JP2013119650A - Partial plating method - Google Patents

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a partial plating method in which partial plating can be performed which controls cyanogen burn, while reducing time required for processing.SOLUTION: In the partial plating method, a part of copper plating performed over an entire hollow machine element part 1 is detached. The copper plating is performed over the entire machine element part 1, and inside the machine element part 1, at least a part of the surface of a plating layer in the boundary division 80 between the portion 31 from which the copper plating is to be detached and the portion 30 from which the copper plating is not to be detached is smoothed. Then, by immersing the portion 31 from which the copper plating is to be detached of the machine element part 1 in an aqueous solution of a cyanogen compound, the cooper plating performed on the portion 31 to be detached is detached.

Description

本発明は、部分めっき工法に関するものであり、特に、シアン化合物の水溶液にて銅めっきを部分剥離除去する部分めっき工法に関するものである。   The present invention relates to a partial plating method, and more particularly to a partial plating method in which copper plating is partially peeled and removed with an aqueous solution of a cyanide compound.

空気調和装置の熱交換器などの冷媒配管には、銅管を用いることが多いが、この銅管に接続される要素部品が鉄鋼材製である場合、そのままではろう付けが困難となる。このように、配管同士の接続において、双方の配管を構成する金属が異なるとろう付けが困難となるため、一方の配管の接続位置に、他方の配管の金属と同じ金属のめっきを部分的に施し、ろう付けを可能とする技術が提案されている(たとえば、特許文献1参照)。   In many cases, a copper pipe is used for refrigerant piping such as a heat exchanger of an air conditioner. However, when an element part connected to the copper pipe is made of a steel material, brazing becomes difficult as it is. In this way, in the connection between pipes, brazing becomes difficult if the metals constituting both pipes are different. Therefore, the same metal plating as that of the other pipe is partially applied to the connection position of one pipe. Techniques have been proposed that allow application and brazing (see, for example, Patent Document 1).

特許文献1に記載の技術は、ステンレス部材11(被めっき物)の表面に、銅管3に接合する部分に、たとえばりん銅ろう付が容易な材質のめっきを施してから、銅管3とステンレス部材11をろう付するものである。   The technique described in Patent Document 1 is such that after the surface of the stainless steel member 11 (to-be-plated object) is plated with a material that can be easily brazed with, for example, phosphor copper, the copper tube 3 The stainless steel member 11 is brazed.

ここで、被めっき物に部分的にめっきを施すにあたり、マスキングによる部分めっき、又は全めっき後に、一部を剥離して部分めっきとするめっき工法がある。「マスキングによる部分めっき工法」とは、被めっき物の素材表面を露出させようとする部分、つまりめっきしない部分にキャップなどでマスキングを施してからめっき処理を行うものである。この「マスキングによる部分めっき工法」は、被めっき物の形状によってはマスキングがしにくいといった理由により、採用することができない場合がある。特に、被めっき物が中空形状であると、被めっき物の内部の一部にマスキングを施すことは困難である。   Here, there is a plating method in which partial plating is performed by partial peeling by partial masking by masking or partial plating after partial plating on an object to be plated. The “partial plating method by masking” is a method in which plating is performed after masking a portion of the material to be plated exposed, that is, a portion not to be plated, with a cap or the like. This “partial plating method by masking” may not be employed because it is difficult to mask depending on the shape of the object to be plated. In particular, if the object to be plated has a hollow shape, it is difficult to mask a part of the object to be plated.

そこで、このような場合には、「全めっき後に一部を剥離して部分めっきとするめっき工法」とする工法が採用される。「全めっき後に一部を剥離して部分めっきとするめっき工法」とは、化学溶液として、シアン化合物の水溶液などを用い、たとえば、被めっき物をシアン化合物の水溶液に浸漬させ、化学的にめっきを剥離除去を行うものである。この「全めっき後に一部を剥離して部分めっきとするめっき工法」では、その水溶液の液面にて剥離位置を管理する。   Therefore, in such a case, a method called “a plating method in which a part is peeled off after partial plating and partial plating” is adopted. “Plating method that removes part after complete plating and makes partial plating” uses a cyanide aqueous solution as the chemical solution. For example, the plating object is immersed in the cyanide aqueous solution and chemically plated. Is removed and removed. In this “plating method in which a part is peeled after partial plating and partial plating is performed”, the peeling position is managed by the liquid level of the aqueous solution.

特開平8−267228号公報(たとえば、段落[0030]〜[0033]、及び図1参照)JP-A-8-267228 (see, for example, paragraphs [0030] to [0033] and FIG. 1)

銅管と鉄鋼管とを接続するにあたり、鉄鋼管に銅めっきを行う。このとき鉄鋼管に対して銅の「全めっき後に一部を剥離して部分めっきとするめっき工法」を行うと、鉄鋼管をシアン化合物の水溶液に浸漬させた際に、剥離境界面の表面にいわゆる「シアン焼け」と呼ばれる変色を生じることがある。なお、この変色は炭酸銅が生成されたことによるものである。このように、鉄鋼管に炭酸銅が残ってしまうと、接続する配管同士の物質が異なるためにろう付けされにくくなる可能性がある。   In connecting the copper pipe and the steel pipe, the steel pipe is plated with copper. At this time, if a copper plating method is applied to the steel pipe, a part of the steel pipe is exfoliated and then partially plated, and when the steel pipe is immersed in an aqueous solution of cyanide, Discoloration called “cyan burn” may occur. This discoloration is due to the production of copper carbonate. Thus, if copper carbonate remains in the steel pipe, it may be difficult to braze because the materials of the pipes to be connected are different.

また、「シアン焼け」による炭酸銅が発生し易いのは、配管のように、内部が中空になった筒状形状の部品の内側である。そこで、この炭酸銅を塩酸にて洗浄することで除去可能であるが、銅めっきが表面から炭化しているため、除去することでめっき厚が減少してしまう。めっき厚が減少した状態では、ろう付けが確実にされなくなる可能性がある。   In addition, copper carbonate due to “cyan burn” is likely to occur inside a cylindrical part having a hollow interior such as a pipe. Therefore, the copper carbonate can be removed by washing with hydrochloric acid, but since the copper plating is carbonized from the surface, the plating thickness is reduced by removing it. When the plating thickness is reduced, brazing may not be ensured.

さらに、「シアン焼け」を塩酸で洗浄してもめっき厚を確保することができるように、炭酸銅の発生を見越して、銅めっき厚を厚くすると、その分だけ配管加工時間が長くなってしまう可能性がある。   Furthermore, in order to ensure the plating thickness even after washing “cyan burn” with hydrochloric acid, in anticipation of the occurrence of copper carbonate, if the copper plating thickness is increased, the piping processing time will be increased accordingly. there is a possibility.

なお、塩酸洗浄は、被めっき物が使用される環境によっては用いり難い場合もある。たとえば、塩酸洗浄後の洗浄工程の不十分により、被めっき物に残留塩素が付着する可能性がある。これにより、被めっき物が冷媒回路で使用される配管であった場合には、その残留塩素が、冷媒回路を循環する冷凍機油を劣化させてしまう可能性がある。   Note that hydrochloric acid cleaning may be difficult to use depending on the environment in which the object to be plated is used. For example, residual chlorine may adhere to an object to be plated due to insufficient cleaning process after hydrochloric acid cleaning. Thereby, when a to-be-plated object is piping used with a refrigerant circuit, the residual chlorine may deteriorate the refrigerating machine oil which circulates through a refrigerant circuit.

