferably has a pore size capable of adsorbing a substance that affects the reaction such as alcohol (for example, R 4 OH in the general formula (2)) or water that is eliminated from the ester by an amidation reaction. For example, molecular sieves 3A and 4A are preferable. The molecular sieve is usually preferably in the form of powder, particles or the like in order to effectively exhibit its effect.
モレキュラーシーブ存在下に反応させる場合、モレキュラーシーブの使用量は特に限定はないが、通常、第１級又は第２級モノアミン化合物の１モルあたり、約１０〜１０００ｇ、好ましくは約２０〜２００ｇ、より好ましくは約３０〜１００ｇである。 When the reaction is carried out in the presence of molecular sieves, the amount of molecular sieves used is not particularly limited, but is usually about 10 to 1000 g, preferably about 20 to 200 g, per mole of the primary or secondary monoamine compound. Preferably it is about 30-100g.
反応は、無水条件下で行うことが好ましく、また、不活性ガス（例えば窒素、アルゴン等）雰囲気下で行うことが好ましい。 The reaction is preferably performed under anhydrous conditions, and is preferably performed under an atmosphere of an inert gas (for example, nitrogen, argon, etc.).
反応温度は、通常、０〜２００℃、好ましくは５０〜１９０℃の範囲である。或いは、この温度範囲に沸点を有する溶媒を用いて還流させることもできる。 The reaction temperature is usually in the range of 0 to 200 ° C, preferably 50 to 190 ° C. Alternatively, the solvent can be refluxed using a solvent having a boiling point in this temperature range.
反応時間は、通常、３０分〜５０時間、さらに１〜３０時間の範囲である。 The reaction time is usually in the range of 30 minutes to 50 hours, and further 1 to 30 hours.
反応終了後は、公知の単離工程（濾過、濃縮、抽出等）及び精製工程（カラムクロマトグラフィ、再結晶化等）を経て目的化合物を得ることができる。 After completion of the reaction, the target compound can be obtained through known isolation steps (filtration, concentration, extraction, etc.) and purification steps (column chromatography, recrystallization, etc.).
以下、本発明を実施例を用いてさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although this invention is demonstrated in more detail using an Example, this invention is not limited to these examples.
反応例１（触媒存在下でのエステル化合物とアミン化合物の反応）
典型的な反応条件として、表１のエントリー１の反応条件を以下に示す。
Reaction Example 1 (Reaction of ester compound and amine compound in the presence of a catalyst)
As typical reaction conditions, the reaction conditions of
クロロベンゼン中、メチル ３−フェニルプロパノアート（１６４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）、ベンジルアミン（１０７ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）及びＴｉ（ＯｉＰｒ）４（２８ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）を、アルゴン雰囲気下、１３０〜１３５℃で２４時間撹拌した。反応液を冷却後、水（１０ｍｌ）を反応混合物に加えて、酢酸エチル（１０ｍｌ）で２回抽出した。有機層を合わせて、ブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、減圧下で濃縮した。得られたクルード残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、所望のアミド化合物（２１８ｍｇ、９１％）を得た。 In chlorobenzene, methyl 3-phenylpropanoate (164 mg, 1.0 mmol), benzylamine (107 mg, 1.0 mmol) and Ti (O i Pr) 4 (28 mg, 0.1 mmol) were added in an argon atmosphere at 130- Stir at 135 ° C. for 24 hours. After cooling the reaction solution, water (10 ml) was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted twice with ethyl acetate (10 ml). The organic layers were combined, washed with brine, dried over Na 2 SO 4 and concentrated under reduced pressure. The obtained crude residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 2: 1) to give the desired amide compound (218 mg, 91%).
表１〜５に記載された原料化合物、触媒及び反応条件を採用すること以外は、反応例１と同様にして反応を実施した。その結果を、表１〜５に示す。 The reaction was carried out in the same manner as in Reaction Example 1 except that the raw material compounds, catalysts, and reaction conditions described in Tables 1 to 5 were employed. The results are shown in Tables 1-5.
表１より、Ｔｉ（ＯｉＰｒ）４を触媒に用いて、種々のエステル化合物及びアミン化合物から収率良くアミド化合物を製造できることが示された。 From Table 1, it was shown that an amide compound can be produced from various ester compounds and amine compounds with high yield using Ti (O i Pr) 4 as a catalyst.
