JP2013141658A - Evaporator, evaporating system and evaporating method - Google Patents

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Naoki Takeda
尚己 武田
Kanji Kuwabara
寛治 桑原
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    • B01DSEPARATION
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    • B01D1/065Evaporators with vertical tubes by film evaporating

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an evaporator capable of preventing a heat-transfer tube from being clogged and smoothly evaporating a raw material liquid.SOLUTION: The evaporator 1 includes a plurality of heat transfer tubes 2, an upper tube plate 3 in which the heat transfer tubes 2 are supported at intervals from each other, and a first dispersing plate 5 provided at the upper part of the upper tube plate 3. A plurality of liquid permeation holes 51 allowing the raw material liquid to pass are formed in a position that overlaps the region in which the heat transfer tubes 2 of the upper tube plate 3 are not provided in the first dispersing plate 5 viewed from the extending direction of the heat transfer tubes 2. A plurality of ventilation holes 52 allowing gas to pass are formed in a position that overlaps the heat transfer tubes 2. The heat transfer tubes 2 have a protrusion 2a protruding from the upper surface of the upper tube plate 3.

Description

本発明は、蒸発装置、蒸発システム及び蒸発方法に関するものである。   The present invention relates to an evaporation apparatus, an evaporation system, and an evaporation method.

原料液を蒸発させる蒸発装置として、特許文献1に記載の蒸発装置が知られている。特許文献1の蒸発装置は、複数の伝熱管を有する縦型流下の液膜式熱交換器である。この蒸発装置は、原料液が複数の伝熱管の内部に流入され、当該複数の伝熱管の内壁面に原料液の膜が形成された状態で、熱媒により当該複数の伝熱管を加熱して原料液を蒸発させるように構成されている。   As an evaporation apparatus that evaporates the raw material liquid, an evaporation apparatus described in Patent Document 1 is known. The evaporation apparatus of Patent Document 1 is a vertical down-flowing liquid film heat exchanger having a plurality of heat transfer tubes. In this evaporation apparatus, the raw material liquid is flown into the plurality of heat transfer tubes, and the film of the raw material liquid is formed on the inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes. The raw material liquid is configured to evaporate.

特開2002−284752号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2002-284752

特許文献1の蒸発装置では、複数の伝熱管の内壁面に原料液の残渣が残留することを抑制するために、複数の伝熱管の内壁面に原料液の膜が形成された状態で当該原料液を蒸発させており、その過程で原料液を溶剤とともに複数の伝熱管に供給しているが、溶剤として、一部ガスを使用している。原料液とガスを、縦型流下の液膜式熱交換器に並流で供給する。この場合、原料液とガスの供給部の配置によっては、複数の伝熱管の内壁面における原料液の膜の厚みが変化する。原料液の膜の厚みが薄くなると、当該原料液の蒸発により伝熱管の内壁面が露出することがある。内壁面が露出すると、当該露出した内壁面に原料液の残渣が残留し、伝熱管の詰まりを引き起こす惧れがある。   In the evaporation apparatus of Patent Document 1, in order to suppress the residue of the raw material liquid from remaining on the inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes, the raw material liquid film is formed on the inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes. The liquid is evaporated, and the raw material liquid is supplied to the plurality of heat transfer tubes together with the solvent in the process, but a part of the gas is used as the solvent. The raw material liquid and the gas are supplied in parallel to the liquid film heat exchanger under the vertical flow. In this case, the thickness of the film of the raw material liquid on the inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes varies depending on the arrangement of the raw material liquid and the gas supply unit. When the thickness of the raw material liquid film is reduced, the inner wall surface of the heat transfer tube may be exposed due to evaporation of the raw material liquid. When the inner wall surface is exposed, a residue of the raw material liquid remains on the exposed inner wall surface, which may cause clogging of the heat transfer tube.

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、良好な流下液膜を形成させることで、伝熱管の詰まりを抑制して原料液の蒸発を円滑に行わせることが可能な蒸発装置、蒸発システム及び蒸発方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such circumstances, and by forming a good falling liquid film, it is possible to suppress clogging of the heat transfer tube and to smoothly evaporate the raw material liquid. An object is to provide an apparatus, an evaporation system, and an evaporation method.

上記の目的を達成するために、本発明の蒸発装置は、複数の伝熱管と、前記複数の伝熱管を互いに間隔を空けて支持する管板と、前記管板の上方に設けられた第1の分散板と、を含み、前記第1の分散板には、前記複数の伝熱管の延在方向から見て、原料液を通す複数の通液孔が前記管板の前記伝熱管が設けられていない領域と重なる位置に形成されているとともに、ガスを通す複数の通気孔が前記複数の伝熱管と重なる位置に形成されており、前記複数の伝熱管は、前記管板の上面から突出する突出部を有していることを特徴とする。   In order to achieve the above object, an evaporation apparatus according to the present invention includes a plurality of heat transfer tubes, a tube plate that supports the plurality of heat transfer tubes at an interval, and a first plate provided above the tube plate. The first dispersion plate is provided with the heat transfer tubes of the tube plate with a plurality of liquid passage holes through which the raw material liquid passes when viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes. A plurality of vent holes through which gas passes are formed at positions overlapping with the plurality of heat transfer tubes, and the plurality of heat transfer tubes protrude from the upper surface of the tube plate. It has the protrusion part, It is characterized by the above-mentioned.

本発明において、前記第1の分散板の管板側の面の前記通液孔が形成された部分には、当該面から前記管板側に突出したノズルが設けられていることを特徴とする。   In the present invention, a nozzle protruding from the surface to the tube plate side is provided in a portion where the liquid passage hole is formed on the tube plate side surface of the first dispersion plate. .

本発明において、前記第1の分散板に向けて前記原料液及び前記ガスを流入させる流入部を有することを特徴とする。   In this invention, it has the inflow part which flows in the said raw material liquid and the said gas toward the said 1st dispersion plate, It is characterized by the above-mentioned.

本発明において、前記第1の分散板と前記流入部との間には1つ以上の分散板が設けられており、前記分散板には前記流入部からの前記原料液を通す複数の通液孔が形成されており、少なくとも前記第1の分散板の直上に配置された前記分散板の複数の通液孔は、前記複数の伝熱管の延在方向から見て、前記第1の分散板の複数の通気孔と重ならない位置に配置されていることを特徴とする。   In the present invention, one or more dispersion plates are provided between the first dispersion plate and the inflow portion, and a plurality of liquid passages through which the raw material liquid from the inflow portion passes. Holes are formed, and at least the plurality of liquid passage holes of the dispersion plate disposed immediately above the first dispersion plate are viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes. It is arrange | positioned in the position which does not overlap with several ventilation holes of these.

本発明において、前記管板と、前記第1の分散板とを収容する収容部を有し、前記流入部と前記第1の分散板との間には、第2の分散板が設けられており、前記第2の分散板には、前記流入部からの原料液を前記第1の分散板に形成された前記通液孔に向けて流入させる複数の通液孔と、前記流入部からのガスを通す複数の通気管と、が設けられており、前記第2の分散板の外周部と前記収容部の内壁面との間には隙間が形成されており、前記第2の分散板の複数の通気管は、前記複数の伝熱管の延在方向から見て、同心円状に配置されており、前記第2の分散板の複数の通気管は、前記流入部の側であって前記第2の分散板の中心部の側に切欠部を有していることを特徴とする。   In this invention, it has an accommodating part which accommodates the said tube sheet and the said 1st dispersion | distribution board, and the 2nd dispersion | distribution board is provided between the said inflow part and the said 1st dispersion | distribution board. And the second dispersion plate has a plurality of liquid passage holes through which the raw material liquid from the inflow portion flows toward the liquid passage holes formed in the first dispersion plate, and the second dispersion plate from the inflow portion. A plurality of ventilation pipes through which gas passes, a gap is formed between the outer peripheral portion of the second dispersion plate and the inner wall surface of the housing portion, and the second dispersion plate The plurality of vent pipes are arranged concentrically when viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer pipes, and the plurality of vent pipes of the second dispersion plate are on the inflow portion side and the first It has the notch part in the center part side of 2 dispersion plates, It is characterized by the above-mentioned.

本発明において、前記複数の伝熱管から流出された原料液を前記流入部へ移送させる移送機構を有していることを特徴とする。   In this invention, it has the transfer mechanism which transfers the raw material liquid flowed out from these heat exchanger tubes to the said inflow part, It is characterized by the above-mentioned.

本発明において、前記突出部の先端には溝が形成されていることを特徴とする。   In the present invention, a groove is formed at the tip of the protrusion.

本発明において、前記伝熱管の面積は、当該伝熱管の延在方向から見て、前記第1の分散板の通気孔の面積以上の面積であることを特徴とする。   In this invention, the area of the said heat exchanger tube is an area more than the area of the vent hole of a said 1st dispersion | distribution board seeing from the extension direction of the said heat exchanger tube.

本発明において、前記伝熱管の中心は、当該伝熱管の延在方向から見て、前記第1の分散板の通気孔の中心と一致していることを特徴とする。   In the present invention, the center of the heat transfer tube coincides with the center of the vent hole of the first dispersion plate when viewed from the extending direction of the heat transfer tube.

本発明において、前記原料液はシクロヘキサノンオキシムを含むことを特徴とする。   In the present invention, the raw material liquid contains cyclohexanone oxime.

本発明の蒸発システムは、蒸発装置と、前記蒸発装置により生成された原料ガスの残渣の一部を前記蒸発装置に循環させるポンプと、前記残渣の残りの一部を蒸留する減圧蒸留器と、前記減圧蒸留器により留去された原料を凝縮する凝縮器と、を有することを特徴とする。   The evaporation system of the present invention includes an evaporation device, a pump that circulates a part of the residue of the raw material gas generated by the evaporation device to the evaporation device, a vacuum distillation unit that distills the remaining part of the residue, And a condenser for condensing the raw material distilled off by the vacuum distillation apparatus.