本発明は、以上のような課題のうちの少なくとも1つを解決するためになされたもので、加工に要する時間を低減しながら、シアン焼けを抑制する部分めっきを実施することを可能とする部分めっき工法を提供することを目的としている。   The present invention has been made in order to solve at least one of the above-described problems, and is a portion that enables partial plating to suppress cyan burn while reducing the time required for processing. The purpose is to provide a plating method.

本発明に係る部分めっき工法は、内部が中空の機械要素部品の全体に施された銅めっきの一部を剥離する部分めっき工法であって、機械要素部品の全体に銅めっきを施し、機械要素部品の内側であって、銅めっきを剥離する部分と銅めっきを剥離しない部分との境界部におけるめっき層の表面の少なくとも一部を平滑化した後に、機械要素部品の銅めっきを剥離する部分を、シアン化合物の水溶液に浸漬させて、当該剥離する部分に施された銅めっきを剥離するものである。   The partial plating method according to the present invention is a partial plating method in which a part of copper plating applied to the entire inside of a machine element part having a hollow inside is peeled off. After smoothing at least a part of the surface of the plating layer inside the part and at the boundary between the part where the copper plating is peeled off and the part where the copper plating is not peeled off, the part where the copper plating of the machine element part is peeled off Then, it is immersed in an aqueous solution of a cyanide compound and the copper plating applied to the part to be peeled off is peeled off.

本発明に係る部分めっき工法によれば、機械要素部品の銅めっきを部分剥離する前に、機械要素部品の銅めっきを剥離する部分と、剥離しない部分との境界部の近傍を平滑化するので、加工に要する時間を低減しながら、シアン焼けを抑制することができる。   According to the partial plating method according to the present invention, before the copper plating of the machine element part is partially peeled, the vicinity of the boundary between the part where the copper plating of the machine element part is peeled off and the part where the copper plating is not peeled off is smoothed. Cyan burning can be suppressed while reducing the time required for processing.

本発明の実施の形態1に係る部分めっき工法が実施される配管がろう付けされた圧縮機の概要構成図である。It is a schematic block diagram of the compressor with which the piping in which the partial plating method concerning Embodiment 1 of this invention is implemented was brazed. 図1に示す配管の構成及び銅めっき剥離により生じる変色についての説明図である。It is explanatory drawing about the discoloration which arises by the structure of piping shown in FIG. 1, and copper plating peeling. 図2(b)に示す配管及び図2(d)に示す配管に発生した変色部分の断面図である。It is sectional drawing of the discoloration part which generate | occur | produced in piping shown in FIG.2 (b) and piping shown in FIG.2 (d). 本発明の実施の形態1に係る部分めっき工法の銅めっき処理の説明図である。It is explanatory drawing of the copper plating process of the partial plating method which concerns on Embodiment 1 of this invention. 本発明の実施の形態1に係る部分めっき工法のバフがけの説明図である。It is explanatory drawing of the buffing of the partial plating method which concerns on Embodiment 1 of this invention. 複数の配管にバフがけを行い、配管ごとの面粗度を示したものである。A plurality of pipes are buffed to show the surface roughness of each pipe. 図7(a)が部分めっき工法の工程図であり、図7(b)が部分めっき工法を採用しないときの工程図である。FIG. 7A is a process diagram of the partial plating method, and FIG. 7B is a process diagram when the partial plating method is not adopted. 本発明の実施の形態2に係る部分めっき工法のフローチャートである。It is a flowchart of the partial plating construction method which concerns on Embodiment 2 of this invention. 図8に示すステップS21のめっき処理の説明図である。It is explanatory drawing of the plating process of step S21 shown in FIG. 本発明の実施の形態3に係る部分めっき工法のバフがけの説明図である。It is explanatory drawing of the buffing of the partial plating method which concerns on Embodiment 3 of this invention.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。
実施の形態1.
図1は、実施の形態1に係る部分めっき工法が実施される配管1がろう付けされた圧縮機60の概要構成図である。実施の形態1では、部分めっき工法が施される対象、つまり機械要素部品が、圧縮機60の一部を構成する配管1である場合を例に説明する。
本実施の形態1に係る部分めっき工法は、圧縮機60に供給される冷媒が流れる配管1(被めっき物)に対して用いられるものであり、当該配管1の加工時間を低減しながら、シアン焼けを抑制する改良が加えられたものである。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
Embodiment 1 FIG.
FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a compressor 60 to which a pipe 1 on which a partial plating method according to Embodiment 1 is performed is brazed. In the first embodiment, an example in which an object to be subjected to a partial plating method, that is, a machine element component is a pipe 1 that constitutes a part of the compressor 60 will be described.
The partial plating method according to the first embodiment is used for the pipe 1 (to-be-plated object) through which the refrigerant supplied to the compressor 60 flows, and while reducing the processing time of the pipe 1, cyan The improvement which suppresses burning is added.

[配管1の構成]
圧縮機60は、圧縮機60から発生する駆動音や振動音などを低減するマフラー12と、マフラー12に接続され、銅で構成されるマフラー配管10と、マフラー配管10に接続され、本実施の形態1の部分めっき工法が施される配管1と、配管1に接続され、銅で構成される本体接続配管11と、配管1に接続され、鉄で構成されるシリンダー21とを有している。なお、圧縮機60は、マフラー12、マフラー配管10、配管1、本体接続配管11、及びシリンダー21以外に、固定子や回転子などを有しているが図1では図示を省略している。
[Configuration of piping 1]
The compressor 60 is connected to the muffler 12 that reduces drive sound and vibration sound generated from the compressor 60, the muffler 12, and is connected to the muffler pipe 10 and the muffler pipe 10 that are made of copper. It has the pipe 1 to which the partial plating method of the form 1 is applied, the main body connection pipe 11 connected to the pipe 1 and made of copper, and the cylinder 21 connected to the pipe 1 and made of iron. . In addition to the muffler 12, the muffler pipe 10, the pipe 1, the main body connection pipe 11, and the cylinder 21, the compressor 60 includes a stator, a rotor, and the like, which are not shown in FIG.

配管1は、マフラー配管10とシリンダー21とを接続する配管である。配管1は、一方にマフラー配管10が圧入されて接続され、他方にシリンダー21が圧入されて接続されている。そして、配管1は、本体接続配管11を介して圧縮機60本体に固定されている。
すなわち、配管1の一方の内側表面には、銅で構成されるマフラー配管10が接触して接続され、配管1の他方の外側表面には、鉄で構成されるシリンダー21が接触して接続されている。また、配管1には、シリンダー21に接続されていない方であって、配管1の外側表面において、銅で構成される本体接続配管11が接触して接続されている。
The pipe 1 is a pipe that connects the muffler pipe 10 and the cylinder 21. The pipe 1 has a muffler pipe 10 press-fitted and connected to one side, and a cylinder 21 is press-fitted and connected to the other. The pipe 1 is fixed to the main body of the compressor 60 via the main body connection pipe 11.
That is, a muffler pipe 10 made of copper is contacted and connected to one inner surface of the pipe 1, and a cylinder 21 made of iron is contacted and connected to the other outer surface of the pipe 1. ing. The pipe 1 is connected to the main body connection pipe 11 made of copper on the outer surface of the pipe 1 that is not connected to the cylinder 21.