表２より、Ｚｒ（ＯｉＰｒ）４を触媒に用いて、種々のエステル化合物及びアミン化合物から収率良くアミド化合物を製造できることが示された。比較的立体障害の大きいアミン（エントリー５）でも、良好な収率で反応が進行する。 From Table 2, it was shown that an amide compound can be produced from various ester compounds and amine compounds with high yield using Zr (O i Pr) 4 as a catalyst. Even with amines with relatively large steric hindrance (entry 5), the reaction proceeds in good yield.
表３より、アルコキシ基が金属に結合してなる触媒は、水酸基やハロゲン原子のみが金属に結合してなる触媒に比べて、良好な収率でアミド化合物を与えることが示された。 Table 3 shows that a catalyst in which an alkoxy group is bonded to a metal gives an amide compound in a better yield than a catalyst in which only a hydroxyl group or a halogen atom is bonded to a metal.
表４より、分子内にシアノ基を有するエステル化合物でも収率良くアミド化合物を与えることが示された。 Table 4 shows that even an ester compound having a cyano group in the molecule gives an amide compound in a high yield.
表５より、分子内にケトンを有するエステル化合物でも収率良くアミド化合物を与えることが示された。 Table 5 shows that even an ester compound having a ketone in the molecule gives an amide compound in a high yield.
反応例２（触媒及びモレキュラーシーブ存在下でのエステル化合物とアミン化合物の反応）
典型的な反応条件として、表６のエントリー４の反応条件を以下に示す。
Reaction Example 2 (Reaction of ester compound and amine compound in the presence of catalyst and molecular sieve)
As typical reaction conditions, the reaction conditions of
クロロベンゼン中、メチル ３−フェニルプロパノアート（１６４ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）、ベンジルアミン（１０７ｍｇ、１．０ｍｍｏｌ）、Ｔｉ（ＯＭｅ）４（１７ｍｇ、０．１ｍｍｏｌ）及びモレキュラーシーブ４Ａ（ＭＳ４Ａ）（５０ｍｇ）を、アルゴン雰囲気下、１３０〜１３５℃で１時間撹拌した。反応液を冷却後、水（１０ｍｌ）を反応混合物に加えて、酢酸エチル（１０ｍｌ）で２回抽出した。有機層を合わせて、ブラインで洗浄し、Ｎａ２ＳＯ４で乾燥し、減圧下で濃縮した。得られたクルード残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２：１）で精製して、所望のアミド化合物（２１７ｍｇ、９１％）を得た。 Methyl 3-phenylpropanoate (164 mg, 1.0 mmol), benzylamine (107 mg, 1.0 mmol), Ti (OMe) 4 (17 mg, 0.1 mmol) and molecular sieve 4A (MS4A) (50 mg) in chlorobenzene. Was stirred at 130-135 ° C. for 1 hour under an argon atmosphere. After cooling the reaction solution, water (10 ml) was added to the reaction mixture, and the mixture was extracted twice with ethyl acetate (10 ml). The organic layers were combined, washed with brine, dried over Na 2 SO 4 and concentrated under reduced pressure. The obtained crude residue was purified by silica gel column chromatography (hexane: ethyl acetate = 2: 1) to give the desired amide compound (217 mg, 91%).
表６〜７に記載された原料化合物、触媒及び反応条件を採用すること以外は、反応例２と同様にして反応を実施した。その結果を表６〜７に示す。 The reaction was carried out in the same manner as in Reaction Example 2 except that the raw material compounds, catalysts, and reaction conditions described in Tables 6 to 7 were employed. The results are shown in Tables 6-7.
表６より、Ｔｉ（ＯＭｅ）４を触媒に用いさらに添加剤としてモレキュラーシーブ３Ａ又は４Ａ（ＭＳ３Ａ又はＭＳ４Ａ）を用いた場合（エントリー３及び４）には、Ｔｉ（ＯＭｅ）４のみを用いた場合（エントリー１）に比べて、飛躍的に収率が向上することが示された。
According to Table 6, when Ti (OMe) 4 is used as a catalyst and molecular sieve 3A or 4A (MS3A or MS4A) is used as an additive (
また、エントリー１、３及び４の反応について、反応時間と収率の関係を調べたところ、図１のような傾向が確認された。図１の収率は全て時間毎に単離した収率である。これより、Ｔｉ（ＯＭｅ）４とＭＳ３Ａ又はＭＳ４Ａを併存させることにより、大幅に反応時間を短縮しかつ収率を向上できることが示された。
Further, when the relationship between the reaction time and the yield was examined for the reactions of
表７より、Ｔｉ（ＯＭｅ）４とモレキュラーシーブ４Ａを併用した場合には、短時間に高収率でアミド化合物を与えることが示された。 From Table 7, it was shown that when Ti (OMe) 4 and molecular sieve 4A were used in combination, an amide compound was obtained in a high yield in a short time.