本発明の蒸発方法は、前記蒸発装置を用いて、前記原料液を加熱蒸発させ、原料ガスを得た後の残渣を、加熱蒸発させる際の圧力よりも低い圧力の下に蒸留し、蒸留することにより留去された原料ガスを凝縮することで、前記残渣に含まれる原料液を回収することを特徴とする。   The evaporation method of the present invention uses the evaporation apparatus to heat and evaporate the raw material liquid, and distills the residue after obtaining the raw material gas under a pressure lower than the pressure at the time of heat evaporation. By condensing the raw material gas distilled off, the raw material liquid contained in the residue is recovered.

本発明の蒸発方法は、シクロヘキサノンオキシムとこれを希釈する溶剤との混合液を蒸発させる蒸発方法であって、前記溶剤がアルコールであり、前記蒸発装置内の全蒸発面が少なくともシクロヘキサノンオキシムで濡れた状態となるように、前記混合液を1060torr以下の圧力下で、かつ前記蒸発装置内の蒸発面下端でのシクロヘキサノンオキシム流下液量が、蒸発面下端の単位長さ(m)当たり170kg/時間以上で蒸発させ、前記蒸留は、1.4kPa〜10kPaの減圧下で蒸留させることを特徴とする。   The evaporation method of the present invention is an evaporation method for evaporating a mixed solution of cyclohexanone oxime and a solvent for diluting the cyclohexanone oxime, wherein the solvent is alcohol, and the entire evaporation surface in the evaporator is wetted with at least cyclohexanone oxime. The amount of cyclohexanone oxime flowing down at the lower end of the evaporation surface in the evaporator is 170 kg / hour or more per unit length (m) at the lower end of the evaporation surface so that the mixed solution is under a pressure of 1060 torr or less. The distillation is performed under reduced pressure of 1.4 kPa to 10 kPa.

本発明によれば、原料液とガスを縦型流下の液膜式熱交換器にて蒸発させる場合に、良好な流下液膜を形成させることで、伝熱管の詰まりを抑制して原料液の蒸発を円滑に行わせることが可能な蒸発装置、蒸発システム及び蒸発方法を提供することができる。   According to the present invention, when the raw material liquid and the gas are evaporated in the vertical flow-down liquid film heat exchanger, by forming a good flow-down liquid film, clogging of the heat transfer tube is suppressed, and It is possible to provide an evaporation apparatus, an evaporation system, and an evaporation method capable of smoothly performing evaporation.

本発明の第1実施形態に係る蒸発装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the evaporation apparatus which concerns on 1st Embodiment of this invention. 同、蒸発装置の第1の分散板における複数の通気孔の配置状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the arrangement | positioning state of the several ventilation hole in the 1st dispersion | distribution board of an evaporator similarly. 本発明の第2実施形態に係る蒸発装置を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the evaporation apparatus which concerns on 2nd Embodiment of this invention. 同、蒸発装置の第2の分散板における複数の通気孔の配置状態を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the arrangement | positioning state of the several ventilation hole in the 2nd dispersion | distribution board of an evaporator similarly. 伝熱管の突出部の変形例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the modification of the protrusion part of a heat exchanger tube. 蒸発システムの一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of an evaporation system.

以下、図面を参照しつつ本発明の実施形態を説明するが、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
なお、以下の全ての図面においては、図面を見やすくするため、各構成要素の寸法や比率などは適宜異ならせてある。また、以下の説明及び図面中、同一又は相当する要素には同一の符号を付し、重複する説明は省略する。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings, but the present invention is not limited to the following embodiments.
In all the drawings below, the dimensions and ratios of the constituent elements are appropriately changed in order to make the drawings easy to see. In the following description and drawings, the same or corresponding elements are denoted by the same reference numerals, and redundant description is omitted.

(第1実施形態)
図1は、本発明の第1実施形態に係る蒸発装置1を示す縦断面図である。
図1に示すように、蒸発装置1は、複数の伝熱管2と、上部管板3と、下部管板4と、第1の分散板5と、分散板6と、収容部7と、塔底8と、原料液供給配管(流入部)9と、ガス供給配管(流入部)10と、熱媒供給配管11と、を含んで構成されている。
(First embodiment)
FIG. 1 is a longitudinal sectional view showing an evaporator 1 according to a first embodiment of the present invention.
As shown in FIG. 1, the evaporator 1 includes a plurality of heat transfer tubes 2, an upper tube plate 3, a lower tube plate 4, a first dispersion plate 5, a dispersion plate 6, a storage unit 7, a tower A bottom 8, a raw material liquid supply pipe (inflow part) 9, a gas supply pipe (inflow part) 10, and a heat medium supply pipe 11 are configured.

蒸発装置1は、複数の伝熱管2の内壁面に原料液の膜が形成された状態で、ガス供給配管10からのガスが複数の通気孔52を通過して複数の伝熱管2の内部に流入されており、熱媒により当該複数の伝熱管を加熱して、当該原料液を蒸発させる構成となっている。   In the evaporation apparatus 1, the gas from the gas supply pipe 10 passes through the plurality of vent holes 52 and enters the plurality of heat transfer tubes 2 in a state where the film of the raw material liquid is formed on the inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes 2. The plurality of heat transfer tubes are heated by a heat medium to evaporate the raw material liquid.

収容部7の下部には円板状の上部管板3と、下部管板4と、が接続されている。上部管板3及び下部管板4には、複数の伝熱管2が互いに間隔を空けて支持されている。複数の伝熱管2は、上部管板3の上面から突出する突出部2aを有している。第1の分散板5は、収容部7の内部において、上部管板3の上方に設けられている。   A disk-shaped upper tube plate 3 and a lower tube plate 4 are connected to the lower portion of the housing portion 7. A plurality of heat transfer tubes 2 are supported on the upper tube plate 3 and the lower tube plate 4 at intervals. The plurality of heat transfer tubes 2 have projecting portions 2 a that project from the upper surface of the upper tube sheet 3. The first dispersion plate 5 is provided above the upper tube plate 3 inside the housing portion 7.

図2は、蒸発装置1の第1の分散板5における複数の通気孔52の配置状態を示す模式図である。図2は第1の分散板5の平面図であり、便宜上、収容部7については破線で示している。
図2に示すように、収容部7は平面視円形である。第1の分散板5には、原料液を通す複数の通液孔51と、ガスを通す複数の通気孔52とが形成されている。通液孔51の形状は平面視円形である。通気孔52の形状は平面視円形である。平面視において、第1の分散板5には、各通気孔52が、2つの通液孔51の間に1つの通気孔52が位置するように交互に配置されている。なお、本実施形態に示す複数の通気孔52の配置状態は一例であり、これに限らず種々の配置状態を採用することができる。
FIG. 2 is a schematic diagram showing an arrangement state of the plurality of vent holes 52 in the first dispersion plate 5 of the evaporation apparatus 1. FIG. 2 is a plan view of the first dispersion plate 5. For convenience, the accommodating portion 7 is indicated by a broken line.
As shown in FIG. 2, the accommodating portion 7 is circular in plan view. The first dispersion plate 5 is formed with a plurality of liquid passage holes 51 through which the raw material liquid passes and a plurality of vent holes 52 through which gas passes. The shape of the liquid passage hole 51 is circular in plan view. The shape of the vent hole 52 is circular in plan view. In the plan view, the first dispersion plate 5 has the air holes 52 alternately arranged so that one air hole 52 is positioned between the two liquid holes 51. In addition, the arrangement | positioning state of the some ventilation hole 52 shown to this embodiment is an example, Not only this but a various arrangement | positioning state is employable.

図1に戻り、複数の通液孔51は、複数の伝熱管2の延在方向から見て、上部管板3の伝熱管2が設けられていない領域と重なる位置に配置されている。各通液孔51は、隣り合う2つの伝熱管2の間の略中央において上部管板3の上方に位置している。   Returning to FIG. 1, the plurality of liquid passage holes 51 are arranged at positions overlapping the region where the heat transfer tubes 2 of the upper tube plate 3 are not provided when viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes 2. Each liquid passage hole 51 is located above the upper tube sheet 3 in the approximate center between two adjacent heat transfer tubes 2.

第1の分散板5の上部管板3側の面の通液孔51が形成された部分には、当該面から上部管板3側に突出したノズル51aが設けられている。   A nozzle 51 a protruding from the surface to the upper tube plate 3 side is provided at a portion where the liquid passage hole 51 is formed on the surface of the first dispersion plate 5 on the upper tube plate 3 side.

複数の通気孔52は、複数の伝熱管2の延在方向から見て、複数の伝熱管2と重なる位置に配置されている。複数の通気孔52の下端と、複数の伝熱管2の上端との間の距離(伝熱管2の延在方向における間隔)は、収容部7の内径に対して、例えば1/50〜1/5の範囲の大きさとなっている。好ましくは、複数の通気孔52の下端と、複数の伝熱管2の上端との間の距離は収容部7の内径に対して1/10〜1/30の範囲の大きさとする。   The plurality of vent holes 52 are arranged at positions overlapping the plurality of heat transfer tubes 2 when viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes 2. The distance between the lower ends of the plurality of vent holes 52 and the upper ends of the plurality of heat transfer tubes 2 (interval in the extending direction of the heat transfer tubes 2) is, for example, 1/50 to 1 / The size is in the range of 5. Preferably, the distance between the lower ends of the plurality of vent holes 52 and the upper ends of the plurality of heat transfer tubes 2 is set to a size in the range of 1/10 to 1/30 with respect to the inner diameter of the accommodating portion 7.