[配管1の銅めっき]
ここで、配管1は、配管1の外側において、シリンダー21が接続される外側表面部分には銅めっきを形成しないが、本体接続配管11が接続される外側表面部分には銅めっきを形成する。すなわち、「部分めっき工法」を用いて、配管1の全体を銅めっきが行われた後に、配管1の銅めっきの部分剥離が行われる。より詳細には、以下の通りである。
配管1には、配管1の外側全体及び内側全体に銅めっきが施されるものである。しかし、配管1はシリンダー21に圧入して固定するため、配管1の外側表面のうちシリンダー21と接触する外側表面に銅めっきが形成されていると、配管1とシリンダー21のシール性が低減する可能性がある。そこで、配管1の外側表面のうちシリンダー21と接触する外側表面の銅めっきは、シアン化合物によって部分剥離される。なお、本実施の形態1では、配管1のうち銅めっきを剥離する部分をシアン化合物の水溶液に浸漬させて除去するものとする。
一方、配管1の外側表面のうち本体接続配管11と接触する外側表面の銅めっきについては、剥離しないで残す。これにより、配管1と本体接続配管11との銅ろう付けが可能となっている。
[Piping 1 copper plating]
Here, the pipe 1 does not form copper plating on the outer surface part to which the cylinder 21 is connected outside the pipe 1, but forms copper plating on the outer surface part to which the main body connection pipe 11 is connected. That is, using the “partial plating method”, after the entire pipe 1 is copper plated, the copper plating of the pipe 1 is partially peeled off. More details are as follows.
The pipe 1 is subjected to copper plating on the entire outside and inside of the pipe 1. However, since the pipe 1 is press-fitted into the cylinder 21 and fixed, if the copper plating is formed on the outer surface of the pipe 1 that contacts the cylinder 21, the sealing performance of the pipe 1 and the cylinder 21 is reduced. there is a possibility. Therefore, the copper plating on the outer surface that contacts the cylinder 21 of the outer surface of the pipe 1 is partially peeled off by the cyanide compound. In the first embodiment, the part of the pipe 1 from which the copper plating is peeled is immersed in an aqueous solution of a cyanide and removed.
On the other hand, the copper plating on the outer surface of the outer surface of the pipe 1 that comes into contact with the main body connecting pipe 11 is left without peeling. Thereby, copper brazing of the pipe 1 and the main body connection pipe 11 is possible.

また、配管1は、配管1の内側において、銅で構成されるマフラー配管10が接続され、マフラー配管10が接続される内側表面部分には銅めっきが形成されているものである。すなわち、シリンダー21がシアン化合物の水溶液に浸漬された際に、配管1の外側表面のうちシリンダー21と接触する外側表面の銅めっきだけでなく、当該外側表面に対応する内側表面の銅めっきも剥離される。しかし、マフラー配管10と接触する内側表面については、銅めっきを剥離しないで残しているということである。これにより、配管1ととの銅ろう付けが可能となっている。   Further, the pipe 1 is configured such that a muffler pipe 10 made of copper is connected inside the pipe 1, and copper plating is formed on an inner surface portion to which the muffler pipe 10 is connected. That is, when the cylinder 21 is immersed in an aqueous solution of cyanide, not only the outer surface copper plating that contacts the cylinder 21 out of the outer surface of the pipe 1 but also the inner surface copper plating corresponding to the outer surface is peeled off. Is done. However, the inner surface in contact with the muffler pipe 10 is left without peeling off the copper plating. Thereby, copper brazing with piping 1 is attained.

[配管1の銅めっきの部分剥離]
図2は、図1に示す配管1の構成及び銅めっき剥離により生じる変色についての説明図である。図2(a)は配管1の外側表面を示し、図2(b)は図2(a)の配管1を紙面と平行な面で割り、配管1の内側表面を示している。また、図2(c)は、図2(a)の配管1とは異なる形状の配管1Aの外側表面を示し、図2(d)は図2(c)の配管1Aを紙面と平行な面で割り、配管1Aの内側表面を示している。なお、配管1Aは、配管1とは異なる形状の配管であり、長手方向に縮径した形状を有するものである。
図3は、図2(b)に示す配管1及び図2(d)に示す配管1Aに発生した変色部分34の断面図である。図3(a)は銅めっきを部分剥離する前の配管1を示し、図3(b)が銅めっきを部分剥離した後の配管1を示している。なお、図3(a)及び図3(b)は、配管1に銅めっきを施し、配管1の外側表面に銅めっきを約50(μm)形成し、配管1の内側表面に銅めっきを約30(μm)形成した場合の断面図である。
図2及び図3を参照して、配管1に発生する変色について説明する。
[Partial peeling of copper plating on pipe 1]
FIG. 2 is an explanatory diagram of the configuration of the pipe 1 shown in FIG. 2A shows the outer surface of the pipe 1, and FIG. 2B shows the inner surface of the pipe 1 by dividing the pipe 1 of FIG. 2A by a plane parallel to the paper surface. 2C shows the outer surface of the pipe 1A having a shape different from that of the pipe 1 shown in FIG. 2A, and FIG. 2D shows the pipe 1A shown in FIG. 2C parallel to the paper surface. And the inner surface of the pipe 1A is shown. Note that the pipe 1A is a pipe having a shape different from that of the pipe 1 and has a shape whose diameter is reduced in the longitudinal direction.
3 is a cross-sectional view of the discolored portion 34 generated in the pipe 1 shown in FIG. 2B and the pipe 1A shown in FIG. FIG. 3A shows the pipe 1 before the copper plating is partially peeled off, and FIG. 3B shows the pipe 1 after the copper plating is partially peeled off. 3A and 3B, the pipe 1 is subjected to copper plating, the copper plating is formed on the outer surface of the pipe 1 by about 50 (μm), and the copper plating is applied to the inner surface of the pipe 1. It is sectional drawing at the time of forming 30 (micrometer).
With reference to FIG.2 and FIG.3, the discoloration which generate | occur | produces in the piping 1 is demonstrated.

図2(a)及び図2(b)に示す配管1は、全体を銅めっきした後に、銅めっきの一部を剥離したものである。すなわち、配管1の外側表面は、銅めっき部分30及び銅めっき剥離部分31からなる。また、配管1の内側表面は、外側表面と対応しており、銅めっき部分30及び銅めっき剥離部分31からなる。なお、配管1の外側表面と内側表面の両方で、銅めっき部分30及び銅めっき剥離部分31が形成されるのは、銅めっきを剥離する際に、配管1にマスキングなどをせずに、銅めっき剥離部分31側をシアン化合物の水溶液に浸漬させるためである。
なお、マスキングによる部分めっき工法は、被めっき物の素材表面を露出させようとする部分にキャップなどでマスキングを施してめっき処理を行うものである。中空である配管1のような形状の部材にマスキングを施すことは困難であるため、本実施の形態1に係る部分めっき工法はマスキングによる部分めっき工法を採用していない。
The piping 1 shown in FIG. 2A and FIG. 2B is obtained by peeling a part of the copper plating after copper plating the whole. That is, the outer surface of the pipe 1 includes a copper plating portion 30 and a copper plating peeling portion 31. Further, the inner surface of the pipe 1 corresponds to the outer surface, and includes a copper plating portion 30 and a copper plating peeling portion 31. The copper plating part 30 and the copper plating peeling part 31 are formed on both the outer surface and the inner surface of the pipe 1 when the copper plating is peeled without masking the pipe 1 or the like. This is because the plating peeling portion 31 side is immersed in an aqueous solution of a cyanide compound.
The partial plating method using masking is a method in which a part to be exposed of the material surface of the object to be plated is masked with a cap or the like to perform plating. Since it is difficult to mask a member having a shape like the hollow pipe 1, the partial plating method according to the first embodiment does not employ the partial plating method by masking.