さらに、触媒としてＡｌ（ＯＲ）３（Ｒはアルキル）等を用いた場合も同様に、モレキュラーシーブを併用することにより、大幅に反応時間を短縮しかつ収率を向上できることが示された。 Furthermore, when Al (OR) 3 (R is alkyl) or the like is used as a catalyst, it was also shown that the reaction time can be greatly shortened and the yield can be improved by using molecular sieve in combination.
本発明の製造方法は、エステル化合物とアミン化合物から高効率でアミド化合物を製造することができるため、工業的スケールにおけるアミド化合物の製造方法として有用である。 Since the production method of the present invention can produce an amide compound with high efficiency from an ester compound and an amine compound, it is useful as a production method of an amide compound on an industrial scale.
Claims (11)
Ｍ（ＯＲ）ｍＸｎ （１）
（式中、ＭはＴｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｂ又はＭｇであり、Ｒはアルキル基であり、Ｘはハロゲン原子であり、ｍ及びｎはそれぞれ０〜３の整数であり、ＭがＴｉ又はＺｒのとき、ｍ＋ｎ＝４かつｍ≧１であり、ＭがＡｌ又はＢのとき、ｍ＋ｎ＝３かつｍ≧１であり、ＭがＭｇのとき、ｍ＋ｎ＝２かつｍ≧１である。）
で表される化合物である請求項１又は２に記載の製造方法。 The catalyst is represented by the general formula (1):
M (OR) m X n (1)
(In the formula, M is Ti, Zr, Al, B or Mg, R is an alkyl group, X is a halogen atom, m and n are each an integer of 0 to 3, and M is Ti or Zr. M + n = 4 and m ≧ 1, m + n = 3 and m ≧ 1 when M is Al or B, and m + n = 2 and m ≧ 1 when M is Mg.)
The production method according to claim 1, wherein the compound is represented by the formula:
Ｒ１−（Ｖ）ｐ−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ４ （２）
（式中、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ハロ低級アルキル基、ハロ低級アルケニル基、ハロ低級アルキニル基、環式炭化水素基又はヘテロ環式基であり、このうち当該環式炭化水素基及びヘテロ環式基はそれぞれ、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ハロ低級アルキル基、ハロ低級アルケニル基、ハロ低級アルキニル基、及び低級アルキレンジオキシ基からなる群より選ばれる少なくとも１個の基で置換されていてもよく、Ｖは、アルキレン基又はアルケニレン基であり、これらの基はそれぞれ、ハロゲン原子、オキソ基、水酸基、シアノ基、ビニル基、エチニル基及びアルコキシ基からなる群より選ばれる少なくとも１個の基で置換されていてもよく、ｐは０又は１であり、Ｒ４は低級アルキル基である。）
で表される化合物であり、前記第１級又は第２級モノアミン化合物が、一般式（３）：
ＨＮＲ２Ｒ３ （３）
（式中、Ｒ２及びＲ３はそれぞれ、水素原子又は式：−（Ｗ）ｑ−Ｚで表される基であり、Ｗはアルキレン基であり、ｑは０又は１であり、Ｚは水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、低級アルケニル基、低級アルキニル基、ハロ低級アルキル基、ハロ低級アルケニル基、ハロ低級アルキニル基、環式炭化水素基又はヘテロ環式基であり、このうち当該環式炭化水素基及びヘテロ環式基はそれぞれ置換基を有していてもよく、或いは、Ｒ２及びＲ３は、互いに結合して隣接する窒素原子と共に含窒素ヘテロ環を形成していてもよく、但し、Ｒ２及びＲ３が共に水素原子の場合を除く。）
で表される化合物であり、前記アミド化合物が、一般式（４）：
Ｒ１−（Ｖ）ｐ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２Ｒ３ （４）
（式中、Ｒ１、Ｖ、ｐ、Ｒ２及びＲ３は前記に同じ。）
で表される化合物である請求項１〜１０のいずれか１項に記載の製造方法。 The carboxylic acid ester compound is represented by the general formula (2):
R 1 - (V) p -C (= O) -OR 4 (2)
Wherein R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a halo lower alkyl group, a halo lower alkenyl group, a halo lower alkynyl group, or a cyclic hydrocarbon group. Or a heterocyclic group, in which the cyclic hydrocarbon group and the heterocyclic group are each a halogen atom, a lower alkyl group, a lower alkoxy group, a lower alkenyl group, a lower alkynyl group, a halo-lower alkyl group, a halo-lower group. It may be substituted with at least one group selected from the group consisting of an alkenyl group, a halo lower alkynyl group, and a lower alkylenedioxy group, and V is an alkylene group or an alkenylene group, each of which is Selected from the group consisting of halogen atoms, oxo groups, hydroxyl groups, cyano groups, vinyl groups, ethynyl groups and alkoxy groups And optionally substituted with at least one selected group, p is 0 or 1, and R 4 is a lower alkyl group.)