伝熱管2の形状は、通気孔52の形状と同様に、当該複数の伝熱管2の延在方向から見て、円形である。伝熱管2の内径は、例えば20mm〜100mmの範囲の大きさとなっている。好ましくは、伝熱管2の内径は、35mm〜70mmの範囲の大きさとする。   The shape of the heat transfer tube 2 is circular as seen from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes 2, similarly to the shape of the vent hole 52. The inner diameter of the heat transfer tube 2 is, for example, in the range of 20 mm to 100 mm. Preferably, the inner diameter of the heat transfer tube 2 is in the range of 35 mm to 70 mm.

なお、通気孔52及び伝熱管2を複数の伝熱管2の延在方向から見たときの形状は、円形に限らず、楕円形など種々の形状を採用することができる。ただし、ガスを円滑に通過させるためには、通気孔52及び伝熱管2を複数の伝熱管2の延在方向から見たときの形状は、円状であることが好ましい。   In addition, the shape when the vent hole 52 and the heat transfer tubes 2 are viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes 2 is not limited to a circle, and various shapes such as an ellipse can be adopted. However, in order to allow the gas to pass smoothly, the shape of the vent hole 52 and the heat transfer tube 2 when viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes 2 is preferably circular.

通気孔52の中心は、伝熱管2の延在方向から見て、伝熱管2の中心と一致している。なお、通気孔52の中心は、伝熱管2の延在方向から見て、伝熱管2の中心から多少ずれていてもよい。すなわち、複数の通気孔52が、複数の伝熱管2の延在方向から見て、複数の伝熱管2と重なる位置に配置されていればよい。   The center of the vent hole 52 coincides with the center of the heat transfer tube 2 when viewed from the extending direction of the heat transfer tube 2. The center of the vent hole 52 may be slightly deviated from the center of the heat transfer tube 2 when viewed from the extending direction of the heat transfer tube 2. That is, it is only necessary that the plurality of vent holes 52 be disposed at positions overlapping the plurality of heat transfer tubes 2 when viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes 2.

伝熱管2の面積は、当該伝熱管2の延在方向から見て、通気孔52の面積よりも大きい面積である。なお、複数の伝熱管2を当該複数の伝熱管2の延在方向から見たときの面積は、通気孔52の面積よりも大きい面積であることに限らず、通気孔52の面積と同じ面積であってもよい。すなわち、複数の伝熱管2を当該複数の伝熱管2の延在方向から見たときの面積は、通気孔52の面積以上の面積であればよい。   The area of the heat transfer tube 2 is larger than the area of the vent hole 52 when viewed from the extending direction of the heat transfer tube 2. In addition, the area when the plurality of heat transfer tubes 2 are viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes 2 is not limited to the area larger than the area of the air holes 52, and is the same area as the area of the air holes 52. It may be. That is, the area when the plurality of heat transfer tubes 2 are viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes 2 may be an area equal to or larger than the area of the air holes 52.

原料液供給配管9は、収容部7の上部側壁に接続されている。ガス供給配管10は、収容部7の上壁に接続されている。分散板6は、原料液供給配管9及びガス供給配管10と第1の分散板5との間に設けられている。   The raw material liquid supply pipe 9 is connected to the upper side wall of the housing portion 7. The gas supply pipe 10 is connected to the upper wall of the housing part 7. The dispersion plate 6 is provided between the raw material liquid supply pipe 9 and the gas supply pipe 10 and the first dispersion plate 5.

分散板6には、原料液供給配管9からの原料液を分液する複数の分液孔61が形成されている。図1では、複数の分液孔61は、複数の伝熱管2の延在方向から見て、複数の通液孔51と重なる位置に配置されているが、これに限らない。複数の分液孔61は、複数の伝熱管2の延在方向から見て、複数の通気孔52と重ならない位置に配置されていればよい。   The dispersion plate 6 is formed with a plurality of separation holes 61 for separating the raw material liquid from the raw material liquid supply pipe 9. In FIG. 1, the plurality of liquid separation holes 61 are arranged at positions overlapping the plurality of liquid passage holes 51 when viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes 2, but are not limited thereto. The plurality of liquid separation holes 61 may be disposed at positions that do not overlap with the plurality of vent holes 52 when viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes 2.

分散板6の第1の分散板5側の面の分液孔61が形成された部分には、当該面から第1の分散板5側に突出したノズル61aが設けられている。   A nozzle 61 a that protrudes from the surface toward the first dispersion plate 5 is provided at a portion of the dispersion plate 6 where the liquid separation holes 61 are formed on the surface on the first dispersion plate 5 side.

分散板6の外周部と収容部7の内壁面との間には隙間62が存在しているが、これに限らない。蒸発装置1は、ガス供給配管10からのガスが、分散板6の下方に流れ、複数の伝熱管2の内部に流入されるように構成されていればよい。   There is a gap 62 between the outer peripheral portion of the dispersion plate 6 and the inner wall surface of the accommodating portion 7, but this is not restrictive. The evaporator 1 only needs to be configured so that the gas from the gas supply pipe 10 flows below the dispersion plate 6 and flows into the plurality of heat transfer tubes 2.

本実施形態では、原料液としてシクロヘキサノンオキシムと当該シクロヘキサノンオキシムを希釈する溶剤との混合液を用いる。当該混合液は、原料液供給配管9を経て蒸発装置1に供給される。   In the present embodiment, a mixed liquid of cyclohexanone oxime and a solvent for diluting the cyclohexanone oxime is used as a raw material liquid. The mixed liquid is supplied to the evaporation apparatus 1 through the raw material liquid supply pipe 9.

なお、前記溶剤としては、シクロヘキサノンオキシムよりも沸点が低く、かつシクロヘキサノンオキシムを溶解し希釈できるものを使用できる。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ターシャリーブタノール、1−ヘキサノール、1−オクタノール等から選ばれる炭素数1〜8の飽和アルコール、ベンゼン、トルエン等が挙げられ、中でもメタノールあるいはエタノールが好ましい。また、シクロヘキサノンオキシムと溶剤との混合割合は重量比で約100:1〜1:10であるのがよい。   As the solvent, a solvent having a boiling point lower than that of cyclohexanone oxime and capable of dissolving and diluting cyclohexanone oxime can be used. Examples thereof include saturated alcohols having 1 to 8 carbon atoms selected from methanol, ethanol, propanol, tertiary butanol, 1-hexanol, 1-octanol and the like, benzene, toluene, etc. Among them, methanol or ethanol is preferable. The mixing ratio of cyclohexanone oxime and solvent is preferably about 100: 1 to 1:10 by weight.

また、原料液供給配管9を介して前記混合液を蒸発装置1に移送する際には、同時にガス供給配管10からメタノール等の低級アルコールと窒素ガス等の不活性ガスを蒸発装置1に導入することが好ましい。   Further, when the mixed liquid is transferred to the evaporator 1 through the raw material liquid supply pipe 9, simultaneously, a lower alcohol such as methanol and an inert gas such as nitrogen gas are introduced into the evaporator 1 from the gas supply pipe 10. It is preferable.

また、不活性ガスとして窒素ガスを用いる。なお、不活性ガスは窒素ガスに限らず、種々の不活性ガスを用いることができる。   Moreover, nitrogen gas is used as an inert gas. The inert gas is not limited to nitrogen gas, and various inert gases can be used.

熱媒供給配管11は、収容部7の下部側壁に接続されている。熱媒供給配管11は、伝熱管2の外壁面に向けて熱媒を流入させる。熱媒としては、例えばスチーム等を用いる。   The heat medium supply pipe 11 is connected to the lower side wall of the housing portion 7. The heat medium supply pipe 11 allows the heat medium to flow toward the outer wall surface of the heat transfer tube 2. For example, steam or the like is used as the heat medium.

本実施形態の蒸発装置1は、原料液供給配管9からの原料液が伝熱管2の内部に流入されて複数の伝熱管2の内壁面に原料液の膜が形成される。この状態で、熱媒供給配管11からの熱媒により複数の伝熱管2の外壁面が加熱され、前記原料液を蒸発させる構成となっている。
以下、蒸発装置1において収容部7の内部を原料液及びガスが流れる様子について、図1を用いて一例を挙げて説明する。
In the evaporation apparatus 1 of the present embodiment, the raw material liquid from the raw material liquid supply pipe 9 flows into the heat transfer tube 2, and a film of the raw material liquid is formed on the inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes 2. In this state, the outer wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes 2 are heated by the heat medium from the heat medium supply pipe 11 to evaporate the raw material liquid.
Hereinafter, the manner in which the raw material liquid and the gas flow in the storage unit 7 in the evaporation apparatus 1 will be described with reference to FIG.

図1に示すように、原料液供給配管9からの原料液は、分散板6の分液孔61を通過して、第1の分散板5に形成された通液孔51に向けて流入される。当該通液孔51に向けて流入された原料液は、上部管板3の伝熱管2が設けられていない領域に流入される。当該領域に流入された原料液は、オーバーフローして、複数の伝熱管2の内部に流入される。これにより、複数の伝熱管2の内壁面には原料液の膜が形成された状態(いわゆる濡れ壁状態)となる。   As shown in FIG. 1, the raw material liquid from the raw material liquid supply pipe 9 passes through the liquid separation holes 61 of the dispersion plate 6 and flows into the liquid passage holes 51 formed in the first dispersion plate 5. The The raw material liquid that has flowed toward the liquid flow hole 51 flows into a region of the upper tube plate 3 where the heat transfer tube 2 is not provided. The raw material liquid that has flowed into the region overflows and flows into the plurality of heat transfer tubes 2. Thereby, it will be in the state (what is called a wet wall state) in which the film | membrane of the raw material liquid was formed in the inner wall surface of the some heat exchanger tube 2. FIG.

一方、熱媒供給配管11からの熱媒は、複数の伝熱管2の外壁面に向けて流入される。これにより、複数の伝熱管が加熱される。   On the other hand, the heat medium from the heat medium supply pipe 11 flows into the outer wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes 2. Thereby, a some heat exchanger tube is heated.