ここで、図2(b)に示すように、銅めっき部分30と銅めっき剥離部分31との境界部80には、「シアン焼け」と呼ばれる変色部分32が形成される。なお、境界部80とは、銅めっき部分30のめっき層の表面部分であって、銅めっき部分30と銅めっき剥離部分31との境界及び当該境界近傍の部分である。また、図2(d)に示すように、配管1の一方が縮径された形状を有している配管1Aにおいても、同様に、銅めっき部分30Aと銅めっき剥離部分31Aとの境界部80には、「シアン焼け」と呼ばれる変色部分32Aが形成される。   Here, as shown in FIG. 2B, a discolored portion 32 called “cyan burn” is formed at a boundary portion 80 between the copper plating portion 30 and the copper plating peeling portion 31. In addition, the boundary part 80 is a surface part of the plating layer of the copper plating part 30, Comprising: The boundary of the copper plating part 30 and the copper plating peeling part 31, and the part of the said boundary vicinity. Further, as shown in FIG. 2 (d), similarly in the pipe 1A in which one of the pipes 1 has a reduced diameter, the boundary portion 80 between the copper plating portion 30A and the copper plating peeling portion 31A. A discolored portion 32A called “cyan burn” is formed.

「シアン焼け」と呼ばれる変色部分32は、銅めっきの部分剥離によって生じるものである。ここで、配管1の銅めっきを部分剥離する際には、配管1の銅めっき剥離部分31側を下に向けて、シアン化合物の水溶液に浸漬させる。この浸漬時において、シアン化合物の水溶液の液面は、銅めっき部分30と銅めっき剥離部分31との境界面に位置しているが、毛細管現象によってシアン化合物水溶液の一部が当該境界面から吸い上げられる。この毛細管現象により吸い上げられたシアン化合物の水溶液が、銅めっき部分30の一部に付着した結果、変色部分32が形成される。   The discolored portion 32 called “cyan burn” is caused by partial peeling of the copper plating. Here, when the copper plating of the pipe 1 is partially peeled, it is immersed in an aqueous solution of a cyanide compound with the copper plating peeling part 31 side of the pipe 1 facing downward. At the time of this immersion, the liquid level of the cyanide aqueous solution is located at the boundary surface between the copper plating portion 30 and the copper plating peeling portion 31, but part of the cyanide aqueous solution is sucked up from the boundary surface by capillary action. It is done. As a result of the aqueous solution of the cyanide compound sucked up by this capillary phenomenon adhering to a part of the copper plating part 30, a discolored part 32 is formed.

図2(a)〜図2(d)に示すように、「シアン焼け」は、内部が中空になった筒状形状の部品の内側に形成されやすい。その理由は以下の通りである。
筒状形状の部品が、たとえば絞り加工などによって形成されるため、内側の方が外側よりも面が粗い(面粗度が大きい)場合が多い。また、粗い面に対して銅めっきがされた場合の面粗度と、平滑な面に対して銅めっきがされた場合の面粗度とは、粗い面に対して銅めっきがされた場合の方が粗くなる。すなわち、内部が中空になった筒状形状の部品の内側は、内側と比較すると平滑な外側よりも面が粗いために、銅めっき後においても面が粗く、シアン化合物水溶液を毛細管現象で吸い上げやすいということである。
As shown in FIGS. 2A to 2D, “cyan burn” is easily formed inside a cylindrical part whose inside is hollow. The reason is as follows.
Since the cylindrical part is formed by drawing, for example, the inner side is often rougher (the surface roughness is higher) than the outer side. Moreover, the surface roughness when copper plating is applied to a rough surface and the surface roughness when copper plating is applied to a smooth surface are the same as when copper plating is applied to a rough surface. It becomes rougher. That is, the inside of the cylindrical part with a hollow interior is rougher than the smooth outside compared to the inside, so the surface is rough even after copper plating, and the cyanide aqueous solution is easily sucked up by capillary action. That's what it means.

なお、この変色部分32は、シアン化合物の水溶液によって銅めっき部分30の銅めっきが炭化して、炭酸銅が生成されたことに起因するものである。
この炭酸銅により、銅で構成されるマフラー配管10と配管1の銅めっき部分30の内側表面との銅ろう付け、及び銅で構成される本体接続配管11と配管1の銅めっき部分30の外側表面との銅ろう付けがされにくくなる可能性がある。すなわち、銅と炭酸銅とは異なる物質であるため、ろう付けされにくいということである。
In addition, this discoloration part 32 originates in the copper plating of the copper plating part 30 carbonizing with the aqueous solution of the cyanide compound, and the copper carbonate was produced | generated.
With this copper carbonate, copper brazing between the muffler pipe 10 made of copper and the inner surface of the copper plated portion 30 of the pipe 1, and the outside of the main body connection pipe 11 made of copper and the copper plated portion 30 of the pipe 1 Copper brazing with the surface may be difficult. That is, since copper and copper carbonate are different materials, they are difficult to braze.

また、この変色部分32の炭酸銅は、たとえば塩酸濃度7%の酸性水溶液で、配管1を15秒程度振り洗いすることにより除去することは可能である。しかし、図3(b)に示すように、変色部分32は、銅めっきが表面から深部まで炭化しているため、除去することで銅めっき部分30のめっき厚が減少してしまう。具体的には、図3(a)に示すように、内側表面に形成された銅めっきは約30(μm)形成されているが、銅めっきを部分剥離すると、図3(b)に示すように、剥離部分の表面から約27(μm)ほどが酸化してしまう。これにより、この炭酸銅を酸性水溶液などで部分洗浄すると、酸化部分が除去され、残っためっき部分が約3(μm)となってしまう。そして、銅めっき厚が減少した状態で、ろう付けを実施すると、配管同士が確実に固定されない可能性がある。   Further, the copper carbonate in the discolored portion 32 can be removed by, for example, shaking the pipe 1 for about 15 seconds with an acidic aqueous solution having a hydrochloric acid concentration of 7%. However, as shown in FIG. 3B, since the discolored portion 32 is carbonized from the surface to the deep portion, the plating thickness of the copper-plated portion 30 is reduced by removing it. Specifically, as shown in FIG. 3A, the copper plating formed on the inner surface is formed with about 30 (μm), but when the copper plating is partially peeled, as shown in FIG. 3B. Moreover, about 27 (μm) is oxidized from the surface of the peeled portion. Thereby, when this copper carbonate is partially washed with an acidic aqueous solution or the like, the oxidized portion is removed, and the remaining plating portion becomes about 3 (μm). And when brazing is implemented in a state where the copper plating thickness is reduced, the pipes may not be securely fixed.

本実施の形態1に係る部分めっき工法では、銅めっき部分30をシアン化合物の水溶液に浸漬させた際の毛細管現象を抑制し、銅めっき部分30にシアン焼けが形成されないようにする。すなわち、以下に説明する部分めっき工法を実施して、毛細管現象を抑制する。   In the partial plating method according to the first embodiment, the capillary phenomenon when the copper plating portion 30 is immersed in an aqueous solution of a cyanide compound is suppressed, and cyan burn is not formed in the copper plating portion 30. That is, the partial plating method described below is performed to suppress the capillary phenomenon.

図4は、実施の形態1に係る部分めっき工法の銅めっき処理の説明図である。図5は、実施の形態1に係る部分めっき工法のバフがけの説明図である。図6は、複数の配管1にバフがけを行い、配管1ごとの面粗度を示したものである。図4の銅めっき処理は、後述の図7のステップS11に対応し、図5のバフがけは、図7のステップS14に対応するものである。   FIG. 4 is an explanatory diagram of the copper plating process of the partial plating method according to the first embodiment. FIG. 5 is an explanatory diagram of buffing of the partial plating method according to the first embodiment. FIG. 6 shows the surface roughness of each pipe 1 by buffing a plurality of pipes 1. The copper plating process in FIG. 4 corresponds to step S11 in FIG. 7 described later, and the buffing in FIG. 5 corresponds to step S14 in FIG.