In which the primary or secondary monoamine compound is represented by the general formula (3):
HNR 2 R 3 (3)
(In the formula, R 2 and R 3 are each a hydrogen atom or a group represented by the formula:-(W) q -Z, W is an alkylene group, q is 0 or 1, and Z is hydrogen. Atom, halogen atom, lower alkyl group, lower alkoxy group, lower alkenyl group, lower alkynyl group, halo lower alkyl group, halo lower alkenyl group, halo lower alkynyl group, cyclic hydrocarbon group or heterocyclic group, Of these, the cyclic hydrocarbon group and the heterocyclic group may each have a substituent, or R 2 and R 3 are bonded to each other to form a nitrogen-containing heterocycle together with the adjacent nitrogen atom. Except that R 2 and R 3 are both hydrogen atoms.)
The amide compound is represented by the general formula (4):
R 1 - (V) p -C (= O) -NR 2 R 3 (4)
(In the formula, R 1 , V, p, R 2 and R 3 are the same as above.)
The production method according to claim 1, wherein the compound is represented by the formula:
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012027008A JP2013163657A (en) | 2012-02-10 | 2012-02-10 | Catalytic amidation reaction between ester and amine |
| PCT/JP2013/052684 WO2013118751A1 (en) | 2012-02-10 | 2013-02-06 | Catalytic amidation reaction of ester and amine |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012027008A JP2013163657A (en) | 2012-02-10 | 2012-02-10 | Catalytic amidation reaction between ester and amine |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013163657A true JP2013163657A (en) | 2013-08-22 |
Family
ID=48947512
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012027008A Pending JP2013163657A (en) | 2012-02-10 | 2012-02-10 | Catalytic amidation reaction between ester and amine |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2013163657A (en) |
| WO (1) | WO2013118751A1 (en) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017204144A1 (en) * | 2016-05-23 | 2017-11-30 | 学校法人中部大学 | Catalyst for converting ester to amide using hydroxyl group as orientation group |
| CN110662736A (en) * | 2017-04-25 | 2020-01-07 | 学校法人中部大学 | Process for producing amide compound |
| JP2021529822A (en) * | 2018-07-17 | 2021-11-04 | エボニック オペレーションズ ゲーエムベーハー | Method for producing CH acidic (meth) acrylate |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113336745A (en) * | 2021-05-12 | 2021-09-03 | 中国乐凯集团有限公司 | Method for synthesizing benzothiadiazine dioxide acetanilide derivatives by one-pot method |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6267055A (en) * | 1983-09-23 | 1987-03-26 | テキサコ・デベロツプメント・コ−ポレ−シヨン | Improved manufacture of n substituted (meta)acrylamide from (meta)acrylate and amine by use of metal oxide or metal alkoxide catalyst |
| JP2000095741A (en) * | 1998-09-25 | 2000-04-04 | Sumitomo Chem Co Ltd | Production of amides |
| JP2001270855A (en) * | 2000-03-24 | 2001-10-02 | Nippon Fine Chem Co Ltd | Method for producing organic amide |
| CN103025706A (en) * | 2010-07-28 | 2013-04-03 | 住友化学株式会社 | Method for producing carboxylic acid amide |
-
2012
- 2012-02-10 JP JP2012027008A patent/JP2013163657A/en active Pending
-
2013
- 2013-02-06 WO PCT/JP2013/052684 patent/WO2013118751A1/en active Application Filing
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017204144A1 (en) * | 2016-05-23 | 2017-11-30 | 学校法人中部大学 | Catalyst for converting ester to amide using hydroxyl group as orientation group |
| JPWO2017204144A1 (en) * | 2016-05-23 | 2019-05-16 | 学校法人中部大学 | Catalyst for converting an ester having a hydroxyl group as an orienting group to an amide |