ガス供給配管10からのガスは、分散板6の外周部と収容部7の内壁面との間の隙間62を通過して、第1の分散板5に形成された複数の通気孔52に向けて流入される。当該通気孔52に向けて流入されたガスは、複数の伝熱管2の内壁面に原料液の膜が形成された状態で、伝熱管の内部に流入される。   The gas from the gas supply pipe 10 passes through a gap 62 between the outer peripheral portion of the dispersion plate 6 and the inner wall surface of the accommodating portion 7 and is directed to a plurality of vent holes 52 formed in the first dispersion plate 5. Inflow. The gas that has flowed toward the vent hole 52 flows into the heat transfer tube in a state where a film of the raw material liquid is formed on the inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes 2.

なお、複数の伝熱管2の下端での流下液量は、最小許容負荷以上とする。ここで、最小許容負荷以上とは、複数の伝熱管2の全ての内壁面に常時原料液の膜が形成される程度の量以上の未蒸発原料液を複数の伝熱管2の下端から流下させることを意味する。すなわち、当該複数の伝熱管2の下端での流下液量を最小許容負荷以上に管理することで、当該複数の伝熱管2の内壁面を流れる原料液を蒸発させた場合でも、当該内壁面には原料液の膜が形成された状態が維持されることとなる。   The amount of liquid flowing down at the lower ends of the plurality of heat transfer tubes 2 is not less than the minimum allowable load. Here, the minimum allowable load or more is caused to flow down from the lower ends of the plurality of heat transfer tubes 2 an amount of non-evaporated material solution that is more than the amount that a film of the raw material solution is always formed on all inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes 2. Means that. That is, even when the raw material liquid flowing on the inner wall surface of the plurality of heat transfer tubes 2 is evaporated by managing the amount of liquid flowing down at the lower end of the plurality of heat transfer tubes 2 to be more than the minimum allowable load, The state in which the film of the raw material liquid is formed is maintained.

例えば、原料液としてシクロヘキサノンオキシムを供給する場合、伝熱管2の内壁面に液の膜が形成された状態を維持するためには、伝熱管2の内壁面下端での原料液の流下液量が、内壁面下端の単位長さ(m)当たり170kg/時間以上、好ましくは170〜1700kg/時間、より好ましくは340〜680kg/時間であるのがよい。   For example, when cyclohexanone oxime is supplied as a raw material liquid, in order to maintain a state in which a liquid film is formed on the inner wall surface of the heat transfer tube 2, the flow rate of the raw material liquid at the lower end of the inner wall surface of the heat transfer tube 2 is In addition, it is 170 kg / hour or more per unit length (m) of the lower end of the inner wall surface, preferably 170-1700 kg / hour, more preferably 340-680 kg / hour.

また、原料液としてシクロヘキサノンオキシムを供給する場合、混合液を蒸発させる際の圧力は1060torr以下の圧力下であることが好ましい。圧力が1060torrよりも大きいと、シクロヘキサノンオキシムの劣化を招くおそれがある。好ましくは、圧力が760torr(大気圧)〜1000torrの範囲で混合液を蒸発させるのがよい。   In addition, when cyclohexanone oxime is supplied as the raw material liquid, the pressure at which the mixed liquid is evaporated is preferably 1060 torr or less. When the pressure is higher than 1060 torr, the cyclohexanone oxime may be deteriorated. Preferably, the mixed solution is evaporated in the range of 760 torr (atmospheric pressure) to 1000 torr.

また、原料液としてシクロヘキサノンオキシムを供給する場合、混合液を蒸発させる際の温度は130℃以上かつ170℃以下の範囲であることが好ましい。蒸発装置1により得られた蒸発ガスは、伝熱管2を経て塔底8に取り出される。   Moreover, when supplying cyclohexanone oxime as a raw material liquid, it is preferable that the temperature at the time of evaporating a liquid mixture is the range of 130 degreeC or more and 170 degrees C or less. The evaporated gas obtained by the evaporator 1 is taken out to the tower bottom 8 through the heat transfer tube 2.

本実施形態の蒸発装置1によれば、第1の分散板5には、複数の伝熱管2の延在方向から見て、複数の通液孔51が上部管板3の伝熱管2が設けられていない領域と重なる位置に形成されているとともに、複数の通気孔52が複数の伝熱管2と重なる位置に形成されている。これにより、原料液供給配管9からの原料液が通液孔51を通過して上部管板3の伝熱管2が設けられていない領域に流入されて当該複数の伝熱管2の内部に流入される。そして、当該複数の伝熱管2の内壁面に原料液の膜が形成された状態で、ガス供給配管10からのガスが複数の通気孔52を通過して複数の伝熱管2の内部に流入される。また、原料液供給配管9からの原料液が直接複数の伝熱管2に流入することが抑制される。さらに、ガス供給配管10からのガスの流れ方向を制限するため、ガスが複数の伝熱管2の内部にスムーズに流れる。そのため、複数の伝熱管2の内壁面に形成される原料液の膜の厚みを均一にすることができる。
ガスと原料液の供給部の配置によっては、複数の伝熱管の内壁面に形成される原料液の膜の厚みが変化する。原料液の膜の厚みが薄くなると、当該原料液の蒸発により伝熱管の内壁面が露出することがある。内壁面が露出すると、当該露出した内壁面に原料液の残渣が残留し、伝熱管の詰まりを引き起こす惧れがある。
これに対し、本実施形態においては、複数の伝熱管2の延在方向から見て、複数の通液孔51が上部管板3の伝熱管2が設けられていない領域と重なる位置に配置されるとともに、複数の通気孔52が複数の伝熱管2と重なる位置に配置される構成を採用しているので、複数の伝熱管2の内壁面に形成される原料液の膜の厚みが変化することが抑制される。さらに、複数の伝熱管2の全ての内壁面に常時原料液の膜が形成される程度の量以上の未蒸発原料液を複数の伝熱管2の下端から流下させる。これにより、当該伝熱管2の内壁面を流れる原料液を蒸発させても、内壁面が露出して原料液の残渣が残留することはない。よって、伝熱管の詰まりを抑制して原料液の蒸発を円滑に行わせることができる。
According to the evaporator 1 of the present embodiment, the first dispersion plate 5 is provided with the plurality of liquid passage holes 51 and the heat transfer tubes 2 of the upper tube plate 3 when viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes 2. A plurality of vent holes 52 are formed at positions overlapping with the plurality of heat transfer tubes 2, while being formed at positions overlapping with the regions not formed. As a result, the raw material liquid from the raw material liquid supply pipe 9 passes through the liquid passage hole 51 and flows into the region where the heat transfer tubes 2 of the upper tube plate 3 are not provided, and flows into the plurality of heat transfer tubes 2. The Then, the gas from the gas supply pipe 10 passes through the plurality of vent holes 52 and flows into the plurality of heat transfer tubes 2 in a state where the film of the raw material liquid is formed on the inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes 2. The Further, the raw material liquid from the raw material liquid supply pipe 9 is prevented from flowing directly into the plurality of heat transfer tubes 2. Furthermore, in order to restrict | limit the flow direction of the gas from the gas supply piping 10, gas flows smoothly into the inside of the some heat exchanger tube 2. FIG. Therefore, the film thickness of the raw material liquid formed on the inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes 2 can be made uniform.
The thickness of the film of the raw material liquid formed on the inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes varies depending on the arrangement of the gas and raw material liquid supply units. When the thickness of the raw material liquid film is reduced, the inner wall surface of the heat transfer tube may be exposed due to evaporation of the raw material liquid. When the inner wall surface is exposed, a residue of the raw material liquid remains on the exposed inner wall surface, which may cause clogging of the heat transfer tube.
On the other hand, in the present embodiment, when viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes 2, the plurality of liquid passage holes 51 are arranged at positions that overlap with the region of the upper tube plate 3 where the heat transfer tubes 2 are not provided. In addition, since the plurality of vent holes 52 are arranged at positions overlapping the plurality of heat transfer tubes 2, the thickness of the raw material liquid film formed on the inner wall surface of the plurality of heat transfer tubes 2 changes. It is suppressed. Further, an unevaporated raw material liquid in an amount equal to or more than the amount that a film of the raw material liquid is always formed on all inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes 2 is caused to flow down from the lower ends of the plurality of heat transfer tubes 2. Thereby, even if the raw material liquid flowing on the inner wall surface of the heat transfer tube 2 is evaporated, the inner wall surface is not exposed and the raw material liquid residue does not remain. Therefore, clogging of the heat transfer tube can be suppressed, and the raw material liquid can be smoothly evaporated.

また、第1の分散板5の上部管板3側の面の通液孔51が形成された部分には、ノズル51aが設けられている。このため、ノズル51aが設けられていない場合に比べて、通液孔51を通過した原料液が上部管板3の伝熱管2が設けられていない領域に流入しやすくなる。これにより、通液孔51を通過した原料液が第1の分散板5の上部管板3側の面に沿って流れて滴り落ちることが抑制される。そのため、原料液が直接複数の伝熱管2に流入することが抑制される。よって、複数の伝熱管2の内壁面に均一な原料液の膜が形成された状態を維持することができる。   In addition, a nozzle 51 a is provided in a portion where the liquid passage hole 51 is formed on the surface of the first dispersion plate 5 on the upper tube plate 3 side. For this reason, compared with the case where the nozzle 51a is not provided, the raw material liquid which passed the liquid flow hole 51 becomes easy to flow into the area | region where the heat exchanger tube 2 of the upper tube plate 3 is not provided. Thereby, it is suppressed that the raw material liquid which passed the liquid flow hole 51 flows along the surface at the side of the upper tube sheet 3 of the 1st dispersion plate 5, and dripping. Therefore, the raw material liquid is prevented from flowing directly into the plurality of heat transfer tubes 2. Therefore, it is possible to maintain a state in which a uniform film of the raw material liquid is formed on the inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes 2.