[めっき処理]
図5に示すバレルめっき装置50は、配管1の銅めっきをするものである。このバレルめっき装置50は、銅めっき液4が貯留されるめっき槽5と、めっき槽5の銅めっき液が流入するバレル2と、めっき槽5の中でバレル2を回転させる回転装置3とを有している。なお、図示は省略しているが、バレルめっき装置50は、正極及び負極の電極が設けられている。
めっき槽5は、銅めっき液4を貯留するものである。めっき槽5には、銅めっき中において、バレル2が浸漬される。
バレル2は、配管1などを収容するものであり、たとえば、複数の貫通穴が形成された略箱形状のものである。そして、バレル2は、めっき槽5に浸漬させられたときに、その貫通穴を介して銅めっき液4が流入するようになっているものである。また、バレル2は、その両側面が、回転装置3によって回転自在に支持されている。
回転装置3は、バレル2を回転させるものであり、バレル2の両側面(紙面左右の両側面)を回転自在に支持し、配管1に銅めっきがムラ無く行われるようにするものである。
[Plating treatment]
A barrel plating apparatus 50 shown in FIG. 5 performs copper plating of the pipe 1. The barrel plating apparatus 50 includes a plating tank 5 in which the copper plating solution 4 is stored, a barrel 2 into which the copper plating solution in the plating tank 5 flows, and a rotating device 3 that rotates the barrel 2 in the plating tank 5. Have. In addition, although illustration is abbreviate | omitted, the barrel plating apparatus 50 is provided with the electrode of the positive electrode and the negative electrode.
The plating tank 5 stores the copper plating solution 4. The barrel 2 is immersed in the plating tank 5 during copper plating.
The barrel 2 accommodates the pipe 1 and the like, and has, for example, a substantially box shape in which a plurality of through holes are formed. And when the barrel 2 is immersed in the plating tank 5, the copper plating solution 4 flows in through the through hole. Further, both sides of the barrel 2 are rotatably supported by the rotating device 3.
The rotating device 3 rotates the barrel 2 and rotatably supports both side surfaces (both left and right side surfaces of the paper) of the barrel 2 so that the copper plating is performed on the pipe 1 without unevenness.

[バフがけ]
図5に示すバフがけは、配管1の銅めっきを部分剥離する前に、配管1の銅めっきを剥離する部分(図2及び図3の剥離部分31)と、剥離しない部分(図2及び図3の銅めっき部分30)との境界部80の近傍を平滑化するものである。なお、バフがけする範囲は、境界部80である。すなわち、バフがけする範囲は、銅めっき部分30のめっき層の表面部分であって、銅めっき部分30と銅めっき剥離部分31との境界及び当該境界近傍の部分である。バフがけは、配管1を平滑化するバフツール6を回転駆動させて配管1に接触させることで実施する。なお、バフツール6は、たとえば布などで構成される。
[Buffing]
The buffing shown in FIG. 5 includes a part where the copper plating of the pipe 1 is peeled off (the peeling part 31 shown in FIGS. 2 and 3) and a part where the copper plating of the pipe 1 is not peeled (FIG. 2 and FIG. 2). 3 near the boundary 80 with the copper plating portion 30). Note that the buffing range is the boundary 80. That is, the range to be buffed is the surface portion of the plating layer of the copper plating portion 30, and the boundary between the copper plating portion 30 and the copper plating peeling portion 31 and the portion in the vicinity of the boundary. The buffing is performed by rotating and driving the buffing tool 6 that smoothes the pipe 1 so as to contact the pipe 1. The buff tool 6 is made of, for example, cloth.

実施の形態1におけるバフがけは、境界部80のめっき層の表面の少なくとも一部を平滑化するものである。すなわち、境界部80のうち配管1の内側1bの境界部80を平滑化し、境界部80のうち配管1の外側1aの境界部80については平滑化しない。これは、上述したように、内部が中空になった筒状形状の部品の内側は、面が粗いため、内側と比較すると平滑な外側よりも、シアン化合物水溶液が毛細管現象で吸い上げられやすいためである。   The buffing in the first embodiment smoothes at least a part of the surface of the plating layer at the boundary 80. That is, the boundary portion 80 on the inner side 1b of the pipe 1 in the boundary portion 80 is smoothed, and the boundary portion 80 on the outer side 1a of the pipe 1 in the boundary portion 80 is not smoothed. This is because, as described above, the inside of the cylindrical part having a hollow interior is rough, and the aqueous cyanide solution is more easily sucked up by capillary action than the smooth outside compared to the inside. is there.

バフがけによりどの程度、配管1の内側1bを平滑化するかについて説明する。
実験により、シアン焼けは、銅めっき処理後の配管1の内側1bの面粗度が約Rz=13(μm)(Rz.JIS=9.5(μm))以上で形成されてしまうことを確認している。なお、配管1の内側1bの面粗度がRz=13(μm)であるとき、図6(a)に示すような面粗度データを得た。
また、シアン焼けは、配管1の内側1bの面粗度がRz=6(μm)(Rz.JIS=4.5(μm))以下で形成されないことを確認している。なお、配管1の内側1bの面粗度がRz=6(μm)以下であるとき、図6(b)〜図6(f)に示すような面粗度データを得た。
このように、配管1の内側1bの面粗度は、バフがけにより、Rz=6(μm)(Rz.JIS=4.5(μm))以下とするとよい。
なお、配管1の外側1aはバフがけを実施していないが、面粗度がRz=2(μm)(Rz.JIS=1(μm))であったため、同実験において配管1の外側1aにはシアン焼けが確認されていない。
How much the inner side 1b of the pipe 1 is smoothed by buffing will be described.
Through experiments, it is confirmed that cyan burn is formed when the surface roughness of the inner side 1b of the pipe 1 after the copper plating process is about Rz = 13 (μm) (Rz.JIS = 9.5 (μm)) or more. doing. When the surface roughness of the inner side 1b of the pipe 1 is Rz = 13 (μm), surface roughness data as shown in FIG.
Further, it has been confirmed that cyan burn is not formed when the surface roughness of the inner side 1b of the pipe 1 is Rz = 6 (μm) (Rz. JIS = 4.5 (μm)) or less. In addition, when the surface roughness of the inner side 1b of the pipe 1 was Rz = 6 (μm) or less, surface roughness data as shown in FIGS. 6B to 6F was obtained.
Thus, the surface roughness of the inner side 1b of the pipe 1 is preferably set to Rz = 6 (μm) (Rz. JIS = 4.5 (μm)) or less by buffing.
The outer side 1a of the pipe 1 was not buffed, but the surface roughness was Rz = 2 (μm) (Rz. JIS = 1 (μm)). There is no cyan burn.

図7は、図7(a)が部分めっき工法の工程図であり。図7(b)が部分めっき工法を採用しないときの工程図である。次に、図7(a)を参照して、本実施の形態1に係る部分めっき工法の工程について説明する。
(ステップS11)
配管1をバレルめっき装置50に入れて、配管1全体を銅めっきする。
FIG. 7A is a process diagram of the partial plating method. FIG. 7B is a process diagram when the partial plating method is not adopted. Next, with reference to Fig.7 (a), the process of the partial plating method concerning this Embodiment 1 is demonstrated.
(Step S11)
The piping 1 is put into the barrel plating apparatus 50, and the entire piping 1 is plated with copper.