| CN110662736A (en) * | 2017-04-25 | 2020-01-07 | 学校法人中部大学 | Process for producing amide compound |
| JP2021529822A (en) * | 2018-07-17 | 2021-11-04 | エボニック オペレーションズ ゲーエムベーハー | Method for producing CH acidic (meth) acrylate |
| JP7374171B2 (en) | 2018-07-17 | 2023-11-06 | エボニック オペレーションズ ゲーエムベーハー | Method for producing C-H acidic (meth)acrylate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2013118751A1 (en) | 2013-08-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Simpson et al. | New solid phase Knoevenagel catalyst | |
| WO2013118751A1 (en) | Catalytic amidation reaction of ester and amine | |
| Nejatianfar et al. | Cu (II) immobilized on guanidinated epibromohydrin‐functionalized γ‐Fe2O3@ TiO2 (γ‐Fe2O3@ TiO2‐EG‐Cu (II)): A highly efficient magnetically separable heterogeneous nanocatalyst for one‐pot synthesis of highly substituted imidazoles | |
| Wu et al. | Recyclable Oxofluorovanadate‐Catalyzed Formylation of Amines by Reductive Functionalization of CO2 with Hydrosilanes | |
| Wang et al. | Synthesis of α‐Amino Nitriles from Carbonyl Compounds, Amines, and Trimethylsilyl Cyanide: Comparison between Catalyst‐Free Conditions and the Presence of Tin Ion‐Exchanged Montmorillonite | |
| Zhou et al. | Catalytic effect and recyclability of imidazolium-tagged bis (oxazoline) based catalysts in asymmetric Henry reactions | |
| JP7480154B2 (en) | CATALYST SYSTEM FOR PRODUCING CYCLIC CARBONATES AND RELATED METHODS - Patent application | |
| CN104230741B (en) | A kind of synthetic method of stearyl erucamide | |
| Candu et al. | Efficient magnetic and recyclable SBILC (supported basic ionic liquid catalyst)-based heterogeneous organocatalysts for the asymmetric epoxidation of trans-methylcinnamate | |
| Ahmed et al. | Dy/chitosan: a highly efficient and recyclable heterogeneous nano catalyst for the synthesis of hexahydropyrimidines in aqueous media | |
| JP2020182929A (en) | Catalyst, method for producing the same, and method for producing n-alkyl imidazole-based compounds | |
| WO2013005621A1 (en) | Palladium complex and method for producing same, method for producing vinyl ether compound, and method for collecting palladium complex | |
| JP6225358B2 (en) | Process for producing 2-amino substituted benzaldehyde compounds | |
| Liu et al. | C-3 alkylation of oxindole with alcohols catalyzed by an indene-functionalized mesoporous iridium catalyst | |
| CN107915653B (en) | Method for preparing amide by catalyzing ester and amine to react | |
| JP2007238518A (en) | Method for producing optically active 1,2-diamine compound and optically active niobium catalyst | |
| CN105237466B (en) | A kind of method for synthesizing three substituted pyridine derivatives | |
| Kolahdoozan et al. | Knoevenagel Condensation of Aldehydes with Ethyl Cyanoacetate in Water Catalyzed by P4VP/Al2O3‐SiO2 | |
| JP6021818B2 (en) | Method for preparing enamine | |
| JP2021116300A (en) | Method for producing isoindolinone derivative | |
| Wang et al. | Synthesis of 4H, 5H-pyrano [3, 2-c][1] benzopyran-5-ones in aqueous media | |
| JP4999115B2 (en) | Catalyst precursor for producing olefins having an odd number of carbon atoms, process for the preparation thereof, and process for the production of such olefins | |
| Fang et al. | The Knoevenagel reaction in water catalyzed by zwitterionic liquids | |
| WO2018000400A1 (en) | Application of β-diimide bivalent rare earth borohydride complex for catalyzing hydroboration reaction between ketone and borane | |
| JP6022472B2 (en) | Method for preparing enamine |