また、分散板6の第1の分散板5側の面の分液孔61が形成された部分には、ノズル61aが設けられている。このため、ノズル61aが設けられていない場合に比べて、分液孔61を通過した原料液が第1の分散板5に形成された通液孔51に向けて流入しやすくなる。これにより、分液孔61を通過した原料液が分散板6の第1の分散板5側の面に沿って流れて滴り落ちることが抑制される。そのため、原料液が直接複数の伝熱管2に流入することが抑制される。よって、複数の伝熱管2の内壁面に均一な原料液の膜が形成された状態を維持することができる。   Further, a nozzle 61 a is provided in a portion where the liquid separation hole 61 is formed on the surface of the dispersion plate 6 on the first dispersion plate 5 side. For this reason, compared with the case where the nozzle 61 a is not provided, the raw material liquid that has passed through the liquid separation hole 61 is likely to flow toward the liquid passage hole 51 formed in the first dispersion plate 5. Thereby, it is suppressed that the raw material liquid which passed the liquid separation hole 61 flows along the surface at the side of the 1st dispersion plate 5 of the dispersion plate 6, and dripping. Therefore, the raw material liquid is prevented from flowing directly into the plurality of heat transfer tubes 2. Therefore, it is possible to maintain a state in which a uniform film of the raw material liquid is formed on the inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes 2.

また、ガス供給配管10からのガスが隙間62を通過し複数の通気孔52を通過して複数の伝熱管の内部に流入されるように構成されている。これにより、ガス供給配管10からのガスの流れ方向が制限されるため、ガスが複数の伝熱管2の内部にスムーズに流れる。そのため、ガスが複数の伝熱管2の内部を流れる過程において複数の伝熱管2の内壁面に均一な原料液の膜が形成された状態を維持することができる。よって、伝熱管の詰まりを抑制して原料液の蒸発を円滑に行わせることができる。   In addition, the gas from the gas supply pipe 10 passes through the gaps 62 and passes through the plurality of vent holes 52 to flow into the plurality of heat transfer tubes. Thereby, since the flow direction of the gas from the gas supply pipe 10 is restricted, the gas flows smoothly into the plurality of heat transfer tubes 2. Therefore, it is possible to maintain a state in which a uniform film of the raw material liquid is formed on the inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes 2 in the process in which the gas flows inside the plurality of heat transfer tubes 2. Therefore, clogging of the heat transfer tube can be suppressed, and the raw material liquid can be smoothly evaporated.

また、伝熱管2の面積が当該伝熱管2の延在方向から見て通気孔52の面積以上の面積である。そのため、通気孔52を通過したガスが伝熱管2の内部に流入しやすくなる。仮に、伝熱管2の面積が当該伝熱管2の延在方向から見て通気孔52の面積よりも小さい面積であると、通気孔52を通過したガスが伝熱管2の外部に流入し、上部管板3上の原料液の流れを乱すことがある。上部管板3上の原料液の流れが乱れると、伝熱管2の内壁面に形成される原料液の膜の厚みが変化してしまう。
これに対し、本実施形態においては、伝熱管2の面積が当該伝熱管2の延在方向から見て通気孔52の面積以上の面積であるので、通気孔52を通過したガスが伝熱管2の外部に流入することが抑制される。これにより、上部管板3上の原料液の流れが乱れることが抑制される。よって、伝熱管2の内壁面に形成される原料液の膜の厚みが変化することを抑制することができる。
Further, the area of the heat transfer tube 2 is larger than the area of the vent hole 52 when viewed from the extending direction of the heat transfer tube 2. Therefore, the gas that has passed through the vent hole 52 easily flows into the heat transfer tube 2. If the area of the heat transfer tube 2 is smaller than the area of the vent hole 52 when viewed from the extending direction of the heat transfer pipe 2, the gas that has passed through the vent hole 52 flows into the outside of the heat transfer pipe 2, The flow of the raw material liquid on the tube plate 3 may be disturbed. When the flow of the raw material liquid on the upper tube plate 3 is disturbed, the thickness of the raw material liquid film formed on the inner wall surface of the heat transfer tube 2 changes.
On the other hand, in the present embodiment, the area of the heat transfer tube 2 is larger than the area of the vent hole 52 when viewed from the extending direction of the heat transfer pipe 2, so that the gas that has passed through the vent hole 52 passes through the heat transfer pipe 2. Inflow to the outside of the is suppressed. Thereby, it is suppressed that the flow of the raw material liquid on the upper tube sheet 3 is disturbed. Therefore, it can suppress that the thickness of the film | membrane of the raw material liquid formed in the inner wall face of the heat exchanger tube 2 changes.

また、伝熱管2の中心が当該伝熱管2の延在方向から見て通気孔52の中心と一致している。これにより、通気孔52を通過したガスが伝熱管2の内部に流入しやすくなる。すなわち、通気孔52を通過したガスが伝熱管2の外部に流入することが抑制される。これにより、上部管板3上の原料液の流れが乱れることが抑制される。よって、伝熱管2の内壁面に形成される原料液の膜の厚みが変化することを抑制することができる。   Further, the center of the heat transfer tube 2 coincides with the center of the vent hole 52 when viewed from the extending direction of the heat transfer tube 2. As a result, the gas that has passed through the vent hole 52 easily flows into the heat transfer tube 2. That is, the gas that has passed through the vent hole 52 is prevented from flowing into the outside of the heat transfer tube 2. Thereby, it is suppressed that the flow of the raw material liquid on the upper tube sheet 3 is disturbed. Therefore, it can suppress that the thickness of the film | membrane of the raw material liquid formed in the inner wall face of the heat exchanger tube 2 changes.

なお、本実施形態の蒸発装置においては、原料液としてシクロヘキサノンオキシムを用いているが、これに限らない。この他にも、蒸発させる際に原料液の残渣が残留することがある種々の原料液を用いることができる。   In the evaporator according to the present embodiment, cyclohexanone oxime is used as the raw material liquid, but the present invention is not limited to this. In addition to this, various raw material liquids in which a residue of the raw material liquid may remain during evaporation can be used.

また、本実施形態の蒸発装置においては、第1の分散板5の上に1つの分散板6のみが設けられているが、これに限らない。例えば、第1の分散板5の上に複数の分散板6が設けられていてもよい。また、分散板6にはノズル61aが設けられていてもよいし、ノズル61aが設けられていなくてもよい。   Moreover, in the evaporator of this embodiment, although only the one dispersion plate 6 is provided on the 1st dispersion plate 5, it does not restrict to this. For example, a plurality of dispersion plates 6 may be provided on the first dispersion plate 5. Moreover, the nozzle 61a may be provided in the dispersion plate 6, and the nozzle 61a does not need to be provided.

(第2実施形態)
図3は、図1に対応した、本発明の第2実施形態に係る蒸発装置1Aを示す縦断面図である。図3に示すように、本実施形態に係る蒸発装置1Aは、分散板6に替えて第2の分散板12が設けられている点、複数の伝熱管2から流出された原料液を第2の分散板12の上方へ移送させる移送機構13を有している点、で上述の第1実施形態に係る蒸発装置1と異なっている。その他の点は上述の構成と同様であるので、図1と同様の要素には同一の符号を付し、詳細な説明は省略する。
(Second Embodiment)
FIG. 3 is a longitudinal sectional view showing an evaporation apparatus 1A according to the second embodiment of the present invention, corresponding to FIG. As shown in FIG. 3, the evaporation apparatus 1 </ b> A according to the present embodiment is provided with a second dispersion plate 12 instead of the dispersion plate 6, and the second raw material liquid flowing out from the plurality of heat transfer tubes 2 is used. It differs from the evaporation apparatus 1 which concerns on the above-mentioned 1st Embodiment by the point which has the transfer mechanism 13 made to transfer above the dispersion plate 12. FIG. Since the other points are the same as the above-described configuration, the same elements as those in FIG.

図3に示すように、蒸発装置1Aにおいて、原料液供給配管9及びガス供給配管10と第1の分散板5との間には第2の分散板12が設けられている。第2の分散板12には、原料液供給配管9からの原料液を第1の分散板5に形成された通液孔51に向けて流入させる複数の通液孔121と、ガス供給配管10からのガスを通す複数の通気管122と、が設けられている。複数の通液孔121は、複数の伝熱管2の延在方向から見て、複数の通気孔52と重ならない位置に配置されている。   As shown in FIG. 3, in the evaporation apparatus 1 </ b> A, a second dispersion plate 12 is provided between the raw material liquid supply pipe 9 and the gas supply pipe 10 and the first dispersion plate 5. The second dispersion plate 12 has a plurality of liquid passage holes 121 through which the raw material liquid from the raw material liquid supply pipe 9 flows toward the liquid passage holes 51 formed in the first dispersion plate 5, and the gas supply pipe 10. A plurality of vent pipes 122 through which gas from The plurality of liquid passage holes 121 are arranged at positions that do not overlap with the plurality of vent holes 52 when viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes 2.

図4は、蒸発装置1Aの第2の分散板12における複数の通気管122の配置状態を示す模式図である。図4(a)は第2の分散板12の平面図であり、便宜上、収容部7については破線で示し、通気管122の切欠部122aについては二点鎖線で示している。図4(b)は第2の分散板12の斜視図である。   FIG. 4 is a schematic view showing an arrangement state of the plurality of vent pipes 122 in the second dispersion plate 12 of the evaporation apparatus 1A. 4A is a plan view of the second dispersion plate 12. For convenience, the accommodating portion 7 is indicated by a broken line, and the cutout portion 122a of the vent pipe 122 is indicated by a two-dot chain line. FIG. 4B is a perspective view of the second dispersion plate 12.