(ステップS12)
ステップS11で配管1に付着した銅めっき液4を水洗して除去する。
(Step S12)
In step S11, the copper plating solution 4 attached to the pipe 1 is washed and removed.

(ステップS13)
ステップS12で配管1に付着した水を乾燥させる。
(Step S13)
In step S12, the water adhering to the pipe 1 is dried.

(ステップS14)
ステップS11で形成された配管1の銅めっきを部分剥離する前に、配管1の銅めっきを剥離する部分(図2及び図3の剥離部分31)と、剥離しない部分(図2及び図3の銅めっき部分30)との境界部80の近傍をバフがけして平滑化する。
(Step S14)
Before the copper plating of the pipe 1 formed in step S11 is partially peeled off, the part of the pipe 1 from which the copper plating is peeled off (the peeling part 31 in FIGS. 2 and 3) and the part that is not peeled off (in FIGS. 2 and 3). The vicinity of the boundary 80 with the copper plating portion 30) is buffed and smoothed.

(ステップS15)
ステップS14のバフがけにより生じた屑などを除去するため水洗する。
(Step S15)
Washing with water to remove debris and the like produced by buffing in step S14.

(ステップS16)
ステップS15で配管1に付着した水を乾燥させる。
(Step S16)
In step S15, the water attached to the pipe 1 is dried.

(ステップS17)
配管1のうち、剥離する部分をシアン化合物の水溶液に浸漬させて、銅めっきを部分剥離する。
(Step S17)
The part to be peeled out of the pipe 1 is immersed in an aqueous solution of a cyanide to partially peel off the copper plating.

(ステップS18)
ステップS17で配管1に付着したシアン化合物の水溶液を水洗して除去する。
(Step S18)
In step S17, the cyanide aqueous solution adhering to the pipe 1 is removed by washing with water.

(ステップS19)
ステップS18で配管1に付着した水を乾燥させる。
(Step S19)
In step S18, the water attached to the pipe 1 is dried.

ここで、図7(a)のステップS11〜13、S17〜S19と、図7(b)の通常工程のステップS1〜S3、S4、S5、S10とは同様である。すなわち、通常工程においては、図7(a)のステップS14〜S16を有していないが、ステップS6〜S9を有している。
そこで、通常工程のステップS1〜S3、S4、S5、S10については説明を省略し、ステップS6〜S9の説明をする。
Here, steps S11 to 13 and S17 to S19 in FIG. 7A are the same as steps S1 to S3, S4, S5, and S10 in the normal process in FIG. 7B. That is, the normal process does not include steps S14 to S16 in FIG. 7A, but includes steps S6 to S9.
Therefore, description of steps S1 to S3, S4, S5, and S10 in the normal process is omitted, and steps S6 to S9 are described.

(ステップS6)
通常工程では、バフがけを実施しないため、ステップS4で配管1をシアン化合物の水溶液に浸漬させることでシアン焼けが発生している。そこで、ステップS4で形成されたシアン焼けを除去するために、酸性水溶液(塩酸など)で洗浄して除去する。
(Step S6)
Since buffing is not performed in the normal process, cyan burn is generated by immersing the pipe 1 in an aqueous solution of a cyanide compound in step S4. Therefore, in order to remove the cyan burn formed in step S4, it is removed by washing with an acidic aqueous solution (hydrochloric acid or the like).

(ステップS7)
ステップS6で配管1に付着した酸性水溶液を水洗して除去する。
(Step S7)
In step S6, the acidic aqueous solution adhering to the pipe 1 is removed by washing with water.

(ステップS8)
ステップS7で配管1に残留する塩酸を中和するために、アルカリ性水溶液(水酸化ナトリウムなど)で中和する。
(Step S8)
In step S7, in order to neutralize the hydrochloric acid remaining in the pipe 1, it is neutralized with an alkaline aqueous solution (such as sodium hydroxide).

(ステップS9)
ステップS8で配管1に付着したアルカリ性水溶液を水洗して除去する。
(Step S9)
In step S8, the alkaline aqueous solution adhering to the pipe 1 is removed by washing with water.

このように、本実施の形態1に係る部分めっき工法は、通常工程にはないステップS14〜S16の工程を有している。このため、シアン焼けを抑制することが可能となっている。また、本実施の形態1に係る部分めっき工法では、通常工程のステップS6〜S9がない分、配管1の加工時間を抑制することができる。   Thus, the partial plating method which concerns on this Embodiment 1 has the process of step S14-S16 which is not in a normal process. For this reason, it is possible to suppress cyan burn. Moreover, in the partial plating method which concerns on this Embodiment 1, the processing time of the piping 1 can be suppressed by the part which does not have step S6-S9 of a normal process.

[実施の形態1に係る部分めっき工法の有する効果]
本実施の形態1に係る部分めっき工法は、配管1の銅めっきを剥離する部分(図2及び図3の剥離部分31)と、剥離しない部分(図2及び図3の銅めっき部分30)との境界部80の近傍を平滑化する工程を、配管1の銅めっきを部分剥離する工程の前に設けている。これにより、当該境界部80にシアン焼けが形成されてしまうことを抑制することができる。その結果、確実なろう付けを実施することができる。
[Effect of partial plating method according to Embodiment 1]
In the partial plating method according to the first embodiment, a part of the pipe 1 where the copper plating is peeled off (the peeling part 31 in FIGS. 2 and 3) and a part which is not peeled off (the copper plating part 30 in FIGS. 2 and 3) The step of smoothing the vicinity of the boundary 80 is provided before the step of partially peeling the copper plating of the pipe 1. Thereby, it is possible to suppress the formation of cyan burn at the boundary 80. As a result, reliable brazing can be performed.

また、シアン焼けが形成されないため、塩酸などの酸性水溶液で洗浄する必要がない。すなわち、酸性水溶液で除去することで銅めっき厚が減少することがない。そのため、確実なろう付けを実施することができる。
また、塩酸などの酸性水溶液で洗浄する工程が必要でないため、配管1の加工時間が長くなることを抑制することができる。
Further, since cyan burn is not formed, it is not necessary to wash with an acidic aqueous solution such as hydrochloric acid. That is, the copper plating thickness does not decrease by removing with an acidic aqueous solution. Therefore, reliable brazing can be performed.
Moreover, since the process wash | cleaned with acidic aqueous solutions, such as hydrochloric acid, is unnecessary, it can suppress that the processing time of the piping 1 becomes long.

さらに、塩酸などの酸性水溶液で洗浄する工程を省略が必要でないため、配管1に残留塩素が付着することはない。これにより、配管1が圧縮機60に設けられても、冷媒回路を循環する冷凍機油を劣化させてしまうことを防止することができる。   Furthermore, since it is not necessary to omit the step of washing with an acidic aqueous solution such as hydrochloric acid, residual chlorine does not adhere to the pipe 1. Thereby, even if the pipe 1 is provided in the compressor 60, it is possible to prevent the refrigerating machine oil circulating in the refrigerant circuit from being deteriorated.

実施の形態2.
図8は、実施の形態2に係る部分めっき工法のフローチャートである。図9は、図8に示すステップS21のめっき処理の説明図である。なお、本実施の形態2では、実施の形態1と同一部分には同一符号とし、実施の形態1との相違点を中心に説明するものとする。
Embodiment 2. FIG.
FIG. 8 is a flowchart of the partial plating method according to the second embodiment. FIG. 9 is an explanatory diagram of the plating process in step S21 shown in FIG. In the second embodiment, the same parts as those in the first embodiment are denoted by the same reference numerals, and differences from the first embodiment will be mainly described.

実施の形態2に係る部分めっき工法は、配管1に加えて配管1の表面をバレルめっき中に平滑化することが可能なメディア7を、図9に示すバレル2に収容して銅めっきを実施する。
メディア7は、配管1とメディア7が擦れ合って、配管1を平滑化するものである。メディア7は、銅めっき処理時に、バレルめっき装置50のバレル2に収納される。そして、メディア7は、回転装置3によってバレル2が回転させられることにより、配管1とともにバレル2内で撹拌される。メディア7は、その撹拌される過程で配管1と擦れ合い、配管1の表面を平滑化することが可能となっている。
In the partial plating method according to the second embodiment, in addition to the pipe 1, the medium 7 capable of smoothing the surface of the pipe 1 during barrel plating is accommodated in the barrel 2 shown in FIG. To do.
The medium 7 smoothes the pipe 1 by rubbing the pipe 1 and the medium 7. The media 7 is stored in the barrel 2 of the barrel plating apparatus 50 during the copper plating process. The media 7 is stirred in the barrel 2 together with the pipe 1 by rotating the barrel 2 by the rotating device 3. The media 7 rubs against the pipe 1 during the stirring process, and the surface of the pipe 1 can be smoothed.

メディア7の径は、配管1の内側1bを平滑化することができるように、配管1の内径よりも小さいものとする。また、メディア7の径は、バレル2に形成された貫通穴より小さいと、銅めっき中にバレル2の貫通穴から出ていってしまう。したがって、メディア7の径は、配管1の内径よりも小さく、バレル2の貫通穴よりも大きくするとよい。
なお、メディア7の形状は、特に限定されるものではなく、たとえば球や三角錐など、種々の形状を採用できる。また、メディア7は、たとえばセラミックなどで構成するとよい。
The diameter of the medium 7 is smaller than the inner diameter of the pipe 1 so that the inner side 1b of the pipe 1 can be smoothed. Moreover, if the diameter of the medium 7 is smaller than the through hole formed in the barrel 2, it will come out of the through hole of the barrel 2 during copper plating. Therefore, the diameter of the medium 7 is preferably smaller than the inner diameter of the pipe 1 and larger than the through hole of the barrel 2.
The shape of the medium 7 is not particularly limited, and various shapes such as a sphere and a triangular pyramid can be employed. The medium 7 may be made of, for example, ceramic.

本実施の形態2に係る部分めっき工法は、実施の形態1に係るステップS12、S13、S17〜S19とは同様である。なお、図9に示すように、実施の形態1に係る部分めっき工法は、実施の形態1の平滑化の工程、平滑化後の洗浄及び乾燥(ステップS14〜S16)を省略することができる。
これは、ステップS21のバレルめっき装置50の銅めっき処理時に、実施の形態1のステップS14のバフがけに対応する平滑化を実施するためである。すなわち、ステップS21の銅めっき処理により、メディア7の作用で配管1の内側1bを平滑化し、面粗度を6(μm)以下とするということである。
The partial plating method according to the second embodiment is the same as steps S12, S13, and S17 to S19 according to the first embodiment. As shown in FIG. 9, the partial plating method according to the first embodiment can omit the smoothing process, the cleaning and drying after the smoothing (steps S14 to S16) according to the first embodiment.
This is because the smoothing corresponding to the buffing in step S14 of the first embodiment is performed during the copper plating process of the barrel plating apparatus 50 in step S21. That is, by the copper plating process in step S21, the inside 1b of the pipe 1 is smoothed by the action of the medium 7, and the surface roughness is set to 6 (μm) or less.

このように、本実施の形態2に係る部分めっき工法は、通常工程のめっき処理工程とは異なり、メディア7を用いためっき処理工程を有している。このため、シアン焼けが発生することを抑制することができる。また、本実施の形態2に係る部分めっき工法では、通常工程のステップS6〜S9がない分、配管1の加工時間を抑制することができる。
なお、本実施の形態2に係る部分めっき工法では、実施の形態1のステップS14〜S16を有さない場合を説明したが、たとえばメディア7の平滑化では不十分である場合には、バフがけを実施してもよいことは言うまでもない。
As described above, the partial plating method according to the second embodiment has a plating process using the medium 7 unlike the plating process of the normal process. For this reason, it is possible to suppress the occurrence of cyan burn. Moreover, in the partial plating method which concerns on this Embodiment 2, the processing time of the piping 1 can be suppressed by the part which does not have step S6-S9 of a normal process.
In the partial plating method according to the second embodiment, the case where steps S14 to S16 of the first embodiment are not described has been described. For example, when the smoothing of the media 7 is insufficient, buffing is performed. Needless to say, it may be implemented.

[実施の形態2に係る部分めっき工法の有する効果]
本実施の形態2に係る部分めっき工法は、実施の形態1に係る部分めっき工法の奏する効果に加えて以下の効果を奏する。
すなわち、本実施の形態2に係る部分めっき工法は、配管1の銅めっきを部分剥離する工程の前にバレル2にメディア7を収容して銅めっきを実施する。そして、配管1の銅めっきを部分剥離する工程の前に、配管1の全体を平滑化できる。その結果、配管1の銅めっきを剥離する部分(図2及び図3の剥離部分31)と、剥離しない部分(図2及び図3の銅めっき部分30)との境界部80の近傍も平滑化できる。
これにより、内側1bの境界部80及び外側1aの境界部80にシアン焼けが形成されてしまうことを抑制することができ、確実なろう付けを実施することができる。
[Effects of partial plating method according to Embodiment 2]
The partial plating method according to the second embodiment has the following effects in addition to the effects exhibited by the partial plating method according to the first embodiment.
That is, in the partial plating method according to the second embodiment, the medium 7 is accommodated in the barrel 2 and copper plating is performed before the step of partially peeling the copper plating of the pipe 1. And the whole piping 1 can be smooth | blunted before the process which peels copper plating of the piping 1 partially. As a result, the vicinity of the boundary 80 between the portion of the pipe 1 where the copper plating is peeled off (the peeling portion 31 of FIGS. 2 and 3) and the portion where the copper plating is not peeled (the copper plating portion 30 of FIGS. 2 and 3) is also smoothed. it can.
Thereby, it is possible to suppress the formation of cyan burn at the boundary portion 80 on the inner side 1b and the boundary portion 80 on the outer side 1a, and reliable brazing can be performed.

実施の形態3.
図10は、実施の形態3に係る部分めっき工法のバフがけの説明図である。なお、本実施の形態3では、実施の形態1、2と同一部分には同一符号とし、実施の形態1、2との相違点を中心に説明するものとする。
Embodiment 3 FIG.
FIG. 10 is an explanatory diagram of buffing of the partial plating method according to the third embodiment. In the third embodiment, the same reference numerals are used for the same parts as in the first and second embodiments, and differences from the first and second embodiments will be mainly described.

実施の形態1のバフがけは配管1の内側1bの剥離部に対して実施するものであるが、実施の形態3に係る部分めっき工法は外側1aの剥離部に対してもバフがけを実施するものである。
外側1aであっても、たとえば配管1の加工状態などによって面が粗い場合もある。このような場合には、内側1bと同様に、配管1の外側1aに対しても面粗度が6(μm)以下となるようにバフがけを実施することで、シアン焼けが形成されてしまうことを抑制することができ、確実なろう付けを実施することができる。
The buffing of the first embodiment is performed on the peeling portion on the inner side 1b of the pipe 1, but the partial plating method according to the third embodiment also performs buffing on the peeling portion on the outer side 1a. Is.
Even on the outer side 1a, the surface may be rough depending on the processing state of the pipe 1, for example. In such a case, as with the inner side 1b, cyan burning is formed by buffing the outer surface 1a of the pipe 1 so that the surface roughness is 6 (μm) or less. This can be suppressed, and reliable brazing can be performed.