図4(a)に示すように、第2の分散板12には、原料液を通す複数の通液孔121と、ガスを通す複数の通気管122とが形成されている。通液孔121の形状は平面視円形である。通気管122の形状は平面視円形である。平面視において、第2の分散板12には、6つの通気管122が同心円状に配置されている。なお、本実施形態に示す通気管122の配置数は一例であり、これに限らず種々の配置数を採用することができる。   As shown in FIG. 4A, the second dispersion plate 12 is formed with a plurality of liquid passage holes 121 through which the raw material liquid passes and a plurality of vent pipes 122 through which the gas passes. The shape of the liquid passage hole 121 is circular in plan view. The shape of the vent pipe 122 is circular in plan view. In the plan view, six vent pipes 122 are concentrically arranged on the second dispersion plate 12. In addition, the number of arrangement | positioning of the ventilation pipe | tube 122 shown to this embodiment is an example, Not only this but various arrangement | positioning numbers are employable.

第2の分散板12の外周部と収容部7の内壁面との間には隙間123が存在している。第2の分散板12の複数の通気管122の開口面積を全て足し合わせた面積は、隙間123の面積の30%〜70%の範囲の面積となっている。なお、第2の分散板12の複数の通気管122の開口面積を全て足し合わせた面積は、隙間123の面積の40〜60%の面積とするのが好ましい。   A gap 123 exists between the outer peripheral portion of the second dispersion plate 12 and the inner wall surface of the accommodating portion 7. The total area of the openings of the plurality of ventilation pipes 122 of the second dispersion plate 12 is an area in the range of 30% to 70% of the area of the gap 123. The area obtained by adding all the opening areas of the plurality of ventilation pipes 122 of the second dispersion plate 12 is preferably 40 to 60% of the area of the gap 123.

複数の通気管122は、ガス供給配管10の側であって第2の分散板12の中心部の側に切欠部122aを有している。切欠部122aは、伝熱管2の延在方向から見て(平面視)において、通気管122の中心CP2と第2の分散板12の中心CP1とを結んだ直線と通気管122の円周との2つの交点P1,P2のうち、第2の分散板12の中心CP1に近い側の交点P1が、切欠部122aの弧ARの中点となるように配置されている。切欠部の弧ARに対する中心角θは、例えば90°〜270°とすることが望ましく、より好ましくは150〜210°程度である。   The plurality of ventilation pipes 122 have a notch 122 a on the gas supply pipe 10 side and on the central part side of the second dispersion plate 12. The notch 122a is a straight line connecting the center CP2 of the vent pipe 122 and the center CP1 of the second dispersion plate 12 as viewed from the extending direction of the heat transfer pipe 2 (plan view), and the circumference of the vent pipe 122. Among the two intersection points P1 and P2, the intersection point P1 closer to the center CP1 of the second dispersion plate 12 is arranged to be the midpoint of the arc AR of the notch 122a. The central angle θ of the notch with respect to the arc AR is desirably, for example, 90 ° to 270 °, and more preferably about 150 to 210 °.

図3及び図4(b)に示すように、通気管122の上端は、第2の分散板12の側壁の上端よりも、上方に突き出している。図3の縦断面図において切欠部122aの縦方向の長さH2は通気管122の全長H1に対して、10%〜80%程度が望ましく、より好ましくは20〜50%程度である。   As shown in FIGS. 3 and 4B, the upper end of the vent pipe 122 protrudes upward from the upper end of the side wall of the second dispersion plate 12. In the longitudinal sectional view of FIG. 3, the length H2 in the vertical direction of the notch 122a is desirably about 10% to 80%, more preferably about 20 to 50% with respect to the total length H1 of the vent pipe 122.

このように、ガス供給配管10の側に切欠部122aを有する通気管122が存在することにより、外周部の隙間123に強いガス流れが発生することを抑制し、液流れへの悪影響を抑制することができる。   Thus, the presence of the vent pipe 122 having the notch 122a on the side of the gas supply pipe 10 suppresses the generation of a strong gas flow in the gap 123 at the outer peripheral portion, and suppresses adverse effects on the liquid flow. be able to.

図3に戻り、第2の分散板12の第1の分散板5側の面の通液孔121が形成された部分には、当該面から第1の分散板5側に突出したノズル121aが設けられている。   Returning to FIG. 3, the nozzle 121 a that protrudes from the surface to the first dispersion plate 5 side is formed in the portion of the surface of the second dispersion plate 12 on the first dispersion plate 5 side where the liquid passage holes 121 are formed. Is provided.

第2の分散板12の外周部と収容部7の内壁面との間には隙間123が存在している。蒸発装置1Aは、ガス供給配管10からのガスが、当該隙間123を通過し、複数の通気孔52を通過して複数の伝熱管2の内部に流入されるように構成されている。   A gap 123 exists between the outer peripheral portion of the second dispersion plate 12 and the inner wall surface of the accommodating portion 7. The evaporator 1 </ b> A is configured such that the gas from the gas supply pipe 10 passes through the gaps 123, passes through the plurality of vent holes 52, and flows into the plurality of heat transfer tubes 2.

移送機構13は、移送配管131とポンプ132とを有している。蒸発装置1Aにおいて、塔底8の底部には、移送配管131の一端が接続されている。原料液供給配管9には、移送配管131の他端が接続されている。   The transfer mechanism 13 includes a transfer pipe 131 and a pump 132. In the evaporator 1 </ b> A, one end of a transfer pipe 131 is connected to the bottom of the tower bottom 8. The other end of the transfer pipe 131 is connected to the raw material liquid supply pipe 9.

伝熱管2の内壁面に液の膜が形成された状態を維持するためには、伝熱管2の内壁面下端での原料液の流下液量を所定の液量以上にする必要がある。そのため、原料液が蒸発せずに伝熱管2を通過して塔底8に滴下する場合がある。当該原料液(未蒸発液)は、塔底8から移送配管131を経てポンプ132に供給される。当該未蒸発液の一部は、ポンプ132により移送配管131、原料液供給配管9を通って再び収容部7内に供給される。このようにして未蒸発液が循環される。当該供給された未蒸発液は、第2の分散板12の通液孔121を通過して第1の分散板5の通液孔51を経て上部管板3の伝熱管2が設けられていない領域に流入され、複数の伝熱管2の内部に流入される。   In order to maintain the state in which the liquid film is formed on the inner wall surface of the heat transfer tube 2, it is necessary to set the amount of the raw material liquid flowing down at the lower end of the inner wall surface of the heat transfer tube 2 to a predetermined amount or more. Therefore, the raw material liquid may pass through the heat transfer tube 2 without evaporating and drop on the tower bottom 8 in some cases. The raw material liquid (non-evaporated liquid) is supplied to the pump 132 through the transfer pipe 131 from the tower bottom 8. A part of the non-evaporated liquid is supplied again into the container 7 by the pump 132 through the transfer pipe 131 and the raw material liquid supply pipe 9. In this way, the unevaporated liquid is circulated. The supplied non-evaporated liquid passes through the liquid passage hole 121 of the second dispersion plate 12, passes through the liquid passage hole 51 of the first dispersion plate 5, and is not provided with the heat transfer tube 2 of the upper tube sheet 3. It flows into the region and flows into the plurality of heat transfer tubes 2.

本実施形態の蒸発装置1Aによれば、第2の分散板12が設けられており、複数の通気管122が複数の伝熱管2の延在方向から見て同心円状に配置されている。そのため、複数の通気管122がランダムに配置される場合に比べて、ガス供給配管10からのガスの流れが収容部7内の一部に偏ることが抑制され、収容部7内の全域において均一になる。そのため、ガス供給配管10からのガスが第2の分散板12の外周部の隙間123及び通気管122を通って、第1の分散板5に均一に供給され、ガスの流れ方向が制限され、ガスが複数の伝熱管2の内部にスムーズに流れる。よって、複数の伝熱管2の内壁面に均一な原料液の膜が形成された状態を維持することができる。   According to the evaporation apparatus 1 </ b> A of the present embodiment, the second dispersion plate 12 is provided, and the plurality of ventilation pipes 122 are arranged concentrically as viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer pipes 2. Therefore, compared with the case where the plurality of ventilation pipes 122 are randomly arranged, the gas flow from the gas supply pipe 10 is suppressed from being biased to a part in the housing portion 7, and is uniform throughout the housing portion 7. become. Therefore, the gas from the gas supply pipe 10 is uniformly supplied to the first dispersion plate 5 through the gap 123 and the vent pipe 122 in the outer peripheral portion of the second dispersion plate 12, and the gas flow direction is limited, The gas flows smoothly into the plurality of heat transfer tubes 2. Therefore, it is possible to maintain a state in which a uniform film of the raw material liquid is formed on the inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes 2.

また、移送機構13を有しているので、未蒸発液の一部を、再度、蒸発に供することができる。   Moreover, since it has the transfer mechanism 13, a part of un-evaporated liquid can be again used for evaporation.

なお、上記実施形態において、伝熱管の突出部の先端には溝が形成されていてもよい。
図5(a)〜(c)は、伝熱管の突出部の変形例を示す模式図である。
In the above embodiment, a groove may be formed at the tip of the protruding portion of the heat transfer tube.
Fig.5 (a)-(c) is a schematic diagram which shows the modification of the protrusion part of a heat exchanger tube.

例えば、図5(a)に示すように、伝熱管2Aの突出部2Aaの先端にはV字状の溝2Abが形成されていてもよい。
また、図5(b)に示すように、伝熱管2Bの突出部2Baの先端にはU字状の溝2Bbが形成されていてもよい。
また、図5(c)に示すように、伝熱管2Cの突出部2Caの先端には凹状の溝2Cbが形成されていてもよい。
For example, as shown to Fig.5 (a), V-shaped groove | channel 2Ab may be formed in the front-end | tip of protrusion part 2Aa of 2 A of heat exchanger tubes.
Moreover, as shown in FIG.5 (b), the U-shaped groove | channel 2Bb may be formed in the front-end | tip of protrusion part 2Ba of the heat exchanger tube 2B.
Moreover, as shown in FIG.5 (c), the recessed groove | channel 2Cb may be formed in the front-end | tip of the protrusion part 2Ca of the heat exchanger tube 2C.