実施の形態1〜3に記載された事項は、適宜組み合わせてもよい。たとえば、実施の形態2と実施の形態3とを組み合わせて、メディア7で配管1を平滑化するとともに、配管1の内側1b及び外側1aに対してバフがけを実施してもよい。   The matters described in the first to third embodiments may be appropriately combined. For example, the second embodiment may be combined with the third embodiment to smooth the pipe 1 with the medium 7 and to buff the inner side 1 b and the outer side 1 a of the pipe 1.

[実施の形態3に係る部分めっき工法の有する効果]
本実施の形態3に係る部分めっき工法は、実施の形態1に係る部分めっき工法の奏する効果に加えて以下の効果を奏する。
すなわち、本実施の形態3に係る部分めっき工法は、配管1の銅めっきを部分剥離する工程の前にバレル2にメディア7を収容して銅めっきを実施する。そして、配管1の銅めっきを部分剥離する工程の前に、配管1の内側1bの銅めっきを剥離する部分(図2及び図3の剥離部分31)と、剥離しない部分(図2及び図3の銅めっき部分30)との境界部80の近傍を平滑化する。さらに、配管1の銅めっきを部分剥離する工程の前に、配管1の外側1aの銅めっきを剥離する部分(図2及び図3の剥離部分31)と、剥離しない部分(図2及び図3の銅めっき部分30)との境界部80の近傍を平滑化する。
これにより、内側1bの境界部80及び外側1aの境界部80にシアン焼けが形成されてしまうことを抑制することができ、確実なろう付けを実施することができる。
[Effect of partial plating method according to Embodiment 3]
The partial plating method according to the third embodiment has the following effects in addition to the effects exhibited by the partial plating method according to the first embodiment.
That is, in the partial plating method according to the third embodiment, the medium 7 is accommodated in the barrel 2 and the copper plating is performed before the step of partially peeling the copper plating of the pipe 1. Then, before the step of partially peeling the copper plating of the pipe 1, the portion (the peeling portion 31 in FIG. 2 and FIG. 3) where the copper plating on the inner side 1 b of the pipe 1 is peeled off and the portion (FIG. 2 and FIG. 3). The vicinity of the boundary 80 with the copper plating portion 30) is smoothed. Further, before the step of partially peeling the copper plating of the pipe 1, the part (peeling part 31 in FIGS. 2 and 3) where the copper plating on the outer side 1 a of the pipe 1 is peeled off and the part (FIG. 2 and FIG. 3) that does not peel off. The vicinity of the boundary 80 with the copper plating portion 30) is smoothed.
Thereby, it is possible to suppress the formation of cyan burn at the boundary portion 80 on the inner side 1b and the boundary portion 80 on the outer side 1a, and reliable brazing can be performed.

1 配管、1A 配管、1a 外側、1b 内側、2 バレル、3 回転装置、4 銅めっき液、5 めっき槽、6 バフツール、7 メディア、10 マフラー配管、11 本体接続配管、12 マフラー、21 シリンダー、30 銅めっき部分、30A 銅めっき部分、31 銅めっき剥離部分、31A 銅めっき剥離部分、32 変色部分、32A 変色部分、34 変色部分、50 バレルめっき装置、60 圧縮機、80 境界部。   1 piping, 1A piping, 1a outside, 1b inside, 2 barrel, 3 rotating device, 4 copper plating solution, 5 plating tank, 6 buffing tool, 7 media, 10 muffler piping, 11 main body connection piping, 12 muffler, 21 cylinder, 30 Copper plating part, 30A Copper plating part, 31 Copper plating peeling part, 31A Copper plating peeling part, 32 Color changing part, 32A Color changing part, 34 Color changing part, 50 Barrel plating apparatus, 60 Compressor, 80 Boundary part.

Claims (6)

内部が中空の機械要素部品の全体に施された銅めっきの一部を剥離する部分めっき工法であって、
前記機械要素部品の全体に銅めっきを施し、
前記機械要素部品の内側であって、銅めっきを剥離する部分と銅めっきを剥離しない部分との境界部におけるめっき層の表面の少なくとも一部を平滑化した後に、
前記機械要素部品の銅めっきを剥離する部分を、シアン化合物の水溶液に浸漬させて、当該剥離する部分に施された銅めっきを剥離する
ことを特徴とする部分めっき工法。
It is a partial plating method that peels off a part of copper plating applied to the entire machine element part with a hollow interior,
Copper plating is applied to the entire machine element part,
After smoothing at least a part of the surface of the plating layer at the boundary between the portion where the copper plating is peeled off and the portion where the copper plating is not peeled, inside the machine element part,
A partial plating method characterized by immersing a part of the machine element part from which copper plating is peeled off in an aqueous solution of a cyanide compound and peeling off the copper plating applied to the part to be peeled off.
前記平滑化により、
前記機械要素部品の内側の前記境界部の銅めっき層の表面面粗度をRz=6μm以下としている
ことを特徴とする請求項1に記載の部分めっき工法。
By the smoothing,
2. The partial plating method according to claim 1, wherein the surface roughness of the copper plating layer at the boundary portion inside the machine element part is set to Rz = 6 μm or less.
前記機械要素部品の内側の前記境界部の近傍をバフにより研磨して前記平滑化する
ことを特徴とする請求項1又は2に記載の部分めっき工法。
The partial plating method according to claim 1, wherein the vicinity of the boundary portion inside the machine element part is polished by buffing and smoothed.
前記銅めっきされた前記機械要素部品の内側の前記境界部に加えて、当該境界部に対応する外側の境界部をバフにより研磨して前記平滑化した後に、
前記機械要素部品の銅めっきを剥離する部分を、シアン化合物の水溶液に浸漬させて前記銅めっきを剥離する
ことを特徴とする請求項3に記載の部分めっき工法。
In addition to the inner boundary portion of the machine element part plated with copper, the outer boundary portion corresponding to the boundary portion is polished and smoothed by buffing,
4. The partial plating method according to claim 3, wherein the copper plating is peeled off by immersing a portion of the machine element part from which the copper plating is peeled off in an aqueous solution of a cyanide compound. 5.
銅めっき液が貯留されるめっき槽と、
複数の貫通穴が形成され、前記めっき槽に浸漬させるバレルと、
前記めっき槽の中で前記バレルを回転させる回転装置と、
を有するバレルめっき装置によって、前記機械要素部品に前記銅めっきを施す
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の部分めっき工法。
A plating tank in which a copper plating solution is stored;
A plurality of through holes are formed, and a barrel immersed in the plating tank,
A rotating device for rotating the barrel in the plating tank;
The partial plating method according to any one of claims 1 to 4, wherein the copper plating is performed on the machine element component by a barrel plating apparatus having the following.
前記機械要素部品の前記中空部より小径であって、前記バレルの前記貫通穴より大径の複数のメディアを前記バレルに収容して、前記バレルめっき装置で前記銅めっきを施し、
前記銅めっき中に、前記機械要素部品の表面を平滑化する
ことを特徴とする請求項5に記載の部分めっき工法。
A plurality of media having a diameter smaller than the hollow portion of the machine element part and larger than the through hole of the barrel are accommodated in the barrel, and the copper plating is performed by the barrel plating apparatus,
The partial plating method according to claim 5, wherein the surface of the machine element part is smoothed during the copper plating.
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