伝熱管の突出部の先端に溝が形成されていない構成であると、複数の伝熱管に原料液を均一に分配するためには、各伝熱管の突出部の先端の高さを同一にする必要がある。これに対し、伝熱管の突出部の先端に溝が形成された構成であると、複数の伝熱管に原料液を均一に分配するに当たり、伝熱管の製作精度及び設置精度の要求度合いが小さくなる。   When the groove is not formed at the tip of the projecting portion of the heat transfer tube, the height of the tip of the projecting portion of each heat transfer tube is made the same in order to uniformly distribute the raw material liquid to the plurality of heat transfer tubes. There is a need. On the other hand, when the groove is formed at the tip of the projecting portion of the heat transfer tube, the required degree of manufacturing accuracy and installation accuracy of the heat transfer tube is reduced in uniformly distributing the raw material liquid to the plurality of heat transfer tubes. .

(蒸発システム)
図6は、蒸発システムの一例を示す模式図である。
図6に示すように、蒸発システム100は、蒸発装置1と、ポンプ101と、減圧蒸留器102と、凝縮器103と、を含んで構成されている。
(Evaporation system)
FIG. 6 is a schematic diagram illustrating an example of an evaporation system.
As shown in FIG. 6, the evaporation system 100 includes an evaporator 1, a pump 101, a vacuum distillation apparatus 102, and a condenser 103.

蒸発システム100は、蒸発装置1で蒸発されなかった、原料の未蒸発液と原料由来のタール分との混合物から、原料を回収し、蒸発装置1に再利用するものである。   The evaporation system 100 collects the raw material from a mixture of the raw material unevaporated liquid and the tar content derived from the raw material, which has not been evaporated by the evaporation device 1, and reuses it in the evaporation device 1.

原料液L1は、原料液供給配管を経て、収容部へ送られる。その供給過程において溶剤供給配管から溶剤L2が供給され、原料液L1と溶剤L2とが混合される。
ガスG1と溶剤ガスG2の混合ガスは、ガス供給配管を経て収容部へ送られる。
The raw material liquid L1 is sent to the storage unit through the raw material liquid supply pipe. In the supply process, the solvent L2 is supplied from the solvent supply pipe, and the raw material liquid L1 and the solvent L2 are mixed.
The mixed gas of the gas G1 and the solvent gas G2 is sent to the accommodating part through the gas supply pipe.

複数の伝熱管の内壁面に原料液の膜が形成された状態で、熱媒Hにより当該複数の伝熱管を加熱させ、当該原料液を蒸発させる。これにより、蒸発ガス(シクロヘキサノンオキシムガス)G3を得る。これと同時に、残渣Cとして、原料液と高沸点成分との混合物を得る。   With the raw material liquid film formed on the inner wall surfaces of the plurality of heat transfer tubes, the heat transfer tubes H are heated by the heat medium H to evaporate the raw material solutions. Thereby, evaporation gas (cyclohexanone oxime gas) G3 is obtained. At the same time, a mixture of the raw material liquid and the high boiling point component is obtained as the residue C.

残渣Cの一部(原料液の未蒸発液)C1は、ポンプ101により移送配管、原料液供給配管を通って再び収容部内に供給され、循環される。   Part of the residue C (raw material non-evaporated liquid) C1 is again supplied and circulated by the pump 101 through the transfer pipe and the raw material liquid supply pipe into the accommodating portion.

残渣Cの残りの一部C1は、減圧蒸留器102に供給され、蒸留される。例えば、原料液がシクロヘキサノンオキシムの場合、前記蒸留は、1.4kPa〜10kPa(絶対圧力)の減圧下で、蒸留温度は90〜135℃とするのが好ましい。これにより、原料を含んだ低沸点成分Aを留去させるとともに、蒸留残渣である高沸点成分Tを排出する。   The remaining part C1 of the residue C is supplied to the vacuum distillation apparatus 102 and distilled. For example, when the raw material liquid is cyclohexanone oxime, the distillation is preferably performed under a reduced pressure of 1.4 kPa to 10 kPa (absolute pressure) and a distillation temperature of 90 to 135 ° C. As a result, the low-boiling component A containing the raw material is distilled off, and the high-boiling component T that is a distillation residue is discharged.

留去された原料を含んだ低沸点成分Aは、凝縮器103に導かれ、凝縮される。これにより、凝縮された原料を含んだ低沸点成分A1を回収するとともに、未凝縮の低沸点成分A2を排出する。回収された原料を含んだ低沸点成分A1は、移送配管、原料液供給配管を通って再び収容部内に供給され、循環される。   The low boiling point component A containing the distilled material is led to the condenser 103 and condensed. As a result, the low-boiling component A1 containing the condensed raw material is recovered and the uncondensed low-boiling component A2 is discharged. The low-boiling component A1 containing the recovered raw material is supplied and circulated again through the transfer pipe and the raw material liquid supply pipe into the accommodating portion.

本発明によれば、伝熱管の詰まり及び原料のタール化を抑制して、原料液の蒸発、未蒸発原料の回収を円滑に行い、かつ原材料の蒸発を高効率に行うことが可能な蒸発装置1及び蒸発システム100を提供することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the evaporation apparatus which suppresses clogging of a heat exchanger tube and tarring of a raw material, can evaporate raw material liquid smoothly, collect | recovers unevaporated raw materials, and can evaporate raw materials with high efficiency 1 and the evaporation system 100 can be provided.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施の形態例について説明したが、本発明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計要求等に基づき種々変更可能である。   The preferred embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, but it goes without saying that the present invention is not limited to such examples. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described examples are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the gist of the present invention.

以下、本発明の実施例を示すが、本発明はこれらによって限定されるものではない。   Examples of the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto.

実施例1
内径50mm、長さ6mの伝熱管を備えた蒸発装置に対して、循環形式により原料液を蒸発させた。当該原料液としては、シクロヘキサノンオキシムと当該シクロヘキサノンオキシムを希釈する溶剤との混合液を用いた。当該溶剤としてメタノールを用いた。ガスとして窒素ガスを用いた。分散板として第1の分散板を用い、分散板の段数は1段とした(図1参照)。主な運転条件は、以下の通りである。
・未蒸発液の循環量:140(140〜150)kg/時間・本
・伝熱管一本当たりのメタノール液供給量:0.85(0.825〜0.875)kg/時間・本
・伝熱管一本当たりのメタノールガス供給量:50(50〜52.5)kg/時間・本
・伝熱管一本当たりの窒素ガス供給量:メタノールガス供給量の5%
・蒸発温度:140〜160℃
・運転圧:950torr以下
その結果、伝熱管一本当たりのシクロヘキサノンオキシム蒸発量=95Tまで、伝熱管の詰まりは認められなかった。
Example 1
The raw material liquid was evaporated in a circulating manner to an evaporator equipped with a heat transfer tube having an inner diameter of 50 mm and a length of 6 m. As the raw material liquid, a mixed liquid of cyclohexanone oxime and a solvent for diluting the cyclohexanone oxime was used. Methanol was used as the solvent. Nitrogen gas was used as the gas. The first dispersion plate was used as the dispersion plate, and the number of stages of the dispersion plate was one (see FIG. 1). The main operating conditions are as follows.
-Circulation rate of non-evaporated liquid: 140 (140-150) kg / hour / main-Methanol liquid supply amount per heat transfer tube: 0.85 (0.825-0.875) kg / hour / main- Methanol gas supply amount per heat tube: 50 (50-52.5) kg / hour / main ・ Nitrogen gas supply amount per heat transfer tube: 5% of methanol gas supply amount
Evaporation temperature: 140-160 ° C
Operating pressure: 950 torr or less As a result, clogging of the heat transfer tube was not observed until the amount of cyclohexanone oxime evaporated per heat transfer tube = 95T.

実施例2
内径50mm、長さ6mの伝熱管を備えた蒸発装置に対して、循環形式により原料液を蒸発させた。当該原料液としては、シクロヘキサノンオキシムと当該シクロヘキサノンオキシムを希釈する溶剤との混合液を用いた。当該溶剤としてメタノールを用いた。ガスとして窒素ガスを用いた。分散板として第1の分散板と第2の分散板とを用い、分散板の段数は2段とした。また、第1の分散板の分液孔が形成された部分にはノズルを設置した(図3参照)。主な運転条件は、以下の通りである。
・未蒸発液の循環量:140(140〜150)kg/時間・本
・伝熱管一本当たりのメタノール液供給量:0.85(0.825〜0.875)kg/時間・本
・伝熱管一本当たりのメタノールガス供給量:55(49〜58)kg/時間・本
・伝熱管一本当たりの窒素ガス供給量:メタノールガス供給量の5%
・蒸発温度:140〜160℃
・運転圧:950torr以下
その結果、伝熱管一本当たりのシクロヘキサノンオキシム蒸発量=100Tまで、伝熱管の詰まりは認められなかった。
Example 2
The raw material liquid was evaporated in a circulating manner to an evaporator equipped with a heat transfer tube having an inner diameter of 50 mm and a length of 6 m. As the raw material liquid, a mixed liquid of cyclohexanone oxime and a solvent for diluting the cyclohexanone oxime was used. Methanol was used as the solvent. Nitrogen gas was used as the gas. The first dispersion plate and the second dispersion plate were used as the dispersion plates, and the number of stages of the dispersion plates was two. Moreover, the nozzle was installed in the part in which the liquid separation hole of the 1st dispersion plate was formed (refer FIG. 3). The main operating conditions are as follows.
-Circulation rate of non-evaporated liquid: 140 (140-150) kg / hour / main-Methanol liquid supply amount per heat transfer tube: 0.85 (0.825-0.875) kg / hour / main- Methanol gas supply amount per heat tube: 55 (49-58) kg / hour / main ・ Nitrogen gas supply amount per heat transfer tube: 5% of methanol gas supply amount
Evaporation temperature: 140-160 ° C
Operating pressure: 950 torr or less As a result, clogging of the heat transfer tube was not observed until the amount of cyclohexanone oxime evaporated per heat transfer tube = 100T.

1,1A,1B…蒸発装置、2,2A,2B,2C…伝熱管、2a,2Aa,2Ba,2Ca…突出部、2Ab、2Bb、2Cb…溝、3…上部管板(管板)、5,5A,5B…第1の分散板、6…分散板、7…収容部、9…原料液供給配管(流入部)、10…ガス供給配管(流入部)、12…第2の分散板、13…移送機構、51…通液孔、51a…ノズル、52…通気孔、62…隙間、100…蒸発システム、101…ポンプ、102…減圧蒸留器、103…凝縮器、121…通液孔、122…通気管、122a…切欠部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1,1A, 1B ... Evaporator, 2, 2A, 2B, 2C ... Heat transfer tube, 2a, 2Aa, 2Ba, 2Ca ... Projection part, 2Ab, 2Bb, 2Cb ... Groove, 3 ... Upper tube plate (tube plate), 5 5A, 5B ... first dispersion plate, 6 ... dispersion plate, 7 ... accommodating section, 9 ... raw material liquid supply pipe (inflow part), 10 ... gas supply pipe (inflow part), 12 ... second dispersion plate, DESCRIPTION OF SYMBOLS 13 ... Transfer mechanism, 51 ... Liquid passage hole, 51a ... Nozzle, 52 ... Vent hole, 62 ... Crevice, 100 ... Evaporation system, 101 ... Pump, 102 ... Vacuum distillation apparatus, 103 ... Condenser, 121 ... Liquid passage hole, 122 ... Vent pipe, 122a ... Notch

Claims (13)

複数の伝熱管と、
前記複数の伝熱管を互いに間隔を空けて支持する管板と、
前記管板の上方に設けられた第1の分散板と、を含み、
前記第1の分散板には、前記複数の伝熱管の延在方向から見て、原料液を通す複数の通液孔が前記管板の前記伝熱管が設けられていない領域と重なる位置に形成されているとともに、ガスを通す複数の通気孔が前記複数の伝熱管と重なる位置に形成されており、
前記複数の伝熱管は、前記管板の上面から突出する突出部を有していることを特徴とする蒸発装置。
A plurality of heat transfer tubes;
A tube plate that supports the plurality of heat transfer tubes at an interval from each other;
A first dispersion plate provided above the tube plate,
In the first dispersion plate, a plurality of liquid passage holes through which the raw material liquid passes are formed at a position overlapping with a region of the tube plate where the heat transfer tubes are not provided, as viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes. And a plurality of air holes through which gas passes are formed at positions overlapping the plurality of heat transfer tubes,
The plurality of heat transfer tubes have a protruding portion that protrudes from an upper surface of the tube plate.
前記第1の分散板の管板側の面の前記通液孔が形成された部分には、当該面から前記管板側に突出したノズルが設けられていることを特徴とする請求項1に記載の蒸発装置。   The nozzle which protruded from the said surface to the said tube plate side is provided in the part in which the said liquid passage hole was formed in the surface at the side of the tube plate of a said 1st dispersion | distribution board. The evaporation apparatus as described. 前記第1の分散板に向けて前記原料液及び前記ガスを流入させる流入部を有することを特徴とする請求項1または2に記載の蒸発装置。   The evaporation apparatus according to claim 1, further comprising an inflow portion for allowing the raw material liquid and the gas to flow toward the first dispersion plate. 前記第1の分散板と前記流入部との間には1つ以上の分散板が設けられており、
前記分散板には前記流入部からの前記原料液を通す複数の通液孔が形成されており、
少なくとも前記第1の分散板の直上に配置された前記分散板の複数の通液孔は、前記複数の伝熱管の延在方向から見て、前記第1の分散板の複数の通気孔と重ならない位置に配置されていることを特徴とする請求項3に記載の蒸発装置。
One or more dispersion plates are provided between the first dispersion plate and the inflow portion,
The dispersion plate is formed with a plurality of liquid passage holes through which the raw material liquid from the inflow portion passes.
The plurality of liquid passage holes of the dispersion plate disposed at least immediately above the first dispersion plate are overlapped with the plurality of vent holes of the first dispersion plate when viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer tubes. The evaporation apparatus according to claim 3, wherein the evaporation apparatus is disposed at a position where it does not become.
前記管板と、前記第1の分散板とを収容する収容部を有し、
前記流入部と前記第1の分散板との間には、第2の分散板が設けられており、
前記第2の分散板には、前記流入部からの原料液を前記第1の分散板に形成された前記通液孔に向けて流入させる複数の通液孔と、前記流入部からのガスを通す複数の通気管と、が設けられており、
前記第2の分散板の外周部と前記収容部の内壁面との間には隙間が形成されており、
前記第2の分散板の複数の通気管は、前記複数の伝熱管の延在方向から見て、同心円状に配置されており、
前記第2の分散板の複数の通気管は、前記流入部の側であって前記第2の分散板の中心部の側に切欠部を有していることを特徴とする請求項3または4に記載の蒸発装置。
An accommodating portion for accommodating the tube sheet and the first dispersion plate;
Between the inflow portion and the first dispersion plate, a second dispersion plate is provided,
The second dispersion plate has a plurality of liquid passage holes through which the raw material liquid from the inflow part flows into the liquid passage holes formed in the first dispersion plate, and gas from the inflow part. A plurality of ventilation pipes are provided,
A gap is formed between the outer peripheral portion of the second dispersion plate and the inner wall surface of the housing portion,
The plurality of ventilation pipes of the second dispersion plate are arranged concentrically as viewed from the extending direction of the plurality of heat transfer pipes,
5. The plurality of vent pipes of the second dispersion plate have notches on the inflow portion side and on the center portion side of the second dispersion plate. The evaporation apparatus according to 1.
前記複数の伝熱管から流出された原料液を前記流入部へ移送させる移送機構を有していることを特徴とする請求項3〜5のいずれか一項に記載の蒸発装置。   The evaporation apparatus according to any one of claims 3 to 5, further comprising a transfer mechanism that transfers the raw material liquid that has flowed out of the plurality of heat transfer tubes to the inflow portion. 前記突出部の先端には溝が形成されていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載の蒸発装置。   The evaporating apparatus according to claim 1, wherein a groove is formed at a tip of the projecting portion. 前記伝熱管の面積は、当該伝熱管の延在方向から見て、前記第1の分散板の通気孔の面積以上の面積であることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載の蒸発装置。   The area of the heat transfer tube is an area equal to or larger than the area of the air holes of the first dispersion plate when viewed from the extending direction of the heat transfer tube. The evaporation apparatus as described. 前記伝熱管の中心は、当該伝熱管の延在方向から見て、前記第1の分散板の通気孔の中心と一致していることを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の蒸発装置。   The center of the heat transfer tube coincides with the center of the vent hole of the first dispersion plate when viewed from the extending direction of the heat transfer tube. The evaporation apparatus as described. 前記原料液はシクロヘキサノンオキシムを含むことを特徴とする請求項1〜9のいずれか一項に記載の蒸発装置。   The evaporation apparatus according to claim 1, wherein the raw material liquid contains cyclohexanone oxime. 請求項1〜10のいずれか一項に記載の蒸発装置と、
前記蒸発装置により生成された原料ガスの残渣の一部を前記蒸発装置に循環させるポンプと、
前記残渣の残りの一部を蒸留する減圧蒸留器と、
前記減圧蒸留器により留去された原料を凝縮する凝縮器と、
を有することを特徴とする蒸発システム。
The evaporator according to any one of claims 1 to 10,
A pump for circulating a part of the residue of the source gas generated by the evaporator to the evaporator;
A vacuum distillation apparatus for distilling the remaining part of the residue;
A condenser for condensing the raw material distilled off by the vacuum distillation apparatus;
An evaporation system characterized by comprising:
請求項1〜10のいずれか一項に記載の蒸発装置を用いて、前記原料液を加熱蒸発させ、原料ガスを得た後の残渣を、加熱蒸発させる際の圧力よりも低い圧力の下に蒸留し、蒸留することにより留去された原料ガスを凝縮することで、前記残渣に含まれる原料液を回収することを特徴とする蒸発方法。   Using the evaporation apparatus according to any one of claims 1 to 10, the raw material liquid is heated and evaporated, and the residue after obtaining the raw material gas is under a pressure lower than the pressure when the heat is evaporated. An evaporation method characterized by recovering the raw material liquid contained in the residue by condensing the raw material gas distilled by distillation. シクロヘキサノンオキシムとこれを希釈する溶剤との混合液を蒸発させる蒸発方法であって、前記溶剤がアルコールであり、前記蒸発装置内の全蒸発面が少なくともシクロヘキサノンオキシムで濡れた状態となるように、前記混合液を1060torr以下の圧力下で、かつ前記蒸発装置内の蒸発面下端でのシクロヘキサノンオキシム流下液量が、蒸発面下端の単位長さ(m)当たり170kg/時間以上で蒸発させ、前記蒸留は、1.4kPa〜10kPaの減圧下で蒸留させることを特徴とする請求項11に記載の蒸発方法。

An evaporation method for evaporating a mixed liquid of cyclohexanone oxime and a solvent for diluting the same, wherein the solvent is alcohol, and the entire evaporation surface in the evaporation device is at least wet with cyclohexanone oxime. The liquid mixture is evaporated at a pressure of 1060 torr or less, and the amount of cyclohexanone oxime flowing down at the lower end of the evaporation surface in the evaporator is evaporated at 170 kg / hour or more per unit length (m) of the lower end of the evaporation surface. The evaporation method according to claim 11, wherein distillation is performed under reduced pressure of 1.4 kPa to 10 kPa.

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